TWI359329B - - Google Patents
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Description
九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種感光性樹脂組合物、感光性膜及使用 其等之覆蓋層。 【先前技術】 聚醯亞胺樹脂具有高耐熱性、優異之電學特性,作為其 主要用途之一,有半導體裝置之保護膜或多層配線結構中 之層間絕緣膜。 先前,使用光阻(photoresist)形成半導體裝置之保護膜 或多層配線結構之層間絕緣膜。即,於基板上塗佈作為聚 醯亞胺樹脂前驅物之聚醯胺酸,再進行加熱,而形成聚醯 亞胺膜。其次,於聚醯亞胺膜之表面上設置光阻膜,對該 光阻膜進行曝光·顯影而形成光阻圖案(resist pattem卜繼 而,以該光阻圖案作為耐蝕刻掩模,選擇蝕刻基底之聚醯 亞胺膜。#此,彳形成具有所期望之冑案之聚酿亞胺保護 膜或層間絕緣膜等。 但,於藉由上述方法形成樹脂圖案之情形時,必須實施 以下2步驟,即聚醯亞胺膜之形成步驟及樹脂圖案之形成 步驟。為解決如此之問題,業者正開發具有感光性之聚酿 亞胺或聚醯亞胺前驅物。 例如,業者研究有’ #由於包含芳香族酸二肝及芳香族 二,之聚醯胺酸中添加萘酿二疊氮化合物作為感光劑,而 獲得感光性組合物(日本專利特開昭52_13315號公報卜該 感光I·生組合物,係照射紫外線之區域可溶解於驗性顯影液 120567.doc 的正型。即,萘醌二疊氮化合物可藉由吸收紫外線而生成 知甲酸(indene carbonic acid),而提高曝光區域於鹼性顯 知液中之溶解速度。另一方面,未照射紫外線之未曝光區 域,由於萘醌二疊氮化合物之疏水性而變得難溶解於鹼性 顯〜液。其結果為,由於曝光區域與未曝光區域之溶解度 差可形成射線圖像。但是,儘管未曝光區域因萘醌二疊 氮之疏水性變得難溶解於鹼性顯影液,但聚醯胺酸因高溶 解性而溶出’造成膜損傷,因此難以獲得完整之射線圖 像0 作為抑制膜損傷之方法,提出有以下方法:利用作為強 鹼之三乙胺部分中和聚醯胺酸之羧基,進而加熱塗膜,使 10〜20%之聚醯胺酸醯亞胺化,藉此抑制未曝光區域之溶 解度(日本專利特開昭62_135824號公報卜但,該方法中, '以控制利用胺化合物之醯亞胺化,難以獲得再現良好之 射線圖像。進而,存在清漆之貯藏穩定性不佳之問題。 又’必須於顯影液中使用氯氧化鉀水溶液,故#以利用近 年所要求之碳酸鈉水溶液進行顯影。 *進而,業者研究有以下方法:⑨包含聚醯亞胺前驅物' 昆且氮化合物之感光性組合物中,添加於251:下之鹼 解離吊數(pKb)為7以上之驗性含氮化合物(日本專利特開 2003-5369號公報)。該方法係藉由部分中和聚醒亞胺前驅 物所具有之縣,而抑制紫外線之未照射部分之溶解度的 方法。但,該方法亦存在於添加胺系鹼性化合物之情形 時,清漆之貯藏穩定性變差的問題β χ,於脫溶劑步驟或 120567.doc 1359329 層壓步驟等加熱步驟中,醯亞胺化進行緩慢,故難以獲得 再現良好之射線圖像。
業者進行有以下嘗試,以具有光聚合性之基團對聚醯胺 酸之羧基進行醋化,藉此降低於鹼性顯影液中之溶解性。 例如,於聚醯胺酸合成過程中,藉由與羧基形成酯鍵而導 入具有光聚合性之基團,而獲得負型感光性樹脂組合物 (曰本專利特開昭49_1 15541號公報卜但,該感光性樹脂組 合物之合成之步驟數較多,較為費工。又,因於顯影液中 使用有機溶劑,故存在曝光區域亦因有機溶劑而膨潤,從 而無法獲得完整射線圖像之虞。 又,近年來,稱為可撓性印刷基板(以下,稱為Fpc)之 膜狀印刷基板獲得廣泛應用。FPC主要用於行動電話、筆 記本電腦、攝像機等機器。FPC即使折彎,亦能維持功 能,因此,成為機器之小型化、輕量化不可或缺之材料。 尤其近年來,隨著各種電子機器之小型化、輕量化之發 展’ FPC有助於減少該機器之尺寸及重量,降低製品成本 及簡化設計等。 作為FPC所具備之覆蓋層之材料,就耐折彎性、耐熱 性、電絕緣性之觀點而言,可使用賦予有接著劑之聚酿亞 胺膜。但,於使用該聚醯亞胺膜之情形時,係以人工進行 貼合、衝壓,故於對準位置之精度、成本方面存在問題。 因此,提出有,於賦予聚醯亞胺前驅物以感光性,且形 成線路圖案後,加熱該聚醯亞胺之前驅物,藉此形成聚酿 亞胺之各種方法(例如,日本專利第3〇64579號、日本專利 120567.doc 1359329 特開2002-278061號公報)。但,於將該等聚酿亞胺之前駆 物酿亞胺化之情形時,需要300T:以上之高溫。因此,難 以用於無法施加高溫之用途,例如用於電子機器之Fpc所 具備之覆蓋層材料。 【發明内容】
本發明鑒於解決上述課題,其目的在於提供感光性樹脂 '’且a物 '使用δ玄感光性樹脂組合物之感光性膜、樹脂圖案 及覆蓋層’該感光性樹脂組合物容易製造,感光性膜無彎 曲,於10CTC以下之低溫下可進行層壓,曝光部與未曝光 部於鹼性顯影液中之溶解度差較大,顯影後之未曝光部之 膜殘留率為90%以上,可以碳酸鈉水溶液進行顯影,可以 200°C以下之低溫加熱進行固化。 本發明者們進行了銳意研究,結果為,使用含有鹼溶性 樹脂之感光性樹脂組合物,以抑制鹼溶性樹脂之溶解速度 及包含感光性樹脂組合物之感光層之溶解速度,藉此解決 了上述課題。
即,本發明之目的可藉由以下構成而實現。 本發明之感光性樹脂組合物係含有鹼溶性樹脂者,其特 徵在於··該鹼溶性樹脂於碳酸鈉水溶液中之溶解速度為 0.04 pm/sec以上,而在對將該感光性樹脂組合物塗佈2基 材上且藉由加熱使之脫溶劑後所獲得之膜厚度為3〇 之 感光層照射IGGG mWm2以下之活性光線之情形時,由該 感光性樹脂組合物所構成之感光層之活性光線照射部於碳 酸納水溶液中之溶解速度為0.22 以上,而活性光線 120567.doc
(B 1359329 未照射部之膜殘留率為90%以上。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,該感光層之
Tg為100°C以下,且藉由於200〇c加熱該感光層而獲得之膜 之Tg為200°c以下。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是包含:(A)鹼 溶性樹脂;(B)溶解抑制劑;(c)感光劑;及(D)有機溶劑 (其中,與構成(B)之化合物相同之化合物除外)。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,(A)鹼溶性 樹脂係聚醯亞胺前驅物。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的&,該聚酿亞胺 前驅物含有以式⑴所表示之聚醯胺酸或含有祕之聚酿胺 酸S旨。 [化1]
(〇R5)m 、 OR3 I ⑴ (COOReJn / (Rl為4價之有機基。R2、尺3為氫原子或碳數1〜20之有機 基’各自可相同亦可不同。R4為2〜4價之有機基。&、R6 為氫原子或碳數卜20之有機基,各自可相同亦可不同。其6 中’ h及R3不為氫原子時,-㈣且㈣,&為氫原子或 碳數1〜2G之有機基’ R6為氫原子。R2、&之至少—個為氣 原子時,―0,且〜、I為氫原子或碳數U20之有機 基’各自可相同亦可不同。) 120567.doc 1359329 本發明之感光性樹脂組合物中 下之溫度加熱感光層時,所獲得 以上。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,以2〇(rc以 下之溫度加熱感光層時,所獲得之膜之伸長率為5%以 上。
,較好的是,以200°C以 之膜之醯亞胺化率為90% 本發明之感光性樹脂組合物,較好的是包含,於式(1) 中心以式(2)且R4以式(4)所表示之結構之組合,或尺丨以式 (2)且R4以式(5)所表示之結構之組合’或R!以式(3)且114以 式(5 )所表示之結構之組合。 [化2]
(2) [化3]
(3) [化4]
(4) [化5] «20567.doc (S ) (5)1359329
本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是 制劑係醯胺化合物或脲化合物。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是 制劑係含有芳香族羥基之醯胺化合物或含有芳 腺化合物。 ’(B)溶解抑 ’(B)溶解抑 香族羥基之
本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是 係藉由照射活性光線可產生酸之化合物。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是 為酿二疊氣化合物。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是 劑係γ-丁内酯。 (C)感光劑 (C) 感光劑 (D) 有機溶 本發明之感光性樹脂組合物 劑0 較好的是含有(Ε)交聯
係 物 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,⑻交聯劑 以式⑹或式⑺所表示之四羧酸化合物、四羧酸酯化合 、聚醯胺酸化合物、聚醯胺酸酯化合物。 [化6] R10OOC、 R^OOC〆
(6) (R7為4價之有機基, 基’各自可相同亦可
Rs〜Rn為氫原子或碳數丨〜2〇之有機 不同。) I20567.doc
•12· 1359329 [化7]
R!3、Rh為2價〜4價之有機基,各自可相同亦可不同。
Rl 7〜R24為氫原子或碳數1〜20之有機基,各自可相同亦可 不同。P為0〜1〇〇之整數。) 本發明之感光性樹脂組合物,較好的是含有(F)熱鹼產 生劑。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,(F)熱鹼產 生劑產生胺化合物。 本發明之感光層,其特徵在於:其係由上述感光性樹脂 組合物所構成。 本發明之感光性膜,其特徵在於:其具備載體膜、及設 置於該載體膜上之上述感光層。 本發明之積層膜’其特徵在於:其具備形成於上述感光 性膜之該感光層上之覆蓋膜。 本發明之樹脂圖案之形成方法之一係包括: 將上述感光性樹脂組合物塗佈於基板表面之塗佈步驟; 於該塗佈步驟後’加熱該感光性樹脂組合物而形成感光 層之感光層形成步驟; 於該感光層形成步驟後’於該感光層所期望區域照射活 120567.doc 13 1359329 性光線之活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層進 行顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖案 之清洗步驟;及 於該清洗步驟後’加熱該樹脂圖案之固化步驟。 本發明之其他樹脂圖案之形成方法之一係包括: 將上述感光性樹脂組合物塗佈於基板表面上之塗佈步 驟; 於該塗佈步驟後,加熱該感光性樹脂組合物而形成感光 層之感光層形成步驟; 於該感光層形成步驟後,將該感光層轉印至其他基板表 面上之層壓步驟; 於》亥層壓步驟後,自感光層剝離於該塗佈步驟中所使用 之基板,冑而於該感光層所_望區域照射活性光線之活性 光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後,使用驗水溶液將該感光層進 行顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後’使用清洗液清洗該樹脂圖案 之清洗步驟;及 ' 於該清洗步驟後加熱該樹脂圖案之固化步驟。 本發明之其他樹脂圖案之形成方法之一係包括: 將上述感光性膜之感光層轉印至其他基板表面上之層壓 步驟; I20567.doc -14- 1359329 於該層壓步驟後’剝離該感光性膜之載體膜,繼而於該 感光層所期望區域照射活性光線之活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層進 行顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖案 之清洗步驟;及 於該清洗步驟後’加熱該樹脂圖案之固化步驟。 本發明之其他樹脂圖案之形成方法之一係包括: 剝離上述積層膜之覆蓋膜或載體膜中之一個,將感光層 轉印至其他基板表面上之層壓步驟; 於該層壓步驟後’剝離該感光性膜之覆蓋膜或載體膜中 之另一個’繼而,於該感光層所期望區域照射活性光線之 活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後’使用驗水溶液將該感光層進 行顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後’使用清洗液清洗該樹脂圖案 之清洗步驟;.及 於該清洗步驟後,加熱該樹脂圖案之固化步驟。 本發明之覆蓋層’其特徵在於:其可利用上述任一方法 而形成。 本發明之感光性樹脂組合物’較好的是至少包含(八,)以 式(8)所表示之聚醯胺酸、(B)溶解抑制劑、(c)感光劑、 (D)有機溶劑(其中’與構成(B)之化合物相同之化合物除 外)。 15 120567.doc 1359329 [化8] 1 1 ϊ ϊ -c—R25—c—N一R2e—N- ⑻ (COOH)2 (式⑻中’ Hu表示碳數2以上之4價有機基,R26表示碳數2 以上之2價有機基〇 ) 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,(B)溶解抑 制劑係醯胺化合物或脲化合物。 本發明之感光性樹脂組合物中較好的是,(B)溶解抑制 劑係選自3·-羥基苯基-N-乙醯基苯胺、4,_羥基苯基_N_乙醯 基笨胺、4-羥基苯基苯甲醢胺、3_羥基苯基脲中之至少一 種。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,(C)感光劑 係藉由照射活性光線而產生酸之化合物。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,(C)感光劑 係酿二疊氮化合物。 本發明之感光性樹脂組合物中,較好的是,(D)有機溶 劑係γ-丁内酯。 本發明之感光性膜,其特徵在於:其係由上述所揭示之 感光性樹脂組合物所構成。 本發明之覆蓋層,其特徵在於:其係使用上述感光性臈 而形成。 本發明之配線板,其特徵在於:其具備上述覆蓋層。 根據本發明,與先前相比,可容易地製造感光性樹脂組 120567.doc ,, 1359329 合物。使用本發明之感光性樹脂組合物,可獲得如下之感 光層:其無彎曲,藉由層壓之轉印性良好,即使於利用碳 酸納水溶液將厚膜進行顯影時曝光部與未曝光部之溶解度 差亦大’未曝光部之膜殘留率為9〇%以上。又,於曝光(顯 影)感光層後’可藉由於2〇〇°c以下之低溫加熱,而形成所 期望之樹脂圖案。可藉由使用本發明之感光性樹脂組合 物’而獲得感光性膜、樹脂圖案及覆蓋層。 【實施方式】 以下’對本發明加以具體說明。 本發明之感光性樹脂組合物,其含有於碳酸鈉水溶液中 之溶解速度為0.04 pm/sec以上之鹼溶性樹脂,於對將該感 光性樹脂組合物塗佈於基材上,藉由加熱使之脫溶劑後所 獲得之膜厚度為30 μιη之感光層照射1〇〇〇 mJ/cm2以下之活 性光線(曝光)時,由該感光性樹脂組合物所構成之膜的活 性光線照射部於碳酸鈉水溶液中之溶解速度為〇 22 pm/see 以上’活性光線未照射部之膜殘留率為90%以上。再者, 本發明中所謂「脫溶劑」,係指於塗佈感光性樹脂組合物後 所進行之乾燥步驟。 (鹼溶性樹脂於碳酸鈉水溶液中之溶解速度) 所明本發明之鹼溶性樹脂於碳酸鈉水溶液中之溶解速 度,係指包含作為感光性樹脂組合物之構成成分之鹼溶性 樹知的膜於碳酸鈉水溶液中之溶解速度。鹼溶性樹脂於碳 西文鈉水’合液中之溶解速度,係依據以下方法進行計算。 I使鹼溶性樹脂溶解於γ· 丁内酯等溶劑中,調製成鹼溶性 120567.doc •17· 1359329 樹脂清漆。此時,濃度係調整為2〇 wt%〜30 wt%。 2_使用塗佈機,以脫溶劑後之膜厚度成為25 μιη〜4〇 ^^之 方式’將該鹼溶性樹脂清漆塗佈於銅箔上。 3 _利用加熱板或乾燥機等進行脫溶劑。脫溶劑係利 板於60°C下進行30分鐘,繼而使用乾燥機於95〇c下進行3〇 分鐘。 4. 於預先加溫至40。(:之1 wt%碳酸鈉水溶液中,浸潰脫溶 劑後之塗佈有鹼溶性樹脂之基板。以3〇秒1次之頻率,每 次搖動1 0秒,使之完.全溶解。 5. 將脫溶劑後之膜厚度(μιη)除以完全溶解時之時間“ec)而 獲得溶解速度。 若考慮到照射活性光線之後之顯影時間,則利用上述方 法所獲得之鹼溶性樹脂於碳酸鈉中之溶解速度為〇 〇4 μπι/sec以上、較好的是〇 〇6 μηι/δα以上。 (感光層之溶解速度及膜殘留率) 本發明之感光性樹脂組合物所構成之感光層之活性光線 照射部於碳酸鈉水溶液中之溶解速度及活性光線未照射部 之膜殘留率,係依據以下方法進行計算。可使用計算方 法-1,亦可使用計算方法_2計算感光層之溶解速度。再 者,本發明中所s胃「感光層」,係指將本發明之感光性樹 脂組合物塗佈於基板上,再進行脫溶劑後所獲得之包含感 光性樹脂組合物的層》 (感光層溶解速度計算方法_υ ι·使用塗佈機,以脫溶劑後之膜厚度成為30 ^爪厚度之方 I20567.doc •18· (S ) 1359329 式’將本發明之感光性樹脂組合物塗佈於聚龍臈上。 2 ·對藉由1而獲得之感光性樹脂塗膜進行脫溶劑,而妒成 感光層。脫溶劑係利用加熱板於60°C下進行30分鐘,繼而 利用乾燥機於95 °C下進行20分鐘。 3.將層壓有銅之玻璃環氧基板加溫至6(rc ^使用熱輥層壓 機(AL-700,旭化成公司製造),將該感光層轉印至該基板 上。轉印後自感光層剝離聚酯膜。再者,利用熱報層壓機 之轉印係於溫度10(TC、壓力0.35 MPa、運送速度〇 5 m/min之條件下進行。再者,預先利用喷砂刷磨機(石井表 記公司(Ishii Hyoki Co.,Ltd.)製造)將層壓有銅之玻璃環氧 基板之表面進行刷磨(研磨材,SAKURUNDUM RF220日本 研削研粒公司(Japan Abrasive Grain Co.,Ltd.)製造)。 4·以鋁箔覆蓋藉由3而獲得之基板之半面,使用未安裝有 圖像掩模之光罩對準曝光機(ΜΑ-10 Mikasa公司製造),於 曝光量為1000 mJ/cm2 (以UV350 nm進行校正)之條件下照 射活性光線。 5. 於預先加溫至4(TC之1 wt%碳酸鈉水溶液中,浸潰照射 活性光線後之基板,以30秒1次之頻率,每次搖動1〇秒。 將活性光線照射部完全溶解所需要之時間設為浸潰時間。 6. 將浸潰前之感光層之膜厚度(μιη)除以浸潰時間(sec)而獲 得溶解速度。 (感光層之溶解速度之計算方法_2) 1_使用熱輥層壓機(AL-700旭化成公司製造),將感光性膜 或積層膜之感光層轉印至預先加溫至60°C、層壓有銅之玻 120567.doc • 19· (S ) 1359329 璃環氧基板上。對於積層膜,將載體膜或覆蓋膜中之一個 剝離後進行感光層之轉印。轉印後自感光層剝離載體膜或 覆蓋膜(其中之另一個)。再者,利用熱輥層壓機之轉印係 於溫度loot、壓力0.35 MPa、運送速度〇.5 m/min之條件 下進行。再者,預先利用喷砂刷磨機(石井表記公司(1比“ Hyoki Co.’Ltd·)製造)將層壓有銅之玻璃環氧基板之表面進 行刷磨(研磨材’ SAKURUNDUM RF220日本研削研粒公司 (Japan Abrasive Grain Co.,Ltd.)製造)〇 2.以铭箔覆蓋藉由1而獲得之基板之半面,使用未安裝有 圖像掩模之光罩對準曝光機(MA-10 Mikasa公司製造),於 曝光量為1000 mj/cm2 (以UV350 nm進行校正)之條件下照 射活性光線。 3 .於預先加溫至4〇°C之1 wt°/〇碳酸鈉水溶液中,浸潰照射 活性光線後之基板,以30秒1次之頻率,每次搖動1〇秒。 將活性光線照射部完全溶解所需要之時間設為浸潰時間。 4.將浸潰前之感光層膜厚度(μιη)除以浸潰時間(sec)而獲得 溶解速度。 (膜殘留率之計算) 1. 使用探針式表面形狀測量儀(DEKTAK,Ulvac公司製造) 測定殘膜厚度(μιη)。 2. 將藉由1而獲得之殘膜厚度(μιη)除以浸潰前之感光層膜 厚度(μιη) ’再乘以100,藉此獲得膜殘留率。 若考慮到顯影步驟所需要之時間、活性光線未照射部之 膜殘留率,則如此而獲得之活性光線照射部之溶解速度為 120567.doc •20-
1359329 〇·22 μηι/sec以上。又’對於顯影後所獲得之射線圖像,就 獲得所期望之形狀而言,活性光線未照射部分之膜殘留率 為9 0 %以上。 (Α)鹼溶性樹脂 本發明之(Α)鹼溶性樹脂可為分子鏈中含有羧基之樹 脂。就於200°C以下進行加熱後所獲得膜之耐熱性之觀點 而言,較好的是於分子中含有羧基(以下,稱為含有羧基) 之聚醯亞胺、聚醯亞胺前驅物,於分子中含有羧基(以 下,稱為含有羧基)之聚苯幷噁唑,於分子中含有羧基(以 下稱為含有羧基)之聚苯幷噁唑前驅物。就脫溶劑後之 彎曲降低、低溫固化之伸長率、表現彎曲性、碳酸鈉顯影 之觀點而言,更好的是聚醯亞胺前驅物,更好的是以式 所表不之聚醯胺酸、及於該分子中含有羧基(以下,含有 羧基)之聚醯胺酸酯。 [化9]
(1) (心為4價有機基。R2、&為氫原子或碳數丨〜2〇之有機基 各自可相同亦可不同。I為2〜4價之有機基。Rs、心為』 原子或碳數1〜20之有機基,各自可相同亦可不同。其中 咖3不為氫原子時’…且㈣,〜為氫原子:碳· 1〜20之有機基,R6為氫原子。R2、&之至少—個為氮原」 120567.doc 1359329 時 ’ m+n—Ο,且 r5 自可相同亦可不同 R·6為氫原子或碳數 1〜20之有機基 各 作為本發明之鹼溶性樹脂 之聚醯胺酸。 [化 10] 更好的是(A1)以式(8)所表示
9. 〇II II •C—R25~C-(C00H)2 Η I ·Ν· Η Ν""— (8)
(式(8)中,&表示碳數2以上之4價有機基,&表示碳數2 以上之2價有機基。) 聚醯亞胺前驅物可藉由最新聚醯亞胺〜基礎及應用〜日本 聚醯亞胺研究會編pp.4〜pp.49等中所揭示之眾所周知之方 法而容易地合成。具體而言’有如下方法:於低溫下使四 緩酸二酐與二胺反應之方法;使四m酸二酐與醇反應而合 成二酯,其後於縮合劑之存在下,使其與二胺反應之方 法;使四羧酸二釺與醇反應而合成二酯,其後將殘存之二 幾酸醯氣化’繼而使其與二胺反應之方法等。 作為用作聚醯亞胺前驅物單體之四羧酸二酐、二胺,例 如有以下所例示者。 芳香族四羧酸二酐,具體可列舉:笨均四酸二酐、 3,3,4,4'-聯笨四甲酸二酐、2,3,3’,4,-聯苯四甲酸二酐, 2,2’,3,3··聯笨四甲酸二酐,3,3,,4,4,_二苯基酮四曱酸二 酐、2,2’,3,3,-二苯基酮四曱酸二酐、2,2_雙(3,4_二羧基苯 基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基笨基)丙烷二酐、^卜雙 120567.doc -22- 1359329 (3’4-二羧基苯基)乙烷二酐、u•雙(2,3_二羧基苯基)乙烷 二奸、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3_二羧基苯基) 甲燒二酐、雙(3,4_二羧基苯基)硬二酐、3,3,_氧雙鄰苯二 甲酸二酐、4,4’-氧雙鄰苯二甲酸二酐、2,2-雙(4·(4-胺基苯 氧基)笨基)丙烷、1,3-二氫·ι,3_二氧基_5-異苯幷呋喃甲酸_ 亞苯酯、4-(2,5-二氧基四氫呋喃-3-基)_ι,2,3,4·四氫萘-二甲酸酐、1,2,5,6-萘四曱酸二酐、2,3,6,7·萘四曱酸二 酐、2,3,5,6-吡啶四甲酸二酐、3,4,9,10_茈四甲酸二酐、 ’2雙(3,4-二叛基苯基)六氟丙院二酐、2,2-雙(4-(3,4-二缓 基笨氧基)苯基)六氟丙烷二酐、2,2-雙(4-(3,4-二羧基苯甲 醯氧基)苯基)六氟丙烷二酐、2,2,_雙(三氟曱基)·4,4,·雙 (3,4_二羧基苯氧基)聯苯二酐等。 作為脂肪族四羧酸二酐,可列舉:環丁烷四羧酸二酐、 環戊烷四羧酸二酐、2,3,5,6_環己烷四羧酸二酐、 5-(2,5-二氧基四氫_3_呋喃基)_3_甲基_3_環己烯-it二甲酸 一酐、乙二醇雙偏苯三酸酐酯、雙環[2,2,2]辛烷_7_烯_ 2,3,5,6-四羧酸二酐、丁烷四羧酸二酐等。該等可 單獨使用,亦可使用2種以上。 就藉由於200°C以下加熱感光層而降低所獲得之膜之玻 璃轉移溫度(以下,稱為Tg)之觀點而言,該等中較好的是 本均四酸一肝、3,3',4,4'-聯苯四甲酸二針、2,3,3',4'-聯苯 四甲k 一酐、2,2',3,3'-聯苯四甲酸二酐、3,3^4,4^二笨基 酮四甲k 一野、2,2’,3,3'-二苯基酮四甲酸二酐、2,2_雙 (3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2_雙(2,3_二羧基苯基)丙烷 120567.doc -23- 1359329 二酐、1,1-雙(3,4·二羧基苯基)乙烷二酐、ι,ι·雙(2,3_二缓 基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)f烷二酐、雙(2,3_ 二羧基苯基)甲烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)砜二酐、3,3i_ 氧雙鄰苯二甲酸二酐、4,4·-氧雙鄰苯二甲酸二酐、2,2_雙 (4-(4-胺基苯氧基)苯基)丙院、1,3-二氫-1,3-二氧基_5_異苯 幷呋喃甲酸-1,4-亞苯酯、乙二酵雙偏苯三酸酐酯。 作為二胺’具體可列舉:1,4·二胺基苯、丨,3_二胺基 苯、2,4-二胺基甲苯、4,4,-二胺基二苯基曱烷、4,41_二胺 基·一本基鱗、3,4’ -二胺基二苯基謎、3,3’-二甲基·4,4’-二胺 基聯苯、2,2·-二甲基-4,4’-二胺基聯苯、2,2’-雙(三氟曱基)· 4,4'-二胺基聯苯、3,7-二胺基·二甲基苯幷噻吩_5,5_二氧化 物、4,4'-二胺基二苯基酮、3,3’-二胺基二苯基酮、4,4'-雙 (4-胺基苯基)硫謎、4,4'-二胺基二苯硬、4,4·-二胺基-(N-苯 甲醯基苯胺)、l,n-雙(4-胺基苯氧基)烷烴、;ι,3_雙(4-胺基 苯氧基)-2,2-二甲基丙烷、1,2-雙[2-(4-胺基苯氧基)乙氧 基]乙烷、9,9-雙(4-胺基苯基)苐、5(6)-胺基-1-(4-胺基甲 基)-1,3,3-三曱基氫茚、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、it雙 (4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(3-胺基苯氧基)苯、4,4,_雙(4_胺 基苯氧基)聯苯、4,4··雙(3-胺基苯氧基)聯苯、2,2_雙(4_胺 基苯氧基苯基)丙烷、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]砜、雙[4_ (3-胺基苯氧基)苯基]砜、2,2-雙[4-(4-胺基笨氧基)苯基]六 I丙燒、3,3'-二叛基-4,4'-二胺基二苯基曱院、4,6-二經基-1,3-苯二胺、3,3·-二羥基-4,4’-二胺基聯苯、ι,4_雙(4-胺基 苯氧基)戊烷、1,5-雙(4'·胺基苯氧基)戊烷、雙(γ_胺基丙 120567.doc -24- 基)四甲基二矽羞,卜 β y乳燒、1,4-雙(γ-胺基丙基二曱基矽烷基) Γ 4 * 又 土丁基)四甲基二矽氧烷、雙(γ-胺基丙基)四苯 夕氧坑式(9)所表示之二胺基矽氧烷化合物等。該等 可單獨使用,亦可使用2種以上。 [化 11]
(r為2〜12之整數。) 就於200°C以下加熱感光層而降低所獲得膜之Tg之觀點 而言,該等中較好的是M_二胺基苯、丨,3_二胺基苯、2,4· 一胺基甲笨、4,4'-二胺基二苯基甲院、4,4'-二胺基二苯 醚、3,4’-二胺基二苯醚、3,3,_二甲基·4,4,_二胺基聯苯、 2,2’-二甲基-4,4·-二胺基聯苯、3,7-二胺基-二曱基苯幷嘆 吩-5,5-二氧化物、4,4’-二胺基二苯基酮、3,3·-二胺基二苯 基嗣、4,4'-雙(4-胺基苯基)硫化物、4,4’-二胺基二苯硬、 4,4'-二胺基-(Ν-苯甲醯基苯胺)、1,11_雙(4_胺基苯氧基)烷 烴、1,3-雙(4-胺基苯氧基)-2,2-二曱基丙烷、1,2-雙[2-(4-胺基苯氧基)乙氧基]乙烷、9,9-雙(4-胺基苯基)第、5(6)-胺 基-1-(4-胺基曱基)-1,3,3-三甲基茚烷、i,4-雙(4-胺基苯氧 基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、l,3-雙(3-胺基苯氧基) 苯、4,4·-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、4,4’-雙(3-胺基苯氧基)聯 苯、2,2-雙(4-胺基苯氧基苯基)丙烷、雙[4-(4-胺基苯氧基) 120567.doc -25- 1359329 苯基]砜、雙[4_(3-胺基苯氧基)苯基]砜、4,6-二羥基-1,3-苯—胺、3,3'-二羥基-4,4·-二胺基聯苯、ι,4-雙(4-胺基苯氧 基)戊烧、1,5-雙(4··胺基苯氧基)戊烷、雙(γ_胺基丙基)四 曱基二矽氧烷、丨,4·雙(γ-胺基丙基二甲基矽氧烷基)苯、雙 (4-胺基丁基)四曱基二矽氧烷、雙(γ·胺基丙基)四苯基二矽 氧炫、式(9)所表示之二胺。 可藉由將自本發明之感光性樹脂組合物所獲得之感光層 之Tg設為脫溶劑步驟之加熱溫度以下,而除去伴隨脫溶劑 之應力,從而降低加熱後之彎曲。 同樣地’可藉由將於2〇〇。〇以下之溫度下固化本發明之 感光層所獲得膜之Tg設為該固化溫度以下,而除去伴隨固 化之應力,從而降低固化後之彎曲。例如,於由鹼溶性樹 脂中使用聚醯胺酸或含有羧基之聚醯胺酸酯之感光性樹脂 所獲付之感光層之情形時’可藉由將於2〇〇 以下之溫度 下固化感光層所獲得膜之Tg設為固化步驟之加熱溫度以 下,而除去伴隨閉環反應之應力,從而降低加熱後之彎 曲。 於合成聚酿胺酸及含有羧基之聚醯胺酸酯時,可根據需 要使用單官能之酸酐、單官能羧酸、單官能胺,以封閉高 分子末端。 由本發明之含有聚醯胺酸或含有羧基之聚醯胺酸醋之感 光性樹脂組合物所獲得之感光層之固化步驟後,所獲得之 膜之伸長率,就形成於FPC上之保護膜之耐折性之觀點而 言,較好的是5〇Λ以上、更好的是1 〇%以上。 120567.doc -26- 作為如此之聚醯胺酸及含有羧基之聚醯胺酸酯,具體而 。,較好的是,式(1)之來自酸二酐之Ri係選自式(2)或式 (3)中之至少1種,來自二胺之尺4係選自式(4)或式(5)中之至 少1種。其中,尤其好的是含有·· Rl為式(2)且&為式(4)所 表示之結構之組合,或R,為式(2)且R4為式(5)所表承之》结 構之組合,或1^為(3)且R4為式(5)所表示之結構之組合。 [化 12]
⑴ (2) [化 14]
(3)
[化 16] 120567.doc -27- (4) 1359329 (5) jyxxxx (B)溶解抑制劑 本發明之感光性樹脂組合物,於抑制鹼溶性樹脂於鹼性 U中之溶解性的目的下,含有⑻溶解抑制劑。所謂 本發明之溶解抑制劑,係指可與含錢基之驗溶性樹脂之 幾基進行氫鍵結之化合脂之魏可藉由與溶
解抑制劑進行氫鍵結㈣顯影液巾獲得遮蔽,從而抑制溶 解。 作為具有與絲進行氫鍵結之基團的化合物,可列舉幾 酸化合物、缓酸醋化合物、醯胺化合物、脲化合物等。就 於鹼水溶液中之溶解抑制效果及保存穩定性之觀點而言, 較好的是醯胺化合物、脲化合物。
作為醯胺化合物’例如,可列舉:N,N•二乙基乙酿胺、 N,N-二異丙基甲醯胺、N,N•二f基丁醯胺、N,N-二丁基乙 醯胺、N,N-二丙基乙醯胺、N,N-二丁基甲醯胺、n,n_二乙 基丙醯胺、N,N-二甲基丙醯胺、N,N,·二甲氧基二甲 基草醯胺、N-甲基-ε-己内醯胺、4_羥基笨基苯甲醯胺、水 楊醯胺、Ν-水楊醯基笨胺、Ν·乙醯基苯胺、2,_羥基笨基_ Ν-乙醯基苯胺、3’-羥基笨基·Ν_乙醯基苯胺、4,_羥基苯 Ν-乙醢基苯胺。 其中,就感光層及藉由於20(rCw下加熱該感光層所獲 得膜之低Tg化、感光層之高靈敏度化、高膜殘留率化之觀 點而言,更好的是含有芳香族羥基之醯胺化合物。具體而 120567.doc •28· =,可列舉:4-羥基苯基苯曱醯胺、3,_羥基苯基_N_乙醯 基笨胺、4·-羥基苯基卞·乙醯基苯胺。該等可單獨使用, 亦可組合2種以上而使用。 作為脲化合物,例如可列舉1,3-二甲基脲、四甲基脲、 乙基脲、1,3-二苯基脲、3_羥基苯基脲。其中,就高靈 敏度化、高膜殘留率化、感光層及於200°C以下加熱該感 光層所獲得膜之低Tg化之觀點而言,更好的是含有芳香族 羥基之脲化合物。具體可列舉:3_羥基苯基脲。該等可單 獨使用,亦可組合2種以上而使用。 本發明之(B)溶解抑制劑,於使用醯胺化合物之情形 時,就顯現出溶解抑制效果之觀點而言,較好的是相對於 1 mol之(A)鹼溶性樹脂之羧基添加0·ι m〇l〜1.5 m〇i,更好 的是添加0.15〜1.0 mol。 本發明中所使用之(B)溶解抑制劑,於使用脲化合物之 情形時,就顯現出溶解抑制效果之觀點而言,較好的是相 對於1 mol之(A)鹼溶性樹脂之羧基添加(M mol〜1.5 mol。 就顯現出溶解抑制效果及鹼性顯影後之固化所獲得之聚酿 亞胺之機械物性之觀點而言,更好的是添加〇.15〜〇5 mol 〇 又,於使用醢胺化合物與脲化合物之兩者之情形時,就 溶解抑制效果之觀點而言,醯胺化合物與腺化合物之總量 相對於1 mol之(A)驗溶性樹脂之叛基,較好的是〇1 mol〜1.5 mol之範圍。 (C)感光劑 120567.doc -29- 1359329 本發明之(c)感光劑較好的是藉由照射活性光線可產生 酸之化合物。其中,較好的是酿二疊氮化合物。例如,可 使用於美國專利第2797213號、3669658號中所揭示者。其 中較好的是’酚化合物與1,2-萘醌-2-偶氮-4-磺酸或1,2·蔡 酉昆-2-偶氮-5-績酸所形成之酯化合物。該等可單獨使用, 亦可組合使用2種以上。 本發明之(C)感光劑之調配量’相對於丨〇〇重量份之(A)
鹼溶性樹脂,較好的是5〜30重量份、更好的是1〇〜2〇重量 份。感光劑之調配量,就靈敏度之觀點而言,較好的是5 重量份以上,就吸收光之觀點而言,較好的是3〇重量份以 "*Ρ" 〇 (D)有機溶劑
就於鹼性顯影液中之溶解性之觀點而言,本發明之(L
有機溶劑’較好的是γ-丁内酯 '乳酸乙酯等酯化合物,B 氫咬喃等喊。該等有機溶劑可單獨使用,亦可組合使用
種以上。本發明之有機溶劑,相對於⑽重量份之驗溶七 樹脂’較好的是120〜9〇〇重量份。 :者,若使用N’N_二甲基甲酿胺、N,N_:甲基乙酿胺、 =甲基丙酿胺、N甲基·2♦各錢、N-乙酿基〜 蜩、二甲基咪唑啶酮及二甲基亞 :加快驗溶性樹脂於顯影液中之溶解速度,而:::殘: 120567.doc 發泡。 其:為低沸點溶劑,具體可列舉:丙嗣、甲基乙基綱、甲 基’等酮類’乙醇' 異丙醇、正丁醇、乙二醇、二 乙-醇、二乙二醇、丙二醇或已二醇等醇類心二過 烧、三。惡院、二乙基乙縮搭、U.二β惡戊環、二乙二^ 甲趟、四氫…苯剛趟類,乙酸乙醋、笨甲酸甲 醋、乙二醇單甲趟乙酸醋、乙二醇單乙謎乙酸醋、乙 單丙醚乙酸酯、乙二醇_ ^ 醉一乙酸酯'丙二醇單甲醚乙酸酯、 丙二酵單乙㈣乙酸g旨、丙二醇單㈣乙㈣、丙二醇單丁 鍵乙酸S旨、丙-酿-7辟而匕 醇一乙馱自曰、二乙二醇單曱醚乙酸醋、二 乙二醇單乙麵乙酸醋、二乙二醇二乙酸醋等醋類,正庚 烧'正辛烧、環己烧、苯、甲笨、二甲苯、乙苯及二乙苯 尊烴類。 (E)交聯劑 本發明之感光性樹脂組合物中,可根據需要添加⑻交 Φ 聯⑷藉Jt T於固化時’使鹼溶性樹脂之分子量增加。 作為交聯Μ較好的是式(6)所表示之四竣酸化合物或四叛 酉夂酉曰化合物、式(7)所表示之聚醮胺酸化合物或含有幾基之 聚醢胺酸酯化合物。 [化 17] (6) R10OOC^ /COORg R”OOC CO〇R9 (R7為4價有機基,R8〜Rn為氣原子或碳數卜別之有機基, 120567.doc -31. 1359329 各自可相同亦可不同。) [化 18]
(R12、Rl4、Rl6為4價有機基,各自可相同亦可不同。 R13、Ri5為2價〜4價之有機基,各自可相同亦可不同。 R17〜R24為氫原子或碳數1〜20之有機基,各自可相同亦可 不同。ρ為0〜100之整數。) 就表現出交聯效果之觀點而言,本發明之(E)交聯劑之 調配量’相對於聚醯胺酸或含有羧基之聚醯胺酸酯之殘留 胺基的莫耳數’較好的是0.1 mol〜1.5 mol、更好的是〇.5 mol〜1.1 mol。
殘留胺基量,可藉由使鄰笨二曱酸酐與聚醯胺酸或含有 羧基之聚醯胺酸酯反應而進行計算。具體方法如下。 調整鄰苯二曱酸酐之乙腈溶液。此時,濃度係於lx 1〇·6〜 1 X 1 (Γ3 (g/ml)範圍内調整3〜4點。 藉由高效液相層析法(HPLC)測定各濃度之面積。 由鄰苯二甲酸酐之濃度及面積製作校準曲線。 調製聚醯胺酸或含有羧基之聚醯胺酸酯之γ· 丁内酿溶液 (2 1 wt%) 〇 於該溶液申添加鄰苯二曱酸酐(0.01 mol),於室溫下授 拌一晝夜。 120567.doc •32- 1359329 以乙腈將携拌後之溶液稀釋至5Q倍,以調製樣品溶液。 將該樣品溶液注人HPLC,由笨二甲酸肝之消耗量計算 殘留胺基量。 (計算方法) 依據以下數式(1)計算殘留胺基量(χ)。 [數1] ·..數式(1) ^ = 0.01--__i^c) (4户)x^xl〇〇)
此處,S表示校準曲線之斜 積’ D表示稀釋倍率(wt%), 聚醯胺酸酯之固含量(wt%)。 (F)熱鹼產生劑 率’ A(P)表示樣品溶液之面 C表示聚醯胺酸或含有羧基之
本發明之感光性樹脂組合物可根據需要含有(F)熱鹼產 生劑。所謂熱鹼產生劑’係指藉由加而熱產生鹼之化合 物。例如’將胺等鹼以磺酸等酸製成鹽結構,#由二碳酸 酉旨化合物加以保護,藉由酸氣化物化合物加以保護。藉此 可製成,於室溫下不表現出鹼性故穩定,且可藉由加熱進 4亍脫保護而產生驗之熱驗產生劑。 藉由添加該熱鹼產生劑,可於使用聚醯胺酸或含有羧基 之聚醯胺酸S旨作為驗溶性樹脂之情形時,將顯影後之加熱 酿亞胺化溫度設為較低之溫度。 作為熱鹼產生劑,具體可列舉:(註冊商標) 0 U-CAT SA831、U-CAT SA841、U-CAT SA851(以 上為商品名,San_apro&司製造)、N_(異丙氧基羰基)2,6_ 120567.doc -33- (S ) 1359329 二甲基哌啶、N-(第三丁氧基羰基)_2,6_二曱基哌啶、N (苄 氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶等。 就感光性樹脂組合物之保存穩定性、脫溶劑之穩定性、 鹼溶性、離子遷移性之觀點而言,較好的是N_(異丙氧基 羰基)-2,6-二甲基哌啶、N_(第三丁氧基羰基)_2,6_二甲基哌 啶、N-(苄氧基羰基)_2,6_二甲基哌啶。該化合物例如可藉 由 Chmistry Letters Vol.34,No.10(2005)之眾所周知之方 法合成。 就促進醯亞胺化及顯影性能之觀點而言,(〇熱鹼產生 劑之調配量,相對於100重量份之鹼溶性樹脂,較好的是 1〜30重量份,更好的是1〇〜2〇重量份。 (感光性膜、樹脂圖案) 其次,就使用本發明之感光性樹脂組合物而形成樹脂圖 案的方法加以說明。本發明中可藉由至少進行以下所示之 1〜5之步驟’而獲得樹脂圖案。 1 ·於基板上塗佈感光性樹脂組合物之步驟 作為基板並無特別限定,可列舉:矽晶圓、陶瓷類、砷 化鎵、玻璃環氧樹脂、銅箔等。作為塗佈方法,可使用輥 塗佈法(roll coating)、刮刀法(D〇ct〇r匕浪⑶如㈣、刮刀 式塗佈法(Comma coating)、喷塗法(spray c〇ating)、網板 印刷法(screen print c〇ating)、旋轉塗佈法(spin⑶叫、棒 式塗佈法(bar coating)等眾所周知之方法。又塗佈膜厚 度根據塗佈方法、組合物之固形分濃度、黏度等而有所不 同,通常以乾燥後之膜厚度成為Ο.^ΗΟ μιη之方式進行塗 120567.doc
-34 - (S 1359329 佈。 2·對塗佈於該基板上之感綠樹脂組合物進行脫溶劑而形 成感光層之步驟 脫溶劑可使用烘箱、加熱板、紅外線等。就感光性樹脂 組合物之溫度穩定性之觀點而纟,較好的是於5〇t:〜i2(rc 下進行1分鐘〜數小時。 3. 於該感光層之所期望區域照射活性光線之步驟 活性光線有X射線、電子束、紫外線、可見光線等。作 為光源,可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀 燈、商素燈等。本發明巾,較好的是使用水銀燈射線 (365 nm)、h射線(405 nm)、g射線(436 nm)。作為照射活 性光線之方法,可使用密著曝光、投影曝光之任一方法。 就感光劑充分吸收活性光線之彳面,《照射⑦性光線之時 間之觀點而言’活性光線之曝光量較好的是1〇〇 m"咖2 〜3000 mJ/cm2、更好的是5〇〇 mJ/em2〜2〇〇〇、更好 的是 500 mj/cm2〜1 500 mJ/cm2。 4. 利用鹼水溶液使照射活性光線之部分溶解之顯影步驟 作為顯影液,若為鹼水溶液,則無特別限定。較好的是 氫氧化鈉水溶液、氫氧化鉀水溶液、碳酸鈉水溶液、碳醆 鉀水溶液。 又,亦可於該等鹼水溶液中,單獨添加N曱基_2_吡咯 啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N_二甲基乙醯胺、二甲基亞 砜、γ-丁内酯、二甲基丙烯酸醯胺等極性溶劑、甲醇、乙 醇、異丙醇等醇類,乳酸乙酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯 120567.doc -35· 1359329 類’環戊酮、環己酮、異丁飼、 或者組合添加數種。 於顯影後,使用清洗液進行清洗清洗處理 液,可列舉:水,·於水中添加有 作為、-洗 發缺夕 择異丙基醇等醇類, 仏乙自旨、丙二醇單W乙酸g旨^類者等 員 可利用浸潰法、喷霧法1葉攪拌法等進行。例=^ 影液中使用! Wt%碳酸鈉水溶液,將液溫加溫至於顯
利用浸潰法或喷塗法進行顯影、清洗。 ,並 5.於顯影後’#由加熱殘存部分而獲得樹脂圖 驄 、〜LJ化步
甲基異丁基鲷等鲖類等, 於顯影^藉由施㈣代〜細^之溫纟’而賦 圖案以耐熱性。該加熱處理係—面選擇溫度進行階段性^ 溫’或者選擇某溫纟範圍進行連續性升溫,—面實施$八 鐘〜5:時。作為-例’可列舉:於120。(:下進行6〇:鐘’: 於150C下進行30分鐘,於2〇(rc下進行6〇分鐘之進行熱處 理之方法。 作為如此而獲得之加工品係半導體裝置、液晶顯示裝 置、多層印刷線路板等。 、 又,亦可將本發明之感光性樹脂組合物用作感光性膜。 所謂感光性膜,係指例如包含聚酯等之具有柔軟性之載體 膜,及藉由塗佈感光性樹脂組合物、再進行脫溶劑而獲得 之感光層所構成之膜。 又,亦可於該感光性膜上設置覆蓋膜,而用作積層膜。 於將本發明之感光性樹脂組合物而製成感光性膜之情形 I20567.doc -36- 1359329 時,可至少藉由下述1及2之步驟而製造。 1 _於載體膜上塗佈感光性樹脂組合物之步驟 將本發明之感光性樹脂組合物塗佈於載體膜。作為載體 膜,可使用低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、聚丙稀、聚 酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、乙烯/環癸烯共聚物(三井化 學製造,商品名:APEL)等《又,考慮到塗佈性、附著 性、輥壓性、韌性、成本等’載體膜之厚度通常為15〜1〇〇 μηι、較好的是15〜75 μπι »
感光性樹脂組合物之塗佈,可使用反向輥塗佈機 (reverse r〇U coater)或凹版塗佈機((}ravure c〇ater)、刮刀 式塗佈機(comma coater)、簾幕式塗佈機(curtain c〇ater) 等’以眾所周知之方法於上述載體膜上進行。
2.利用感光性樹脂組合物之脫溶劑而形成感光性膜之步驟 藉由1步驟而獲得之塗膜之脫溶劑,可藉由熱風乾燥或 使用遠紅外線、近紅外線之乾燥機,於溫度5〇〜12〇艺下進 行。藉由脫溶劑而獲得之感光層之膜厚度較好的是5〜1〇〇 μηι、更好的是5〜5〇 μιη。就絕緣可靠性之觀點而言,臈厚 度較好的是5 μιη以上,就獲得良好射線圖像之觀點而言, 膜厚度較好的是100 μιη以下。 本發明之感光性樹脂組合物可用作覆蓋層。所謂覆蓋 層’係指於珍日日日圓、㈣積層板' FPC等上所形成之保護 配線之保護膜。 由本發明之感光性樹脂組合物製作感光性膜,於Fpc上 形成覆蓋層之情形時,例如’可藉由以下步驟而形成。 I20567.doc
(S •37· 1359329 .將由本發明之感光性樹脂組合物構成之感光性膜層壓於 FPC等之形成有電路之面上,而形成感光層之步驟 將該感光性膜重疊於FPC等之電路形成面上,利用平面 層壓或輥層壓、真空加壓等眾所周知方法,一面加熱至 4〇〜150。〇、較好的是4〇〜12〇〇c、更好的,一面 於0.2〜4 MPa之壓力下進行層壓,藉此積層感光層。藉由 將了進彳于層壓之溫度設為4〇以上,而不會於進行層壓前 之位置對準時因皺褶而延遲,且藉由將可進行層壓之溫度 设為150°C以下,而不會過度進行醯亞胺化,從而有足夠 時間進行層壓,可擴大製程範圍。再者,所謂可進行層壓 之溫度’係指無氣泡殘留等問題,可充分嵌入圖案之同 時,可於樹脂過分流動之情況下,將感光層之黏度控制於 不流出圖案外之程度的溫度。又,可藉由將感光層之丁§設 為低於層壓溫度’而適當進行感光性膜之層壓。於層壓感 光層後,可剝離載體膜’亦可不剝離。於不剝離載體膜之 情形時’於曝光步驟後進行剝離。 2.對該步驟所獲得之感光層照射活性光線之步驟 感光層因形成有細微孔或細微寬度線,故可透過描畫有 任意圖案之光罩(photo mask)而進行曝光》曝光量根據感 光性樹脂組合物之組成而有所不同,通常為1〇〇〜3,〇〇〇 mJ/cm2。作為此時所使用之活性光線,例如可列舉:X射 線、電子束、紫外線、可見光線等。作為光源可使用:低 壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、自+素燈等,本發 明較好的是使用水銀燈i射線(365 nm)、h射線(405 nm)、g 120567.doc -38 - 射線(436 run卜作為照射活性光線之方法 光、投影曝光中之任—方法。 3.照射活性光線之部分之顯影及清洗步驟。 之後二用顯影液藉由浸潰法、喷塗法等眾所周知 之方法進订顯影。作為顯影液 十玲匕 Ί3ζ•用.虱氧化鈉水溶 ^風氧㈣水溶液、碳酸納水溶液、碳_水溶液等驗
=溶液。於顯影後,㈣清洗液進行清洗。作為清洗液, 有水、或於水中添加有機溶劑而成者等。 路板等。 [實施例]
可為密著曝 4.藉由加熱而形成樹脂圖案 可藉由對藉由顯影獲得之圖案上進行加熱處理,而形成 樹脂圖案。加熱處理係於赠〜辑之溫度下連續性或 階段性進行5分鐘〜5小時。從而製成加工品。 作為如此而獲;^之加卫品,可列舉:Fpc、多層印刷線 以下,利用實施例對本發明加以具體說明,然而並不受 該等例之任何限制。 (鹼溶性樹脂之合成及其鹼性溶解速度之測定) 1 ·鹼溶性樹脂之溶解特性試驗 驗溶性樹脂之溶解特性之評價係依照以下之次序實施。 1-1.塗佈 將可真空吸附及加熱之塗佈台(Matsuki科學公司製造)加 熱至60 C。於該塗佈臺上以其光澤面朝上之,方式鋪設電解 銅 fl 薄片(F3-ws Furukawa Circuit Foil Co.,LTD製造),且 120567.doc •39- 1359329 藉由使之真空吸附’而貼附該電解銅箔薄片。於該電解銅 箔薄片上,使用塗佈機(Matsuki科學公司製造),以脫溶劑 後之膜厚度成為30 μπι之方式塗佈驗溶性樹脂。 1-2.脫溶劑 於該塗佈臺上’於60°C下進行30分鐘之脫溶劑後,以乾 燥機(SPH-201,Espec公司製造)於95°C下進行20分鐘之脫 溶劑。 1-3.鹼性溶解試驗 將於1 -2中所獲得之膜浸潰於加溫至4〇〇C之1 wt%碳酸鈉 水溶液中,以3 0秒1次之頻率,每次搖動丨〇秒。將膜完全 /合解所必需之時間設為溶解時間,藉由以下之數式(2)計算 驗溶性樹脂於碳酸納水溶液中之溶解速度。 [數2] 驗溶性樹脂之驗性溶解速度=’/谷解别之膜厚度(μπι) 又 —i解時間(sec)— ...數式(2) (1)以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(i) 於三口可分離式燒瓶中裝入20 g之4,4-二胺基二苯醚、 1.9X10 g之γ_ 丁内酯,進行攪拌,直至溶液變均勻。其 人添加0·ι89 g之鄰苯二曱酸酐,一面進行冰浴冷卻,一 面進行攪拌,直至溶液變均句。繼而,添加30 g之4,4,-氧 雙鄰苯—甲酸_酐’—面進行冰浴冷卻,—面授摔丄小 時,其後於室溫下搜拌6小時,藉此獲得聚醯胺酸⑴。以5 μπι之過慮器加壓過遽該聚酿胺酸後,測定對比黏度(聚酿 -40- 120567.doc 1359329 胺酸:20 mg/NMP : 50 ml,30。〇,甘 ;’其結果為0.49。又, 以上述次序進行驗性溶解試驗。將级 _ 叮、〜果示於表1。 (2)以Ν,Ν-二甲基乙醯胺(有機溶劑) 作為溶劑之聚醯胺酸 (ii) 於三口可分離式燒瓶中裝入2〇 一胺基二苯醚、 1.9xl02 g之N,N-二曱基乙醯胺,進行 疋仃欖拌’直至溶液變均
句。其次,添加0.189 g之鄰苯二甲酸酐,—面進行冰浴△ 卻,-面進行授拌,直至溶液變均勻。繼而,添加3〇代 4,4’-氧雙鄰笨二甲酸二酐’―面進行冰浴冷卻,—面擾掉 1小時’其後於室溫下搜拌6小時,藉此獲得聚酿胺酸 (u)。以5 μιη之過濾器加壓過濾該聚醯胺酸後,測定對比 黏度(聚醯胺酸:20 mg/NMP : 50 ml,30t:),其結果為 0.52。又,以上述次序進行鹼性溶解試驗。將結果示於表 (3) 以γ_丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(iu)
於三口可分離式燒瓶中裝入2〇 8之1,3_雙(3_胺基笨氧基) 苯、220 g之γ-丁内酯,進行攪拌,直至溶液變均勻。其 次,添加21 g之4,4,-氧雙鄰苯二曱酸二酐,一面進行冰浴 冷卻,一面攪拌1小時,其後於室溫下攪拌ό小時,藉此獲 得聚醯胺酸(iii)c以5 μηι之過濾器加壓過濾該聚醯胺酸 後’測疋對比黏度(聚酿胺酸:2〇 mg/NMP : 50 mi, 30。〇,其結果為0.92。又,以上述次序進行鹼性溶解試 驗。將結果不於表1。 (4) 以γ- 丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醢胺酸(iv) 120567.doc -41 · (S ) 1359329 於三口可分離式燒瓶中裝入2〇 苯、220 g之γ-丁内酯,進行攪拌,直至溶液變均勻。其 次,添加21 g之4,4,-氧雙鄰笨二甲酸二酐,一面進行冰洛 冷卻’-面攪拌1小時,其後於室溫下攪拌6小時,藉此獲 以5 μιη之過濾器加壓過濾該聚醯胺酸 後,測疋對比黏度(聚醯胺酸:2〇 mg/NMp : 5〇 ml, 30。〇 ’其、結果為G.92。又,m欠序進㈣性溶解試 驗。將結果示於表1。
(5)以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(v) 於二口可分離式燒瓶中裝入2〇 g之丨,3雙(3_胺基苯氧基) 苯、220 g之γ-丁内酯,進行攪拌,直至溶液變均勻。其 次,添加28 g之乙二醇雙偏苯三酸酐酯,一面進行冰浴冷 卻,一面攪拌1小時,其後於室溫下攪拌6小時,藉此獲得 聚醯胺酸(v)。以5 μπι之過濾器加壓過濾該聚醯胺酸後, 測定對比黏度(聚醯胺酸:2〇 mg/NMP : 50 nU,30。〇,其
g之1,3-雙(4-胺基苯氧基) 得聚醯胺酸(iv) 結果為0.86 ^又,以上述次序進行鹼性溶解試驗。將結果 示於表1。 (6)將γ- 丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸 於三口可分離式燒瓶中裝入2〇 §之1,3_雙(3·胺基苯氧基) 苯、220 g之γ-丁内酯,進行攪拌,直至溶液變均勻。其 次,添加28 g之乙二醇雙偏苯三酸酐酯,一面進行冰浴冷 部,一面攪拌1小時,其後於室溫下攪拌6小時,藉此獲得 聚醯胺酸(Vi)。以5 μιη之過濾器加壓過濾該聚醯胺酸後, 測定對比黏度(聚醯胺酸:2〇 mg/NMp : 5〇爪卜3〇〇c),其 120567.doc -42· (S ) 1359329 結果為0.94 °又’以上述次序進行鹼性溶解試驗。將結果 示於表1。 (7) 以γ-丁内醋(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(vii) 於三口可分離式燒瓶中裝入i丨46 g之ι,4-雙(4-胺基苯氧 基)戊烷、1〇5 g之γ_丁内酯,進行攪拌,直至溶液變均 勻。其次’添加16.41 g之乙二醇雙偏苯三酸酐酯,一面進 行冰浴冷卻’一面攪拌1小時,其後於室溫下攪拌6小時, 藉此獲得聚酿胺酸(vii)。以5 μιη之過濾器加壓過濾該聚醯 胺酸後’測定對比黏度(聚醯胺酸:2〇 mg/NMP : 50 ml, 30°C),其結果為1.06。又,以上述次序進行鹼性溶解試 驗。將結果示於表1。 (8) 以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(viii) 於三口可分離式燒瓶中裝入2〇 §之1,3_雙(3_胺基苯氧基) 苯、220 g之γ-丁内酯’進行攪拌,直至溶液變均勻。繼 而’添加31 gtu-二氫-;!,3_二氧基·5·異苯幷呋喃甲酸_ 1,4-亞苯酯,一面進行冰浴冷卻,一面檀拌丨小時,其後於 至皿下擾拌6小時,藉此獲得聚酿胺酸(viii)。 以5 μιη之過 遽器加壓過濾該聚醯胺酸後,測定對比黏度(聚醯胺酸: 20 mg/NMP : 50…,30。〇 ,其結果為〇 94。又,以上述 次序進行鹼性溶解試驗。將結果示於表1。 (9) 以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(ίχ) 於二口可分離式燒瓶中裝入2〇 g之l,3-雙(3-胺基苯氧基) 苯、220 丁内酯,進行攪拌,直至溶液變均勻。其 次’添加20 g之4,4,_氧雙鄰苯二甲酸二酐,一面進行冰浴 120567.doc -43- 1359329 冷卻,一面攪拌1小時,其後於室溫下攪拌6小時,藉此獲 得聚醯胺酸(ix)。以5 μπΐ2過濾器加壓過濾該聚醯胺酸 後’測疋對比黏度(t酿胺酸:20 mg/NMP : 50 ml 3〇 C ),其結果為0.6。又,以上述次序進行鹼性溶解試 驗。將結果示於表1。 (10)以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚苯幷噁唑前驅物 樹脂(X) 於1 L之可分離式燒瓶中,將724 g之4,4,_二苯醚二羧酸 及3.7 g之N,N-二甲基胺基吡啶溶解於6〇〇 g之DMAc,再於 室溫下’於上述溶液中滴加75.0 g之亞硫醯氯,搜拌1小 時。於0°C下,將該溶液添加於丨L可分離式燒瓶中之於 300 g之DMAc中溶解有109.9 g之2,2-雙(3_胺基_4·羥基苯 基)六氟丙烷者中,於室溫下攪拌6小時。以DMAc(1〇〇〇 g) 稀釋該溶液後,一面進行攪拌一面將其滴加於水中,過濾 所析出之聚合物後’於40°C下進行真空乾燥,獲得聚苯幷 噁唑前驅物。將10 g聚合物添加於4·6 g之γ_丁内醋中,使 用陶瓷轉子進行攪拌,直至溶液變均勻,藉此獲得以γ_τ 内酯作為溶劑之聚苯幷噁唑前驅物樹脂(χ)。於攪拌後,以 5 μηι過濾器進行加壓過濾之後,測定對比黏度(聚醯胺 酸:20 mg/NMP: 50 ml,3〇0C),其結果為 〇45。又,以 上述次序進行鹼性溶解試驗。將結果示於表i。 120567.doc -44- [表i] 驗溶性樹脂 溶解速度(μηι/sec) (0 0.10 ⑹ 0.15 (iii) 0.16 (iv) 0.07 (v) 0.13 (vi) 0.08 (vii) 0.04 (viii) 0.08 (ix) 0.16 (x) 0.001 1359329 (感光性膜之製作及鹼溶性試驗) 2 ·感光層之驗溶性試驗(膜殘留率) 按以下次序實施感光層之製作及膜殘留率之測定。 2-1.基板之處理 藉由砂磨機(石井表記公司製造)刷磨(研磨材 SAKURUNDUM RF220 日本研削研粒公司(Japan Abrasive
Grain Co.,Ltd.)製造)層壓有銅之玻璃環氧基板(厚度:0.4 mm,松下電工公司製造)之表面。 2-2.塗佈 於2-1中所獲得之基板上,使用經高度調整之YB A型 Baker塗膜器(YOSHIMITSU精機公司製造),以脫溶劑後之 膜厚度成為30 μπι之方式塗佈感光性聚醯胺酸組合物。 2-3.脫溶劑 於塗佈後,將試料置於加熱板(Charmant加熱板ΗΗΡ-412 As One公司製造)上,於60°C下進行30分鐘、於95°C下進行 2 0分鐘之脫溶劑。 120567.doc • 45 - 1359329 2-4·紫外線照射 於脫溶劑後,使用安裝有具有直徑為1〇 μιη〜5〇〇 μ〇ι之圓 孔圖案的圖像掩模(東京pr〇cess Service公司製造)之光罩 •對準曝光機(MA·10職aSa公司製造),力曝光量為1〇〇〇 mJ/cm (以UV3 50 nm進行校正)之條件下照射紫外線。 • 2-5.顯影 • 將於2 4中所獲知之基板浸潰於j 碳酸鈉水溶液令1 分鐘,進行顯影。顯影係於4(TC之液體溫度下實施。 2-6.殘存膜厚度之測定 使用探針式表面形狀測量儀(DEKTAK Ulvac公司製 造),測定脱溶劑後(顯影前)之膜厚度及顯影後之未照射部 • 之膜厚度。將顯影後之膜厚度除以顯影前之膜厚度,再乘 - 以100 ’藉此而獲得膜殘留率。 [實施例1] 將10 g之以γ_丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸 • (〇、〇·86 §之相對於聚醯胺酸之羧基為0.7當量之4|-羥基苯 基乙醢基苯胺、〇.42 g之相對於聚醯胺酸為20重量份之 醒二疊氮化合物(1咐人π之玻璃瓶中,放人授拌子進 灯授拌,直至溶液變均勻,從而獲得感光性聚酿胺酸組合 物1使用所獲得之感光性聚醯胺酸組合物1,以上述2- 1〜2-6之方法進行驗溶性試驗,獲得表冰*之結果。 [化 19] 120567.doc -46· 1359329
or H • · · (10) (式(10)中,Q之導入率為280/300 mol。) [實施例2]
將1〇 g之以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸 (i)、0.78 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇 7當量之*羥基苯 基苯甲醯胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌二 疊氮化合物(10)裝入50 cc玻璃瓶中,放入攪拌子進行攪 拌,直至溶液變均勻,從而獲得感光性聚醯胺酸組合物 2。使用所獲得之感光性聚醯胺酸組合物2,以上述2_丨~2_ 6之方法進行鹼溶性試驗,獲得表2所示之結果。 [實施例3]
將10 g以γ·丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(丨)、 0.63 g之相對於聚酿胺酸之魏基為〇·5當量之3_經基苯基 脲0.42 g之相對於聚酿胺酸為20重量份之酿二疊氮化合 物(10)裝入50 cc玻璃瓶中’放入攪拌子進行攪拌,直至溶 液變均勻’從而獲得感光性聚醯胺酸組合物3。使用所獲 得之感光性聚醯胺酸組合物3,以上述2-1〜2-6之方法進行 驗溶性試驗,獲得表2所示之結果。 [比較例1 ] 將10 g之以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸 -47- J 20567.doc (1)、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌二疊氮化入 物U0)裝人5G ee玻璃瓶中,放人授拌子進行授拌直至二 液變均勻,從而獲得感光性聚醢胺酸組合物4。使用所$ 仔之感光性聚酿胺酸組合物4,以上诚2 1 ο e 乂上迤2-1〜2·6之方法進 驗溶性試驗,獲得表2所示之結果。 [比較例2] 將丨〇 g之以Ν,Ν-二甲基乙醢胺(有機溶劑)作為溶劑之聚 醯胺酸(ii)、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌二是 氮化合物(10)裝入50 CC玻璃瓶中,放入攪拌子進行攪拌^ 直至溶液變均勻,從而獲得感光性聚醯胺酸組合物5。使 用所獲得之感光性聚醯胺酸組合物5,以上述2_i〜2_6之方 法進行鹼溶性試驗,獲得表2所示之結果。 [比較例3] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)為溶劑之聚醯胺酸⑴、^ 〇 g之相對於聚醯胺酸之羧基為!當量之Ν,Ν_二曱基乙醯胺·、 0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌二疊氮化合物 (10)裝入50 cc玻璃瓶中,放入攪拌子進行攪拌,直至溶液 變均勻,從而獲得感光性聚醯胺酸組合物6。使用所獲得 之感光性聚醯胺酸組合物6,以上述2_1〜2 _6之方法進行驗 溶性試驗’獲得表2所示之結果。 [比較例4] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)為溶劑之聚醯胺酸⑴、 g之相對於聚醯胺酸之羧基為2當量之41•羥基苯基乙醯 基苯胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌二疊氮 120567.doc •48- 1359329 化合物(10)裝入50 cc玻璃瓶中,放入攪拌子進行攪拌,直 至溶液變均勻,從而獲得感光性聚醯胺酸組合物7。使用 所獲得之感光性聚醯胺酸組合物7,以上述2-1〜2-6之方法 進行驗溶性試驗,獲得表2所示之結果。 [表2] ^^ 曝光量(mJ/cm2) 膜殘留率(%) 實施例1 1000 91 實施例2 1000 90 實施例3 1000 93 比較例1 1000 曝光部未溶解 比較例2 1000 75 比較例3 1000 曝光部未溶解 比較例4 1000 80 (感光性膜之製作、鹼溶性試驗、物性評價) 3.物性評價 3-1.Tg之測定 3-1-1.測定脫溶劑後之Tg (Tg-1) 使用熱•應力•應變測定裝置(TMA/SS6100,Seiko Instruments公司製造),於氮環境下(流速250 cc/min)、測 定範圍為30°C〜200°C條件下,對使用感光性樹脂組合物、 以下述條件所製作之膜測定Tg。 塗佈:將可真空吸附及加熱之塗佈台(Matsuki科學公司 製造)加熱至60°C。於塗佈臺上塗佈聚酯膜(R-310-25三菱 聚酯公司製造),並使之真空吸附,藉此貼附該聚酯膜。 於該聚酯膜上,使用塗佈機(Matsuki科學公司製造),以脫 溶劑後之膜厚度成為30 μπι之方式塗佈感光性樹脂組合 物。 120567.doc •49- (S ) 1359329 脫溶劑:於該塗佈臺上,於60°C下進行30分鐘之脫溶劑 後’以乾燥機(SPH-201,Espec公司製造)於95°C下進行20 . 分鐘進行之脫溶劑。 H-2·測定於2〇〇°C下進行加熱後之Tg (Tg-2) 以下述條件對感光性樹脂組合物進行塗佈、.脫溶劑、烘 烤、銅蝕刻而製成膜。使用熱•應力•應變測定裝置(TMA/ SS6100 ’ Seiko Instruments公司製造),於氮環境下(流速 250 cc/min)、測定範圍為30°C~300°C之條件下,測定所獲 ® 得膜之T g。 塗佈:將可真空吸附及加熱之塗佈台(Matsuki科學公司 製造)加熱至60°C。於塗佈臺上以其光澤面朝上之方式鋪
s又電解銅箔薄片(F3-ws ’ Furukawa Circuit Foil Co.,LTD 製造),使之真空吸附,藉此貼附該電解銅箔薄片。使用 塗佈機(Matsuki科學公司製造),以脫溶劑後之膜厚度成為 3 0 μιη之方式,將感光性樹脂組合物塗佈於該電解銅箔薄 片上。 脫溶劑.於該塗佈臺上,於60°c下進行3〇分鐘之脫溶劑 後,以乾燥機(SPH-201,Espec公司製造)於95。〇下進行2〇 分鐘之脫溶劑。 烘烤:使用乾燥機(SPH-201Espec公司製造),升溫速度 為5 °C/min,空氣環境下,於表3所示之條件下使其乾燥。 120567.doc •50·
i359329 [表3] 溫度(°c) 保待時間imin) 95 1U 120 ~60 150 "30 2〇〇 *60 蚀刻:使用三氣化鐵水溶液(4〇波美,鹤見曹達公司製 造),進行蝕刻。 乾燥:於蝕刻後’於溫度23〇c、濕度50%下靜置一晝 夜。
3-2.彎曲之觀察 針對感光性樹脂組合物,將於3 _丨_丨中所製作之薄片放 置於桌上’觀察有無彎曲。可見彎曲之薄片記為χ,無彎 油之薄片記為〇。 3-3.層壓 3 - 3 -1.感光性膜之製作
使用感光性樹脂組合物,於344之條件下製作感光性 膜。 3-3-2.準備基板 利用乾燥機將層壓有銅之玻璃環氧基板(elc_4762_a, 住友酚醛樹脂公司製造)預先加溫至60°C。 3-3-3.層壓操作 使用熱輥層壓機(AL_7〇〇,旭化成公司製造),於表4所 示之條件下’將3-3」中所製作之感光性膜層麼於3·3·2中 所準備之料環氧基板h可層^形記為。,無法層 120567.doc
-51 - ,:S 1359329 壓之情形記為χ。再者’於上述條件下無法進行層壓時 可階段性地提高溫度,直至可進行層壓。 [表4] 溫度 10(TC 壓力 0.35 MPa 運送速度 0.5 m/min *表示於100°C下無法進行層壓,提高層壓溫度後實施層壓 之情形。 3-4.感光性樹脂組合物之鹼溶性試驗 3-4-1.照射紫外線 將藉由3-3-1〜3-3-3之操作而製作之基板切成長5 cm、寬 1.5 cm,以鋁箔覆蓋基板之半面,使用未安裴圖像掩模之 光罩對準曝光機(MA-10 Mikasa公司製造),於曝光量為 1000 mJ/cm2 (UV35〇校正)之條件下照射紫外線。 3-4-2.感光層之鹼性溶解試驗 使3 4-1中所製作之基板浸潰於加溫至之丄评1%碳酸 溶液中,以卿十欠之頻率,每次搖動1〇秒。將曝光 部完全溶解所必需之時間設為溶解時間,藉由以下數式(3) 計算感光層之溶解速度。 [數3] 感光層之驗性溶解速度=溶解前之膜厚度(μιη) 溶解時間(sec) . …數式(3) 3-5.殘存膜厚度之測定 使用探斜主 式表面形狀測量儀(DEKTAK Ulvac公司製 120567.doc •52· 造),測定脫溶劑後(顯影前)之膜厚度及顯影後之未照射部 之膜厚度。將顯影後之臈厚度除以顯影前之臈厚度,再乘 以100 ’藉此而獲得膜殘留率。 [實施例4] 將10 8以厂丁内醋(有機溶劑)作為溶劑之聚酿胺酸(iii)、 0.26 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇 25當量之3,·羥基苯基_ N-乙酿基苯胺、〇·42代才目對於聚酿胺酸為2〇重量份之酿 二疊氮化合物(11)裝入50 cc玻璃報中,#由陶究轉子(難_ 5,As One公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻,從而獲 得感光性聚醯胺酸組合物8。使用所獲得之感光性聚醯胺 酸組合物8,藉由上述3-^3-5之方法進行性能評價,獲得 表5所示之結果。 [化 20]
(式(11)中,Q之導入率為230/300 m〇i。) [實施例5] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(iH)、 0.26 g之相對於聚醯胺酸之羧基為0.25當量之4,-經基苯基- 120567.doc -53 · 1359329 N-乙醯基苯胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌 —疊氮化合物(11)裝入50 CC玻璃瓶中,藉由陶瓷轉子(MR_ 5, As 〇ne公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻從而獲 得感光性聚醯胺酸組合物9 ^使用所獲得之感光性聚醯胺 酸組合物9,藉由上述3-1〜3-5之方法進行性能評價,獲得 表5所示之結果。 [實施例6] 將10 g以γ-丁内醋(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸⑴丨)、 0.23 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇 25當量之4_經基笨基 苯甲醯胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醒二疊 氮化合物(11)裝入50 CC玻璃瓶中,藉由陶瓷轉子(MR5, As One公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻,從而獲得 感光性聚醯胺酸組合物10。使用所獲得之感光性聚醯胺酸 組合物10,藉由上述3-1〜3-5之方法進行性能評價,獲得 表5所示之結果。 [實施例7] 將10 g以γ- 丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸⑴丨)、 〇·26 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇 25當量之3•經基笨基 脲、0.42 g之相對於聚醯胺酸為20重量份之醌二疊氮化合 物(11)裝入50 cc玻璃瓶中,藉由陶瓷轉子(MR_5,As 〇加 公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻,從而獲得感光性 聚醯胺酸組合物11。使用所獲得之感光性聚酿胺酸組合物 11,藉由上述3-1~3-5之方法進行性能評價,獲得表5所示 之結果。 120567.doc •54· < S ) [實施例8] 除了以脫溶劑後之膜厚度成為25 μιη之方式進行塗佈以 外,以與實施例4同樣之方式進行性能評價,獲得表5所示 之結果。 [實施例9] 除了以脫/谷劑後之膜厚度成為2〇 之方式進行塗佈以 外,以與實施例4同樣之方式進行性能評價,獲得表5所示 之結果。 [實施例10] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(v)、 0.23 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇25當量之3,_羥基苯基_ N-乙醯基苯胺、〇·42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌 二疊氮化合物(11)裝入50 cc玻璃瓶中,藉由陶瓷轉子(MR_ 5,As One公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻,從而獲 得感光性聚醯胺酸組合物12。使用所獲得之感光性聚醯胺 酸組合物12,藉由上述3-1〜3-5之方法進行性能評價,獲 得表5所示之結果。 [實施例11] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(vi)、 0.23 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇·25當量之3,_羥基苯基_ Ν-乙醯基苯胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌 一疊氮化合物(11)裝入50 cc玻璃瓶中,藉由陶曼轉子(mr_ 5,As One公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻,從而獲 得感光性聚酿胺酸組合物13。使用所獲得之感光性聚醯胺 120567.doc •55· 1359329 酸組合物13,藉由上述3445之方法 得表5所示之結果。 [實施例12]
…”外丁内醋(有機溶劑)作為溶劑之聚酿胺酸⑽、 之相對於聚酿胺酸之緩基為〇25當量之3·經基苯基 N-乙醢基苯胺、0.027§之笨均四酸、。心之相對於聚酿 胺酸為20重量份之醒二疊氮化合物⑴)褒入5〇 a玻璃瓶 中,藉由陶㈣子_-5, As One公司製造)進行授拌,直 至溶液變均句,從而獲得感光性聚酿胺酸組合物…使用 所獲得之感光性聚醯胺酸組合物14,#由上述弘卜“之 方法進行性能評價,獲得表5所示之結果。 [比較例5]
進行性能評價,獲 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸⑴丨)、 〇.3〇 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇5當量之Ν,Ν-二甲基乙 醯胺、0_42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌二疊氮化 合物(11)裝入50 cc玻璃瓶中,藉由陶瓷轉子(1^尺_5,As One公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻,從而獲得感光 性聚醯胺酸組合物15。使用所獲得之感光性聚醯胺酸組合 物15,藉由上述3-1〜3-5之方法進行性能評價,獲得表5所 示之結果。 [比較例6] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(Ui)、 〇·79 g之相對於聚醯胺酸之羧基為1 3當量之N N二甲基乙 酿胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌二疊氣化 120567.doc -56· 1359329 合物(11)裝入50 ec玻璃航中,藉由陶竞轉子(mr_5,as One公司製造)進行攪拌’直至溶液變均勻,從而獲得感光 . 性聚醯胺酸組合物16。使用所獲得之感光性聚醯胺酸組合 物16’藉由上述3-1〜3-5之方法進行性能評價,獲得表5所 示之結果。 [比較例7] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚酿胺酸⑴丨)、 0.17 g之相對於聚醯胺酸之羧基為0.25當量之N甲基他洛 _ 啶酮、0.42 g之相對於聚醯胺酸為20重量份之醌二疊氮化 合物(11)裝入5〇 cc玻璃瓶中,藉由陶瓷轉子(MR5,As One公司製造)進行攪拌,直至溶液變均勻,從而獲得感光 - 性聚醯胺酸組合物17。使用所獲得之感光性聚醯胺酸組合 4勿17,#由上述3士 3-5之方法進行性能評價,獲得表5所 示之結果。 [比較例8] • 除了將脫溶劑之條件設為於加熱板上6(TC下進行30分 鐘,於乾燥機内於阶下進行10分鐘以外,以與比較例6 同樣之條件進行性能評價,獲得表5所示之結果。 -57- 12〇567.d〇, 1359329
Tg-2 :於200°C下進行加熱後之Tg(°C) 溶解速度:曝光部分之溶解速度(μηι/sec) *於110度下實施層壓時之值 3-6 :測定醯亞胺化率 3-6-1.塗佈
[表5] Tg-l(°C) Tg-2(°C) 彎曲 能否層壓 溶解速度 (μιη/sec) 膜殘留率 (%) 實施例4 80 154 〇 〇 0.33 95 實施例5 80 152 〇 〇 0.33 95 實施例6 83 160 〇 〇 0.35 90 實施例7 73 145 〇 〇 0.34 91 實施例8 80 154 〇 〇 (0.33) 97 實施例9 80 154 〇 〇 (0.35) 97 實施例10 63 135 〇 〇 0.31 98 實施例11 78 153 〇 〇 0.30 98 實施例12 80 160 〇 〇 0.34 93 比較例5 110 175 X X 0.16* 85* 比較例6 101 175 X X 0.21* 88* 比較例7 110 175 X X 0.17* 83* 比較例8 95 175 〇 〇 0.35 60 Tg-1 :乾燥步驟後之Tg(°C) 於電解銅猪(F3-ws,Furukawa Circuit Foil Co.,LTD 製 造)之光澤面上,使用塗佈機,以脫溶劑後之膜厚度成為 3 0 μιη之方式塗佈驗溶性樹脂。 3-6-2•烘烤 升溫速度為5°C/min,以表6所示之條件進行階段性加 熱0 •58- 120567.doc 1359329 [表6] 溫度(°c) 保持時間(min) 60 30 95 30 120 60 150 30 170 180 200 60 400 60 3-6-3.醯亞胺化率之計算
以3-6-2之條件進行加熱後,使用傅立葉變換紅外分光 光度計(FT-IR-460Plus日本分光公司製造),藉由ATR法測 定紅外線吸收。於測定後,使用以下數式(4)計算醯亞胺化 率。 [數4] (醯胺化率〇)) = {A/B(測定溫度)-A/B(60°C)} {A/B(400〇C)~ A/B(60°C)} 數式(4) A:醯亞胺化之峰(約1375 cm·1) B :標準峰(約1480 cm·1)
200°C下之各自
A/B(測定溫度):表示於170°C、180°C 之A/B比。 A/B(60°C):表示於60°C下之A/B比。 A/B(400°C):表示於400〇C 下之 A/B 比。 [實施例13] 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸⑴、 0.86 g之相對於聚醯胺酸之羧基為0.7當量之4'-羥基苯基-N-乙醯基苯胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為20重量份之醌 120567.doc -59- 1359329 二疊氮化合物⑽、〇·21 g之相對於聚酿胺酸為1〇重量份 :N-(第三丁氧基幾基)_2,6•二甲基哌啶裝入玻璃瓶 ’放入授拌子進行㈣,直至溶液變均句,從而獲得感 光性聚酿胺酸組合物18。使用所獲得之感光性聚酿胺酸組 合物1 8,以3 - 6中所示夕古、土 4曾μ 丫听不之方法计算醯亞胺化率。結果示於 表7。 [實施例14] 將10 g以γ· 丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(丨)、 0.86 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇 7當量之4,_羥基苯基-N-乙醯基苯胺、0.42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌 二疊氮化合物(10)裝入50 cc玻璃瓶中,放入攪拌子進行攪 拌,直至溶液變均勻,從而獲得感光性聚醯胺酸組合物 1 9。使用所獲得之感光性聚醢胺酸組合物丨9以3_6中所示 之方法計算醯亞胺化率。結果示於表7。 [表7] 醢胺化率 170°C 180°C 200°C 實施例13 91% 92% 100% 實施例14 70% 80% 90% 3-7.測定於200°C下進行加熱而獲得之膜的伸長率 以下述條件,對感光性樹脂組合物進行塗佈、脫溶劑、 烘烤、銅钱刻,而製成膜。使用萬能拉力試驗機(RT G · 1210,A and D公司製造)’對所獲得之膜進行拉伸試驗。 塗佈:將可真空吸附及加熱之塗佈台(Matsuki科學公司 120567.doc -60- 1359329 製造)預先加熱至60°C,於其上以光澤面朝上之方式舖設 電解銅-治薄片(F3-ws,Furukawa Circuit Foil Co.,LTD製 造)°其次’藉由使之真空吸附而貼附該電解銅箔薄片β 使用塗佈機(Matsuki科學公司製造),以脫溶劑後之膜厚度 成為3 0 μηι之方式,將感光性樹脂組合物塗佈於該電解銅 箔薄片上。 脫溶劑:於該塗佈臺上’於60°C下進行30分鐘之脫溶劑 後’以乾燥機(SPH-201 ’ Espec公司製造)於95°C下進行20
分鐘之脫溶劑。 烘烤.使用乾燥機(SPH-201,Espec公司製造),升溫速度 為5°C/min,空氣環境下,於表8所示之條件下使之乾燥。 [表8] 溫度(°c) 保持時間(min) 95 10 120 60 150 30 200 60
钱刻:使用三氣化鐵水溶液(40波美,鶴見曹達公司製 造),進行钱刻。. 乾燥:於蝕刻後’於溫度23°C、濕度50%下靜置1畫夜。 [實施例15] 使用於實施例4中所獲得之感光性聚醢胺酸組合物8,以 3-7中之方法’測定於200°C下進行加熱後之膜的伸長率。 將結果示於表9。 [實施例16] 120567.doc -61· (S ) 1359329 將10 g以γ-丁内酯(有機溶劑)作為溶劑之聚醯胺酸(iv)、 0.23 g之相對於聚醯胺酸之羧基為〇25當量之3ι·羥基苯基_ Ν-乙醯基苯胺、〇·42 g之相對於聚醯胺酸為2〇重量份之醌 一疊ll化合物(11)裝入5〇 cc玻璃瓶中,藉由陶瓷轉子(mr_ 5As One公司製造)進行攪拌’直至溶液變均勻,從而獲得 感光性聚醯胺酸組合物20〇使用所獲得之感光性聚醯胺酸 組合物20,以3-7中之方法,測定於2〇〇°c下進行加熱後之 膜的伸長率。將結果示於表9。 [實施例17] 使用於實施例11中所獲得之感光性聚醯胺酸組合物13, 以3-7之方法,測定於2〇〇乞下進行加熱後之膜的伸長率。 將結果示於表9。 [表9] 伸長率 實施例15 6% 實施例16 17% 實施例17 '30% [產業上之可利用性] 使用本發明之感光性樹脂組合物, 轉印性良好 ,可獲得無彎曲、層壓
情形時曝光 膜殘留率為 感光層後, 所期望之樹j I20567.doc -62· 1359329
料、液晶元件材料、光學元件材料,尤其是覆蓋層。 該申請案係基於2006年4月28日提出申請之日本專利特 願2006-126623號、2006年7月27曰提出申請之曰本專利特 願2006-205394號而成者。其等之内容全部包含於此。 120567.doc -63 -
Claims (1)
1359329 1 jo年6月多日修正本 第096115086號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(100年6月) 十、申請專利範圍: 1. 一種感光性樹脂組合物,其係含有驗溶性樹脂者;該感 光性樹脂組合物之特徵在於:該鹼溶性樹脂於碳酸鈉水 溶液中之溶解速度為0.04 μιη/sec以上,而在對將該感光 性樹脂組合物塗佈於基材上且藉由加熱使之脫溶劑後所 獲得之膜厚度為30 μιη之感光層照射1000 mJ/cm2以下之 活性光線時,包含該感光性樹脂組合物之感光層之活性 光線照射部於碳酸鈉水溶液中之溶解速度為0.22 μιη/sec 以上,活性光線未照射部之膜殘留率為90%以上。 2.如請求項1之感光性樹脂組合物,其中該感光層之T g為 100°C以下,且藉由於200°C加熱該感光層而獲得之膜之 Tg為200°C以下。 3. 如請求項1之感光性樹脂組合物,其包含:(A)鹼溶性樹 脂、(B)溶解抑制劑、(C)感光劑及(D)有機溶劑(其中, 與構成(B)之化合物相同之化合物除外)。 4. 如請求項3之感光性樹脂組合物,其中(A)鹼溶性樹脂係 聚醯亞胺前驅物。 5. 如請求項4之感光性樹脂組合物,其中該聚醯亞胺前驅 物含有以式(1)表示之聚醯胺酸或含有羧基之聚醯胺酸 酯,
r2o- 0 0 (0R5)m :Rr N——R4——N- (1) •or3 (COOR^n 0 0 120567-1000603.doc (Ri為4價有機基;R2、R3為氫原子或碳數卜“之有機 基’各自可相同亦可不同;心為2〜4價之有機基;r5、 I為氫原子或碳數1〜20之有機基,各自可相同亦可不 同,其中’R2及R3不為氫原子時,m+n>0且n>0,Rs為氫 原子或碳數1〜20之有機基,r6為氫原子;R2、R3之至少 一個為氫原子時,m+n 2 0,且Κ·5、R6為氫原子或碳數 1〜20之有機基,各自可相同亦可不同)° 6. 如請求項4之感光性樹脂組合物,其中以200°c以下之溫 度加熱感光層時所獲得之膜之醯亞胺化率為90°/(>以上。 7. 如請求項4之感光性樹脂組合物,其中以200°C以下之溫 度加熱感光層時所獲得之膜之伸長率為5%以上。 8. 如請求項5之感光性樹脂組合物,其含有:式(1)中Ri以 式(2)且R4以式(4)所表示之結構之組合、或R丨以式(2)且 R4以式(5)所表示之結構之組合、或Ri以式且R4以式 (5)所表示之結構之組合
(4) 120567-1000603.doc • 2· (5) 1^59329
9如叫求項3之感光性樹脂組合物,其中(B)溶解抑制劑係 酿胺化合物或脲化合物。 ” 如吻求項3之感光性樹脂組合物’其中(b)溶解抑制劑係 含有芳香族羥基之醯胺化合物或含有芳香族羥基之脲化 合物。 11. 如請求項3之感光性樹脂組合物,其中(c)感光劑係藉由 照射/舌性光線而產生酸之化合物。 12. 如π求項11之感光性樹脂組合物,其中(C)感光劑係g昆二 疊氣化合物。 13. 如請求項3之感光性樹脂組合物,其中(D)有機溶劑係丫 丁内酯。 14. 如請求項3之感光性樹脂組合物,其含有(Ε)交聯劑。 1 5‘如請求項14之感光性樹脂組合物,其中(Ε)交聯劑係以式 (6)或以式(7)表示之四羧酸化合物、四羧酸酯化合物、 聚醯胺酸化合物、聚醯胺酸酯化合物, .COOf^ R’〇OOC>^ (6) /R、 Rt1OOC CO〇^ (R7為4價有機基,Re〜Rn為氫原子或碳數1〜20之有機 基,各自可相同亦可不同) 120567-1000603.doc (7) (7)1359329
(R12、Ru、R16為4價有機基,各自可相同亦可不同’; R13、Ris為2價〜4價之有機基,各自可相同亦可不同; R17~R24為氫原子或碳數1〜2〇之有機基,各自可相同亦可 不同;p為0〜100之整數)。 16.如請求項4之感光性樹脂組合物,其含有(F)熱鹼產生 劑。 17.如請求項16之感光性樹脂組合物,其中(F)熱鹼產生劑產 生胺化合物。 18’種感光層,其特徵在於:其係包含如請求項1至I?中 任一項之感光性樹脂組合物。 19. 一種感光性膜,其特徵在於:其具備載體膜,及設置於 該載體膜上之如請求項丨8之感光層。 20. —種積層膜,其特徵在於:其具備形成於如請求項…之 感光性膜之感光層上之覆蓋膜。 21. —種樹脂圖案之形成方法,其特徵在於,其包括: 將如請求項1至17中任一項之感光性樹脂組合物塗佈 於基板表面之塗佈步驟; 於该輦佈步驟後,加熱該感光性樹脂組合物而形成感 光層之感光層形成步驟; 於該感光層形成步驟後,於該感光層之期望區域照射 120567-1000603.doc 1359329 活性光線之活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後,加熱該樹脂圖案之固化步驟。 22. —種樹脂圖案形成方法,其特徵在於,其包括: 將如請求項1至17中任一項之感光性樹脂組合物塗佈 於基板表面上之塗佈步驟; 於該塗佈步驟後,加熱該感光性樹脂組合物而形成感 光層之感光層形成步驟; 於該感光層形成步驟後,將該感光層轉印至其他基板 表面上之層壓步驟; 於該層壓步驟後’自感光層剝離於該塗佈步驟中所使 用之基板’繼而於該感光層之期望區域照射活性光線之 活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後’使用鹼水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後’加熱該樹脂圖案之固化步驟。 23. —種樹脂圖案形成方法,其特徵在於,其包括: 將如請求項19之感光性膜之感光層轉印至其他基板表 面上之層壓步驟; 120567-1000603.doc 1359329 於該層壓步驟後,剝離該感光性膜之載體膜,繼而於 該感光層之期望區域照射活性光線之活性光線照射步 驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後,加熱該樹脂圖案之固化步驟。 24. 一種樹脂圖案形成方法,其特徵在於,其包括: · 剝離如請求項20之積層膜之覆蓋膜或載體膜中之一 個’將感光層轉印至其他基板表面上之層壓步驟; 於該層壓步驟後’剝離該感光性膜之覆蓋膜或載體膜 中之另一個,繼而,於該感光層之期望區域照射活性光 線之活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖_ 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後,加熱該樹脂圖案之固化步驟。 25. 26. 27. 一種覆蓋層,其係藉由如請求項21至24中任一項之方法 而形成。 一種配線板,其特徵在於:其具備如請求項25之覆蓋 層。 一種感光性樹脂組合物,豆至φ台人 刃八芏夕包含·(A,)以式(8)所表 120567-1000603.doc 1359329 -示之聚醯胺酸、(B)溶解抑制劑、(C)感光劑及(D)有機溶 劑(其中,與構成(B)之化合物相同之化合物除外) i Π Ϊ -c—〒25 - C—N—R2e—N- (8) (COOH)2 (式(8)中,R25表示碳數2以上之4價有機基,R:t0表示碳數 2以上之2價有機基)。 φ 28.如請求項27之感光性樹脂組合物,其中(B)溶解抑制劑係 醯胺化合物或脲化合物。 29. 如請求項27之感光性樹脂組合物,其中(B)溶解抑制劑係 選自31-羥基苯基-N_乙醯基苯胺、4,_羥基苯基_N_乙醯基 苯胺、4-羥基苯基苯甲酿胺、3_羥基笨基脲中之至少一 . 種。 30. 如吻求項27之感光性樹脂組合物,其中以以下之 /瓜度加熱感光層時所獲得之膜之醯亞胺化率為9〇%以 • 上。 3 1.如咕求項27之感光性樹脂組合物,其中以以下之 溫度加熱感光層時所獲得之膜之伸長率為5%以上。 32. 如《月求項27之感光性樹脂組合物,其巾式⑻中,〜為 (〇R5)m-R4.(C〇〇R6)n。 33. 如明求項27之感光性樹脂組合物,其含有:式⑻中R25 以式(2)且R26以式(4)所表示之結構之組合、或&以式⑺ 且R26以式(5)所表示之結構之組合、或r”以式⑺且〜 以式(5)所表示之結構之組合 120567-J000603.doc (2) 1359329
(3) (4) (5) Ο 34*如請求項27之感光性樹脂組合物,其中(C)感光劑係藉由 照射活性光線而產生酸之化合物。 35·如請求項27之感光性樹脂組合物,其中(C)感光劑係醌二 疊氮化合物。 36·如請求項27之感光性樹脂組合物,其中(D)有機溶劑係 丁内酯。 37‘如請求項27之感光性樹脂組合物,其含有(Ε)交聯劑。 38·如請求項37之感光性樹脂組合物,其中(Ε)交聯劑係以式 (6)或以式(7)表示之四缓酸化合物、四缓酸酯化合物、 聚酿胺酸化合物、聚醯胺酸酯化合物,
(6) (R7為4價有機基,R8〜Rn為氫原子或碳數卜2〇之有機 120567-1000603.doc (7) 1359329 基,各自可相同亦可不同)
(R12、Rl4、Rl6為4價有機基,各自可相同亦可不同; Rl3、R15為2價〜4價之有機基,各自可相同亦可不同; φ Ri7〜R24為氫原子或碳數1〜20之有機基,各自可相同亦可 不同;p為0〜100之整數)。 39. 如請求項27之感光性樹脂組合物,其含有(F)熱鹼產生 劑。 40. 如請求項39之感光性樹脂組合物,其中(F)熱鹼產生劑產 ' 生胺化合物。 41. 一種感光層,其特徵在於:其係包含如請求項27之感光 性樹脂組合物。 Φ 42. —種感光性膜,其特徵在於:其具備載體膜,及設置於 該載體膜上之如請求項41之感光層。 43. —種積層膜,其特徵在於:其具備形成於如請求項42之 感光性膜之感光層上之覆蓋膜。 44. 一種樹脂圖案之形成方法,其特徵在於,其包括: 將如請求項2 7之感光性樹脂組合物塗佈於基板表面之 塗佈步驟; 於該塗佈步驟後,加熱該感光性樹脂組合物而形成感 光層之感光層形成步驟; 120567^1000603.doc -9- 1359329 於該感光層形成步驟後,於該感光層之期望區域照射 活性光線之活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後,加熱該樹脂圖案之固化步驟。 45. —種樹脂圖案形成方法,其特徵在於,其包括: 將如請求項27之感光性樹脂組合物塗佈於基板表面上修 之塗佈步驟; 於該塗佈步驟後’加熱該感光性樹脂組合物而形成感 光層之感光層形成步驟; 於該感光層形成步驟後,將該感光層轉印至其他基板 表面上之層壓步驟; 於該層壓步驟後,自感光層剝離於該塗佈步驟中所使 用之基板,繼而於該感光層之期望區域照射活性光線之 活性光線照射步驟; 籲 於該活性光線照射步驟後,使用驗水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步驟; 於。亥樹月曰圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後,加熱該樹脂圖案之固化步雜。 46, 一種樹脂圖案形成方法,其特徵在於,其包括: 將如°月求項42之感光性膜之感光層轉印至其他基板表 j2〇567-l〇^603d〇' •10· 1359329 面上之層壓步驟; 於該層壓步驟後,剝離該感光性膜之載體膜,繼而於 該感光層之期望區域照射活性光線之活性光線照射步 驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步輝; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後’加熱該樹脂圖案之固化步驟。 47. —種樹脂圖案形成方法,其特徵在於,其包括: 剝離如請求項43之積層膜之覆蓋膜或載體膜中之一 個,將感光層轉印至其他基板表面上之層壓步驟; 於該層壓步驟後,剝離該感光性膜之覆蓋膜或載體膜 中之另一個,繼而,於該感光層之期望區域照射活性光 線之活性光線照射步驟; 於該活性光線照射步驟後,使用鹼水溶液將該感光層 顯影之樹脂圖案形成步驟; 於該樹脂圖案形成步驟後,使用清洗液清洗該樹脂圖 案之清洗步驟;及 於該清洗步驟後,加熱該樹脂圖案之固化步驟。 48. —種覆蓋層,其係藉由如請求項料至叨中任一項之方法 而形成。 49. 一種配線板,其特微右於.使g供1 & +、 试任於.其具備如凊求項48之覆蓋 層。 120567-1000603.doc
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