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JP5381491B2 - 樹脂およびポジ型感光性樹脂組成物 - Google Patents

樹脂およびポジ型感光性樹脂組成物 Download PDF

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JP5381491B2 JP2009189816A JP2009189816A JP5381491B2 JP 5381491 B2 JP5381491 B2 JP 5381491B2 JP 2009189816 A JP2009189816 A JP 2009189816A JP 2009189816 A JP2009189816 A JP 2009189816A JP 5381491 B2 JP5381491 B2 JP 5381491B2
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Description

本発明は、特定の構造を主成分とする樹脂に関する。より詳しくは、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜、有機電界発光素子の絶縁層などに適した樹脂、およびそれを用いたポジ型感光性樹脂組成物に関する。
ポリイミド樹脂は優れた耐熱性や電気絶縁性を有することから、LSI(Large Scale Integration)などの半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜、有機電界発光素子の絶縁層などに広く用いられている。多くのポリイミド樹脂は有機溶剤への溶解性が低いことから、その前駆体であるポリアミド酸溶液を塗布した後、高温加熱により脱水閉環させてポリイミドの膜を得る方法が、一般的に用いられている。そのため、ポリイミド前駆体の有機溶剤への溶解性は、ポリイミド材料の加工上、重要な特性である。また、近年の半導体素子の微細化に伴い、ポリイミド樹脂を用いた感光性樹脂組成物のパターン加工において、高い感度が求められている。
このような要求を満たす感光性樹脂組成物として、これまでに、テトラカルボン酸残基やジアミン残基にフッ素を有するポリイミド前駆体を含むポジ型感光性含フッ素ポリイミド前駆体組成物が提案されている(例えば、特許文献1〜2参照)。これらの組成物は有機溶剤への溶解性や感度は優れるものの、組成物から得られる硬化膜の密着性が低い課題があった。また、テトラカルボン酸残基に、ヘキサフルオロプロピル基とエーテル基、カルボニル基、フルオレニル基、スルホニル基を特定の割合で有するポリイミド樹脂が提案されている(例えば、特許文献3参照)。しかしながら、かかる樹脂を用いて得られる感光性樹脂組成物もまた、硬化膜の密着性が低い課題があった。
さらに、(a)ノボラック樹脂、特定構造のポリイミド系樹脂前駆体、特定の構造を有するナフトキノンジアジド化合物、アルコキシメチル基含有化合物および溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物が提案され(例えば、特許文献4参照)、後述する式(5)で表されるジアミン残基を有するポリイミド系樹脂前駆体を含む組成物が例示されている。かかる組成物は高感度である一方、硬化膜の密着性、有機溶剤への溶解性が低いという課題があった。
特開2002−37885号公報 国際公開第2005/121895号パンフレット 特開2007−91828号公報 特開2008−257210号公報
本発明は、上記従来技術の課題に鑑み、有機溶剤への溶解性と硬化膜の密着性に優れ、ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に高い感度を有する樹脂を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、本発明を見出すに至った。すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂である。
Figure 0005381491
上記一般式(1)中、Rは炭素数2以上の4価の有機基を示し、Rは炭素数2以上の2価の有機基を示す。ただし、 −(COOR で表される基は下記式(2)で表される基を5〜40モル%有し、さらに下記式(4)で表される基を60〜95モル%有する。は下記一般式(3)で表される基を50〜100モル%有する。Rは水素または炭素数1〜20の有機基を示す。nは5〜100,000の範囲を示す。
Figure 0005381491
上記一般式(3)中、pおよびqは0または1を示す。
本発明によれば、有機溶剤への溶解性と硬化膜の密着性に優れる樹脂を得ることができる。さらに、本発明の樹脂を用いることにより、有機溶剤への溶解性に優れ、高感度で硬化膜の密着性にも優れたポジ型感光性樹脂組成物を得ることができる。
本発明の樹脂は、下記一般式(1)で表される構造を主成分とする。一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂は、加熱により閉環し、耐熱性および耐溶剤性に優れたポリイミドとなるポリイミド前駆体である。ここで、主成分とは、一般式(1)におけるn個の構造単位を、樹脂の構造単位中50モル%以上有することを意味する。
Figure 0005381491
上記一般式(1)中、Rは炭素数2以上の4価の有機基を示し、Rは炭素数2以上の2価の有機基を示す。ただし、 −(COOR で表される基は下記式(2)で表される基を5〜40モル%有し、さらに下記式(4)で表される基を60〜95モル%有する。は下記一般式(3)で表される基を50〜100モル%有する。下記一般式(3)中、pおよびqは0または1を示す。
Figure 0005381491
−(COOR で表される基が上記式(2)で表される基を5モル%以上有することにより、得られる樹脂の有機溶剤への溶解性が向上する。また、得られる樹脂を含むポジ型感光性樹脂組成物の感度を向上させることができる。好ましくは10モル%以上である。一方、上記式(2)で表される基が40モル%を超えると硬化膜の密着性が低下するため、40モル%以下であることが必要である。硬化膜の密着性をより向上させるためには、30モル%以下が好ましい。
また、Rが上記一般式(3)で表される基を50モル%以上有することにより、有機溶剤への溶解性と硬化膜の密着性が向上する。一般式(3)で表される基が50モル%未満であると、有機溶剤への十分な溶解性が得られない。有機溶剤への溶解性および硬化膜の密着性をより向上させるためには、60モル%以上が好ましい。一方、上限は100モル%であり、90モル%以下が好ましい。
一般式(3)におけるpおよびqは0または1を示し、p+q=0であってもよい。得られる樹脂を含むポジ型感光性樹脂組成物のアルカリ現像性や感光性の観点から、p+q>0であることが好ましい。
なお、一般式(3)で表される基を2種以上有してもよく、その合計量が50〜100モル%であればよい。
前記一般式(1)における −(COOR で表される基は、前記式(2)で表される基を5〜40モル%有し、さらに下記式(4)で表される基を60〜95モル%有する。下記式(4)で表される基を60モル%以上有することにより、有機溶剤への溶解性と硬化膜の密着性がより向上する。硬化膜の密着性の観点から、70モル%以上90モル%以下がより好ましい。
Figure 0005381491
前記一般式(1)におけるRはこれら以外の基を有してもよい。例えば、シロキサン構造を有するテトラカルボン酸の残基を1〜10モル%有することが好ましく、硬化膜の密着性をより向上させることができる。
前記一般式(1)におけるRは、前記一般式(3)で表される基を50〜100モル%有する炭素数2以上の2価の有機基であればよく、一般式(3)以外の基は特に限定されないが、下記式(5)で表される基を5〜50モル%有することが好ましい。下記式(5)で表される基を5モル%以上有することにより、得られる樹脂を含むポジ型感光性樹脂組成物の感度を向上させることができる。10モル%以上が好ましい。なお、一般式(3)で表される基による有機溶剤に対する溶解性と硬化膜の密着性の観点から、下記式(5)で表される基はR中50モル%以下であり、40モル%以下が好ましい。
Figure 0005381491
前記一般式(1)におけるRはこれら以外の基を有してもよい。例えば、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、ビス(p−アミノ−フェニル)オクタメチルペンタシロキサンなどのシロキサン構造を有する脂肪族ジアミンの残基を1〜10モル%有することが好ましく、硬化膜の密着性をより向上させることができる。
一般式(1)中、Rは水素または炭素数1〜20の有機基を示す。有機基としては炭化水素基が好ましい。得られる樹脂を含むポジ型感光性樹脂組成物の安定性とアルカリ現像液に対する溶解性の観点から、Rは、炭素数1〜16の炭化水素基を少なくとも1つ含有し、その他は水素であることが好ましい。
一般式(1)中、nは樹脂の繰り返し数を表し、5〜100,000の範囲を示す。得られる樹脂の伸度向上の観点から、nは15以上が好ましい。一方、有機溶剤に対する溶解性や、得られる樹脂を含む感光性樹脂組成物のアルカリ現像液に対する溶解性の観点から、nは100,000以下であり、1,000以下が好ましく、100以下がより好ましい。本発明における繰り返し数nは、ポリスチレン換算によるゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により重量平均分子量(Mw)を測定することで容易に算出できる。繰り返し単位の分子量をM、樹脂の重量平均分子量をMwとすると、n=Mw/Mである。
本発明の樹脂は、前記一般式(1)で表される構造単位を主成分とするものであれば、他の構造単位を含んでもよい。例えば、前記一般式(1)で表される構造単位をイミド閉環させた構造単位を5〜50モル%有してもよい。
また、一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂は、モノアミン、酸無水物、酸クロリド、モノカルボン酸などの末端封止剤により末端を封止してもよい。樹脂の末端を水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、チオール基、ビニル基、エチニル基またはアリル基を有する末端封止剤により封止することで、樹脂のアルカリ水溶液に対する溶解速度を好ましい範囲に容易に調整することができる。末端封止剤は、樹脂の全アミン成分に対して0.1〜60モル%使用することが好ましく、より好ましくは5〜50モル%である。
一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂は、公知のポリイミドの製造方法に準じて製造することができる。例えば、(1)R基を有するテトラカルボン酸二無水物とR基を有するジアミン化合物、末端封止剤であるモノアミノ化合物を、低温条件下で反応させる方法、(2)R基を有するテトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後R基を有するジアミン化合物、末端封止剤であるモノアミノ化合物と縮合剤の存在下で反応させる方法、(3)R基を有するテトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後残りの2つのカルボキシル基を酸クロリド化し、R基を有するジアミン化合物、末端封止剤であるモノアミノ化合物と反応させる方法などを挙げることができる。上記の方法で重合させた樹脂は、多量の水やメタノール/水の混合液などに投入し、沈殿させてろ別乾燥し、単離することが望ましい。この沈殿操作によって未反応のモノマーや、2量体や3量体などのオリゴマー成分が除去され、熱硬化後の膜特性が向上する。
以下、好ましい例として、ポリイミド前駆体を製造する方法の例について述べる。まず、R基を有するジアミン化合物を重合溶媒中に溶解する。この溶液に、実質的にジアミン化合物と等モル量の、R基を有するテトラカルボン酸二無水物を徐々に添加する。メカニカルスターラーを用い、−20〜100℃、好ましくは10〜50℃で0.5〜100時間、より好ましくは2〜24時間撹拌する。末端封止剤を用いる場合には、テトラカルボン酸二無水物を添加後、所用温度、所要時間で撹拌した後、末端封止剤を徐々に添加してもよいし、一度に加えて、反応させてもよい。
重合溶媒は、原料モノマーであるテトラカルボン酸二無水物類とジアミン類を溶解できればよく、その種類は特に限定されない。例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンのアミド類、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート類、トリエチレングリコールなどのグリコール類、m−クレゾール、p−クレゾールなどのフェノール類、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。重合溶媒は、得られる樹脂100重量部に対して100〜1900重量部使用することが好ましく、150〜950重量部がより好ましい。
次に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物について説明する。本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(a)前記一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂、(b)キノンジアジド化合物および(c)溶剤を含有する。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(a)先に説明した本発明の樹脂を含有する。これらを2種以上含有してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(b)キノンジアジド化合物を含有する。キノンジアジド化合物としては、ポリヒドロキシ化合物にキノンジアジドのスルホン酸がエステルで結合したもの、ポリアミノ化合物にキノンジアジドのスルホン酸がスルホンアミド結合したもの、ポリヒドロキシポリアミノ化合物にキノンジアジドのスルホン酸がエステル結合および/またはスルホンアミド結合したものなどが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。これらポリヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物の全ての官能基がキノンジアジドで置換されていなくてもよいが、露光部と未露光部のコントラストの観点から、官能基全体の50モル%以上がキノンジアジドで置換されていることが好ましい。このようなキノンジアジド化合物を用いることで、一般的な紫外線である水銀灯のi線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)に感光するポジ型の感光性樹脂組成物を得ることができる。
ポリヒドロキシ化合物としては、Bis−Z、BisP−EZ、TekP−4HBPA、TrisP−HAP、TrisP−PA、TrisP−SA、TrisOCR−PA、BisOCHP−Z、BisP−MZ、BisP−PZ、BisP−IPZ、BisOCP−IPZ、BisP−CP、BisRS−2P、BisRS−3P、BisP−OCHP、メチレントリス−FR−CR、BisRS−26X、DML−MBPC、DML−MBOC、DML−OCHP、DML−PCHP、DML−PC、DML−PTBP、DML−34X、DML−EP、DML−POP、ジメチロール−BisOC−P、DML−PFP、DML−PSBP、DML−MTrisPC、TriML−P、TriML−35XL、TML−BP、TML−HQ、TML−pp−BPF、TML−BPA、TMOM−BP、HML−TPPHBA、HML−TPHAP(以上、商品名、本州化学工業(株)製)、BIR−OC、BIP−PC、BIR−PC、BIR−PTBP、BIR−PCHP、BIP−BIOC−F、4PC、BIR−BIPC−F、TEP−BIP−A、46DMOC、46DMOEP、TM−BIP−A(以上、商品名、旭有機材工業(株)製)、2,6−ジメトキシメチル−4−t−ブチルフェノール、2,6−ジメトキシメチル−p−クレゾール、2,6−ジアセトキシメチル−p−クレゾール、ナフトール、テトラヒドロキシベンゾフェノン、没食子酸メチルエステル、ビスフェノールA、ビスフェノールE、メチレンビスフェノール、BisP−AP(商品名、本州化学工業(株)製)などが挙げられるが、これらに限定されない。
ポリアミノ化合物としては、1,4−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィドなどが挙げられるが、これらに限定されない。
ポリヒドロキシポリアミノ化合物としては、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジヒドロキシベンジジンなどが挙げられるが、これらに限定されない。
本発明において、キノンジアジドは5−ナフトキノンジアジドスルホニル基、4−ナフトキノンジアジドスルホニル基のいずれも好ましく用いられる。4−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物はi線露光に適しており、5−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物はg線露光に適している。本発明においては、露光する波長によって4−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物、5−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物を選択することが好ましい。また、同一分子中に4−ナフトキノンジアジドスルホニル基、5−ナフトキノンジアジドスルホニル基を有するナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物を含有してもよいし、4−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物と5−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物を含有してもよい。
キノンジアジド化合物の分子量は、350以上1600以下が好ましい。
また、(b)キノンジアジド化合物の含有量は、(a)一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂100重量部に対し、好ましくは3重量部以上40重量部以下である。
(b)キノンジアジド化合物は、例えば、5−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとフェノール化合物をトリエチルアミン存在下で反応させる方法などにより得ることができる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(c)溶剤を含有する。溶剤としては、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどの極性の非プロトン性溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン類、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシメチルプロパネート、3−エトキシエチルプロパネート、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。(c)溶剤の含有量は、(a)一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂100重量部に対して、好ましくは100重量部以上1500重量部以下である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、前記(a)〜(c)以外の成分を含有してもよく、アルコキシメチル基含有化合物を含有することが好ましい。アルコキシメチル基は150℃以上の温度領域で架橋反応を生じるため、アルコキシメチル基含有化合物を含有することにより、熱処理により架橋し、優れた機械特性を有する硬化膜を得ることができる。アルコキシメチル基含有化合物の含有量は、一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂100重量部に対して、好ましくは10重量部以上30重量部以下である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、シラン化合物を含有することができる。シラン化合物を含有することにより、硬化膜の密着性が向上する。シラン化合物の具体例としては、N−フェニルアミノエチルトリメトキシシラン、N−フェニルアミノエチルトリエトキシシラン、N−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニルアミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニルアミノブチルトリメトキシシラン、N−フェニルアミノブチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランなどを挙げることができる。シラン化合物の含有量は、(a)一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂100重量部に対して、好ましくは0.01重量部以上15重量部以下である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、必要に応じてフェノール性水酸基を有する化合物を含有することができる。フェノール性水酸基を有する化合物を含有することにより、得られるポジ型感光性樹脂組成物は、露光前はアルカリ現像液にほとんど溶解せず、露光すると容易にアルカリ現像液に溶解するために、現像による膜減りが少なく、かつ短時間で現像が容易になる。このため、パターン加工性が向上する。フェノール性水酸基を有する化合物の好ましい例としては、Bis−Z、TekP−4HBPA、TRisP−HAP、TrisP−PA、BisRS−2P、BisRS−3P(以上、商品名、本州化学工業(株)製)、BIR−PC、BIR−PTBP、BIR−BIPC−F(以上、商品名、旭有機材工業(株)製)などが挙げられる。フェノール性水酸基を有する化合物の含有量は、(a)一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂100重量部に対して、好ましくは3重量部以上40重量部以下である。なお、本発明においては、フェノール性水酸基を有する化合物であってもキノンジアジドを有する場合は(b)キノンジアジド化合物に分類するものとする。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて(b)キノンジアジド化合物以外の光酸発生剤を含有してもよい。露光によって発生した酸成分を適度に安定化させる光酸発生剤としては、スルホニウム塩、ホスホニウム塩またはジアゾニウム塩が好ましい。本発明のポジ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜は永久膜として使用するため、リンなどが残存することは環境上好ましくなく、また膜の色調も考慮する必要があることから、これらの中ではスルホニウム塩が好ましく用いられる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(a)成分以外に他のアルカリ可溶性樹脂を含有してもよい。具体的には、アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体、アクリル酸を共重合したアクリルポリマー、ノボラック樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。このような樹脂は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、モノエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリの水溶液に溶解するものである。これらのアルカリ可溶性樹脂を含有することにより、硬化膜の密着性や優れた感度を保ちながら、各アルカリ可溶性樹脂の特性を付与することができる。本発明の一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂は他のアルカリ可溶性樹脂との相溶性に優れることから、他のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性樹脂組成物を露光・現像して得られる現像膜において生じやすい白濁を抑制することができる。また、従来公知のポリイミド前駆体とノボラック樹脂を含有するポジ型感光性樹脂組成物は、現像膜の表面や露光部と未露光部との界面において、海島状の模様(面荒れ)が生じやすい傾向があったが、本発明の一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂を用いたポジ型感光性樹脂組成物は、ノボラック樹脂を含有する場合にも面荒れや白濁を抑制し、外観良好な現像膜を得ることができる。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、基材との塗れ性を向上させる目的で界面活性剤、乳酸エチルやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、エタノールなどのアルコール類、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類を含有してもよい。また、二酸化ケイ素、二酸化チタンなどの無機粒子、あるいはポリイミドの粉末などを含有してもよい。
次に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を例示する。上記(a)〜(c)の各成分、および必要によりその他成分をガラス製のフラスコやステンレス製の容器に入れて、メカニカルスターラーなどによって撹拌溶解させる方法、超音波で溶解させる方法、遊星式撹拌脱泡装置で撹拌溶解させる方法などが挙げられる。ポジ型感光性樹脂組成物の粘度は、1〜10,000mPa・sが好ましい。また、異物を除去するために0.1μm〜5μmのポアサイズのフィルターで濾過してもよい。
次に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて耐熱性樹脂被膜のパターンを形成する方法について、例を挙げて説明する。
まず、ポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布する。基板はシリコンウエハ、セラミックス類、ガリウムヒ素、金属、ガラス、金属酸化絶縁膜、窒化ケイ素、ITOなどが用いられるが、これらに限定されない。塗布方法はスピンナを用いた回転塗布、スプレー塗布、ロールコーティング、スリットダイコーティングなどの方法が挙げられる。塗布膜厚は、塗布手法、ポジ型感光性樹脂組成物の固形分濃度、粘度などによって異なるが、乾燥後の膜厚が0.1〜150μmになるように塗布することが一般的である。
次に、ポジ型感光性樹脂組成物を塗布した基板を乾燥して、感光性樹脂膜を得る。乾燥はオーブン、ホットプレート、赤外線などを使用し、50℃〜150℃の範囲で1分間〜数時間行うことが好ましい。
次に、この感光性樹脂膜上に所望のパターンを有するマスクを通して化学線を照射し、露光する。露光に用いられる化学線としては紫外線、可視光線、電子線、X線などが挙げられるが、本発明では水銀灯のi線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)を用いることが好ましい。
感光性樹脂膜から耐熱性樹脂被膜のパターンを形成するには、露光後、現像液を用いて露光部を除去すればよい。現像液は、テトラメチルアンモニウムの水溶液、ジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、酢酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。場合によっては、これらのアルカリ水溶液にN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、ジメチルアクリルアミドなどの極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などを1種以上添加してもよい。現像後は水にてリンス処理をすることが一般的である。リンス処理には、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシメチルプロパネートなどのエステル類などを1種以上水に添加してもよい。
現像後、200℃〜500℃の温度を加えて耐熱性樹脂被膜に変換する。この加熱処理は温度を選び、段階的に昇温するか、ある温度範囲を選び連続的に昇温しながら5分間〜5時間実施することが好ましい。一例としては、130℃、200℃、350℃で各30分間ずつ熱処理する方法、室温より320℃まで2時間かけて直線的に昇温する方法などが挙げられる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物により形成した耐熱性樹脂被膜は、半導体のパッシベーション膜、半導体素子の保護膜、高密度実装用多層配線の層間絶縁膜、有機電界発光素子の絶縁層などの用途に好適に用いられる。
以下実施例等をあげて本発明を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。なお、実施例中の樹脂およびポジ型感光性樹脂組成物の評価は以下の方法により行った。
(1)有機溶剤に対する溶解性評価
アセトンおよびMMP(3−メトキシメチルプロパネート)にポリマー粉末を5重量%、10重量%の固形分濃度になるように添加して室温で1時間撹拌した後、目視で状態を観察した。5重量%濃度、10重量%濃度のいずれも不溶の樹脂が確認されなかったものを◎、10重量%濃度において不溶の樹脂が確認され、5重量%濃度においては不溶の樹脂が観察されなかったものを○、5重量%濃度において不溶の樹脂が確認された樹脂を×と評価した。
(2)硬化膜の密着性評価
シリコンウエハ上にポジ型感光性樹脂組成物(以下ワニスと呼ぶ)を回転塗布し、次いで、120℃のホットプレート(東京エレクトロン(株)製の塗布現像装置Mark−7使用)で3分間ベークし、厚さ8μmのプリベーク膜を作製した。この膜をオーブンに投入して170℃で30分間、次いで300℃で1時間熱処理して硬化膜を得た。熱処理は窒素中で行った。硬化膜に2mm間隔で10行10列の碁盤目状の切り込みをいれ、100時間、200時間、400時間のプレッシャークッカーテスト(以降、PCTと記載する、使用装置タバイ(株)製EHS−221MD)処理を行った。PCT処理なし(0時間)、100時間、200時間、400時間のそれぞれについて、“セロテープ(登録商標)”(ニチバン(株)製)による引き剥がしを行い、100マスのうち何マス剥がれたかによって密着性の評価を行った。剥がれ個数が10未満を良好、10以上を不良と評価した。PCT処理は121℃、0.21MPaの飽和条件で行った。
(3)感度評価
現像膜の作製
6インチシリコンウエハ上にワニスを回転塗布し、次いで、120℃のホットプレート(東京エレクトロン(株)製の塗布現像装置Mark−7使用)で3分間ベークし、厚さ5μmのプリベーク膜を作製した。この膜を、i線ステッパー(GCA製DSW−8000)を用いて0〜500mJ/cmの露光量にて10mJ/cmステップで露光した。露光後、2.38重量%のテトラメチルアンモニウム(TMAH)水溶液(三菱ガス化学(株)製、ELM−D)で90秒間現像し、ついで純水でリンスして現像膜を得た。
膜厚の測定方法
大日本スクリーン製造(株)製ラムダエースSTM−602を使用し、プリベーク後の膜は、屈折率1.629で測定した。
感度の算出
露光および現像後、露光部が完全に溶出してなくなった露光量(最小露光量Ethという)を感度とした。Ethが250mJ/cm以下であれば高感度であると判断できる。150mJ/cm以下がより好ましい。
(4)他のアルカリ可溶性樹脂を含有する場合の現像膜外観評価
現像膜の作製
ワニス50gに下記合成例5で得られたアクリル樹脂(e)溶液20g、合成例6で得られたノボラック樹脂(f)溶液20g、合成例7で得られたポリベンゾオキサゾール前駆体(g)溶液20gをそれぞれ混合した後、前記(3)感度評価と同様の方法で、現像膜を作製した。
現像膜の外観評価
得られた現像膜の表面、露光部と未露光部との界面を、(株)日立ハイテクノロジーズ製FE−SEMを用いて倍率4000倍で観察した。また、目視により白濁の有無を観察した。現像膜に面荒れや白濁が見られないものを○、白濁が認められず、現像膜表面や界面に面荒れが観察されたものを△、目視により白濁が認められたものを×と評価した。
以下の実施例、比較例に示す酸二無水物、ジアミンの略記号の名称は下記の通りである。
6FDA:4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物
ODPA:3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
BSAA:2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン二無水物
BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
SiDA:1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ビス(3−アミノプロピル)ジシロキサン
BAHF:2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン
APBN:1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン
DDS:4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
FDA:9,9’−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
MMP:3−メトキシメチルプロパネート
KBM−403:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 。
合成例1 ヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)の合成
BAHF18.3g(0.05モル)をアセトン100mL、プロピレンオキシド17.4g(0.3モル)に溶解させ、−15℃に冷却した。ここに3−ニトロベンゾイルクロリド20.4g(0.11モル)をアセトン100mLに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、−15℃で4時間反応させ、その後室温に戻した。析出した白色固体をろ別し、50℃で真空乾燥した。
得られた白色固体30gを300mLのステンレスオートクレーブに入れ、メチルセロソルブ250mLに分散させ、5%パラジウム−炭素を2g加えた。ここに水素を風船で導入して、還元反応を室温で行った。約2時間後、風船がこれ以上しぼまないことを確認して反応を終了させた。反応終了後、ろ過して触媒であるパラジウム化合物を除き、ロータリーエバポレーターで濃縮し、下記式で表されるヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)を得た。得られた固体をそのまま反応に使用した。
Figure 0005381491
合成例2 キノンジアジド化合物(b)の合成
乾燥窒素気流下、TrisP−PA(商品名、本州化学工業(株)製)21.22g(0.05モル)と5−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド26.86g(0.10モル)、4−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド13.43g(0.05モル)を1,4−ジオキサン50gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4−ジオキサン50gと混合したトリエチルアミン15.18gを、系内が35℃以上にならないように滴下した。滴下後30℃で2時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、ろ液を水に投入した。その後、析出した沈殿をろ過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記式で表されるキノンジアジド化合物(b)を得た。
Figure 0005381491
合成例3 キノンジアジド化合物(c)の合成
乾燥窒素気流下、TrisP−HAP(商品名、本州化学工業(株)製)15.31g(0.05モル)と5−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド40.28g(0.15モル)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。1,4−ジオキサン50gと混合したトリエチルアミン15.18gを用い、合成例2と同様にして下記式で表されるキノンジアジド化合物(c)を得た。
Figure 0005381491
合成例4 キノンジアジド化合物(d)の合成
乾燥窒素気流下、TekP−4HBPA(商品名、本州化学工業(株)製)28.83g(0.05モル)と5−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド13.43g(0.05モル)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。1,4−ジオキサン50gと混合したトリエチルアミン20.24gを用い、合成例2と同様にして下記式で表されるキノンジアジド化合物(d)を得た。
Figure 0005381491
合成例5 アクリル樹脂(e)の合成
500mlのフラスコに2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)を5g、t−ドデカンチオールを5g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PGMEAと略する)を150g仕込んだ。その後、メタクリル酸を30g、ベンジルメタクリレートを35g、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルメタクリレートを35g仕込み、室温でしばらく撹拌し、フラスコ内を窒素置換した後、70℃で5時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを15g、ジメチルベンジルアミンを1g、p−メトキシフェノールを0.2g添加し、90℃で4時間加熱撹拌し、アルカリ可溶性のアクリル樹脂(e)溶液を得た。アクリル樹脂溶液(e)の固形分濃度は43重量%であった。また、得られたアクリル樹脂(e)の重量平均分子量(Mw)は10600、酸価は118mgKOH/gであった。
合成例6 ノボラック樹脂(f)の合成
乾燥窒素気流下、m−クレゾール70.2g(0.65モル)、p−クレゾール37.8g(0.35モル)、37重量%ホルムアルデヒド水溶液75.5g(ホルムアルデヒド0.93モル)、シュウ酸二水和物0.63g(0.005モル)、メチルイソブチルケトン264gを仕込んだ後、油浴中に浸し、反応液を還流させながら4時間重縮合反応を行った。その後、油浴の温度を3時間かけて昇温し、その後に、フラスコ内の圧力を40〜67hPaまで減圧し、揮発分を除去し、溶解している樹脂を室温まで冷却して、アルカリ可溶性のノボラック樹脂(f)のポリマー固体を得た。GPCからMwは3,500であった。得られたノボラック樹脂(f)にγ−ブチロラクトン(GBL)を加え、固形分濃度43重量%のノボラック樹脂(f)溶液を得た。
合成例7 ポリベンゾオキサゾール前駆体(g)の合成
乾燥窒素気流下、BAHF18.3g(0.05モル)をNMP50g、グリシジルメチルエーテル26.4g(0.3モル)に溶解させ、溶液の温度を−15℃まで冷却した。ここにジフェニルエーテルジカルボン酸ジクロリド14.7g(日本農薬(株)製、0.050モル)をGBL25gに溶解させた溶液を、内部の温度が0℃を越えないように滴下した。滴下終了後、6時間−15℃で撹拌を続けた。反応終了後、溶液をメタノールを10重量%含んだ水3Lに投入して白色の沈殿を析出させた。この沈殿をろ過で集めて、水で3回洗浄した後、50℃の真空乾燥機で72時間乾燥し、アルカリ可溶性のポリベンゾオキサゾール前駆体(g)を得た。得られたポリベンゾオキサゾール前駆体(g)にGBLを加え、固形分濃度43重量%のポリベンゾオキサゾール前駆体(g)溶液を得た。
参考例1
乾燥窒素気流下、BAHF15.57g(0.0425モル)、SiDA0.62g(0.0025モル)をNMP120gに溶解させた。ここにBSAA15.61g(0.03モル)、6FDA8.88g(0.02モル)をNMP10gとともに加えて、40℃で1時間反応させた。その後、N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール13.10g(0.11モル)をNMP15gで希釈した溶液を10分かけて滴下した。滴下後、40℃で1時間撹拌した。反応終了後、溶液を水2Lに投入して、固体の沈殿をろ過で集めた。樹脂固体を50℃の真空乾燥機で72時間乾燥しポリイミド前駆体の樹脂Aを得た。
得られた樹脂A17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスAを得た。得られた樹脂A、ワニスAを用いて前記のように、有機溶剤に対する溶解性、硬化膜の密着性、感度、他のアルカリ可溶性樹脂を含有する場合の現像膜外観の評価を行った。評価結果を表2に示す。
実施例
NMP120gをNMP117gに、BSAA15.61g(0.03モル)をODPA9.31g(0.03モル)に変更した以外は参考例1と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Bを得た。得られた樹脂B17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスBを得た。得られた樹脂B、ワニスBを用いて参考例1と同様に評価した結果を表2に示す。
実施例
ODPA9.31g(0.03モル)をODPA10.86g(0.035モル)に、6FDA8.88g(0.02モル)を6FDA6.66g(0.015モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Cを得た。このようにして得られた樹脂C17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスCを得た。得られた樹脂C、ワニスCを用いて参考例1と同様に評価した結果を表2に示す。
実施例
ODPA9.31g(0.03モル)をODPA13.96g(0.045モル)に、6FDA8.88g(0.02モル)を6FDA2.22g(0.005モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Dを得た。このようにして得られた樹脂D17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスDを得た。得られた樹脂D、ワニスDを用いて参考例1と同様に評価した結果を表2に示す。
実施例
BAHF15.57g(0.0425モル)をBAHF8.24g(0.0225モル)とAPBN5.85g(0.02モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Eを得た。得られた樹脂E17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスEを得た。得られた樹脂E、ワニスEを用いて参考例1と同様に評価した結果を表2に示す。
実施例
APBN5.85g(0.02モル)を合成例1で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)12.09g(0.02モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Fを得た。得られた樹脂F17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスFを得た。得られた樹脂F、ワニスFを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
実施例
BAHF15.57g(0.0425モル)をBAHF10.99g(0.03モル)と合成例1で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)7.56g(0.0125モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Gを得た。得られた樹脂G17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスGを得た。得られた樹脂G、ワニスGを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
実施例
BAHF15.57g(0.0425モル)をBAHF13.75g(0.0375モル)と合成例1で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)3.32g(0.05モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Hを得た。得られた樹脂H17.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスHを得た。得られた樹脂H、ワニスHを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
実施例
実施例で得られた樹脂G17.5g、合成例3で得られたキノンジアジド化合物(c)2.3gをGBL50gに加えて感光性樹脂組成物のワニスIを得た。得られたワニスIを用いて前記のように、硬化膜の密着性、感度、他のアルカリ可溶性樹脂を含有する場合の現像膜外観の評価を行った。評価結果を表2に示す。
実施例
実施例で得られた樹脂G17.5g、合成例4で得られたキノンジアジド化合物(d)2.3gをGBL50gに加えて感光性樹脂組成物のワニスJを得た。得られたワニスJを用いて実施例と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例1
ODPA9.31g(0.03モル)をODPA7.76g(0.025モル)に、6FDA8.88g(0.02モル)を6FDA11.11g(0.025モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポジ型ポリイミド前駆体の樹脂Iを得た。得られた樹脂I14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えて感光性樹脂組成物のワニスKを得た。得られた樹脂I、ワニスKを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例2
ODPA9.31g(0.03モル)を用いず、6FDA8.88g(0.02モル)を6FDA22.21g(0.05モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Jを得た。得られた樹脂J14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスLを得た。得られた樹脂J、ワニスLを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例3
ODPA9.31g(0.03モル)をODPA15.51g(0.05モル)に変更し、6FDA8.88g(0.02モル)を用いない以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Kを得た。得られた樹脂K14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスMを得た。得られた樹脂K、ワニスMを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例4
BAHF15.57g(0.0425モル)を合成例1で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)25.69g(0.0425モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Lを得た。得られた樹脂L14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスQを得た。得られたポリマーL、ワニスNを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例5
BAHF15.57g(0.0425モル)をBAHF10.99g(0.03モル)と合成例1で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)7.56g(0.0125モル)に変更した以外は比較例3と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Mを得た。得られた樹脂M14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスOを得た。得られた樹脂M、ワニスOを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例6
BAHF10.99g(0.03モル)をBAHF6.41g(0.0175モル)に、合成例1で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)7.56g(0.0125モル)をヒドロキシル基含有ジアミン化合物(a)15.11g(0.025モル)に変更した以外は比較例5と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Nを得た。得られた樹脂N14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスPを得た。得られた樹脂N、ワニスPを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例7
6FDA6.66g(0.015モル)をBPDA4.41g(0.015モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Oを得た。得られた樹脂O14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスQを得た。得られた樹脂O、ワニスQを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例8
BAHF15.57g(0.0425モル)をAPBN12.42g(0.0425モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Pを得た。得られた樹脂P14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスRを得た。得られた樹脂P、ワニスRを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例9
BAHF15.57g(0.0425モル)をDDS10.55g(0.0425モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体の樹脂Qを得た。得られた樹脂Q14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスSを得た。得られた樹脂Q、ワニスSを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
比較例10
BAHF15.57g(0.0425モル)をFDA14.81g(0.0425モル)に変更した以外は実施例と同様にして、ポリイミド前駆体のポリマーRを得た。得られた樹脂R14.5g、合成例2で得られたキノンジアジド化合物(b)2.3gをGBL50gに加えてポジ型感光性樹脂組成物のワニスTを得た。得られた樹脂R、ワニスTを用いて参考例1と同様にして評価した結果を表2に示す。
Figure 0005381491
Figure 0005381491

Claims (3)

  1. 下記一般式(1)で表される構造を主成分とする樹脂。
    Figure 0005381491
    (上記一般式(1)中、Rは炭素数2以上の4価の有機基を示し、Rは炭素数2以上の2価の有機基を示す。ただし、 −(COOR で表される基は下記式(2)で表される基を5〜40モル%有し、さらに下記式(4)で表される基を60〜95モル%有する。は下記一般式(3)で表される基を50〜100モル%有する。Rは水素または炭素数1〜20の有機基を示す。nは5〜100,000の範囲を示す。)
    Figure 0005381491
    (上記一般式(3)中、pおよびqは0または1を示す。)
    Figure 0005381491
  2. 前記一般式(1)におけるRが、さらに下記式(5)で表される基を5〜50モル%有する請求項記載の樹脂。
    Figure 0005381491
  3. (a)請求項1または2に記載の樹脂、(b)キノンジアジド化合物および(c)溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
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