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TW200903154A - Radiation sensitive resin composition, laminated insulating film, micro lens and preparation method thereof - Google Patents

Radiation sensitive resin composition, laminated insulating film, micro lens and preparation method thereof Download PDF

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TW200903154A
TW200903154A TW097101656A TW97101656A TW200903154A TW 200903154 A TW200903154 A TW 200903154A TW 097101656 A TW097101656 A TW 097101656A TW 97101656 A TW97101656 A TW 97101656A TW 200903154 A TW200903154 A TW 200903154A
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propoxydecane
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methyl
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TW097101656A
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Masaaki Hanamura
Chihiro Uchiike
Koji Mitani
Takahiro Iijima
Kenichi Hamada
Katsuya Nagaya
Yuuki Oonuma
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Jsr Corp
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Priority claimed from JP2007051833A external-priority patent/JP4766268B2/ja
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Description

200903154 九、發明說明 【發明所屬之技術領域] 本發明係有關敏輻射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及 微透鏡及這些之製造方法。 【先前技術】 對於薄膜電晶體（以下稱爲「TFT」）型液晶顯示元 件或磁頭元件、積體電路元件、固體攝影元件等電子零件 ’ 一般爲了使層狀配置之配線間產生絕緣而設置層間絕緣 膜。形成層間絕緣膜之材料係以製得所需之圖案形狀之步 驟數較少’且具有充分平坦性者較佳，因此可廣泛使用敏 輻射線性樹脂組成物（參照日本特開2 0 0 1 - 3 5 4 8 2 2號公報 及曰本特開2 00 1 -3 43 743號公報）。 上述電子零件中，例如TFT型液晶顯示元件係經由在 上述層間絕緣膜上形成透明電極膜，再於其上形成液晶配 向膜之步驟來製造，因此，層間絕緣膜在形成透明電極膜 之步驟中處於高溫條件，或處於形成電極之圖案所使用之 光阻之剝離液中，因此對於這些情況必須具有充分之耐用 性。 近年，TFT型液晶顯示元件之趨勢爲大畫面化、高亮 度化、高精細化、高速應答化、薄型化等’這些所用之形 成層間絕緣膜用組成物必須爲高感度’形成之層間絕緣膜 之低介電率、高透過率等必須優於以往的高性能。 另外，傳真機、電子影印機、固體攝影元件等在晶片 -5- 200903154 上之彩色濾光片（on chip color filter)之成像光學體系或 光纖連結器之光學系材料使用具有3〜100μιη之透鏡直徑 之微透鏡’或這些微透鏡以規則性排列之微透鏡陣列。 形成微透鏡或微透鏡陣列時，形成與透鏡相當之光阻 圖案後，藉由加熱處理使之熔融流動，該狀態下作爲透鏡 使用的方法，或使熔融流動的透鏡圖案形成光罩，利用乾 蝕刻將透鏡形狀轉印至基底上的方法等爲人所知。形成前 述透鏡圖案時’廣泛使用敏輻射線性樹脂組成物（參照日 本特開平6-18702號公報及日本特開平6-136239號公報） 〇 但是形成如上述之微透鏡或微透鏡陣列之元件係被供 給其後爲了除去配線形成部份之接合墊上之各種絕緣膜， 而塗佈平坦化膜及蝕刻用光阻膜，使用所要之光罩進行曝 光、顯影去除接合墊部份之蝕刻光阻，接著藉由鈾刻去除 平坦化膜及各種絕緣膜’使接合墊部份露出的步驟。因此 微透鏡或微透鏡陣列在形成平坦化膜及蝕刻光阻塗膜之步 驟及蝕刻步驟中’必須爲耐溶劑性及耐熱性。 形成這種微透鏡用之敏輻射線性樹脂組成物必須爲高 感度，且由該組成物所形成之微透鏡具有所要之彎曲率半 徑，必須具有高耐熱性、高透過率等。 如上述製得之層間絕緣膜或微透鏡在形成這些之顯影 步驟中，顯影時間稍微超過最佳時間時，顯影液會滲透至 圖案與基板之間’容易產生剝離’因此，必須嚴控顯影時 間，有產品良率的問題。 -6 - 200903154 如此由敏輻射線性樹脂組成物形成層間絕緣膜或微透 鏡時’組成物被要求爲高感度，且在形成步驟之顯影步驟 中’顯影時間即使超過所設定之時間時，也不會產生圖案 剝離’顯示良好密著性，且該組成物所形成之層間絕緣膜 被要求高耐熱性、高耐溶劑性、低介電率、高透過率，形 成微透鏡時’要求微透鏡具有良好之熔融形狀（所要之彎 曲率半徑）’具有高耐熱性、高耐溶劑性、高透過率，但 是滿足這種要求之敏輻射線性樹脂組成物在以往仍未爲人 所知。 【發明內容】 〔發明之揭示〕 本發明係根據上述問題所完成者。因此本發明之目的 係提供具局輻射線感度’具有在顯影步驟中即使超過最佳 顯影時間也可形成良好的圖案形狀之顯影安全係數，且容 易形成密著性優異之圖案狀薄膜之敏輻射線性樹脂組成物 〇 本發明之另外的目的係提供用於形成層間絕緣膜時， 可形成筒耐熱性、高耐溶劑性、高透過率、低介電率之層 間絕緣膜’另外用於形成微透鏡時，可具有高透過率及良 好之熔融形狀之微透鏡之敏輻射線性樹脂組成物。 本發明之另外的目的係提供使用上述敏輻射線性樹脂 組成物形成層間絕緣膜及微透鏡的方法。 本發明之另外的目的係提供藉由本發明之方法所形成 200903154 之層間絕緣膜及微透鏡。 本發明之其他目的及優點係由下述說明可知。 依據本發明時’本發明之目的及優點係第1藉由一種 敏輻射線性樹脂組成物來達成。該組成物之特徵係含有： [A] ( a 1 )不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、
Ca2)含有環氧基及/或氧環丁基之不飽和化合物， 及 (a3)選自甲基丙烯酸烷酯、丙烯酸烷酯、甲基丙烯 酸環狀烷酯、具有羥基之甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯 、甲基丙烯酸芳酯、丙烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙 環不飽和化合物、馬來醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合 物、共軛二烯、四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架 、吡喃骨架或具有下述式（3)表示之骨架之不飽和化合 物及下述式（I )表示之含酚性羥基之不飽和化合物所成 群，與（al)成分及（a2)成分不同之至少1種之其他不 飽和化合物的共聚物
(式（3)中，R7係氫原子或甲基，η係1以上的整數） ch2=c>
-8- • · · (I) 200903154 其中R1係氫原子或碳數1〜4之烷基，R2〜R6係可相 同或不同、氫原子、翔基或碳數1〜4之烷基，β係表示 單鍵、-COO-、或-CONH· ’ m係〇〜3的整數，但是r2〜 R6之至少一個爲羥基， [B]l，2-醌二疊氮化合物，及 含有與[A]成分藉由熱產生交聯反應之官能基的砂氧 烷低聚物。 # # B月；^ g白勺S ί憂點係第2藉由一種層間絶緣膜或微 透鏡之形成方法來達成。其特徵係含有以下記載順序之以 下步驟， (i )基板上形成申請專利範圍第1項之敏輻射線性 樹脂組成物之塗膜的步驟、 (2 )對該塗膜之至少一部份照射輻射線的步驟、 (3 )顯影步驟及 (4 )加熱步驟。 本發明之目的及優點係第3藉由上述方法形成之層間 絶緣膜或微透鏡來達成。 實施發明之最佳形態 以下詳述本發明之敏輻射線性樹脂組成物。 共聚物[A] 共聚物[A ]係將化合物（a丨）、化合物（a 2 )及化合 200903154 物（a3)在溶劑中，聚合引發劑之存在下，藉由自由基聚 合來製造。本發明所用之共聚物[A]係將化合物（al )所 衍生之構成單元，於化合物（al ) 、（ a2 )及（a3 )所衍 生之重複單位之合計下，較佳爲含有5〜40重量％ ’特佳 爲5〜2 5重量％。使用此構成單元未達5重量％之共聚物 時，在顯影步驟時難以溶解於鹼水溶液中，而超過40重 量％之共聚物有對於鹼水溶液之溶解性過高的傾向。 化合物（a 1 )係具有自由基聚合性之不飽和羧酸及/ 或不飽和羧酸酐，例如有單羧酸、二羧酸、二羧酸酐、多 元羧酸之單〔（甲基）丙烯醯氧基烷基〕酯、在兩末端具 有羧基與羥基之聚合物之單（甲基）丙烯酸酯、具有羧基 之多環化合物及其酐等。 這些之具體例，單羧酸例如有丙烯酸、甲基丙烯酸、 巴豆酸等； 二羧酸例如有順丁烯二酸、反式丁烯二酸、檸康酸、 中康酸、衣康酸等： 二羧酸之酐例如有上述二羧酸例示之化合物之酐等； 多兀竣酸之單〔（甲基）丙烯醯氧基烷基〕酯例如有 號拍酸單〔2-(甲基）丙烯醯氧基乙基〕酯、苯二甲酸單 〔2-(甲基）丙烯醯氧基乙基〕酯等； 在兩末端具有羧基與羥基之聚合物之單（甲基）丙稀 酸酉曰例如有ω -殘基聚己內酯單（甲基）丙烯酸酯等； 具有羧基之多環化合物及其酐’例如有％羧基雙環 [2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基雙環[2·2庚烯、5_羧基_ -10- 200903154 5-甲基雙環[2.2.1]-庚-2-烯、5-羧基-5-乙基雙環[2.2.1]庚_ 2-烯、5-羧基-6_甲基雙環[2·21]•庚-2_烯、5_羧基-6_乙基 雙環[2.2_1]庚_2_烯、56_二羧基雙環[221]_庚_2_烯酐等 〇 這些中’在共聚反應性、對於鹼水溶液之溶解性及取 得容易性的觀點，較佳爲使用單羧酸、二羧酸之酐，尤其 是丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸酐。這些可單獨或者 組合使用。 本發明所用之共聚物[Α]係將化合物（a2 )所衍生之 構成單兀’根據化合物（al) 、（a2)及（a3)所衍生之 重覆單元合計，較佳爲含有10〜80重量％，特佳爲30〜 80重量％。此構成單元未達丨〇重量％時，所得之層間絶緣 膜或微透鏡之耐熱性或表面硬度會有降低的傾向，若此構 成單元之含量超過8 0重量％時，敏輻射線性樹脂組成物之 保存安定性會有降低的傾向。 化合物（a2 )係具有自由基聚合性之含環氧基及/或 氧環丁基之不飽和化合物，其中含環氧基之不飽和化合物 ，例如有丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸-3，4-環氧丁酯、甲基丙 烯酸-3,4-環氧丁酯、丙烯酸-6,7-環氧庚酯、甲基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-環氧庚酯、〇-乙烯基苄 基縮水甘油醚、m-乙烯基苄基縮水甘油醚、ρ-乙烯基苄基 縮水甘油醚等。這些中，在共聚反應性、及提高所得之層 -11 - 200903154 間絶緣膜或微透鏡之耐熱性、表面硬度的觀點，較佳爲以 甲基丙烯酸縮水甘油酯，甲基丙烯酸-6,7-環氧庚酯’ 〇-乙 烯基苄基縮水甘油醚，m -乙烯基苄基縮水甘油醚，p -乙烯 基苄基縮水甘油醚、3,4-環氧基環己基甲基丙烯酸酯等。 含有氧環丁基之不飽和化合物，例如有3_(丙烯醯氧基甲 基）氧環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基）-2 -甲基氧環丁烷、 3-(丙烯醯氧基甲基）-3-乙基氧環丁烷、3-(丙烯醯氧基 甲基）-2-三氟甲基氧環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基）-2-五氟乙基氧環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基）-2 -苯基氧環丁 烷、3-(丙烯醯氧基甲基）-2,2 -二氟氧環丁烷、3-(丙烯 醯氧基甲基）-2,2,4-三氟氧環丁烷、3-(丙烯醯氧基甲基 )·2,2,4,4 -四氟氧環丁烷、3-(2 -丙烯醯氧基乙基）氧環 丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基）-2-乙基氧環丁烷、3_(2_ 丙烯醯氧基乙基）-3 -乙基氧環丁烷、3- (2 -丙烯醯氧基乙 基）-2-三氟甲基氧環丁烷、3-(2-丙烯醯氧基乙基）-2_ 五氟乙基氧環丁烷、3- (2 -丙烯醯氧基乙基）-2 -苯基氧環 丁烷、3- (2-丙烯醯氧基乙基）-2,2-二氟氧環丁烷、3-( 2 -丙烯醯氧基乙基）·2,2,4 -三氟氧環丁院、3- (2 -丙嫌醋 氧基乙基）-2,2,4,4_四氟氧環丁烷等之丙烯酸酯；3-(甲 基丙烯醯氧基甲基）氧環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基 )-2 -甲基氧環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基）-3-乙基 氧環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基）_2·三氟甲基氧環丁 烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲基）-2-五氟乙基氧環丁烷、3_ (甲基丙烯醯氧基甲基）-2 -苯基氧環丁烷、3-(甲基丙烯 -12- 200903154 醯氧基甲基）-2,2-二氟氧環丁烷、3-(甲基丙烯醯氧基甲 基）-2,2,4 -二氣氧ϊ哀丁垸、3-(甲基丙烧醒氧基甲基）_ 2，2,4,4-四氟氧環丁烷、3- (2-甲基丙烯醯氧基乙基）氧環 丁烷、3- (2_甲基丙烯醯氧基乙基）-2-乙基氧環丁烷、3-(2 -甲基丙嫌酷氧基乙基）-3 -乙基氧環丁院、3- (2 -甲基 丙烯醯氧基乙基）_2·三氟甲基氧環丁烷、3-(2-甲基丙烯 醯氧基乙基）-2 -五氟乙基氧環丁烷、3- (2 -甲基丙烯醯氧 基乙基）·2-苯基氧環丁烷、3- (2 -甲基丙烯醯氧基乙基 )-2,2-二氟氧環丁烷、3- (2 -甲基丙烯醯氧基乙基）· 2，2,4 -三氟氧環丁烷、3- (2 -甲基丙烯醯氧基乙基）_ 2，2,4，4-四氟氧環丁烷等之甲基丙烯酸酯等。這些化合物 (a2 )可單獨或組合二種以上來使用。 化合物（a3 )係與化合物（a 1 ) 、 （ a2 )不同之具有 自由基聚合性之之不飽和化合物。化合物（a3 )係甲基丙 烯酸烷酯、丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸環狀烷酯、具有羥基 之甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯、甲基丙烯酸芳酯、丙 烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙環不飽和化合物、馬來 醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共軛二烯、四氫呋 喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架或具有下述 式（3)表示之骨架之不飽和化合物或下述式（I)表示 之含酚性羥基之不飽和化合物。
CH， -13- 200903154 (式（3)中，R7係氫原子或甲基’ η係1以上的整數）
其中R1係氫原子或碳數1〜4之烷基，R2〜R6係可相 同或不同、氫原子、羥基或碳數1〜4之烷基，Β係表示 單鍵、-COO-、或-CONH-，m係〇〜3的整數，但是R2〜 R6之至少一個爲羥基。 這些具體例，其中甲基丙烯酸烷酯例如甲基丙烯酸甲 酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第 二丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、2 -乙基己基甲基丙烯酸酯 '異癸基甲基丙烯酸酯、正月桂基甲基丙烯酸酯、十三烷 基甲基丙烯酸酯、正十八烷基甲基丙烯酸酯等； 丙烯酸烷酯例如甲基丙烯酸酯、丙烯酸異丙醋等； 甲基丙烯酸環狀烷酯例如環己基甲基丙烯酸酯、2 -甲 基環己基甲基丙嫌酸酯、三環[5.2.1.〇2.6]癸院基甲基丙 嫌酸酯、三環[5.2.1. 02.6]癸烷-8-基氧乙基甲基丙烯酸酯、 異冰片基甲基丙烯酸酯等； 具有羥基之甲基丙烯酸酯例如有羥甲基甲基丙烯酸酯 、2-羥乙基丙烯酸酯、3_羥丙基甲基丙烯酸酯、4_羥丁基 甲基丙烯酸酯 '二甘醇單甲基丙烯酸酯、2,3-二羥丙基甲 基丙烯酸酯、2-甲基丙烯氧基乙基糖苷、4_羥苯基甲基丙 -14- 工 200903154 烯酸酯等； 丙烯酸環狀烷酯例如環己基丙烯酸酯、2 -甲基環己基 丙稀酸酯、三環[5·2·1·〇2·6]癸院-8-基丙稀酸醋、三環 [5.2.1.02.6]癸院-8 -基氧乙基丙烯酸酯、異冰片基丙烯酸酯 等； 甲基丙烯酸芳酯例如苯基甲基丙烯酸酯、苄基甲基丙 烯酸酯等； 丙烯酸芳酯例如苯基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯等； 不飽和二羧酸二酯例如馬來酸二乙酯、富馬酸二乙酯 、衣康酸二乙酯等； 雙環不飽和化合物例如雙環[2.2.1]庚-2-烯、5 _甲基雙 環[2.2.1]庚-2-烯、5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧基雙 環[2.2.1]庚-2-嫌、5 -乙氧基雙環[2.2.1]庚-2-稀、5,6-二甲 氧基雙環[2.2.1]庚-2-細、5,6 - 一乙氧基雙環[2.2.1]庚-2-稀 、5-第三丁氧基羰基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-環己氧基羰基 雙環[2.2_1]庚-2-稀、5 -苯氧基羯基雙環[2_2.1]庚-2-嫌、 5,6-二（第三丁氧基羰基）雙環[2.2.1]庚-2-烯、5，6-二（ 環己氧基簾基）雙環[2.2.1]庚-2 -烯、5- (2，-羥乙基）雙 環[2.2.1]庚-2-烧、5,6-二經基雙環[2.2.1]庚-2-燃、5,6 -二 (羥甲基）雙環[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二（2，-羥甲基）雙環 [2.2.1] 庚-2-烯、5 -羥基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5 -羥 基-5·乙基雙環[2.2.1]庚-2 -儲、5-經甲基-5-甲基雙環 [2.2.1] 庚-2-烯等； 馬來醯亞胺化合物例如Ν -苯基馬來醯亞胺、Ν -環己 -15 - 200903154 基馬來醯亞胺、N -苄基馬來醯亞胺、N- (4 -羥苯基、 J馬來 醯亞胺、N- ( 4-羥基苄基）馬來醯亞胺、N_琥珀 基-3-馬來醯亞胺苯甲酸酯、N-琥珀醯亞胺基-4-禹也& 胺丁酸酯、Ν-琥珀醯亞胺基-6-馬來醯亞胺己酸酯、χ I琥 珀醯亞胺基-3-馬來醯亞胺丙酸酯、Ν- ( 9-吖啶基）良卞 馬來醯 亞胺等； 不飽和芳香族化合物例如苯乙烯、α-甲基苯乙#、 間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、對-甲氧基 苯乙烯等；共軛二烯例如有1，3-丁二烯、異戊烯、2,3_二 甲基-1,3-丁二烯等； 具有四氫呋喃骨架之不飽和化合物例如有四氫糠基（ 甲基）丙烯酸酯、2-甲基丙醯氧基-丙酸四氫糠酯、3-(甲 基）丙醯氧基四氫呋喃-2-酮等； 具有呋喃骨架之不飽和化合物例如有2 -甲基-5 - ( 3 -呋喃基）-1-戊烯-3-酮、糠基（甲基）丙烯酸酯、1-呋喃-2 -丁基-3 -燒-2 -嗣、1-咲喃-2 -丁基-3-甲氧基-3 -嫌-2 -醒、 6- (2 -呋喃基）-2 -甲基-1-己烯-3-酮、6-呋喃-2-基-己-1-烯-3-酮、丙烯酸2-呋喃-2-基-1-甲基-乙酯、6- (2-呋喃基 )-6 -甲基-1-庚;(:希-3-嗣等； 具有四氫吡喃骨架之不飽和化合物’例如有（四氫吡 喃-2 -基）甲基丙烯酸甲酯、2,6 -二甲基- 8-(四氫吡喃- 2-基氧基）-辛-1 -烯-3 -酮、2 -甲基丙烯酸四氫吡喃-2 -基酯、 1-(四氫吡喃-2-氧）-丁基-3-烯-2-酮等； 具有吡喃骨架之不飽和化合物例如有4 - ( 1，4 _二氧雜_ -16- 200903154 5-氧代-6-庚烯基）-6-甲基-2-吡喃酮、4- ( 1,5-二氧雜- 6- 氧代-7-羊稀基）-6 -甲基- 2- U比喃嗣寺； 含有上述式（3)表示之骨架之不飽和化合物例如有 聚乙二醇（n = 2〜1 0 )單（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇（ n = 2〜10)單（甲基）丙烯酸酯等； 含有酚骨架之不飽和化合物例如由上述式（I )表示 之化合物，以B與m之定義，並以下述式（4)〜（8) 表示之化合物等； R1
(4) (式（4 )中，η 係 1 至 3 的整數，R1、R2、R3、R4、R5 及R6之定義係與式（I )相同）
(式（5 )中，R1、R2、R3、R4、R5及R6之定義係與式（ -17- 200903154 I)相同）
(式（6 )中，n 係 1 至 3 的整數。R1、R2、R3、R4、R5 及R6之定義係與式（I)相同）
(式（7 )中，R1、R2、R3、R4、R5及R6之定義係與式（ I )相同）
(式（8 )中，R1、R2、R3、R4、R5及R6之定義係與式（ I )相同） -18- 200903154 其他不飽和化合物例如有丙烯腈、甲基丙烯腈、氯化 乙稀基、氯化次乙稀基、丙稀酿胺、甲基丙稀藤胺、乙酸 乙烯酯。 這些當中’較佳爲使用甲基丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸 環狀丨兀醋、馬來釀亞§女化合物、具有四氣咲喃骨架、呋喃 骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架、上述式（3)表示之骨 架之不飽和化合物、下述式（I)表示之含酚性羥基之不 飽和化合物’從共聚反應性及對於鹼水溶液之溶解性的觀 點，較佳爲甲基丙烯酸第三丁酯、三環[5.2.1.02 6]癸院-8-基甲基丙烯酸酯、對甲氧基苯乙烯、2-甲基環己基丙烯酸 酯、N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺 '四氫糠基 (甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇（n = 2〜10)單（甲基）丙 烯酸酯、3-(甲基）丙醯氧基四氫呋喃-2-酮、4-羥基苄基 (甲基）丙烯酸酯、4-羥苯基（甲基）丙烯酸酯、鄰羥基 苯乙烯、對羥基苯乙烯、α-甲基-對羥基苯乙烯。這些化 合物（a3 )可單獨或組合使用。 本發明用之共聚物〔A〕之較佳例有甲基丙烯酸/三環 [5.2.1.〇26]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯/2-甲基環己基丙烯酸 酯/甲基丙烯酸苄酯/N-( 3，5-二甲基-4-羥基苄基）甲基丙 烯醯胺、甲基丙烯酸/四氫糠基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸 縮水甘油酯/ N -環己基馬來醯亞胺/月桂基甲基丙烯酸酯 /α-甲基-對羥基苯乙烯、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸 縮水甘油酯/( 3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基丙烯酸酯/三環 [5.2.1·〇26]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯。 -19 - 200903154 本發明用之共聚物[A]之聚苯乙烯換算重量平均分子 量（以下稱爲「Mw」），較佳爲2χ103〜1χ1〇5,更佳爲5 xlO3〜5xl〇4。Mw未達2xl〇3時，有時顯影安全係數不足 ’所得之被膜之殘膜率等降低或所得之層間絶緣膜或微透 鏡之圖案形狀、耐熱性等可能不佳，而超過lxl〇5時，有 時感度降低或圖案形狀差。分子量分布（以下稱爲「 Mw/Mn」）較佳爲5 ·0以下，更佳爲3.0以下。Mw/Mn超 過5 0時，所得之層間絶緣膜或微透鏡之圖案形狀可能不 佳。含有上述之共聚物[A]之敏輻射線性樹脂組成物在顯 影時’不會產生顯影殘留’可容易形成所定圖案形狀。 共聚物[A]製造時所使用之溶劑，例如有醇、醚、乙 二醇醚、乙二醇烷醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷醚、丙 二醇烷醚乙酸酯、丙二醇烷醚丙酸酯、芳香族烴、酮、酯 等。 這些具體例’上述醇例如有甲醇、乙醇、苄醇、2 -苯 基乙醇、3 -苯基-1-丙醇等； 醚例如有四氫呋喃等； 乙二醇醚例如有乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等； 乙二醇烷醚乙酸酯例如有甲基乙二醇乙醚乙酸酯、乙 基乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單乙 醚乙酸酯等； 二甘醇醚例如二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇 二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基甲醚等； 丙二醇單烷醚乙酸酯例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二 -20- 200903154 醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸醋、丙二醇單丁醚乙 酸酯等； 丙二醇烷醚丙酸酯例如丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙 醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯等； 丙二醇烷醚乙酸酯例如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙 醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯等； 芳香族烴例如甲苯、二甲苯等； 酮例如甲基乙酮、環己酮、4 -經基-4 -甲基-2 -戊酮等 » 酯例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、 2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯' 2-羥基-2-甲基 丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯 、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3 -羥基丙 酸甲酯、3 -羥基丙酸乙酯、3 -羥基丙酸丙酯、3 -羥基丙酸 丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基 乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙 酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸 丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙 酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯 、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2 -甲氧基丙酸甲酯 、2 -甲氧基丙酸乙酯、2 -甲氧基丙酸丙酯、2 -甲氧基丙酸 丁酯、2 -乙氧基丙酸甲酯、2 -乙氧基丙酸乙酯、2 -乙氧基 丙酸丙酯、2_乙氧基丙酸丁酯' 2 -丁氧基丙酸甲酯、2 -丁 氧基丙酸乙酯、2 -丁氧基丙酸丙酯、2· 丁氧基丙酸丁酯、 -21 - 200903154 3 -甲氧基丙酸甲酯、3 -甲氧基丙酸乙酯、3 -甲氧基丙酸丙 酯、3 -甲氧基丙酸丁酯、3 -乙氧基丙酸甲酯、3 -乙氧基丙 酸乙酯、3 -乙氧基丙酸丙酯、3 -乙氧基丙酸丁酯、3 -丙氧 基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3_丙氧基丙酸丙酯、3_ 丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯 、3 -丁氧基丙酸丙酯、3 -丁氧基丙酸丁酯等之酯。 其中較佳者爲乙二醇院醚乙酸醋、二甘醇、丙二醇單 烷醚、丙二醇烷醚乙酸酯等’特別理想爲二甘醇二甲醚、 二甘醇乙基甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇甲醚 乙酸酯、3 -甲氧基丙酸甲酯。 製造共聚物〔A〕所用之聚合引發劑一般可使用自由 基聚合引發劑。例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙（ 2.4-二甲基戊腈）、2,2’-偶氮雙-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊 腈）等之偶氮化合物；苯甲醯基過氧化物、月桂醯基過氧 化物、第三丁基過氧化戊酸酯、1,1’-雙-(第三丁基過氧 化）環己烷等之有機過氧化物；過氧化氫。使用過氧化物 作爲自由基聚合引發劑時，過氧化物與還原劑共同使用也 可作爲氧化還原型引發劑。 製造共聚物〔A〕時，爲了調整分子量，可使用分子 量調整劑。分子量調整劑之具體例如氯仿、四溴化碳等之 鹵化烴；正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二烷基硫醇、 tert-十二烷基硫醇、锍基乙酸等之硫醇；二甲基乙黄原硫 醚、二-異丙基乙黄原二硫醚等之乙黄原；蔥品油烯、α-甲基苯乙烯二聚物等。 -22- 200903154 [B]成分 本發明使用之[B]成分係藉由輻射線照射產生羧酸之 1,2-醌二疊氮化合物，可使用酚性化合物或醇性化合物（ 以下稱爲「母核」）與1，2-萘醌二疊氮磺酸鹵化物之縮合 物。 上述母核例如有三羥基二苯甲酮、四羥基二苯甲酮、 五羥基二苯甲酮、六羥基二苯甲酮、（聚羥基苯基）鏈烷 、其他的母核。 這些之具體例，其中三羥基二苯甲酮例如有2,3,4 -三 羥基二苯甲酮、2，4,6-三羥基二苯甲酮等； 四羥基二苯甲酮例如有2,2’，4,4’-四羥基二苯甲酮、 2，3,4,3’ -四羥基二苯甲酮、2,3,4,4’ -四羥基二苯甲酮、 2,3,4,2’-四羥基-4’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基-3’-甲 氧基二苯甲酮等； 五羥基二苯甲酮例如2,3,4,2’，6’-五羥基二苯甲酮等； 六羥基二苯甲酮例如 2,4,6,3’，4’，5’-六羥基二苯甲酮、 3,4,5,3’，4’，5’-六羥基二苯甲酮等； (聚羥基苯基）鏈烷例如雙（2,4-二羥基苯基）甲烷 、雙（對羥基苯基）甲烷、三（對羥基苯基）甲烷、 1,1,1-參（對羥基苯基）乙烷、雙（2,3,4-三羥基苯基）甲 烷、2,2 -雙（2,3,4 -三羥基苯基）丙烷、1,1,3 -參（2,5 -二 甲基-4-羥基苯基）-3 -苯基丙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4 -羥基苯 基]-1-甲基乙基]苯基]次乙基]雙酚、雙（2,5-二甲基-4-羥 -23- 200903154 基苯基）-2-羥基苯基甲烷、3,3,3’，3’-四甲基-1,1’·螺旋二 茚-5,6,7,5’，6’，7’-己醇、2,2,4-三甲基-7,2’，4’-三羥基黄烷 等； 其他之母核例如有2 -甲基-2- (2,4 -二羥基苯基）-4-(4-羥基苯基）-7-羥基色滿、2-[雙{( 5-異丙基-4-羥基-2-甲基）苯基}甲基]、1-[1-(3-{1-(4-羥基苯基）-1-甲 基乙基}-4,6 - 一經基本基）-1-甲基乙基]-3- ( 1- ( 3-{1-( 4-羥基苯基）-1-甲基乙基}-4,6-二羥基苯基）-1-甲基乙基 )本、4,6 -雙{1-(4 -經基本基）-1-甲基乙基]-1 ,3 - _經基 苯。 也可使用將上述例示之母核之酯鍵改爲醯胺鍵之1,2-萘醌二疊氮磺酸醯胺，例如有2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸醯胺等。 這些之母核中，較佳爲 2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮、 4,4’-〔1-〔4-〔1-〔4-羥基苯基〕-1-甲基乙基〕苯基〕次 亞基〕雙酚。 又，1,2-萘醌二疊氮磺酸鹵化物較佳爲1，2-萘醌二疊 氮磺酸氯，其具體例有1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸氯及1,2-萘 醌二疊氮-5-磺酸氯，其中較佳爲使用1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸氯。 縮合反應係對於酚性化合物或醇性化合物中之OH基 數，較佳爲使用相當於30〜85莫耳％，更較佳爲50〜70 莫耳％之1,2-萘醌二疊氮磺酸鹵化物。 縮合反應可使用公知的方法。 -24- 200903154 這些[B]成分可單獨或組合2種以上使用。 [B]成分之使用比例係對於共聚物[A] 1〇〇重量份 用5〜100重量份，更佳爲10〜5〇重量份。比例未達 量份時’對於成爲顯影液之鹼水溶液之輻射線之照射 與未照射部份之溶解度差較小，有時圖型化困難，有 得之層間絕緣膜或微透鏡之耐熱性或耐溶劑性不佳。 ’比例超過1 0 0重量份時，輻射線照射部份中，對於 記鹼水溶液之溶解度不佳，顯影困難。 [C]成分 本發明所使用之[C]成分係含有與前述[A]成分藉 產生交聯反應之官能基的矽氧烷低聚物，較佳爲下述 1 )及下述式（2 )之各自表示之烷氧基矽烷經共水解 之矽氧烷低聚物（以下有時稱爲矽氧烷低聚物I )或 式（9 )表示之矽氧烷低聚物，即氧環丁基矽化物的 物（以下有時稱爲砂氧垸低聚物11 )。
Si(R8)s(R9)t(OR10)u ( 1 ) 式中’ R8係表示含有環氧基 '氧環丁基、環硫基 烯基、烯丙基、（甲基）丙烯醯基、羧基、羥基、氫 、異氰酸酯基、胺基、脲基或苯乙烯基得取代基， R1Q係可相同或不同’各爲1價有機基，S係1〜3的 ，t係〇〜2的整數，U係1〜3的整數，但是s + t + u = 4 S i (R 1 1) X (〇 R12) 4 - X ( 2) 式中R11、R係可相同或不同，各爲1價有機g ，使 5重 部份 時所 另外 前述 由熱 式（ 製造 下述 縮合 、乙 硫基 R9、 整數 -25- 200903154 係0〜2的整數。 上述共水解物應係包含原料中可被水解之部份 被水解者及其一部份被水解，一部份未被水解，而 〇 含有環氧基之化合物（1 )之具體例，例如有 丙氧基甲基三甲氧基矽烷、3 -環氧丙氧基甲基三乙 烷、3-環氧丙氧基甲基三-η-丙氧基矽烷、3-環氧丙 基三-i-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基甲基三乙醯氧基 3 -環氧丙氧基甲基甲基二甲氧基矽烷、3 -環氧丙氧 甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基甲基甲基二-η-丙 烷、3-環氧丙氧基甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、3-環 基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、3 -環氧丙氧基甲基乙 氧基矽烷、3 -環氧丙氧基甲基乙基二乙氧基矽烷、 丙氧基甲基乙基二-η-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基甲 二-i-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基甲基乙基二乙醯氧 、3 -環氧丙氧基甲基苯基二甲氧基矽烷、3 -環氧丙 基苯基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基甲基苯基二-η. 矽烷、3-環氧丙氧基甲基苯基二-i-丙氧基矽烷、3-氧基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、3 -環氧丙氧基乙基 基矽烷、3 -環氧丙氧基乙基三乙氧基矽烷、3 -環氧 乙基三-η-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基乙基三-i-丙氧 、3 -環氧丙氧基乙基三乙醯氧基矽烷、3 -環氧丙氧 甲基二甲氧基矽烷、3 -環氧丙氧基乙基甲基二乙氧 、3-環氧丙氧基乙基甲基二- η-丙氧基矽烷、3-環氧 的全部 殘留者 3_環氧 氧基矽 氧基甲 矽烷、 基甲基 氧基矽 氧丙氧 基二甲 3-環氧 基乙基 基矽烷 氧基甲 丙氧基 環氧丙 三甲氧 丙氧基 基矽烷 某乙基 基矽烷 丙氧基 -26- 200903154 乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、3 -環氧丙氧基乙基甲基二乙醯 氧基矽烷、3 -環氧丙氧基乙基乙基二甲氧基矽烷、3 -環氧 丙氧基乙基乙基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基乙基乙基二-n-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基乙基乙基二-i-丙氧基矽烷、 3 -環氧丙氧基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、3 -環氧丙氧基乙 基苯基二甲氧基矽烷、3 -環氧丙氧基乙基苯基二乙氧基矽 烷、3-環氧丙氧基乙基苯基二-η-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧 基乙基苯基二-i-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基乙基苯基二乙 醯氧基矽烷、3 -環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3 -環氧丙 氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三-η-丙氧基矽 烷、3-環氧丙氧基丙基三-i-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙 基三乙醯氧基矽烷、3 -環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷 、3 -環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3 -環氧丙氧基丙 基甲基二-η-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二-i-丙氧 基矽烷、3 -環氧丙氧基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3 -環氧 丙氧基丙基乙基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙基二 乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙基二- η-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙基二-i-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基 乙基二乙醯氧基矽烷、3 -環氧丙氧基丙基苯基二甲氧基矽 烷、3 -環氧丙氧基丙基苯基二乙氧基矽烷、3 -環氧丙氧基 丙基苯基二- η-丙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基苯基二-i-丙 氧基矽烷、3 -環氧丙氧基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、2-( 3,4-環氧基環己基）甲基三甲氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基 環己基）甲基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基）甲 -27- 200903154 基三- η-丙氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）甲基三乙醯 氧基矽烷、2- ( 3，4-環氧基環己基）甲基甲基二甲氧基矽 烷、2- (3,4-環氧基環己基）甲基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基）甲基甲基二-η-丙氧基矽烷、2-( 3,4-環氧基環己基）甲基甲基二乙醯氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基）甲基乙基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基 環己基）甲基乙基二乙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基 )甲基乙基二-η-丙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基）甲 基乙基二乙醯氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）甲基苯 基二甲氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）甲基苯基二乙 氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基）甲基苯基二-η-丙氧基 矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）甲基苯基二乙醯氧基矽烷 、2-(3,4-環氧基環己基）乙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環 氧基環己基）乙基三乙氧基矽烷、2- ( 3，4-環氧基環己基 )乙基三-η-丙氧基矽烷、2- ( 3，4-環氧基環己基）乙基三 乙醯氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）乙基甲基二甲氧 基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）乙基甲基二乙氧基矽烷 、2- ( 3,4-環氧基環己基）乙基甲基二-η-丙氧基矽烷、2-(3，4-環氧基環己基）乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-( 3，4-環氧基環己基）乙基乙基二甲氧基矽烷、2- ( 3,4-環 氧基環己基）乙基乙基二乙氧基矽烷、2- (3,4 -環氧基環 己基）乙基乙基二-η-丙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基 )乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基）乙 基苯基二甲氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）乙基苯基 -28 - 200903154 二乙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基）乙基苯基二-η-丙 氧基矽烷、2- (3,4 -環氧基環己基）乙基苯基二乙醯氧基 矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基）丙基三甲氧基矽烷、2-( 3,4-環氧基環己基）丙基三乙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基 環己基）丙基三-η-丙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基） 丙基三乙醯氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）丙基甲基 二甲氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）丙基甲基二乙氧 基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基）丙基甲基二-η-丙氧基矽 烷、2- (3,4-環氧基環己基）丙基甲基二乙醯氧基矽烷、 2-(3,4-環氧基環己基）丙基乙基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基）丙基乙基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基 環己基）丙基乙基二-η-丙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己 基）丙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基） 丙基苯基二甲氧基矽烷、2- ( 3，4-環氧基環己基）丙基苯 基二乙氧基矽烷、2- (3,4-環氧基環己基）丙基苯基二- n-丙氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基環己基）丙基苯基二乙醯氧 基矽烷等； 含有環硫基之化合物（1 )之具體例，例如有2,3 -環 硫丙氧基甲基三甲氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基三乙氧 基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基三-η-丙氧基矽烷、2,3·環硫 丙氧基甲基三-i-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基三乙醯 氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基甲基甲基二甲氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基甲基甲基二乙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基 甲基二-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基甲基二-i-丙氧 -29- 200903154 基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基乙基二甲氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基甲基 乙基二乙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基乙基二-η-丙氧基 矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基乙基二-i-丙氧基矽烷、2,3-環 硫丙氧基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基 苯基二甲氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基苯基二乙氧基矽 烷、2,3-環硫丙氧基甲基苯基二-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫 丙氧基甲基苯基二-i-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基甲基苯 基二乙醯氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基乙基三甲氧基矽烷、 2.3 -環硫丙氧基乙基三乙氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基乙基 三-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基乙基三-i-丙氧基矽烷、 2.3 -環硫丙氧基乙基三乙醯氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基乙 基甲基二甲氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基乙基甲基二乙氧基 矽烷、2,3-環硫丙氧基乙基甲基二-η-丙氧基矽烷、2,3-環 硫丙氧基乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基乙基 甲基二乙醯氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基乙基乙基二甲氧基 矽烷、2,3 -環硫丙氧基乙基乙基二乙氧基矽烷、2,3 -環硫 丙氧基乙基乙基二-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基乙基乙 基二-i-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基乙基乙基二乙醯氧基 矽烷、2,3 -環硫丙氧基乙基苯基二甲氧基矽烷、2,3 -環硫 丙氧基乙基本基乙氧基砂院、2,3 -ί哀硫丙氧基乙基苯基 二-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基乙基苯基二-i-丙氧基矽 烷、2,3 -環硫丙氧基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、2,3 -環硫 丙氧基丙基三甲氧基矽烷' 2,3-環硫丙氧基丙基三乙氧基 -30 - 200903154 矽烷、2,3-環硫丙氧基丙基三-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙 氧基丙基三-i-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基丙基三乙醯氧 基矽烷、2,3-環硫丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2,3-環 硫丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基丙基甲 基二-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基丙基甲基二-i-丙氧基 矽烷、2，3 -環硫丙氧基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、2,3 -環 硫丙氧基丙基乙基二甲氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基丙基乙 基二乙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基丙基乙基二- η-丙氧基矽 烷、2,3-環硫丙氧基丙基乙基二-i-丙氧基矽烷、2,3-環硫 丙氧基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基丙基苯 基二甲氧基矽烷、2,3 -環硫丙氧基丙基苯基二乙氧基矽烷 、2,3-環硫丙氧基丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙 氧基丙基苯基二-i-丙氧基矽烷、2,3-環硫丙氧基丙基苯基 二乙醯氧基矽烷等； 含有氧環丁基之化合物（1 )之具體例，例如有 (氧環丁烷-3-基）甲基三甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基三乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基三-n-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3_基）甲基三-i-丙氧基矽烷、 (氧環丁烷_3_基）甲基三乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基甲基二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基甲基 二乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-η-丙氧基 矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、（ 氧環丁烷-3-基）甲基甲基二乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷-3 -基）甲基乙基二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3 -基）甲基乙 -31 - 200903154 基二乙氧基矽烷、（氧環丁烷_3_基）甲基乙基二-η-丙氧 基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基乙基二-i-丙氧基矽烷、 (氧環丁烷-3-基）甲基乙基二乙醯氧基矽烷、（氧環丁 烷-3 -基）甲基苯基二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲 基苯基二乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基苯基二-n-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基苯基二-i-丙氧基矽 烷、（氧環丁烷-3 -基）甲基苯基二乙醯氧基矽烷、（氧環 丁烷-3-基）乙基三甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基 三乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基三-η-丙氧基矽烷 、（氧環丁烷-3-基）乙基三-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基三乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基甲基 二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基甲基二乙氧基矽烷 、（氧環丁烷-3-基）乙基甲基二-η-丙氧基矽烷、（氧環 丁烷-3-基）乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基 )乙基甲基二乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基乙基 二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基乙基二乙氧基矽烷 、（氧環丁烷-3-基）乙基乙基二-η-丙氧基矽烷、（氧環 丁烷-3-基）乙基乙基二-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基 )乙基乙基二乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基苯基 二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）乙基苯基二乙氧基矽烷 、（氧環丁烷-3-基）乙基苯基二-η-丙氧基矽烷、（氧環 丁烷-3-基）乙基苯基二-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基 )乙基苯基二乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基三甲 氧基矽烷、（氧環丁烷-3 -基）丙基三乙氧基矽烷、（氧環 -32- 200903154 丁烷-3-基）丙基三-η-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙 基三-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基三乙醯氧基 矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基甲基二甲氧基矽烷、（氧環 丁烷-3-基）丙基甲基二乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基） 丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基甲基 二-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基甲基二乙醯氧 基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基乙基二甲氧基矽烷、（氧 環丁烷-3 -基）丙基乙基二乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3 -基 )丙基乙基二-η-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基乙 基二-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基乙基二乙醯 氧基矽烷、（氧環丁烷-3 -基）丙基苯基二甲氧基矽烷、（ 氧環丁院-3-基）丙基苯基_乙氧基砂院、（氧ί哀丁院- 3· 基）丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基 苯基二-i-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）丙基苯基二乙 醯氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3 -基）甲基三甲氧基矽烷 、（3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基三乙氧基矽烷、（3-甲基 氧環丁烷-3-基）甲基三- η-丙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁 院-3 -基）甲基二-i-丙氧基ίΐ夕；t完、（3 -甲基氧1哀丁院-3 -基 )甲基三乙醯氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基甲 基二甲氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基甲基二乙 氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-η-丙氧 基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-i-丙氧基矽 院、（3 -甲基氧ί哀丁院-3-基）甲基甲基_乙酷氧基5夕院、 (3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基乙基二甲氧基矽烷、（3-甲 -33- 200903154 基氧環丁烷-3-基）甲基乙基二乙氧基矽烷、（3-甲基氧環 丁烷-3-基）甲基乙基二-η-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁 烷-3-基）甲基乙基二-i-丙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3 -基）甲基乙基二乙醯氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3-基 )甲基苯基二甲氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基 苯基二乙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3 -基）甲基苯基 —- η-丙氧基砂院、（3 -甲基氧環丁院-3-基）甲基苯基一.-i-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）甲基苯基二乙醯 氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基三甲氧基矽烷、 (3 -甲基氧環丁烷-3-基）乙基三乙氧基矽烷、（3 -甲基氧 環丁烷-3-基）乙基三-η-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基三-i-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙 基三乙醯氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二 甲氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二乙氧基 矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二-η-丙氧基矽 烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、 (3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二乙醯氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基乙基二甲氧基矽烷、（3-甲基氧 環丁烷-3 -基）乙基乙基二乙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁 烷-3-基）乙基乙基二- η-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基乙基二-i-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基 )乙基乙基二乙醯氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙 基苯基二甲氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3 -基）乙基苯基 二乙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3-基）乙基苯基二-n- -34- 200903154 丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）乙基苯基二-i-丙氧 基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3 -基）乙基苯基二乙醯氧基矽 烷、（3-甲基氧環丁烷_3_基）丙基三甲氧基矽烷、（3-甲 基氧環丁烷-3 -基）丙基三乙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁 烷-3-基）丙基三-η-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基 )丙基三-i-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基三 乙醯氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基甲基二甲氧 基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3-基）丙基甲基二乙氧基矽烷 、（3 -甲基氧環丁烷-3-基）丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、 (3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基甲基二-i-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基甲基二乙醯氧基矽烷、（3-甲基 氧環丁烷-3 -基）丙基乙基二甲氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁 烷-3 -基）丙基乙基二乙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3-基）丙基乙基二-η-丙氧基矽烷、（3 -甲基氧環丁烷-3-基 )丙基乙基二-i-丙氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙 基乙基二乙醯氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基苯 基二甲氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二乙 氧基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二-η-丙氧 基矽烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二-i-丙氧基矽 烷、（3-甲基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二乙醯氧基矽烷、 (3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基三甲氧基矽烷、（3-乙基氧 環丁烷-3 -基）甲基三乙氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3 -基）甲基三-η-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲 基三-i-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基三乙醯 -35- 200903154 氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基甲基二甲氧基矽 烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基甲基二乙氧基矽烷、（ 3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-η-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、（3-乙基 氧環丁烷-3-基）甲基甲基二乙醯氧基矽烷、（3-乙基氧環 丁烷-3 -基）甲基乙基二甲氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3 -基）甲基乙基二乙氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3 -基） 甲基乙基二- η-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲 基乙基二-i-丙氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3-基）甲基乙 基二乙醯氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3-基）甲基苯基二 甲氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基苯基二乙氧基 矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基苯基二-η-丙氧基矽 烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）甲基苯基二-i-丙氧基矽烷、 (3-乙基氧環丁烷-3_基）甲基苯基二乙醯氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基三甲氧基矽烷、（3-乙基氧環丁 烷-3-基）乙基三乙氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3-基） 乙基三-η -丙氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3 -基）乙基三-i-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基三乙醯氧基 矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二甲氧基矽烷、 (3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二乙氧基矽烷、（3-乙 基氧環丁烷-3-基）乙基甲基二-n_丙氧基矽烷、（3-乙基 氧環丁烷-3-基）乙基甲基二-i_丙氧基矽烷、（3-乙基氧環 丁烷-3-基）乙基甲基二乙醯氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁 烷-3-基）乙基乙基二甲氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3- -36- 200903154 基）乙基乙基二乙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙 基乙基二- η-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基 乙基二-i-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基乙基 二乙醯氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基苯基二甲 氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基苯基二乙氧基矽 烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基苯基二-η-丙氧基矽烷 、（3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基苯基二-i-丙氧基矽烷、（ 3-乙基氧環丁烷-3-基）乙基苯基二乙醯氧基矽烷、（3-乙 基氧環丁烷-3 -基）丙基三甲氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁 烷-3-基）丙基三乙氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3-基） 丙基三- η-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙基三-i-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙基三乙醯氧基 矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3 -基）丙基甲基二甲氧基矽烷、 (3 -乙基氧環丁烷-3 -基）丙基甲基二乙氧基矽烷、（3 -乙 基氧環丁烷-3-基）丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、（3-乙基 氧環丁烷-3-基）丙基甲基二-i-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環 丁烷-3 -基）丙基甲基二乙醯氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁 烷-3-基）丙基乙基二甲氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3-基）丙基乙基二乙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙 基乙基二-η-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙基 乙基二-i-丙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙基乙基 二乙醯氧基矽烷、（3 -乙基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二甲 氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二乙氧基矽 烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二- η-丙氧基矽烷 -37- 200903154 、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙基苯基二-i_丙氧基矽烷、（ 3 -乙基氧環丁院-3-基）丙基苯基二乙醯氧基矽院等； 含有乙烯基之化合物（1 )之具體例’例如有乙烯基 三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三-η —丙氧基 矽烷、乙烯基三-i-丙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、 乙烯基三（甲氧基乙氧基）矽烷、乙稀基甲基二甲氧基矽 烷、乙烯基甲基二乙氧基矽烷、乙烯基甲基二_n_丙氧基矽 院、乙烧基甲基二丙氧基砂院、乙稀基甲基二乙薩氧基 矽烷、乙烯基乙基二甲氧基矽烷、乙烯基乙基二乙氧基矽 烷、乙烯基乙基二-η -丙氧基矽烷、乙烯基乙基二-i -丙氧 基矽烷、乙烯基乙基二乙醯氧基矽烷、乙烯基乙基二（甲 氧基乙氧基）矽烷、乙烯基苯基二甲氧基矽烷、乙烯基苯 基二乙氧基矽烷、乙烯基苯基二-η -丙氧基矽烷、乙烯基苯 基二-i -丙氧基砂院、乙嫌基苯基二乙酿氧基砂垸、乙稀基 苯基二（甲氧基乙氧基）砂院等； 含有烯丙基之化合物（1 )之具體例’例如有烯丙基 三甲氧基矽烷、烯丙基三乙氧基矽烷、烯丙基三_n-丙氧基 砂院、烯丙基三-i-丙氧基矽烷、烯丙基三乙酿氧基矽烷、 烯丙基三（甲氧基乙氧基）矽烷、烯丙基甲基二甲氧基矽 烷、烯丙基甲基二乙氧基矽烷、烯丙基甲基二丙氧基矽 烷、烯丙基甲基二-i-丙氧基矽烷、烯丙基甲基二乙醯氧基 矽烷、烯丙基乙基二甲氧基矽烷、烯丙基乙基二乙氧基矽 烷、烯丙基乙基 基矽烷、烯两基 二-η -丙氧基矽烷、烯丙基乙基一-i -丙氧 乙基二乙醯氧基矽烷、烯丙基乙基二（甲 -38- 200903154 氧基乙氧基）矽烷、烯丙基苯基二甲氧基矽烷、烯丙基苯 基二乙氧基矽烷、烯丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、烯丙基苯 基二-i-丙氧基矽烷、烯丙基苯基二乙醯氧基矽烷、烯丙基 苯基—(甲氧基乙氧基）Ϊ夕院等； 含有（甲基）丙烯醯基之化合物（1)之具體例有3-(甲基）丙烯醯氧基甲基三甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯 醯氧基甲基三乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基三-n-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基三-i-丙氧基矽 烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基三乙醯氧基矽烷、3-(甲 基）丙烯醯氧基甲基甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯 醯氧基甲基甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲 基甲基二-η-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基甲基 二-i-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基甲基二乙醯 氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基乙基二甲氧基矽烷 、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基乙基二乙氧基矽烷、3-(甲 基）丙烯醯氧基甲基乙基二-η-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙 烯醯氧基甲基乙基二-i-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧 基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基 苯基二甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基苯基二乙 氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基苯基二-!1_丙氧基矽 烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基苯基二-i-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、3-(甲基 )丙烯醯氧基乙基三甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基 乙基三乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基三-η-丙氧 -39- 200903154 基矽烷、3 -(甲基）丙烯醯氧基乙基三-i-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基三乙醯氧基矽烷、3-(甲基）丙 烯醯氧基乙基甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基 乙基甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基甲基 二- η-丙氧基矽烷、3 -(甲基）丙烯醯氧基乙基甲基二-i-丙 氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基甲基二乙醯氧基矽 烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基乙基二甲氧基矽烷、3-( 甲基）丙烯醯氧基乙基乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基）丙 烯醯氧基乙基乙基二-η-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧 基乙基乙基二-i-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基 乙基二乙醯氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基苯基二 甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基苯基二乙氧基矽 烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基苯基二-η-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基乙基苯基二-i-丙氧基矽烷、3-(甲基 )丙烯醯氧基乙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-(甲基）丙烯 醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基三 乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基三-η-丙氧基矽烷 、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基三-i-丙氧基矽烷、3-(甲基 )丙烯醯氧基丙基三乙醯氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧 基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基甲 基二乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基甲基二- η-丙 氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基甲基二-i-丙氧基矽 烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基乙基二甲氧基矽烷' 3-(甲基） -40- 200903154 丙烯醯氧基丙基乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧 基丙基乙基二-η-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基 乙基二-i-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基乙基二 乙醯氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基苯基二甲氧基 矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基苯基二乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、3-(甲基 )丙烯醯氧基丙基苯基二-i-丙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯 醯氧基丙基苯基二乙醯氧基矽烷等； 含有羧基之化合物（1 )之具體例，例如有羧甲基三 甲氧基矽烷、羧甲基三乙氧基矽烷、羧甲基三-η-丙氧基矽 烷、羧甲基三-i-丙氧基矽烷、羧甲基三乙醯氧基矽烷、羧 甲基三（甲氧基乙氧基）矽烷、羧甲基甲基二甲氧基矽烷 、羧甲基甲基二乙氧基矽烷、羧甲基甲基二-η-丙氧基矽烷 、羧甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、羧甲基甲基二乙醯氧基矽 烷、羧甲基乙基二甲氧基矽烷、羧甲基乙基二乙氧基矽烷 、羧甲基乙基二-η-丙氧基矽烷、羧甲基乙基二-i-丙氧基 矽烷、羧甲基乙基二乙醯氧基矽烷、羧甲基乙基二（甲氧 基乙氧基）矽烷、羧甲基苯基二甲氧基矽烷、羧甲基苯基 二乙氧基矽烷、羧甲基苯基二-η-丙氧基矽烷、羧甲基苯基 二-i-丙氧基矽烷、羧甲基苯基二乙醯氧基矽烷、羧甲基苯 基二（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -羧乙基三甲氧基矽烷、2-羧乙基三乙氧基矽烷、2 -羧乙基三-η -丙氧基矽烷、2 -羧乙 基三-i-丙氧基矽烷、2 -羧乙基三乙醯氧基矽烷、2 -羧乙基 三（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -羧乙基甲基二甲氧基矽烷、 -41 - 200903154 2-羧乙基甲基二乙氧基矽烷、2-羧乙基甲基二-η-丙氧基矽 烷、2-羧乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、2-羧乙基甲基二乙醯 氧基矽烷、2 -羧乙基乙基二甲氧基矽烷、2 -羧乙基乙基二 乙氧基矽烷、2-羧乙基乙基二-η-丙氧基矽烷、2-羧乙基乙 基二丙氧基矽烷、2 -羧乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2 -羧 乙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -羧乙基苯基二甲氧 基矽烷、2-羧乙基苯基二乙氧基矽烷、2-羧乙基苯基二-η-丙氧基矽烷、2-羧乙基苯基二-i-丙氧基矽烷、2-羧乙基苯 基二乙醯氧基矽烷、2 -羧乙基苯基二（甲氧基乙氧基）矽 烷等； 含有羥基之化合物（1 )之具體例，例如有羥甲基三 甲氧基矽烷、羥甲基三乙氧基矽烷、羥甲基三-η-丙氧基矽 烷、羥甲基三-i-丙氧基矽烷、羥甲基三乙醯氧基矽烷、羥 甲基三（甲氧基乙氧基）矽烷、羥甲基甲基二甲氧基矽烷 、羥甲基甲基二乙氧基矽烷、羥甲基甲基二-η-丙氧基矽烷 、羥甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、羥甲基甲基二乙醯氧基矽 烷、羥甲基乙基二甲氧基矽烷、羥甲基乙基二乙氧基矽烷 、羥甲基乙基二-η-丙氧基矽烷、羥甲基乙基二-i-丙氧基 矽烷、羥甲基乙基二乙醯氧基矽烷、羥甲基乙基二（甲氧 基乙氧基）矽烷、羥甲基苯基二甲氧基矽烷、羥甲基苯基 二乙氧基矽烷、羥甲基苯基二-η-丙氧基矽烷、羥甲基苯基 二-i-丙氧基矽烷、羥甲基苯基二乙醯氧基矽烷、羥甲基苯 基二（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -羥乙基三甲氧基矽烷、2-羥乙基三乙氧基矽烷、2-羥乙基三-η-丙氧基矽烷、2•羥乙 -42 - 200903154 基三-i-丙氧基矽烷、2-羥乙基三乙醯氧基矽烷、2-羥乙基 三（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -羥乙基甲基二甲氧基矽烷、 2-羥乙基甲基二乙氧基矽烷、2-羥乙基甲基二-η-丙氧基矽 烷、2-羥乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、2-羥乙基甲基二乙醯 氧基矽烷、2-羥乙基乙基二甲氧基矽烷、2-羥乙基乙基二 乙氧基矽烷、2-羥乙基乙基二-η-丙氧基矽烷、2-羥乙基乙 基二-i-丙氧基矽烷、2-羥乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2-羥 乙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、2-羥乙基苯基二甲氧 基矽烷、2 -羥乙基苯基二乙氧基矽烷、2 -羥乙基苯基二- n-丙氧基矽烷、2-羥乙基苯基二-i-丙氧基矽烷、2-羥乙基苯 基二乙醯氧基矽烷、2 -羥乙基苯基二（甲氧基乙氧基）矽 烷、3 -羥丙基三甲氧基矽烷、3 -羥丙基三乙氧基矽烷、3 -羥丙基三-η-丙氧基矽烷、3-羥丙基三-i-丙氧基矽烷、3-羥 丙基三乙醯氧基矽烷、3 -羥丙基三（甲氧基乙氧基）矽烷 、3 -羥丙基甲基二甲氧基矽烷、3 -羥丙基甲基二乙氧基矽 烷、3-羥丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、3-羥丙基甲基二-i-丙 氧基矽烷、3 -羥丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3 -羥丙基乙基 二甲氧基矽烷、3 -羥丙基乙基二乙氧基矽烷、3 -羥丙基乙 基二-η-丙氧基矽烷、3-羥丙基乙基二-i-丙氧基矽烷、3-羥 丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3 -羥丙基乙基二（甲氧基乙氧 基）矽烷、3 -羥丙基苯基二甲氧基矽烷、3 -羥丙基苯基二 乙氧基矽烷、3-羥丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、3-羥丙基苯 基二-i-丙氧基矽烷、3-羥丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3-羥 丙基苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷、4-羥基-(p-羥苯基羰 -43 - 200903154 氧基）苄基三甲氧基矽烷、4-羥基-(p-羥苯基羰氧基）苄 基三乙氧基矽烷、4·羥基-(P-羥苯基羰氧基）苄基三-n-丙氧基矽烷、4-羥基-(p-羥苯基羰氧基）苄基三-i-丙氧基 矽烷、4-羥基-(p-羥苯基羰氧基）苄基三乙醯氧基矽烷、 4-羥基-(p-羥苯基羰氧基）苄基三（甲氧基乙氧基）矽烷 、4-羥基-(p-羥苯基羰氧基）苄基甲基二甲氧基矽烷、4-羥基-(P-羥苯基羰氧基）苄基甲基二乙氧基矽烷、4-羥 基-(P-羥苯基羰氧基）苄基甲基二-η-丙氧基矽烷、4-羥 基-(Ρ-羥苯基羰氧基）苄基甲基二-i-丙氧基矽烷、4-羥 基-(P-羥苯基羰氧基）苄基甲基二乙醯氧基矽烷、4-羥 基-(P-羥苯基羰氧基）苄基乙基二甲氧基矽烷、4-羥基-(P-羥苯基羰氧基）苄基乙基二乙氧基矽烷、4-羥基-(p-羥苯基羰氧基）苄基乙基二-η-丙氧基矽烷、4-羥基-(p-羥苯基羰氧基）苄基乙基二-i-丙氧基矽烷、4-羥基-(ρ-羥 苯基羰氧基）苄基乙基二乙醯氧基矽烷、4-羥基-(ρ-羥苯 基羰氧基）苄基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、4_羥基-( P-羥苯基羰氧基）苄基苯基二甲氧基矽烷、4-羥基-(ρ-羥 本基每氧基）卞基本基一乙氧基砂院、4 -經基- (ρ -經苯基 羰氧基）苄基苯基二-η-丙氧基矽烷、4-羥基-(ρ-羥苯基 羯氧基）卞基苯基一-丙氧基砂院、4-經基-(ρ-經苯基簾 氧基）苄基苯基二乙醯氧基矽烷、4-羥基-(ρ-羥苯基羰氧 基）苄基苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷等； 含有氫硫基之化合物（1 )之具體例，例如有氫硫基 甲基三甲氧基矽烷、氫硫基甲基三乙氧基矽烷、氫硫基甲 -44 - 200903154 基三-η-丙氧基矽烷、氫硫基甲基三-i-丙氧基矽烷、氫硫 基甲基三乙醯氧基矽烷、氫硫基甲基三（甲氧基乙氧基） 矽烷、氫硫基甲基甲基二甲氧基矽烷、氫硫基甲基甲基二 乙氧基矽烷、氫硫基甲基甲基二-η-丙氧基矽烷、氫硫基甲 基甲基二-i-丙氧基矽烷、氫硫基甲基甲基二乙醯氧基矽烷 、氫硫基甲基乙基二甲氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二乙氧 基砂院、氣硫基甲基乙基—-n-丙氧基砂院、氣硫基甲基乙 基二-i-丙氧基矽烷、氫硫基甲基乙基二乙醯氧基矽烷、氫 硫基甲基乙基—(甲氧基乙氧基）5夕院、氣硫基甲基本基 二甲氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二乙氧基矽烷、氫硫基甲 基苯基二-η-丙氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二-i-丙氧基矽 烷、氫硫基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、氫硫基甲基苯基二 (甲氧基乙氧基）矽烷、2-氫硫基乙基三甲氧基矽烷、2-氫硫基乙基三乙氧基矽烷、2-氫硫基乙基三-n_丙氧基矽烷 、2 -氫硫基乙基三-i-丙氧基矽烷、2 -氫硫基乙基三乙醯氧 基矽烷、2-氫硫基乙基三（甲氧基乙氧基）矽烷、2•氫硫 基乙基甲基二甲氧基矽烷、2 -氫硫基乙基甲基二乙氧基矽 烷、2-氫硫基乙基甲基二-η-丙氧基矽烷、2-氫硫基乙基甲 基_>-i -丙氧基石夕院、2-氣硫基乙基甲基__乙酸氧基砂院、 2 -氫硫基乙基乙基二甲氧基矽烷、2 -氫硫基乙基乙基二乙 氧基砂院、2 -氣硫基乙基乙基_丙氧基砂院、2 -氨硫基 乙基乙基二-i-丙氧基矽烷、2-氫硫基乙基乙基二乙醯氧基 矽烷、2-氫硫基乙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、2-氫 硫基乙基苯基—甲氧基砂院、2 -氯硫基乙基苯基_乙氧基 -45 - 200903154 矽烷、2-氫硫基乙基苯基二-n_丙氧基矽烷、2-氫硫基乙基 苯基二-i-丙氧基矽烷、2 -氫硫基乙基苯基二乙醯氧基矽烷 、2 -氨硫基乙基本基一(甲氣基乙氧基）砂院、3 -氣硫基 丙基三甲氧基矽烷、3 -氫硫基丙基三乙氧基矽烷、3 -氫硫 基丙基三-η-丙氧基矽烷、3·氫硫基丙基三-i-丙氧基矽烷、 3 -氫硫基丙基三乙醯氧基矽烷、3 -氫硫基丙基三（甲氧基 乙氧基）矽烷、3 -氫硫基丙基甲基二甲氧基矽烷、3 -氫硫 基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-氫硫基丙基甲基二-η-丙氧基 矽烷、3-氫硫基丙基甲基二-i-丙氧基矽烷、3-氫硫基丙基 甲基二乙醯氧基矽烷、3 -氫硫基丙基乙基二甲氧基矽烷、 3 -氣硫基丙基乙基—乙氧基砂院、3 -氣硫基丙基乙基__ - η -丙氧基矽烷、3-氫硫基丙基乙基二-i-丙氧基矽烷、3-氫硫 基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、3 -氫硫基丙基乙基二（甲氧 基乙氧基）矽烷、3 -氫硫基丙基苯基二甲氧基矽烷、3 -氫 硫基丙基苯基二乙氧基矽烷、3-氫硫基丙基苯基二-η-丙氧 基矽烷、3-氫硫基丙基苯基二-i-丙氧基矽烷、3-氫硫基丙 基本基—乙酸氧基砂院、3 -氣硫基丙基苯基_(甲氧基乙 氧基）矽烷等； 含有異氰酸酯基之化合物（1 )之具體例，例如有異 氰酸酯甲基三甲氧基矽烷、異氰酸酯甲基三乙氧基矽烷、 異氰酸酯甲基三-η-丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基三-i-丙氧 基矽烷、異氰酸酯甲基三乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲基三 (甲氧基乙氧基）矽烷、異氰酸酯甲基甲基二甲氧基矽烷 、異氰酸酯甲基甲基二乙氧基矽烷、異氰酸酯甲基甲基 -46 - 200903154 二-η-丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、 異氰酸酯甲基甲基二乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二 甲氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二乙氧基矽烷、異氰酸酯 甲基乙基二-η-丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二-i-丙氧 基矽烷、異氰酸酯甲基乙基二乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲 基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、異氰酸酯甲基苯基二甲 氧基矽烷、異氰酸酯甲基苯基二乙氧基矽烷、異氰酸酯甲 基苯基二-η-丙氧基矽烷、異氰酸酯甲基苯基二-i-丙氧基 矽烷、異氰酸酯甲基苯基二乙醯氧基矽烷、異氰酸酯甲基 苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -異氰酸酯乙基三甲氧基 矽烷、2-異氰酸酯乙基三乙氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基三-n-丙氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基三-i-丙氧基矽烷、2-異氰 酸酯乙基三乙醯氧基矽烷、2 -異氰酸酯乙基三（甲氧基乙 氧基）矽烷、2 -異氰酸酯乙基甲基二甲氧基矽烷、2 -異氰 酸酯乙基甲基二乙氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基甲基二-η-丙 氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、2-異氰 酸酯乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2 -異氰酸酯乙基乙基二甲 氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基乙基二乙氧基矽烷、2-異氰酸 酯乙基乙基二-η-丙氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基乙基二-i-丙 氧基矽烷、2 -異氰酸酯乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2 -異氰 酸酯乙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -異氰酸酯乙基 苯基二甲氧基矽烷、2 -異氰酸酯乙基苯基二乙氧基矽烷、 2-異氰酸酯乙基苯基二-η-丙氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基苯 基二-i-丙氧基矽烷、2-異氰酸酯乙基苯基二乙醯氧基矽烷 -47 - 200903154 、2 -異氰酸酯乙基苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷、3 -異氰 酸酯丙基三甲氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、 3-異氰酸酯丙基三-η-丙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基三-i-丙 氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基三乙醯氧基矽烷、3 -異氰酸酯 丙基三（甲氧基乙氧基）矽烷、3 -異氰酸酯丙基甲基二甲 氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基甲基二乙氧基矽烷、3 -異氰酸 酯丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基甲基二-i-丙 氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基甲基二乙醯氧基矽烷、3 -異氰 酸酯丙基乙基二甲氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基乙基二乙氧 基矽烷、3-異氰酸酯丙基乙基二-η-丙氧基矽烷、3-異氰酸 酯丙基乙基二-i-丙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基乙基二乙醯 氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷 、3 -異氰酸酯丙基苯基二甲氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基苯 基二乙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、 3-異氰酸酯丙基苯基二-i-丙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基苯 基二乙醯氧基矽烷、3 -異氰酸酯丙基苯基二（甲氧基乙氧 基）矽烷等； 含有胺基之化合物（1 )之具體例，例如有胺基甲基 三甲氧基矽烷、胺基甲基三乙氧基矽烷、胺基甲基三-η-丙 氧基矽烷、胺基甲基三-i-丙氧基矽烷、胺基甲基三乙醯氧 基矽烷、胺基甲基三（甲氧基乙氧基）矽烷、胺基甲基甲 基二甲氧基矽烷、胺基甲基甲基二乙氧基矽烷、胺基甲基 甲基二-η-丙氧基矽烷、胺基甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、 胺基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、胺基甲基乙基二甲氧基矽 -48 - 200903154 烷、胺基甲基乙基二乙氧基矽烷、胺基甲基乙基二-η-丙氧 基矽烷、胺基甲基乙基二-i-丙氧基矽烷、胺基甲基乙基二 乙醯氧基矽烷、胺基甲基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、 胺基甲基苯基二甲氧基矽烷、胺基甲基苯基二乙氧基矽烷 、胺基甲基苯基二-η-丙氧基矽烷、胺基甲基苯基二-i-丙 氧基矽烷、胺基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、胺基甲基苯基 二（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -胺基乙基三甲氧基矽烷、2-胺基乙基三乙氧基矽烷、2-胺基乙基三-η-丙氧基矽烷、2-胺基乙基三-i-丙氧基矽烷、2-胺基乙基三乙醯氧基矽烷、 2-胺基乙基三（甲氧基乙氧基）矽烷、2-胺基乙基甲基二 甲氧基砂院、2 -胺基乙基甲基_•乙氣基砂院、2 -胺基乙基 甲基二-η-丙氧基矽烷、2-胺基乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、 2-胺基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2-胺基乙基乙基二甲氧 基矽烷、2 -胺基乙基乙基二乙氧基矽烷、2 -胺基乙基乙基 二-η-丙氧基矽烷、2-胺基乙基乙基二-i-丙氧基矽烷、2-胺 基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2 -胺基乙基乙基二（甲氧基 乙氧基）矽烷、2-胺基乙基苯基二甲氧基矽烷、2-胺基乙 基苯基二乙氧基矽烷、2 -胺基乙基苯基二-η -丙氧基矽烷、 2 -胺基乙基苯基—>-i -丙氧基ί夕院、2 -胺基乙基苯基_乙釀 氧基矽烷、2 -胺基乙基苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷、3 -胺基丙基三甲氧基矽烷、3 -胺基丙基三乙氧基矽烷、3 -胺 基丙基三-η-丙氧基矽烷、3-胺基丙基三-i-丙氧基矽烷、3-胺基丙基三乙醯氧基矽烷、3-胺基丙基三（甲氧基乙氧基 )矽烷、3 -胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3 -胺基丙基甲基 -49- 200903154 二乙氧基矽烷、3-胺基丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、3-胺基 丙基甲基二-i-丙氧基矽烷、3-胺基丙基甲基二乙醯氧基矽 烷、3 -胺基丙基乙基二甲氧基矽烷、3 -胺基丙基乙基二乙 氧基矽烷、3-胺基丙基乙基二-η-丙氧基矽烷、3-胺基丙基 乙基二-i-丙氧基矽烷、3-胺基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、 3-胺基丙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、3-胺基丙基苯 基二甲氧基矽烷、3-胺基丙基苯基二乙氧基矽烷、3-胺基 丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、3-胺基丙基苯基二-i-丙氧基矽 烷、3 -胺基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、3 -胺基丙基苯基二 (甲氧基乙氧基）矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基三 甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基三乙氧基矽烷 、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基三-η-丙氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基三-i-丙氧基矽烷、Ν-2-(胺基 乙基）-3 -胺基丙基三乙醯氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基三（甲氧基乙氧基）矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3 ·胺基 丙基甲基二乙氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基甲 基二-η-丙氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基甲基 二-i-丙氧基矽烷、Ν-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基甲基二 乙醯氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基乙基二甲氧 基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基乙基二乙氧基矽烷 、N-2-(胺基乙基）-3 -胺基丙基乙基一丙氧基砂院、 N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基乙基二-i-丙氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、N-2-(胺 -50- 200903154 基乙基）_3_胺基丙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙基苯基二甲氧基矽烷、N-2-(胺基 乙基）-3 -胺基丙基苯基二乙氧基矽烷、N-2-(胺基乙基 )-3_胺基丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、Ν·2-(胺基乙基）-3-胺基丙基苯基二-i-丙氧基矽烷、Ν-2-(胺基乙基）-3-胺 基丙基苯基二乙醯氧基矽烷、N-2-(胺基乙基）-3-胺基丙 基苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三 甲氧基矽烷、N -苯基-3-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三-η-丙氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三-i-丙 氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三乙醯氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三（甲氧基乙氧基）矽烷、N-苯基-3-胺基丙基 甲基二甲氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基甲基二乙氧基矽 烷、N-苯基-3-胺基丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基甲基二-i-丙氧基矽烷、Ν-苯基-3-胺基丙基甲基 二乙醯氧基矽烷、N -苯基-3-胺基丙基乙基二甲氧基矽烷 、N-苯基-3-胺基丙基乙基_乙氧基砂院、N -苯基-3-胺基 丙基乙基—·_η -丙氧基砂垸、N -本基-3-胺基丙基乙基_. - i -丙氧基矽烷、N-苯基-3 -胺基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、 N-苯基-3-胺基丙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、N-苯 基-3-胺基丙基苯基二甲氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基苯 基二乙氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基苯基二-η-丙氧基矽 烷、Ν -苯基-3 -胺基丙基苯基二-i-丙氧基矽烷、Ν -苯基- 3-胺基丙基本基一乙釀氧基砂院、N -苯基-3-胺基丙基本基 二（甲氧基乙氧基）矽烷、3-三甲氧基甲矽烷基-N- (1,3- -51 - 200903154 二甲基-亞丁基）丙基胺、3-三乙氧基甲矽烷基-N-(1,3-二甲基-亞丁基）丙基胺、3-三-η-丙氧基甲矽烷基-N-( 1,3-二甲基-亞丁基）丙基胺等； 含有脲基之化合物（1 )之具體例，例如有脲基甲基 三甲氧基矽烷、脲基甲基三乙氧基矽烷、脲基甲基三-η-丙 氧基矽烷、脲基甲基三-i-丙氧基矽烷、脲基甲基三乙醯氧 基矽烷、脲基甲基三（甲氧基乙氧基）矽烷、脲基甲基甲 基二甲氧基矽烷、脲基甲基甲基二乙氧基矽烷、脲基甲基 甲基二-η-丙氧基矽烷、脲基甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、 脲基甲基甲基二乙醯氧基矽烷、脲基甲基乙基二甲氧基矽 烷、脲基甲基乙基二乙氧基矽烷、脲基甲基乙基二-η-丙氧 基矽烷、脲基甲基乙基二-i-丙氧基矽烷、脲基甲基乙基二 乙醯氧基矽烷、脲基甲基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、 脲基甲基苯基二甲氧基矽烷、脲基甲基苯基二乙氧基矽烷 、脲基甲基苯基二-η-丙氧基矽烷、脲基甲基苯基二-i-丙 氧基矽烷、脲基甲基苯基二乙醯氧基矽烷、脲基甲基苯基 二（甲氧基乙氧基）矽烷、2 -脲基乙基三甲氧基矽烷、2-脲基乙基三乙氧基矽烷、2-脲基乙基三-η-丙氧基矽烷、2-脲基乙基三-i-丙氧基矽烷、2-脲基乙基三乙醯氧基矽烷、 2-脲碁乙基三（甲氧基乙氧基）矽烷、2-脲基乙基甲基二 甲氧基5夕院、2 -脈基乙基甲基_乙氧基砍院、2 -脈基乙基 甲基二-η-丙氧基矽烷、2-脲基乙基甲基二-i-丙氧基矽烷、 2 -脲基乙基甲基二乙醯氧基矽烷、2 -脲基乙基乙基二甲氧 基矽烷、2-脲基乙基乙基二乙氧基矽烷、2-脲基乙基乙基 -52- 200903154 二- η-丙氧基矽烷、2-脲基乙基乙基二-i-丙氧基矽烷、2-脲 基乙基乙基二乙醯氧基矽烷、2 -脲基乙基乙基二（甲氧基 乙氧基）砂院、2 -脈基乙基苯基__甲氧基砂院、2 -脈基乙 基本基_乙氧基5夕院、2 -脈基乙基本基·_η -丙氧基砂垸、 2 -脲基乙基苯基二-i-丙氧基矽烷、2 -脲基乙基苯基二乙醯 氧基矽烷、2-脲基乙基苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷、3-脲基丙基三甲氧基矽烷、3 -脲基丙基三乙氧基矽烷、3 -脲 基丙基三-η-丙氧基矽烷、3-脲基丙基三-i-丙氧基矽烷、3-脲基丙基三乙醯氧基矽烷、3 -脲基丙基三（甲氧基乙氧基 )矽烷、3 -脲基丙基甲基二甲氧基矽烷、3 -脲基丙基甲基 二乙氧基矽烷、3-脲基丙基甲基二-η-丙氧基矽烷、3-脲基 丙基甲基二-i-丙氧基矽烷、3-脲基丙基甲基二乙醯氧基矽 烷、3 -脲基丙基乙基二甲氧基矽烷、3 -脲基丙基乙基二乙 氧基矽烷、3-脲基丙基乙基二-η-丙氧基矽烷、3-脲基丙基 乙基二-i-丙氧基矽烷、3-脲基丙基乙基二乙醯氧基矽烷、 3 -脲基丙基乙基二（甲氧基乙氧基）矽烷、3 -脲基丙基苯 基二甲氧基矽烷、3 -脲基丙基苯基二乙氧基矽烷、3 -脲基 丙基苯基二-η-丙氧基矽烷、3-脲基丙基苯基二-i-丙氧基矽 院、3 -脈基丙基本基_乙釀氧基砂院、3 -服基丙基苯基_. (甲氧基乙氧基）矽烷等； 含有苯乙烯基之化合物（1 )之具體例，例如有苯乙 烯基三甲氧基矽烷、苯乙烯基三乙氧基矽烷、苯乙烯基 三- η-丙氧基矽烷、苯乙烯基三-i-丙氧基矽烷、苯乙烯基 三乙醯氧基矽烷、苯乙烯基三（甲氧基乙氧基）矽烷、苯 -53 - 200903154 乙稀基甲基—甲氧基ϊ夕院、苯乙傭基甲基—乙氧基ϊ夕院、 苯乙烯基甲基二-η-丙氧基矽烷、苯乙烯基甲基二-i-丙氧 基矽烷、苯乙烯基甲基二乙醯氧基矽烷、苯乙烯基乙基二 甲氧基矽烷、苯乙烯基乙基二乙氧基矽烷、苯乙烯基乙基 二- η-丙氧基矽烷、苯乙烯基乙基二-i-丙氧基矽烷、苯乙 烯基乙基二乙醯氧基矽烷、苯乙烯基乙基二（甲氧基乙氧 基）砂院、苯乙儲基苯基二甲氧基砂院、苯乙烯基苯基二 乙氧基矽烷、苯乙烯基苯基二- η-丙氧基矽烷、苯乙烯基苯 基二-i-丙氧基矽烷、苯乙烯基苯基二乙醯氧基矽烷、苯乙 烯基苯基二（甲氧基乙氧基）矽烷等。 這些中，較佳爲使用含有環氧基、氧環丁基、羥基、 氫硫基之化合物（1 )，從與[A]成分之反應性及保存安定 性的觀點，特佳爲3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環 氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲 氧基矽烷、3 -環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-( 3,4-環氧基環己基）乙基三甲氧基矽烷、2- ( 3,4-環氧基 環己基）乙基三乙氧基矽烷、（3-乙基氧環丁烷-3-基）丙 基三甲氧基矽烷、（3_乙基氧環丁烷-3-基）丙基三乙氧基 矽烷、3 -氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3 -氫硫基丙基三乙氧 基矽烷。 化合物（2 )之具體例如四甲氧基矽烷、四乙氧基矽 烷（通稱TEOS)、四-η -丙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、 四-η-丁氧基矽烷之四烷氧基矽烷；如甲基三甲氧基矽烷、 甲基三乙氧基矽烷、甲基三-η-丙氧基矽烷、乙基三乙氧基 -54- 200903154 矽烷、環己基三乙氧基矽烷之單烷基三烷氧基矽烷；如苯 基三乙氧基矽烷、萘基三乙氧基矽烷、4 -氯苯基三乙氧基 矽烷、4 -氰苯基三乙氧基矽烷、4 -胺基苯基三乙氧基矽烷 、4 -硝基苯基三乙氧基矽烷、4 -甲基苯基三乙氧基矽烷、 4-羥苯基三乙氧基矽烷之單芳基三烷氧基矽烷；如苯氧基 三乙氧基矽烷、萘氧基三乙氧基矽烷、4-氯苯氧基三乙氧 基矽烷、4 -氰基苯基三氧基乙氧基矽烷、4 -胺基苯基氧基 三乙氧基矽烷、4 -硝基苯基氧基三乙氧基矽烷、4 -甲基苯 基氧基三乙氧基矽烷、4 -羥苯基氧基三乙氧基矽烷之單芳 氧基三烷氧基矽烷；如單羥基三甲氧基矽烷、單羥基三乙 氧基矽烷、單羥基三-η-丙氧基矽烷之單羥基三烷氧基矽烷 :如二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基 二-η-丙氧基矽烷、甲基（乙基）二乙氧基矽烷、甲基（環 己基）二乙氧基矽烷之二烷基二烷氧基矽烷；如甲基（苯 基）二乙氧基矽烷之單烷基單芳基二烷氧基矽烷；如二苯 基二乙氧基矽烷之二芳基二烷氧基矽烷；如二苯氧基二乙 氧基砂院之一方氧基—院氧基砂院；如甲基（苯氧基）—. 乙氧基矽烷之單烷基單芳氧基二烷氧基矽烷；如苯基（苯 氧基）二乙氧基矽烷之單芳基單芳氧基二烷氧基矽烷；如 二羥基二甲氧基矽烷、二羥基二乙氧基矽烷、二羥基二-η-丙氧基矽烷之二羥基二烷氧基矽烷；如甲基（羥基）二甲 氧基矽烷之單烷基單羥基二烷氧基矽烷；如苯基（羥基） 二甲氧基矽烷之單芳基單羥基二烷氧基矽烷；如三甲基甲 氧基矽烷、三甲基乙氧基矽烷、三甲基-η-丙氧基矽烷、二 -55- 200903154 甲基（乙基）乙氧基矽烷、二甲基（環己基）乙氧基矽烷 之三烷基單烷氧基矽烷；如二甲基（苯基）乙氧基矽烷之 二烷基單芳基單烷氧基矽烷；如甲基（二苯基）乙氧基矽 烷之單烷基二芳基單烷氧基矽烷；如三苯氧基乙氧基矽烷 之三芳氧基單烷氧基矽烷；如甲基（二苯氧基）乙氧基矽 烷之單烷基二芳氧基單烷氧基矽烷；如苯基（二苯氧基） 乙氧基矽烷之單芳基二芳氧基單烷氧基矽烷；如二甲基（ 苯氧基）乙氧基矽烷之二烷基單芳氧基單烷氧基矽烷；如 二苯基（苯氧基）乙氧基矽烷之二芳基單芳氧基單烷氧基 矽烷；如甲基（苯基）（苯氧基）乙氧基矽烷之單烷基單 芳基單芳氧基單烷氧基矽烷；如三羥基甲氧基矽烷、三羥 基乙氧基矽烷、三羥基-η-丙氧基矽烷之三羥基單烷氧基矽 烷。 這些中，從反應性、對基板之密著性的觀點，較佳爲 四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基 三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、 二甲基二曱氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二苯基二甲 氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷。 這些化合物可以任意組成併用任意之多種化合物。 將上述化合物付諸於共水解反應，可形成本發明使用 之[C ]成分的矽氧烷低聚物I。 水解反應較佳爲在適當之溶劑中進行。這種溶劑例如 有甲醇、乙醇、η -丙醇、異丙醇、η - 丁醇、異丁醇、t - 丁 醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮、丙二醇單甲醚、丙 -56- 200903154 二醇甲醚乙酸酯、四氫呋喃、二噁烷、乙腈之水溶性溶劑 或這些之水溶液。 這些之水溶性溶劑係在其後之步驟中被除去’因此較 佳爲甲醇、乙醇、η-丙醇、異丙醇、丙酮、甲基乙基酮、 甲基異丁 _、四氫咲喃等較低沸點者’從原料之丨谷解性的 觀點，更佳爲丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮等之酮類’ 最佳爲甲基異丁酮。 合成〔C〕成分之矽氧烷低聚物I之水解反應較佳爲 在酸觸媒或驗觸媒的存在下進行。酸觸媒例如有鹽酸、硫 酸、硝酸、甲酸、草酸、乙酸、三氟乙酸、三氟甲烷磺酸 、酸性離子交換樹脂、各種路易斯酸等。鹼觸媒例如有氨 、一級胺、二級胺、三級胺類、吡啶等含氮芳香族化合物 、鹼性離子交換樹脂、氫氧化鈉等氫氧化物、碳酸鉀等碳 酸鹽、乙酸鈉等羧酸鹽、各種路易斯鹼等。水的使用量、 反應溫度、反應時間係適當設定。例如可採用下述條件。 水的使用量係對於下述上述式（1)或（2 )表示之化 合物中之院氧基與鹵原子之合計量1莫耳，使用1.5莫耳 以下’較佳爲1莫耳以下，更佳爲〇 · 9莫耳以下的量。 反應溫度係40〜200。(：，較佳爲50〜150。〇。 反應時間係3 0分鐘〜2 4小時，更佳爲1〜1 2小時。 上述砂氧烷低聚物II係下述式（9)表示。 -57- ,22200903154
R 21. Ο Ό—Si· Ο
R 24
Ό——R m 23 (9) 式中R21〜R24係相互獨立表示氫原子、烷基 、或下述式（10)表示之氧環丁基，m係1〜10 但是R21〜R24之至少1個係下述式（10 )表示之 、環烷基 之整數。 氧環丁基 R14 (10) R15 R16 式中R25、R13、R14、R15及R16係相互獨立 子、氟原子、碳數1〜4之烷基、苯基或碳數1〜 烷基，1係1〜6之整數。 這些矽氧烷低聚物可藉由將下述式（1 1 )及 示之烷氧基矽烷經水解來製造。 Si(RI7)p(OR]8)q· --(11) 式中R17係表示含有氧環丁基之取代基，R18係 子或1價有機基，P係1〜3之整數，q各自爲（ 25 p13
表7]^氣原 4之全氟 (12 )表 表不氣原 I〜3之整 -58- 200903154 數。但是p+q=4。
Si(R19)x(OR20)4-x· · ( 12) 式中R1 9、R2()係表示不含氧環丁基之取代基，可相同或不 同，各自爲氫原子或1價有機基，X係〇〜3之整數。 上述式（1 1 )及（1 2 )之化合物係反應性矽氧烷低聚 物。反應性矽氧烷低聚物係在具有氧環丁烷環與倍半矽氧 烷構造之聚矽氧烷中導入聚矽氧構造者，降低該聚矽氧烷 中之氧環丁基濃度，在不降低倍半矽氧烷化合物之分子量 的情況下，爲了降低黏度，或藉由降低交聯密度使硬化收 縮率下降，對於硬化物賦予密著性、耐藥品性，或對於硬 化物賦予柔軟性所導入的。本發明之反應性矽氧烷低聚物 較佳爲具有直鏈狀或分支之線狀聚矽氧。 具有氧環丁基之化合物（1 1 )的具體例，當p= 1時， 例如有（氧環丁烷-3 -基）甲基三甲氧基矽烷、（氧環丁 烷-3 -基）甲基三乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基三-η-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基三-i-丙氧基矽烷、 (氧環丁烷-3-基）甲基三乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷- 3-基）甲基甲基二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基甲基 二乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-η-丙氧基 矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基甲基二-i-丙氧基矽烷、（ 氧環丁烷-3-基）甲基甲基二乙醯氧基矽烷、（氧環丁烷-3 -基）甲基乙基二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3 -基）甲基乙 基二乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基乙基二-η-丙氧 基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基乙基二-i-丙氧基矽烷、 -59- 200903154 (氧環丁烷-3-基）甲基乙基二乙醯氧基矽烷、（氧環丁 烷-3-基）甲基苯基二甲氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲 基苯基二乙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基苯基二-n-丙氧基矽烷、（氧環丁烷-3-基）甲基苯基二-i-丙氧基矽 烷、（氧環丁烷-3-基）甲基苯基二乙醯氧基矽烷等。 p = 2時，例如有二（氧環丁烷-3-基）甲基二甲氧基矽 烷、二（氧環丁烷-3-基）甲基二乙氧基矽烷、二（氧環丁 烷-3-基）甲基二-η-丙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲 基二-i-丙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲基二乙醯氧 基矽烷、二（氧環丁烷-3 -基）甲基甲基甲氧基矽烷、二（ 氧環丁烷-3-基）甲基甲基乙氧基矽烷、二（氧環丁烷- 3-基）甲基甲基-η-丙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲基 甲基-i-丙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲基甲基乙醯 氧基矽烷、二（氧環丁烷-3 -基）甲基乙基甲氧基矽烷、二 (氧環丁烷-3 -基）甲基乙基乙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲基乙基-η-丙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲 基乙基-i-丙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲基乙基乙 醯氧基矽烷、二（氧環丁烷-3 -基）甲基苯基甲氧基矽烷、 二（氧環丁烷-3 -基）甲基苯基乙氧基矽烷、二（氧環丁 垸-3 -基）甲基本基- η-丙氧基砂院、一·（氧環丁院-3 -基） 甲基苯基-i-丙氧基矽烷、二（氧環丁烷-3-基）甲基苯基 乙醯氧基矽烷等。 p = 3時，例如有三（氧環丁烷-3-基）甲基甲氧基矽烷 、三（氧環丁烷-3-基）甲基乙氧基矽烷、三（氧環丁烷- -60- 200903154 3-基）甲基-η-丙氧基矽烷、三（氧環丁烷-3-基）甲基-i-丙氧基矽烷、三（氧環丁烷-3 -基）甲基乙醯氧基矽烷等。 具有氧環丁基之化合物（1 2 )的具體例，例如有四甲 氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙 氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、乙 基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷 、丁基三甲氧基矽烷、環乙基三甲氧基矽烷、三乙氧基矽 烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、二甲基二乙 氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二乙基二甲氧基矽烷、 二乙基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙 氧基矽烷、甲基苯基二甲氧基矽烷、甲基苯基二乙氧基矽 烷、三甲基矽烷醇、三乙基矽烷醇、三丙基矽烷醇、三丁 基矽烷醇、三苯基矽烷醇、三甲基甲氧基矽烷、三甲基乙 氧基矽烷、三乙基甲氧基矽烷、三乙基乙氧基矽烷、三丙 基甲氧基矽烷、三丙基乙氧基矽烷、三甲基甲矽烷基乙酸 酯、三甲基甲矽烷基苯酸酯、三乙基甲矽烷基乙酸酯、三 乙基甲矽烷基苯酸酯、苄基二甲基甲氧基矽烷、苄基二甲 基乙氧基矽烷、二苯基甲氧基甲基矽烷、二苯基乙氧基甲 基矽烷、乙醯基三苯基矽烷、乙氧基三苯基矽烷、六甲基 二矽氧烷、六乙基二甲基二矽氧烷、六丙基二矽氧烷、 1，3-二丁基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷、1，3-二苯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷、1,3 -二甲基-1,1,3,3 -四苯基二矽氧烷等 -61 - 200903154 其他成分 本發明之敏輻射線性樹脂組成物係含有上述共聚物 [A]、[B]及[C]成分爲必須成分，但是必要時可含有[D]感 熱性酸生成化合物、[E]具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵 之聚合性化合物、[F]與共聚物[A]不同之其他之環氧樹脂 、[G]界面活性劑、或[H]黏著助劑。 上述[D]感熱性酸生成化合物可用於提高耐熱性或硬 度。其具體例如锍鹽、苯并噻唑鑰鹽、銨鹽、錢鹽等之鑷 。 上述锍鹽之具體例如烷基锍鹽、苄基鏑鹽、二苄基锍 鹽、取代苄基锍鹽等。 這些之具體例，烷基锍鹽例如有4 -乙醯基苯基二甲基 毓六氟銻酸鹽、4-乙醯羥基苯基二甲基鏑六氟砷酸鹽、二 甲基-4-(苄氧基羰氧基）苯基锍六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲醯氧基）苯基锍六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲醯氧 基）苯基锍六氟砷酸鹽、二甲基-3-氯-4-乙醯氧基苯基锍 六氟銻酸鹽等； 苄基锍鹽例如有苄基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、 苄基-4-羥苯基甲基鏑六氟磷酸鹽、4-乙醯氧基苯基苄基甲 基鏡六氟銻酸鹽、苄基-4-甲氧基苯基甲基鏑六氟銻酸鹽、 苄基-2-甲基-4-羥苯基甲基锍六氟銻酸鹽、苄基-3-氯-4-羥 苯基甲基锍六氟砷酸鹽、4-甲氧基苄基-4-羥苯基甲基毓六 氟磷酸鹽等； 二苄基鏑鹽例如二苄基-4-羥苯基鏑六氟銻酸鹽、二苄 -62- 200903154 基-4-羥苯基锍六氟磷酸鹽、4-乙醯氧基苯基二苄基鏑六氟 銻酸鹽、二苄基-4-甲氧基苯基毓六氟銻酸鹽、二苄基-3-氯-4-羥苯基锍六氟砷酸鹽、二苄基-3-甲基-4-羥基-5-tert-丁基苯基鏑六氟銻酸鹽、苄基-4-甲氧基苄基-4-羥苯基锍 六氟磷酸鹽等； 取代苄基鏑鹽例如對氯苄基-4-羥苯基甲基毓六氟銻酸 鹽、對硝基苄基-4-羥苯基甲基鏑六氟銻酸鹽、對氯苄基- 4 -羥苯基甲基锍六氟磷酸鹽、對硝基苄基-3 -甲基-4 ·羥苯 基甲基锍六氟銻酸鹽、3,5-二氯苄基-4-羥苯基甲基锍六氟 銻酸鹽、鄰-氯苄基-3-氯-4-羥苯基甲基锍六氟銻酸鹽等。 上述苯并噻唑鐺鹽之具體例有3-苄基苯并噻唑鐺六氟 銻酸鹽、3 -苄基苯并噻唑鑷六氟磷酸鹽、3 -苄基苯并噻唑 鎗四氟硼酸鹽、3 -(對-甲氧基苄基）苯并噻唑鑰六氟銻酸 鹽、3 -苄基-2 -甲基硫代苯并噻唑鎗六氟銻酸鹽、3 -苄基- 5 -氯苯并噻唑鑰六氟銻酸鹽等之苄基苯并噻唑鎗。 這些當中，較佳爲使用锍鹽及苯并噻唑鎗，特別是4-乙醯氧基苯基二甲基毓六氟砷酸鹽、苄基-4 -羥苯基甲基锍 六氟銻酸鹽、4-乙醯氧基苯基苄基甲基锍六氟銻酸鹽、二 苄基-4-羥苯基鏑六氟銻酸鹽、4-乙醯氧基苯基苄基鏑六氟 銻酸鹽、3 -苄基苯并噻唑鎗六氟銻酸鹽。 這些市售品例如有 San-AidSI-L85、SI-L110、SI- L145、SI-L150、SI-L160(三新化學工業（股）製造）等 〇 〔D〕成分之使用比例係對於共聚物〔A〕1 0 0重量份 -63- 200903154 時’理想爲使用20重量份以下，更理想爲$重 。使用量超過20重量份時，在塗膜形成步驟中 有析出物析出’影響塗膜形成的情形。 上述〔E〕成分之具有至少1個乙烯性不飽 聚合性化合物’例如有單官能（甲基）丙烯酸酯 (甲基）丙烯酸酯或三官能（甲基）丙烯酸酯。 上述單官能（甲基）丙烯酸酯，例如有2_羥 基）丙烯酸酯、卡必醇（甲基）丙烯酸酯、異冰 基）丙烯酸酯、3 -甲氧基丁基（甲基）丙烯酸酯 基）丙稀酸氧基乙基-2-經丙基苯二甲酸醋等。這 ’例如有 Aronix M-101、M-lll、M-114 (東亞 )製）、KAYARAD TC-1 l〇S、TC-120S (曰本化 製造）、Viscoat 158、2311 (大阪有機化學工業 造）等。 上述一吕能（甲基）丙嫌酸酯例如有：乙二 )丙烯酸酯、1，6 -己二醇二（甲基）丙烯酸酯、 醇二（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇二（甲基）丙 四乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、雙苯氧基甲醇芴 酯、雙苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯等。這些的市售 • A r ο n i X Μ - 2 1 0、Μ - 2 4 0、Μ - 6 2 0 0 (東亞合成（ )、KAYARAD HDDA、ΗΧ-220、R-604 (日本化 製造）、Viscoat 260、312、335HP (大阪有機化 股）製造）等。 上述二官能以上之（甲基）丙烯酸酯例如有 量份以下 ，有時會 和雙鍵之 、二官能 乙基（甲 片基（甲 、2-(甲 些市售品 合成（股 藥（股） (股）製 醇（甲基 1,9-壬二 烯酸酯、 二丙烯酸 品例如有 股）製造 藥（股） 學工業（ :三羥甲 -64 - 200903154 基丙院二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸 酯、三（（甲基）丙烯醯氧基乙基）磷酸酯、季戊四醇四 (甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二 季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等’其市售品例如有Ar0I1ix M-309、M-400、M-405、M-4 5 0、M-7100、M- 8 0 3 0、M-8060 (東亞合成（股）製）、KAYARAD TMPTA、DPHA 、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120 (日本化藥 (股）製造）、Viscoat 295、3 00、3 60、GPT、3PA、400 (大阪有機化學工業（股）製造）等。 這些較佳爲使用三官能以上之（甲基）丙烯酸酯，其 中特別理想爲三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四 醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯 〇 這些之單官能、二官能或三官能以上之（甲基）丙烯 酸酯可單獨使用或組合使用。〔E〕成分之使用比例係對 於共聚物〔A〕1 00重量份時，理想爲使用5 0重量份以下 ’更理想爲3 0重量份以下。 藉由含有此比例之〔E〕成分，可提高由本發明之敏 輻射線性樹脂組成物所製得之層間絕緣膜或微透鏡之耐熱 性及表面硬度等。使用量超過5 0重量份時，在基板上形 成敏輻射線性樹脂組成物之塗膜之步驟中’有時會產生塗 月吴粗縫的情形。 與上述〔F〕成分之共聚物〔A〕不同之其他的環氧樹 脂只要不影響相溶性，則無特別限定。較佳爲雙酚A型環 -65- 200903154 氧樹脂、酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹 脂、環狀脂肪族環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水 甘油基胺型環氧樹脂、雜環環氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘 油酯之（共）聚合之樹脂等。其中較佳爲雙酚A型環氧樹 脂、甲酚型酚醛清漆環氧樹脂、縮水甘油基酯型環氧樹脂 等。 〔F〕成分之使用比例係對於共聚物〔a〕1 0 0重量份 ，理想爲使用3 0重量份以下。含有此比例之〔F〕成分， 可提高由本發明之敏輻射線性樹脂組成物所製得之保護膜 或絕緣膜之耐熱性及表面硬度等。使用量超過30重量份 時’在基板上形成敏輻射線性樹脂組成物之塗膜時，有時 會產生塗膜之膜厚不均勻的情形。 共聚物〔A〕也稱爲「環氧樹脂」，但是在具有鹼可 溶性方面’與〔F〕成分不同。〔F〕成分爲鹼不溶性。 爲了提高塗佈性，在本發明之敏輻射線性樹脂組成物 中可使用〔G〕界面活性劑。可使用之〔G〕界面活性劑 例如氟系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑及非離子界面 活性劑。 氟系界面活性劑之具體例，例如1 , 1,2,2 -四氟辛基（ m，2,2 -四氟丙基）醚、mi四氟辛基己醚、八甘醇二 (1，1，2,2-四氟丁基）醚、六甘醇二（1，1，2,2,3,3-六<氟戊 基）酸、八丙二醇二（1,1，2,2 -四氟丁基）醚、六丙二醇 —(11,2,2,3,3-六氟戊基）醚、全氟十二烷基磺酸鈉、 1’1’2,2,8,8,9,9，10,10-十氟十二烷、1，1,2,2,3,3-六氟癸烷 -66 - 200903154 等，除此之外有氟烷基苯磺酸鈉；氟烷氧乙醚；氟烷基銨 碘鎗、氟烷基聚氧乙醚、全氟烷基聚氧乙醇；全氟烷基烷 氧醇酸酯；氟系烷酯類等。這些之市售品，例如有：8]^-1 000、BM-1 1 00 ( BM Chemie 公司）製造）、Megafac F142D、F172、F173、F183、F178、F191、F471 (大日本 油墨化學工業（股）製造）、Ful〇radFC-170C、FC-171、 FC-430、FC-431(住友 3M (股）製造）、SurflonS-112 、S-113、 S-131、 S-141、 S-145、 S-382、 SC-101 > SC-102 、SC-103、 SC-104、 SC-105、 SC-106 (旭玻璃（股）製造 )、F-TOP EF301、303、352 (新秋田化成（股）製造） 等。 上述聚矽氧系界面活性劑例如有D C - 3 P A、D C - 7 P A、 FS- 1 2 65 、 S F- 842 8 、 SH11PA 、 SH21PA 、 SH28PA 、 SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032 (東麗 • Dowcorning · Silicone (股）製造）、tsF-4440、TSF-4300 、 TSF-4445 、 TSF-4446 、 TSF-4460 、 TSF-4452 ( GE 東芝Silicone (股）製造）等之商品名販售者。 上述非離子性系界面活性劑例如可使用聚氧乙烯月桂 醚、聚氧乙烯硬脂醚、聚氧乙烯油醚等之聚氧乙烯烷醚類 ;聚氧乙烯辛基苯醚、聚氧乙烯壬基苯醚等之聚氧乙烯芳 醚類；聚氧乙烯二月桂酯、聚氧乙烯二硬脂酯等之聚氧乙 嫌一院醋類等’（甲基）丙嫌酸系共聚物Polyflow No_57 、95(共榮公司油脂化學工業（股）製造）等。 這些界面活性劑可單獨使用或組合兩種以上使用。 -67- 200903154 這些之〔G〕界面活性劑係對於共聚物〔A〕1 00重量 份時，理想爲使用5重量份以下，更理想爲2重量份以下 。〔G〕界面活性劑之使用量超過5重量份時，在基板上 形成塗膜時，有時容易生成塗膜之膜粗糙的情形。 本發明之敏輻射線性樹脂組成物中，爲了提高與基體 之黏著性，也可使用〔Η〕成份之黏著助劑。此種黏著助 劑可使用官能性矽烷偶合劑，例如具有羧基、甲基丙烯醯 基、異氰酸酯基、環氧基等之反應性取代基之矽烷偶合劑 。具體而言，例如有三甲氧基甲矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙 烯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯 基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ-環氧 丙氧基丙基三甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧基環己基）乙基 三甲氧基矽烷等。此種〔Η〕成份之黏著助劑係對共聚物 〔A〕1 0 0重量份，理想爲使用2 0重量份以下，更理想爲 1〇重量份以下。黏著助劑之使用量超過20重量份時，有 時在顯影步驟中，容易產生顯影殘留的情形。 敏輻射線性樹脂組成物 本發明之敏輻射線性樹脂組成物係藉由均勻混合上述 共聚物〔A〕、 〔B〕成分及（C)及上述任意添加之其他 成分來製備。通常’本發明之敏輻射線性樹脂組成物係溶 解於適當的溶劑，以溶液狀態來使用。例如以所定比例混 合共聚物〔A〕、〔B〕成分及（C)及任意添加之其他成 分’可製備溶液狀態之敏輻射線性樹脂組成物。 -68- 200903154 製備本發明之敏輻射線性樹脂組成物所用的溶劑係使 用可均勻溶解共聚物〔A〕、 〔B〕成分及（C)及如上述 任意添加之其他成分之各成分，且不與各成分反應者。 m種溶媒例如有與製造上述共聚物〔a〕使用之溶媒 所例示者相同的溶媒。 這種溶媒中’從各成分之溶解性、與各成分之反應性 、塗膜形成之容易度的觀點，可使用例如醇、乙二醇醚、 乙一醇院基醚乙酯、酯及二甘醇。其中特別理想爲苄醇、 2本基乙醇、3 -本基-1_丙醇、乙二醇單丁酸乙酸醋、二甘 醇單乙醚乙酸酯、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基甲醚、二甘 醇一甲酸、两二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、甲氧基 丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯。 爲了提高前述溶媒及膜厚之面內均勻性，因此可倂用 问沸點溶媒。可倂用之高沸點溶媒例如有N _甲基甲醯胺 N，N_ 一甲基甲醯胺、N_甲基醯苯胺、&甲基乙醯胺、 N，N-一甲基乙醯胺、N_甲基毗咯烷酮、二甲基亞 ^ ^ 、 ·~^ j- -j 一 、乙醯基丙酮、異佛爾酮、己酸、庚酸、b 酉爭、 1 _~T^ -工顆、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、順 J * 酉奢'—1 —欧〜乙醋、γ-丁內酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、 本基乙二醇乙醚乙酸酯等。其中較佳者爲Ν_甲基吡咯烷 酮、γ-丁內酯、Ν，Ν-二甲基乙醯胺。 本妒日日5 一 x a之敏輻射線性樹脂組成物之溶媒倂用高沸點溶 某寸问沸點溶媒之使用量係對於全溶媒時，使用5 〇重 量％以下，袖Μ Μ 里肩爲4 0重量％以下，更理想爲3 0重量％以下 -69- 200903154 。高沸點溶媒之使用量超過此使用量時，有時塗膜之膜均 勻性、感度及殘膜率會降低。 本發明之敏輻射線性樹脂組成物以溶液狀態製備時’ 溶液中所佔有之溶媒以外的成分（即共聚物〔A〕、〔 B〕 成分及〔C〕成分及上述任意添加之其他成分之合計量） 之比例可配合使用之目的或所要之膜厚之數値等任意設定 ’通常爲5〜5 0重量％，理想爲丨〇〜4 〇重量％，更理想爲 1 5〜3 5重量％ 〇 上述製備之組成物溶液係使用孔徑0.2 μιη左右之微孔 過濾器等過濾後，可供使用。 層間絕緣膜、微透鏡之形成 其次說明使用本發明之敏輻射線性樹脂組成物，形成 本發明之層間絕緣膜、微透鏡的形成方法。本發明之層間 絕緣膜或微透鏡的形成方法係含有以下順序之下述步驟者 ， (1 )基板上形成本發明之敏輻射線性樹脂組成物之 塗膜的步驟， (2 )將輻射線照射於該塗膜之至少一部份的步驟， (3 )顯影步驟， (4 )加熱步驟。 (1 )基板上形成本發明之敏輻射線性樹脂組成物之塗膜 的步驟 上述（1)之步驟中，在基板表面上塗佈本發明之組 -70 - 200903154 成物溶液，較佳爲藉由預烘烤去除溶劑，形成敏輻射線性 樹脂組成物之塗膜。 可使用之基板的種類，例如有玻璃基板、矽晶圓及在 這些之表面形成各種金屬的基板。 組成物溶液之塗佈方法無特別限定，例如可使用噴塗 法、輥塗法、旋轉塗佈法、狹縫模具式塗佈法（Slit Die C o a t )、棒塗法、噴墨法等各種方法。預烘烤之條件係因 各成分之種類、使用比例而異，但通常爲6 0〜1 1 0。(：、3 0 秒〜1 5分鐘。 所形成之塗膜之膜厚在預烘烤之數値，例如形成層間 絕緣膜時爲3〜6 μιη，形成微透鏡時爲〇. 5〜3 μηι。 (2 )將輻射線照射於該塗膜之至少一部份的步驟 上述（2 )之步驟中’對於形成後之塗膜介由具有所 定圖案之光罩’照射輻射線後，使用顯影液進行顯影處理 去除輻射線之照射部份’形成圖案化。此時所用的輻射線 ，例如有紫外線、遠紫外線、χ射線、荷電粒子線等。 上述紫外線例如有g射線（波長4 3 6 n m )、丨射線（ 波長3 65nm )等。遠紫外線例如有KrF準分子雷射等。χ 射線例如有同步加速器輻射線等。荷電粒子線例如有電子 線等。 其中較理想爲紫外線’特別理想爲含有g射線及/或i 射線之Is射線者。 形成層間絕緣膜時之曝光量較佳爲5〇〜UOOhm2， -71 - 200903154 形成微透鏡時之曝光量較佳爲50〜2,000J/m2。 (3 )顯影步驟 顯影處理所用的顯影液例如可使用氫氧化鈉、氫氧化 鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨、乙胺、正丙胺、二 乙胺、二乙基胺基乙醇、二正丙胺、三乙胺、甲基二乙胺 、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙 銨、吡咯、六氫化吡啶、1 , 8 _二氮雜雙環〔5.4 · 0〕- 7 -十一 烯、1，5 -二氮雜雙環〔4.3 · 〇〕- 5 _壬烷等之鹼（鹼性化合物 )之水溶液。又上述鹼水溶液中添加適量之甲醇、乙醇等 之水溶性有機溶劑或界面活性劑之水溶液，或溶解本發明 之組成物之各種有機溶劑可作爲顯影液使用。顯影方法可 使用攪拌法、浸漬法、搖動浸漬法、噴灑法等之適當方法 。此時之顯影時間係因組成物之組成而異，通常爲3 0〜 1 2 0 秒。 以往之敏輻射線性樹脂組成物，當顯影時間超過最適 當顯影時間20〜25秒時，所形成之圖案會產生剝離，因 此必須嚴密控管顯影時間，但是本發明之敏輻射線性樹脂 組成物’即使超過最適當顯影時間3 0秒以上，也可形成 良好圖案，具有提高良率的優點。 (4 )加熱步驟 如上述實施之（3 )顯影步驟後，對於形成圖案後之 薄膜，理想爲進行例如利用流水清洗之清洗處理，更理想 -72- 200903154 爲全面照射（後曝光）高壓水銀燈等之輻射線 薄膜中殘留之1,2 -萘醌二疊氮化合物進行分解 薄膜利用加熱板、烘箱等加熱裝置對此薄膜實 (後烘烤處理），對該薄膜進行硬化處理。上 驟之曝光量理想爲2,0 0 0〜5，0 0 0 J/m2。此硬化 溫度，例如120〜25 0°C。加熱時間係因加熱機 異，例如在熱板上進行加熱處理時，加熱時間: 鐘，在烘箱進行加熱處理時，加熱時間爲3 0 -此時可使用2次以上之加熱步驟之階段烘烤法; 如此可在基板表面上形成與目的之層間絕 鏡對應之圖案狀薄膜。 上述形成之層間絕緣膜及微透鏡由下述之 爲密著性、耐熱性、耐溶劑性及透明性等優異: 層間絕緣膜 如上述形成之本發明之層間絕緣膜對基板 好，且耐溶劑性及耐熱性優異，具有高穿透率 ，適用於電子零件之層間絕緣膜。 微透鏡 如上述形成之本發明之微透鏡對基板之密 且耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率及良 狀，適用於固體攝影元件之微透鏡。 本發明之微透鏡的形狀如圖1 ( a )所示， ，對於各該 處理後，此 施加熱處理 述後曝光步 處理之燒結 器之種類而 爵5〜3 0分 -9 0分鐘。 拳。 緣膜或微透 實施例得知 之密著性良 ，低介電率 著性良好， 好之熔融形 爲半凸透鏡 -73 - 200903154 形狀。 本發明之敏輻射線性樹脂組成物係具高輻射線感度， 具有在顯影步驟中即使超過最佳顯影時間，也可形成良好 的圖案形狀之顯影安全係數，且容易形成密著性優異之圖 案狀薄膜。 由上述組成物所形成之本發明之層間絕緣膜時係對基 板之密著性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率 ’低介電率者，適用於電子零件之層間絕緣膜。 由上述組成物所形成之本發明之微透鏡係對基板之密著性 良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高透過率與良好之熔 融形狀者，適用於固體攝影元件之微透鏡。 【實施方式】 〔實施例〕 以下以合成例、實施例更具體說明本發明，本發明不 限於此以下之實施例。 共聚物〔A〕之合成例 合成例1 將2,2’-偶氮雙（2，4-二甲基戊腈）7重量份、二甘醇 乙基甲醚200重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。 接著添加甲基丙烯酸16重量份、甲基丙烯酸三環〔 5.2.1.02,6〕癸烷-8-基酯16重量份、2-甲基環己基丙烯酸 酯20重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、苯乙烯 -74- 200903154 10重量份及α-甲基苯乙烯二聚物3重量份，進行氮取代 後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至7 0 °C，保持此溫 度4小時，得到含共聚物[A-1 ]的聚合物溶液。 聚合物之重量平均分子量爲8,000，分子量分布（重 量平均分子量/數量平均分子量之比）爲2.3。所得之聚合 物溶液的固形份濃度爲34.4重量％。 重量平均分子量及數量平均分子量係使用GPC (凝膠 滲透色層分析法）（東曹（股）製HLC-8020 )所測定的 聚苯乙烯換算平均分子量。 合成例2 將2,2’-偶氮雙（2,4-二甲基戊腈）8重量份及二甘醇 乙基甲醚22〇重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。 接著添加甲基丙烯酸11重量份、四氫糠基甲基丙烯酸酯 12重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、N -環己基 馬來醯亞胺1 5重量份、月桂基甲基丙烯酸酯丨〇重量份、 α-甲基-P-羥基苯乙烯1〇重量份及α-甲基苯乙烯二聚物3 重量份’進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上 升至7〇°C，保持此溫度5小時，得到含共聚物[Α_2]的聚 合物溶液。 聚合物之重量平均分子量爲8,000，分子量分布（重 量平均分子量/數量平均分子量之比）爲2.3。所得之聚合 物溶液的固形份濃度爲3 1 . 9重量％。 -75- 200903154 合成例3 將2,2，-偶氮雙（2,4-二甲基戊腈）8重量份及二甘醇 乙基甲酸220重量份投入具備冷卻管、擾样之燒瓶中。 接著添加苯乙烯10重量份 '甲基丙烯酸20重量份、甲基 丙烯酸縮水甘油酯40重量份、（3-乙基氧環丁烷-3-基） 甲基丙烯酸酯10重量份及甲基丙烯酸三環〔5.2.1.02’6〕 癸烷-8-基酯20重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。 將溶液之溫度上升至7 0 °C，保持此溫度5小時，得到含共 聚物[A-3]的聚合物溶液。 聚合物之重量平均分子量爲7,900，分子量分布（重 量平均分子量/數量平均分子量之比）爲2.4。所得之聚合 物溶液的固形份濃度爲3 1 .6重量％。 合成例4 將2,2’-偶氮雙（2,4-二甲基戊腈）8重量份及二甘醇 乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。 接著添加苯乙烯5重量份、甲基丙烯酸16重量份、甲基 丙烯酸縮水甘油酯4 0重量份及N - ( 4 -羥基苯基）甲基丙 烯醯胺1 0重量份’進行氮取代後，添加丨，3 _ 丁二烯5重 量份’開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至7 0 〇C ,保持此 溫度5小時，得到含共聚物[a -4 ]的聚合物溶液。 聚合物之重量平均分子量爲7,900，分子量分布（重 量平均分子量/數量平均分子量之比）爲2.4。所得之聚合 物溶液的固形份濃度爲3 1 _ 5重量％。 -76- 200903154 合成例5 將2,2’-偶氮雙（2,4 -二甲基戊腈）7重量份、丙二醇 單甲醚乙酸酯220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶 中。接著添加甲基丙烯酸22重量份、甲基丙烯酸縮水甘 油酯40重量份、二環戊基甲基丙烯酸酯28重量份' 3_乙 基-3-甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷1〇重量份、α_甲基苯 乙烯二聚物3重量份’進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將 溶液之溫度上升至7 0 Τ： ’保持此溫度4小時，得到含共聚 物[A - 5 ]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度 爲31.8重量％ ’聚合物之重量平均分子量爲〗7,9〇〇，分子 量分布（重量平均分子量/數量平均分子量之比）爲1.8。 合成例6 2,2 -偶氮雙（2,4 - 一甲基戊膳）7重量份、二甘醇 乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。 接著添加苯乙烯5重量份、甲基丙烯酸22重量份、甲基 丙烯酸縮水甘油酯40重量份、3-乙基-3-甲基丙烧醯氧基 甲基氧環丁院5重量份、二環戊基甲基丙稀酸醋28重量 份，進行熟取代後’開始緩慢攪泮。將溶液之溫度上升至 7 0 C ’保此iim度4小時’得到含共聚物[a - 6 ]的聚合物溶 液。所得之聚合物溶液的固形份濃度爲3 1 . 9重量％，聚合 物之重量平均分子量爲20,200，分子量分布（重量平均分 子量/數量平均分子量之比）爲1.9。 -77- 200903154 合成例7 將 2,2，-偶氮雙 7 乙基甲醚200重量份投入具備冷卻管、攪伴器之燒瓶中。 接著添加甲基丙㈣12重量份、31己基馬來醯亞月安12重 量份、α-甲基_p_羥基苯乙烯9重量份、甲基丙烯酸縮水甘 油酯50重量份、3-乙基-3-甲基丙燦酿氧基甲基氧環丁院 1〇重量份、四氫糠基甲基丙烯酸酯7重量(分、心甲基苯乙 烯二聚物3重量份，進行氮取代後’開始緩慢攪拌。將溶 液之溫度上升至7 〇 °C，保持此溫度5小時’得到含共聚物 [A - 7 ]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃度爲 32.7重量％，聚合物之重量平均分子量爲21，500 ’分子量 分布（重量平均分子量/數量平均分子量之比）爲2.2° 合成例8 將2，2，-偶氮雙（2，4 -二甲基戊腈）8重量份、二甘醇 乙基甲醚2 20重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。 接著添加苯乙烯20重量份、甲基丙烯酸30重量份、3 -乙 基-3-甲基丙烯醯氧基甲基氧環丁烷20重量份、甲基丙嫌 酸縮水甘油酯3 0重量份、α-甲基苯乙烯二聚物4.0重量份 ，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將溶液之溫度上升至 70Τ：，保持此溫度5小時，得到含共聚物[Α-8]的聚合物溶 液。所得之聚合物溶液的固形份濃度爲3 1 _ 〇重量’聚合 物之重量平均分子量爲〗9,000’分子量分布（重量平均分 -78- 200903154 子量/數量平均分子量之比）爲1·7。 比較合成例1 將2,2，-偶氮雙（2,4-二甲基戊腈）7重量份、二甘醇 甲基乙醚22 0重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。 接著添加甲基丙烯酸23重量份、二環戊基甲基丙烯酸醋 4 7重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯2 0重量份、α -甲基苯 乙烯二聚物2.0重量份，進行氮取代後’開始緩慢攪拌。 將溶液之溫度上升至7 0 °C，保持此溫度5小時’得到含共 聚物[A -1 R]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃 度爲32.8重量。/。，聚合物之重量平均分子量爲24,000，分 子量分布（重量平均分子量/數量平均分子量之比）爲2.3 比較合成例2 將2，2’-偶氮雙（2，4-二甲基戊腈）7重量份、二甘醇 甲基乙醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器之燒瓶中。 接著添加甲基丙烯酸25重量份、二環戊基甲基丙烯酸酯 35重量份、2-羥乙基甲基丙烯酸酯40重量份、α-甲基苯 乙烯二聚物2.0重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。 將溶液之溫度上升至70°C，保持此溫度5小時，得到含共 聚物[A-2R]的聚合物溶液。所得之聚合物溶液的固形份濃 度爲32.8重量％，聚合物之重量平均分子量爲25,000，分 子量分布（重量平均分子量/數量平均分子量之比）爲2.4 -79- 200903154 矽氧烷低聚物〔c〕之合成例 合成例1 將苯基三甲氧基矽烷39.6g、 （3-乙基氧環丁烷-3-基 )丙基三乙氧基矽烷64_0g投入500mL之三口燒瓶中，接 著添加甲基異丁酮1 00g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪 拌子攪拌’加熱至6 0 °c。以1小時連續添加含有1重量％ 之草酸之8.6 g的離子交換水於上述混合溶液中。以6 0 °C 反應4小時後，所得之反應液冷卻至室溫。其後，將反應 副產物之醇份由反應液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔C-1 〕之重量平均分子量爲1，600。 合成例2 將二甲氧基矽烷48.8g、2- (3，4-環氧基環己基）乙基 三甲氧基矽烷49.2g投入500mL之三口燒瓶中，接著添加 丙二醇甲醚乙酸酯1 00g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪 拌子攪拌，加熱至6 0 °C。以1小時連續添加含有1重量％ 之草酸之8.6g的離子交換水於上述混合溶液中。以60°C 反應4小時後，所得之反應液冷卻至室溫。其後，將反應 副產物之醇份由反應液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔C-2 〕之重量平均分子量爲2,000。 合成例3 -80- 200903154 將四甲氧基矽烷30.4g、3 -環氧丙基丙基三甲氧基矽 烷47.2g投入500mL之三口燒瓶中，接著添加丙二醇甲醚 1 〇〇g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪拌子攪拌’加熱至 6 0T：。以1小時連續添加含有1重量％之草酸之8.6g的離 子交換水於上述混合溶液中。以60 °C反應4小時後’所得 之反應液冷卻至室溫。其後，將反應副產物之醇份由反應 液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔C-3〕之重量平均分子量 爲 1,400。 合成例4 將甲基三甲氧基矽烷27.2g、3 -氫硫基三甲氧基砂院 39.2g投入5〇〇mL之三口燒瓶中’接著添加丙一醇甲醚 1 〇〇g，經溶解所得之混合溶液以磁鐵攪拌子擾伴’加熱至 6 0。(：。以1小時連續添加含有1重量％之草酸之8.6 g的離 子交換水於上述混合溶液中。以60 °C反應4小時後’所得 之反應液冷卻至室溫。其後’將反應副產物之醇份由反應 液中減壓蒸餾除去。此聚合物〔c-4〕之重量平均分子量 爲 1，900。 實施例1 〔敏輻射線性樹脂組成物之製備〕 將含有上述合成例1合成之〔A〕成分之聚合物[A-1] 的溶液以相當於共聚物〔A -1〕1 0 0重量份的里（固形份 )與[B]成分之4,4，-[卜（4-(卜[4-羥苯基]_卜甲基乙基） -81 - 200903154 苯基）次乙基]雙酚（ι_〇莫耳）與丨，2_萘醌二疊氮_5_磺酸 氯（2.0莫耳）之縮合物（B-1) 30重量份及聚合物[c_1]3 重量份（固形份）予以混合，溶解於一甘知乙基甲醜’使 固形份濃度成爲30重量％後，以孔徑〇.2μΐΏ之薄膜過據器 過濾，製備敏輻射線性樹脂組成物之溶液（S_ 1 ) ° 實施例2〜16、比較例1 〔敏輻射線性樹脂組成物之製備〕 除了將實施例1中之〔A〕成分及〔B〕成分使用表1 所示之種類、量外，其餘與實施例1相同製備組成物溶液 (S-2)〜（S-16)及（s-1)。 實施例2、6、10、14中，〔B〕成分之記載係表示分 別倂用2種之1,2 -萘醌二疊氮化合物。 實施例1 7 實施例Ϊ中，溶解於二甘醇乙基甲醚/丙二醇單甲醚 乙酸酯=6/4，使固形份濃度成爲2〇重量％及添加（F )外 ’與實施例1相同製備組成物，製備敏輻射線性樹脂組成 物之溶液（S -1 7 )。 表1中，成分之簡稱係表示下述之化合物。 (B-l) : 4,4’-[1- ( 4_ ( 羥苯基]_!-甲基乙基） 苯基）次乙基]雙酚（1.0莫耳）與丨，2_萘醌二疊氮-5_磺酸 氯（2.0吴耳）之縮合物 (B-2) : 4,4’-[1_ ( 4·(卜卜-羥苯基卜卜甲基乙基） -82- 200903154 苯基）次 氯（1.0 ] (B. 1，2 -萘醌 (F : 乙基]雙酚（1 ·〇莫耳）與I，2-萘醌二疊氮-5-磺酸 I耳）之縮合物 3) : 2,3,4,4’ -四羥基二苯甲酮（1.0莫耳）與 二疊氮-5-磺酸酯（2.44莫耳） SH-28PA (東麗 Dowcornig Silicone (股）製） -83- 200903154 其他成分 重量份 1 1 1 1 I I 1 1 1 1 1 i 1 1 1 1 1 L 種類 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 E遯 减1给 祕域] 暮 祕fr 酹ni rA « c成分 重量份 m m m m cn cn m cn m m m m 種類 1—4 ύ C-2 r〇 ΰ 0 ί—Η ΰ C-2 m 1 U C-4 ύ C-2 cn 0 C-4 r-H ό C-2 ro ό 丨——I 1 u 1 B成分 ;重量份 ο 20/10 O m 10/10 1 CN o (N 1 lo/io | (N 10/10 in <N 種類 丨 B-l 1 B-l/B-2 1 B-3 1 1—Η ώ 1 Β-1 1 B-l/B-2 1 B-3 | 1 b-ι 1 1 N ώ B-l/B-2 1 B-3 1 ώ 1 B-l I B-l/B-2 1 B-3 1 B-l 1 b-ι 1 Η m 共聚物A 重量份 ο 〇 o ο ο Ο Ο 100 100 O o 100 〇 O o o 100 100 o r-H o T—^ ο Η 種類 ____ _^__ -A-l 1 Α-1 Γ Α-2 1 Α-2 I 1 A-2 1 1 A-2 ] 1 Α-3Π 1 A-3 1 A-3 1 A-3 I A-4 | ! A-4 1 A-4 1 1 A-4 Π Γ A-l Α-1 組成物種 1_ 1 (S-D 1 (S-2) | 1 (S-3) | 1 (S-4) I 1 (S-5) Ί 1 (S-6) 1 1 (S-7) | 1 (S-8) 1 1 (S-9) | 1 (S-10) 1 | (s-11) | 1 (S-12) 1 1 (S-13) 1 (S-14) I (s-i5) ! 1 (S-16) I | (S-17)n ι 1 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 1實施例6 1 實施例7 I實施例8 1 「實施例9 1 實施例l〇 「實施例ii 1 實施例12 |實施例13 1 實施例14 實施例15 實施例16 實施例π 比較例1 -84- 200903154 實施例1 8〜3 4、比較例2 <層間絕緣膜之性能評價> 使用上述製備之敏輻射線性樹脂組成物，如下述評價 層間絕緣膜之各種特性。 〔感度之評價〕 實施例1 8〜3 3、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所不 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以9 0。(：進行2分 鐘預烘烤，形成膜厚3 · 0 μηι之塗膜。對於實施例3 4使用 狹縫模具式塗佈機塗佈’以〇. 5 Torr進行真空乾燥後，在 加熱板上以9(TC進行2分鐘預烘烤，形成膜厚3.〇μιη之塗 膜。對於製得之塗膜經由具有所定圖案之圖案光罩以 Canon (股）製PLA_5〇lF曝光機（超高壓水銀燈），改變 曝光時間進行曝光後’以表2之濃度之四甲基氫氧化銨水 溶液，以2 5 °C使用〇 . 4 %之濃度的顯影液時，進行8 0秒鐘 ，使用2 _ 3 8 %之濃度的顯影液時，進行5 0秒之盛液法顯 影。然後使用超純水以流水清洗1分鐘，經乾燥後，在晶 圓上形成圖案。爲了使3.0 Mm之線與空間（1 〇 : 1 )之空 間圖案完全溶解，而測定必要之曝光量。此數値爲感度， 如表2所示。此數値爲1，0 0 〇 J/m2以下時，表示感度良好 〔顯影安全係數之評價〕 實施例1 8〜3 3、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所示 -85- 200903154 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以9 0 °C進行2分 鐘預烘烤，形成3 _ Ο μηι之塗膜。對於實施例3 4使用狹縫 模具式塗佈機塗佈，以0.5 Τ 〇 rr進行真空乾燥後，在加熱 板上以90°C進行2分鐘預烘烤，形成膜厚3.0μπι之塗膜。 對於製得之塗膜經由具有3.0 μηι之線與空間（line and space ) ( 10 : 1 )之圖案之光罩，使用 Canon (股）製 PLA-5 01F曝光機（超高壓水銀燈），以相當於上述〔感 度之評價〕所測定之感度値之曝光量進行曝光，在以表2 之濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，在2 5 °C下，改變顯影時 間，進行盛液法顯影。然後使用超純水進行1分鐘之流水 清洗，經乾燥後，在晶圚上形成圖案。此時爲了使線寬幅 成爲3 · 0 μιη所需之顯影時間爲最佳顯影時間，如表2所示 。測定由最佳顯影時間再繼續顯影時，3 . 0 μηι之線圖案產 生剝離爲止的時間，顯影安全係數如表2所示。此數値爲 3 0秒以上時，表示顯影安全係數佳。 〔耐溶劑性之評價〕
實施例1 8〜3 3、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所示 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90°C進行2分 鐘預烘烤，形成塗膜。對於實施例3 4使用狹縫模具式塗 佈機塗佈，以0.5T〇rr進行真空乾燥後，在加熱板上以 9 0°C進行2分鐘預烘烤，形成塗膜。對於製得之塗膜使用 Canon (股）製PLA-501F曝光機（超高壓水銀燈）進行曝 光使累積曝光量成爲3,0 00J/m2，在潔淨烘箱內，以220°C -86- 200903154 加熱此矽基板1小時，得到3.0 μπι的硬化膜。測定製得之 硬化膜之膜厚（Τ 1 )。將形成此硬化膜之矽基板浸漬於溫 度控制在7 0 °C之二甲基亞中2 0分鐘後，測定各該硬化 膜之膜厚（ti)，計算由浸漬所產生之膜厚變化率{1^-T1 |/T1 }xl00〔 ％〕。結果如表2所示。此數値爲5%以下 時，表示耐溶劑性良好。 耐溶劑性之評價係形成之膜不需要形成圖案化’因此 省略輻射線照射步驟及顯影步驟，僅以塗膜形成步驟、後 烘烤步驟及加熱步驟進行評價。 〔耐熱性之評價〕 與上述耐溶劑性之評價相同形成硬化膜，測定製得之 硬化膜之膜厚（T2 )。將此硬化膜基板在潔淨烘箱內以 240 °C追加烘烤1小時後，測定各該硬化膜之膜厚（t2 ) ’ 計算追加烘烤所產生之膜厚變化率{|t2-T2|/T2}xl00〔 ％〕 。結果如表2所示。此數値爲5%以下時，表示耐熱性良 好。 〔硬化膜密著性之評價〕 與上述耐溶劑性之評價相同形成硬化膜，將預先塗佈 環氧樹脂之具有直徑0.27cm之圓形接著面之鋁製柱螺栓 銷（stud pin ) ( QUAD公司製）對於基板時，栓銷成垂 直狀接著於硬化膜上，在潔淨烘箱內以1 5 0 °C烘烤1小時 ，使環氧樹脂硬化。然後，使用拉伸試驗機「Motorized -87- 200903154
Stand SDMS-0201-100SL (股）今田製作所製」拉伸柱螺 栓銷，測定基板與硬化膜剝離時的力量。此時力的數値如 表2所示。此數値爲1 5 0N以上時，表示對基板之密著性 良好。 〔透明性之評價〕 除了使用玻璃基板「Corning 7059 ( Corning公司）製 造」取代上述耐溶劑性之評價中之矽基板外，其餘同樣在 玻璃基板上形成硬化膜。使用分光光度計「1 50-20型 double beam (日立製作所製）」以400〜800nm之範圍之 波長測定具有此硬化膜之玻璃基板之光線透過率。此時之 最低透過率値如表2所示。此數値爲9 0 %以上時，表示透 明性良好。 〔比介電率之評價〕 實施例1 8〜3 4、比較例2使用旋轉塗佈機將表2所示 之組成物塗佈於硏磨後之S U S 3 04製基板上後，在加熱板 上以90 °C進行2分鐘預烘烤，形成3.0 μιη之塗膜。對於實 施例3 5使用狹縫模具式塗佈機塗佈，以〇 . 5 Torr進行真空 乾燥後，在加熱板上以9 Ot進行2分鐘預烘烤，形成膜厚 3.0μιη之塗膜。對於製得之塗膜使用Canon (股）製PLA-5〇lF曝光機（超高壓水銀燈）進行曝光使累積曝光量成 爲3,〇〇〇J/m2，在潔淨烘箱內，以220 °C燒結此基板1小時 ’得到硬化膜。對此硬化膜藉由蒸鍍法形成Pt/Pd電極圖 -88- 200903154 案，作成介電率測定用試片。以頻率1 0kHz之頻率使用橫 河 *Huletpakad (股）製 HP16451B 電極及 HP4284A 軸承 LCR測定計，藉由CV法測定該基板之比介電率。結果如 表2所示。此數値爲3.9以下時，表示介電率良好。 介電率之評價中，形成之膜不需要形成圖案化，因此 省略輻射線照射步驟及顯影步驟，僅以塗膜形成步驟、後 烘烤步驟及加熱步驟進行評價。 表2 組成 物種 感度評價 顯影安全係數 顯影液濃度(wt%) 感度(J/cm2) 最佳顯影時間(秒) 顯影安全係數(秒） 實施例18 (S-1) 0.4 650 80 50 實施例19 (S-2) 0.4 600 80 55 實施例20 (S-3) 0.4 600 80 60 實施例21 (S-4) 0.4 600 80 45 實施例22 (S-5) 2.38 600 50 40 實施例23 (S-6) 2.38 550 50 45 實施例24 (S-7) 2.38 550 50 50 實施例25 (S-8) 2.38 550 50 40 實施例26 (S-9) 0.4 600 80 45 實施例27 (S-10) 0.4 550 80 50 實施例28 (S-11) 0.4 550 80 45 實施例29 (S-12) 0.4 600 80 45 實施例30 (S-13) 2.38 650 50 50 實施例31 (S-14) 2.38 600 50 55 實施例32 (S-15) 2.38 600 50 55 實施例33 (S-16) 2.38 650 50 45 實施例34 (S-17) 0.4 650 80 50 比較例2 (s-1) 0.4 700 80 30 -89- 200903154 表2(續
實施例3 5〜5 0、比較例3 <微透鏡之性能評價> 使用上述製備之敏輻射線性樹脂組成物，如下述評價 微透鏡之各種特性。耐熱性之評價、透明性之評價及密著 性之評價可參照上述層間絕緣膜之性能評價的結果。 〔感度之評價〕 實施例3 5〜5 0、比較例3使用旋轉塗佈機將表3所示 -90- 200903154 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以9 0 °C進行2分 鐘預烘烤，形成2·0μπι之塗膜。對於製得之塗膜經由具有 所定圖案之圖案光罩以NIKON (股）製NSR1755i7A縮小 投影曝光機（N A = 0 · 5 0，λ = 3 6 5 n m )，改變曝光時間進行 曝光，使用表3之濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，以25 °C 、進行1分鐘之盛液顯影。然後以水清洗乾燥，在晶圓上 形成圖案。測定〇 . 8 μηι之線與空間圖案（1 : 1 )之空間線 寬成爲0 · 8 μ m所需要之曝光時間。此數値爲感度，如表3 所示。此數値爲2,00(U/m2以下時，表示感度良好。 〔顯影安全係數之評價〕 實施例3 5〜5 0、比較例3使用旋轉塗佈機將表3所示 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以90 °C進行2分 鐘預烘烤’形成2.0 μηι之塗膜。對於製得之塗膜經由具有 所定圖案之圖案光罩以NIKON (股）製NSR1755i7A縮小 投影曝光機（ΝΑ = 0.50，λ = 365ηη〇 ，以相當於上述「〔 感度之評價〕」所測定之感度値的曝光量進行曝光，在以 表3之濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，以2 5乞進行丨分鐘 之盛液顯影。然後以水進行1分鐘之水清洗，使之乾燥， 在晶圓上形成圖案。測定0.8 μιη之線空間圖案（1 : 1 )之 間線寬成爲0 _ 8 μ m所需要之顯影時間爲最佳顯影時間， 如表3所示。測定由最佳顯影時間後，再繼續顯影時， 0.8μηι之圖案產生剝離爲止的時間（顯影安全係數），顯 影安全係數如表3所示。此數値爲3 0秒以上時，表示顯 -91 - 200903154 影安全係數佳。。 〔微透鏡之形成〕 實施例3 5〜5 0、比較例3使用旋轉塗佈機將表3所示 之組成物塗佈於矽基板上後，在加熱板上以9 0 °C進行2分 鐘預烘烤，形成2.0 μηι之塗膜。對於製得之塗膜經由具有 4_0μιη點·2.0μιη空間圖案之圖案光罩，以NIKON (股）製 NSR1 7 5 5 i7A 縮小投影曝光機（ΝΑ = 0_50，λ = 365ηπ〇 ，以 相當於上述「〔感度之評價〕」所測定之感度値之曝光量 進行曝光，使用表3之感度之評價之顯影液濃度之四甲基 氫氧化銨水溶液，以25t、進行1分鐘之盛液顯影。然後 用水清洗，經乾燥在晶圓上形成圖案。然後使用Canon ( 股）製PLA-501F曝光機（超高壓水銀燈）進行曝光使累 積曝光量成爲3,000J/m2。然後再使用加熱板以160°C加熱 1 〇分鐘後，再以2 3 0 °C加熱1 0分鐘，使圖案熔融，形成 微透鏡。 形成之微透鏡之底部（接觸基板的面）之尺寸（直徑 )及斷面形狀如表3所示。微透鏡之底部之尺寸超過 4.0μιη，且未達 5.0μιη時，表示良好。此尺寸超過 5.0μηι 時，相鄰之透鏡爲彼此接觸的狀態，不理想。斷面形狀如 圖1所示之模式圖中，如（a )之半凸透鏡形狀時，表示 良好，又如（b )之略台形狀時表示不佳。 -92- 200903154
微透鏡形狀底 g g g S g g S s 部之尺寸(mm) 寸 — m — (N — 寸· 寸· 寸 m ^J- 1—^ (N 寸· 寸 寸· cn — (Ν 寸· l〇 (N — 寸· — 顯影安全係數 顯影安全係數(秒） 〇 m ίΓϊ ΓΛ o ο m o ο m κη m (Τ) m 〇 ο 最佳顯影時間(秒) § § g § g § § § ο ι—Η CN r*^ Η ^-H ο Ο ί—Η »-Η ο r—Η Ο 1—^ ο i Η 1 ( (N r—H r—Μ o ί—H m[ 鳐 & /—N 鏺 姻 靡 Ο 寸· Ο o 寸 ο 〇〇 m 00 m 00 m 00 m 寸 ο 寸 Ο 寸 ο 寸 ο ΟΟ m 00 m 00 m 00 m 寸 o 擦 N>\ im /1v7 Omi1 tS W cn (η οο /—V Ο /—Ν r? 1—^ ?'·Ή rJN 1 1 < (n /—N Ό /—N ^-H 巴 巴 巴 I 1 1 1 1 1 m m m 00 m Os m o IT—Η OJ cn m m 匡 m m m Μ 習 辑 辑 m 習 習 辑 辑 辑 辑 蜀 辑 辑 辑 辑 鎰 IK IK 卹 1¾ |i( IK W |ι； IK IK IK * 1皿; IK j_j J-X -93- 200903154 實施例5 1 〔敏輻射線性樹脂組成物之製備〕 將含有上述合成例5合成之〔A-5〕之聚合物溶液（ 相當於共聚物〔A-5〕100重量份（固形份）與[B]成分之 4,4’-[l- ( 4- ( 1-[4 -羥苯基]-1-甲基乙基）苯基）次乙基] 雙酚（1莫耳）與1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸氯（2莫耳）之 縮合物（4,4，-[l- ( 4- ( 1-[4 -羥苯基]-1-甲基乙基）苯基） 次乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯）20重量份、四〔 (3 -乙基氧雜環基烷-3-基）甲基〕矽酸酯之縮合物2重量 份及γ -甲基丙稀氧基丙基三甲氧基矽院5重量份予以混合 ，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成爲3 0重 量％後，以孔徑0.5μηι之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線 性樹脂組成物之溶液（S - 5 1 )。 層間絕緣膜之評價 (I )圖案狀薄膜之形成 使用旋轉器在玻璃基板上塗佈上述組成物溶液（S - 5 1 )後，以80°C在加熱板上預烘烤3分鐘，形成塗膜。 然後’使用所定圖案光罩，對於製得之塗膜照射波長 3 65nm之強度爲l〇mw/Cm2的紫外線15秒。其次，藉由 0.5重量％氫氧化四甲銨物水溶液，在2 5。(：下顯影1分鐘 後’以純水洗淨1分鐘，藉此除去不需要的部份。 對於上述形成的圖案照射波長3 6 5nm之強度爲 1 OmW/cm2的紫外線3 0秒後’在烤箱中以220 °C加熱60分 -94- 200903154 鐘，製得膜厚3μιη之圖案狀薄§吴。 另外，除了預烘烤溫度爲9〇t：、l〇〇°C外，與 同操作，形成預烘烤溫度不同之3種圖案狀薄膜。 (11 )解像度之評價 上述（I)所得之圖案狀薄膜中，擷取 5 μ m X 5 μ m孔）可解像時評價爲「〇」，無法解像時 「X」。結果如表4所示。 (III)耐熱尺寸安定性之評價 上述（I )中，將預烘烤溫度8 0 °C所形成的薄 於烤箱中以2 2 0 °C加熱6 0分鐘。加熱前後之膜厚之 如表5所示。此時之尺寸變化率在加熱前後，在 時，耐熱尺寸安定性良好’尺寸變化率超過5 %時 不良。 (IV )透明性之評價 上述（I )中，將預烘烤溫度8 0 °c所形成的圖 膜之4〇Onm之透過率使用分光光度計（150-20型 (股）日立製作所製）測定，進行透明性之評價。 表5所示。此時透過率爲9 0 %以上時，表示透過性 未達90%時，表示透過性不良。 (V )耐熱變色性之評價 上述相 圖案（ :評價爲 膜圖案 變化率 5 %以內 ，表示 案狀薄 雙光束 結果如 良好， -95- 200903154 將上述（I )中具有預烘烤溫度8 0 °C所形成之圖案狀 薄膜之基板，藉由在2 5 0 之烤箱中加熱1小時’加熱前 後之圖案狀薄膜之透過率之變化’評價耐熱變色性。此時 結果如表5所示。變化率未達5 %時’表示耐熱變色性良 好，超過5%時’表示不良。又’透過率係與（IV)透明 性之評價相同。 (VI )密著性之評價 將上述（I )中具有預烘烤溫度80°C所形成之圖案狀 薄膜之密著性藉由壓力鍋試驗（120°C '濕度100%、4小 時）後之棋盤格子剝離試驗來評價。此時結果如表5所示 。評價結果係以1 〇 〇個棋盤格子中，殘留的棋盤格數來表 示。 (V 11 )保存安定性之評價 將上述組成物溶液在40 °c之烤箱中加熱1週，藉由加 熱前後之黏度變化評價保存安定性。此時之黏度變化率如 表4所示。變化率未達5 %時，表示保存安定性良好，超 過5 %時，表示保存安定性不良。 微透鏡之評價 (I)微透鏡之形成 使用旋轉塗佈機於6英寸矽基板上塗佈上述組成物溶 液（S-51 ) ’形成2·5μιη的膜厚，以”。(^在加熱板上預烘 -96- 200903154 烤3分鐘，形成塗膜。 然後，使用所定圖案光罩，對於製得之塗膜照射 43 6nm之強度爲1 〇mw/cm2的紫外線。其次，藉由2 3 8重 量°/。氫氧化四甲銨物水溶液，在2 5 t下顯影1分鐘後，以 純水洗淨1分鐘’藉此除去不需要的部份，形成圖案。 對於上述形成的圖案照射436nm之強度爲l〇mW/cm2 的紫外線2 0 0 m J / c m2後，以1 6 0 °C加熱1 〇分鐘後，再以 23 0°C加熱10分鐘，使圖案熔融，形成微透鏡。 (II )感度之評價 上述（I )所得之熔融後之微透鏡圖案之0.8 μιη線與 空間圖案（1 〇比Ο之空間線寬可解像之最低照射量如表 6所示。此値爲1 〇 〇 m ]/ c m2以下時，表示解像度良好，感 度超過100mJ/cm2時，表示解像度不良。 (III)透明性之評價 與上述（I )相同，在玻璃基板上形成圖案狀薄膜。 對於形成熔融後之微透鏡圖案之玻璃基板’其4 〇 〇 n m 之透過率使用分光光度計（150_20型雙光束（股）日立製 作所製）測定’進行透明性之評價。此時40 〇nm之透過率 如表6所示。透過率爲90〜1〇〇 %時’表示透過率良好， 未達90%時，表示透過率不良。 (IV)耐熱透明性之評價 -97- 200903154 將具有上述（ΙΠ )中所形成之圖案狀薄膜之玻璃基板 ，藉由在2 5 0 °C之烤箱中加熱1小時，加熱前後之圖案狀 薄膜之透過率之變化’評價耐熱透明性。此時透過率之變 化率如表6所示。變化率未達5 %時’表示耐熱透明性良 好，超過5 %時’表示不良。又，透過率係與（III)透明 性之評價相同。 (V)密著性之評價 將上述（1 )中所形成之圖案狀薄膜之密著性藉由壓 力鍋試驗（1 20 °C、濕度100% ' 4小時）後之棋盤格子剝 離試驗來評價。此時結果如表6所示。評價結果係以1 00 個棋盤格子中，殘留的棋盤格數來表示。 (VI )耐溶劑性之評價 將具有與上述（III )同樣形成之圖案狀薄膜之玻璃基 板浸漬於溫度5 0 °C之異丙醇中1 〇分鐘’評價膜厚變化。 此時之變化率如表6所示。變化率爲0〜5 %時，表示耐溶 劑性良好，超過5 %時’表示耐溶劑性不良。 實施例52 將含有合成例6所得之共聚物〔A - 6〕之聚合物溶液 (相當於共聚物〔A-6〕100重量份（固形份）與[b]成分 之4,4，-[l - ( 4- ( 1-[4 -羥苯基]-1-甲基乙基）苯基）次乙 基]雙酚（1莫耳）與丨，2·萘醌二疊氮-5-磺酸氯（2莫耳） -98- 200903154 之縮合物（4,4’-[l - (4- ( l-[4 -羥苯基]-1-甲基乙基）苯基 )次乙基]雙酚-1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯）20重量份、四 〔（3-乙基氧雜環基烷-3-基）甲基〕矽酸醋之縮合物2重 量份及γ -甲基丙儲氧基丙基三甲氧基砂院5重里份予以卞比 合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯’使固形份濃度成爲31 重量％後，以孔徑0.5 μ m之微孔過濾器過濾’製備敏輻射 線性樹脂組成物之溶液（S - 5 2 )。結果如表4〜6所示。 實施例5 3 將含有合成例7所得之共聚物〔A-7〕之聚合物溶液 (相當於共聚物〔A-7〕100重量份（固形份）與[B]成分 之4,4’-[l - ( 4- ( 1-[4-羥苯基]-1-甲基乙基）苯基）次乙 基]雙酚（1莫耳）與1,2 -萘醌二疊氮-5-磺酸氯（2莫耳） 之縮合物（4,4’-[l - ( 4- ( 1-[4 -羥苯基]-1-甲基乙基）苯基 )次乙基]雙酚-1，2 -萘醌二疊氮-5 -磺酸酯）1 8重量份 '四 〔（3-乙基氧雜環基烷-3-基）甲基〕矽酸酯之縮合物2重 量份及γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混 合’溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成爲3〇 重量％後’以孔徑〇 . 5 μπι之微孔過濾器過濾，製備敏輻射 線性樹脂組成物之溶液（S-S3 )。結果如表4〜6所示。 實施例5 4 將含有合成例8所得之共聚物〔α_8〕之聚合物溶液 (相當於共聚物〔Α-8〕100重量份（固形份）與[β]成分 -99- 200903154 之4,4，-[l- ( 4- ( l-[4-羥苯基]-1-甲基乙基）苯基 基]雙酚（1莫耳）與1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸氯（2 之縮合物（4,4，-[l - ( 4- ( 1-[4-羥苯基]-1-甲基乙基 )次乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯）30重量 〔（3 -乙基氧雜環基烷-3-基）甲基〕矽酸酯之縮合 量份及γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份 合，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度届 重量％後，以孔徑〇·5μιη之微孔過濾器過濾，製備 線性樹脂組成物之溶液（S-54 )。結果如表4〜6所 比較例4 將含有比較合成例1所得之共聚物〔A- 1 R ]之 溶液（相當於共聚物〔A- 1 R〕1 00重量份（固形 [Β]成分之4,4’-[l - ( 4- ( 1-[4 -經苯基]-ΐ_甲基乙基 )次乙基]雙酚（1莫耳）與I，2-萘醌二疊氮_5_擴g 莫耳）之縮合物（4,4’-[l- ( 4- ( l-[4-羥苯基卜丨-甲 )苯基）次乙基]雙酹-I,2-萘醌二疊氮擴酸g|) 3 份及γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5 mi 里份予 ，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份丨農
/V''V 量％後，以孔徑〇.5μπΐ之微孔過濾器過濟， 他、，製備敏 性樹脂組成物之溶液（S- 1 R )。結果如表4 衣4〜6所矛 比較例5 將含有比較合成例2所得之共聚物「Λ L A-2R〕之 )次乙 莫耳） )苯基 份、四 物2重 予以混 乞爲3 1 敏輻射 示。 聚合物 份）與 )苯基 隻氯（2 基乙基 0重量 以混合 31重 輻射線 聚合物 -100- 200903154 溶液（相當於共聚物〔A-2R〕100重量份（固形份）與 [B]成分之4,4’-[1-(4-(1-[4-羥苯基]-1-甲基乙基）苯基 )次乙基]雙酚（1莫耳）與1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸氯（2 莫耳）之縮合物（4,4’-[1-(4-(1-[4-羥苯基]-1-甲基乙基 )苯基）次乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯）18重量 份及γ-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷5重量份予以混合 ，溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯，使固形份濃度成爲3 1重 量％後，以孔徑〇 . 5 μιη之微孔過濾器過濾，製備敏輻射線 性樹脂組成物之溶液（S-2R )。結果如表4〜6所示。 表4 解像度 保存安定性 (黏度變化率） 預烘烤溫度CC ) 80 90 100 實施例5 1 〇 〇 〇 1 % 實施例5 2 〇 〇 〇 1 % 實施例5 3 〇 〇 〇 1 % 實施例5 4 〇 〇 〇 1 % 比較例4 〇 〇 〇 9% 比較例5 〇 〇 〇 4% 表5 耐熱尺寸安定性 (膜厚變化率） 透明性 (透過率） 耐熱變色性 (透過率之變化率） 密著性 實施例51 3% 94% 2% 100 實施例52 3% 95% 2% 100 實施例53 3% 92% 2% 100 實施例54 2% 92% 3% 100 比較例4 4% 91% 5% 80 比較例5 6% 91% 6% 80 200903154 表6 感度 (mJ/cm2) 透明性 (透過率） 耐熱透明性 (變化率） 密著性 耐溶劑性 (膜厚變化率） 實施例51 60 94% 4% 100 2% 實施例52 60 95% 3% 100 3% 實施例53 50 92% 3% 100 2% 實施例54 75 92% 3% 100 3% 比較例4 100 86% 7% 80 7% 比較例5 110 86% 7% 80 7% 【圖式簡單說明】 圖1係微透鏡之剖面形狀之模式圖。 -102-

Claims (1)

  1. 200903154 十、申請專利範圍 1 .一種敏輻射線性樹脂組成物，其特徵係含有： [A] ( al )不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、 (a2)含有環氧基及/或氧環丁基之不飽和化合物， 及 (a3 )選自甲基丙烯酸烷酯、丙烯酸烷酯、甲基丙烯 酸環狀烷酯、具有羥基之甲基丙烯酸酯、丙烯酸環狀烷酯 、甲基丙烯酸芳酯、丙烯酸芳酯、不飽和二羧酸二酯、雙 環不飽和化合物、馬來醯亞胺化合物、不飽和芳香族化合 物、共軛一稀、具有四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃 骨架、吡喃骨架或下述式（3)表示之骨架之不飽和化合 物及下述式（1 )袠示之含酚性羥基之不飽和化合物所成 群之與（al)成分及（a2)成分不同之至少1種之其他不 飽和化合物的共聚物’
    (式（3)中’ R7係氫原子或甲基，n係1以上的整
    CH产
    • · _ (I) -103- 200903154 其中R1係氫原子或碳數1〜4之烷基，R2〜R6係相同 或不同、氫原子、羥基或碳數1〜4之烷基，B係表示單 鍵、-COO-、或- CONH-，m係0〜3的整數，但是r2〜R6 之至少一個爲羥基， [B] l,2-醌二疊氮化合物及 [C] 含有與[A]成分藉由熱產生交聯反應之官能基的矽 氧烷低聚物。 2 .如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物， 其中[C]成分之與[A]成分藉由熱產生交聯反應之官能基爲 環氧基、氧環丁基、環硫基、乙烯基、烯丙基、（甲基） 丙稀醯基、竣基、羥基、氫硫基、異氰酸酯基、胺基、脲 基或苯乙稀基。 3 .如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物， 其中[C]成分爲下述式（1)及下述式（2)之各自表示之 烷氧基矽烷經共水解後之矽氧烷低聚物， si(R8)s(R9)t(〇R-)u ( η 式中’ R8係表示含有環氧基、氧環丁基、環硫基、乙 烯基烯丙基、（甲基）丙烯醯基、羧基、羥基、氫硫基 、異氰酸酯基、賊： 月女基、脲基或苯乙烯基的取代基，R9、
    但是 s+t+u=4 1 SHR1 )4 價有機基，s係1〜3的整數 式中 R11、R 12 Rl2係可相同或不同，各爲1價有機基，χ -104- 200903154 係0〜2的整數。 4 .如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物， 其中（C)成分爲下述式（9)表示之矽氧烷低聚物， fi 〇 R21
    Ο——Si——Ο—R23 I o I」m R24 式中R21〜R24係相互獨立表示氫原子、烷基、環烷基 、或下述式（10)表示之氧環丁基，m係1〜10之整數， 但是R21〜R24之至少1個係下述式（10 )表示之氧環丁基 (25 r13 •(CH2)i—C—C—RII0——C—R R16 14 (10) 15 式中1125、1113、1114、1115及1116係相互獨立表示氫原 子、氟原子、碳數1〜4之烷基、苯基或碳數1〜4之全氟 烷基，1係1〜6之整數。 5 .如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物， -105- 200903154 其係形成層間絶緣膜用。 6 . —種層間絶緣膜之形成方法，其特徵係含有以下記 載順序之以下步驟， (1 )基板上形成申請專利範圍第1項之敏輻射線性 樹脂組成物之塗膜的步驟、 (2 )對該塗膜之至少一部份照射輻射線的步驟、 (3 )顯影步驟及 (4 )加熱步驟。 7. —種層間絶緣膜’其特徵係藉由申請專利範圍第6 項之方法所形成。 8 .如申請專利範圍第1項之敏輻射線性樹脂組成物， 其係形成微透鏡用。 9 · 一種微透鏡之形成方法，其特徵係含有以下記載順 序之以下步驟， (1 )基板上形成申請專利範圍第1項之敏輻射線性 樹脂組成物之塗膜的步驟、 (2 )對該塗膜之至少一部份照射輻射線的步驟、 (3 )顯影步驟及 (4 )加熱步驟。 1 0 · —種微透鏡’其特徵係藉由申請專利範圍第9項 之方法所形成。 -106-
TW097101656A 2007-01-18 2008-01-16 Sensitive radiation linear resin composition, interlayer insulating film and microlens, and the like TWI425315B (zh)

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