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DE2038864A1 - Lichtempfindliches beschichtetes Material - Google Patents

Lichtempfindliches beschichtetes Material

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Publication number
DE2038864A1
DE2038864A1 DE19702038864 DE2038864A DE2038864A1 DE 2038864 A1 DE2038864 A1 DE 2038864A1 DE 19702038864 DE19702038864 DE 19702038864 DE 2038864 A DE2038864 A DE 2038864A DE 2038864 A1 DE2038864 A1 DE 2038864A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photosensitive
resin
coating layer
diazoborofluoride
coated material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19702038864
Other languages
English (en)
Inventor
Auf Nichtnennung Antrag
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SCHAFLER ARMANDO BIRLAIN
Original Assignee
SCHAFLER ARMANDO BIRLAIN
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SCHAFLER ARMANDO BIRLAIN filed Critical SCHAFLER ARMANDO BIRLAIN
Publication of DE2038864A1 publication Critical patent/DE2038864A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/52Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
    • G03C1/58Coupling substances therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

REDIES, REDIES, TURK 4 QILLE, PATENTANWÄLTE Blatt:
Anmelder,: ABMANlX) BIRIAIH SCHAPLER
Ganges 73, Mexico Oity. Mexico
Lichtempfindliches beschichtetes Material
Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Überzüge für die mechanische Reproduktion und insbesondere lichtempfindliche Überzüge, die alkalibeständige Harze und darin lösliche Diazoborfluoride enthalten.
Auf dem Gebiet der Lithographie ist die Verwendung von Diazoverbindungen zum Herstellen der lichtempfindlichen Schicht bekannt. Zu Diazoverbindungen, die zur Verwendung in Zusammenhang mit harzartigen Materialien vorgeschlagen wurden, gehören Diazooxyde, wie Diazosulfonsaureester, Diazoindole, wie 3-Diazo-2-methyl-3-pseudoindol und dergleichen. Diese Verbindungen wurden zur Herstellung % lithographischer Druckplatten verwendet, die in mehrfacher Hinsicht zufriedenstellend waren. Ihre Verwendung war jedoch ziemlich eng auf bestimmte Harzklassen beschränkt, die als wesentliche Eigenschaften Alkaliempfindlichkeit zeigten, damit Überzüge erhalten werden konnten, die in wässrig-alkalischer Lösung zu entwickeln waren. Ferner wurde mit diesen Überzugsschichten ein solch geringer Grad der Löslichkeitsunterschiede erzielt, daß es schwierig war, das Entwickeln durchzuführen, ohne daß das photographische Bild angegriffen wurde.
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Blatt: ψ
Aufgrund der Nachteile der bisher bekannten lichtempfindlichen Überzugsschichten war die Fachwelt ständig bestrebt, eine lichtempfindliche Überzugsschicht zu entwickeln, welche die genannten Nachteile nicht aufweist und gleichzeitig hohe Wirksamkeit der Bildreproduktion und lange Lagerfähigkeit zeigt.
Durch die Erfindung wird eine lichtempfindliche Überzugsschicht mit einem hohen Grad an unterschiedlicher bzw. differentieller Löslichkeit in wässrig-alkalischen Lösungen zugänglich, die Harze mit inhärenter Alkali- und Säurebeständigkeit und darin lösliche Diazoborfluoride enthält, die in dem Lösungsmittel für dieses Harz löslich sind.
Erfindungsgegenstand ist außerdem eine lichtempfindliche Überzugsschicht mit den genannten Eigenschaften, die ausgezeichnete Eignung zur Herstellung von Matrizen mit hoher Abriebfestigkeit und Widerstandsfähigkeit gegenüber den stark sauren Lösungen aufweist, die bei nachfolgenden Ätzvorgängen verwendet werden können.
Die Erfindung unfaßt außerdem eine lichtempfindliche Überzugeschicht, die in Kombination mit einer Grundlage (base member), die aus einem oder mehreren Metallen besteht, verwendet werden kann, um als abschließende Überzugsschicht «um Entwickeln einer Torseneibilisierten lithographischen Platte zu dienen·
Andere Merkmale der Erfindung sind aus der nachfolgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung ersichtlich.
Zu Diazoborfluoriden, die sich als besonders wirksam bei der praktischen Ausführung der Erfindung erwiesen
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Blatt:
203886A
haben, gehören die üblicherweise zur Herstellung von Diazo-Reproduktionspapieren verwendeten Verbindungen. Beispiele dafür sind para-Diazo-N, N-Diäthylanilinborfluorid und para-Diazophenylmorpholin-borfluorid. Vorzugsweise werden Materialien verwendet, die im wesentlichen wasserunlöslich sind; es ist jedoch nur wesentlich, daß sie in einem Ausmaß von etwa 1 oder 2 % in dem geneinsamen Lösungsmittel löslich sind, das für das Harz gewählt wird, und daß sie im gewissen Ausmaß in dem verwendeten Harz selbst löslich sind. Harze, die sich als besonders geeignet für die Erfindung erwiesen haben, sind Harvester * (rosin gum | esters) der Malein- und Fumarsäure. Beispiele dafür sind die unter dem Warennamen "Waterer Nr. 40-584" und "Beckacite Hr. 1111" durch Reichold Chemical Company vertriebenen Produkte. Andere besonders geeignete Harze sind phenolmodifizierte Cumaron-Inden-Harze der Neville Chemical Company, die unter den Warennamen "Nevillac Hard" und "Hevillac Soft" vertrieben werden. Me Wahl der Harze wird nur durch die Forderung eingegrenzt, daß sie gemeinsame Löslichkeit mit dem gewählten Diazoborfluorid besitzen und sich die Diazoverbindung danach in dem Harz auflöst.
Die Wahl der Lösungsmittel, aus denen die lichtempfind- ^
liehen Überzugsschichten vergossen werden, kann durch die für den Film benutzte Gießmethode, wie Aufsprühen,
Aufdüsen oder Walzenauftragverfahren, bestimmt sein. Ein geeignetes Lösungsmittel ist im allgemeinen ein
flüssiger aliphatischer Ester, wie "Cellosolve Acetate* der Union Carbide Company»
Es kann wünschenswert sein, außer dem Harz und dem Diazoborfluorid einen in dem Lösungsmittel löslichen »Ester von Naturharzen, insbes. des harzartigen Rückstands der Rohterpentindestillation.
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Blatt: ^.
Farbstoff zu verwenden, um in dem entwickelten photographischen Bild einen stärkeren sichtbaren Kontrast zu erzielen. Ein geeigneter Farbstoff, der sich für diesen Zweck als völlig zufriedenstellend erwiesen hat, ist Methylenblau. Das einzige Kriterium für die Auswahl dieses Farbstoffes ist auch hier nur die Forderung, daß er in dem für das Harz und das Diazoborfluorid verwendeten gemeinsamen Lösungsmittel löslich ist.
Wenn das gewählte Harz ein Harz mit hoher Alkalibeständigkeit ist, hat es sich als wünschenswert erwiesen, dem Gemisch eine Kupplungskomponente zuzusetzen, um die spätere Entfernung der belichteten Bereiche unter Verwendung eines wässrigen alkalischen Entwicklers zu erleichtern. Solche Kuppler für Diazoverbindungen sind bekannt. Zu diesen Verbindungen gehören Resorcin, Phloro-' glucin, beta-Naphthol und 1~(5-Hydroxy-1-naphthyl)biguanid. Ein vorteilhaft geeigneter Kuppler ist 2,3-Naphthalindiol.
Ein geeigneter Entwickler für die lichtempfindlichen Überzugsechichten umfaßt eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate und eines Amins, wie eine wässrige Lösung von Natriumsilicat und Morpholin. Der Entwickler kann außerdem ein Alkalihydroxyd, wie Natriumhydroxyd, enthalten.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Überzugsschichten können leicht auf beliebige Metalloberflächen aufgetragen werden, die üblicherweise zur Herstellung von lithographischen Druckplatten verwendet werden, wie Aluminium und Zink. Um jedoch ihr Haftvermögen gegenüber anderen Metalloberflächen, wie Chrom und rostfreiem Stahl, BU verbeeeern, wird die Überzugsschicht vorzugsweise erhitzt, um sie zu härten und eine gute Bindung an die Meta11substräte zu erzielen. Der
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Härtungsvorgang wird vorzugsweise bei einer Temperatur von 105 bis 110° C während 5 Minuten durchgeführt. Die Grundlage, auf die die Überzugsachicht aufgetragen wird, ist jedoch nicht auf Metalle beschränkt und es können in wirksamer Weise auch Papier«, Kunststoff- und Glasoberflächen beschichtet werden.
Zum Verarbeiten von lithographischen Druckplatten, die mit der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Überzugsschicht versehen sind, werden die üblichen Methoden der Lithographie zum Bearbeiten von lichtempfindlichen Diazo be Schichtungen angewendet. So wird die beschichtete Platte durch ein Diapositiv belichtet, um den lichtindu- ™ zierten Abbau des belichteten Anteils der Überzugsachicht zu bewirken. Das der lichtinduzierten Zersetzung unterworfene Produkt ist dann in verdünnten wässrig-alkalischen Lösungen leicht löslich, während der nicht belichtete Anteil der Überzugsschicht intakt bleibt und anschließend als Atzgrund bzw. Deckmittel bei der Entfernung vpn unerwünschtem Metall durch Auftrag eines sauren Ätzmaterials dienen kann.
Die Erfindung wird zum besseren Verständnis durch die nachfolgenden Beispiele veranschaulicht, ohne daß sie auf diese beschränkt sein soll. -Jj
Beispiel 1
Eine Platte aus legiertem Aluminium Nr. 3003 wurde während 3 Minuten bei einer Temperatur von 65,5 C in einer Lösung, die 2 Gewichtsprozent Ohromtrioxyd enthielt, passiviert. Sie wurde dann gründlich abgespült, getrocknet und mit einer Harzlösung der folgenden Zusammensetzung beschichtet:
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Cellosolve-aeetat 500 ml
Wateree 40,584 (Reichold Chem. Go.) 70 g
Beckacite 1111 (Reichold Chem. Co.) 30 g
Sudan III Blue 5 g
2,3 Naphthalindiol 3 g
p-Diazophenylmorpholin-borfluorid 20 g
Die Überzugsschicht wurde dann getrocknet und bei einer Temperatur von 110° C gehärtet. Danach wurde sie durch ein Diapositiv mit der Strahlung einer Kohlenbogenlampe belichtet. Der belichtete Anteil der überssugsßchicht ließ sich dann leicht durch Abreiben der Oberfläche mit einem Wattebausch entwickeln, der mit einer Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung getränkt war:
Wasser 1 Liter
Natriumsilicat 20 ml
Ätzkali 4 g
Morpholin 60 ml
Nach dem Entwickeln wurde die gesamte Oberfläche der Platte mit einer verdünnten Lösung aus Gummiarabikum und Phosphorsäure bestrichen. Die Platte wurde dann auf einer lithographischen Druckpresse befestigt. Es wurden getreue Reproduktionen des Bildes erhalten. Nach 10 000 Drucken wurde die Platte von der Presse entfernt,
Beispiel 2
Die Verfahrensweise des Beispiels 1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß als Platte ansteile von pasaiviertem Aluminium gekörntes Zink verwendet wurde. Mit dieser Platte war es möglich, mehr ale 10 000 getreue Reproduktionen des Bildes zu erhalten. Die Platte
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wurde nach 12 000 Abdrucken von der Presse entfernt.
Beispiel 5
Die Verfahrensweise des Beispiels 1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß eine Platte aus Aluminium verwendet wurde, auf der elektrolytisch eine dünne Kupferschicht niedergeschlagen worden war. Nach dem Entwickeln wurde der belichtete Bereich der Kupferschicht durch Ätsen «tit einer Elsennitrat-Lösung einer Dichte von 1,369 (39°Be) entfernt. Die Platte wurde auf der lithographischen Druckpresse angebracht und ee wurde eine sehr große Ans&hl getreuer Kopien erhalten.
Beispiel 4
Es wurde eine Platte wie in Beispiel 3 verwendet, mit der Ausnahse» daß die Platte aus Weichstahl bestand, der eine Übereugaschicht von Elektrolytkupfer und auf dem Kupferfila eine Schicht aus Elektrolyt-ChroB aufwies. Die Platte wurde mit eine« lichteapfindlichen Uberzugsnterial aus folgenden Bestandteilen beschichtet:
CellosolTe-acetat 500 Bl
Nevillac Soft resin (HeTiIIe Chem. Co.) 100 g
Methylenblau 10 g
p-Diaz;o-H»M~diäthylanilin-teorfluorid 20 g
beta-Naphthol 2g
Sie beschichtete Platte wurde bei einer Temperatur von 110° ö während 5 Minuten gehärtet. Hach dem Belichten Kit einer Megatiworlage wurde das Bild Bit der in Beispiel 1 verwendeten alkalischen Lösung entwickelt« Der belichtete Berelch des ChroBs wurde unter ¥@rwend*rag eines handelsüblichen Chroaätsaitteis weggeätst. Schließlich wurde der verbleibende
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BAD ORIGINAL
Blatt: <βΓ
Anteil der lichtempfindlichen Schicht mit Aceton entfernt, wobei ein Kupferbild unter einer Ghromschicht Burückblieb. Diese Platte wurde auf einer lithographischen Druckpresse befestigt und es konnten sieben Millionen getreue Kopien erzielt werden.
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Claims (11)

  1. 203886A
    Patentansprüche
    (jJ JPür lithographische Druckverfahren geeignetes, lichtempfindliches, beschichtetes Material, enthaltend eine Grundlage und eine darauf angeordnete lichtempfindliche Überzugsschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Überzugsschicht ein alkalibeständiges Harz und ein lichtempfindliches, in Lösungsmitteln lösliches Diazoborfluorid enthält, dassdas Harz in einem gemeinsamen Lösungsmittel mit dem Diazoborfluorid löslich ist und das Diazobor-
    fluorid sich in dem Harz auflöst.
  2. 2. Lichtempfindliches beschichtetes Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es außerdem einen Diazo-Kuppler zum Beschleunigen des lichtinduzierten Abbaus enthält, insbesondere beta-Naphthol, Resorcin, Phloroglucin, 1-(5-Hydroxy-1-naphthyl)biguanid oder 2,3-Naphthalindiol.
  3. 3. Lichtempfindliches beschichtetes' Material nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es als lichtempfindliche Diazoverbindung p-Diazo-N,N-diäthylanilin-borfluorid oder p-Diazophenylmorpholin-borfluorid enthält. μ
  4. 4. Lichtempfindliches beschichtetes Material nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundlage aus Aluminium, Zink, Papier oder Kunststoff besteht.
  5. 5. Lichtempfindliches beschichtetes Material nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundlage aus einer mit Kupfer überzogenen Platte besteht.
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    - 10 -
    Dien:
  6. 6. Lichtempfindliches beschichtetes Material nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Kupferschicht mit einer Überzugsschicht aus Chrom bedeckt ist.
  7. 7. Lichtempfindliches beschichtetes Material nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Harz ein Maleinsäureester oder Fumarsäureester von Naturharzen (rosin gum) ist.
  8. 8. Verfahren zum Herstellen einer lithographischen -Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß man ein lichtempfindliches Material bildmässig belichtet, das aus einer Grundlage und einer darauf angeordneten lichtempfindlichen Überzugsschicht, die ein alkalibeständiges Harz und ein lichtempfindliches, in Lösungsmitteln lösliches Diazoborfluorid aufweist, besteht, wobei das Harz in einem gemeinsamen Lösungsmittel mit dem Diazoborfluorid löslich ist und sich das Diazoborfluorid in dem Harz auflöst, und daß man das lichtempfindliche Material mit einem Entwickler behandelt, der eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate und eines Amins enthaltend durch Entfernen des belichteten Anteils der lichtempfindlichen Überzugsschicht ein Bild entwickelt.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Entwickler als Amin Morpholin enthält.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9t dadurch gekennzeichnet, daß der Entwickler zusätzlich eine geringe Menge eines Alkalihydroxyds enthält.
    - 11 10980B/ U82
  11. 11. Verfahren nach Anspruch 1 bie 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundlage aus einem Metall beateht und daß die übereugsschicht durch Erhitzen auf eine Temperatur von 105 Ms 110° C während etwa 5 Minuten gehärtet wird.
    109808/U82
DE19702038864 1969-08-06 1970-08-05 Lichtempfindliches beschichtetes Material Pending DE2038864A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MX11307769 1969-08-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2038864A1 true DE2038864A1 (de) 1971-02-18

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ID=19745276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702038864 Pending DE2038864A1 (de) 1969-08-06 1970-08-05 Lichtempfindliches beschichtetes Material

Country Status (6)

Country Link
BE (1) BE754166A (de)
DE (1) DE2038864A1 (de)
ES (1) ES382354A1 (de)
FR (1) FR2056611A5 (de)
NL (1) NL7011608A (de)
ZA (1) ZA705266B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3118039A1 (de) * 1980-05-16 1982-03-04 Kimoto & Co. Ltd., Tokyo Photosensitives material und verfahren zu seiner herstellung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3118039A1 (de) * 1980-05-16 1982-03-04 Kimoto & Co. Ltd., Tokyo Photosensitives material und verfahren zu seiner herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
ZA705266B (en) 1971-05-27
NL7011608A (de) 1971-02-09
FR2056611A5 (en) 1971-05-14
BE754166A (fr) 1970-12-31
ES382354A1 (es) 1972-11-16

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