DE3118039A1 - Photosensitives material und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
Photosensitives material und verfahren zu seiner herstellungInfo
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000002585 base Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 15
- -1 aromatic diazonium salt Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 7
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 claims description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- HOPSCVCBEOCPJZ-UHFFFAOYSA-N carboxymethyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC(O)=O HOPSCVCBEOCPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJDYNZMOXRCDDI-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-[cyclohexyl(methyl)amino]benzenediazonium Chemical compound C=1C=C([N+]#N)C=C(Cl)C=1N(C)C1CCCCC1 GJDYNZMOXRCDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 241000238370 Sepia Species 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- HSNZILYGOLYWTA-UHFFFAOYSA-N 2,5-diethoxy-4-[(4-methylbenzoyl)amino]benzenediazonium;zinc;chloride Chemical class [Cl-].[Zn].CCOC1=CC([N+]#N)=C(OCC)C=C1NC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 HSNZILYGOLYWTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBFAOLUTYLPAHH-UHFFFAOYSA-M 2,5-dimethoxy-4-(4-methylphenyl)sulfanylbenzenediazonium;zinc;chloride Chemical class [Cl-].[Zn].COC1=CC([N+]#N)=C(OC)C=C1SC1=CC=C(C)C=C1 GBFAOLUTYLPAHH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N Phloroglucinol Natural products CCC=CCC=CCC=CCC=CCCCCC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- UJPPWAHYOGHDBM-UHFFFAOYSA-N [B+3].C(C)OC1=C(C=C(C(=C1)N1CCOCC1)OCC)[N+]#N Chemical compound [B+3].C(C)OC1=C(C=C(C(=C1)N1CCOCC1)OCC)[N+]#N UJPPWAHYOGHDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGBCUUYHMZXVML-UHFFFAOYSA-N [B+3].C1(=CC=CC=C1)[N+]#N Chemical compound [B+3].C1(=CC=CC=C1)[N+]#N NGBCUUYHMZXVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004520 agglutination Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L congo red Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(/N=N/C3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)/N=N/C3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S([O-])(=O)=O)N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylphenylamine Natural products CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N edaravone Chemical compound O=C1CC(C)=NN1C1=CC=CC=C1 QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- ZBOFNBUHQGGQPT-UHFFFAOYSA-N n-[(4z)-4-diazo-3,6-diethoxycyclohexa-1,5-dien-1-yl]benzamide Chemical compound CCOC1=CC(=[N+]=[N-])C(OCC)C=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 ZBOFNBUHQGGQPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-diol Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(O)=CC2=C1 JRNGUTKWMSBIBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten Chemical compound O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- XRASPMIURGNCCH-UHFFFAOYSA-N zoledronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(P(O)(O)=O)(O)CN1C=CN=C1 XRASPMIURGNCCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- G03C1/60—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with macromolecular additives
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
- G03F7/0215—Natural gums; Proteins, e.g. gelatins; Macromolecular carbohydrates, e.g. cellulose; Polyvinyl alcohol and derivatives thereof, e.g. polyvinylacetals
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Description
- Die Erfindung betrifft ein verbessertes photosensitives
- Material vom Positiv-Typ und ein Verfahren zu seiner Entwicklung. Die Erfindung betrifft insbesondere ein photosensitives Material, das ein ausgezeichnetes farbentwickeltes positives Reliefbild ausbildet, wenn das belichtete photosensitive Material mit einer wässrigen Alkalilösung entwickelt und mit Wasser gewaschen wird. Das photosensitive Material ergibt weiterhin einen flexiblen und zähen Bildfilm, der, falls erforderlich, von dem Grundmaterial abgezogen werden kann.
- Aus dem Stand der Technik sind die folgenden Verfahren zur Herstellung eines positiven Reliefbildes unter Verwendung von Ultraviolettstrahlung als Lichtquelle bekannt: 1. Eine Schicht aus einer photosensitiven Zusammensetzung, die aus einem o-Chinondiazid-Derivat und aus einem alkalilöslichen Harzbinder (z.B. Novolac-Harz) besteht, wird auf ein Grundmaterial gebracht, wobei man ein photosensitives Reproduktionsmateriai erhält. Das so erhaltene Reproduktionsmaterial wird belichtet; die belichteten Flächen werden mit Alkali entwickelt.
- 2. Eine Schicht aus einer photosensitiven Zusammensetzung, die aus einem Reaktionsprodukt aus p-Diazodiphenylamin mit Phosphorwolframsäure und einem Vinylidenchlorid-Acrylnitril-Copolymer-Binder besteht, wird auf ein Grundmaterial aufgebracht, wobei man ein photosensitives Reproduktionsmaterial erhält. Das so erhaltene Reproduktionsmaterial wird belichtet. Die belichteten Flächen werden unter Verwendung einer Wasser-Alkohol-Lösung entwickelt (vgl. JA-AS 42-14326, Priorität: 19. Februar 1964, Nr.
- 345848 (USA}).
- 3. Eine Schicht aus einer photosensitiven Zusammensetzung, die aus äthylenisch ungesättigten Verbindungen, einem thermoplastischen Polymer, einem Photopolymerisationsinitiator und einem Farbstoff oder Pigment besteht, wird zwischen zwei stützenden Folien ausgebildet, wobei man ein photosensitives Material enthält. Das so erhaltene Reproduktionsmaterial wird einem Entwicklungs- und Abschälverfahren unterworfen, wobei die Änderung der Haftfestigkeit in den belichteten Flächen ausgenutzt wird. Durch die verbleibende photosensitive Zusammensetzung wird ein Reliefbild gebildet tvgl. US-PS 3 060 0-23) 4. Ein positives Reliefbild wird erhalten, indem man eine Photolack-Zusammensetzung verwendet, die als Hauptkomponenten eine o-Chinondiazid-Verbindung und alkalilösliche Vinylpolymerverbindungen enthält. Die Vinylpolymerverbindungen weisen phenolische Hydroxylgruppen auf und können durch die folgende allgemeine Formel wiedergegeben werden: in der R Wasserstoff, Hydroxyl-,Carboxyl-,Alkyl-, Alkoxyl-, Aryl-, Nitro- oder Aminogruppen oder Halogen bedeutet (vgl.
- JA-AS 50-8658).
- Diese bekannten Verfahren zeigen jedoch verschiedene, im folgenden erörterte Nachteile und sind nicht in der Lage, Bilder mit hoher Dichte und hohem Auflösungsvermögen zu ergeben.
- In dem oben genannten Verfahren 1 kann das Bindeharz nur schwer gefärbt werden. Weiterhin ist es schwierig, das Bindeharz mit einem wirksamen Farbentwicklungsmechanismus zu kombinieren. Daher dispergiert man gewöhnlich einen Farbstoff oder ein Pigment in dem Bindeharz. Um eine hohe Lichtabschirmungsdichte zu erhalten, ist eine lange und in der Praxis nachteilige Belichtungszeit erforderlich.
- In dem oben genannten Verfahren 2 kann eine hohe Lichtabschirmungsdichte ohne Verringerung der Empfindlichkeit erhalten werden, indem man auf die auf einem transparenten Grundmaterial ausgebildeten photosensitiven Schicht eine Lichtabschirmungsschicht aufbringt, in diesem Falle kann die Belichtung jedoch nur von der Seite des transparenten Grundmaterials erfolgen, und eine Abnahme des Auflösungsvermögens wegen der Dicke des Grundmaterials ist unvermeidlich.
- Weiterhin hat das oben genannte Verfahren 3 die gleichen Nachteile wie das Verfahren 2 , da die Belichtung durch das transparente Grundmaterial erfolgt. Außerdem erhält man ein geringeres Auflösungsvermögen, da die Entwicklung durch Agglutination und Zerstörung der photosensitiven Schicht erfolgt. Ein weiterer Nachteil des Verfahrens 3 besteht in dem hohen Preis des photosensitiven Materials.
- Weiterhin kann das oben genannte Verfahren 4 ein positives Reliefbild durch Alkali-Entwicklung ergeben, es weist jedoch den Nachteil auf, daß keine Farbentwicklung eintritt und man kein Bild mit hoher Dichte erhält.
- Die vorliegende Erfindung ist auf die Beseitigung der oben genannten Nachteile der bekannten Verfahren gerichtet. Sie beruht auf der Erkenntnis, daß belichtete Flächen mit Wasser ausgewaschen und unbelichtete Flächen unter Ausbildung eines positiven Bildes gehärtet werden, wenn man einen beschichteten Film belichtet und mit Alkali behandelt, der erhalten wurde, indem man ein Grundmaterial mit einer photosensitiven Zusammensetzung beschichtet, die eine Kombination aus (A) einem Harzbinder, der als Hauptkomponente eine alkalilösliche Vinylpolymerverbindung mit phenolischen Hydroxylgruppen und der allgemeinen Formel aufweist: und (B) einem aromatischen Diazoniumsalz darstellt.
- Die Erfindung ist somit auf ein photosensitives Material gerichtet, das ein ausgezeichnetes farbentwickeltes positives Reliefbild und auch einen flexiblen und zähen bzw. widerstandsfähigen Bildfilm ergibt, der gegebenenfalls von dem Grundmaterial abgezogen bzw. abgestreift werden kann.
- Die Erfindung ist weiterhin auf ein Verfahren zur Entwicklung des photosensitiven Materials gerichtet.
- Andere bevorzugte Ausführungsformen und Merkmale des Gegenstands der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung und den Patentansprüchen.
- Die oben genannte Aufgabe der Erfindung wird durch ein photosensitives Material gelöst, das aus einer auf einem Grundmaterial ausgebildeten Schicht aus einer photosensitiven Zusammensetzung besteht, wobei die photosensitive Zusammensetzung (A) 100 Gew.-Teile eines Harzbindemittels, enthaltend mindestens 50 Gew.-% einer Vinyl-Polymer-Verbindung mit einem durchschniitichen Polymerisationsgrad von 300 bis 2600 und mit der allgemeinen Formel in der R Wasserstoff, Hydroxyl-, Carboxyl-, Alkyl-, Alkoxy-, Aryl-, Nitro- oder Aminogruppen oder Halogen bedeutet, und das Copolymeris,t ionsverhältnis x:y:z 5 JO : 5-85 : 10-60 beträgt, und (B) 3 - 30 Gew.-Teile eines aromatischen Diazoniumsalzes umfaßt, sowie durch ein Verfahren zur Entwicklung des photosensitiven Materials mit Alkali.
- Es ist eine bemerkenswerte Eigenschaft des Gegenstands der Erfindung, daß ein positives Bild erhalten und gleichzeitig durch die Entwicklung mit Alkali eine Farbentwicklung erhalten wird.
- Der Mechanismus der Farbentwicklung ist nicht eindeutig geklärt, es wird jedoch aufgrund der Struktur der Vinyl-Polymer-Verbindung vermutet, daß die Farbentwicklung auf eine Kupplungsreaktion des aromatischen Diazoniumsalzes mit dem eine phenolische Hydroxylgruppe tragenden aromatischen Ring in dem alkalischen Medium beruht.
- Der Ton der entwickelten Farbe beruht auf einer Kombination des Harzbindemittels mit dem verwendeten Diazoniumsalz, zeigt jedoch nahezu vollständig eine Absorption im Bereich der kurzen Wellenlängen des sichtbaren Lichts bis zum ultravioletten Licht. Dies bedeutet, daß die Farbentwicklung nahezu sämtliche photosensitiven Wellenlängenbereiche des Diazoniumsalzes umfaßt. Man kann somit unter außerordentlich einfachen Bedingungen ein Reliefbild hoher Dichte erhalten.
- Der Grund, warum das Copolymerisationsverhältnis und Molekulargewicht der Vinyl-Polymer-Verbindung (A) gemäß der Erfindung entsprechend den genannten Werten definiert ist, ist der folgende: Wenn x kleiner als 5 ist, wird das Eindringen einer Entwicklungslösung in das photosensitive Material behindert, dadurch wird die Farbentwicklung verschlechtert. Wenn x andererseits größer als 50 ist, zeigen die unbelichteten Flächen eine geringere Widerstandsfähigkeit gegenüber der Entwicklungslösung und werden während der Entwicklung oder während des Waschens mit Wasser ausgewaschen.
- Wenn y kleiner als 5 ist, erhält man kein alkalilösliches Harz und die Farbentwicklung nimmt zu. Wenn andererseits y größer als 85 ist, werden x und/oder y kleiner und die Wirkungen der Vinylalkoholkomponente und/oder der Vinylacetatkomponente werden verringert.
- Wenn z weiterhin kleiner als 10 ist, wird die Widerstandsfähigkeit des photo sensitiven Materials gegenüber Wasser verringert. Wenn z umgekehrt größer als 60 ist, wird die Löslichkeit der belichteten Flächen in der Entwicklungslösung verringert. Dies führt zu Schwierigkeiten bei der Entwicklung.
- Wenn weiterhin der durchschnittliche Polymerisationsgrad kleiner als 300 ist, zeigen die unentwickelten Flächen eine verringerte Widerstandsfähigkeit gegenüber der Entwicklungslösung und werden während der Entwicklung ausgewaschen. Wenn andererseits z größer als 2600 ist, zeigt die photosensitive Beschichtungslösung eine außerordentlich hohe Viskosität; die Kontrolle der Viskosität wird daher schwierig.
- Erfindungsgemäß kann die Vinyl-Polymer-Verbindung (A) als Harzbinder allein oder in Kombination mit 50 Gew.-% oder weniger an anderen verträglichen Harzen verwendet werden.
- Beispiele für diese Harze sind alkalilösliche Harze wie Phenol-Novolak-Harze und Cresol-Novolak-Harze sowie Vinylacetat-Harze.
- Als erfindungsgemäß zu verwendende wasserlösliche Diazoniumsalze (B) können die folgenden genannt werden: p-N-Ethyl-N-hydroxyethyl-aminobenzoldiazonium-Zinkchlorid-Salze, 4- (p-Tolylmercapto) -2, 5-dimethoxy-benzoldiazonium-Zinkchlorid-Salze, 4-(p-Tolymercapto)-2, 5-diethoxy-benzoldiazonium-Zinkchlorid od.Bortetrafluorid-Salze, 4- (p-Methylbenzoylamino) -2, 5-diethoxy-benzoldiazonium-Zinkchlorid-Salze, 4-Benzamid-2, 5-dibutoxy-benzoldiazonium-chlorid-1 /2 Zinkchlorid-Salze, 4- (N-Cyclohexyl-N-methylamino) -3-chlorbenzoldiazoniumchlorid- 1/2 Zinkchlorid-Salze, 4-(N-Cyclohexyl-N-methylamino)-3-chlorbenzoldiazoniumchlorid-1/2 Zink-chlorid-Salze, 1-Diazo-3-chlor - 4-N, N-diethylamino-benzolchlorid-1/2 Zinkchlorid-Salze, 1 -Diazo-2, 5-diethoxy-4-benzoylamino-benzolchlorid-1 /2 Zink-Salze, 1-Diazo-4-Nethyl-N-benzyl) aminobenzolchlorid-1/2 Zinkchlorid-Salze, 1 -Diazo-2, 5-dimethoxy-4-p-tolymercapto-benzolchlorid-1/2 Zinkchlorid-Salze, 1-Dia#o-2, 5-diethOxy-4-p-tolylmercapto-benzolchlorid-1/2-ZinkSalze, 1-Diazo-3-ethOxy-4-N-methyl-N-benzylamino-benzolchlorid-1/2 Zinksalze, 1-Diazo-3-chlor-4-N, N-diethylamino-benzolchlorid-1 /2 Zinksalze, 1 -Diazo-2, 5-diethoxy-4-p-tolylamino-benzolchlorid-1/2 Zinksalze, 1-Diazo-3-chlor-4-N-methyl-N-cyclohexylaminobenzolchlorid-1/2 Zinkchlorid-Salze, 2 ,5-diethoxy-4-morpholinobenzoldiazonium-bortetrafluorid-Salze, u. dgl.
- Bei der Alkalientwicklung erfüllen diese Diazoniumsalze eine Funktion, gemäß der das Harzbindemittel in den unbelichteten Flächen gehärtet wird, gleichzeitig reagieren sie mit dem Harzbindemittel unter Bewirkung der Farbentwicklung. Das Diazoniumsalz wird in einer Menge von 3 - 30 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile des Harzbindemittels zugesetzt. Wenn die Menge geringer als 3 Gew.-Teile ist, erreicht man eine unzureichende Härtung in den unbelichteten Flächen. Wenn andererseits der Anteil größer als 30 Gew.-Teile ist, verschlechtert sich die Löslichkeit des Diazoniumsalzes in dem Harzbindemittel, und nach Beschichtung und Trocknung der photosensitiven Schicht blutet das Diazoniumsalz an der Oberfläche des beschichteten Films aus, wodurch die Löslichkeit der belichteten Flächen in der Entwicklungslösung verringert wird.
- Falls erforderlich, kann man ein bekanntes Stabilisierungsmittel oder mehrere einsetzen, das die oben genannten Diazoniumsalze stabilisiert.
- Diese Komponenten werden in Wasser als Lösungsmittel aufgelöst, schichtförmig auf ein Grundmaterial mit einer glatten oder mattenartigen Oberfläche aufgetragen und mittels warmer Luft bei einer Temperatur von weniger als 1000C. getrocknet; es bildet sich eine photosensitive Schicht mit einer Filmdicke von 2 - 10 ßm. Um die Adhäsionsstärke zwischen dem Grundmaterial und der photosensitiven Schicht zu steuern, kann man auf dem Grundmaterial eine geeignete untere Schicht ausbilden. Als Grundmaterial zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung sind Folienmaterialien aus thermoplastischen oder wärmehärtenden Polymeren, Gläsern, Metallen und dgl. geeignet. Als thermoplastische Polymere können synthetische Harze genannt werden, z.B. Polyäthylenterephthalat, Polycarbonat, Polyamid, Polypropylen, . Polyvinylchlorid, Polystyrol, Polymethacrylat und Copolymere derselben sowie Cellulosederivate wie Diacetylcellulose, Triacetylcelluloset Propylcellulose und gemischte Celluloseester.
- Fallserforderlich können einige Additive wie Farbstoffe, Pigmente, Füllstoffe und dgl. dem Grundmaterial zugemischt werden, um die Zeichen- und Farbeigenschaften zu verbessern.
- Das Grundmaterial wird im allgemeinen in Form von transparenten Folien eingesetzt, es kann aber auch in anderen Formen verwendet werden.
- Für die Entwicklung des genannten photosensitiven Materials verwendet man eine wässrige Alkalilösung mit einem pH-Wert von 12,0 bis 12,8. Als Alkali verwendet man vorzugsweise wässrige Lösungen von starken Alkalien wie Kaliumhydroxid und Natriumhydroxid.
- Wenn das Diazor. alz mit der Vinylpolymerverbindung (A) in Gegenwart von Alkali reagiert, tritt eine Farbentwicklung ein und es bildet sich eine harte Schicht auf den unbelichteten Flächen.
- Der wässrigen Alkalilösung kann man einen Kuppler zusetzen, der mit dem Diazoniumsalz unter Ausbildung eines Azofarbstoffes reagiert, wodurch man eine dichtere Farbentwicklung erhält. -h Als Kuppler kann man 2,3-Dihydroxynaphtalin, 2,4-2',4'-Tetrahydroxydiphenyl, Phloroglucinol, Acetoacetoglycinamid, Acetoacetobenzylamid,Dicyanacetomorpholid, 1 ,10-Dicyanacetotriethylentetramin, 1,4-bis-Acetoacetoethylendiamin, 1-Phenyl-3-methyl-5-pyrazolon, und dgl.
- Nach Belichtung des photosensitiven Materials der Erfindung in der üblichen Weise, z.B. durch Anordnung eines Manuskriptes zwischen einer Ultraviolettquelle und dem photosensitiven Material wird es entwickelt, indem man es 0,5 bis 2 Minuten in eine Entwicklungslösung bei Raumtemperatur eintaucht, um die unbelichteten Flächen zu härten und anschließend die belichteten Flächen durch Waschen mit Wasser zu entfernen.
- Die Entwickluvgszeit kann durch Steigerung der Entwicklungstemperatur verkürzt werden.
- Um ein Reliefbild mit hoher Dichte zu erhalten, kann es in eine Lösung, welche einen leicht auf dem Reliefbild absorbierbaren Farbstoff enthält, eingetaucht und dort gefärbt werden.
- Falls der Farbstoff in der Entwicklungslösung gelöst werden kann, kann dieses Einfärben gleichzeitig mit dem Entwickeln erfolgen. Der hierfür verwendete Farbstoff ist z.B. Acidol blauschwarz 1OB, Acidol orange M-RL, Acidol schwarz M-SRL, Kongo-rot und dgl., man kann jedoch auch andere wasserlösliche Farbstoffe einsetzen.
- Das Waschen mit Wasser kann in leichter Weise mit Stadtwasser 2 erfolgen oder durch Besprühen mit einem Druck von bis zu 3,0 kg/cm2.
- Das in der oben genannten Weise entwickelte Folienmaterial wird in geeigneter Weise als Maskenplatte beim Kartendruck verwendet, wo eine hohe Genauigkeit erforderlich ist, da auf seiner Oberfläche sich ein Reliefbild befindet, das eine getreue Wiedergabe eines Manuskripts darstellt.
- Der erfindungsgemäß ausgebildete photosensitive Film weist eine ausgezeichnete Flexibilität und Festigkeit auf, wie sie bei üblichen photosensitiven Materialien vom Positivtyp nicht erreicht werden kann. Weiterhin kann der gebildete Bildfilm von dem Grundmaterial abgezogen werden und in geeigneter Weise als Maskenplatte für die Fotografie eingesetzt werden.
- Die Erfindung wird weiterhin anhand der folgenden Beispiele näher erläutert.
- Beispiel 1 Herstellung der Vinylpolymerverbindung.
- In einen Kolben mit Rührer werden 1000 g Eisessig und anschließend 50 g eines vollständig verseiften Polyvinylalkohols mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad von 2000 sowie 30 g p-Hydroxybenzaldehyd gegeben. Nach Zugabe von 25 ml 20%-iger Schwefelsäure wird der Kolbeninhalt gerührt und aufgelöst, wobei man die Temperatur auf 500 C.
- steigert.
- Nach zehnminütigem Rühren wird das Reaktionssystem braun und transparent und seine Viskosität nimmt zu.
- Nach 3,5-stündigem Rühren gießt man die Reaktionslösung in Wasser, wobei man ein faserartiges Polymer erhält. Die Ausbeute nach dem Waschen und Trocknen beträgt etwa 32g. Die ungefähre Struktur des Polymers ist die folgende: Herstellung des photosensitiven Materials.
- In 90g Methylcellosolve löst man 10g der genannten Vinylpolymerverbindung und 1,0 g 1-Diazo-3-chlor-4-N,N-diethylaminobenzolchlorid-1/2 Zinkchlorid. Man erhält eine photosensitive Zusammensetzung mit einem Feststoffgehalt von 10,9 %.
- Die photosensitive Zusammensetzung wird schichtförmig auf eine Seite einer Polyäthylenterephthalatfolie mit einer Dicke von 100 m aufgebracht, und zwar mittels eines Drahtbügels (wirebar), so daß die Dicke der filmförmigen Schicht nach dem Trocknen 5 Fm beträgt. Der beschichtete Film wird 3 Minuten bei 900C. getrocknet; man erhält ein photosensitives Material.
- Bildung des positiven Reliefbildes.
- Ein Positivmanuskript wird in engen Kontakt mit dem erhaltenen photosensitiven Film gebracht, der anschließend 5 Minuten lang mittels einer 3 KW-Bogenlampe aus einer Entfernung von 75 cm bestrahlt wird.
- Das so belichtete photosensitive Material wird 3 Minuten in eine Entwicklungslösung eingetaucht, die erhalten wird, indem man 3g Natriumhydroxid in 997 g Wasser auflöst. Anschließend wird das Material mit Stadtwasser abgebraust.
- Der photosensitive Film wird in den belichteten Flächen äusgewaschen. Man erhält ein scharfes positives Reliefbild mit Sepiatönung.
- Beispiel 2 In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wird der vollständig verseifte Polyvinylalkohol mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad von 2000 in eine Vinylpolymerverbindung der folgenden Struktur umgewandelt: In 90g Methylcellosolve werden 10g der Vinylpolymerverbindung und 1,0 g Diazo-3-chlor-4-N,N-diethylamino-benzolchlorid-1 /2 Zinkchlor-idsalz gelöst. Man erhält eine photosensitive Zusammensetzung mit einem Feststoffgehalt von 10,9 %.
- Die photosensitive Zusammensetzung wird schichtförmig auf eine Seite einer Polyäthylenterephtalatfolie mit einer Dicke von 100# aufgebracht, und zwar mittels eines Drahtbügels (wirebar),8sodaB die Dicke der filmförmigen Beschichtung nach dem Trocknen Sijrn beträgt. Der beschichtete Film wird 3 Minuten bei 900C. unter Ausbildung eines photosensitiven Materials getrocknet. Das photosensitive Material wird mit Ultraviolettlicht belichtet, entwickelt und mit Wasser gewaschen, und zwar in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben. Man erhält ein scharfes positives Reliefbild mit Sepiatönung.
- Beispiel 3 ln-90g Methylcellulose löst man 10g der Vinylpolymerverbindung gemäß Beispiel 1 und 1,0g 2,5-Diethoxy-4-morpholinbenzoldiazonium-bortetrafluorid-Salz. Man erhält eine photosensitive Zusammensetzung mit einem Feststoffgehalt von 10,9 %.
- In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wird die photosensitive Zusammensetzung schichtförmig auf eine Polyäthylenterephtalatfolie aufgebracht und getrocknet, wobei man ein photosensitives Material erhält. Das photosensitive Material wird mit Ultraviolettlicht belichtet, entwickelt und mit Wasser gewaschen, wobei man ein positives Reliefbild erhält. Das Bild wird fünf Minuten in eine Lösung von 3g Acidol schwarz M-SRL in 97g Wasser eingetaucht und dort eingefärbt, wobei man ein gutes schwarzes Bild mit einer fotografischen Dichte von 2,5 erhält.
- Beispiel 4 In 90g Methylcellusolve löst man 10g der Vinylpolymerverbindung gemäß Beispiel 1, 1g 4-(p-Methyl-benzoylamino)-2, 5-diethoxybenzoldiazonlum-Zinkchlorid-Salz sowie 0,8 Orazol pink 5BLG zur Herstellung einer photosensitiven Zusammensetzung mit einem Feststoffgehalt von 10,9 %.
- Die photosensitive Zusammensetzung wird schichtförmig auf eine Seite einer Polyäthylenterephtalatfolie mit einer Dicke von 100 gm aufgebracht, und zwar mittels eines Drahtbügels (Wirebar), so daß die Dicke des beschichteten Films nach dem Trocknen 8 t beträgt Anschließend wird 3 Minuten bei 900C.
- getrocknet, wobei man. ein photosensitives Material erhält Ein Positivmanuskript wird in enge Berührung mit dem erhaltenen photosensitiven Film gebracht, der anschließend durch 8-minütige Bestrahlung mit einer 3 KW-Bogenlampe aus einer Entfernung von 75 cm belichtet wird. Das so bel Das so belichtete photosensitive Material wird 3 Minuten in die gleiche Entwicklungslösung wie in Beispiel 1 eingetaucht und mit Stadtwasser abgebraust.
- Der photosensitive Film wird in den belichteten Flächen ausgewaschen. Man erhält ein rotes scharfes positives Reliefbild mit einer fotografischen Dichte von 2,5. Das Reliefbild kann selektiv von dem Grundfilm abgezogen werden und als Maskenmaterial für W-photosensitive Materialien verwendet werden.
- Beispiel 5 Nach Belichtung des photosensitiven Materials gemäß Beispiel 1 mit Ultraviolettlicht durch ein Manuskript wird es 3 Minuten in eine Entwicklungslösung eingetaucht, die erhalten wird, indem man 3g Natriumhydroxid und 3g 2,4-2',4'-Tetraoxydiphenylsulfid in 994g Wasser löst. Anschließend wird mit Stadtwasser abgebraust. Das erhaltene positive Reliefbild hat eine höhere Dichte als das gemäß Beispiel 1. Die fotografische Dichte beträgt 2,3.
Claims (7)
- Photosensitives Material und Verfahren zu seiner Entwicklung.Patentansprüche 1. Photosensitives Material mit einer auf einem Grundmaterial ausgebildeten Schicht aus einer photosensitiven Zusammensetzung, wobei die photosensitive Zusammensetzung (A) 100 Gew.-Teile eines Harzbindemittels, enthaltend mindestens 50 Gew.-% einer Vinylpolymerverbindung mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad von 300 - 2600 und mit der allgemeinen Formel in der R Wasserstoff, Hydroxyl-, Carboxyl-, Alkyl-, Alkoxy-, Aryl-, Nitro- oder Aminogruppen oder Halogen bedeutet, und das Copolymerisationsverhältnis x:y:z 5-50 : 5-85 : 10-60 beträgt, und (B) 3 - 30 Gew.-Teile eines aromatischen Diazoniumsalzes umfaßt.
- 2. Photosensitives Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,#daß das Copolymerisationsverhältnis x:y:z der Vinylpolymerverbindung 10-45 : 7-70 : 20-25 beträgt.
- 3. Photosensitives Material nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Grundmaterial ein Folienmaterial aus einem thermoplastischen oder wärmehärtenden Polymer, Metall oder Glas ist.
- 4. Verfahren zur Entwicklung eines photosensitiven Material nach einem der Ansprüche 1 - 3, dadurch gekennzeichnet, daß das photosensitive Material belichtet und mit Alkali entwickelt wird.
- 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymerisationsverhältnis x :y: z der Vinylpolymerverbindung 10-45 : 7-70 : 20-55 beträgt.
- 6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man eine wässrige Alkalilösung mit einem pH-Wert von 12,0 - 12,8 verwendet.
- 7. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß man einen Kuppler verwendet, der in einer wässrigen Alkalilösung aufgelöst wird und mit dem wasserlöslichen Diazoniumsalz (B) unter Ausbildung eines Azofarbstoffs reagiert.
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ID=13275560
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| EP0699960A1 (de) * | 1994-08-29 | 1996-03-06 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Gemisch |
| US5786122A (en) * | 1994-08-29 | 1998-07-28 | Agfa-Gevaert Ag | Photosensitive mixture comprising a diazonium salt, an amphophilic polymer and a nonionic surfactant |
| WO1999031149A1 (en) * | 1997-12-15 | 1999-06-24 | Clariant International, Ltd. | Chelated polyhydroxystyrene for removing metal ions from aqueous and nonaqueous systems |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH646800A5 (de) | 1984-12-14 |
| JPH0146861B2 (de) | 1989-10-11 |
| JPS56161537A (en) | 1981-12-11 |
| US4374193A (en) | 1983-02-15 |
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|
| D2 | Grant after examination | ||
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| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |