DE1196301B - Verfahren zur Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter Halbleiteranordnungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter HalbleiteranordnungenInfo
- Publication number
- DE1196301B DE1196301B DET27618A DET0027618A DE1196301B DE 1196301 B DE1196301 B DE 1196301B DE T27618 A DET27618 A DE T27618A DE T0027618 A DET0027618 A DE T0027618A DE 1196301 B DE1196301 B DE 1196301B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- circuit elements
- microminiaturized
- german
- production
- semiconductor devices
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/26—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/28—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback
- H03K3/281—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback using at least two transistors so coupled that the input of one is derived from the output of another, e.g. multivibrator
- H03K3/286—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback using at least two transistors so coupled that the input of one is derived from the output of another, e.g. multivibrator bistable
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/26—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/28—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback
- H03K3/281—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback using at least two transistors so coupled that the input of one is derived from the output of another, e.g. multivibrator
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/40—Resistors
- H10D1/43—Resistors having PN junctions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/60—Capacitors
- H10D1/62—Capacitors having potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/60—Capacitors
- H10D1/62—Capacitors having potential barriers
- H10D1/64—Variable-capacitance diodes, e.g. varactors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/60—Capacitors
- H10D1/62—Capacitors having potential barriers
- H10D1/66—Conductor-insulator-semiconductor capacitors, e.g. MOS capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/01—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/01—Manufacture or treatment
- H10D84/0112—Integrating together multiple components covered by H10D8/00, H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integrating multiple BJTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/01—Manufacture or treatment
- H10D84/02—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies
- H10D84/03—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies using Group IV technology, e.g. silicon technology or silicon-carbide [SiC] technology
- H10D84/038—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies using Group IV technology, e.g. silicon technology or silicon-carbide [SiC] technology using silicon technology, e.g. SiGe
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/201—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of only components covered by H10D1/00 or H10D8/00, e.g. RLC circuits
- H10D84/204—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of only components covered by H10D1/00 or H10D8/00, e.g. RLC circuits of combinations of diodes or capacitors or resistors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/60—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/60—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
- H10D84/611—Combinations of BJTs and one or more of diodes, resistors or capacitors
- H10D84/613—Combinations of vertical BJTs and one or more of diodes, resistors or capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- H10P10/00—
-
- H10P14/6309—
-
- H10P50/613—
-
- H10P76/40—
-
- H10P95/00—
-
- H10W10/00—
-
- H10W10/01—
-
- H10W10/031—
-
- H10W10/30—
-
- H10W20/497—
-
- H10W74/43—
-
- H10W72/07554—
-
- H10W72/536—
-
- H10W72/5473—
-
- H10W72/5522—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
- Y10S438/98—Utilizing process equivalents or options
Landscapes
- Power Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Element Separation (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Thyristors (AREA)
- Local Oxidation Of Silicon (AREA)
- Weting (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
3ES DEUTSCHEN
PATEKTAtIiIiS
Int. α.:
HOIl
Deutsche Kl.: 21g-11/02
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
T 27618 VIII c/21 g
5. Februar 1960
8. Juli 1965
5. Februar 1960
8. Juli 1965
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter Halbleiteranordnungen,
bei welchen eine Anzahl aktiver und/oder passiver elektrischer Schaltungselemente in
einem Halbleiterplättchen gebildet werden.
Zur Miniaturisierung von Schaltungsanordnungen ist bereits der theoretische Vorschlag bekannt, einen
Siliziumblock so zu dotieren und zu formen, daß er vier normalen Transistoren und vier Widerständen
äquivalent ist, wobei den Transistoren zwei Emitterzonen und zwei Kollektorzonen gemeinsam sind.
Weitere Widerstände und Kondensatoren sind unter Einfügung von isolierenden Schichten in Form von
Filmen unmittelbar so auf dem Siliziumblock gebildet, daß alle Schaltungselemente zusammen einen
Multivibrator bilden. Zu diesem Zweck sind parallel zu der Ober- und Unterseite des Siliziumblocks
zwei pn-Übergänge gebildet, die sich zu den Seitenflächen des Blocks erstrecken. Zur gegenseitigen
Trennung der einzelnen Transistoren und Widerstände sind Durchbohrungen von den Seitenflächen
her quer durch den Block sowie verschiedene Einschnitte gebildet, so daß schließlich die vier Ecken
des Blocks je einen Transistor darstellen, deren Kollektor- und Emitterzonen zum Teil durch stehengebliebene
Siliziumbrücken verbunden sind, welche die Rolle von Widerständen bilden. Zur Vervollständigung
der Schaltung sind Kontakte an den verschiedenen Flächen des Blocks, einschließlich der
Seitenflächen, sowie Verbindungsleiter zu den aufgebrachten filmförmigen Schaltungselementen angebracht.
Die bei diesem geplanten Multivibrator zur Trennung der Schaltungselemente erforderliche mechanische
Herstellung von Einschnitten und Durchbohrungen ist um so schwieriger, je kleiner die Abmessungen
des Halbleiterblocks sind. Der Miniaturisierung sind dadurch Grenzen gesetzt. Ferner ist die
Zahl der Schaltungselemente begrenzt, die auf diese Weise voneinander getrennt werden können, und die
zu trennenden Schaltungselemente müssen auch in bestimmter Anordnung vorliegen, damit die Einschnitte
und Durchbohrungen angebracht werden können, ohne daß die mechanische Festigkeit zu
sehr beeinträchtigt wird. Schließlich eignen sich solche mechanischen Bearbeitungsvorgänge, die von
verschiedenen Seiten aus an dem Halbleiterblock vorgenommen werden müssen, nur schlecht für eine
automatisierte Massenfertigung.
Ziel der Erfindung ist die Schaffung eines Verfahrens, mit welchem die erforderliche Trennung
der Schaltungselemente von mikrominiaturisierten, integrierten Halbleiterschaltungsanordnungen ohne
Verfahren zur Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter Halbleiteranordnungen
Anmelder:
Texas Instruments Incorporated,
Dallas, Tex. (V. St. A.)
Dallas, Tex. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. E. Prinz, Dr. rer. nat. G. Hauser
und Dipl.-Ing. G. Leiser, Patentanwälte,
München-Pasing, Ernsbergerstr. 19
und Dipl.-Ing. G. Leiser, Patentanwälte,
München-Pasing, Ernsbergerstr. 19
Als Erfinder benannt:
Jack St. Clair Kilby, Dallas, Tex. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
ao V. St. v. Amerika vom 6. Februar 1959 (791 602),
vom 12. Februar 1959 (792 840)
as mechanische Bearbeitung unter Anwendung von
Verfahrensschritten möglich ist, die mit den zur Herstellung der Schaltungselemente angewendeten Verfahrensschritten,
wie Maskierung und Diffusion vereinbar sind.
Nach der Erfindung wird dies dadurch erreicht, daß zur Abgrenzung des für jedes der Schaltungselemente
verwendeten Gebietes oder zur Schaffung der erforderlichen elektrischen Trennung zwischen
den Schaltungselementen in das Innere eines eigenleitenden Halbleiterplättchens Störstoffe an entsprechenden
Stellen eindiffundiert werden.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren erfolgt die elektrische Trennung zwischen den Schaltungselementen im Innern des Halbleiterplättchens durch
den hohen Widerstand des eigenleitenden Halbleitermaterials, der nur an den die Schaltungselemente
bildenden Gebieten durch die eindiffundierten Störstoffe herabgesetzt wird. Es ist daher
möglich, eine beliebige Zahl von gleichartigen oder verschiedenartigen Schaltungselementen in beliebiger
Anordnung in einem einzigen Halbleiterplättchen zu bilden, ohne daß diese sich gegenseitig beeinflussen.
Die Bildung dieser Schaltungselemente durch Diffusionsverfahren eignet sich besonders für eine Massenfertigung
und erlaubt die Herstellung von integrierten Halbleiterschaltungsanordnungen von äußerst
kleinen Abmessungen mit großer Präzision.
509 599/300
Das erfindungsgemäße Verfahren wird beispielsweise so durchgeführt, daß von einem Plättchen aus
einkristallinem Halbleitermaterial mit Eigenleitfähigkeit ausgegangen wird. Ein Plättchen ist ein
Körper mit zwei im wesentlichen parallelen Hauptflächen, deren Abmessungen groß gegen die Dicke
des Plättchens sind. In diesem Plättchen werden Schaltungselemente an der einen Hauptfläche dadurch
abgegrenzt, daß der Widerstand des eigenleitenden Halbleitermaterials durch Eindiffundieren
von Störstoffen an den entsprechenden Stellen herabgesetzt wird. Auf diese Weise können beispielsweise
Stromwege niedrigeren Widerstands gebildet werden, welche die Rolle von elektrischen Widerständen
spielen und durch das sie umgebende eigenleitende Material von den anderen im gleichen HaIbleiterplättchen
gebildeten Schaltungselementen praktisch isoliert sind.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter Halbleiteranordnungen, bei welchem eine Anzahl aktiver und/oder passiver elektrischer Schaltungselemente in einem HaIbleiterplättchen gebildet werden, dadurch gekennzeichnet, daß zur Abgrenzung des für jedes der Schaltungselemente verwendeten Gebietes oder zur Schaffung der erforderlichen elektrischen Trennung zwischen den Schaltungselementen in das Innere eines eigenleitenden Halbleiterplättchens Störstoffe an entsprechenden Stellen eindiffundiert werden.In Betracht gezogene Druckschriften:Deutsche Auslegeschriften Nr. 1 011 081, 1040 700;deutsche Patentschriften Nr. 833 366, 949 422; deutsches Gebrauchsmuster Nr. 1 672 315;britische Patentschriften Nr. 736 289, 761926, 805 207; ■■-·■belgische Patentschrift Nr. 550 586;USA.-Patentschriften Nr. 2 493 199, 2 629 802, 2 660 624, 2 662 957, 2 663 806, 2 663 830, 2 667 607, 2 680 220, 2 709 232, 2 735 948, 2 748 041, 2 816 228, 2 817 048,2 713 644,
2 824 977,2 836 776, 2 754 431, 2 847 583,2 856 544, 2 858 489, 2 878 147, 2 897 295, 2 910 634, 2 915 647, 2 916 408, 2 922 937, 2 935 668, 2 944 165, 2 967 952, 2 976 426,2 994 834, 2 995 686, 2 998 550, 3 005 937,3 022 472, 3 038 085, 3 070 466;Electronic & Radio Engineer, November S. 429;Aviation Week, April 8, 1957, S. 86 bis 94; Instruments & Automation, April 1957, S. 667 bis 668;
a5 Electronics, 7. 8. 1959, S. 110 bis 111; »Proceedings of an International Symposium onElectronic Components« by Dummer, S.4, Fig. 19, Royal Radar Establishment Malvern, England, bis 26. September 1957, veröffentlicht im United Kingdom August 1958;Control Engineering, Februar 1958, S. 31/32, »Army develops printed Transistors«.509 599/300 6.65 © Bandesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US791602A US3138743A (en) | 1959-02-06 | 1959-02-06 | Miniaturized electronic circuits |
| US792840A US3138747A (en) | 1959-02-06 | 1959-02-12 | Integrated semiconductor circuit device |
| US352380A US3261081A (en) | 1959-02-06 | 1964-03-16 | Method of making miniaturized electronic circuits |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1196301B true DE1196301B (de) | 1965-07-08 |
Family
ID=27408060
Family Applications (8)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DET27613A Pending DE1196296B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiterschaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DET27615A Pending DE1196298B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Verfahren zur Herstellung einer mikrominiaturisierten, integrierten Halbleiterschaltungsanordnung |
| DET17835A Pending DE1196295B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiterschaltungsanordnung |
| DE1960T0027614 Expired DE1196297C2 (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiterschaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DE19601196299D Expired DE1196299C2 (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte halbleiterschaltungsanordnung und verfahren zu ihrer herstellung |
| DET27617A Pending DE1196300B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiter-schaltungsanordnung |
| DET27618A Pending DE1196301B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Verfahren zur Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter Halbleiteranordnungen |
| DE19641439754 Pending DE1439754B2 (de) | 1959-02-06 | 1964-12-02 | Kondensator und verfahren zu seiner herstellung |
Family Applications Before (6)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DET27613A Pending DE1196296B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiterschaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DET27615A Pending DE1196298B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Verfahren zur Herstellung einer mikrominiaturisierten, integrierten Halbleiterschaltungsanordnung |
| DET17835A Pending DE1196295B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiterschaltungsanordnung |
| DE1960T0027614 Expired DE1196297C2 (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiterschaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DE19601196299D Expired DE1196299C2 (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte halbleiterschaltungsanordnung und verfahren zu ihrer herstellung |
| DET27617A Pending DE1196300B (de) | 1959-02-06 | 1960-02-05 | Mikrominiaturisierte, integrierte Halbleiter-schaltungsanordnung |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19641439754 Pending DE1439754B2 (de) | 1959-02-06 | 1964-12-02 | Kondensator und verfahren zu seiner herstellung |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US3138743A (de) |
| JP (1) | JPS6155256B1 (de) |
| AT (1) | AT247482B (de) |
| CH (8) | CH415868A (de) |
| DE (8) | DE1196296B (de) |
| DK (7) | DK104185C (de) |
| GB (14) | GB945744A (de) |
| MY (14) | MY6900286A (de) |
| NL (7) | NL6608447A (de) |
| SE (1) | SE314440B (de) |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1208012C2 (de) * | 1959-08-06 | 1966-10-20 | Telefunken Patent | Flaechentransistor fuer hohe Frequenzen mit einer Begrenzung der Emission des Emitters und Verfahren zum Herstellen |
| US3202891A (en) * | 1960-11-30 | 1965-08-24 | Gen Telephone & Elect | Voltage variable capacitor with strontium titanate dielectric |
| BE623677A (de) * | 1961-10-20 | |||
| NL298196A (de) * | 1962-09-22 | |||
| US3235945A (en) * | 1962-10-09 | 1966-02-22 | Philco Corp | Connection of semiconductor elements to thin film circuits using foil ribbon |
| GB1047390A (de) * | 1963-05-20 | 1900-01-01 | ||
| US3300832A (en) * | 1963-06-28 | 1967-01-31 | Rca Corp | Method of making composite insulatorsemiconductor wafer |
| BE650116A (de) * | 1963-07-05 | 1900-01-01 | ||
| US3290758A (en) * | 1963-08-07 | 1966-12-13 | Hybrid solid state device | |
| US3264493A (en) * | 1963-10-01 | 1966-08-02 | Fairchild Camera Instr Co | Semiconductor circuit module for a high-gain, high-input impedance amplifier |
| US3341755A (en) * | 1964-03-20 | 1967-09-12 | Westinghouse Electric Corp | Switching transistor structure and method of making the same |
| US3323071A (en) * | 1964-07-09 | 1967-05-30 | Nat Semiconductor Corp | Semiconductor circuit arrangement utilizing integrated chopper element as zener-diode-coupled transistor |
| US3274670A (en) * | 1965-03-18 | 1966-09-27 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor contact |
| US3430110A (en) * | 1965-12-02 | 1969-02-25 | Rca Corp | Monolithic integrated circuits with a plurality of isolation zones |
| US3486085A (en) * | 1966-03-30 | 1969-12-23 | Intelligent Instr Inc | Multilayer integrated circuit structure |
| US3562560A (en) * | 1967-08-23 | 1971-02-09 | Hitachi Ltd | Transistor-transistor logic |
| US3521134A (en) * | 1968-11-14 | 1970-07-21 | Hewlett Packard Co | Semiconductor connection apparatus |
| US4416049A (en) * | 1970-05-30 | 1983-11-22 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor integrated circuit with vertical implanted polycrystalline silicon resistor |
| CA1007308A (en) * | 1972-12-29 | 1977-03-22 | Jack A. Dorler | Cross-coupled capacitor for ac performance tuning |
| US4285001A (en) * | 1978-12-26 | 1981-08-18 | Board Of Trustees Of Leland Stanford Jr. University | Monolithic distributed resistor-capacitor device and circuit utilizing polycrystalline semiconductor material |
| US4603372A (en) * | 1984-11-05 | 1986-07-29 | Direction De La Meteorologie Du Ministere Des Transports | Method of fabricating a temperature or humidity sensor of the thin film type, and sensors obtained thereby |
| US5144158A (en) * | 1984-11-19 | 1992-09-01 | Fujitsu Limited | ECL latch circuit having a noise resistance circuit in only one feedback path |
| FR2596922B1 (fr) * | 1986-04-04 | 1988-05-20 | Thomson Csf | Resistance integree sur un substrat semi-conducteur |
| AU3549600A (en) * | 1999-08-30 | 2001-03-26 | Institute Of Biophysics Chinese Academy Of Sciences | A parallel plate diode |
| KR100368930B1 (ko) * | 2001-03-29 | 2003-01-24 | 한국과학기술원 | 반도체 기판 위에 높이 떠 있는 3차원 금속 소자, 그 회로모델, 및 그 제조방법 |
| US7415421B2 (en) * | 2003-02-12 | 2008-08-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for implementing an engineering change across fab facilities |
| US7297589B2 (en) | 2005-04-08 | 2007-11-20 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Transistor device and method |
| US7741971B2 (en) * | 2007-04-22 | 2010-06-22 | James Neil Rodgers | Split chip |
| JP2009231891A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
| US8786355B2 (en) * | 2011-11-10 | 2014-07-22 | Qualcomm Incorporated | Low-power voltage reference circuit |
| US9900943B2 (en) | 2016-05-23 | 2018-02-20 | On-Bright Electronics (Shanghai) Co., Ltd. | Two-terminal integrated circuits with time-varying voltage-current characteristics including phased-locked power supplies |
| CN105979626B (zh) | 2016-05-23 | 2018-08-24 | 昂宝电子(上海)有限公司 | 包括锁相电源的具有时变电压电流特性的双端子集成电路 |
| US10872950B2 (en) | 2016-10-04 | 2020-12-22 | Nanohenry Inc. | Method for growing very thick thermal local silicon oxide structures and silicon oxide embedded spiral inductors |
| US11325093B2 (en) | 2020-01-24 | 2022-05-10 | BiologIC Technologies Limited | Modular reactor systems and devices, methods of manufacturing the same and methods of performing reactions |
Citations (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE550586A (de) * | 1955-12-02 | |||
| US2493199A (en) * | 1947-08-15 | 1950-01-03 | Globe Union Inc | Electric circuit component |
| DE833366C (de) * | 1949-04-14 | 1952-06-30 | Siemens & Halske A G | Halbleiterverstaerker |
| US2629802A (en) * | 1951-12-07 | 1953-02-24 | Rca Corp | Photocell amplifier construction |
| US2660624A (en) * | 1949-02-24 | 1953-11-24 | Rca Corp | High input impedance semiconductor amplifier |
| US2662957A (en) * | 1949-10-29 | 1953-12-15 | Eisler Paul | Electrical resistor or semiconductor |
| US2663830A (en) * | 1952-10-22 | 1953-12-22 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor signal translating device |
| US2663806A (en) * | 1952-05-09 | 1953-12-22 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor signal translating device |
| US2667607A (en) * | 1952-04-26 | 1954-01-26 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor circuit element |
| DE1672315U (de) * | 1952-07-29 | 1954-02-25 | Licentia Gmbh | Gleichrichter aus einem halbleitermaterial, das mit hoher stromdichte belastet werden kann. |
| US2680220A (en) * | 1950-06-09 | 1954-06-01 | Int Standard Electric Corp | Crystal diode and triode |
| US2709232A (en) * | 1952-04-15 | 1955-05-24 | Licentia Gmbh | Controllable electrically unsymmetrically conductive device |
| US2713644A (en) * | 1954-06-29 | 1955-07-19 | Rca Corp | Self-powered semiconductor devices |
| GB736289A (en) * | 1952-12-19 | 1955-09-07 | Gen Ral Electric Company | Improvements relating to transistor amplifiers |
| US2735948A (en) * | 1953-01-21 | 1956-02-21 | Output | |
| US2748041A (en) * | 1952-08-30 | 1956-05-29 | Rca Corp | Semiconductor devices and their manufacture |
| US2754431A (en) * | 1953-03-09 | 1956-07-10 | Rca Corp | Semiconductor devices |
| DE949422C (de) * | 1953-02-02 | 1956-09-20 | Philips Nv | Transistorelement und Schaltung mit demselben zum Verstaerken eines elektrischen Signals |
| GB761926A (en) * | 1953-08-03 | 1956-11-21 | Rca Corp | Self-powered semiconductive devices |
| DE1011081B (de) * | 1953-08-18 | 1957-06-27 | Siemens Ag | Zu einem Bauelement zusammengefasste Widerstandskondensator-Kombination |
| US2816228A (en) * | 1953-05-21 | 1957-12-10 | Rca Corp | Semiconductor phase shift oscillator and device |
| US2817048A (en) * | 1954-12-16 | 1957-12-17 | Siemens Ag | Transistor arrangement |
| US2824977A (en) * | 1954-12-24 | 1958-02-25 | Rca Corp | Semiconductor devices and systems |
| US2836776A (en) * | 1955-05-07 | 1958-05-27 | Nippon Electric Co | Capacitor |
| US2847583A (en) * | 1954-12-13 | 1958-08-12 | Rca Corp | Semiconductor devices and stabilization thereof |
| DE1040700B (de) * | 1956-11-16 | 1958-10-09 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines Diffusionstransistors |
| US2856544A (en) * | 1956-04-18 | 1958-10-14 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductive pulse translator |
| US2858489A (en) * | 1955-11-04 | 1958-10-28 | Westinghouse Electric Corp | Power transistor |
| GB805207A (en) * | 1955-06-20 | 1958-12-03 | Western Electric Co | Electric circuit devices utilizing semiconductor bodies and circuits including such devices |
| US2878147A (en) * | 1956-04-03 | 1959-03-17 | Beale Julian Robert Anthony | Method of making semi-conductive device |
| US2897295A (en) * | 1956-06-28 | 1959-07-28 | Honeywell Regulator Co | Cascaded tetrode transistor amplifier |
| US2910634A (en) * | 1957-05-31 | 1959-10-27 | Ibm | Semiconductor device |
| US2915647A (en) * | 1955-07-13 | 1959-12-01 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductive switch and negative resistance |
| US2916408A (en) * | 1956-03-29 | 1959-12-08 | Raytheon Co | Fabrication of junction transistors |
| US2922937A (en) * | 1956-02-08 | 1960-01-26 | Gen Electric | Capacitor and dielectric material therefor |
| US2935668A (en) * | 1951-01-05 | 1960-05-03 | Sprague Electric Co | Electrical capacitors |
| US2944165A (en) * | 1956-11-15 | 1960-07-05 | Otmar M Stuetzer | Semionductive device powered by light |
| US2967952A (en) * | 1956-04-25 | 1961-01-10 | Shockley William | Semiconductor shift register |
| US2976426A (en) * | 1953-08-03 | 1961-03-21 | Rca Corp | Self-powered semiconductive device |
| US2994834A (en) * | 1956-02-29 | 1961-08-01 | Baldwin Piano Co | Transistor amplifiers |
| US2995686A (en) * | 1959-03-02 | 1961-08-08 | Sylvania Electric Prod | Microelectronic circuit module |
| US2998550A (en) * | 1954-06-30 | 1961-08-29 | Rca Corp | Apparatus for powering a plurality of semi-conducting units from a single radioactive battery |
| US3005937A (en) * | 1958-08-21 | 1961-10-24 | Rca Corp | Semiconductor signal translating devices |
| US3022472A (en) * | 1958-01-22 | 1962-02-20 | Bell Telephone Labor Inc | Variable equalizer employing semiconductive element |
| US3038085A (en) * | 1958-03-25 | 1962-06-05 | Rca Corp | Shift-register utilizing unitary multielectrode semiconductor device |
| US3070466A (en) * | 1959-04-30 | 1962-12-25 | Ibm | Diffusion in semiconductor material |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE553173A (de) * | 1954-05-10 | |||
| NL92927C (de) * | 1954-07-27 | |||
| US2889469A (en) * | 1955-10-05 | 1959-06-02 | Rca Corp | Semi-conductor electrical pulse counting means |
| US2814853A (en) * | 1956-06-14 | 1957-12-03 | Power Equipment Company | Manufacturing transistors |
| US2866140A (en) * | 1957-01-11 | 1958-12-23 | Texas Instruments Inc | Grown junction transistors |
| NL228981A (de) * | 1957-06-25 | |||
| GB800221A (en) * | 1957-09-10 | 1958-08-20 | Nat Res Dev | Improvements in or relating to semi-conductor devices |
-
0
- GB GB945742D patent/GB945742A/en active Active
- GB GB945740D patent/GB945740A/en active Active
- GB GB945747D patent/GB945747A/en active Active
-
1959
- 1959-02-06 US US791602A patent/US3138743A/en not_active Expired - Lifetime
- 1959-02-12 US US792840A patent/US3138747A/en not_active Expired - Lifetime
-
1960
- 1960-02-02 GB GB27540/63A patent/GB945744A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB27195/63A patent/GB945739A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB3836/63A patent/GB945738A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB32744/63A patent/GB945749A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB27541/63A patent/GB945745A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB27326/63A patent/GB945743A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB27197/63A patent/GB945741A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB5691/62A patent/GB945737A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB3633/60A patent/GB945734A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB28005/60D patent/GB945748A/en not_active Expired
- 1960-02-02 GB GB27542/63A patent/GB945746A/en not_active Expired
- 1960-02-05 DK DK258565AA patent/DK104185C/da active
- 1960-02-05 DK DK258265AA patent/DK104470C/da active
- 1960-02-05 DK DK258365AA patent/DK104007C/da active
- 1960-02-05 DE DET27613A patent/DE1196296B/de active Pending
- 1960-02-05 DE DET27615A patent/DE1196298B/de active Pending
- 1960-02-05 DK DK258665AA patent/DK104005C/da active
- 1960-02-05 DE DET17835A patent/DE1196295B/de active Pending
- 1960-02-05 DE DE1960T0027614 patent/DE1196297C2/de not_active Expired
- 1960-02-05 DK DK258465AA patent/DK104008C/da active
- 1960-02-05 DK DK45460AA patent/DK103790C/da active
- 1960-02-05 DE DE19601196299D patent/DE1196299C2/de not_active Expired
- 1960-02-05 DE DET27617A patent/DE1196300B/de active Pending
- 1960-02-05 DE DET27618A patent/DE1196301B/de active Pending
- 1960-02-05 DK DK258165AA patent/DK104006C/da active
- 1960-02-06 CH CH738864A patent/CH415868A/fr unknown
- 1960-02-06 CH CH738664A patent/CH415867A/fr unknown
- 1960-02-06 CH CH738564A patent/CH416845A/fr unknown
- 1960-02-06 CH CH70665A patent/CH410201A/fr unknown
- 1960-02-06 CH CH291263A patent/CH387799A/fr unknown
- 1960-02-06 AT AT926861A patent/AT247482B/de active
- 1960-02-06 CH CH131460A patent/CH410194A/fr unknown
- 1960-02-06 CH CH738964A patent/CH415869A/fr unknown
- 1960-02-06 CH CH738764A patent/CH380824A/fr unknown
-
1964
- 1964-03-16 US US352380A patent/US3261081A/en not_active Expired - Lifetime
- 1964-06-23 SE SE763964A patent/SE314440B/xx unknown
- 1964-12-02 DE DE19641439754 patent/DE1439754B2/de active Pending
-
1966
- 1966-06-17 NL NL6608447A patent/NL6608447A/xx unknown
- 1966-06-17 NL NL6608445A patent/NL6608445A/xx unknown
- 1966-06-17 NL NL6608451A patent/NL6608451A/xx unknown
- 1966-06-17 NL NL6608452A patent/NL134915C/xx active
- 1966-06-17 NL NL6608448A patent/NL6608448A/xx unknown
- 1966-06-17 NL NL6608446A patent/NL6608446A/xx unknown
- 1966-06-17 NL NL6608449A patent/NL6608449A/xx unknown
-
1969
- 1969-12-31 MY MY1969286A patent/MY6900286A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969284A patent/MY6900284A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969301A patent/MY6900301A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969315A patent/MY6900315A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969292A patent/MY6900292A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969302A patent/MY6900302A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969283A patent/MY6900283A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969285A patent/MY6900285A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969293A patent/MY6900293A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969287A patent/MY6900287A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969296A patent/MY6900296A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969290A patent/MY6900290A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969300A patent/MY6900300A/xx unknown
- 1969-12-31 MY MY1969291A patent/MY6900291A/xx unknown
-
1971
- 1971-12-21 JP JP46103280A patent/JPS6155256B1/ja active Pending
Patent Citations (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2493199A (en) * | 1947-08-15 | 1950-01-03 | Globe Union Inc | Electric circuit component |
| US2660624A (en) * | 1949-02-24 | 1953-11-24 | Rca Corp | High input impedance semiconductor amplifier |
| DE833366C (de) * | 1949-04-14 | 1952-06-30 | Siemens & Halske A G | Halbleiterverstaerker |
| US2662957A (en) * | 1949-10-29 | 1953-12-15 | Eisler Paul | Electrical resistor or semiconductor |
| US2680220A (en) * | 1950-06-09 | 1954-06-01 | Int Standard Electric Corp | Crystal diode and triode |
| US2935668A (en) * | 1951-01-05 | 1960-05-03 | Sprague Electric Co | Electrical capacitors |
| US2629802A (en) * | 1951-12-07 | 1953-02-24 | Rca Corp | Photocell amplifier construction |
| US2709232A (en) * | 1952-04-15 | 1955-05-24 | Licentia Gmbh | Controllable electrically unsymmetrically conductive device |
| US2667607A (en) * | 1952-04-26 | 1954-01-26 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor circuit element |
| US2663806A (en) * | 1952-05-09 | 1953-12-22 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor signal translating device |
| DE1672315U (de) * | 1952-07-29 | 1954-02-25 | Licentia Gmbh | Gleichrichter aus einem halbleitermaterial, das mit hoher stromdichte belastet werden kann. |
| US2748041A (en) * | 1952-08-30 | 1956-05-29 | Rca Corp | Semiconductor devices and their manufacture |
| US2663830A (en) * | 1952-10-22 | 1953-12-22 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor signal translating device |
| GB736289A (en) * | 1952-12-19 | 1955-09-07 | Gen Ral Electric Company | Improvements relating to transistor amplifiers |
| US2735948A (en) * | 1953-01-21 | 1956-02-21 | Output | |
| DE949422C (de) * | 1953-02-02 | 1956-09-20 | Philips Nv | Transistorelement und Schaltung mit demselben zum Verstaerken eines elektrischen Signals |
| US2754431A (en) * | 1953-03-09 | 1956-07-10 | Rca Corp | Semiconductor devices |
| US2816228A (en) * | 1953-05-21 | 1957-12-10 | Rca Corp | Semiconductor phase shift oscillator and device |
| GB761926A (en) * | 1953-08-03 | 1956-11-21 | Rca Corp | Self-powered semiconductive devices |
| US2976426A (en) * | 1953-08-03 | 1961-03-21 | Rca Corp | Self-powered semiconductive device |
| DE1011081B (de) * | 1953-08-18 | 1957-06-27 | Siemens Ag | Zu einem Bauelement zusammengefasste Widerstandskondensator-Kombination |
| US2713644A (en) * | 1954-06-29 | 1955-07-19 | Rca Corp | Self-powered semiconductor devices |
| US2998550A (en) * | 1954-06-30 | 1961-08-29 | Rca Corp | Apparatus for powering a plurality of semi-conducting units from a single radioactive battery |
| US2847583A (en) * | 1954-12-13 | 1958-08-12 | Rca Corp | Semiconductor devices and stabilization thereof |
| US2817048A (en) * | 1954-12-16 | 1957-12-17 | Siemens Ag | Transistor arrangement |
| US2824977A (en) * | 1954-12-24 | 1958-02-25 | Rca Corp | Semiconductor devices and systems |
| US2836776A (en) * | 1955-05-07 | 1958-05-27 | Nippon Electric Co | Capacitor |
| GB805207A (en) * | 1955-06-20 | 1958-12-03 | Western Electric Co | Electric circuit devices utilizing semiconductor bodies and circuits including such devices |
| US2915647A (en) * | 1955-07-13 | 1959-12-01 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductive switch and negative resistance |
| US2858489A (en) * | 1955-11-04 | 1958-10-28 | Westinghouse Electric Corp | Power transistor |
| BE550586A (de) * | 1955-12-02 | |||
| US2922937A (en) * | 1956-02-08 | 1960-01-26 | Gen Electric | Capacitor and dielectric material therefor |
| US2994834A (en) * | 1956-02-29 | 1961-08-01 | Baldwin Piano Co | Transistor amplifiers |
| US2916408A (en) * | 1956-03-29 | 1959-12-08 | Raytheon Co | Fabrication of junction transistors |
| US2878147A (en) * | 1956-04-03 | 1959-03-17 | Beale Julian Robert Anthony | Method of making semi-conductive device |
| US2856544A (en) * | 1956-04-18 | 1958-10-14 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductive pulse translator |
| US2967952A (en) * | 1956-04-25 | 1961-01-10 | Shockley William | Semiconductor shift register |
| US2897295A (en) * | 1956-06-28 | 1959-07-28 | Honeywell Regulator Co | Cascaded tetrode transistor amplifier |
| US2944165A (en) * | 1956-11-15 | 1960-07-05 | Otmar M Stuetzer | Semionductive device powered by light |
| DE1040700B (de) * | 1956-11-16 | 1958-10-09 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines Diffusionstransistors |
| US2910634A (en) * | 1957-05-31 | 1959-10-27 | Ibm | Semiconductor device |
| US3022472A (en) * | 1958-01-22 | 1962-02-20 | Bell Telephone Labor Inc | Variable equalizer employing semiconductive element |
| US3038085A (en) * | 1958-03-25 | 1962-06-05 | Rca Corp | Shift-register utilizing unitary multielectrode semiconductor device |
| US3005937A (en) * | 1958-08-21 | 1961-10-24 | Rca Corp | Semiconductor signal translating devices |
| US2995686A (en) * | 1959-03-02 | 1961-08-08 | Sylvania Electric Prod | Microelectronic circuit module |
| US3070466A (en) * | 1959-04-30 | 1962-12-25 | Ibm | Diffusion in semiconductor material |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1196301B (de) | Verfahren zur Herstellung mikrominiaturisierter, integrierter Halbleiteranordnungen | |
| DE1207511B (de) | Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE1933731C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer integrierten Halbleiterschaltung | |
| DE1216437C2 (de) | Verfahren zur herstellung einer mikrominiaturisierten integrierten halbleiterschaltungsanordnung | |
| EP0078337B1 (de) | Kontakteinrichtung zur lösbaren Verbindung elektrischer Bauteile | |
| DE2758140A1 (de) | Monolithisch integrierte halbleiterschaltungen tragender modul | |
| DE19501557C2 (de) | CMOS-Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE2754354A1 (de) | Programmierbare logische baugruppenanordnung | |
| AT502128A2 (de) | Konfigurierbare integrierte schaltung mit kondensatorgruppe unter verwendung von via- maskenschichten | |
| DE1902369C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von integrierten Schaltungen | |
| DE1207014B (de) | Verfahren zum Herstellen einer integrierten Halbleiterschaltungsanordnung | |
| DE2554612A1 (de) | Integrierte halbleiterschaltung | |
| EP1145315A1 (de) | Vertikal integrierte halbleiteranordnung | |
| DE2354567A1 (de) | Digital-analog-umsetzer | |
| EP0167732B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Basismaterials für eine Hybridschaltung | |
| DE1589918B2 (de) | Verfahren zum Herstellen integrierter Halbleiterschaltungen | |
| DE1906324C3 (de) | Integrierte Halbleiteranordnung mit vier auf dem gleichen Halbleitersubstrat angeordneten und elektrisch miteinander verbundenen Feldeffekttransistorelementen | |
| DE1144763B (de) | Elektronische Schalteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| EP0166027A2 (de) | In C-MOS-Technik realisierte Basiszelle | |
| DE3630388A1 (de) | Programmierbare logische anordung | |
| DE2536624A1 (de) | Traegeranordnung fuer integrierte halbleiterschaltungen | |
| EP0317806B1 (de) | Integrierte Schaltungsanordnung mit einer Kapazität | |
| DE1196794C2 (de) | Halbleiterbauelement mit einem scheiben-foermigen Halbleiterkoerper, insbesondere Transistor, und Verfahren zum Herstellen | |
| DE1207013B (de) | Mikrominiaturisierte integrierte Halbleiter-schaltungsanordnung und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE1285581C2 (de) | Traeger mit einer Mikroschaltung und Verfahren zu seiner Herstellung |