DE102024204566A1

DE102024204566A1 - MONOLITHIC SEALING PLUG AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM

Info

Publication number: DE102024204566A1
Application number: DE102024204566.7A
Authority: DE
Inventors: Eduard SCHWEIGERT; Paul Buettner; Anton Hahnenkamm
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2024-05-17
Filing date: 2024-05-17
Publication date: 2025-03-13

Abstract

Ein monolithischer Dichtstopfen (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) zum Verschließen einer Bohrung (130), wobei der monolithische Dichtstopfen (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) innerhalb der Bohrung mit Hilfe einer elastischen und/oder plastischen Verformung von einem Ausgangszustand (Z1), in welchem der monolithische Dichtstopfen (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) in die Bohrung (130) einführbar ist, in einen Dichtzustand (Z2), in welchem der monolithische Dichtstopfen (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) fluiddicht an einer Innenfläche (136) der Bohrung (130) anliegt, verbringbar ist.

A monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) for closing a bore (130), wherein the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) within the bore by means of an elastic and/or plastic deformation from an initial state (Z1), in which the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) can be inserted into the bore (130), into a sealing state (Z2), in which the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) is fluid-tightly connected to an inner surface (136) of the bore (130).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen monolithischen Dichtstopfen und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen monolithischen Dichtstopfen.The present invention relates to a monolithic sealing plug and a projection exposure system with such a monolithic sealing plug.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Microlithography is used to manufacture microstructured components, such as integrated circuits. The microlithography process is carried out using a lithography system equipped with an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by the projection system onto a substrate, such as a silicon wafer, coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system in order to transfer the mask structure to the light-sensitive coating of the substrate.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden.Driven by the pursuit of ever smaller structures in the production of integrated circuits, EUV lithography systems are currently being developed that use light with a wavelength in the range of 0.1 nm to 30 nm, particularly 13.5 nm. Due to the high absorption of light at this wavelength by most materials, such EUV lithography systems require the use of reflective optics, i.e., mirrors, instead of the previously used refractive optics, i.e., lenses.

Ein wie zuvor erläutertes Projektionssystem kann Komponenten, beispielsweise Tragstrukturen für die zuvor erwähnten Optiken, aufweisen, welche im Betrieb des Projektionssystems zu kühlen sind. Hierzu kann ein Kühlsystem eingesetzt werden. Um Wärme von einer wie zuvor erwähnten Komponente abzuführen, werden in die Komponente Kühlkanäle in Form von Bohrungen eingebracht. Diese Bohrungen können aus unterschiedlichen Richtungen in die Komponente eingearbeitet werden. Um innerhalb der Komponente einen Richtungswechsel eines derartigen Kühlkanals zu ermöglichen, können sich beispielsweise zwei Bohrungen schneiden, wobei ein Teil der Bohrungen mit Dichtstopfen verschlossen werden kann.A projection system as previously explained may have components, such as support structures for the aforementioned optics, which need to be cooled during operation of the projection system. A cooling system may be used for this purpose. To dissipate heat from a component as previously mentioned, cooling channels in the form of holes are introduced into the component. These holes can be machined into the component from different directions. To enable a change in direction of such a cooling channel within the component, two holes can, for example, intersect, with some of the holes being able to be closed with sealing plugs.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, einen verbesserten Dichtstopfen bereitzustellen.Against this background, it is an object of the present invention to provide an improved sealing plug.

Demgemäß wird ein monolithischer Dichtstopfen zum Verschließen einer Bohrung vorgeschlagen. Dabei ist der monolithische Dichtstopfen innerhalb der Bohrung mit Hilfe einer elastischen und/oder plastischen Verformung von einem Ausgangszustand, in welchem der monolithische Dichtstopfen in die Bohrung einführbar ist, in einen Dichtzustand, in welchem der monolithische Dichtstopfen fluiddicht an einer Innenfläche der Bohrung anliegt, verbringbar.Accordingly, a monolithic sealing plug for sealing a bore is proposed. The monolithic sealing plug can be moved within the bore by means of elastic and/or plastic deformation from an initial state in which the monolithic sealing plug can be inserted into the bore to a sealing state in which the monolithic sealing plug rests fluid-tight against an inner surface of the bore.

Dadurch, dass der Dichtstopfen monolithisch ist, ergibt sich ein reinigbares und einteiliges Design. Bei der Montage des monolithischen Dichtstopfens erfolgt keine Partikelerzeugung. Ferner wird durch die monolithische Bauweise erreicht, dass keine virtuellen Lecks entstehen können.The monolithic design of the sealing plug results in a cleanable, one-piece design. No particles are generated during installation. Furthermore, the monolithic construction prevents the occurrence of virtual leaks.

Darunter, dass der Dichtstopfen „monolithisch“ ist, ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass der monolithische Dichtstopfen nicht aus unterschiedlichen Unterbauteilen zusammengesetzt ist, sondern dass der monolithische Dichtstopfen ein durchgehendes Bauteil bildet. Insbesondere ist der monolithische Dichtstopfen durchgehend aus demselben Material gefertigt. Vorzugsweise ist der monolithische Dichtstopfen aus einem metallischen Werkstoff, wie beispielsweise einer duktilen Edelstrahllegierung oder einer Aluminiumlegierung, gefertigt. Der monolithische Dichtstopfen kann beispielsweise mit Hilfe eines generativen oder additiven Fertigungsverfahrens, insbesondere mit Hilfe eines 3D-Druckverfahrens, hergestellt sein. Der monolithische Dichtstopfen kann auch als materialeinstückiger Dichtstopfen bezeichnet werden, da der monolithische Dichtstopfen durchgehend aus demselben Material gefertigt ist. Demgemäß können vorliegend die Begriffe „monolithisch“ und „materialeinstückig“ beliebig gegeneinander getauscht werden.The term "monolithic" in this case means, in particular, that the monolithic sealing plug is not composed of different sub-components, but rather that the monolithic sealing plug forms a continuous component. In particular, the monolithic sealing plug is made entirely of the same material. Preferably, the monolithic sealing plug is made entirely of a metallic material, such as a ductile stainless steel alloy or an aluminum alloy. The monolithic sealing plug can be manufactured, for example, using a generative or additive manufacturing process, in particular using a 3D printing process. The monolithic sealing plug can also be referred to as a single-piece sealing plug, since the monolithic sealing plug is made entirely of the same material. Accordingly, the terms "monolithic" and "single-piece" can be interchanged at will.

Die Bohrung ist insbesondere innerhalb einer Komponente vorgesehen. Die Komponente ist vorzugsweise Teil einer Projektionsoptik oder eines Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage. Die Bohrung kann Teil eines durch die Komponente verlaufenden Kühlkanals sein. Die Komponente kann beliebig viele Bohrungen aufweisen. Nachfolgend wird auf nur eine Bohrung eingegangen.The bore is provided, in particular, within a component. The component is preferably part of a projection optics or an illumination system of a projection exposure system. The bore can be part of a cooling channel running through the component. The component can have any number of bores. Only one bore will be discussed below.

Die Bohrung kann eine Stufenbohrung sein. Das heißt insbesondere, dass die Bohrung mehrere Bohrungsabschnitte mit unterschiedlichen Durchmessern aufweisen kann. Beispielsweise weist die Bohrung einen ersten Bohrungsabschnitt und einen zweiten Bohrungsabschnitt auf, wobei der zweite Bohrungsabschnitt beispielsweise einen größeren Durchmesser als der erste Bohrungsabschnitt aufweist. In diesem Fall ist zwischen dem ersten Bohrungsabschnitt und dem zweiten Bohrungsabschnitt ein Absatz oder eine Schulter vorgesehen, an welcher sich der monolithische Dichtstopfen abstützen kann.The bore can be a stepped bore. This means, in particular, that the bore can have multiple bore sections with different diameters. For example, the bore has a first bore section and a second bore section, wherein the second bore section has, for example, a larger diameter than the first bore section. In this case, a shoulder or step is provided between the first bore section and the second bore section, against which the monolithic sealing plug can be supported.

Unter einer „elastischen Verformung“ ist vorliegend eine Verformung zu verstehen, welche reversibel ist. Beispielsweise kann auf den monolithischen Dichtstopfen eine Kraft aufgebracht werden, welche zu einer Verformung des monolithischen Dichtstopfens führt. Wirkt diese Kraft nicht mehr auf den monolithischen Dichtstopfen, so verformt sich dieser selbstständig zurück. Im Gegensatz hierzu ist unter einer „plastischen Verformung“ eine nicht reversible Verformung des monolithischen Dichtstopfens zu verstehen.In this context, "elastic deformation" refers to deformation that is reversible. For example, a force can be applied to the monolithic sealing plug, causing it to deform. Once this force is removed, the monolithic sealing plug will automatically return to its original shape. In contrast, "plastic deformation" refers to a non-reversible deformation of the monolithic sealing plug.

Um den monolithischen Dichtstopfen von dem Ausgangszustand in den Dichtzustand zu verbringen, kann der monolithischen Dichtstopfen rein elastisch, rein plastisch oder sowohl elastisch als auch plastisch verformt werden. Der monolithische Dichtstopfen kann auch von dem Dichtzustand zurück in den Ausgangszustand verbracht werden. Hierzu ist wiederum eine elastische und/oder plastische Verformung des monolithischen Dichtstopfens erforderlich. Dies kann mit Hilfe eines geeigneten Werkzeugs erfolgen.To transform the monolithic sealing plug from its initial state to its sealed state, it can be deformed purely elastically, purely plastically, or both elastically and plastically. The monolithic sealing plug can also be returned from the sealed state to its initial state. This, in turn, requires elastic and/or plastic deformation of the monolithic sealing plug. This can be achieved using a suitable tool.

Darunter, dass der monolithische Dichtstopfen in dem Ausgangszustand in die Bohrung „einführbar“ ist, ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass der monolithische Dichtstopfen in dem Ausgangszustand in die Bohrung eingebracht und wieder aus dieser entfernt werden kann. Mit anderen Worten ist der monolithische Dichtstopfen in dem Ausgangszustand spielbehaftet in der Bohrung aufgenommen. Sobald der monolithische Dichtstopfen aus dem Ausgangszustand in den Dichtzustand verbracht wird, stützt sich dieser an der Innenfläche der Bohrung ab, so dass der monolithische Dichtstopfen in dem Dichtzustand nicht mehr aus der Bohrung entnehmbar ist.In this context, the term "insertable" for the monolithic sealing plug in its initial state into the bore means, in particular, that the monolithic sealing plug can be inserted into the bore in its initial state and removed from it again. In other words, the monolithic sealing plug is received in the bore with a certain amount of play in its initial state. As soon as the monolithic sealing plug is moved from its initial state into the sealed state, it rests against the inner surface of the bore, so that the monolithic sealing plug can no longer be removed from the bore in the sealed state.

Unter „fluiddicht“ kann vorliegend sowohl gasdicht als auch flüssigkeitsdicht zu verstehen sein. Die Innenfläche der Bohrung ist vorzugsweise zylinderförmig. Demgemäß weist auch der monolithische Dichtstopfen im Wesentlichen eine zylinderförmige Geometrie auf. Dem monolithischen Dichtstopfen ist vorzugsweise eine Mittel- oder Symmetrieachse zugeordnet, zu welcher der monolithische Dichtstopfen rotationssymmetrisch aufgebaut ist.In this context, "fluid-tight" can be understood as both gas-tight and liquid-tight. The inner surface of the bore is preferably cylindrical. Accordingly, the monolithic sealing plug also has a substantially cylindrical geometry. The monolithic sealing plug is preferably assigned a central or symmetry axis, with respect to which the monolithic sealing plug is rotationally symmetrical.

Gemäß einer Ausführungsform weist der monolithische Dichtstopfen eine stirnseitige Dichtwand und eine rohrförmige Außenwand auf, wobei sich die Außenwand bei einem Verbringen des monolithischen Dichtstopfens von dem Ausgangszustand in den Dichtzustand radial aufweitet.According to one embodiment, the monolithic sealing plug has a front sealing wall and a tubular outer wall, wherein the outer wall expands radially when the monolithic sealing plug is moved from the initial state into the sealed state.

Mit anderen Worten wird der monolithische Dichtstopfen dadurch in der Bohrung verstemmt, dass die Außenwand radial aufgeweitet wird. Dies wird dadurch erzielt, dass der monolithische Dichtstopfen von dem Ausgangszustand in den Dichtzustand verbracht wird. Unter „radial“ ist vorliegend zu verstehen, dass die Außenwand sich in einer Radialrichtung des monolithischen Dichtstopfens, die senkrecht zu der Symmetrieachse und von dieser weg orientiert ist, aufweitet. Mit der stirnseitigen Dichtwand kann der monolithische Dichtstopfen an der zuvor erwähnten Schulter der Bohrung anliegen. Die Dichtwand und die Außenwand sind einstückig, insbesondere materialeinstückig, miteinander verbunden. Unter „einstückig“ oder „einteilig“ ist vorliegend zu verstehen, dass die Dichtwand und die Außenwand keine voneinander getrennten Bauteile sind, sondern ein gemeinsames Bauteil, nämlich den monolithischen Dichtstopfen, bilden.In other words, the monolithic sealing plug is caulked into the bore by radially expanding the outer wall. This is achieved by moving the monolithic sealing plug from its initial state to its sealed state. "Radial" in this case means that the outer wall expands in a radial direction of the monolithic sealing plug that is oriented perpendicular to and away from the axis of symmetry. The front sealing wall of the monolithic sealing plug can rest against the aforementioned shoulder of the bore. The sealing wall and the outer wall are integrally connected to one another, in particular by a single material component. "Integral" or "one-piece" in this case means that the sealing wall and the outer wall are not separate components, but rather form a single component, namely the monolithic sealing plug.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform erstreckt sich aus der Außenwand ein ringförmiger Betätigungsabschnitt heraus, der zum Verbringen des monolithischen Dichtstopfens von dem Ausgangszustand in den Dichtzustand mit einer Druckkraft beaufschlagbar ist.According to a further embodiment, an annular actuating section extends out of the outer wall, which can be subjected to a compressive force in order to move the monolithic sealing plug from the initial state into the sealing state.

Vorzugsweise umschließt die Außenwand einen Innenraum des monolithischen Dichtstopfens. In diesen Innenraum ragt der Betätigungsabschnitt radial hinein. Der Betätigungsabschnitt kann ringförmig oder scheibenförmig sein. Es kann auch eine beliebige Anzahl von Betätigungsabschnitten vorgesehen sein, welche stiftförmig oder stabförmig ausgebildet sind. Um den monolithischen Dichtstopfen von dem Ausgangszustand in den Dichtzustand zu verbringen, wird mit Hilfe eines Werkzeugs, beispielsweise mit Hilfe eines Durchschlags und eines Hammers, die Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt aufgebracht. Der Betätigungsabschnitt wird dadurch in Richtung der Dichtwand verformt oder in deren Richtung umgeklappt. Hierbei wird der Betätigungsabschnitt elastisch und/oder plastisch verformt. Ein Bereich der Außenwand, an welchem der Betätigungsabschnitt an die Außenwand angeschlossen ist, ist im Vergleich zu der restlichen Außenwand dünnwandiger, so dass die Außenwand mit Hilfe des Betätigungsabschnitts verformt werden kann.The outer wall preferably encloses an interior space of the monolithic sealing plug. The actuating section projects radially into this interior space. The actuating section can be annular or disc-shaped. Any number of actuating sections can also be provided, which are pin-shaped or rod-shaped. In order to bring the monolithic sealing plug from the initial state into the sealed state, the compressive force is applied to the actuating section with the aid of a tool, for example with the aid of a punch and a hammer. The actuating section is thereby deformed in the direction of the sealing wall or folded over in its direction. In the process, the actuating section is elastically and/or plastically deformed. A region of the outer wall at which the actuating section is connected to the outer wall has thinner walls than the rest of the outer wall, so that the outer wall can be deformed with the aid of the actuating section.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform erstreckt sich aus der Dichtwand ein stabförmiger Zugabschnitt heraus, der zum Verbringen des monolithischen Dichtstopfens von dem Ausgangszustand in den Dichtzustand mit einer Zugkraft beaufschlagbar ist.According to a further embodiment, a rod-shaped tensile section extends out of the sealing wall, which can be subjected to a tensile force in order to bring the monolithic sealing plug from the initial state into the sealed state.

In diesem Fall wird auf den Betätigungsabschnitt die Druckkraft und auf den Zugabschnitt die Zugkraft aufgebracht. Die Druckkraft und die Zugkraft sind entgegengesetzt zueinander orientiert. Hierdurch ist es möglich, dass der monolithische Dichtstopfen in einer glatten Bohrung ohne eine wie zuvor erwähnte Schulter montiert werden kann. Ein Abstützen der Dichtwand auf einer wie zuvor erwähnten Schulter der Bohrung ist demgemäß nicht erforderlich. Das zuvor erwähnte Werkzeug kann in diesem Fall sowohl die Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt aufbringen als auch die Zugkraft auf den Zugabschnitt.In this case, the compressive force is applied to the actuating section and the tensile force to the tensile section. The compressive and tensile forces are oriented in opposite directions. This makes it possible for the monolithic sealing plug to be inserted into a smooth bore without a The aforementioned shoulder can be mounted. Supporting the sealing wall on a shoulder of the bore as mentioned above is therefore not necessary. In this case, the aforementioned tool can apply both the compressive force to the actuating section and the tensile force to the tensile section.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform erstreckt sich aus der Dichtwand ein stabförmiger Betätigungsabschnitt heraus, der zum Verbringen des monolithischen Dichtstopfens von dem Ausgangszustand in den Dichtzustand mit einer Druckkraft beaufschlagbar ist.According to a further embodiment, a rod-shaped actuating section extends out of the sealing wall, which can be subjected to a compressive force in order to move the monolithic sealing plug from the initial state into the sealing state.

Auch in diesem Fall wird mit Hilfe eines Werkzeugs die Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt aufgebracht. Durch das Aufbringen der Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt wird die Dichtwand verformt, wodurch sich auch die Außenwand radial aufweitet, um den monolithischen Dichtstopfen aus dem Ausgangszustand in den Dichtzustand zu verbringen.In this case, too, the compressive force is applied to the actuating section using a tool. Applying the compressive force to the actuating section deforms the sealing wall, causing the outer wall to expand radially, thus transforming the monolithic sealing plug from its initial state into the sealed state.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Dichtwand eine kegelförmige Geometrie auf.According to a further embodiment, the sealing wall has a conical geometry.

Mit Hilfe des Werkzeugs wird die Druckkraft insbesondere auf eine Spitze der kegelförmigen Geometrie aufgebracht. Die Dichtwand wird dann von der kegelförmigen Form annähernd in eine scheibenförmige Form verformt. Die Dichtwand klappt mit anderen Worten aus dem Ausgangszustand in den Dichtzustand, wobei auch die Außenwand verformt wird.With the help of the tool, the compressive force is applied specifically to a tip of the conical geometry. The sealing wall is then deformed from its conical shape into a nearly disc-shaped form. In other words, the sealing wall folds from its initial state into the sealed state, with the outer wall also being deformed.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Außenwand zumindest einen Abstützabschnitt zum Abstützen des monolithischen Dichtstopfens an einer Komponente auf, durch welche die Bohrung verläuft.According to a further embodiment, the outer wall has at least one support section for supporting the monolithic sealing plug on a component through which the bore extends.

Der Abstützabschnitt kann ringförmig sein. Der Abstützabschnitt kann jedoch auch stabförmig sein. In diesem Fall kann eine beliebige Anzahl von Abstützabschnitten vorgesehen sein, welche gleichmäßig um die Symmetrieachse herum verteilt angeordnet sind. Mit dem Abstützabschnitt kann sich die Außenwand auf einer Stirnfläche der Komponente abstützen. In diesem Fall kann die Bohrung der Komponente glatt sein, so dass diese keine Schulter aufweisen muss. Alternativ kann sich der monolithische Dichtstopfen auch mit seinem Abstützabschnitt auf einer wie zuvor erwähnten Schulter der Bohrung abstützen.The support section can be annular. However, the support section can also be rod-shaped. In this case, any number of support sections can be provided, distributed evenly around the axis of symmetry. The outer wall can rest on an end face of the component using the support section. In this case, the bore of the component can be smooth, so it does not need to have a shoulder. Alternatively, the monolithic sealing plug can rest on a shoulder of the bore, as mentioned above, with its support section.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Außenwand Eingriffsrippen auf, die dazu eingerichtet sind, in dem Dichtzustand die Innenfläche zu verformen.According to a further embodiment, the outer wall has engagement ribs which are designed to deform the inner surface in the sealed state.

Es kann eine beliebige Anzahl von Eingriffsrippen vorgesehen sein. Die Eingriffsrippen verlaufen ringförmig um die Symmetrieachse herum. Mit Hilfe der Eingriffsrippen kann sich der monolithische Dichtstopfen in die Innenfläche der Bohrung eingraben oder eindrücken. Die Innenfläche der Bohrung wird dabei plastisch und/oder elastisch verformt.Any number of engagement ribs can be provided. The engagement ribs extend in a ring around the axis of symmetry. With the help of the engagement ribs, the monolithic sealing plug can dig or press into the inner surface of the bore. The inner surface of the bore is thereby plastically and/or elastically deformed.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der monolithische Dichtstopfen scheibenförmig.According to a further embodiment, the monolithic sealing plug is disc-shaped.

Hierdurch ergibt sich ein besonders einfacher Aufbau des monolithischen Dichtstopfens. In diesem Fall weist der monolithische Dichtstopfen vorzugsweise jedoch eine kegelförmige Krümmung auf.This results in a particularly simple design of the monolithic sealing plug. In this case, however, the monolithic sealing plug preferably has a conical curvature.

Ferner wird eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen monolithischen Dichtstopfen vorgeschlagen.Furthermore, a projection exposure system with such a monolithic sealing plug is proposed.

Die Projektionsbelichtungsanlage umfasst auch die Komponente, in oder an welcher der monolithische Dichtstopfen montiert sein kann. Die Komponente kann Teil einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage sein. Die Komponente kann jedoch auch Teil eines Beleuchtungssystems der Projektionsbelichtungsanlage sein. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für „Extreme Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektionsbelichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein. DUV steht für „Deep Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.The projection exposure system also includes the component in or on which the monolithic sealing plug can be mounted. The component can be part of a projection optics system of the projection exposure system. However, the component can also be part of an illumination system of the projection exposure system. The projection exposure system can be an EUV lithography system. EUV stands for "Extreme Ultraviolet" and refers to a wavelength of the working light between 0.1 nm and 30 nm. The projection exposure system can also be a DUV lithography system. DUV stands for "Deep Ultraviolet" and refers to a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm.

„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.In this case, "one" is not necessarily limited to exactly one element. Rather, multiple elements, such as two, three, or more, may be included. Any other counting term used here should also not be understood as implying a limitation to the exact number of elements stated. Rather, numerical deviations, both upward and downward, are possible unless otherwise stated.

Die für den monolithischen Dichtstopfen beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagen Projektionsbelichtungsanlage entsprechend und umgekehrt.The embodiments and features described for the monolithic sealing plug apply accordingly to the proposed projection exposure system and vice versa.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include not explicitly mentioned combinations of features described above or below with regard to the embodiments paintings or embodiments. The skilled person will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschrieben Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie;
2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines monolithischen Dichtstopfens für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
3 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform einer Komponente für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
4 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
5 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
6 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
7 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
8 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
9 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
10 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
11 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
12 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
13 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
14 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
15 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
16 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3;
17 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3; und
18 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente gemäß 3.

Further advantageous embodiments and aspects of the invention are the subject of the dependent claims and the exemplary embodiments of the invention described below. The invention will be explained in more detail below using preferred embodiments with reference to the accompanying figures.

1 shows a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography;
2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a monolithic sealing plug for the projection exposure apparatus according to 1 ;
3 shows a schematic sectional view of an embodiment of a component for the projection exposure apparatus according to 1 ;
4 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
5 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
6 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
7 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
8 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
9 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
10 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
11 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
12 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
13 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
14 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
15 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
16 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ;
17 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 ; and
18 shows a further schematic sectional view of the component according to 3 .

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.In the figures, identical or functionally equivalent elements are provided with the same reference numerals unless otherwise stated. Furthermore, it should be noted that the representations in the figures are not necessarily to scale.

1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithographieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht. 1 shows an embodiment of a projection exposure system 1 (lithography system), in particular an EUV lithography system. One embodiment of an illumination system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a light or radiation source 3, an illumination optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6. In an alternative embodiment, the light source 3 can also be provided as a separate module from the remaining illumination system 2. In this case, the illumination system 2 does not include the light source 3.

Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.A reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed. The reticle 7 is held by a reticle holder 8. The reticle holder 8 can be displaced via a reticle displacement drive 9, in particular in a scanning direction.

In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6.In the 1 For explanation purposes, a Cartesian coordinate system is shown with an x-direction x, a y-direction y and a z-direction z. The x-direction x runs perpendicular to the plane of the drawing. The y-direction y runs horizontally and the z-direction z runs vertically. The scanning direction runs in the 1 along the y-direction y. The z-direction z runs perpendicular to the object plane 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.The projection exposure system 1 comprises a projection optics 10. The projection optics 10 serves to image the object field 5 into an image field 11 in an image plane 12. The image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0° between the object plane 6 and the image plane 12 is also possible.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.A structure on the reticle 7 is imaged onto a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the image plane 12 in the region of the image field 11. The wafer 13 is held by a wafer holder 14. The wafer holder 14 can be displaced, in particular along the y-direction y, via a wafer displacement drive 15. The displacement of the reticle 7, on the one hand, via the reticle displacement drive 9, and the displacement of the wafer 13, on the other hand, via the wafer displacement drive 15, can be synchronized with each other.

Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln.The light source 3 is an EUV radiation source. The light source 3 emits, in particular, EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation, or illumination light. The useful radiation 16 has, in particular, a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm. The light source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (Laser Produced Plasma) or a DPP source (Gas Discharged Produced Plasma). It can also be a synchrotron-based radiation source. The light source 3 can be a free-electron laser (FEL).

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Engl.: Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.The illumination radiation 16 emanating from the light source 3 is focused by a collector 17. The collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloidal reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector 17 can be exposed to the illumination radiation 16 at grazing incidence (GI), i.e., at angles of incidence greater than 45°, or at normal incidence (NI), i.e., at angles of incidence less than 45°. The collector 17 can be structured and/or coated, on the one hand, to optimize its reflectivity for the useful radiation and, on the other hand, to suppress stray light.

Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.After the collector 17, the illumination radiation 16 propagates through an intermediate focus in an intermediate focal plane 18. The intermediate focal plane 18 can represent a separation between a radiation source module, comprising the light source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.The illumination optics 4 comprises a deflecting mirror 19 and, downstream of this in the beam path, a first facet mirror 20. The deflecting mirror 19 can be a flat deflecting mirror or, alternatively, a mirror with a beam-influencing effect beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflecting mirror 19 can be designed as a spectral filter that separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from stray light of a different wavelength. If the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4 that is optically conjugate to the object plane 6 as the field plane, it is also referred to as a field facet mirror. The first facet mirror 20 comprises a plurality of individual first facets 21, which can also be referred to as field facets. Of these first facets 21, 1 only a few examples are shown.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.The first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or partially circular edge contour. The first facets 21 can be designed as flat facets or, alternatively, as convexly or concavely curved facets.

Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.As for example from the DE 10 2008 009 600 A1 As is known, the first facets 21 themselves can also be composed of a plurality of individual mirrors, in particular a plurality of micromirrors. The first facet mirror 20 can in particular be designed as a microelectromechanical system (MEMS system). For details, reference is made to DE 10 2008 009 600 A1 referred to.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.Between the collector 17 and the deflecting mirror 19, the illumination radiation 16 runs horizontally, i.e. along the y-direction y.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .In the beam path of the illumination optics 4, a second facet mirror 22 is arranged downstream of the first facet mirror 20. If the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror. The second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the illumination optics 4. In this case, the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from US 2006/0132747 A1 , the EP 1 614 008 B1 and the US 6,573,978 .

Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.The second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23. In the case of a pupil facet mirror, the second facets 23 are also referred to as pupil facets.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.The second facets 23 can also be macroscopic facets, which can be round, rectangular or hexagonal, or alternatively facets composed of micromirrors. In this regard, reference is also made to the DE 10 2008 009 600 A1 referred to.

Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.The second facets 23 may have planar or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integrator) bezeichnet.The illumination optics 4 thus forms a double-faceted system. This basic principle zip is also called a fly's eye integrator.

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.It may be advantageous not to arrange the second facet mirror 22 exactly in a plane that is optically conjugate to a pupil plane of the projection optics 10. In particular, the second facet mirror 22 may be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as is shown, for example, in the DE 10 2017 220 586 A1 described.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.With the help of the second facet mirror 22, the individual first facets 21 are imaged into the object field 5. The second facet mirror 22 is the last bundle-forming mirror or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path before the object field 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen.In a further embodiment of the illumination optics 4 (not shown), a transmission optics can be arranged in the beam path between the second facet mirror 22 and the object field 5, which transmission optics contributes in particular to the imaging of the first facets 21 into the object field 5. The transmission optics can have exactly one mirror, but alternatively also two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the illumination optics 4. The transmission optics can in particular comprise one or two mirrors for normal incidence (NI mirrors, normal incidence mirrors) and/or one or two mirrors for grazing incidence (GI mirrors, grazing incidence mirrors).

Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.The illumination optics 4 has in the version shown in the 1 As shown, after the collector 17 there are exactly three mirrors, namely the deflection mirror 19, the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.In a further embodiment of the illumination optics 4, the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the illumination optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.The imaging of the first facets 21 by means of the second facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics into the object plane 6 is usually only an approximate imaging.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.The projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1.

Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.In the 1 In the example shown, the projection optics 10 comprises six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve, or a different number of mirrors M1 are also possible. The projection optics 10 is a doubly obscured optic. The penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16. The projection optics 10 has an image-side numerical aperture that is greater than 0.5 and can also be greater than 0.6, for example, 0.7 or 0.75.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as freeform surfaces without a rotational symmetry axis. Alternatively, the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one rotational symmetry axis of the reflection surface shape. The mirrors Mi, like the mirrors of the illumination optics 4, can have highly reflective coatings for the illumination radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.The projection optics 10 has a large object-image offset in the y-direction y between a y-coordinate of a center of the object field 5 and a y-coordinate of the center of the image field 11. This object-image offset in the y-direction y can be approximately as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe Bx, By in x- und y-Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe Bx, By der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.The projection optics 10 can, in particular, be anamorphic. It has, in particular, different image scales Bx, By in the x and y directions x, y. The two image scales Bx, By of the projection optics 10 are preferably (βx, βy) = (+/- 0.25, +/- 0.125). A positive image scale β means an image without image inversion. A negative sign for the image scale β means an image with image inversion.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.The projection optics 10 thus leads to a reduction in the ratio 4:1 in the x-direction x, i.e. in the direction perpendicular to the scanning direction.

Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.The projection optics 10 results in a reduction of 8:1 in the y-direction y, i.e. in the scanning direction.

Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.Other magnifications are also possible. Magnifications with the same sign and absolutely identical in the x and y directions (x, y), for example, with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .The number of intermediate image planes in the x- and y-directions x, y in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or can be different, depending on the design of the projection optics 10. Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x- and y-directions x, y are known from US 2018/0074303 A1 .

Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.Each of the second facets 23 is assigned to exactly one of the first facets 21 to form a respective illumination channel for illuminating the object field 5. This can, in particular, result in illumination according to the Köhler principle. The far field is divided into a plurality of object fields 5 using the first facets 21. The first facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the second facets 23 assigned to them.

Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.The first facets 21 are each imaged onto the reticle 7 by an associated second facet 23, superimposed on one another, to illuminate the object field 5. The illumination of the object field 5 is, in particular, as homogeneous as possible. It preferably has a uniformity error of less than 2%. Field uniformity can be achieved by superimposing different illumination channels.

Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.By arranging the second facets 23, the illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be geometrically defined. By selecting the illumination channels, in particular the subset of the second facets 23 that guide light, the intensity distribution in the entrance pupil of the projection optics 10 can be adjusted. This intensity distribution is also referred to as the illumination setting or illumination pupil fill.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.A likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by redistributing the illumination channels.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.Further aspects and details of the illumination of the object field 5 and in particular of the entrance pupil of the projection optics 10 are described below.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.The projection optics 10 can, in particular, have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.The entrance pupil of the projection optics 10 cannot usually be precisely illuminated with the second facet mirror 22. When the projection optics 10 images the center of the second facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture rays often do not intersect at a single point. However, a surface can be found in which the pairwise determined distance of the aperture rays is minimized. This surface represents the entrance pupil or a surface conjugate to it in spatial space. In particular, this surface exhibits a finite curvature.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.It is possible that the projection optics 10 have different entrance pupil positions for the tangential and sagittal beam paths. In this case, an imaging element, in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7. With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.

Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.At the 1 In the illustrated arrangement of the components of the illumination optics 4, the second facet mirror 22 is arranged in a surface conjugate to the entrance pupil of the projection optics 10. The first facet mirror 20 is arranged tilted relative to the object plane 6. The first facet mirror 20 is arranged tilted relative to an arrangement plane defined by the deflection mirror 19. The first facet mirror 20 is arranged tilted relative to an arrangement plane defined by the second facet mirror 22.

2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines monolithischen Dichtstopfens 100A. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a monolithic sealing plug 100A.

Darunter, dass der Dichtstopfen 100A „monolithisch“ ist, ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass der Dichtstopfen 100A nicht aus mehreren voneinander getrennten Unterbauteilen aufgebaut ist, sondern ein durchgehendes Bauteil bildet. Mit anderen Worten ist der Dichtstopfen 100A durchgehend aus demselben Material gefertigt. Als Werkstoffe für den Dichtstopfen 100A kommen insbesondere Metalle, beispielsweise duktile Edelstrahllegierungen oder Aluminiumlegierungen, zur Anwendung. Zur Fertigung des Dichtstopfens 100A können beispielsweise additive oder generative Fertigungsverfahren, insbesondere 3D-Druckverfahren, eingesetzt werden.In this case, the term "monolithic" for the sealing plug 100A particularly means that the sealing plug 100A is not constructed from multiple separate sub-components, but rather forms a continuous component. In other words, the sealing plug 100A is made entirely from the same material. Metals, such as ductile stainless steel alloys or aluminum alloys, are particularly used as materials for the sealing plug 100A. Additive or generative manufacturing processes, in particular 3D printing processes, can be used to manufacture the sealing plug 100A.

Der Dichtstopfen 100A ist rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse 102 aufgebaut. Dem Dichtstopfen 100A ist eine Radialrichtung R zugeordnet, die senkrecht zu der Symmetrieachse 102 und von dieser weg orientiert ist. Der Dichtstopfen 100A umfasst eine scheibenförmige Dichtwand 104, die rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 102 aufgebaut ist. Die Dichtwand 104 umfasst eine Vorderfläche 106 sowie eine der Vorderfläche 106 abgewandte Rückfläche 108.The sealing plug 100A is constructed rotationally symmetrically to a central or symmetry axis 102. The sealing plug 100A is assigned a radial direction R that is oriented perpendicular to the symmetry axis 102 and away from it. The sealing plug 100A comprises a disk-shaped shaped sealing wall 104, which is constructed rotationally symmetrically to the axis of symmetry 102. The sealing wall 104 comprises a front surface 106 and a rear surface 108 facing away from the front surface 106.

Um die Symmetrieachse 102 umlaufend weist der Dichtstopfen 100A eine hohlzylinderförmige oder rohrförmige Außenwand 110 auf. Die Dichtwand 104 und die Außenwand 110 sind einstückig, insbesondere materialeinstückig, ausgebildet. „Einstückig“ oder „einteilig“ bedeutet vorliegend insbesondere, dass die Dichtwand 104 und die Außenwand 110 keine voneinander getrennten Bauteile bilden, sondern ein gemeinsames Bauteil, nämlich den Dichtstopfen 100A, bilden. „Materialeinstückig“ bedeutet vorliegend, dass der Dichtstopfen 100A durchgehend aus demselben Material gefertigt ist. Demgemäß sind vorliegend die Begriffe „monolithisch“ und „materialeinstückig“ gleichwertig zu verwenden.The sealing plug 100A has a hollow cylindrical or tubular outer wall 110 surrounding the axis of symmetry 102. The sealing wall 104 and the outer wall 110 are formed integrally, in particular from a single material. "Integral" or "single-piece" means in particular that the sealing wall 104 and the outer wall 110 do not form separate components, but rather form a common component, namely the sealing plug 100A. "Integral" means in this case that the sealing plug 100A is made entirely of the same material. Accordingly, the terms "monolithic" and "single-piece" are to be used interchangeably.

Die Außenwand 110 weist eine zylinderförmige Außenfläche 112 auf. An der Außenfläche 112 ist eine Vielzahl ringförmig um die Symmetrieachse 102 umlaufender Eingriffsrippen 114A (linke Seite der 2) angeformt, von denen in der 2 nur eine mit einem Bezugszeichen versehen ist. Die Eingriffsrippen 114A können jede beliebige Geometrie aufweisen. Der Außenfläche 112 abgewandt weist die Außenwand 110 eine Innenfläche 116 auf. Der Vorderfläche 106 abgewandt weist die Außenwand 110 eine Rückfläche 118 auf.The outer wall 110 has a cylindrical outer surface 112. On the outer surface 112, a plurality of engagement ribs 114A (left side of the 2 ), of which in the 2 only one is provided with a reference numeral. The engagement ribs 114A can have any geometry. Facing away from the outer surface 112, the outer wall 110 has an inner surface 116. Facing away from the front surface 106, the outer wall 110 has a rear surface 118.

Es können jedoch auch Eingriffsrippen 114B (rechte Seite der 2) vorgesehen sein, die sich nicht über die Außenfläche 112 herauserstrecken. Die Eingriffsrippen 144B enden bündig mit der Außenfläche 112. Die Eingriffsrippen 114B können zahnförmig sein. Auch die Eingriffsrippen 114B laufen vollständig um die Symmetrieachse 102 um. Auch die zuvor erläuterten Eingriffsrippen 114A können zahnförmig sein.However, engagement ribs 114B (right side of the 2 ) that do not extend beyond the outer surface 112. The engagement ribs 144B end flush with the outer surface 112. The engagement ribs 114B can be tooth-shaped. The engagement ribs 114B also extend completely around the axis of symmetry 102. The previously explained engagement ribs 114A can also be tooth-shaped.

Die Außenwand 110 umschließt einen Innenraum 120 des Dichtstopfens 100A. Der Innenraum 120 ist von der Rückfläche 108 und der Innenfläche 116 definiert oder begrenzt. Aus der Innenfläche 116 erstreckt sich in den Innenraum 120 hinein ein ringförmiger Betätigungsabschnitt 122. Der Betätigungsabschnitt 122 ist in einem Winkel α relativ zu der Symmetrieachse 102 geneigt. Der Winkel α ist kleiner als 90°. Der Betätigungsabschnitt 122 weist einen mittigen Durchbruch 124 auf. Der Betätigungsabschnitt 122 kann ringförmig sein. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Alternativ kann eine beliebige Anzahl stabförmiger Betätigungsabschnitte 122 vorgesehen sein, die gleichmäßig um die Symmetrieachse 102 herum verteilt angeordnet sind.The outer wall 110 encloses an interior space 120 of the sealing plug 100A. The interior space 120 is defined or delimited by the rear surface 108 and the inner surface 116. An annular actuating section 122 extends from the inner surface 116 into the interior space 120. The actuating section 122 is inclined at an angle α relative to the axis of symmetry 102. The angle α is less than 90°. The actuating section 122 has a central opening 124. The actuating section 122 can be annular. However, this is not mandatory. Alternatively, any number of rod-shaped actuating sections 122 can be provided, which are arranged evenly distributed around the axis of symmetry 102.

Die Außenwand 110 weist eine Wanddicke a auf. Die Wanddicke a ist jedoch nicht konstant. Insbesondere ist die Wanddicke a in einem um die Symmetrieachse 102 umlaufenden Bereich 126 reduziert, in welchem der Betätigungsabschnitt 122 an die Außenwand 110 angebunden ist.The outer wall 110 has a wall thickness a. However, the wall thickness a is not constant. In particular, the wall thickness a is reduced in a region 126 surrounding the axis of symmetry 102, in which the actuating section 122 is connected to the outer wall 110.

3 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Komponente 128. 4 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 5 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 6 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 7 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. Nachfolgend wird auf die 2 bis 7 gleichzeitig Bezug genommen. 3 shows a schematic sectional view of a component 128. 4 shows another schematic sectional view of component 128. 5 shows another schematic sectional view of component 128. 6 shows another schematic sectional view of component 128. 7 shows a further schematic sectional view of component 128. The following refers to the 2 to 7 referred to at the same time.

Die Komponente 128 kann beispielsweise eine Tragstruktur sein, welche einen der Spiegel M1 bis M6 trägt. Mit anderen Worten kann die Komponente 128 Teil einer wie zuvor erwähnten Projektionsoptik 10 sein. Die Komponente 128 kann jedoch auch Teil eines wie zuvor erwähnten Beleuchtungssystems 2 sein. Die Komponente 128 ist vorzugsweise aus einem metallischen Werkstoff, wie beispielsweise einer Stahllegierung, gefertigt.Component 128 can, for example, be a support structure that supports one of the mirrors M1 to M6. In other words, component 128 can be part of a projection optics system 10 as mentioned above. However, component 128 can also be part of an illumination system 2 as mentioned above. Component 128 is preferably made of a metallic material, such as a steel alloy.

Im Betrieb der Projektionsbelichtungseinlage 1 kann in die Komponente 128 Wärme eingebracht werden, welche mit Hilfe eines Kühlsystems von der Komponente 128 abgeführt werden kann. Hierzu können durch die Komponente 128 Kühlkanäle verlaufen. Hierzu kann in die Komponente 128 eine Bohrung 130 eingebracht werden. Die Komponente 128 kann beliebig viele Bohrungen 130 aufweisen. Mit Hilfe einer beliebigen Anzahl von Bohrungen 130 können wie zuvor erwähnte Kühlkanäle in der Komponente 128 gebildet werden. Nachfolgend wird jedoch auf nur eine Bohrung 130 eingegangen.During operation of the projection exposure insert 1, heat can be introduced into the component 128, which can be dissipated from the component 128 with the aid of a cooling system. For this purpose, cooling channels can run through the component 128. For this purpose, a bore 130 can be introduced into the component 128. The component 128 can have any number of bores 130. With the aid of any number of bores 130, cooling channels can be formed in the component 128 as mentioned above. However, only one bore 130 will be discussed below.

Im vorliegenden Fall ist die Bohrung 130 eine Stufenbohrung und weist einen ersten Bohrungsabschnitt 132 sowie einen zweiten Bohrungsabschnitt 134 auf. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Die Bohrung 130 kann auch glatt sein. Der erste Bohrungsabschnitt 132 weist im vorliegenden Fall einen kleineren Durchmesser auf als der zweite Bohrungsabschnitt 134. Die Bohrung 130, insbesondere der zweite Bohrungsabschnitt 134, weist eine Innenfläche 136 auf. An der Innenfläche 136 kann die Außenfläche 112 des Dichtstopfens 100A anliegen. Dadurch, dass die Bohrungsabschnitte 132, 134 unterschiedliche Durchmesser aufweisen, ist zwischen den beiden Bohrungsabschnitten 132, 134 ein Absatz oder eine Schulter 138 vorgesehen, an welcher die Vorderfläche 106 des Dichtstopfens 100A anliegen kann.In the present case, the bore 130 is a stepped bore and has a first bore section 132 and a second bore section 134. However, this is not absolutely necessary. The bore 130 can also be smooth. In the present case, the first bore section 132 has a smaller diameter than the second bore section 134. The bore 130, in particular the second bore section 134, has an inner surface 136. The outer surface 112 of the sealing plug 100A can bear against the inner surface 136. Because the bore sections 132, 134 have different diameters, a step or shoulder 138 is provided between the two bore sections 132, 134, against which the front surface 106 of the sealing plug 100A can bear.

Die Funktionalität des Dichtstopfens 100A wird nachfolgend erläutert. Zunächst wird der Dichtstopfen 100A mit der Vorderfläche 106 in Richtung der Schulter 138 orientiert, in die Bohrung 130, insbesondere in den zweiten Bohrungsabschnitt 134, eingeführt, bis die Vorderfläche 106 an der Schulter 138 anliegt, wie dies in der 4 gezeigt ist.The functionality of the sealing plug 100A is explained below. First, the sealing plug 100A with the front surface 106 oriented towards the shoulder 138, is inserted into the bore 130, in particular into the second bore section 134, until the front surface 106 abuts the shoulder 138, as shown in the 4 is shown.

Anschließend wird, wie in den 5 und 6 gezeigt, mit Hilfe eines Werkzeugs 140 der Betätigungsabschnitt 122 in Richtung der Dichtwand 104 verschoben oder verformt. Hierdurch wird der Dichtstopfen von einem in den 2, 4 und 5 gezeigten Ausgangszustand Z1 in einen in den 6 und 7 gezeigten Dichtzustand Z2 verbracht, in welchem der Dichtstopfen 100A fluiddicht an der Innenfläche 136 der Bohrung 130 anliegt. Als Werkzeug 140 können beispielsweise ein Durchschlag und ein Hammer fungieren. Mit Hilfe des Werkzeugs 140 wird eine Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt 122 aufgebracht, wie in der 5 mit Hilfe eines Pfeils 142 angedeutet ist.Then, as in the 5 and 6 shown, the actuating section 122 is displaced or deformed in the direction of the sealing wall 104 with the aid of a tool 140. As a result, the sealing plug is moved from one into the 2 , 4 and 5 shown initial state Z1 into one shown in the 6 and 7 shown sealing state Z2, in which the sealing plug 100A rests fluid-tight against the inner surface 136 of the bore 130. A punch and a hammer, for example, can function as tool 140. With the aid of the tool 140, a compressive force is applied to the actuating section 122, as shown in the 5 indicated by an arrow 142.

Der Dichtstopfen 100A wird bei dem Verbringen von dem Ausgangszustand Z1 in den Dichtzustand Z2 in der Bohrung 130 verstemmt. Hierbei wird der Dichtstopfen 100A elastisch und/oder plastisch verformt. Ein Außendurchmesser des Dichtstopfens 100A wird dabei größer. Das heißt insbesondere, dass sich der Dichtstopfen 100A bei dem Verbringen von dem Ausgangszustand Z1 in den Dichtzustand Z2 in der Radialrichtung R aufweitet. Gleichzeitig kann sich die Innenfläche 136 der Bohrung, wie in den 6 und 7 gezeigt, ebenfalls plastisch verformen. Die Eingriffsrippen 114A, 114B können sich in die Innenfläche 136 eingraben oder eindrücken.The sealing plug 100A is caulked in the bore 130 when it is moved from the initial state Z1 to the sealing state Z2. In the process, the sealing plug 100A is elastically and/or plastically deformed. An outer diameter of the sealing plug 100A thereby increases. This means, in particular, that the sealing plug 100A expands in the radial direction R when it is moved from the initial state Z1 to the sealing state Z2. At the same time, the inner surface 136 of the bore can, as shown in the 6 and 7 shown, also plastically deform. The engagement ribs 114A, 114B can dig or press into the inner surface 136.

Sobald sich der Dichtstopfen in dem Dichtzustand Z2 befindet, kann das Werkzeug 140 wieder entfernt werden. Die Bohrung 130 kann nun mit Kühlflüssigkeit 144 befüllt werden, wobei die Vorderfläche 106 des Dichtstopfens 100A der Kühlflüssigkeit 144 zugewandt ist. Um den Dichtstopfen 100A wieder aus der Bohrung 130 zu entfernen, ist es erforderlich, den Betätigungsabschnitt 122 zurückzuverformen, so dass der Dichtstopfen 200A von dem Dichtzustand Z2 zurück in den Ausgangszustand Z1 verbracht werden kann. Hierzu kann ein geeignetes Werkzeug vorgesehen sein, welches geeignet ist, den Betätigungsabschnitt 122 zurückzuverformen.Once the sealing plug is in the sealed state Z2, the tool 140 can be removed again. The bore 130 can now be filled with coolant 144, with the front surface 106 of the sealing plug 100A facing the coolant 144. To remove the sealing plug 100A from the bore 130, it is necessary to reshape the actuating section 122 so that the sealing plug 200A can be moved from the sealed state Z2 back to the initial state Z1. For this purpose, a suitable tool can be provided which is suitable for reshaping the actuating section 122.

8 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128, 9 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. Nachfolgend wird auf die 8 und 9 gleichzeitig Bezug genommen. 8 shows a further schematic sectional view of component 128, 9 shows a further schematic sectional view of component 128. The following refers to the 8 and 9 referred to at the same time.

Die Komponente 128 weist in diesem Fall keine gestufte Bohrung 130, sondern eine durchgehend glatte Bohrung 130 auf. In der Bohrung 130 ist eine weitere Ausführungsform eines wie zuvor erwähnten Dichtstopfens 100B aufgenommen. In this case, the component 128 does not have a stepped bore 130, but rather a continuous smooth bore 130. A further embodiment of a sealing plug 100B as previously mentioned is accommodated in the bore 130.

Der Dichtstopfen 100B unterscheidet sich von dem Dichtstopfen 100A nur dadurch, dass sich aus der Rückfläche 108 der Dichtwand 104 ein Zugabschnitt 146 heraus erstreckt.The sealing plug 100B differs from the sealing plug 100A only in that a tensile section 146 extends out of the rear surface 108 of the sealing wall 104.

Der Zugabschnitt 146 kann von einem wie zuvor erwähnten Werkzeug 140 (nicht gezeigt) gegriffen werden. Mit Hilfe des Werkzeugs 140 kann zum einen eine Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt 122 ausgeübt werden, wie in der 8 mit Hilfe von Pfeilen 148, 150 gezeigt ist, und gleichzeitig kann auf den Zugabschnitt 146 eine Zugkraft aufgebracht werden, wie mit Hilfe eines Pfeils 152 angedeutet ist.The pulling portion 146 can be gripped by a tool 140 (not shown) as mentioned above. With the aid of the tool 140, a compressive force can be exerted on the actuating portion 122, as shown in the 8 by means of arrows 148, 150, and at the same time a tensile force can be applied to the tensile section 146, as indicated by an arrow 152.

Somit kann der Dichtstopfen 100B dadurch von dem in der 8 gezeigten Ausgangszustand Z1 in den in 9 gezeigten Dichtzustand Z2 verbracht werden, dass der Betätigungsabschnitt 122, wie zuvor mit Bezug auf den Dichtstopfen 100A erläutert, auf die Dichtwand 104 zubewegt wird und gleichzeitig der Zugabschnitt 146 als Widerlager dient. Hierdurch ist es möglich, den Dichtstopfen 100B ohne eine an der Bohrung 130 vorgesehene Schulter 138 zu montieren.Thus, the sealing plug 100B can be separated from the 8 shown initial state Z1 in the 9 shown sealing state Z2, such that the actuating section 122, as previously explained with reference to the sealing plug 100A, is moved toward the sealing wall 104 and, at the same time, the pulling section 146 serves as an abutment. This makes it possible to mount the sealing plug 100B without a shoulder 138 provided on the bore 130.

10 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 10 shows another schematic sectional view of component 128.

Die Komponente 128 umfasst eine wie zuvor erwähnte Bohrung 130 mit zwei Bohrungsabschnitten 132, 134 und einer Schulter 138. In der Bohrung 130 aufgenommen ist ein Dichtstopfen 100C, dessen Funktionalität im Wesentlichen der des Dichtstopfens 100A entspricht.The component 128 comprises a bore 130 as previously mentioned with two bore sections 132, 134 and a shoulder 138. A sealing plug 100C is received in the bore 130, the functionality of which essentially corresponds to that of the sealing plug 100A.

Der Dichtstopfen 100C umfasst eine stirnseitige Dichtwand 154, die im Querschnitt kegelförmig ist. Um die Dichtwand 154 läuft die rohrförmige oder hohlzylinderförmige Außenwand 156 um. Um den Dichtstopfen 100C in dem zuvor erwähnten Dichtzustand Z2 zu sichern, ist ein Befestigungselement 158 vorgesehen. Das Befestigungselement 158 kann eine Madenschraube sein, welche in die Bohrung 130 eingeschraubt ist. Mit Hilfe des Befestigungselements 158 kann eine permanente Vorspannkraft auf den Dichtstopfen 100C aufgebracht werden. Das Befestigungselement 158 kann auch für die zuvor erwähnten Ausführungsformen des Dichtstopfens 100A, 100B eingesetzt werden.The sealing plug 100C comprises a front sealing wall 154 that is conical in cross-section. The tubular or hollow-cylindrical outer wall 156 extends around the sealing wall 154. To secure the sealing plug 100C in the aforementioned sealing state Z2, a fastening element 158 is provided. The fastening element 158 can be a grub screw screwed into the bore 130. With the aid of the fastening element 158, a permanent preload force can be applied to the sealing plug 100C. The fastening element 158 can also be used for the aforementioned embodiments of the sealing plug 100A, 100B.

11 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 12 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. Im Folgenden wird auf die 11 und 12 gleichzeitig eingegangen. 11 shows another schematic sectional view of component 128. 12 shows a further schematic sectional view of component 128. In the following, reference is made to the 11 and 12 received at the same time.

Die Komponente 128 weist eine glatte Bohrung 130 ohne eine wie zuvor erwähnte Schulter 138 auf. In der Bohrung ist ein Dichtstopfen 100D aufgenommen, dessen Funktionalität im Wesentlichen der des Dichtstopfens 100A entspricht.The component 128 has a smooth bore 130 without a shoulder 138 as previously mentioned. A sealing plug 100D is received in the bore, the functionality of which is essentially the same as that of the sealing plug 100A.

Der Dichtstopfen 100D umfasst eine Dichtwand 160, aus der sich mittig ein Betätigungsabschnitt 162 herauserstreckt. Um die Dichtwand 160 läuft eine rohrförmige oder hohlzylinderförmige Außenwand 164 um. Die Außenwand 164 stützt sich mit Abstützabschnitten 166 an einer Stirnfläche 168 der Komponente 128 ab.The sealing plug 100D comprises a sealing wall 160, from which an actuating section 162 extends centrally. A tubular or hollow-cylindrical outer wall 164 extends around the sealing wall 160. The outer wall 164 is supported by support sections 166 on an end face 168 of the component 128.

Um den Dichtstopfen 100D von dem in der 11 gezeigten Ausgangszustand Z1 in den in der 12 gezeigten Dichtzustand Z2 zu verbringen, wird mit Hilfe eines wie zuvor erwähnten Werkzeugs 140 eine Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt 162 aufgebracht. Die Dichtwand 160 wird hierbei elastisch und/oder plastisch verformt, so dass die Außenwand 164 gegen die Innenfläche 136 der Bohrung 130 gedrückt wird.To remove the sealing plug 100D from the 11 shown initial state Z1 in the 12 In order to bring the sealing state Z2 shown, a compressive force is applied to the actuating section 162 with the aid of a tool 140 as mentioned above. The sealing wall 160 is thereby elastically and/or plastically deformed, so that the outer wall 164 is pressed against the inner surface 136 of the bore 130.

13 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 14 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. Im Folgenden wird auf die 13 und 14 gleichzeitig eingegangen. 13 shows another schematic sectional view of component 128. 14 shows a further schematic sectional view of component 128. In the following, reference is made to the 13 and 14 received at the same time.

In diesem Fall weist die Komponente 128 eine gestufte Bohrung 130 mit einem ersten Bohrungsabschnitt 132 und einem zweiten Bohrungsabschnitt 134 auf. Zwischen den Bohrungsabschnitten 132, 134 ist eine wie zuvor erwähnte Schulter 138 vorgesehen. Der zuvor erläuterte Dichtstopfen 100D stützt sich in diesem Fall mit seinen Abstützabschnitten 166 nicht auf der Stirnfläche 168 der Komponente 128, sondern auf der Schulter 138 ab.In this case, component 128 has a stepped bore 130 with a first bore portion 132 and a second bore portion 134. A shoulder 138, as previously mentioned, is provided between bore portions 132 and 134. In this case, the previously explained sealing plug 100D is supported with its support portions 166 not on the end face 168 of component 128, but on the shoulder 138.

15 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 16 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. Nachfolgend wird auf die 15 und 16 gleichzeitig Bezug genommen. 15 shows another schematic sectional view of component 128. 16 shows a further schematic sectional view of component 128. The following refers to the 15 and 16 referred to at the same time.

Die Komponente 128 umfasst eine Bohrung 130 mit einem ersten Bohrungsabschnitt 132 und einem zweiten Bohrungsabschnitt 134. Zwischen den Bohrungsabschnitten 132, 134 ist eine wie zuvor erwähnte Schulter 138 vorgesehen. In der Bohrung 130 ist ein Dichtstopfen 100E aufgenommen, dessen Funktionalität im Wesentlichen der des Dichtstopfens 100A entspricht.The component 128 comprises a bore 130 with a first bore portion 132 and a second bore portion 134. A shoulder 138, as previously mentioned, is provided between the bore portions 132, 134. A sealing plug 100E is received in the bore 130, the functionality of which essentially corresponds to that of the sealing plug 100A.

Der Dichtstopfen 100E umfasst eine Dichtwand 170, die kegelförmig geformt ist. Aus der Dichtwand 170 erstreckt sich ein Betätigungsabschnitt 172 heraus. Um die Dichtwand 170 läuft eine Außenwand 174 um. Der Dichtstopfen 100E wird in die Bohrung 130 eingebracht, so dass die Dichtwand 170 an der Schulter 138 anliegt. Anliegend wird mit einem wie zuvor erwähnten Werkzeug 140 eine Druckkraft auf den Betätigungsabschnitt 172 aufgebracht, wodurch der Dichtstopfen 100E von dem in der 15 gezeigten Ausgangszustand Z1 in den in der 16 gezeigten Dichtzustand Z2 verbracht wird.The sealing plug 100E comprises a sealing wall 170 which is conically shaped. An actuating section 172 extends from the sealing wall 170. An outer wall 174 runs around the sealing wall 170. The sealing plug 100E is inserted into the bore 130 so that the sealing wall 170 rests against the shoulder 138. A compressive force is applied to the actuating section 172 using a tool 140 as mentioned above, whereby the sealing plug 100E is released from the 15 shown initial state Z1 in the 16 shown sealing state Z2.

17 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. 18 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht der Komponente 128. Nachfolgend wird auf die 17 und 18 gleichzeitig Bezug genommen. 17 shows another schematic sectional view of component 128. 18 shows a further schematic sectional view of component 128. The following refers to the 17 and 18 referred to at the same time.

Die Komponente 128 umfasst eine Bohrung 130 mit einem ersten Bohrungsabschnitt 132 und einem zweiten Bohrungsabschnitt 134, wobei zwischen den Bohrungsabschnitten 132, 134 eine Schulter 138 vorgesehen ist. In der Bohrung ist ein Dichtstopfen 100F aufgenommen, dessen Funktionalität im Wesentlichen der des Dichtstopfens 100A entspricht.The component 128 comprises a bore 130 with a first bore portion 132 and a second bore portion 134, with a shoulder 138 provided between the bore portions 132, 134. A sealing plug 100F is received in the bore, the functionality of which essentially corresponds to that of the sealing plug 100A.

Der Dichtstopfen 100F ist scheibenförmig mit einer kegelförmigen Wölbung. Mit Hilfe eines Werkzeugs 140 kann der Dichtstopfen 100F von dem in der 17 gezeigten Ausgangszustand Z1 in den in der 18 gezeigten Dichtzustand Z2 verbracht werden.The sealing plug 100F is disc-shaped with a conical curvature. With the aid of a tool 140, the sealing plug 100F can be removed from the 17 shown initial state Z1 in the 18 shown sealing condition Z2.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.Although the present invention has been described using exemplary embodiments, it can be modified in many ways.

BEZUGSZEICHENLISTELIST OF REFERENCE SYMBOLS

11: ProjektionsbelichtungsanlageProjection exposure system
22: Beleuchtungssystemlighting system
33: Lichtquellelight source
44: BeleuchtungsoptikLighting optics
55: ObjektfeldObject field
66: ObjektebeneObject level
77: RetikelReticle
88: RetikelhalterReticle holder
99: RetikelverlagerungsantriebReticle displacement drive
1010: ProjektionsoptikProjection optics
1111: BildfeldImage field
1212: BildebeneImage plane
1313: Waferwafer
1414: WaferhalterWafer holder
1515: WaferverlagerungsantriebWafer relocation drive
1616: BeleuchtungsstrahlungIllumination radiation
1717: Kollektorcollector
1818: ZwischenfokusebeneIntermediate focal plane
1919: UmlenkspiegelDeflecting mirror
2020: erster Facettenspiegelfirst faceted mirror
2121: erste Facettefirst facet
2222: zweiter Facettenspiegelsecond facet mirror
2323: zweite Facettesecond facet
100A100A: Dichtstopfensealing plug
100B100B: Dichtstopfensealing plug
100C100C: Dichtstopfensealing plug
100D100D: Dichtstopfensealing plug
100E100E: Dichtstopfensealing plug
100F100F: Dichtstopfensealing plug
102102: Symmetrieachseaxis of symmetry
104104: DichtwandSealing wall
106106: Vorderflächefront surface
108108: Rückflächeback surface
110110: Außenwandexterior wall
112112: Außenflächeouter surface
114A114A: Eingriffsrippeengagement rib
114B114B: Eingriffsrippeengagement rib
116116: Innenflächeinner surface
118118: Rückflächeback surface
120120: InnenraumInterior
122122: BetätigungsabschnittOperating section
124124: Durchbruchbreakthrough
126126: BereichArea
128128: Komponentecomponent
130130: Bohrungdrilling
132132: BohrungsabschnittBore section
134134: BohrungsabschnittBore section
136136: Innenflächeinner surface
138138: Schultershoulder
140140: WerkzeugTool
142142: PfeilArrow
144144: Kühlflüssigkeitcoolant
146146: ZugabschnittTrain section
148148: PfeilArrow
150150: PfeilArrow
152152: PfeilArrow
154154: DichtwandSealing wall
156156: Außenwandexterior wall
158158: BefestigungselementFastening element
160160: DichtwandSealing wall
162162: BetätigungsabschnittOperating section
164164: Außenwandexterior wall
166166: AbstützabschnittSupport section
168168: Stirnflächefrontal area
170170: DichtwandSealing wall
172172: BetätigungsabschnittOperating section
174174: Außenwandexterior wall
aa: WanddickeWall thickness
M1M1: SpiegelMirror
M2M2: SpiegelMirror
M3M3: SpiegelMirror
M4M4: SpiegelMirror
M5M5: SpiegelMirror
M6M6: SpiegelMirror
RR: RadialrichtungRadial direction
xx: x-Richtungx-direction
yy: y-Richtungy-direction
zz: z-Richtungz-direction
Z1Z1: AusgangszustandInitial state
Z2Z2: DichtzustandSealing condition
αα: Winkelangle

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES CONTAINED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

DE 10 2008 009 600 A1 [0048, 0052]
US 2006/0132747 A1 [0050]
EP 1 614 008 B1 [0050]
US 6,573,978 [0050]
DE 10 2017 220 586 A1 [0055]
US 2018/0074303 A1 [0069]

Claims

Monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) for closing a bore (130), wherein the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) within the bore by means of an elastic and/or plastic deformation from an initial state (Z1), in which the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) can be inserted into the bore (130), into a sealing state (Z2), in which the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) is fluid-tightly connected to an inner surface (136) of the bore (130).

Monolithic sealing plug according to Claim 1 , wherein the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E) has an end-face sealing wall (104, 154, 160, 170) and a tubular outer wall (110, 154, 164, 174), and wherein the outer wall (110, 154, 164, 174) expands radially when the monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E) is moved from the initial state (Z1) into the sealed state (Z2).

Monolithic sealing plug according to Claim 2 , wherein an annular actuating section (122) extends out of the outer wall (110) and can be subjected to a compressive force to move the monolithic sealing plug (100A, 100B) from the initial state (Z1) into the sealing state (Z2).

Monolithic sealing plug according to Claim 2 or 3 , wherein a rod-shaped tensile section (146) extends out of the sealing wall (104) and can be subjected to a tensile force in order to move the monolithic sealing plug (100B) from the initial state (Z1) into the sealing state (Z2).

Monolithic sealing plug according to Claim 2 , wherein a rod-shaped actuating section (162, 172) extends out of the sealing wall (160, 170) and can be subjected to a compressive force in order to move the monolithic sealing plug (100D, 100E) from the initial state (Z1) into the sealing state (Z2).

Monolithic sealing plug according to one of the Claims 2 - 5 , wherein the sealing wall (154, 160, 170) has a conical geometry.

Monolithic sealing plug according to one of the Claims 2 - 6 , wherein the outer wall (164) has at least one support portion (166) for supporting the monolithic sealing plug (100D) on a component (128) through which the bore (130) extends.

Monolithic sealing plug according to one of the Claims 2 - 7 , wherein the outer wall (110) has engagement ribs (114A, 114B) which are adapted to deform the inner surface (136) in the sealing state (Z2).

Monolithic sealing plug according to Claim 1 , wherein the monolithic sealing plug (100E) is disc-shaped.

Projection exposure apparatus (1) with a monolithic sealing plug (100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F) according to one of the Claims 1 - 9 .