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WO2025088969A1 - 硬化膜形成用組成物、硬化膜、配向材および位相差材 - Google Patents

硬化膜形成用組成物、硬化膜、配向材および位相差材 Download PDF

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Publication number
WO2025088969A1
WO2025088969A1 PCT/JP2024/034137 JP2024034137W WO2025088969A1 WO 2025088969 A1 WO2025088969 A1 WO 2025088969A1 JP 2024034137 W JP2024034137 W JP 2024034137W WO 2025088969 A1 WO2025088969 A1 WO 2025088969A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
cured film
component
meth
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
PCT/JP2024/034137
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
朋哉 鈴木
拓実 宮下
研造 矢田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Publication of WO2025088969A1 publication Critical patent/WO2025088969A1/ja
Pending legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/02—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays

Definitions

  • the present invention relates to a composition for forming a cured film that forms a cured film that aligns liquid crystal molecules, a cured film, an optical film, an alignment material, and a retardation material.
  • the present invention relates to a patterned retardation material used in 3D displays using circularly polarized glasses, and a retardation material used in a circular polarizing plate used as an anti-reflection film for an organic EL display, as well as a composition for forming a cured film, a cured film, an optical film, an alignment material, and a retardation material that are useful for producing the retardation material.
  • a retardation material is usually placed on a display element that forms an image, such as a liquid crystal panel.
  • This retardation material has two types of retardation regions with different retardation characteristics, each of which is regularly arranged in a plurality of regions, forming a patterned retardation material.
  • a patterned retardation material such a retardation material that is patterned so as to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics.
  • the patterned retardation material can be produced by optically patterning a retardation material made of polymerizable liquid crystal, as disclosed in Patent Document 1, for example.
  • Optical patterning of a retardation material made of polymerizable liquid crystal utilizes photo-alignment technology known for forming alignment materials for liquid crystal panels. That is, a coating film made of a photo-alignable material is provided on a substrate, and two types of polarized light with different polarization directions are irradiated onto the coating film. Then, a photo-alignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions with different liquid crystal alignment control directions are formed. A solution-like retardation material containing polymerizable liquid crystal is applied onto this photo-alignment film to realize the alignment of the polymerizable liquid crystal. The aligned polymerizable liquid crystal is then cured to form a patterned retardation material.
  • Anti-reflection films for organic EL displays are composed of a linear polarizer and a quarter-wave retardation plate, and external light heading toward the panel surface of the image display panel is converted into linearly polarized light by the linear polarizer, and then converted into circularly polarized light by the quarter-wave retardation plate.
  • This circularly polarized external light is reflected by the surface of the image display panel, but the direction of rotation of the polarization plane is reversed during this reflection.
  • this reflected light is converted by the quarter-wave retardation plate into linearly polarized light in a direction that is blocked by the linear polarizer, in the opposite direction to when it arrived, and is then blocked by the subsequent linear polarizer, resulting in significant suppression of emission to the outside.
  • Patent Document 2 proposes a method of constructing this optical film with reverse dispersion characteristics by combining a half-wave plate and a quarter-wave plate to form a quarter-wave retardation plate.
  • an optical film with reverse dispersion characteristics can be constructed using a liquid crystal material with positive dispersion characteristics in the wide wavelength band used to display color images.
  • liquid crystal materials with reverse dispersion characteristics have been proposed as suitable for this retardation layer (Patent Documents 3 and 4).
  • Patent Documents 3 and 4 liquid crystal materials with reverse dispersion characteristics, instead of combining a half-wave plate and a quarter-wave plate to form a quarter-wave retardation plate with two retardation layers, it is possible to ensure reverse dispersion characteristics by forming the retardation layer from a single layer, thereby realizing an optical film with a simple configuration that can ensure the desired retardation over a wide wavelength band.
  • An alignment layer is used to align liquid crystals.
  • Known methods for forming an alignment layer include the rubbing method and the photoalignment method.
  • the photoalignment method is useful in that it does not generate static electricity or dust, which is a problem with the rubbing method, and allows for quantitative control of the alignment process.
  • acrylic resins and polyimide resins that have photodimerization sites such as cinnamoyl groups and chalcone groups in the side chains are known as photoalignment materials that can be used. It has been reported that these resins exhibit the ability to control the alignment of liquid crystals (hereinafter referred to as liquid crystal alignment) when irradiated with polarized UV light (see Patent Documents 5 to 7).
  • the alignment layer is required to have solvent resistance in addition to liquid crystal alignment ability.
  • the alignment layer may be exposed to heat or solvent during the manufacturing process of the retardation material. If the alignment layer is exposed to a solvent, the liquid crystal alignment ability may be significantly reduced.
  • Patent Document 8 discloses a composition for forming a cured film that provides an alignment layer that has both excellent liquid crystal alignment properties and solvent resistance.
  • JP 2005-49865 A Japanese Patent Application Publication No. 10-68816 U.S. Pat. No. 8,119,026 JP 2009-179563 A Patent No. 3611342 JP 2009-058584 A Special Publication No. 2001-517719 International Publication No. 2018/181364
  • the alignment layer is also required to have adhesion to the liquid crystal layer. If the adhesion between the alignment layer and the liquid crystal layer formed thereon is insufficient, the liquid crystal layer may peel off, for example, during a winding process in the production of the retardation film. In addition, it is desirable to maintain high adhesion under high temperature and high humidity conditions, but the inventors' investigations have revealed that, when a conventional alignment film is used, the adhesion of the alignment film may decrease due to reaction with moisture in the air. In particular, when a conventional alignment film contains an acid, the acid is considered to be one of the substances that promotes the decrease in adhesion. In view of this, it has been considered to add a basic compound, but this weakens the curing-accelerating effect of the acid. Therefore, for example, when a cured film is formed by lowering the baking temperature, the solvent resistance of the cured film may be reduced, and it may become difficult to align the polymerizable liquid crystal.
  • an object of the present invention is to provide a cured film-forming composition that is capable of forming a cured film that has excellent adhesion to a liquid crystal layer even under high temperature and high humidity conditions and has excellent liquid crystal alignment ability.
  • Another object of the present invention is to provide an optical film having the above-mentioned cured film, and an alignment material and a retardation material formed using the cured film or the optical film.
  • a first aspect of the present invention is a cured film-forming composition containing the following components (A), (B), (E), (F), and (G).
  • Component (A) a compound having a photoalignable group
  • Component (B) a crosslinking agent having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group
  • Component (E) a compound having a polymerizable group and a hydroxy group
  • Component (F) a crosslinking catalyst
  • Component (G) a photobase generator.
  • the photoalignable group of the component (A) is preferably a functional group having a structure that undergoes photodimerization or photoisomerization.
  • the photoalignable group of the component (A) is preferably a cinnamoyl group or a group having an azobenzene structure.
  • the crosslinking agent (B) is preferably a polymer obtained by polymerizing a monomer containing at least one of an N-hydroxymethyl(meth)acrylamide and an N-alkoxymethyl(meth)acrylamide compound.
  • the second aspect of the present invention relates to a cured film obtained from the cured film-forming composition of the first aspect of the present invention.
  • the third aspect of the present invention relates to an optical film having a cured film according to the second aspect of the present invention.
  • the fourth aspect of the present invention relates to an alignment material formed using the cured film of the second aspect of the present invention.
  • the fifth aspect of the present invention relates to a retardation material formed using the cured film of the second aspect of the present invention.
  • a cured film-forming composition that is capable of forming a cured film that has excellent adhesion to a liquid crystal layer even under high temperature and high humidity conditions and has excellent liquid crystal alignment ability. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide an optical film having the above-mentioned cured film, and an alignment material and a retardation material formed using the cured film or the optical film.
  • the cured film-forming composition of the present invention will be described in detail, giving specific examples of components, etc. Then, the cured film of the present invention using the cured film-forming composition of the present invention, the alignment material formed using the cured film, and the retardation material and liquid crystal display element formed using the alignment material will be described.
  • composition for forming a cured film of the present invention contains the following components (A), (B), (E), (F), and (G).
  • the cured film-forming composition of the present invention may contain a solvent.
  • C represents a carbon atom, and for example, C1 means that the number of carbon atoms (carbon number) is 1.
  • C1 alkyl group means an “alkyl group having 1 carbon atom.”
  • the skeleton (main chain) of a polymer refers to the “trunk” part of the polymer that is made up of the longest chain of atoms.
  • a numerical range expressed using “to” means a range that includes the numerical values before and after "to” as the lower and upper limits.
  • (meth)acrylate means that both “acrylate” and “methacrylate” are possible
  • (meth)acrylic means that both “acrylic” and “methacrylic” are possible. * represents a bond.
  • the component (A) in the composition for forming a cured film of the present invention is composed of a compound having a photoalignable group (hereinafter, also referred to as compound (A)). That is, the component (A) is a component that imparts photoalignment to the cured film obtained from the composition for forming a cured film of the present invention, and in this specification, the component (A) is also referred to as a photoalignment component.
  • the photo-alignable group generally refers to a functional group that exhibits the property of being aligned by light irradiation, and typically refers to a functional group of a structural portion that undergoes photodimerization or photoisomerization.
  • photo-alignable groups include, for example, functional groups that undergo a photo-Fries rearrangement reaction (example compounds: benzoic acid ester compounds, etc.), groups that undergo a photodecomposition reaction (example compounds: cyclobutane ring, etc.), etc.
  • Compound (A) may be a compound with a molecular weight or weight-average molecular weight of less than 2,000, or may be a compound (also called a polymer) with a molecular weight or weight-average molecular weight of 2,000 or more.
  • Compound (A) may be a compound with a lower molecular weight than the polymer that constitutes component (C) described below.
  • the compound (A) may further be a compound having a thermal crosslinkable group.
  • the thermal crosslinkable group may be, for example, one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxy group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group.
  • the structural moiety that undergoes photodimerization in compound (A) is a moiety that forms a dimer upon irradiation with light, and specific examples thereof include a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, an anthracene group, etc.
  • the cinnamoyl group is preferred due to its high transparency in the visible light region and its high photodimerization reactivity.
  • the photoisomerizable structural portion of compound (A) refers to a structural portion that changes between cis and trans isomers upon irradiation with light, and specific examples include portions consisting of an azobenzene structure, a stilbene structure, etc. Among these, the azobenzene structure is preferred due to its high reactivity.
  • the compound (A) is preferably a compound represented by the following formulas [A11] to [A15].
  • a 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • X11 has a structure in which 1 to 3 hydrocarbon groups selected from a C1-18 alkylene group, a phenylene group, a biphenyl group, or a combination thereof are bonded to a benzene ring via a linking group (x1).
  • the linking group (x1) may be one or more bonds selected from a single bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, a urethane bond, an amino bond, a carbonyl bond, or a combination thereof.
  • X12 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a C1-18 alkyl group, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group, in which the C1-18 alkyl group, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded to two or more groups via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, or a urea bond.
  • X13 represents a hydroxy group, a mercapto group, a C1-10 alkoxy group, a C1-10 alkylthio group, a phenoxy group, a biphenyloxy group, or a phenyl group.
  • X 14 represents a single bond, a C1-20 alkylene group, a divalent aromatic ring group, or a divalent aliphatic ring group, where the C1-20 alkylene group may be branched or linear.
  • CL represents a hydroxy group, a carboxy group, an amido group, an amino group, or an alkoxysilyl group, provided that when X 14 is a single bond, CL is a hydroxy group or an amino group.
  • X represents a single bond, an oxygen atom, or a sulfur atom, provided that when X 14 is a single bond, X is also a single bond.
  • the hydrogen atoms on the benzene rings of X 11 to X 14 may be substituted with one or more identical or different substituents selected from a C1-4 alkyl group, a C1-4 alkoxy group, a halogen atom, a trifluoromethyl group, and a cyano group.
  • the hydrogen atom on the benzene ring may be substituted with a monovalent group, and examples of the monovalent group include a C1-4 alkyl group, a C1-4 alkoxy group, a halogen atom, a trifluoromethyl group, or a cyano group.
  • the compound (A) may be the following compound: 4-(8-hydroxyoctyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(6-hydroxyhexyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(4-hydroxybutyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(3-hydroxypropyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(2-hydroxyethyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxymethyloxycinnamic acid methyl ester, 4-hydroxycinnamic acid methyl ester, 4-(8-hydroxyoctyloxy)cinnamic acid ethyl ester 4-(6-hydroxyhexyloxy)cinnamic acid ethyl ester, 4-(4-hydroxybutyloxy)cinnamic acid ethyl ester, 4-(3-hydroxypropyloxy)cinnamic acid ethyl ester, 4-(2-hydroxyethyloxy
  • the compound (A) is preferably a compound in which a polymerizable group is bonded via a spacer to a group in which a photoalignment moiety and a thermally reactive moiety are bonded, as represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as compound (Ap)).
  • R 101 represents a hydroxy group, an amino group, a hydroxyphenoxy group, a carboxyphenoxy group, an aminophenoxy group, an aminocarbonylphenoxy group, a phenylamino group, a hydroxyphenylamino group, a carboxyphenylamino group, an aminophenylamino group, a hydroxyalkylamino group or a bis(hydroxyalkyl)amino group.
  • X101 represents a phenylene group which may be substituted with any substituent.
  • substituents include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, and isobutyl; haloalkyl groups such as trifluoromethyl; alkoxy groups such as methoxy and ethoxy; halogen atoms such as iodine, bromine, chlorine, and fluorine; cyano; and nitro.
  • a hydroxy group and an amino group are preferred, and a hydroxy group is particularly preferred.
  • the spacer may be a divalent group (s) selected from a linear alkylene group, a branched alkylene group, a cyclic alkylene group, and a phenylene group, or a group formed by bonding a plurality of such divalent groups (s).
  • the bond between the divalent groups (s) constituting the spacer, the bond between the spacer and the group represented by the above formula (1), and the bond between the spacer and the polymerizable group may be via a linking group, and examples of the linking group include a single bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, and an ether bond.
  • the divalent groups (s) may be the same or different, and when there are a plurality of the bonds, the bonds may be the same or different.
  • the compound (Ap) may be of the following structural formula (Ap): P-L1-(Sp-L2)n-W (Ap) (In the above structural formula, P represents a polymerizable group, L1 and L2 each independently represent a single bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond or an ether bond, and Sp represents a group (s). n Sp's and L2's may be the same or different. W represents the above formula (1). n is an integer from 1 to 6.)
  • compound (Ap) include 4-(6-(meth)acryloxyhexyl-1-oxy)cinnamic acid, 4-(3-(meth)acryloxypropyl-1-oxy)cinnamic acid, 4-(4-(3-(meth)acryloxypropyl-1-oxy)acryloxy)benzoic acid, 4-(4-(6-(meth)acryloxyhexyl-1-oxy)benzoyloxy)cinnamic acid, 4-(6-(meth)acryloxyhexyl-1-oxy)cinnamamide, 4-(6-(meth)acryloxyhexyl-1-oxy)-N-(4-cyanophenyl)cinnamamide, and 4-(6-(meth)acryloxyhexyl-1-oxy)-N-bishydroxyethylcinnamamide.
  • compound (A) examples include those listed above, but are not limited to these.
  • Component (A) may be a single compound or a mixture of two or more compounds (A).
  • the component (B) contained in the cured film-forming composition of the present embodiment is composed of a crosslinking agent having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group (hereinafter, also referred to as crosslinking agent (B)).
  • the hydroxymethyl group in the crosslinking agent (B) is preferably an N-hydroxymethyl group
  • the alkoxymethyl group in the crosslinking agent (B) is preferably an N-alkoxymethyl group.
  • the crosslinking agent (B) is preferably a polymer obtained by polymerizing a monomer containing at least one of an N-hydroxymethyl compound, an N-alkoxymethyl compound, or an N-hydroxymethyl(meth)acrylamide and an N-alkoxymethyl(meth)acrylamide compound.
  • the cured film-forming composition of the present invention also contains, for example, the "compound having a polymerizable group and a hydroxy group" of component (E) described below.
  • component (B) N-hydroxymethyl(meth)acrylamide has a polymerizable group and a hydroxy group, and therefore technically also falls under component (E).
  • priority is given to component (B) in the present invention, and it is treated as falling under component (B).
  • N-hydroxymethyl compounds and N-alkoxymethyl compounds include methylol compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.
  • alkoxymethylated glycoluril examples include 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis(butoxymethyl)glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis(hydroxymethyl)glycoluril, 1,3-bis(hydroxymethyl)urea, 1,1,3,3-tetrakis(butoxymethyl)urea, 1,1,3,3-tetrakis(methoxymethyl)urea, 1,3-bis(hydroxymethyl)-4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis(methoxymethyl)-4,5-dimethoxy-2-imidazolinone.
  • glycoluril compounds products names: Cymel (registered trademark) 1170, Powderlink (registered trademark) 1174) manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.), methylated urea resin (product name: UFR (registered trademark) 65), butylated urea resin (product name: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), and urea/formaldehyde resins (high condensation type, product names: Beckamin (registered trademark) J-300S, P-955, N) manufactured by DIC Corporation (formerly Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.).
  • alkoxymethylated benzoguanamine examples include tetramethoxymethylbenzoguanamine.
  • Commercially available products include those manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.) (product name: Cymel (registered trademark) 1123) and those manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. (product names: Nikalac (registered trademark) BX-4000, BX-37, BL-60, and BX-55H).
  • alkoxymethylated melamine examples include hexamethoxymethylmelamine.
  • Commercially available products include methoxymethyl type melamine compounds (product names: Cymel (registered trademark) 300, 301, 303, 350) manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd.
  • butoxymethyl type melamine compounds product names: Mycoat (registered trademark) 506, 508) manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., methoxymethyl type melamine compounds (product names: Nikalac (registered trademark) MW-30, MW-22, MW-11, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-035) manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., and butoxymethyl type melamine compounds (product names: Nikalac (registered trademark) MX-45, MX-410, MX-302) manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.
  • a compound obtained by condensing a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound, and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is replaced with a methylol group or an alkoxymethyl group For example, there may be mentioned high molecular weight compounds produced from melamine compounds and benzoguanamine compounds described in U.S. Pat. No. 6,323,310.
  • a commercially available product of the above melamine compound is the product name: Cymel (registered trademark) 303
  • a commercially available product of the above benzoguanamine compound is the product name: Cymel (registered trademark) 1123 (both manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.)).
  • Examples of the polymer obtained by polymerizing a monomer selected from N-hydroxymethyl(meth)acrylamide and N-alkoxymethyl(meth)acrylamide compounds include a polymer obtained by polymerizing a monomer such as N-alkoxymethylacrylamide or N-hydroxymethylacrylamide alone or copolymerized with a copolymerizable monomer.
  • Examples of such a polymer include poly(N-butoxymethylacrylamide), poly(N-ethoxymethylacrylamide), poly(N-methoxymethylacrylamide), poly(N-hydroxymethylacrylamide), a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and methyl methacrylate, a copolymer of N-ethoxymethylmethacrylamide and benzyl methacrylate, and a copolymer of N-butoxymethylacrylamide, benzyl methacrylate, and 2-hydroxypropyl methacrylate.
  • the weight average molecular weight of such a polymer is from 1,000 to 500,000, preferably from 2,000 to 200,000, more preferably from 3,000 to 150,000, and further preferably from 3,000 to 50,000.
  • the crosslinking agent (B) can be used alone or in combination of two or more types.
  • the content of the crosslinking agent (B) in the cured film-forming composition of this embodiment is preferably 100 to 2000 parts by mass, and more preferably 200 to 1500 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A).
  • Component (E) The component (E) contained in the cured film-forming composition of the present embodiment is composed of a compound having a polymerizable group and a hydroxyl group (hereinafter, also referred to as compound (E)).
  • Examples of the compound (E) include compounds having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group.
  • Compound (E) preferably has one or more hydroxy groups and one or more (meth)acrylic groups.
  • the cured film formed from the cured film-forming composition of this embodiment containing component (E) is used as an alignment film
  • the polymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal and the crosslinking reaction site of the alignment film can be covalently linked to improve adhesion between the alignment film and the layer of polymerizable liquid crystal.
  • the retardation material of this embodiment which is formed by laminating a cured polymerizable liquid crystal on the alignment film of this embodiment, can maintain strong adhesion even under high temperature and high humidity conditions and can exhibit high durability against peeling, etc.
  • the content of component (E) in the cured film-forming composition according to an embodiment of the present invention is preferably 1 to 150 parts by mass, and more preferably 5 to 100 parts by mass, based on 100 parts by mass of component (A).
  • the component (E) may be a mixture of multiple types of compound (E).
  • the compound (E) is not limited to the following compound examples.
  • Aronix (registered trademark) M-926 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Aronix (registered trademark) MT-2518 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Aronix (registered trademark) MT-2519 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Aronix (registered trademark) MT-3548 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • KAYARAD registered trademark
  • PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Blenmer (registered trademark) PE-90 manufactured by NOF Corp.
  • Blenmer (registered trademark) PE-200 manufactured by NOF Corp.
  • Blenmer (registered trademark) PE-350 manufactured by NOfactured by NOF
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • s represents an integer of 1 to 10
  • m, n, o, p, q, and r represent 0 or an integer of 1 or more
  • the sum of m, n, o, p, q, and r is 6.
  • Component (F) examples of the crosslinking catalyst in the component (F) include an acid or a thermal acid generator.
  • the component (F) is effective in promoting the thermal curing reaction in the formation of a cured film using the cured film-forming composition of the present invention.
  • component (F) examples include compounds containing sulfonic acid groups, hydrochloric acid or its salts, and compounds that undergo thermal decomposition during pre-baking or post-baking to generate an acid (hereinafter also referred to as thermal decomposition acid generators).
  • the thermal decomposition acid generator is preferably a compound that undergoes thermal decomposition at 60 to 250°C to generate an acid.
  • Such acids include, for example, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octane sulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H,1H,2H,2H-perfluorooctane sulfonic acid, perfluoro(2-ethoxyethane)sulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluoro
  • thermal decomposition acid generator examples include bis(tosyloxy)ethane, bis(tosyloxy)propane, bis(tosyloxy)butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1,2,3-phenylene tris(methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morphonium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid butyl ester, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl p-
  • the above-mentioned pyrolytic acid generators are commercially available, and examples thereof include TA-100, TA-100FG, IK-1, IK-1FG (all manufactured by San-Apro Co., Ltd.), San-Aid (registered trademark) SI-B2A, San-Aid (registered trademark) SI-B7, San-Aid (registered trademark) SI-B3A, San-Aid (registered trademark) SI-B3, San-Aid (registered trademark) SI-B5, San-Aid (registered trademark) SI-B4, San-Aid (registered trademark) SI-150, San-Aid (registered trademark) SI-110, San-Aid (registered trademark) SI-60, San-Aid (registered trademark) SI-80, San-Aid (registered trademark) SI-100 (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), etc.
  • the content of the component (F) in the cured film-forming composition of the present invention is 0.01 to 100 parts by mass, preferably 1 to 100 parts by mass, more preferably 10 to 100 parts by mass, and even more preferably 20 to 80 parts by mass, based on 100 parts by mass of the component (A).
  • the content of the (F) component 0.01 parts by mass or more, sufficient thermosetting property and solvent resistance can be imparted, and high sensitivity to light exposure can also be imparted.
  • the content of the (F) component 100 parts by mass or less the storage stability of the cured film-forming composition can be improved.
  • Component (G) The component (G) in the composition for forming a cured film of the present invention is composed of a photobase generator (hereinafter, also referred to as compound (G)).
  • the compound (G) is not particularly limited as long as it is a compound that generates a base when irradiated with active energy rays such as visible light, ultraviolet light, etc.
  • Examples of the compound (G) include nonionic photobase generators and ionic photobase generators.
  • Ar-L-C( O)-N(R 1 )(R 2 ) Formula (g)
  • Ar is an aromatic hydrocarbon group which may be substituted.
  • substituent that may substitute the aromatic hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, a hydroxy group, a carboxy group, an acyl group, a nitro group, an amino group, a cyano group, and an oxo group.
  • the substituent is preferably a hydroxy group, a nitro group, and an oxo group.
  • the preferred aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthralyl group.
  • the optionally substituted aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a hydroxyphenyl group, a nitrophenyl group, a naphthyl group, a hydroxynaphthyl group, a nitronaphthyl group, an anthralyl group, a hydroxyanthralyl group, a nitroanthralyl group, and an anthraquinonyl (anthracene-9,10-dione-yl) group.
  • Ar is preferably an optionally substituted phenyl group or an optionally substituted anthralyl group, more preferably an optionally substituted anthralyl group, still more preferably an anthralyl group or an anthraquinonyl group, and still more preferably an anthralyl group.
  • L is a divalent linking group.
  • the divalent linking group include a linear or branched alkylene group, an optionally substituted cycloalkylene group, a linear or branched alkenylene group, an optionally substituted cycloalkenylene group, an oxy group, a carbonyl group, and combinations thereof.
  • the linear or branched alkylene group is preferably a C1-6 linear or branched alkylene group, and examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group, a pentanediyl group, a hexanediyl group, and a methylmethylene group.
  • the cycloalkylene group is preferably a C3-6 cycloalkylene group, and examples thereof include a cyclopropanediyl group, a cyclobutanediyl group, a cyclopentanediyl group, and a cyclohexanediyl group.
  • the linear or branched alkenylene group is preferably a C2-6 linear or branched alkenylene group, and examples thereof include an ethenediyl group, a propenediyl group, a butenediyl group, a pentenediyl group, and a hexenediyl group.
  • the cycloalkenylene group is preferably a C3-6 cycloalkenylene group, and examples thereof include a cyclopropenediyl group, a cyclobutenediyl group, a cyclopentenediyl group, and a cyclohexenediyl group.
  • Examples of the combination of divalent groups include linear or branched alkyleneoxy groups (eg, methyleneoxy, ethyleneoxy, methylmethyleneoxy).
  • L is preferably a linear or branched alkyleneoxy group or a linear or branched alkenylene group, more preferably a methyleneoxy group, a methylmethyleneoxy group or an ethenediyl group.
  • R 1 -N-R 2 moieties form an amine (acyclic amine, heterocyclic amine), where R 1 and R 2 may each independently be any substituent, or together may form a ring structure.
  • R 1 and R 2 are each independently any substituent, the R 1 -N-R 2 moiety forms an acyclic amine.
  • R 1 and R 2 include a hydrocarbon group.
  • the hydrocarbon group include a linear or branched alkyl group, a linear or branched alkenyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group, an aromatic hydrocarbon group, and groups in which these are further substituted with a hydrocarbon group.
  • the straight-chain or branched alkyl group is preferably a C1-6 straight-chain or branched alkyl group, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group (e.g., n-propyl group, isopropyl group), a butyl group (e.g., n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group), a pentyl group (e.g., n-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group), and a hexyl group (e.g., n-hexyl group, isohexyl group).
  • a methyl group ethyl group
  • a propyl group e.g., n-propyl group, isopropyl group
  • a butyl group e.g., n-butyl group
  • the straight-chain or branched alkenyl is preferably a C2-6 straight-chain or branched alkenyl group, such as an ethenyl group, an allyl group, a propenyl group (1-propenyl group, isopropenyl group), a butenyl group, a pentenyl group, or a hexenyl group.
  • the cycloalkyl group is preferably a C3-6 cycloalkyl group, and examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
  • the cycloalkenyl group is preferably a C3-6 cycloalkenyl group, and examples thereof include a cyclopropenyl group, a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, and a cyclohexenyl group.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a C6-10 aromatic hydrocarbon group, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group.
  • R 1 and R 2 are each independently any substituent, R 1 and R 2 are preferably a C1-6 linear or branched alkyl group, more preferably a C1-6 linear alkyl group, and further preferably an ethyl group.
  • heterocyclic amines include optionally substituted non-aromatic nitrogen-containing heterocycles and optionally substituted aromatic nitrogen-containing heterocycles.
  • non-aromatic nitrogen-containing heterocycles include pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, and morpholine ring.
  • aromatic nitrogen-containing heterocycles include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, oxazole ring, and thiazole ring.
  • Examples of the substituents for the non-aromatic nitrogen-containing heterocycle or aromatic nitrogen-containing heterocycle include a hydroxy group, an acyl group, a carboxy group, a nitro group, an amino group, a cyano group, an oxo group, and a hydrocarbon group which may be substituted with a substituent.
  • Examples of the substituents for the hydrocarbon group include a hydrocarbon group, a hydroxy group, an acyl group, a carboxy group, a nitro group, an amino group, a cyano group, and an oxo group.
  • Examples of the hydrocarbon group include the above-mentioned alkyl group and alkenyl group, and preferred embodiments include the same structures.
  • acyl group examples include saturated acyl groups such as formyl group, acetyl group, and propionyl group, and unsaturated acyl groups such as acryloyl group and methacryloxy group.
  • carboxy group examples include saturated carboxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group, and unsaturated carboxy groups such as acryloyloxy group and methacryloxy group.
  • Non-ionic photobase generators that generate amine compounds include, for example, 9-anthrylmethyl piperidine-1-carboxylate, 9-anthrylmethyl N,N-diethylcarbamate, (E)-N-cyclohexyl-3-(2-hydroxyphenyl)acrylamide, (E)-1-piperidino-3-(2-hydroxyphenyl)-2-propen-1-one, 9-anthrylmethyl N-cyclohexylcarbamate, 1-(anthraquinone-2-yl)ethyl Examples include imidazole carboxylate, 4-hydroxypiperidine-1-carboxylate (2-nitrophenyl)methyl, 2-nitrophenylmethyl 4-(methacryloyloxy)piperidine-1-carboxylate, N,N-dicyclohexylcarbamate 1-(anthraquinone-2-yl)ethyl, N,N-dicyclohexylcarbamate 9-anthrylmethyl, and N-cyclohe
  • non-ionic photobase generators are not particularly limited as long as they are compounds capable of generating a base upon irradiation with active energy rays, and known photobase generators can be used.
  • imidazole derivatives such as N-(2-nitrobenzyloxycarbonyl)imidazole, N-(3-nitrobenzyloxycarbonyl)imidazole, N-(4-nitrobenzyloxycarbonyl)imidazole, N-(4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl)imidazole, N-(5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)imidazole, and N-(4,5-dimethyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl)imidazole; N-(2-methyl-2-phenylpropionyloxy)-N-cyclohexylamine; and the like can be mentioned.
  • An ionic photobase generator is a salt that dissociates a strong basic cation when irradiated with active energy rays.
  • Examples of such salts include salts of a strong basic cation and a photoreactive weakly acidic anion.
  • R 20 to R 25 are each independently any substituent.
  • R 20 to R 25 are each independently preferably the above-mentioned hydrocarbon group, more preferably a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group, and further preferably a methyl group, an isopropyl group or a cyclohexyl group.
  • Examples of the photoreactive weakly acidic anion include anions containing one or more (preferably two or more) aromatic hydrocarbon rings and an anion-forming moiety.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon ring include an optionally halogenated benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring, and an optionally halogenated benzene ring is preferred.
  • Anion forming moieties include, for example, boron anion centers, carboxylate ions.
  • Ionic photobase generators that generate cations containing a guanidine structure include those represented by the following structural formulas (g2-a1) to (g2-a4).
  • Commercially available products include, for example, Fujifilm Wako Pure Chemical Industries' product names WPBG-082 (guanidinium 2-(3-benzoylphenyl)propionate), WPBG-266 (1,2-diisopropyl-3-[bis(dimethylamino)methylene]guanidinium 2-(3-benzoylphenyl)propionate), WPBG-300 (1,2-dicyclohexyl-4,4,5,5-tetramethylbiguanidinium n-butyltriphenylborate), and WPBG-345 ((Z)- ⁇ [bis(dimethylamino)methylidene]amino ⁇ -N-cyclohexyl(cyclohexylamino)methaniminium tetrakis(3-fluorophenyl)
  • Ionic photobase generators that generate amine structure-containing cations upon irradiation with active energy rays include those represented by the following structural formulas (g2-b1) to (g2-b2).
  • Commercially available products include, for example, WPBG-167 (dicyclohexylammonium 2-(3-benzoylphenyl)propionate) and WPBG-168 (cyclohexylammonium 2-(3-benzoylphenyl)propionate) manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • An example of an ionic photobase generator that generates an amidine structure-containing cation upon irradiation with active energy rays is the following structure (g2-c).
  • An example of a commercially available product is WPBG-246 (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
  • Compound (G) is preferably a compound that absorbs at g-line (436 nm), h-line (405 nm), or i-line (365 nm), from the viewpoint of generating a base in the film by irradiation with light and weakening the effect of the acid, and more preferably a compound that absorbs at i-line (365 nm).
  • the amount of the (G) component is not particularly limited and may be adjusted as appropriate. From the viewpoint of generating a base in the film by light irradiation and weakening the effect of the acid, the amount of the (G) component is preferably 0.1 molar parts or more per 1.0 molar part of the (F) component, more preferably 0.2 molar parts or more, and even more preferably 0.3 molar parts or more.
  • the cured film-forming composition according to the embodiment of the present invention may contain other components in addition to the above-mentioned components.
  • specific examples of the other components include the components (C) and (D), sensitizers, silane coupling agents, surfactants, rheology adjusters, pigments, dyes, storage stabilizers, antifoaming agents, and antioxidants, which will be described later.
  • Component (C) The component (C) that may be contained in the cured film-forming composition of the present invention is composed of a polymer having, as a unit structure, 60 mol % or more of all repeating units that have a hydroxyl group (hereinafter, also referred to as specific polymer 2).
  • Examples of the skeletal (main chain) structure of the polymer that is component (C) include polymers having a straight-chain or branched structure, such as acrylic polymers, urethane-modified acrylic polymers, polyamic acids, polyimides, polyvinyl alcohols, polyesters, polyester polycarboxylic acids, polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polycaprolactone polyols, polyalkyleneimines, polyallylamine, celluloses (cellulose or derivatives thereof), or phenol novolac resins, or cyclic polymers such as cyclodextrins.
  • acrylic polymers urethane-modified acrylic polymers
  • polyamic acids polyimides
  • polyvinyl alcohols polyesters
  • polyester polycarboxylic acids polyether polyols
  • polyester polyols polycarbonate polyols
  • polycaprolactone polyols polyalkyleneimines
  • polyallylamine polyallylamine
  • celluloses
  • the acrylic polymer may be a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond, such as (meth)acrylic acid ester or styrene.
  • a simple method for synthesizing the polymer is to (co)polymerize a monomer having a hydroxyl group and, if desired, another monomer.
  • Examples of monomers having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2,3-dihydroxypropyl (meth)acrylate, diethylene glycol mono(meth)acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate, caprolactone 2-((meth)acryloyloxy)ethyl ester, poly(ethylene glycol) ethyl ether (meth)acrylate, 5-(meth)acryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone, and the like.
  • 4-hydroxybutyl (meth)acrylate is particularly preferred.
  • a monomer that is copolymerizable with the monomer having a hydroxyl group (hereinafter also referred to as a monomer having a non-reactive functional group) can be used in combination.
  • Such monomers include (meth)acrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds, and vinyl compounds. Specific examples of the above monomers are given below, but the present invention is not limited to these.
  • the above-mentioned (meth)acrylic acid ester compounds include, for example, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, naphthyl (meth)acrylate, anthryl (meth)acrylate, anthrylmethyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, 2-e
  • acrylamide compounds mentioned above include N-methylacrylamide, N-methylmethacrylamide, N,N-dimethylacrylamide, N,N-dimethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, and N-butoxymethylmethacrylamide.
  • vinyl compounds mentioned above include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, 1,2-epoxy-5-hexene, and 1,7-octadiene monoepoxide.
  • styrene compounds mentioned above include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.
  • maleimide compounds mentioned above include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.
  • the method for obtaining the specific polymer 2 used in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited, but an example is a method in which a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a non-reactive functional group if desired, and a polymerization initiator are polymerized in a solvent at a temperature of 50 to 110°C.
  • the solvent used in this case is not particularly limited as long as it dissolves the monomer having a hydroxyl group, a monomer having a non-reactive functional group if desired, and a polymerization initiator. Specific examples include the solvents described below.
  • the specific polymer 2 thus obtained is usually in the form of a solution dissolved in a solvent, and can be used as is as the polymer solution of component (C) in the present invention.
  • the solution of specific polymer 2 obtained as described above can be reprecipitated by adding it to diethyl ether, water, or the like under stirring, and the resulting precipitate can be filtered and washed, and then dried at room temperature or by heating under normal or reduced pressure to obtain a powder of specific polymer 2.
  • the polymerization initiator and unreacted monomers coexisting with specific polymer 2 can be removed, and as a result, a powder of purified specific polymer 2 can be obtained. If sufficient purification cannot be achieved by a single operation, the obtained powder can be redissolved in a solvent and the above operation can be repeated.
  • the powder of the specific polymer 2 may be used as is as the polymer of component (C), or the powder may be redissolved in a solvent, for example, as described below, and used in the form of a solution.
  • the polymer which is an example of component (C), preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000, more preferably 4,000 to 150,000, and even more preferably 5,000 to 100,000.
  • component (C) may be a mixture of multiple types of polymers exemplified as component (C).
  • the component (C) preferably has, as a unit structure, repeating units having a hydroxy group in an amount of 60 mol % or more of all repeating units, more preferably 70 mol % or more, even more preferably 80 mol % or more, and particularly preferably 90 mol % or more. That is, the amount of the monomer having a hydroxy group used to obtain the specific polymer 2, which is the component (C), is preferably 60 mol % or more, more preferably 70 mol % or more, even more preferably 80 mol % or more, and particularly preferably 90 mol % or more, based on the total amount of all monomers used to obtain the specific polymer 2, which is the component (C).
  • component (C) When the cured film-forming composition of the present invention contains component (C), the content of component (C) is preferably 50 to 1500 parts by mass, more preferably 100 to 1000 parts by mass, and even more preferably 200 to 500 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A).
  • Component (D) The component (D) that may be contained in the cured film-forming composition of the present invention is a polymer having 45 mol % or more of the repeating units represented by the following formula (X) based on the total repeating units, and also having a repeating unit having a hydroxy group (hereinafter, also referred to as specific copolymer 3).
  • R1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R2 represents a C1-5 linear or branched alkyl group.
  • a monomer that provides a repeating unit represented by the above formula (X) will be referred to as a specific monomer X.
  • Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester that is the specific monomer X include (meth)acrylic acid alkyl ester compounds such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, and tert-butyl (meth)acrylate.
  • methyl methacrylate is particularly preferred from the viewpoints of availability and affinity with the acrylic film used as the substrate. That is, it is preferable that the component (D) is a polymer obtained by using methyl methacrylate as a monomer, in other words, a polymer having a repeating unit structure represented by formula (X) in which R1 and R2 are both methyl groups.
  • the specific copolymer 3, which is the component (D), can be a polymer obtained by adding a monomer having an unsaturated double bond, such as styrene, to the specific monomer X, which is an alkyl (meth)acrylate ester, and polymerizing these.
  • the (D) component is preferably a (meth)acrylic copolymer obtained by copolymerizing a monomer having a hydroxyl group in addition to the specific monomer X, which is an alkyl (meth)acrylic ester.
  • a method for synthesizing a (meth)acrylic copolymer in which a monomer having a hydroxyl group is further copolymerized in addition to the specific monomer X, which is a (meth)acrylic acid alkyl ester a method of copolymerizing the specific monomer X with at least one monomer selected from monomers having a hydroxyl group is simple.
  • Examples of monomers having a hydroxyl group include the monomers having a hydroxyl group exemplified above for Specific Polymer 2. Among these, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate is particularly preferred.
  • a monomer that is copolymerizable with the monomer and does not have the above-mentioned thermally crosslinkable substituent can be used in combination.
  • Such monomers include specific monomer X, as well as (meth)acrylic acid ester compounds having a structure different from that of monomers having a hydroxyl group, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds, and vinyl compounds.
  • Examples of the (meth)acrylic acid ester compound having a structure different from that of the specific monomer X and the like include benzyl (meth)acrylate, naphthyl (meth)acrylate, anthryl (meth)acrylate, anthrylmethyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate,
  • Examples of the acrylates include 2-methoxyethyl (meth)acrylate, methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, 3-methoxybutyl (meth)acrylate,
  • Examples of acrylamide compounds having a structure different from that of the specific monomer X and the like include the acrylamide compounds exemplified in the specific polymer 2 above.
  • Examples of vinyl compounds having a structure different from that of the specific monomer X and the like include the vinyl compounds exemplified in the specific polymer 2 above.
  • Examples of styrene compounds having a structure different from that of the specific monomer X and the like include the styrene compounds exemplified in the specific polymer 2 above.
  • maleimide compounds having a structure different from that of the specific monomer X and the like include the maleimide compounds exemplified in the specific polymer 2 above.
  • the abundance ratio of the unit structure represented by formula (X) is preferably 45 to 99 mol %, more preferably 55 to 98 mol %, and even more preferably 70 to 95 mol %, based on all unit structures constituting the polymer. That is, the amount of specific monomer X used to obtain specific copolymer 3, which is component (D), is preferably 45 to 99 mol %, more preferably 55 to 98 mol %, and even more preferably 70 to 95 mol %, based on the total amount of all monomers used to obtain specific copolymer 3, which is component (D).
  • the total amount of monomers having a hydroxyl group in component (D) is preferably 5 to 30 mass % of the total amount of all monomers used to obtain specific copolymer 3, which is component (D), from the viewpoint of strengthening the adhesion between the film and the substrate through sufficient reaction with component (B).
  • the method for obtaining the specific copolymer 3, which is component (D), is not particularly limited, but it can be obtained, for example, by the same method as for the specific polymer 2, except that the specific monomer X, a monomer having a hydroxyl group, and other monomers are used as desired.
  • the specific copolymer 3, which is component (D) obtained by the above method, is usually in the form of a solution dissolved in a solvent, and can be used as is as a solution of component (D) in the present invention.
  • the specific copolymer 3 of component (D) may be used in the form of a powder, or in the form of a solution in which the purified powder is redissolved in a solvent described below.
  • component (D) may be a mixture of multiple types of specific copolymer 3 that is component (D).
  • component (D) When the cured film-forming composition of the present invention contains component (D), the content of component (D) is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 20 to 300 parts by mass, and even more preferably 30 to 200 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A).
  • the sensitizer is effective in promoting the photoreaction when forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention.
  • the sensitizer include derivatives of benzophenone, anthracene, anthraquinone, and thioxanthone, and nitrophenyl compounds, etc.
  • N,N-diethylaminobenzophenone which is a derivative of benzophenone, and 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroacenaphthene, 4-nitrobiphenyl, 4-nitrocinnamic acid, 4-nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone, and 5-nitroindole, which are nitrophenyl compounds, are particularly preferred.
  • the amount of the sensitizer used is preferably 1 to 100 parts by mass, and more preferably 10 to 80 parts by mass, per 100 parts by mass of the component (A).
  • the cured film-forming composition according to the embodiment of the present invention is preferably used in a state of solution in a solvent.
  • the solvent used in this case dissolves the components (A), (B), (E), (F), and (G), and other components as necessary, and the type and structure of the solvent are not particularly limited as long as the solvent has such dissolving ability.
  • solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, cyclopentyl methyl ether, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl-2-pentanone, 2-pentanone, 2 -heptanone, ⁇ -butyrolactone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxya
  • the solvent is commercially available, and examples of such solvents include Neoethanol (registered trademark) PM, Neoethanol (registered trademark) MIP, Neoethanol (registered trademark) IPM, Neoethanol (registered trademark) IPE, Neoethanol (registered trademark) PHI, Neoethanol (registered trademark) MHI, Neoethanol (registered trademark) PIP, Neoethanol (registered trademark) HIMTE, Neoethanol (registered trademark) PHM, Neoethanol (registered trademark) IPME, and Neoethanol (registered trademark) P-7 (all manufactured by Taishin Chemical Co., Ltd.).
  • solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • propylene glycol monomethyl ether propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, and neoethanol (registered trademark) IPM are more preferred due to their excellent film-forming properties and high safety.
  • the cured film-forming composition of the present invention is a composition in which the components (A), (B), (E), (F) and (G) are dissolved in a solvent.
  • the cured film-forming composition of the present invention may further contain other components including the components (C) and (D).
  • the proportion of solids in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is generally 1 to 80 mass %, preferably 2 to 60 mass %, and more preferably 3 to 40 mass %.
  • the solid content refers to all components of the cured film-forming composition excluding the solvent.
  • the method for preparing the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited.
  • the preparation method include a method in which a solution of component (B) dissolved in a solvent is mixed with components (A), (E), (F), and (G), and optionally component (C) and further component (D) in a predetermined ratio to prepare a homogeneous solution, or a method in which other additives are further added and mixed as necessary at an appropriate stage of this preparation method.
  • the solution of the composition for forming a cured film is preferably filtered using a filter with a pore size of about 0.2 ⁇ m before being used to form a cured film.
  • the cured film-forming composition of the present invention can be suitably used for forming a cured film on the surface of an optical film.
  • the optical film of the present invention is preferably obtained by applying the above-mentioned composition for forming a cured film onto a substrate to form a coating film, and then heating and drying the coating film on a hot plate or in an oven or the like to form a cured film.
  • Plastic materials for the substrate include glass, plastics (e.g., films), and metals.
  • Plastic materials include films of polyimide, polyamideimide, polyamide, polyetherimide, polyetheretherketone, polyetherketone, polyketone sulfide, polyethersulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyacetal, polycarbonate, polyarylate, acrylic resin, polyvinyl alcohol, polypropylene, cellulose, triacetyl cellulose (TAC) and its partially saponified products, epoxy resin, phenolic resin, and cycloolefin resin.
  • the substrate preferably has a thickness of 20 to 100 ⁇ m.
  • Methods for applying the cured film composition to a substrate include bar coating, spin coating, flow coating, roll coating, slit coating, spin coating followed by slit coating, inkjet coating, and printing.
  • the heat drying conditions are such that, when a cured film is used as the alignment film, the curing reaction proceeds to such an extent that the components of the alignment film are not dissolved in the solution of the polymerizable liquid crystal to be applied thereon.
  • the heating temperature is preferably 50 to 140° C., more preferably 60 to 130° C.
  • the heating time is preferably 0.4 to 60 minutes, more preferably 0.5 to 10 minutes.
  • the thickness of the cured film on the surface of the optical film of the present invention is, for example, 0.05 ⁇ m to 5 ⁇ m, and can be appropriately selected taking into consideration the step and optical and electrical properties of the film used as the substrate.
  • the optical film of the present invention thus produced can be irradiated with polarized UV light to cause the cured film formed on the substrate to function as a liquid crystal alignment film, i.e., as a member for aligning compounds having liquid crystallinity, including polymerizable liquid crystals, etc. (hereinafter, this member is also referred to as an alignment material), and the optical film can be used as an alignment material.
  • a liquid crystal alignment film i.e., as a member for aligning compounds having liquid crystallinity, including polymerizable liquid crystals, etc.
  • Polarized UV irradiation usually uses ultraviolet to visible light with a wavelength of 150 nm to 450 nm. Polarized UV irradiation is performed at room temperature or in a heated state. Polarized UV irradiation is performed by irradiating linearly polarized light from a vertical or oblique direction.
  • the cured film that becomes the liquid crystal alignment film has solvent resistance and heat resistance, so that after a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution is applied onto this alignment material, the retardation material is put into a liquid crystal state by heating it to the phase transition temperature of the liquid crystal, and is aligned on the alignment material.
  • the retardation material in the desired alignment state can then be cured as is to form a retardation material having a layer with optical anisotropy.
  • the retardation material for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used.
  • the retardation material of the present invention when the substrate to which the alignment material is applied is a film, the retardation material of the present invention is useful as a retardation film.
  • Retardation materials that form such retardation materials are in a liquid crystal state and can assume an alignment state such as horizontal alignment, cholesteric alignment, vertical alignment, and hybrid alignment on the alignment material, and each can be used according to the required retardation characteristics.
  • the cured film on the surface of the optical film of the present invention can be exposed to polarized UV light at, for example, +45 degrees from a predetermined reference through a line-and-space pattern mask, and then exposed to polarized UV light at a lower exposure dose at -45 degrees after removing the mask.
  • polarized UV light at, for example, +45 degrees from a predetermined reference through a line-and-space pattern mask, and then exposed to polarized UV light at a lower exposure dose at -45 degrees after removing the mask.
  • a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution is applied onto the alignment material, and the retardation material is put into a liquid crystal state by heating it to the phase transition temperature of the liquid crystal.
  • the polymerizable liquid crystal in the liquid crystal state is oriented on the alignment material in which the two types of liquid crystal alignment regions are formed, forming an alignment state corresponding to each liquid crystal alignment region.
  • the retardation material in which such an alignment state has been realized is cured as it is to fix the above-mentioned alignment state, and a patterned retardation material in which two types of retardation regions with different retardation characteristics are regularly arranged in multiples can be obtained.
  • the optical film of the present invention can also be used as a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element.
  • the optical film of the present embodiment formed as described above can be used to laminate the alignment films of both optical films with a spacer interposed therebetween so that they face each other, and then liquid crystal can be injected between the substrates to produce a liquid crystal display element in which the liquid crystal is aligned. Therefore, the optical film of the present invention can be suitably used in the production of various retardation materials (retardation films) and liquid crystal display elements.
  • BMAA N-butoxymethylacrylamide
  • BMMA N-butoxymethylmethacrylamide
  • AAEM (2-acetoacetoxy)ethyl methacrylate
  • 4HBA 4-hydroxybutyl acrylate MMA: methyl methacrylate
  • AIBN ⁇ , ⁇ '-azobisisobutyronitrile
  • MAIB 2,2'-azobis(isobutyric acid) dimethyl
  • TGL ⁇ -thioglycerol
  • HPC Hydroxypropyl cellulose (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., NISSO HPC SSL (registered trademark))
  • ⁇ (F) component crosslinking catalyst>
  • CSA ( ⁇ )-10-camphorsulfonic acid
  • PTSA p-toluenesulfonic acid monohydrate
  • WPBG-018 9-anthrylmethyl N,N-diethylcarbamate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name: WPBG-018)
  • WPBG-266 1,2-diisopropyl-3-[bis(dimethylamino)methylene]guanidinium 2-(3-benzoylphenyl)propionate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name: WPBG-266)
  • WPBG-300 1,2-dicyclohexyl-4,4,5,5-tetramethylbiguanidium n-butyltriphenylborate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name: WPBG-300)
  • WPBG-345 (Z)- ⁇ [bis(dimethylamino)methylidene]amino ⁇ -N-cyclohexyl(cyclohexylamin
  • 21 parts by mass of PC-1 means that 52.5 parts by mass of a (meth)acrylic polymer solution (solid concentration: 40% by mass) was mixed
  • Preparation Examples 2 to 7 Compositions A-2 to A-5 and B-1 to B-2 were prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the types and amounts of each component were as shown in Table 1.
  • ⁇ Preparation Example 9 PTSA (1.0 g) as a catalyst and PM (19.0 g) as a solvent were added, stirred for 1 hour, and visually confirmed to be dissolved. The solution was filtered through a filter having a pore size of 0.2 ⁇ m to prepare a catalyst solution (F-2).
  • Example 1 To A-1 (2.00 g) obtained in Preparation Example 1, F-1 (0.08 g) obtained in Preparation Example 8 and EA (0.5 g) and IPM (1.3 g) as dilution solvents were added, and the mixture was stirred for 24 hours to obtain a cured film-forming composition AL-1.
  • Examples 2 to 4 The same procedure as in Example 1 was carried out, but A-1 was changed to A-2 to A-4, thereby obtaining cured film-forming compositions AL-2 to AL-4.
  • Example 5 To A-5 (2.00 g) obtained in Preparation Example 5, F-2 (0.12 g) obtained in Preparation Example 9 and EA (0.54 g) as a dilution solvent were added, and the mixture was stirred for 1 minute to obtain a cured film-forming composition AL-5.
  • LC-242 a photopolymerizable liquid crystal compound having nematic liquid crystallinity represented by the following formula (LC-242), manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) (19.3 g) which is a polymerizable liquid crystal for horizontal alignment
  • Omnirad (registered trademark) 907 (2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, manufactured by IGM Resins B.V.) (0.6 g) as a photoradical initiator
  • BYK (registered trademark)-361N acrylic leveling agent, manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd.
  • CPN 80 g
  • Example 6 The composition for forming a cured film (AL-1) obtained in Example 1 was applied to an acrylic film as a substrate using a bar coater with a wet film thickness of 8 ⁇ m. The film was dried by heating at 90 ° C. for 1 minute in a hot air circulation oven to form a cured film on the film. Then, the surface of the cured film was irradiated vertically with linear polarized light having a wavelength of 313 nm at an exposure dose of 20 mJ / cm 2 to form a liquid crystal alignment film.
  • the polymerizable liquid crystal solution LC-1 for horizontal alignment was applied to the liquid crystal alignment film with a wet film thickness of 8 ⁇ m using a bar coater. Then, the film was dried by heating at 90 ° C. for 1 minute in an oven, and then irradiated vertically with non-polarized light having a wavelength of 365 nm at an exposure dose of 500 mJ / cm 2 under nitrogen to cure the polymerizable liquid crystal, and a retardation film was produced.
  • Example 10 The composition for forming a cured film (AL-5) obtained in Example 5 was applied to a TAC film as a substrate using a bar coater with a wet film thickness of 4 ⁇ m. The film was dried by heating at 120 ° C. for 2 minutes in a hot air circulation oven to form a cured film on the film. Then, the surface of the cured film was irradiated vertically with linear polarized light having a wavelength of 313 nm at an exposure dose of 20 mJ / cm 2 to form a liquid crystal alignment film. The polymerizable liquid crystal solution LC-1 for horizontal alignment was applied to the liquid crystal alignment film with a wet film thickness of 8 ⁇ m using a bar coater.
  • the film was dried by heating at 90 ° C. for 1 minute in an oven, and then irradiated vertically with non-polarized light having a wavelength of 365 nm at an exposure dose of 500 mJ / cm 2 under nitrogen to cure the polymerizable liquid crystal, and a retardation film was produced.
  • Retardation films were prepared in the same manner as in Example 10 except that (BL-4) to (BL-6) were used as the cured film-forming compositions.
  • the retardation films prepared as above were evaluated by the following methods.
  • the evaluation results are shown in Table 3.
  • the adhesion evaluation of Examples 6 to 9 and Comparative Examples 7 to 9 was performed up to 3 days later. However, Comparative Example 7 was rated as "x" after 1 day, Comparative Example 8 was rated as "x” at the initial stage, and Comparative Example 9 was rated as "x” in the orientation evaluation, so no evaluation was performed thereafter.
  • the adhesion evaluation of Example 10 and Comparative Examples 10 to 12 was performed after the initial stage, and then after 7 days and 14 days. However, since the orientation evaluation of Comparative Examples 11 and 12 was "x", no evaluation was performed thereafter.
  • the film having the cured film formed thereon obtained by the cured film-forming composition of the present invention is very useful as an alignment material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element or an optically anisotropic film provided inside or outside a liquid crystal display element, and is particularly suitable as a material for forming a patterned retardation material of a 3D display.Furthermore, it is also suitable as a material for forming a cured film such as a protective film, a planarizing film, or an insulating film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element or an organic EL element, and is particularly suitable as a material for forming an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal element, a protective film of a color filter, or an insulating film of an organic EL element.
  • TFT thin film transistor

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Abstract

高温高湿の条件下であっても液晶層との密着性に優れ、且つ、優れた液晶配向能を有する硬化膜を形成することが可能な、硬化膜形成用組成物を提供する。　以下の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、及び（Ｇ）成分を含有する硬化膜形成用組成物である。　（Ａ）成分：光配向性基を有する化合物　（Ｂ）成分：ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤　（Ｅ）成分：重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物　（Ｆ）成分：架橋触媒　（Ｇ）成分：光塩基発生剤

Description

硬化膜形成用組成物、硬化膜、配向材および位相差材
　本発明は液晶分子を配向させる硬化膜を形成する硬化膜形成用組成物、硬化膜、光学フィルム、配向材および位相差材に関する。特に本発明は、円偏光メガネ方式の３Ｄディスプレイに用いられるパターニングされた位相差材、及び有機ＥＬディスプレイの反射防止膜として使用される円偏光板に用いられる位相差材、並びに該位相差材を作製するのに有用な硬化膜形成用組成物、硬化膜、光学フィルム、配向材および位相差材に関する。
　円偏光メガネ方式の３Ｄディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。
　尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。
　パターン化位相差材は、例えば、特許文献１に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られた光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる２種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。
　有機ＥＬディスプレイの反射防止膜は、直線偏光板、１／４波長位相差板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く１／４波長位相差板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、１／４波長位相差板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。
　この１／４波長位相差板に関して、特許文献２には、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて１／４波長位相差板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性による液晶材料を使用して逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。
　また近年、この位相差層に適用可能な液晶材料として、逆分散特性を備えるものが提案されている（特許文献３、４）。このような逆分散特性の液晶材料によれば、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて２層の位相差層により１／４波長位相差板を構成する代わりに、位相差層を単層により構成して逆分散特性を確保することができ、これにより広い波長帯域において所望の位相差を確保することが可能な光学フィルムを簡易な構成により実現することができる。
　液晶を配向させるためには配向層が用いられる。配向層の形成方法としては、例えばラビング法や光配向法が知られており、光配向法はラビング法の問題点である静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができる点で有用である。
　光配向法を用いた配向膜形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光ＵＶを照射することにより、液晶の配向を制御する性能（以下、液晶配向性とも言う）を示すことが報告されている（特許文献５～７を参照）。
　また、配向層には、液晶配向能の他、耐溶剤性が要求される。例えば、配向層が、位相差材の製造過程にて熱や溶剤にさらされる場合がある。配向層が溶剤にさらされると、液晶配向能が著しく低下するおそれがある。特許文献８には、優れた液晶配向性と耐溶剤性を両立する配向層を与える硬化膜形成用組成物が開示されている。
特開２００５－４９８６５号公報 特開平１０－６８８１６号公報 米国特許第８１１９０２６号明細書 特開２００９－１７９５６３号公報 特許第３６１１３４２号公報 特開２００９－０５８５８４号公報 特表２００１－５１７７１９号公報 国際公開２０１８／１８１３６４号公報
　配向層には、液晶層との密着性も要求される。配向層とこの上に形成された液晶層との密着力が十分でない場合、例えば、位相差フィルム製造時の巻き取り工程等において、上記液晶層が剥離してしまうことがある。
　また、高温高湿の条件下で高い密着性を維持することが望ましいが、本発明者が検討したところ、従来の配向膜を用いた場合、大気中の水分と反応することで配向膜の密着性が低下する可能性があることが明らかとなった。特に、従来の配向膜に酸が含まれる場合、酸が、密着性低下を促進する原因物質の一つとして考えられた。
　そこで、塩基性化合物を添加することが考えられるが、これは酸が有する硬化促進効果を弱めてしまうことになるため、例えば、焼成温度を低くして硬化膜を形成する場合、硬化膜の耐溶剤性を低下させ、重合性液晶を配向させることが困難となる虞がある。
　本発明は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、高温高湿の条件下であっても液晶層との密着性に優れ、且つ、優れた液晶配向能を有する硬化膜を形成することが可能な、硬化膜形成用組成物を提供することである。
　また、本発明の目的は、上記硬化膜を有する光学フィルム、該硬化膜若しくは光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供することである。
　本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
　本発明者は、上記課題を達成するために鋭意研究を行った結果、特定の成分を含有する硬化膜形成用組成物が、上記の目的を達成するために有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。
　本発明の第１の態様は、以下の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、及び（Ｇ）成分を含有する硬化膜形成用組成物である。
　（Ａ）成分：光配向性基を有する化合物
　（Ｂ）成分：ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤
　（Ｅ）成分：重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物
　（Ｆ）成分：架橋触媒
　（Ｇ）成分：光塩基発生剤
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の光配向性基は、光二量化又は光異性化する構造を有する官能基であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の光配向性基は、シンナモイル基又はアゾベンゼン構造を有する基であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ｂ）成分である架橋剤が、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物の少なくともいずれかを含むモノマーを重合したポリマーであることが好ましい。
　本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の硬化膜形成用組成物から得られる硬化膜に関する。
　本発明の第３の態様は、本発明の第２の態様の硬化膜を有する光学フィルムに関する。
　本発明の第４の態様は、本発明の第２の態様の硬化膜を使用して形成される配向材に関する。
　本発明の第５の態様は、本発明の第２の態様の硬化膜を使用して形成される位相差材に関する。
　本発明によれば、高温高湿の条件下であっても液晶層との密着性に優れ、且つ、優れた液晶配向能を有する硬化膜を形成することが可能な、硬化膜形成用組成物を提供することができる。
　また、本発明によれば、上記硬化膜を有する光学フィルム、及び硬化膜又は光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供することができる。
　以下において、本発明の硬化膜形成用組成物について、成分等の具体例を挙げながら詳細に説明する。そして、本発明の硬化膜形成用組成物を用いた本発明の硬化膜および、該硬化膜を使用して形成される配向材、並びに、その配向材を用いて形成される位相差材、および液晶表示素子等について説明する。
＜硬化膜形成用組成物＞
　本発明の硬化膜形成用組成物は、以下の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、及び（Ｇ）成分を含有する。
（Ａ）成分：光配向性基を有する化合物
（Ｂ）成分：ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤
（Ｅ）成分：重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物
（Ｆ）成分：架橋触媒
（Ｇ）成分：光塩基発生剤
　また、本発明の硬化膜形成用組成物は、溶剤を含有することができる。
　以下、各成分の詳細を説明する。
　なお、本明細書中、Ｃとは炭素原子を表し、例えば、Ｃ１は炭素原子数（炭素数）が１であることを意味する。したがって、「Ｃ１アルキル基」とは、「炭素数１のアルキル基」を意味する。
　重合体の骨格（主鎖）とは、重合体のうち最も長い原子の連鎖からなる「幹」の部分をいう。
　「～」を用いて表される数値範囲は、「～」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、特別な言及がない限り、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」と「メタクリレート」の両方とも可能であることを意味し、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」と「メタクリル」の両方とも可能であることを意味する。
　＊は結合手を表す。
［（Ａ）成分］
　本発明の硬化膜形成用組成物における（Ａ）成分は、光配向性基を有する化合物（以下、化合物（Ａ）ともいう。）で構成される。すなわち（Ａ）成分は、本発明の硬化膜形成用組成物から得られる硬化膜に光配向性を付与する成分であり、本明細書において、（Ａ）成分を光配向成分とも称する。
　尚、本実施形態において、光配向性基とは、一般に光照射によって配向する性質を発揮する官能基を指し、代表的には光二量化又は光異性化する構造部位の官能基を言う。その他の光配向性基としては、たとえば光フリース転位反応を起こす官能基（例示化合物：安息香酸エステル化合物など）、光分解反応を起こす基（例示化合物；シクロブタン環など）などが挙げられる。
　化合物（Ａ）は、分子量あるいは重量平均分子量が２，０００未満の化合物であってもよく、分子量あるいは重量平均分子量が２，０００以上の化合物（又は、重合体ともいう。）であってもよい。化合物（Ａ）は、後述の（Ｃ）成分を構成する重合体に比べて分子量が低い化合物であってもよい。
　本発明の硬化膜形成用組成物において、化合物（Ａ）は、さらに熱架橋性基を有する化合物であってもよい。熱架橋性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミド基、アミノ基及びアルコキシシリル基からなる群から選ばれる一つの熱架橋性基が挙げられる。
　化合物（Ａ）における光二量化する構造部位とは、光照射により二量体を形成する部位であり、その具体例としては、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基、等が挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ、及び光二量化反応性の高さから、シンナモイル基が好ましい。
　また、化合物（Ａ）における光異性化する構造部位とは、光照射によりシス体とトランス体とに変わる構造部位を指し、その具体例としてはアゾベンゼン構造、スチルベン構造等からなる部位が挙げられる。これらのうち反応性の高さからアゾベンゼン構造が好ましい。
　化合物（Ａ）は、例えば、下記式［Ａ１１］～［Ａ１５］で表される化合物が好ましい。
　上記式中、Ａ１とＡ２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
　Ｘ１１は、連結基（ｘ１）を介して、Ｃ１～１８のアルキレン基、フェニレン基、ビフェニル基、又は、それらの組み合わせから選ばれる１～３の炭化水素基がベンゼン環に結合してなる構造である。
　上記連結基（ｘ１）としては、単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合、ウレタン結合、アミノ結合、カルボニル結合又はそれらの組み合わせから選ばれる１種又は２種以上の結合が挙げられる。
　Ｘ１２は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１～１８のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基又はシクロヘキシル基を表す。その際、Ｃ１～１８のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基及びシクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、又は、尿素結合を介して２種以上の基が結合してもよい。
　Ｘ１３は、ヒドロキシ基、メルカプト基、Ｃ１～１０のアルコキシ基、Ｃ１～１０のアルキルチオ基、フェノキシ基、ビフェニルオキシ基、又は、フェニル基を表す。
　Ｘ１４は、単結合、Ｃ１～２０のアルキレン基、２価の芳香族環基、又は、２価の脂肪族環基を表す。ここでＣ１～２０のアルキレン基は、分岐状でも直鎖状でもよい。
　ＣＬはヒドロキシ基、カルボキシ基、アミド基、アミノ基、又は、アルコキシシリル基を表す。但し、Ｘ１４が単結合であるときは、ＣＬはヒドロキシ基またはアミノ基である。
　Ｘは単結合、酸素原子、又は、硫黄原子を表す。但し、Ｘ１４が単結合であるときは、Ｘも単結合である。
　なお、Ｘ１１～Ｘ１４におけるベンゼン環上の水素原子は、Ｃ１～４のアルキル基、Ｃ１～４のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、及び、シアノ基から選ばれる、同一、又は、相異なる１又は複数の置換基によって置換されていてもよい。
　上記式［Ａ１１］～［Ａ１５］中、ベンゼン環上の水素原子は、１価の基で置換されても良く、該１価の基としては、Ｃ１～４のアルキル基、Ｃ１～４のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基が挙げられる。
　化合物（Ａ）は、以下の化合物であってもよい。
　４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸メチルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸メチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸エチルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸エチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸フェニルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸フェニルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸ビフェニルエステル、けい皮酸８－ヒドロキシオクチルエステル、けい皮酸６－ヒドロキシヘキシルエステル、けい皮酸４－ヒドロキシブチルエステル、けい皮酸３－ヒドロキシプロピルエステル、けい皮酸２－ヒドロキシエチルエステル、けい皮酸ヒドロキシメチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）アゾベンゼン、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）アゾベンゼン、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）アゾベンゼン、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）アゾベンゼン、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）アゾベンゼン、４－ヒドロキシメチルオキシアゾベンゼン、４－ヒドロキシアゾベンゼン、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）カルコン、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）カルコン、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）カルコン、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）カルコン、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）カルコン、４－ヒドロキシメチルオキシカルコン、４－ヒドロキシカルコン、４’－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）カルコン、４’－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）カルコン、４’－（４－ヒドロキシブチルオキシ）カルコン、４’－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）カルコン、４’－（２－ヒドロキシエチルオキシ）カルコン、４’－ヒドロキシメチルオキシカルコン、４’－ヒドロキシカルコン、７－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）クマリン、７－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）クマリン、７－（４－ヒドロキシブチルオキシ）クマリン、７－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）クマリン、７－（２－ヒドロキシエチルオキシ）クマリン、７－ヒドロキシメチルオキシクマリン、７－ヒドロキシクマリン、６－ヒドロキシオクチルオキシクマリン、６－ヒドロキシヘキシルオキシクマリン、６－（４－ヒドロキシブチルオキシ）クマリン、６－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）クマリン、６－（２－ヒドロキシエチルオキシ）クマリン、６－ヒドロキシメチルオキシクマリン、６－ヒドロキシクマリン、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸８－ヒドロキシオクチルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸６－ヒドロキシヘキシルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸４－ヒドロキシブチルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸３－ヒドロキシプロピルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸２－ヒドロキシエチルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸ヒドロキシメチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－（４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル）カルコン、４－（４－ヒドロキシベンゾイル）カルコン、４’－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－（４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル）カルコン、４’－（４－ヒドロキシベンゾイル）カルコン等の光配向性基及びヒドロキシ基を有する化合物；
　けい皮酸、フェルラ酸、４－メトキシけい皮酸、４－プロポキシけい皮酸、３，４－ジメトキシけい皮酸、クマリン－３－カルボン酸、４－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）けい皮酸等の光配向性基及びカルボキシ基を有する化合物；
　けい皮酸アミド、４－メチルけい皮酸アミド、４－エチルけい皮酸アミド、４－メトキシけい皮酸アミド、４－エトキシけい皮酸アミド等の光配向性基及びアミド基を有する化合物；
　４－アミノけい皮酸メチルエステル、４－アミノけい皮酸エチルエステル、３－アミノけい皮酸メチルエステル、３－アミノけい皮酸エチルエステル等の光配向性基及びアミノ基を有する化合物；
　４－（３－トリメトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリエトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリメトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（３－トリエトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（３－トリメトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリエトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリメトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸エチルエステル及び４－（３－トリエトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸エチルエステル等の光配向性基とアルコキシシリル基とを有する化合物、等。
　化合物（Ａ）は、下記式（１）で表される光配向性部位と熱反応性部位とが結合した基に、スペーサーを介して重合性基が結合した化合物（以下、化合物（Ａｐ）ともいう。）が好ましい。
 
（式中、Ｒ１０１はヒドロキシ基、アミノ基、ヒドロキシフェノキシ基、カルボキシフェノキシ基、アミノフェノキシ基、アミノカルボニルフェノキシ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基、カルボキシフェニルアミノ基、アミノフェニルアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基またはビス（ヒドロキシアルキル）アミノ基を表す。
　Ｘ１０１は任意の置換基で置換されていてもよいフェニレン基を表す。）
　上記置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等のアルキル基；トリフルオロメチル基等のハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、フッ素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ニトロ基等が挙げられる。
　上記Ｒ１０１の中では、ヒドロキシ基及びアミノ基が好ましく、ヒドロキシ基が特に好ましい。
　スペーサーとしては、直鎖状アルキレン基、分岐アルキレン基、環状アルキレン基及びフェニレン基から選ばれる二価の基（ｓ）、又は当該二価の基（ｓ）が複数結合してなる基が挙げられる。
　この場合、スペーサーを構成する二価の基（ｓ）同士の結合、スペーサーと上記式（１）で表される基との結合、スペーサーと重合性基との結合は、連結基を介しても良く、該連結基としては、単結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合またはエーテル結合が挙げられる。
　上記二価の基（ｓ）が複数となる場合は、二価の基（ｓ）同士は同一でも異なっていてもよく、上記結合が複数となる場合は、結合同士は同一でも異なっていてもよい。
　化合物（Ａｐ）は、以下の構造式（Ａｐ）であってもよい。
　　　　　　　　　Ｐ－Ｌ１－（Ｓｐ－Ｌ２）ｎ－Ｗ　（Ａｐ）
 
（上記構造式において、Ｐは、重合性基を表し、Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立して、単結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合またはエーテル結合を表し、Ｓｐは、基（ｓ）を表す。ｎ個のＳｐ、Ｌ２は同一であっても、異なっていてもよい。Ｗは、上記式（１）を表す。ｎは、１～６の整数である。）
　化合物（Ａｐ）の具体例としては、４－（６－（メタ）アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（３－（メタ）アクリルオキシプロピル－１－オキシ）けい皮酸、４－（４－（３－（メタ）アクリルオキシプロピル－１－オキシ）アクリルオキシ）安息香酸、４－（４－（６－（メタ）アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）ベンゾイルオキシ）けい皮酸、４－（６－（メタ）アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）シンナムアミド、４－（６－（メタ）アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）－Ｎ－（４－シアノフェニル）シンナムアミド、４－（６－（メタ）アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）－Ｎ－ビスヒドロキシエチルシンナムアミドなどが挙げられる。
　化合物（Ａ）は、以上の具体例を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　（Ａ）成分は、単独で又は２種類以上の化合物（Ａ）の混合物であってもよい。
［（Ｂ）成分］
　本実施形態の硬化膜形成用組成物に含有される（Ｂ）成分は、ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤（以下、架橋剤（Ｂ）ともいう。）で構成される。
　架橋剤（Ｂ）におけるヒドロキシメチル基は、Ｎ－ヒドロキシメチル基が好ましい。また、架橋剤（Ｂ）におけるアルコキシメチル基は、Ｎ－アルコキシメチル基が好ましい。
　架橋剤（Ｂ）は、より具体的には、Ｎ－ヒドロキシメチル化合物、Ｎ－アルコキシメチル化合物、または、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物の少なくともいずれかを含むモノマーを重合した重合体が好ましい。
　なお、本願発明の硬化膜形成用組成物は、例えば、後述する（Ｅ）成分の「重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物」も含有する。その場合、例えば、（Ｂ）成分のＮ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミドは、重合性基とヒドロキシ基とを有することから、形式上、（Ｅ）成分にも該当するが、このようにいずれの成分にも該当する場合には、本願発明では、（Ｂ）成分を優先し、（Ｂ）成分に該当するものとして扱う。
　Ｎ－ヒドロキシメチル化合物、Ｎ－アルコキシメチル化合物としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミンおよびアルコキシメチル化メラミン等のメチロール化合物が挙げられる。
　アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、１，３，４，６－テトラキス（メトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ブトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ヒドロキシメチル）グリコールウリル、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（ブトキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（メトキシメチル）尿素、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）－４，５－ジヒドロキシ－２－イミダゾリノン、および１，３－ビス（メトキシメチル）－４，５－ジメトキシ－２－イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製グリコールウリル化合物（商品名：サイメル（登録商標）１１７０、パウダーリンク（登録商標）１１７４）等の化合物、メチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）６５）、ブチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）３００、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｓ６０、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｒ、Ｕ－ＶＡＮ１１ＨＶ）、ＤＩＣ（株）（旧　大日本インキ化学工業（株））製尿素／ホルムアルデヒド系樹脂（高縮合型、商品名：ベッカミン（登録商標）Ｊ－３００Ｓ、同Ｐ－９５５、同Ｎ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としてはテトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製（商品名：サイメル（登録商標）１１２３）、（株）三和ケミカル製（商品名：ニカラック（登録商標）ＢＸ－４０００、同ＢＸ－３７、同ＢＬ－６０、同ＢＸ－５５Ｈ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：サイメル（登録商標）３００、同３０１、同３０３、同３５０）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：マイコート（登録商標）５０６、同５０８）、（株）三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＷ－３０、同ＭＷ－２２、同ＭＷ－１１、同ＭＳ－００１、同ＭＸ－００２、同ＭＸ－７３０、同ＭＸ－７５０、同ＭＸ－０３５）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＸ－４５、同ＭＸ－４１０、同ＭＸ－３０２）等が挙げられる。
　また、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物及びベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第６３２３３１０号に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。上記メラミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）３０３等が挙げられ、上記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）１１２３（以上、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製）等が挙げられる。
　Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物から選ばれるモノマーを重合した重合体（以下、特定重合体１ともいう。）としては、Ｎ－アルコキシメチルアクリルアミドまたはＮ－ヒドロキシメチルアクリルアミド等のモノマーを単独または共重合可能なモノマーと共重合した重合体が挙げられる。このような重合体としては、例えば、ポリ（Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－エトキシメチルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－メトキシメチルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－ヒドロキシメチルアクリルアミド）、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、Ｎ－エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びＮ－ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと２－ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。
　このような重合体の重量平均分子量は、１，０００から５００，０００であり、好ましくは、２，０００から２００，０００であり、より好ましくは３，０００から１５０，０００であり、更に好ましくは３，０００から５０，０００である。
　架橋剤（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
　本実施の形態の硬化膜形成用組成物における架橋剤（Ｂ）の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して１００～２０００質量部であることが好ましく、より好ましくは２００～１５００質量部である。
［（Ｅ）成分］
　本実施形態の硬化膜形成用組成物に含有される（Ｅ）成分は、重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物（以下、化合物（Ｅ）ともいう。）で構成される。化合物（Ｅ）は、例えばヒドロキシ基および（メタ）アクリル基を有する化合物が挙げられる。
　化合物（Ｅ）は、１つ以上のヒドロキシ基、および、１つ以上の（メタ）アクリル基を有することが好ましい。
　（Ｅ）成分を含有する本実施形態の硬化膜形成用組成物から形成される硬化膜を配向膜として用いる場合、配向膜と重合性液晶の層との密着性が向上するよう、重合性液晶の重合性官能基と配向膜の架橋反応部位を共有結合によりリンクさせることができる。その結果、本実施形態の配向膜上に硬化した重合性液晶を積層してなる本実施形態の位相差材は、高温高湿の条件下でも、強い密着性を維持することができ、剥離等に対する高い耐久性を示すことができる。
　本発明の実施形態の硬化膜形成用組成物における（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に基づいて、好ましくは１～１５０質量部であり、更に好ましくは５～１００質量部である。
　また、本実施形態の硬化膜形成用組成物において、（Ｅ）成分は、化合物（Ｅ）の複数種の混合物であってもよい。
　以下に、化合物（Ｅ）の好ましい例を挙げる。尚、化合物（Ｅ）は、以下の化合物例に限定されるものではない。
　アロニックス（登録商標）Ｍ－９２６（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）ＭＴ－２５１８（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）ＭＴ－２５１９（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）ＭＴ－３５４８（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＥ－９０（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＥ－２００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＥ－３５０（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＡＥ－２００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＡＥ－４００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＰ－５００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＡＰ－４００（日油（株）製）、６－ヒドロキシヘキシルアクリレート、８－ヒドロキシオクチルアクリレート、１０－ヒドロキシデシルアクリレート、１２－ヒドロキシドデシルアクリレート、６－ヒドロキシヘキシルメタクリレート、８－ヒドロキシオクチルメタクリレート、１０－ヒドロキシデシルメタクリレート、１２－ヒドロキシドデシルメタクリレート、及び下記式（ｅ１）～（ｅ１３）のいずれかの式で表される化合物。
 
（上記式中、Ｒ１１は水素原子またはメチル基を表し、ｓは１～１０の整数を表す。また、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ及びｒは、０又は１以上の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ及びｒの和は、６である。）
［（Ｆ）成分］
　（Ｆ）成分における架橋触媒としては、例えば、酸又は熱酸発生剤が挙げられる。この（Ｆ）成分は、本発明の硬化膜形成用組成物を用いた硬化膜の形成において、熱硬化反応の促進に有効である。
　（Ｆ）成分として酸又は熱酸発生剤を用いる場合、（Ｆ）成分は、スルホン酸基含有化合物、塩酸又はその塩、プリベーク又はポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物（以下、熱分解酸発生剤ともいう。）が挙げられる。熱分解酸発生剤は、６０～２５０℃で熱分解して酸を発生する化合物が好ましい。
　そのような酸としては、例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ｐ－キシレン－２－スルホン酸、ｍ－キシレン－２－スルホン酸、４－エチルベンゼンスルホン酸、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ（２－エトキシエタン）スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１，２－エタンジスルホン酸、メタンスルホン酸無水物等のスルホン酸又はその水和物や塩等が挙げられる。
　また、熱分解酸発生剤としては、例えば、ビス（トシルオキシ）エタン、ビス（トシルオキシ）プロパン、ビス（トシルオキシ）ブタン、ｐ－ニトロベンジルトシレート、ｏ－ニトロベンジルトシレート、１，２，３－フェニレントリス（メチルスルホネート）、ｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸エチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸プロピルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸ブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸イソブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸メチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルｐ－トルエンスルホネート、２，２，２－トリフルオロエチルｐ－トルエンスルホネート、２－ヒドロキシブチルｐ－トシレート、Ｎ－エチル－４－トルエンスルホンアミド、および下記式［ＴＡＧ－１］～式［ＴＡＧ－４１］で表される化合物等を挙げることができる。
　上記熱分解酸発生剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、ＴＡ－１００、ＴＡ－１００ＦＧ、ＩＫ－１、ＩＫ－１ＦＧ（以上、サンアプロ（株）製）、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ２Ａ、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ７、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ３Ａ、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ３、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ５、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ４、サンエイド（登録商標）ＳＩ－１５０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－１１０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－６０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－８０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－１００（以上、三新化学工業（株）製）等が挙げられる。
　本発明の硬化膜形成用組成物における（Ｆ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に基づいて、０．０１～１００質量部、好ましくは１～１００質量部、より好ましくは１０～１００質量部、さらに好ましくは２０～８０質量部である。
　（Ｆ）成分の含有量を０．０１質量部以上とすることで、充分な熱硬化性と溶剤耐性を付与することができ、露光に対する高い感度をも付与することができる。また、１００質量部以下とすることで、硬化膜形成用組成物の保存安定性を良好にすることができる。
［（Ｇ）成分］
　本発明の硬化膜形成用組成物における（Ｇ）成分は、光塩基発生剤（以下、化合物（Ｇ）ともいう。）で構成される。
　化合物（Ｇ）は、可視光、紫外線などの活性エネルギー線の照射によって塩基を発生する化合物であれば、特に限定されない。化合物（Ｇ）としては、非イオン系光塩基発生剤およびイオン系光塩基発生剤が挙げられる。
　活性エネルギー線の照射によりアミン化合物を発生する非イオン系光塩基発生剤としては、例えば、下記式（ｇ）で示される化合物が挙げられる。
　　　　　　　Ａｒ－Ｌ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）　　式（ｇ）
　式中、Ａｒは、置換されていてもよい芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基を置換してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アシル基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、オキソ基が挙げられる。置換基は、中でも、ヒドロキシ基、ニトロ基、オキソ基が好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラリル基が挙げられる。
　置換されていてもよい芳香族炭化水素基のより好ましい具体例として、フェニル基、ヒドロキシフェニル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、アントラリル基、ヒドロキシアントラリル基、ニトロアントラリル基、アントラキノニル（アントラセン－９，１０－ジオン－イル）基が挙げられる。
　Ａｒは、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアントラリル基が好ましく、置換されていてもよいアントラリル基がより好ましく、アントラリル基、アントラキノニル基が更に好ましく、アントラリル基がより更に好ましい。
　式中、Ｌは、２価の連結基である。２価の連結基としては、例えば、直鎖または分岐アルキレン基、置換されていてもよいシクロアルキレン基、直鎖または分岐アルケニレン基、置換されていてもよいシクロアルケニレン基、オキシ基、カルボニル基、及びこれらの組合せが挙げられる。
　直鎖または分岐アルキレン基は、Ｃ１～６の直鎖または分岐アルキレン基が好ましく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、メチルメチレン基が挙げられる。
　シクロアルキレン基は、Ｃ３～６のシクロアルキレン基が好ましく、例えば、シクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基が挙げられる。
　直鎖または分岐アルケニレン基は、Ｃ２～６の直鎖または分岐アルケニレン基が好ましく、例えば、エテンジイル基、プロペンジイル基、ブテンジイル基、ペンテンジイル基、ヘキセンジイル基が挙げられる。
　シクロアルケニレン基は、Ｃ３～６のシクロアルケニレン基が好ましく、例えば、シクロプロペンジイル基、シクロブテンジイル基、シクロペンテンジイル基、シクロヘキセンジイル基が挙げられる。
　上記の２価の基の組合せとしては、例えば、直鎖または分岐アルキレンオキシ基（例、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、メチルメチレンオキシ基）が挙げられる。
　Ｌは、直鎖または分岐アルキレンオキシ基および直鎖または分岐アルケニレン基が好ましく、メチレンオキシ基、メチルメチレンオキシ基、エテンジイル基がより好ましい。
　式中、Ｒ１－Ｎ－Ｒ２部分は、アミン（非環式アミン、複素環式アミン）を形成する。式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して任意の置換基であってもよく、共に環構造を形成してもよい。
　Ｒ１およびＲ２がそれぞれ独立して任意の置換基である場合、Ｒ１－Ｎ－Ｒ２部分は、非環式アミンを形成する。このようなＲ１およびＲ２としては、炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、直鎖または分岐アルキル基、直鎖または分岐アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、芳香族炭化水素基、及びこれらがさらに炭化水素基で置換された基が挙げられる。
　直鎖または分岐アルキル基は、Ｃ１～６の直鎖または分岐アルキルが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基（例、ｎ－プロピル基、イソプロピル基）、ブチル基（例、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基）、ペンチル基（例、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基）、ヘキシル基（例、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基）が挙げられる。
　直鎖または分岐アルケニルは、Ｃ２～６の直鎖または分岐アルケニル基が好ましく、例えば、エテニル基、アリル基、プロペニル基（１－プロペニル基、イソプロペニル基）、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基が挙げられる。
　シクロアルキル基は、Ｃ３～６のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
  シクロアルケニル基は、Ｃ３～６のシクロアルケニル基が好ましく、例えば、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基が挙げられる。
　芳香族炭化水素基は、Ｃ６～１０の芳香族炭化水素基が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
　Ｒ１およびＲ２がそれぞれ独立して任意の置換基である場合、Ｒ１およびＲ２は、Ｃ１～６以下の直鎖または分岐アルキル基が好ましく、Ｃ１～６の直鎖アルキル基がより好ましく、エチル基が更に好ましい。
　Ｒ１およびＲ２が共に環構造を形成する場合、Ｒ１－Ｎ－Ｒ２部分は、複素環式アミンを形成する。このような複素環式アミンとしては、置換されていてもよい非芳香族含窒素複素環および置換されていてもよい芳香族含窒素複素環が挙げられる。非芳香族含窒素複素環としては、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環が挙げられる。芳香族含窒素複素環としては、例えば、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、オキサゾール環、チアゾール環が挙げられる。
　非芳香族含窒素複素環または芳香族含窒素複素環を置換する置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アシル基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、オキソ基、置換基で置換されていてもよい炭化水素基、が挙げられる。炭化水素基の置換基としては、炭化水素基、ヒドロキシ基、アシル基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、又はオキソ基が挙げられる。
　炭化水素基としては、例えば上述したアルキル基およびアルケニル基が挙げられ、好ましい態様として同様の構造が挙げられる。アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基等の飽和アシル基、アクリロイル基、メタクリルロイル基等の不飽和アシル基が挙げられる。カルボキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等の飽和カルボキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリルロイルオキシ基等の不飽和カルボキシが挙げられる。
　Ｒ１およびＲ２が共に環構造を形成する場合、Ｒ１－Ｎ－Ｒ２部分は、置換されていてもよいピペリジン、イミダゾールが好ましい。
　アミン化合物を発生する非イオン系光塩基発生剤は、例えば、ピペリジン－１－カルボン酸９－アントリルメチル、９－アントリルメチル　Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバメート、（Ｅ）－Ｎ－シクロヘキシル－３－（２－ヒドロキシフェニル）アクリルアミド）、（Ｅ）－１－ピペリジノ－３－（２－ヒドロキシフェニル）－２－プロペン－１－オン、９－アントリルメチル　Ｎ－シクロヘキシルカルバメート、１－（アントラキノン－２－イル）エチル　イミダゾールカルボキシレート、４－ヒドロキシピペリジン－１－カルボン酸（２－ニトロフェニル）メチル、２－ニトロフェニルメチル　４－（メタクリロイルオキシ）ピペリジン－１－カルボキシレート、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルバミン酸１－（アントラキノン－２－イル）エチル、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルバミン酸９－アントリルメチル、Ｎ－シクロヘキシルカルバミン酸１－（アントラキノン－２－イル）エチルが挙げられる。市販品としては、例えば、富士フィルム和光純薬工業株式会社製の製品名ＷＰＢＧ－０１５、ＷＰＢＧ－０１８、ＷＰＢＧ－０２５、ＷＰＢＧ－０２７、ＷＰＢＧ－０４１、ＷＰＢＧ－１４０、ＷＰＢＧ－１５８、ＷＰＢＧ－１６５、ＷＰＢＧ－１６６、ＷＰＢＧ－１７２、ＷＰＢＧ－１７４などが挙げられる。
　その他の非イオン系光塩基発生剤としては、活性エネルギー線の照射によって塩基を発生し得る化合物であればよく、特に限定されず、公知の光塩基発生剤を用いることができる。例えば、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ－（３－ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ－（４－ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ－（４－クロロ－２－ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ－（５－メチル－２－ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾール、Ｎ－（４，５－ジメチル－２－ニトロベンジルオキシカルボニル）イミダゾールなどのイミダゾール誘導体；Ｎ－（２－メチル－２－フェニルプロピオニルオキシ）－Ｎ－シクロヘキシルアミン；などを挙げることができる。
　イオン系光塩基発生剤とは、活性エネルギー線の照射により強塩基性カチオンを解離する塩である。このような塩としては、例えば、強塩基性カチオンと、光反応性弱酸性アニオンとの塩が挙げられる。
　強塩基性カチオンとしては、例えば、グアニジン構造含有カチオン、アミン構造含有カチオン、アミジン構造含有カチオンが挙げられる。
　グアニジン構造含有カチオンとしては、例えば下記式（ｇ２）に示すカチオンが挙げられる。
 
　式中、Ｒ２０～Ｒ２５は、それぞれ独立して任意の置換基である。Ｒ２０～Ｒ２５は、それぞれ独立して上述した炭化水素基が好ましく、直鎖または分岐アルキル基、またはシクロアルキル基がより好ましく、メチル基、イソプロピル基またはシクロヘキシル基がさらに好ましい。
　光反応性弱酸性アニオンとしては、例えば、１以上（好ましくは２以上）の芳香族炭化水素環およびアニオン形成部分を含むアニオンが挙げられる。芳香族炭化水素環としては、例えば、ハロゲン化されていてもよい、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環が挙げられ、ハロゲン化されていてもよいベンゼン環が好ましい。
　アニオン形成部分としては、例えば、ホウ素アニオン中心、カルボキシレートイオンが挙げられる。
　グアニジン構造含有カチオンを発生するイオン系光塩基発生剤は、以下の構造式（ｇ２－ａ１）～（ｇ２－ａ４）が挙げられる。市販品としては、例えば、富士フィルム和光純薬工業株式会社製の製品名ＷＰＢＧ－０８２（グアニジウム２－（３－ベンゾイルフェニル）プロピオン酸塩）、ＷＰＢＧ－２６６（１，２－ジイソプロピル－３－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］グアニジウム２－（３－ベンゾイルフェニル）プロピオネート）、ＷＰＢＧ－３００（１，２－ジシクロヘキシル－４，４，５，５－テトラメチルビグアニジウム　ｎ－ブチルトリフェニルボレート）、ＷＰＢＧ－３４５（（Ｚ）－｛［ビス（ジメチルアミノ）メチリデン］アミノ｝－Ｎ－シクロヘキシル（シクロヘキシルアミノ）メタンイミニウム　テトラキス（３－フルオロフェニル）ボレート）などが挙げられる。
 
　活性エネルギー線の照射によりアミン構造含有カチオンを発生するイオン系光塩基発生剤としては、以下の構造式（ｇ２－ｂ１）～（ｇ２－ｂ２）が挙げられる。市販品としては、例えば、富士フィルム和光純薬工業株式会社製の製品名ＷＰＢＧ－１６７（ジシクロヘキシルアンモニウム　２－（３－ベンゾイルフェニル）プロピオネート）、ＷＰＢＧ－１６８（シクロヘキシルアンモニウム　２－（３－ベンゾイルフェニル）プロピオネート）が挙げられる。
 
　活性エネルギー線の照射によりアミジン構造含有カチオンを発生するイオン系光塩基発生剤としては、以下の構造（ｇ２－ｃ）が挙げられる。市販品としては、例えば、ＷＰＢＧ－２４６（富士フィルム和光純薬工業株式会社製）が挙げられる。
　化合物（Ｇ）は、光照射により膜中で塩基を発生させ、酸の効果を弱める観点から、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、またはｉ線（３６５ｎｍ）での吸収を持つ化合物が好ましく、ｉ線（３６５ｎｍ）での吸収を持つ化合物がより好ましい。
　（Ｇ）成分の配合量は、特に限定されず、適宜調整すればよい。（Ｇ）成分の配合量は、光照射により膜中で塩基を発生させ、酸の効果を弱める観点から、（Ｆ）成分１．０モル部に対して、０．１モル部以上が好ましく、０．２モル部以上がより好ましく、０．３モル部以上が更に好ましい。
［その他の成分］
　本発明の実施形態の硬化膜形成用組成物は、上記した成分以外のその他の成分を含有することができる。その他の成分の具体例として、例えば、後述する（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、増感剤、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等が挙げられる。
［（Ｃ）成分］
　本発明の硬化膜形成用組成物に含有されていてもよい（Ｃ）成分は、単位構造として、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０モル％以上有する重合体（以下、特定重合体２ともいう）で構成される。
　（Ｃ）成分である重合体の骨格（主鎖）構造としては、例えば、アクリル重合体、ウレタン変性アクリル重合体、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエステルポリカルボン酸、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、セルロース類（セルロースまたはその誘導体）、若しくは、フェノールノボラック樹脂等の、直鎖構造または分岐構造を有する重合体、又はシクロデキストリン類等の環状重合体等が挙げられる。
　このうち、アクリル重合体としては（メタ）アクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体が適用されうる。その合成方法としては、ヒドロキシ基を有するモノマーと、所望によりそれ以外のモノマーとを（共）重合する方法が簡便である。
　ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、カプロラクトン２－（（メタ）アクリロイルオキシ）エチルエステル、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテル（メタ）アクリレート、５－（メタ）アクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン、等が挙げられる。
　この中で４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
　また、本発明の硬化膜形成用組成物においては、特定重合体２を得る際に、ヒドロキシ基を有するモノマーと共重合可能なモノマー（以下、非反応性官能基を有するモノマーともいう）を併用することができる。
　そのようなモノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
　以下、上記モノマーの具体例を挙げるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
　上述した（メタ）アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、アントリル（メタ）アクリレート、アントリルメチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、３－メトキシブチル（メタ）アクリレート、２－メチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－プロピル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシル（メタ）アクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上述したアクリルアミド化合物としては、例えば、Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ－メチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルメタクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチルメタクリルアミド等が挙げられる。
　上述したビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、３－エテニル－７－オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン、１，２－エポキシ－５－ヘキセン、及び１，７－オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。
　上述したスチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、及びブロモスチレン等が挙げられる。
　上述したマレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
　本発明の硬化膜形成用組成物に用いる特定重合体２を得る方法は特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基を有するモノマー、所望により非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を共存させた溶剤中において、５０～１１０℃の温度下で重合反応させて得る方法が挙げられる。その際、用いられる溶剤は、ヒドロキシ基を有するモノマー、所望により用いられる非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する溶剤に記載する溶剤が挙げられる。
　このようにして得られる特定重合体２は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態であり、本発明において（Ｃ）成分の重合体溶液としてそのまま使用することができる。
　また、上記のようにして得られた特定重合体２の溶液を、ジエチルエーテルや水等の撹拌下に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後、常圧又は減圧下で、常温あるいは加熱乾燥することで、特定重合体２の粉体とすることができる。このような操作により、特定重合体２と共存する重合開始剤や未反応モノマーを除去することができ、その結果、精製した特定重合体２の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解して、上記の操作を繰り返し行えばよい。
　本発明の硬化膜形成用組成物においては、（Ｃ）成分の重合体として上記特定重合体２の粉体をそのまま用いてもよく、あるいはその粉体を、たとえば後述する溶剤に再溶解して溶液の状態として用いてもよい。
　（Ｃ）成分の例である重合体は、重量平均分子量が３，０００～２００，０００であることが好ましく、４，０００～１５０，０００であることがより好ましく、５，０００～１００，０００であることがさらに好ましい。
　また、本発明の組成物において、（Ｃ）成分は、（Ｃ）成分として例示された重合体の複数種の混合物であってもよい。
　（Ｃ）成分は、単位構造として、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０モル％以上有することが好ましく、より好ましくは７０モル％以上であり、さらに好ましくは８０モル％以上であり、特に好ましくは９０モル％以上である。
　すなわち、（Ｃ）成分である特定重合体２を得るために用いられるヒドロキシ基を有するモノマーの使用量は、（Ｃ）成分である特定重合体２を得るために用いる全モノマーの合計量に対して、６０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０モル％以上であり、さらに好ましくは８０モル％以上であり、特に好ましくは９０モル％以上である。
　本発明の硬化膜形成用組成物において（Ｃ）成分を含有する場合、（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、５０～１５００質量部であることが好ましく、より好ましくは１００～１０００質量部であり、さらに好ましくは２００～５００質量部である。
［（Ｄ）成分］
　本発明の硬化膜形成用組成物に含有されていてもよい（Ｄ）成分は、下記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を全繰り返し単位の４５モル％以上有するとともに、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を有する重合体（以下、特定共重合体３ともいう）である。
（上記式中Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２はＣ１～５の直鎖又は分岐状のアルキル基を表す。）
　以下、上記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を与えるモノマーを、特定モノマーＸと称する。
　特定モノマーＸである（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物が挙げられる。
　これらの化合物うち、入手容易性及び基材として用いられるアクリルフィルムとの親和性の点からメチルメタクリレートが特に好ましい。
　すなわち、（Ｄ）成分がメチルメタクリレートを単量体として用いて得られる重合体であること、要するに、Ｒ１及びＲ２がいずれもメチル基である、式（Ｘ）で表される繰り返し単位構造を有する重合体であることが好ましい。
　（Ｄ）成分である特定共重合体３には、特定モノマーＸである（メタ）アクリル酸アルキルエステルのほか、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを加え、これらを重合して得られる重合体が適用されうる。
　また、（Ｄ）成分は、特定モノマーＸである（メタ）アクリル酸アルキルエステルに加えて、ヒドロキシ基を有するモノマーとを共重合させた、（メタ）アクリル共重合体であることが好ましい。
　特定モノマーＸである（メタ）アクリル酸アルキルエステルに加えて、さらにヒドロキシ基を有するモノマーとを共重合させた（メタ）アクリル共重合体の合成方法としては、特定モノマーＸと、ヒドロキシ基を有するモノマーから選ばれる少なくとも一種のモノマーとを共重合する方法が簡便である。
　ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、上記特定重合体２で例示したヒドロキシ基を有するモノマーが挙げられる。この中で、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
　また、本発明においては、特定共重合体３を得る際に、特定モノマーＸと、ヒドロキシ基を有するモノマーの他に、該モノマーと共重合可能であって上記熱架橋可能な置換基を有さないモノマーを併用することができる。
　そのようなモノマーの具体例としては、特定モノマーＸ、並びに、ヒドロキシ基を有するモノマーとは異なる構造を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
　以下、上記モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
　上記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物としては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、アントリル（メタ）アクリレート、アントリルメチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、３－メトキシブチル（メタ）アクリレート、２－メチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－プロピル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシル（メタ）アクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するアクリルアミド化合物としては、例えば、上記特定重合体２で例示したアクリルアミド化合物が挙げられる。
　上記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するビニル化合物としては、例えば、上記特定重合体２で例示したビニル化合物が挙げられる。
　上記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するスチレン化合物としては、例えば、上記特定重合体２で例示したスチレン化合物が挙げられる。
　上記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するマレイミド化合物としては、例えば、上記特定重合体２で例示したマレイミド化合物が挙げられる。
　（Ｄ）成分の重合体中、式（Ｘ）で表される単位構造の存在割合が、該重合体を構成する全ての単位構造に対して４５～９９モル％であることが好ましく、より好ましくは５５～９８モル％であり、さらに好ましくは７０～９５モル％である。
　すなわち、（Ｄ）成分である特定共重合体３を得るために用いられる特定モノマーＸの使用量は、（Ｄ）成分である特定共重合体３を得るために用いる全モノマーの合計量に対して、４５～９９モル％であることが好ましく、より好ましくは５５～９８モル％であり、さらに好ましくは７０～９５モル％である。
　また、（Ｄ）成分におけるヒドロキシ基を有するモノマーの使用量の合計は、（Ｂ）成分との十分な反応により膜と基板との密着性を強めるという観点から、（Ｄ）成分である特定共重合体３を得るために用いる全モノマーの合計量に対して、５～３０質量％であることが好ましい。
　（Ｄ）成分である特定共重合体３を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定モノマーＸと、ヒドロキシ基を有するモノマーと、所望によりそれ以外のモノマーを用いる以外は、特定重合体２と同様の方法で得ることが出来る。
　また、以上の方法により得られる（Ｄ）成分である特定共重合体３は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態であり、本発明において（Ｄ）成分の溶液としてそのまま使用することができる。
　本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物において、（Ｄ）成分の特定共重合体３は、粉体形態で、又は精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。
　また、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物において（Ｄ）成分は、（Ｄ）成分である特定共重合体３の複数種の混合物であってもよい。
　本発明の硬化膜形成用組成物において（Ｄ）成分を含有する場合、（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、１０～５００質量部であることが好ましく、より好ましくは２０～３００質量部であり、さらに好ましくは３０～２００質量部である。
　増感剤は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成するに際し、その光反応を促進することにおいて有効となる。
　増感剤としては、ベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン及びチオキサントン等の誘導体並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうちベンゾフェノンの誘導体であるＮ，Ｎ－ジエチルアミノベンゾフェノン、及びニトロフェニル化合物である２－ニトロフルオレン、２－ニトロフルオレノン、５－ニトロアセナフテン、４－ニトロビフェニル、４－ニトロけい皮酸、４－ニトロスチルベン、４－ニトロベンゾフェノン、５－ニトロインドールが特に好ましい。
　これらの増感剤は特に上述のものに限定されるものではない。これらは、単独又は２種以上の化合物を併用することが可能である。
　本発明の実施形態において、増感剤の使用割合は、（Ａ）成分１００質量部に対して１～１００質量部であることが好ましく、より好ましくは１０～８０質量部である。
［溶剤］
　本発明の実施形態の硬化膜形成用組成物は、溶剤に溶解した溶液状態で用いられることが好ましい。その際に用いられる溶剤は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｇ）成分、及び、必要に応じてその他の成分を溶解するものであり、そのような溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
　溶剤の具体例を挙げると、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、シクロペンチルメチルエーテル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ブタノン、３－メチル－２－ペンタノン、２－ペンタノン、２－ヘプタノン、γ－ブチロラクトン、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及びＮ－メチル－２－ピロリドン等が挙げられる。
　溶剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、ネオエタノール（登録商標）ＰＭ、ネオエタノール（登録商標）ＭＩＰ、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭ、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＥ、ネオエタノール（登録商標）ＰＨＩ、ネオエタノール（登録商標）ＭＨＩ、ネオエタノール（登録商標）ＰＩＰ、ネオエタノール（登録商標）ＨＩＭＴＥ、ネオエタノール（登録商標）ＰＨＭ、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭＥ、ネオエタノール（登録商標）Ｐ－７（以上、大伸化学（株）製）等が挙げられる。
　これらの溶剤は、一種単独で、又は二種以上の組合せで使用することができる。これら溶剤のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸エチル及び３－エトキシプロピオン酸メチル、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭは成膜性が良好で安全性が高いためより好ましい。
＜硬化膜形成用組成物の調製＞
　本発明の硬化膜形成用組成物は、上述したように、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｇ）成分が、溶剤に溶解したものである。本発明の硬化膜形成用組成物は、さらに、（Ｃ）成分、及び（Ｄ）成分を含むその他の成分を含有することもできる。
　本発明の硬化膜形成用組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。
　本発明の硬化膜形成用組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、１～８０質量％であり、好ましくは２～６０質量％であり、より好ましくは３～４０質量％である。
　ここで、固形分とは、硬化膜形成用組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。
　本発明の硬化膜形成用組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、溶剤に溶解した（Ｂ）成分の溶液に（Ａ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｇ）成分、さらに所望により（Ｃ）成分、さらには（Ｄ）成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、又は、この調製法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。
　また、調製された硬化膜形成用組成物の溶液は、孔径が０．２μｍ程度のフィルターなどを用いて濾過した後、硬化膜の形成に使用することが好ましい。
＜光学フィルム＞
　本発明の硬化膜形成用組成物は、光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成するのに好適に用いることができる。
　本発明の光学フィルムは、好ましくは上述の硬化膜形成用組成物を基材上に、塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレート又はオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することにより得られる。
　上記基材の材質としては、ガラス、プラスチック（例えば、フィルムなど）、金属などが挙げられる。プラスチック材質としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）およびその部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、およびシクロオレフィン系樹脂などのフィルムが挙げられる。なお基材は、その厚みが２０～１００μｍであることが好ましい。
　硬化膜組成物を基材上に塗布する方法としては、バーコート塗布、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷法が挙げられる。
　加熱乾燥の条件としては、配向膜として硬化膜を使用する際、該配向膜の成分が、その上に塗布される重合性液晶の溶液に溶出しない程度に硬化反応が進行すればよい。
　例えば、加熱温度は、５０～１４０℃が好ましく、６０～１３０℃がより好ましい。加熱時間は、０．４～６０分間が好ましく、０．５～１０分間がより好ましい。
　本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜の膜厚は、例えば、０．０５μｍ～５μｍであり、基材として使用するフィルムの段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。
　このようにして作製された本発明の光学フィルムは、偏光ＵＶ照射を行うことで、基材上に形成された硬化膜を液晶配向膜として、すなわち、重合性液晶等を含む液晶性を有する化合物を配向させる部材（以下、該部材を配向材ともいう。）として機能させることができ、該光学フィルムを配向材として使用することができる。
　偏光ＵＶの照射方法としては、通常１５０ｎｍ～４５０ｎｍの波長の紫外光～可視光が用いられる。また、偏光ＵＶの照射は、室温又は加熱した状態で行われる。さらに、偏光ＵＶの照射は、垂直又は斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。
　本発明の配向材において、液晶配向膜となる硬化膜は耐溶剤性及び耐熱性を有しているため、この配向材上に、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、その液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、所望とする配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、光学異方性を有する層を持つ位相差材を形成することができる。
　位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマー及びそれを含有する組成物等が用いられる。そして、本発明においては配向材を塗布する基材がフィルムである場合、本発明の位相差材は、位相差フィルムとして有用となる。このような位相差材を形成する位相差材料は、液晶状態となって、配向材上で、水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向状態をとるものがあり、それぞれ必要とされる位相差特性に応じて使い分けることができる。
　また、３Ｄディスプレイに用いられるパターン化位相差材を製造する場合には、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜に、ラインアンドスペースパターンのマスクを介して所定の基準から、例えば、＋４５度の向きで偏光ＵＶ露光し、次いで、マスクを外してから－４５度の向きで偏光ＵＶをより少ない露光量で露光することで作製することが出来る。これにより、該フィルム表面の硬化膜を液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された液晶配向膜とし、該光学フィルムを配向材とすることができる。その後、重合性液晶溶液からなる位相差材料を配向材上に塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とする。液晶状態となった重合性液晶は、２種類の液晶配向領域が形成された配向材上で配向し、各液晶配向領域にそれぞれ対応する配向状態を形成する。そして、そのような配向状態が実現された位相差材料をそのまま硬化させ、上述の配向状態を固定化し、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置された、パターン化位相差材を得ることができる。
　本発明の光学フィルムは、液晶表示素子の液晶配向膜としての利用も可能である。例えば、上記のようにして形成された、本実施形態の光学フィルムを用い、スペーサを介して両光学フィルムにおける配向膜が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基材の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子を製造することができる。
　そのため、本発明の光学フィルムは、各種位相差材（位相差フィルム）や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
　以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。
［実施例で用いる略記号］
　以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
＜原料＞
　ＢＭＡＡ：Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド
　ＢＭＭＡ：Ｎ－ブトキシメチルメタクリルアミド
　ＡＡＥＭ：（２－アセトアセトキシ）エチルメタクリレート
　４ＨＢＡ：４－ヒドロキシブチルアクリレート
　ＭＭＡ：メチルメタクリレート
　ＡＩＢＮ：α，α’－アゾビスイソブチロニトリル
　ＭＡＩＢ：２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル
　ＴＧＬ：α－チオグリセロール
＜（Ａ）成分：光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物＞
　Ｍ６ＣＡ：
 
＜（Ｃ）成分＞
　ＨＰＣ：ヒドロキシプロピルセルロース（日本曹達（株）製、ＮＩＳＳＯ　ＨＰＣ　ＳＳＬ（登録商標））
＜（Ｅ）成分：重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物＞
　１０ＨＤＭＡ：１０－ヒドロキシデシルメタクリレート
　ＰＥＴ－３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ－３０）
＜（Ｆ）成分：架橋触媒＞
　ＣＳＡ：（±）－１０－カンファースルホン酸
　ＰＴＳＡ：ｐ－トルエンスルホン酸・一水和物
＜（Ｇ）成分：光塩基発生剤＞
　ＷＰＢＧ－０１８：９－アントリルメチル　Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバメート（富士フイルム和光純薬（株）製、製品名：ＷＰＢＧ－０１８）
　ＷＰＢＧ－２６６：１，２－ジイソプロピル－３－［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］グアニジウム２－（３－ベンゾイルフェニル）プロピオネート（富士フイルム和光純薬（株）製、製品名：ＷＰＢＧ－２６６）
　ＷＰＢＧ－３００：１，２－ジシクロヘキシル－４，４，５，５－テトラメチルビグアニジウム　ｎ－ブチルトリフェニルボレート（富士フイルム和光純薬（株）製、製品名：ＷＰＢＧ－３００）
　ＷＰＢＧ－３４５：（Ｚ）－｛［ビス（ジメチルアミノ）メチリデン］アミノ｝－Ｎ－シクロヘキシル（シクロヘキシルアミノ）メタンイミニウム　テトラキス（３－フルオロフェニル）ボレート（富士フイルム和光純薬（株）製、製品名：ＷＰＢＧ－３４５）
＜溶剤＞
　ＰＭ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　ＩＰＭ：ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭ（大伸化学（株）製）
　ＥＡ：酢酸エチル
　ＣＰＮ：シクロペンタノン
＜重量平均分子量の測定＞
　装置：東ソー（株）製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８３２０）
　カラム：東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）α－４０００及びＴＳＫｇｅｌ（登録商標）α－３０００
　カラムオーブン：４０℃
　流量：１ｍｌ／分
　溶離液：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
　標準資料：ポリスチレン
＜Ｂ成分の合成＞
＜合成例１＞
　ＢＭＭＡ（５０.０ｇ，２９２ｍｍｏｌ）、ＡＡＥＭ（３．５８ｇ，１６．７ｍｍｏｌ）、連鎖移動剤としてα－チオグリセロール（０．３６２ｇ，３．３５ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＭＡＩＢ（０．１５４ｇ，０．６６９ｍｍｏｌ）をＰＭ（３６．０ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（９０．１ｇ）を７０℃に保持したフラスコ中に６０分かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、（メタ）アクリル系共重合体（ＢＭＭＡ／ＡＡＥＭ＝９５／５（モル比））の溶液（ＰＢ－１）（固形分濃度３０質量％）を得た。得られたアクリル共重合体の重量平均分子量Ｍｗは２６，０００であった。
＜合成例２＞
　ＢＭＡＡ（１４５．５ｇ，９２５．５ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＡＩＢＮ（４．６ｇ，２８ｍｍｏｌ）をＰＭ（１５０．１ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（２００．１ｇ）を８０℃に保持したフラスコ中に３０分かけて滴下した。滴下終了後、５時間反応させることにより、（メタ）アクリル系重合体の溶液（ＰＢ－２）（固形分濃度３０質量％）を得た。得られた（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量Ｍｗは２３，０００であった。
＜その他添加剤の合成＞
＜合成例３＞
　４ＨＢＡ（１９７．０ｇ，１．３７ｍｏｌ）及び重合触媒としてＭＡＩＢ（３．１ｇ，１３ｍｍｏｌ）をＰＭ（１３３．４ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（１６６．８ｇ）を７０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、（メタ）アクリル系重合体の溶液（ＰＣ－１）（固形分濃度４０質量％）を得た。得られた（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量Ｍｗは２２，７００であった。ＰＣ－１は、（Ｃ）成分に含まれる。
＜合成例４＞
　ＭＭＡ（８４．４ｇ，８４３ｍｍｏｌ）、４ＨＢＡ（１３．５ｇ，９３．６ｍｍｏｌ）、及び重合触媒としてＭＡＩＢ（２．２ｇ，９．６ｍｍｏｌ）をＰＭ（１５０．１ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（２５０．２ｇ）を７０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、（メタ）アクリル系共重合体（ＭＭＡ／４ＨＢＡ＝９０／１０（モル比））の溶液（ＰＤ－１）（固形分濃度２０質量％）を得た。得られた（メタ）アクリル系共重合体の重量平均分子量Ｍｗは３８，９００であった。ＰＤ－１は、（Ｄ）成分に含まれる。
＜調製例１＞
　（Ａ）成分としてＭ６ＣＡ（１０質量部）、（Ｂ）成分として合成例１で得たＰＢ－１（５１質量部）、（Ｅ）成分として１０ＨＤＭＡ（３質量部）、（Ｇ）成分としてＷＰＢＧ－０１８（５質量部）、その他添加剤として合成例３で得たＰＣ－１（２１質量部）及び合成例４で得たＰＤ－１（１０質量部）を混合し、これに溶媒としてのＰＭを加えて２時間撹拌し、目視で溶解したことを確認し溶液を得た。その後、この得られた溶液を孔径０．２μｍのフィルターでろ過することにより、固形分濃度が８．０質量％の組成物（Ａ－１）を調製した。
　なお、上記ＰＢ－１の５１質量部とは、成分の質量が５１質量部という意味であり、つまり、（メタ）アクリル系共重合体（ＢＭＭＡ／ＡＡＥＭ＝９５／５（モル比））の溶液（固形分濃度３０質量％）１７０質量部を混合させたことを意味する。
　ＰＣ－１やＰＤ－１も同様、ＰＣ－１の２１質量部とは、（メタ）アクリル系重合体の溶液（固形分濃度４０質量％）５２．５質量部を混合させたことを意味し、ＰＤ－１の１０質量部とは、（メタ）アクリル系共重合体（ＭＭＡ／４ＨＢＡ＝９０／１０（モル比））の溶液（固形分濃度２０質量％）５０質量部を混合させたことを意味する。
＜調製例２～７＞
　各成分の種類と量を、それぞれ表１に記載の通りとしたほかは、調製例１と同様に実施し、組成物Ａ－２～Ａ－５及びＢ－１～Ｂ－２を、それぞれ調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
＜触媒溶液の調製＞
＜調製例８＞
　触媒としてＣＳＡ（２．０ｇ）、溶媒としてＰＭ（１８．０ｇ）を加え、１時間撹拌し、目視で溶解したことを確認した。溶液を孔径０．２μｍのフィルターでろ過することにより、触媒溶液（Ｆ－１）を調製した。
＜調製例９＞
　触媒としてＰＴＳＡ（１．０ｇ）、溶媒としてＰＭ（１９．０ｇ）を加え、１時間撹拌し、目視で溶解したことを確認した。溶液を孔径０．２μｍのフィルターでろ過することにより、触媒溶液（Ｆ－２）を調製した。
＜硬化膜形成用組成物の調製＞
＜実施例１＞
　調製例１で得られたＡ－１（２．００ｇ）に、調製例８で得られたＦ－１（０．０８ｇ）及び希釈溶媒としてＥＡ（０．５ｇ）及びＩＰＭ（１．３ｇ）を加え、２４時間撹拌することで硬化膜形成用組成物ＡＬ－１を得た。
＜実施例２～４＞
　実施例１と同様に操作し、Ａ－１をＡ－２～４に変更し、硬化膜形成用組成物ＡＬ－２～４を得た。
＜比較例１～３＞
　実施例１と同様に操作し、Ａ－１をＢ－１に変更し、硬化膜形成用組成物ＢＬ－１～３を得た。
＜実施例５＞
　調製例５で得られたＡ－５（２．００ｇ）に、調製例９で得られたＦ－２（０．１２ｇ）及び希釈溶媒としてＥＡ（０．５４ｇ）を加え、１分撹拌することで硬化膜形成用組成物ＡＬ－５を得た。
＜比較例４～６＞
　実施例５と同様に操作し、Ａ－５をＢ－２に変更し、硬化膜形成用組成物ＢＬ－４～６を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
＜水平配向用重合性液晶溶液の作製＞
　水平配向用重合性液晶であるＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ－２４２（下記式（ＬＣ－２４２）で表される、ネマティック液晶性を有する光重合性の液晶化合物、ＢＡＳＦジャパン（株）製）（１９．３ｇ）、光ラジカル開始剤としてＯｍｎｉｒａｄ（登録商標）９０７（２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）（０．６ｇ）、レベリング剤としてＢＹＫ（登録商標）－３６１Ｎ（アクリル系レベリング剤、ビック・ケミージャパン（株）製）（０．１ｇ）を加え、さらに溶媒としてＣＰＮ（８０ｇ）を加え、２時間撹拌し目視で溶解していることを確認し、２０質量％の重合性液晶溶液（ＬＣ－１）を得た。
＜液晶配向膜の形成及び位相差フィルムの作製＞
＜実施例６＞
　実施例１で得た硬化膜形成用組成物（ＡＬ－１）を基板としてのアクリルフィルム上にバーコーターを用いてＷｅｔ膜厚８μｍにて塗布した。熱風循環式オーブン内にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行い、フィルム上に硬化膜を形成した。次いで、この硬化膜表面に波長３１３ｎｍの直線偏光を２０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射し、液晶配向膜を形成した。水平配向用重合性液晶溶液ＬＣ－１を、バーコーターを用いて上記液晶配向膜上にＷｅｔ膜厚８μｍにて塗布した。次いで、オーブン内にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行った後、窒素下、波長３６５ｎｍの非偏光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射することで重合性液晶を硬化させ、位相差フィルムを作製した。
＜実施例７～９、比較例７～９＞
　硬化膜形成用組成物として（ＡＬ－２）～（ＡＬ－４）、（ＢＬ－１）～（ＢＬ－３）を用い、実施例６と同様の操作にて位相差フィルムを作製した。
＜実施例１０＞
　実施例５で得た硬化膜形成用組成物（ＡＬ－５）を基板としてのＴＡＣフィルム上にバーコーターを用いてＷｅｔ膜厚４μｍにて塗布した。熱風循環式オーブン内にて１２０℃で２分間の加熱乾燥を行い、フィルム上に硬化膜を形成した。次いで、この硬化膜表面に波長３１３ｎｍの直線偏光を２０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射し、液晶配向膜を形成した。水平配向用重合性液晶溶液ＬＣ－１を、バーコーターを用いて上記液晶配向膜上にＷｅｔ膜厚８μｍにて塗布した。次いで、オーブン内にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行った後、窒素下、波長３６５ｎｍの非偏光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射することで重合性液晶を硬化させ、位相差フィルムを作製した。
＜比較例１０～１２＞
　硬化膜形成用組成物として（ＢＬ－４）～（ＢＬ－６）を用い、実施例１０と同様の操作にて位相差フィルムを作製した。
　上記で作製した各位相差フィルムについて、下記方法により評価を行った。その評価結果を表３に示す。
　尚、実施例６～９及び比較例７～９の密着性評価は、３日後まで行った。ただし、比較例７は１日後で「×」評価となり、比較例８は初期で「×」評価となり、比較例９は配向性評価で「×」となったため、その後は評価していない。
　また、実施例１０及び比較例１０～１２の密着性評価は初期に行った後は、７日後と１４日後に行った。ただし、比較例１１及び１２は配向性評価で「×」となったため、その後は評価していない。
［配向性の評価］
　作製した基板上の位相差フィルムを一対の偏光板で挟み込み、目視によりクロスニコル下での位相差特性の発現状況を観察した。前記位相差フィルムが位相差を発現している場合は、光が透過しない角度を０°として４５°回転させた時に光がムラなく透過する。液晶の配向乱れによる欠陥がある場合には、光の透過欠陥が生じる。位相差が欠陥なく発現しているものを「○」、位相差が発現しているが欠陥が生じているものを「△」、位相差が発現していないものを「×」として「配向性」の欄に記載した。
［密着性の評価］
　作製した直後、及び６０℃９０％ＲＨの高温高湿条件下において所定期間保管した基板上の位相差フィルムの表面（重合性液晶の層が形成された表面）にカッターナイフを用いてクロスカット（１ｍｍ×１ｍｍ×１００マス）を入れ、その後、セロハンテープ（ニチバン社製　セロテープ（登録商標）、２４ｍｍ幅）を貼り付けた。次いで、そのセロハンテープを剥がした時に、重合した重合性液晶の層が下層の硬化膜並びに更に下層のフィルム基材上で剥がれず残っているマス目の個数をカウントした。すべて残った場合を「〇」、一部がはがれた場合を「△」、すべてはがれた場合を「×」として「密着性」の欄に記載した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
　表３の結果から明らかなように、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分及び（Ｇ）成分を含有する硬化膜形成用組成物（ＡＬ－１）～（ＡＬ－５）から得られた位相差フィルムはいずれも液晶配向性が良好であり、さらに高温高湿条件下での保管後における密着性が良好であった。
　それに対して、（Ｇ）成分を含有しない硬化膜形成用組成物（ＢＬ－１）～（ＢＬ－６）では高温高湿条件下での保管後における密着性が十分に得られなかった。
　本発明の硬化膜形成用組成物により得られる硬化膜を形成したフィルムは、液晶表示素子の液晶配向膜や、液晶表示素子に内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材として非常に有用であり、特に、３Ｄディスプレイのパターン化位相差材の形成材料として好適である。さらに、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示素子や有機ＥＬ素子などの各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜及び絶縁膜などの硬化膜を形成する材料、特に、ＴＦＴ型液晶素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜又は有機ＥＬ素子の絶縁膜などを形成する材料としても好適である。

 

Claims (9)

  1. 　以下の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、及び（Ｇ）成分を含有する硬化膜形成用組成物。
    　（Ａ）成分：光配向性基を有する化合物
    　（Ｂ）成分：ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有する架橋剤
    　（Ｅ）成分：重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物
    　（Ｆ）成分：架橋触媒
    　（Ｇ）成分：光塩基発生剤
  2. 　前記（Ａ）成分の光配向性基が、光二量化又は光異性化する構造を有する官能基である、請求項１に記載の硬化膜形成用組成物。
  3. 　前記（Ａ）成分の光配向性基が、シンナモイル基である、請求項１に記載の硬化膜形成用組成物。
  4. 　前記（Ａ）成分の光配向性基が、アゾベンゼン構造を有する基である、請求項１に記載の硬化膜形成用組成物。
  5. 　前記（Ｂ）成分である架橋剤が、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物の少なくともいずれかを含むモノマーを重合した重合体である、請求項１に記載の硬化膜形成用組成物。
  6. 　請求項１～請求項５のいずれか一項に記載の硬化膜形成用組成物から得られる硬化膜。
  7. 　請求項６に記載の硬化膜を有する光学フィルム。
  8. 　請求項６に記載の硬化膜を使用して形成される配向材。
  9. 　請求項６に記載の硬化膜を使用して形成される位相差材。

     
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