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WO2023204280A1 - 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材 - Google Patents

硬化膜形成組成物、配向材および位相差材 Download PDF

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WO2023204280A1
WO2023204280A1 PCT/JP2023/015831 JP2023015831W WO2023204280A1 WO 2023204280 A1 WO2023204280 A1 WO 2023204280A1 JP 2023015831 W JP2023015831 W JP 2023015831W WO 2023204280 A1 WO2023204280 A1 WO 2023204280A1
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WO
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group
cured film
component
forming composition
ester
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2023/015831
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English (en)
French (fr)
Inventor
朋哉 鈴木
直也 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
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Ceased legal-status Critical Current

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    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08L101/06—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing oxygen atoms
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    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers

Definitions

  • the present invention relates to a cured film-forming composition, a cured film, an optical film, an alignment material, and a retardation material that form a cured film that orients liquid crystal molecules.
  • the present invention relates to a patterned retardation material used in a circularly polarized glasses type 3D display, a retardation material used in a circularly polarizing plate used as an antireflection film of an organic EL display, and a retardation material used in a circularly polarized plate used as an antireflection film of an organic EL display.
  • the present invention relates to a cured film-forming composition, a cured film, an optical film, an alignment material, and a retardation material useful for producing the composition.
  • a retardation material is usually placed on a display element that forms an image, such as a liquid crystal panel.
  • This retardation material has a plurality of regularly arranged retardation regions of two types having different retardation characteristics, and forms a patterned retardation material.
  • a retardation material that is patterned so as to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics will be referred to as a patterned retardation material.
  • the patterned retardation material can be produced by optically patterning a retardation material made of polymerizable liquid crystal, for example, as disclosed in Patent Document 1.
  • Optical patterning of a retardation material made of polymerizable liquid crystal utilizes photo-alignment technology known for forming alignment materials for liquid crystal panels. That is, a coating film made of a photo-alignable material is provided on a substrate, and two types of polarized light having different polarization directions are irradiated onto the coating film. Then, a photo-alignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions with different liquid crystal alignment control directions are formed. A solution-like retardation material containing polymerizable liquid crystal is applied onto this photo-alignment film to achieve alignment of the polymerizable liquid crystal. Thereafter, the oriented polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.
  • the anti-reflection film of an organic EL display is composed of a linear polarizing plate and a 1/4 wavelength retardation plate.
  • the linear polarizing plate converts the external light directed toward the panel surface of the image display panel into linearly polarized light, and the subsequent 1/4 wavelength It is converted into circularly polarized light by a retardation plate.
  • this circularly polarized external light is reflected by the surface of the image display panel, the direction of rotation of the plane of polarization is reversed at the time of this reflection.
  • this reflected light is converted by the 1/4 wavelength retardation plate into linearly polarized light in the direction that is blocked by the linear polarizing plate, and is then blocked by the following linear polarizing plate.
  • radiation to the outside is significantly suppressed.
  • Patent Document 2 states that by configuring a 1/4 wavelength retardation plate by combining a 1/2 wavelength plate and a 1/4 wavelength plate, this optical film has an inverse dispersion property.
  • a method of configuring the system has been proposed.
  • an optical film can be constructed using a liquid crystal material having a positive dispersion property and having an inverse dispersion property in a wide wavelength band used for displaying color images.
  • liquid crystal materials that have inverse dispersion characteristics have been proposed as liquid crystal materials that can be applied to this retardation layer (Patent Documents 3 and 4).
  • a retardation layer is used instead of constructing a quarter-wave retardation plate with two retardation layers by combining a half-wave plate and a quarter-wave plate. It is possible to ensure inverse dispersion characteristics by constructing it as a single layer, and thereby an optical film capable of ensuring a desired retardation in a wide wavelength band can be realized with a simple structure.
  • An alignment layer is used to align the liquid crystal.
  • the rubbing method and the photo-alignment method are known as methods for forming the alignment layer.
  • the photo-alignment method does not generate static electricity or dust, which are the problems of the rubbing method, and allows quantitative control of the alignment process. It is useful in
  • acrylic resins and polyimide resins having photodimerization sites such as cinnamoyl groups and chalcone groups in their side chains are known as photoalignable materials that can be used. It has been reported that these resins exhibit the ability to control the alignment of liquid crystals (hereinafter also referred to as liquid crystal orientation) by irradiating them with polarized UV light (see Patent Documents 5 to 7).
  • the alignment layer is required to have solvent resistance in addition to liquid crystal alignment ability.
  • the alignment layer may be exposed to heat or solvent during the manufacturing process of the retardation material. If the alignment layer is exposed to a solvent, there is a possibility that the liquid crystal alignment ability will be significantly reduced.
  • Patent Document 8 in order to obtain stable liquid crystal alignment ability, a liquid crystal aligning agent containing a polymer component having a structure that can be crosslinked by light and a structure that can be crosslinked by heat; A liquid crystal aligning agent containing a polymer component having a structure capable of crosslinking reaction and a compound having a structure crosslinkable by heat has been proposed.
  • the alignment layer is required to have good adhesion with the liquid crystal layer. If the adhesion between the alignment layer and the liquid crystal layer formed thereon is not sufficient, the liquid crystal layer may peel off, for example, during the winding process during production of the retardation film.
  • the alignment layer can be created by firing at a low temperature of less than 100°C.
  • an object of the present invention is to use an acrylic film as a base material, which has excellent solvent resistance, can orient polymerizable liquid crystals with high sensitivity, and has excellent adhesion with the liquid crystal layer.
  • An object of the present invention is to provide a cured film-forming composition for forming a cured film used for forming an excellent alignment material by firing at a low temperature of less than 100°C.
  • Another object of the present invention is to provide an optical film having the above-mentioned cured film, and an alignment material and a retardation material formed using the cured film or the optical film.
  • the first aspect of the present invention is (A) a low molecular compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group; (B) a crosslinking agent having an N-hydroxymethyl group or an N-alkoxymethyl group, (C) a polymer having 60% or more of all repeating units of repeating units having a hydroxy group; (D) A polymer having a repeating unit represented by the following formula (X) in an amount of 45 mol% or more of all repeating units, and further having a repeating unit having a hydroxy group, (E) A compound having a polymerizable group and a hydroxyl group, and (F) A cured film-forming composition containing a crosslinking catalyst.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the photoalignable group of component (A) is preferably a functional group having a structure that photodimerizes or photoisomerizes.
  • the photo-alignable group of component (A) is preferably a cinnamoyl group or a group having an azobenzene structure.
  • the crosslinking agent as component (B) is preferably a polymer obtained by polymerizing a monomer selected from N-hydroxymethyl (meth)acrylamide and N-alkoxymethyl (meth)acrylamide compounds.
  • the second aspect of the present invention relates to a cured film obtained from the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.
  • the third aspect of the present invention relates to an optical film having the cured film of the second aspect of the present invention.
  • the fourth aspect of the present invention relates to an alignment material formed using the cured film of the second aspect of the present invention.
  • the fifth aspect of the present invention relates to a retardation material formed using the cured film of the second aspect of the present invention.
  • a cured film that has excellent solvent resistance, can orient polymerizable liquid crystals with high sensitivity, and has excellent adhesion to a liquid crystal layer and an acrylic film can be produced by baking at a low temperature of less than 100°C.
  • a cured film-forming composition that can be formed can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide an optical film having the above-mentioned cured film, and an alignment material and a retardation material formed using the cured film or the optical film.
  • a cured film (alignment material) that has excellent solvent resistance, can align polymerizable liquid crystals with high sensitivity, and has excellent adhesion to the liquid crystal layer and acrylic film.
  • a cured film-forming composition suitable for forming a cured film (alignment material) with such performance.
  • the present inventor conducted intensive studies and found that a cured film obtained from a cured film-forming composition having a specific composition has excellent solvent resistance, high sensitivity, and polymerizability. It has been found that the present invention can be used as an alignment material that can align liquid crystals and has excellent adhesion to liquid crystal layers and acrylic films.
  • the cured film forming composition of the present invention will be explained in detail while giving specific examples of components and the like.
  • the cured film and alignment material of the present invention using the cured film-forming composition of the present invention, as well as the retardation material and liquid crystal display element formed using the alignment material, will be explained.
  • the cured film forming composition of the present invention comprises (A) a low molecular compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group, (B) a crosslinking agent having an N-hydroxymethyl group or an N-alkoxymethyl group, (C) A polymer having 60% or more of the total repeating units of repeating units having a hydroxy group, (D) a repeating unit having 45 mol% or more of the total repeating units of the repeating unit represented by the above formula (X) and further having a hydroxy group. (E) a compound having a polymerizable group and a hydroxyl group, and (F) a crosslinking catalyst. Furthermore, other additives may be included as long as they do not impair the effects of the present invention. Furthermore, it can contain a solvent. The details of each component will be explained below.
  • Component (A) in the cured film-forming composition of the present invention is a low molecular compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group. That is, component (A) is a component that imparts photoalignment properties to the cured film obtained from the cured film forming composition of the present invention, and in this specification, component (A) is also referred to as a photoalignment component.
  • the low molecular weight compound of component (A) becomes a photo-alignment component with a lower molecular weight than the base polymer of component (C) described below.
  • the molecular weight of the low molecular weight compound as component (A) is preferably 2,000 or less.
  • the low-molecular-weight compound as component (A) is a compound having a photoalignable group, such as a group consisting of a hydroxy group, a carboxy group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group.
  • the compound may further have one selected thermally crosslinkable group.
  • the photo-orientable group generally refers to a functional group that exhibits the property of being orientated by light irradiation, and typically refers to a functional group at a structural site that photodimerizes or photoisomerizes.
  • photo-orientable groups include, for example, functional groups that cause a photo-Fries rearrangement reaction (exemplary compounds: benzoic acid ester compounds, etc.), groups that cause photodecomposition reactions (exemplary compounds: cyclobutane rings, etc.), and the like.
  • the structural site that photodimerizes that the low-molecular-weight compound of component (A) can have as a photoalignable group is a site that forms a dimer upon irradiation with light, and specific examples thereof include a cinnamoyl group and a chalcone group. , a coumarin group, an anthracene group, and the like. Among these, a cinnamoyl group is preferred because of its high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity.
  • the photoisomerizable structural site that the low molecular weight compound of component (A) can have as a photo-orientable group refers to a structural site that changes into a cis form and a trans form upon irradiation with light, and specific examples thereof include: Examples include moieties having an azobenzene structure, a stilbene structure, and the like. Among these, the azobenzene structure is preferred because of its high reactivity.
  • a low molecular compound having a photo-alignable group and one thermally crosslinkable group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxy group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group is, for example, represented by the following formula. It is a compound.
  • a 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • X 11 has 1 to 1 carbon atoms through one or more bonds selected from a single bond, ether bond, ester bond, amide bond, urea bond, urethane bond, amino bond, carbonyl bond, or a combination thereof.
  • X 12 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group.
  • an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, and a cyclohexyl group may be combined with two or more groups through a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, or a urea bond. good.
  • X 13 represents a hydroxy group, a mercapto group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, a phenoxy group, a biphenyloxy group, or a phenyl group.
  • X 14 represents a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent aromatic ring group, or a divalent aliphatic ring group.
  • the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or linear.
  • X 15 represents a hydroxy group, a carboxy group, an amide group, an amino group or an alkoxysilyl group. However, when X 14 is a single bond, X 15 is a hydroxy group or an amino group.
  • X represents a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom. However, when X 14 is a single bond, X is also a single bond.
  • the hydrogen atom on the benzene ring is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, or a trifluoromethyl group. and a cyano group, and may be substituted with one or more same or different substituents.
  • R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and 1 carbon atom. represents an alkoxy group, a halogen atom, a trifluoromethyl group, or a cyano group.
  • the low-molecular compound having a photoalignable group and a hydroxyl group as component (A) include compounds represented by the above formulas [A11] to [A15] and compounds other than the formulas, such as 4 -(8-hydroxyoctyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(6-hydroxyhexyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(4-hydroxybutyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(3-hydroxy) propyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(2-hydroxyethyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxymethyloxycinnamic acid methyl ester, 4-hydroxycinnamic acid methyl ester, 4-(8-hydroxy octyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-(6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-(4-hydroxyloxy
  • the low molecular weight compound having a photo-alignable group and a carboxy group, which is component (A) include cinnamic acid, ferulic acid, 4-methoxycinnamic acid, 4-propoxycinnamic acid, 3,4- Examples include dimethoxycinnamic acid, coumarin-3-carboxylic acid, and 4-(N,N-dimethylamino)cinnamic acid.
  • the low molecular weight compound having a photo-alignable group and an amide group, which is component (A) include cinnamic acid amide, 4-methyl cinnamic acid amide, 4-ethyl cinnamic acid amide, and 4-methoxy cinnamic acid amide.
  • Examples include cinnamic acid amide, 4-ethoxycinnamic acid amide, and the like.
  • the low-molecular-weight compound having a photoalignable group and an amino group, which is component (A) include 4-aminocinnamic acid methyl ester, 4-aminocinnamic acid ethyl ester, and 3-aminocinnamic acid methyl ester. ester, 3-aminocinnamic acid ethyl ester, and the like.
  • the low molecular weight compound having a photoalignable group and an alkoxysilyl group which is component (A)
  • the low-molecular-weight compound of component (A) is preferably a compound in which a polymerizable group is further bonded via a spacer to a group represented by the following formula (1) in which a photo-alignable site and a heat-reactive site are bonded. .
  • R 101 is a hydroxy group, an amino group, a hydroxyphenoxy group, a carboxyphenoxy group, an aminophenoxy group, an aminocarbonylphenoxy group, a phenylamino group, a hydroxyphenylamino group, a carboxyphenylamino group, an aminophenylamino group, a hydroxy represents an alkylamino group or a bis(hydroxyalkyl ) amino group; (May be replaced.)
  • the substituent include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, and isobutyl group; haloalkyl groups such as trifluoromethyl group; ; Alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; halogen atoms such as iodine atom, bromine atom, chlorine atom and fluorine atom; cyano group; nitro group and the like.
  • alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, and isobutyl group
  • haloalkyl groups such as trifluoromethyl group
  • Alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group
  • halogen atoms such as iodine atom, bromine atom, chlorine atom and fluorine atom
  • cyano group nitro group and the like.
  • hydroxy group and amino group are preferable, and hydroxy group is particularly preferable.
  • the spacer represents a divalent group selected from a linear alkylene group, a branched alkylene group, a cyclic alkylene group, and a phenylene group, or a group formed by bonding a plurality of such divalent groups.
  • the bond between the divalent groups constituting the spacer, the bond between the spacer and the group represented by the above formula (1), and the bond between the spacer and the polymerizable group include a single bond, ester bond, and amide bond. , urea bond or ether bond.
  • the divalent groups may be the same or different, and when there is a plurality of the above bonds, the bonds may be the same or different.
  • a specific example of a low-molecular compound in which a polymerizable group is bonded to a group to which a photo-alignable site and a heat-reactive site are bonded is 4-(6-methacryloxyhexyl-1- oxy)cinnamic acid, 4-(6-acryloxyhexyl-1-oxy)cinnamic acid, 4-(3-methacryloxypropyl-1-oxy)cinnamic acid, 4-(4-(3-methacryloxy) Propyl-1-oxy)acryloxy)benzoic acid, 4-(4-(6-methacryloxyhexyl-1-oxy)benzoyloxy)cinnamic acid, 4-(6-methacryloxyhexyl-1-oxy)cinnamamide, Examples include 4-(6-methacryloxyhexyl-1-oxy)-N-(4-cyanophenyl)cinnamamide, 4-(6-methacryloxyhexyl-1-oxy)
  • the low molecular weight compound that is the component (A) may be exemplified by the above examples, but is not limited to these.
  • a low molecular weight compound can be used as component (A).
  • each component (A) may be a mixture of one or more types of low molecular weight compounds.
  • Component (B) contained in the cured film forming composition of this embodiment is a crosslinking agent having an N-hydroxymethyl group or an N-alkoxymethyl group, and more specifically, an N-hydroxymethyl compound, It is a polymer obtained by polymerizing monomers selected from N-alkoxymethyl compounds, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, and N-alkoxymethyl (meth)acrylamide compounds.
  • N-hydroxymethyl compound and N-alkoxymethyl compound examples include methylol compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.
  • alkoxymethylated glycoluril examples include 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis(butoxymethyl)glycoluril, 1,3,4 , 6-tetrakis(hydroxymethyl)glycoluril, 1,3-bis(hydroxymethyl)urea, 1,1,3,3-tetrakis(butoxymethyl)urea, 1,1,3,3-tetrakis(methoxymethyl) Examples include urea, 1,3-bis(hydroxymethyl)-4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis(methoxymethyl)-4,5-dimethoxy-2-imidazolinone.
  • glycoluril compounds product names: Cymel (registered trademark) 1170, Powder Link (registered trademark) 1174) manufactured by Nihon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.), and methylated urea resins.
  • alkoxymethylated benzoguanamine examples include tetramethoxymethylbenzoguanamine.
  • Commercially available products include Nippon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.) (product name: Cymel (registered trademark) 1123) and Sanwa Chemical Co., Ltd. (product name: Nikalac (registered trademark) BX-). 4000, BX-37, BL-60, BX-55H), etc.
  • alkoxymethylated melamine examples include hexamethoxymethylmelamine and the like.
  • Commercially available products include methoxymethyl type melamine compounds (trade name: Cymel (registered trademark) 300, Cymel 301, Cymel 303, Cymel 350) manufactured by Nihon Cytec Industries Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.), and butoxymethyl type melamine.
  • Compounds (trade name: Mycoat (registered trademark) 506, 508), methoxymethyl type melamine compounds manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade name: Nikalac (registered trademark) MW-30, MW-22, MW-) 11.
  • a melamine compound examples include high molecular weight compounds made from melamine and benzoguanamine compounds as described in US Pat. No. 6,323,310.
  • Examples of commercial products of the melamine compound include the trade name: Cymel (registered trademark) 303
  • examples of commercial products of the benzoguanamine compound include the product name: Cymel (registered trademark) 1123 (Japan Cytec Industries Co., Ltd.). ) (formerly manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.).
  • the polymer obtained by polymerizing a monomer selected from N-hydroxymethyl (meth)acrylamide and N-alkoxymethyl (meth)acrylamide compounds includes N-alkoxymethyl acrylamide or N-hydroxymethyl acrylamide. Examples include polymers obtained by copolymerizing these monomers alone or with copolymerizable monomers.
  • Such polymers include, for example, poly(N-butoxymethylacrylamide), poly(N-ethoxymethylacrylamide), poly(N-methoxymethylacrylamide), poly(N-hydroxymethylacrylamide), N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and methyl methacrylate, a copolymer of N-ethoxymethylmethacrylamide and benzyl methacrylate, and a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and benzyl methacrylate and 2-hydroxy Examples include copolymers with propyl methacrylate.
  • the weight average molecular weight of such a polymer is from 1,000 to 500,000, preferably from 2,000 to 200,000, more preferably from 3,000 to 150,000, and even more preferably from 3,000 to 150,000. ,000 to 50,000.
  • component (B) polymers can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the crosslinking agent having an N-hydroxymethyl group or an N-alkoxymethyl group as the component (B) in the cured film forming composition of the present embodiment is based on 100 parts by mass of the compound as the component (A). It is preferably 100 parts by mass to 2000 parts by mass, more preferably 200 parts by mass to 1500 parts by mass.
  • Component (C) contained in the cured film-forming composition of the present invention is a polymer (hereinafter also referred to as specific polymer 2) having 60 mol% or more of repeating units having a hydroxy group as a unit structure of all repeating units. be.
  • polymer as component (C) examples include acrylic polymer, urethane-modified acrylic polymer, polyamic acid, polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyester polycarboxylic acid, polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, Examples include polymers having a linear or branched structure such as polyalkyleneimine, polyallylamine, cellulose (cellulose or a derivative thereof), phenol novolac resin, and cyclic polymers such as cyclodextrins.
  • the acrylic polymer a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as an acrylic ester, a methacrylic ester, or styrene can be used.
  • a simple method for synthesizing it is to (co)polymerize a monomer having a hydroxy group and, if desired, other monomers.
  • Examples of monomers having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3- Dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol monomethacrylate, caprolactone 2-(acryloyloxy)ethyl ester, Caprolactone 2-(methacryloyloxy)ethyl ester, poly(ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly(ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone, 5-methacryloy
  • 4-hydroxybutyl acrylate and 4-hydroxybutyl methacrylate are particularly preferred.
  • a monomer having a hydroxy group and a monomer copolymerizable (hereinafter also referred to as a monomer having a non-reactive functional group) are used together. be able to.
  • Such monomers include acrylic ester compounds, methacrylic ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds, and vinyl compounds. Specific examples of the above monomers are listed below, but the present invention is not limited thereto.
  • acrylic ester compounds examples include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, and phenyl acrylate.
  • methacrylic acid ester compounds examples include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, and phenyl methacrylate.
  • acrylamide compounds mentioned above include N-methylacrylamide, N-methylmethacrylamide, N,N-dimethylacrylamide, N,N-dimethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N- Examples include butoxymethylacrylamide, N-butoxymethylmethacrylamide, and the like.
  • Examples of the above-mentioned vinyl compounds include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinylnaphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, 1,2-epoxy-5- Examples include hexene and 1,7-octadiene monoepoxide.
  • styrene compounds examples include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.
  • maleimide compounds examples include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.
  • the method for obtaining the specific polymer 2 used in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited, but for example, a monomer having a hydroxy group, optionally a monomer having a non-reactive functional group, a polymerization initiator, etc.
  • examples include a method in which a polymerization reaction is carried out in a solvent at a temperature of 50°C to 110°C.
  • the solvent used is not particularly limited as long as it can dissolve the monomer having a hydroxyl group, the optionally used monomer having a non-reactive functional group, the polymerization initiator, and the like. Specific examples include the solvents described in "Solvents" below.
  • the specific polymer 2 thus obtained is usually in the form of a solution dissolved in a solvent, and can be used as it is as a polymer solution of component (C) in the present invention.
  • the solution of specific polymer 2 obtained as described above is poured into diethyl ether, water, etc. under stirring to cause re-precipitation, and the resulting precipitate is filtered and washed, and then under normal pressure or reduced pressure.
  • the specific polymer 2 can be made into powder.
  • the polymerization initiator and unreacted monomer coexisting with the specific polymer 2 can be removed, and as a result, purified powder of the specific polymer 2 can be obtained. If sufficient purification is not possible in one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.
  • the powder of the above-mentioned specific polymer 2 may be used as it is as the polymer of component (C), or the powder may be redissolved, for example, in the solvent described below to form a solution. It may also be used as a state.
  • the weight average molecular weight of the polymer which is an example of component (C), is preferably 3,000 to 200,000, more preferably 4,000 to 150,000, and more preferably 5,000 to 100,000. It is even more preferable that there be.
  • component (C) may be a mixture of multiple types of polymers exemplified as component (C).
  • Component (C) preferably has a repeating unit having a hydroxy group as a unit structure of 60 mol% or more of all repeating units, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more, Particularly preferably, it is 90 mol% or more. That is, the amount of the hydroxy group-containing monomer used to obtain Specific Polymer 2, which is component (C), is based on the total amount of all monomers used to obtain Specific Polymer 2, which is component (C).
  • the content is preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more, and particularly preferably 90 mol% or more.
  • the content of component (C) in the cured film forming composition of the present invention is preferably 50 to 1,500 parts by mass, more preferably 100 to 1,000 parts by mass, based on 100 parts by mass of component (A). parts, more preferably 200 parts by mass to 500 parts by mass.
  • Component (D) contained in the cured film-forming composition of the present invention is a polymer having repeating units represented by the following formula (X) in an amount of 45 mol% or more of all repeating units, and a repeating unit having a hydroxy group. (hereinafter also referred to as specific copolymer 3).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents a straight chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • acrylic acid alkyl ester or methacrylic acid alkyl ester monomer that is the specific monomer Alkyl ester compounds
  • examples of the acrylic acid alkyl ester or methacrylic acid alkyl ester monomer that is the specific monomer Alkyl ester compounds include methacrylic acid alkyl ester compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, and tert-butyl methacrylate.
  • component (D) is a polymer obtained using methyl methacrylate as a monomer, in short, it is represented by formula (X) (wherein R 1 and R 2 both represent a methyl group).
  • a polymer having a repeating unit structure is preferred.
  • a monomer having an unsaturated double bond such as styrene is added to the specific copolymer 3, which is the component (D), and these are polymerized.
  • the resulting polymer can be applied.
  • component (D) is preferably an acrylic copolymer obtained by copolymerizing a monomer having a hydroxy group in addition to the specific monomer X, which is an acrylic acid alkyl ester or a methacrylic acid alkyl ester.
  • a method for synthesizing an acrylic copolymer in which a monomer having a hydroxy group is copolymerized is as follows: specific monomer X and a monomer having a hydroxy group.
  • a method of copolymerizing at least one monomer selected from the following is simple.
  • Examples of monomers having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3- Dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, caprolactone 2-(acryloyloxy) ethyl ester, caprolactone 2-(methacryloyloxy) ethyl ester, poly(ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly Examples include (ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone, and 5-methacryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone.
  • 4-hydroxybutyl acrylate and 4-hydroxybutyl methacrylate are particularly preferred.
  • Such monomers include specific monomers X, acrylic ester compounds or methacrylic ester compounds having a structure different from that of the monomer having a hydroxy group, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, Examples include styrene compounds and vinyl compounds.
  • acrylic ester compounds having a structure different from the specific monomer -Trifluoroethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2-adamantyl Examples include acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.
  • methacrylic acid ester compound having a structure different from that of the specific monomer - Trifluoroethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl Examples include methacrylate, ⁇ -butyrolactone methacrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate.
  • Examples of acrylamide compounds having a structure different from the specific monomer X etc. include N-methylacrylamide, N-methylmethacrylamide, N,N-dimethylacrylamide, N,N-dimethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, Examples include N-methoxymethylmethacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, N-butoxymethylmethacrylamide, and the like.
  • Examples of the vinyl compound having a structure different from that of the specific monomer Examples include 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, 1,2-epoxy-5-hexene, and 1,7-octadiene monoepoxide.
  • styrene compound having a structure different from that of the specific monomer X etc. examples include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, and the like.
  • maleimide compound having a structure different from that of the specific monomer X etc. examples include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.
  • the proportion of the unit structure represented by formula (X) is preferably 45 mol% to 99 mol%, more preferably 45 mol% to 99 mol% based on all the unit structures constituting the polymer. is 55 mol% to 98 mol%, more preferably 70 mol% to 95 mol%. That is, the amount of specific monomer X used to obtain specific copolymer 3, which is component (D), is based on the total amount of all monomers used to obtain specific copolymer 3, which is component (D) It is preferably 45 mol% to 99 mol%, more preferably 55 mol% to 98 mol%, and even more preferably 70 mol% to 95 mol%.
  • the total amount of monomers having hydroxyl groups in component (D) should be Based on the total amount of all monomers used to obtain polymer 3, it is preferably from 5% by weight to 30% by weight.
  • the method for obtaining the specific copolymer 3 which is component (D) is not particularly limited, but for example, the specific monomer X, a monomer having a hydroxy group, and if desired, other monomers and a polymerization initiator etc. It is obtained by a polymerization reaction in a solvent at a temperature of 50°C to 110°C. At that time, the solvent used is not particularly limited as long as it can dissolve the monomer represented by the above formula Specific examples will be described in the [Solvent] section below.
  • the specific copolymer 3 which is the component (D) obtained by the above method is usually in the form of a solution dissolved in a solvent, and can be used as it is as a solution of the component (D) in the present invention.
  • the solution of the specific copolymer 3, which is the component (D) obtained by the above method is reprecipitated by pouring it into diethyl ether, water, etc. under stirring, and after filtering and washing the generated precipitate,
  • the powder of the specific copolymer 3 of component (D) can be obtained by drying at room temperature or heating under normal pressure or reduced pressure.
  • the purified specific copolymer 3, which is the component (D) can be removed.
  • a powder is obtained. If sufficient purification is not possible in one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above-mentioned operation may be repeated.
  • the specific copolymer 3 as component (D) is used in the form of a powder or in the form of a solution obtained by redissolving the purified powder in the solvent described below. It's okay.
  • the component (D) may be a mixture of multiple types of specific copolymers 3 as the component (D).
  • the content of component (D) in the cured film forming composition of the present invention is from 10 parts by mass to 100 parts by mass of component (A), a low molecular compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group.
  • the amount is 500 parts by mass, more preferably 20 parts by mass to 300 parts by mass, and even more preferably 30 to 200 parts by mass.
  • Component (E) contained in the cured film forming composition of this embodiment is a compound having a polymerizable group and a hydroxyl group, for example, a compound having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group.
  • the compound of component (E) preferably has one or more hydroxy groups and one or more (meth)acrylic groups.
  • the polymerizable liquid crystal layer is The polymerizable functional group and the crosslinking reaction site of the alignment material can be linked by a covalent bond.
  • the retardation material of the present embodiment which is formed by laminating the cured polymerizable liquid crystal on the alignment material of the present embodiment, can maintain strong adhesion even under high temperature and high humidity conditions, resulting in peeling and other problems. It can show high durability against.
  • the content of component (E) in the cured film forming composition of the embodiment of the present invention is preferably based on 100 parts by mass of the low molecular compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group as component (A). is 1 part by mass to 150 parts by mass, more preferably 5 parts by mass to 100 parts by mass.
  • component (E) may be a mixture of multiple types of compounds of component (E).
  • Aronix (registered trademark) M-926 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Aronix (registered trademark) MT-2518 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Aronix (registered trademark) MT-2519 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Aronix (registered trademark) MT-3548 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • KAYARAD registered trademark
  • PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Blenmar (registered trademark) PE-90 manufactured by NOF Corporation
  • Blenmar (registered trademark) PE-200 manufactured by NOF Corporation
  • Blenmar (registered trademark) PE-350 manufactured by
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and s represents an integer from 1 to 10.
  • the cured film forming composition of the present invention further contains a crosslinking catalyst as component (F). .
  • crosslinking catalyst as component (F) examples include acids or thermal acid generators. This component (F) is effective in accelerating the thermosetting reaction in forming a cured film using the cured film forming composition of the present invention.
  • the component (F) is a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof, a compound that thermally decomposes to generate an acid during pre-baking or post-baking, that is, at a temperature of 600
  • the compound is not particularly limited as long as it is a compound that is thermally decomposed at a temperature of 250°C to 250°C to generate an acid.
  • Such acids include, for example, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluorocarbon Lomethanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctanesulfonic acid, perfluoro(2-ethoxyethane)sulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobut
  • Examples of compounds that generate acid upon thermal decomposition include bis(tosyloxy)ethane, bis(tosyloxy)propane, bis(tosyloxy)butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1, 2,3-phenylene tris(methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morphonium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid butyl ester Esters, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl
  • the component (F) is available as a commercial product, such as TA-100, TA-100FG, IK-1, IK-1FG (manufactured by Sun-Apro Co., Ltd.), Sun-Aid (registered trademark) SI- B2A, SunAid (registered trademark) SI-B7, SunAid (registered trademark) SI-B3A, SunAid (registered trademark) SI-B3, SunAid (registered trademark) SI-B5, SunAid (registered trademark) SI-B4, SunAid (registered trademark) Trademark) SI-150, Sun-Aid (registered trademark) SI-110, Sun-Aid (registered trademark) SI-60, Sun-Aid (registered trademark) SI-80, Sun-Aid (registered trademark) SI-100 (all of the above, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd. ) etc.
  • the content of component (F) in the cured film-forming composition of the present invention is 0.01 parts by mass based on 100 parts by mass of the low molecular weight compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group as component (A). parts by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part to 100 parts by weight, more preferably 10 parts to 100 parts by weight, and still more preferably 20 parts to 80 parts by weight.
  • parts by weight to 100 parts by weight preferably 1 part to 100 parts by weight, more preferably 10 parts to 100 parts by weight, and still more preferably 20 parts to 80 parts by weight.
  • the cured film forming composition of the embodiment of the present invention may contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • other additives include sensitizers.
  • the sensitizer is effective in accelerating the photoreaction when forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention.
  • the sensitizer examples include derivatives such as benzophenone, anthracene, anthraquinone, and thioxanthone, and nitrophenyl compounds.
  • derivatives such as benzophenone, anthracene, anthraquinone, and thioxanthone, and nitrophenyl compounds.
  • N,N-diethylaminobenzophenone which is a derivative of benzophenone
  • 2-nitrofluorene 2-nitrofluorenone
  • 2-nitrofluorenone 5-nitroacenaphthene
  • 4-nitrobiphenyl 4-nitrocinnamic acid
  • 4-nitrofluorenone which is a nitrophenyl compound, -Nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone and 5-nitroindole are particularly preferred.
  • sensitizers are not particularly limited to those mentioned above. These compounds can be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the proportion of the sensitizer used is preferably 1 part by mass to 100 parts by mass, more preferably 10 parts by mass to 80 parts by mass, based on 100 parts by mass of component (A). be. If this ratio is too small, the effect as a sensitizer may not be obtained sufficiently, and if it is too large, the transmittance of the cured film formed may decrease or the coating may become rough. There are things to do.
  • the cured film forming composition of the embodiment of the present invention may contain other additives such as a silane coupling agent, a surfactant, a rheology modifier, a pigment, a dye, and a storage stabilizer, as long as they do not impair the effects of the present invention. It may contain a defoaming agent, an antifoaming agent, an antioxidant, and the like.
  • the cured film forming composition of the embodiment of the present invention is often used in the form of a solution dissolved in a solvent.
  • the solvent used at that time dissolves the (A) component, (B) component, (C) component, (D) component, (E) component, (F) component, and other additives as necessary.
  • the solvent has such dissolving ability, its type and structure are not particularly limited.
  • solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether.
  • Neoethanol (registered trademark) PM Neoethanol (registered trademark) MIP
  • Neoethanol (registered trademark) IPM Neoethanol (registered trademark) IPE
  • Trademark) PHI Neoethanol (registered trademark) MHI
  • Neoethanol (registered trademark) PIP Neoethanol (registered trademark) HIMTE
  • Neoethanol (registered trademark) PHM Neoethanol (registered trademark) IPME
  • Neoethanol (registered trademark) Examples include P-7 (manufactured by Taishin Kagaku Co., Ltd.).
  • solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • propylene glycol monomethyl ether propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 3-methoxypropionate.
  • Neoethanol registered trademark
  • IPM Neoethanol (registered trademark) IPM are more preferred because they have good film-forming properties and are highly safe.
  • the (A) component which is the photoalignment component
  • the (C) component which is a polymer having 60% or more of all repeating units having a hydroxyl group
  • the cured film forming composition of the present invention further comprises a crosslinking agent as component (B), a specific copolymer 3 as component (D), an adhesion improving component as component (E) (hydroxy group and )
  • a compound having a polymerizable group such as an acrylic group) and a crosslinking catalyst can be contained as component (F).
  • Other additives may be included as long as they do not impair the effects of the present invention.
  • Preferred examples of the cured film forming composition of the present invention are as follows.
  • Component (A) 100 to 2000 parts by mass of component (B) based on 100 parts by mass of the compound that is component (A), 50 parts by mass based on 100 parts by mass of component (A) Based on 100 parts by mass of component (C) and 100 parts by mass of component (A), 10 parts by mass to 500 parts by mass of component (D), and 1 mass based on 100 parts by mass of component (A).
  • a cured film forming composition containing 0.01 parts by mass to 100 parts by mass of component (F) and a solvent based on 100 parts by mass of component (E) and 150 parts by mass of component (A).
  • Component (A) 100 parts by mass to 2000 parts by mass of component (B) based on 100 parts by mass of the compound that is component (A), 100 parts by mass based on 100 parts by mass of component (A) Based on 100 parts by mass of component (C) of 20 to 1000 parts by mass, 100 parts by mass of component (A), 1 mass of component (D) of 20 to 300 parts by mass, 100 parts by mass of component (A)
  • a cured film forming composition containing 0.01 parts by mass to 100 parts by mass of component (F) and a solvent based on 100 parts by mass of component (E) and 150 parts by mass of component (A).
  • the blending ratio, preparation method, etc. when the cured film-forming composition of the present invention is used as a solution will be explained in detail below.
  • the solid content in the cured film forming composition of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is 1% by mass to 80% by mass, preferably 2% by mass.
  • the content is from 60% by weight, more preferably from 3% to 40% by weight.
  • the solid content refers to all components of the cured film-forming composition excluding the solvent.
  • the method for preparing the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited.
  • a preparation method for example, in a solution of component (B) dissolved in a solvent, component (A), optionally component (C), and further components (D), (E), and (F) are added in a predetermined amount.
  • component (B) dissolved in a solvent
  • component (A), optionally component (C), and further components (D), (E), and (F) are added in a predetermined amount.
  • Examples include a method of mixing in proportions to form a uniform solution, or a method of further adding and mixing other additives as needed at an appropriate stage of this preparation method.
  • specific copolymer 2 (component (C)) and specific copolymer 3 (component (D)) obtained by polymerization reaction in a solvent are used.
  • the solution can be used as is.
  • the above-mentioned specific monomer The solution of component (D) obtained by this process is further added with components (A), (B), and further components (E), (F), etc. to form a uniform solution.
  • additional solvent may be added for the purpose of concentration adjustment.
  • the solvent used in the manufacturing process of component (C) and component (D) and the solvent used for adjusting the concentration of the cured film forming composition may be the same or different.
  • the prepared solution of the cured film-forming composition be used for forming a cured film after being filtered using a filter with a pore size of about 0.2 ⁇ m.
  • the cured film forming composition of the present invention can be suitably used to form a cured film on the surface of an optical film.
  • the optical film of the present invention is preferably prepared by applying a solution of the above-mentioned cured film forming composition onto an acrylic film substrate by bar coating, spin coating, flow coating, roll coating, slit coating, spin coating following slitting, or inkjet coating. It can be obtained by coating by printing or the like to form a coating film, and then heating and drying with a hot plate or oven to form a cured film.
  • a film made of a copolymer containing methacrylic acid alkyl ester and/or acrylic acid alkyl ester as a main component can be used as appropriate.
  • the acrylic film used as the base material preferably has a thickness of 20 to 100 ⁇ m.
  • the conditions for heating and drying are such that the curing reaction proceeds to such an extent that the components of the liquid crystal alignment film do not dissolve into the polymerizable liquid crystal solution applied thereon.
  • a temperature of 50° C. to 99° C., and a heating temperature and heating time appropriately selected from the range of 0.4 minutes to 60 minutes.
  • the heating temperature and heating time are preferably 60° C. to 95° C. and 0.5 minutes to 10 minutes.
  • the thickness of the cured film on the surface of the optical film of the present invention is, for example, 0.05 ⁇ m to 5 ⁇ m, and can be appropriately selected in consideration of the level difference and optical and electrical properties of the acrylic film used as the base material. .
  • the optical film of the present invention produced in this manner can be produced by applying polarized UV irradiation to the cured film formed on the base material as a liquid crystal alignment film, that is, a compound having liquid crystal properties including polymerizable liquid crystal, etc.
  • the optical film can be used as an alignment material.
  • the polarized UV irradiation method usually uses ultraviolet light to visible light with a wavelength of 150 nm to 450 nm, and is performed by irradiating linearly polarized light from a vertical or oblique direction at room temperature or in a heated state.
  • the cured film that becomes the liquid crystal alignment film has solvent resistance and heat resistance.
  • the retardation material By heating the retardation material to a phase transition temperature of , the retardation material is brought into a liquid crystal state and oriented on the alignment material. Then, the retardation material in the desired orientation state is directly cured to form a retardation material having a layer having optical anisotropy.
  • the retardation material for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used.
  • the base material in the alignment material is an acrylic film
  • the retardation material of the present invention is useful as a retardation film.
  • the retardation materials that form such retardation materials are in a liquid crystal state and take orientation states such as horizontal orientation, cholesteric orientation, vertical orientation, and hybrid orientation on the alignment material, each of which is required. It can be used depending on the phase difference characteristics.
  • the cured film on the surface of the optical film of the present invention is coated with an angle of +45 degrees from a predetermined standard through a line-and-space pattern mask. Exposure to polarized UV at an orientation, then remove the mask and expose to a smaller amount of polarized UV at a -45 degree orientation. Thereby, the cured film on the surface of the film can be used as a liquid crystal alignment film in which two types of liquid crystal alignment regions with different liquid crystal alignment control directions are formed, and the optical film can be used as an alignment material.
  • a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution is applied onto the alignment material, and then heated to a phase transition temperature of liquid crystal to bring the retardation material into a liquid crystal state.
  • the polymerizable liquid crystal in a liquid crystal state is aligned on an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions are formed, and an alignment state corresponding to each liquid crystal alignment region is formed.
  • the retardation material in which such an orientation state has been realized is cured as it is, the above-mentioned orientation state is fixed, and a pattern is formed in which a plurality of two types of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged. It is possible to obtain a chemically modified retardation material.
  • the optical film of the present invention can also be used as a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element.
  • the optical films of this embodiment formed as described above are pasted together so that the alignment materials in both optical films face each other via a spacer, and then liquid crystal is injected between those base materials.
  • a liquid crystal display element in which liquid crystals are oriented can be manufactured. Therefore, the optical film of the present invention can be suitably used for manufacturing various retardation materials (retardation films), liquid crystal display elements, and the like.
  • ⁇ Component B Crosslinking agent having N-hydroxymethyl group or N-alkoxymethyl group>
  • HMM hexamethoxymethylmelamine
  • ⁇ Component E compound having a polymerizable group and a hydroxyl group>
  • CHDMMA 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate 4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate
  • HEMA 2-hydroxyethyl methacrylate
  • GLM Glycerin monomethacrylate
  • M-926 Aronix (registered trademark) M-926 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • MT-2518 Aronix (registered trademark) MT-2518 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • MT-2519 Aronix (registered trademark) MT-2519 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • MT-3548 Aronix (registered trademark) MT-3548 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • PET-30 KAYARAD (registered trademark) PET-30 (manufacture
  • CSA crosslinking catalyst>
  • CSA ( ⁇ )-10-camphorsulfonic acid ⁇ Other ingredients>
  • PEPO Polylite (registered trademark) 8651 (manufactured by DIC Corporation, polyester polyol)
  • M100 Cyclomer (registered trademark) M100 (manufactured by Daicel Corporation, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate)
  • CHA Cyclohexanol ⁇ solvent>
  • PM Propylene glycol monomethyl ether
  • IPM Neoethanol (registered trademark) IPM (manufactured by Daishin Chemical Co., Ltd.)
  • EA Ethyl acetate
  • CPN Cyclopentanone
  • Example 1 M6CA (32 parts by mass) as the (A) component, acrylic polymer (B-1) (148 parts by mass) obtained in Synthesis Example 1 as the (B) component, and acrylic polymer (B-1) obtained in Synthesis Example 2 as the (C) component.
  • Acrylic polymer (C-1) 100 parts by mass
  • acrylic copolymer (D-1) obtained in Synthesis Example 8 32 parts by mass) as component (D)
  • PM:IPM 90:10 (mass ratio)
  • the polymerizable liquid crystal is cured by vertically irradiating non-polarized light with a wavelength of 365 nm at an exposure dose of 500 mJ/cm 2 .
  • a retardation film was produced. These retardation films were sandwiched between a pair of polarizing plates, and the state of development of retardation characteristics under crossed Nicol conditions was visually observed.If the retardation was developed without defects, it was marked as " ⁇ ", and if the retardation was developed without any defects, it was marked as " ⁇ ". Those that are not observed are defined as " ⁇ " and are listed in the "Orientation” column. The evaluation results are shown in Table 2.
  • the polymerizable liquid crystal is cured by vertically irradiating non-polarized light with a wavelength of 365 nm at an exposure dose of 500 mJ/cm 2 .
  • a retardation film was produced.
  • a cross cut (1 mm x 1 mm x 100 squares) was made on the surface of these retardation films (the surface on which the polymerizable liquid crystal layer was formed) using a cutter knife, and then cellophane tape (Cello Tape (registered trademark) Nichiban (registered trademark)) was cut. Co., Ltd.) was pasted.
  • a film formed with a cured film obtained by the cured film forming composition of the present invention can be used as a liquid crystal alignment material for a liquid crystal display element or an alignment material for forming an optically anisotropic film provided inside or outside of a liquid crystal display element. It is very useful as a material for forming patterned retardation materials for 3D displays. Furthermore, materials for forming cured films such as protective films, flattening films, and insulating films in various displays such as thin film transistor (TFT) type liquid crystal display elements and organic EL elements, especially interlayer insulating films for TFT type liquid crystal elements and color filters. It is also suitable as a material for forming a protective film of an organic EL element or an insulating film of an organic EL element.
  • TFT thin film transistor

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Abstract

【課題】　優れた液晶配向性と密着性とを備えた硬化膜を、１００℃未満の低温焼成で形成しうる硬化膜形成組成物、該硬化膜形成組成から得られる硬化膜を使用して形成される配向材および位相差材を提供する。 【解決手段】　（Ａ）光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物、　（Ｂ）Ｎ－ヒドロキシメチル基またはＮ－アルコキシメチル基を有する架橋剤、　（Ｃ）ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０モル％以上有するポリマー、 （Ｄ）下記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を全繰り返し単位の４５モル％以上有するとともに、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を有するポリマー、 （Ｅ）重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物、及び （Ｆ）架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物。 （上記式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至５の直鎖又は分岐状のアルキル基を表す。）

Description

硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
　本発明は液晶分子を配向させる硬化膜を形成する硬化膜形成組成物、硬化膜、光学フィルム、配向材および位相差材に関する。特に本発明は、円偏光メガネ方式の３Ｄディスプレイに用いられるパターニングされた位相差材、及び有機ＥＬディスプレイの反射防止膜として使用される円偏光板に用いられる位相差材、並びに該位相差材を作製するのに有用な硬化膜形成組成物、硬化膜、光学フィルム、配向材および位相差材に関する。
　円偏光メガネ方式の３Ｄディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。
　パターン化位相差材は、例えば、特許文献１に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られた光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる２種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜の上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。
　有機ＥＬディスプレイの反射防止膜は、直線偏光板、１／４波長位相差板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く１／４波長位相差板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、１／４波長位相差板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。
　この１／４波長位相差板に関して、特許文献２には、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて１／４波長位相差板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性による液晶材料を使用して逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。
　また近年、この位相差層に適用可能な液晶材料として、逆分散特性を備えるものが提案されている（特許文献３、４）。このような逆分散特性の液晶材料によれば、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて２層の位相差層により１／４波長位相差板を構成する代わりに、位相差層を単層により構成して逆分散特性を確保することができ、これにより広い波長帯域において所望の位相差を確保することが可能な光学フィルムを簡易な構成により実現することができる。
　液晶を配向させるためには配向層が用いられる。配向層の形成方法としては、例えばラビング法や光配向法が知られており、光配向法はラビング法の問題点である静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができる点で有用である。
　光配向法を用いた配向材形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光ＵＶ照射することにより、液晶の配向を制御する性能（以下、液晶配向性とも言う。）を示すことが報告されている（特許文献５乃至特許文献７を参照。）。
　また、配向層には、液晶配向能の他、耐溶剤性が要求される。例えば、配向層が、位相差材の製造過程にて熱や溶剤にさらさる場合がある。配向層が溶剤にさらされると、液晶配向能が著しく低下するおそれがある。
　そこで、例えば特許文献８には、安定した液晶配向能を得るために、光により架橋反応の可能な構造と熱によって架橋する構造とを有する重合体成分を含有する液晶配向剤、および、光により架橋反応の可能な構造を有する重合体成分と熱によって架橋する構造を有する化合物とを含有する液晶配向剤が提案されている。
　加えて、配向層には、液晶層との密着性が要求される。配向層とこの上に形成された液晶層との密着力が十分でない場合、例えば、位相差フィルム製造時の巻き取り工程等において、上記液晶層が剥離してしまうことがある。
　さらに、配向層を１００℃未満の低温焼成により作成しうることが、作業性の観点から求められている。
特開２００５－４９８６５号公報 特開平１０－６８８１６号公報 米国特許第８１１９０２６号明細書 特開２００９－１７９５６３号公報 特許第３６１１３４２号公報 特開２００９－０５８５８４号公報 特表２００１－５１７７１９号公報 特許第４２０７４３０号公報
　光配向技術を用いて位相差材を製造する場合、近年は製造コスト低減の要求に応じ、アクリルフィルム、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルムなどの安価な樹脂フィルム上で、所謂ロールツーロール方式による光学材料の生産が求められており、特に、その優れた光学特性と信頼性、製造コストを低減し得る利点から、樹脂フィルム（基材）としてアクリルフィルムを用いることが求められている。
　しかしながら、上述したような従来材料から形成された光配向膜では、１００℃未満の低温焼成で形成した硬化膜の耐溶剤性が低く、重合性液晶を配向させることは困難であった。
　本発明は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、アクリルフィルムを基材として用いたものであって、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れる配向材の形成に使用される硬化膜を、１００℃未満の低温焼成で形成するための硬化膜形成組成物を提供することである。
　また、本発明の目的は、上記硬化膜を有する光学フィルム、該硬化膜若しくは光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供することである。
　本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
　本発明の第１の態様は、
　（Ａ）光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物、
　（Ｂ）Ｎ－ヒドロキシメチル基またはＮ－アルコキシメチル基を有する架橋剤、
　（Ｃ）ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０％以上有するポリマー、
　（Ｄ）下記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を全繰り返し単位の４５モル％以上有し、さらにヒドロキシ基を有する繰り返し単位を有するポリマー、
　（Ｅ）重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物、及び
　（Ｆ）架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物に関する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （上記式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至５の直鎖又は分岐状のアルキル基を表す。）
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の光配向性基は光二量化又は光異性化する構造を有する官能基であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の光配向性基はシンナモイル基又はアゾベンゼン構造を有する基であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ｂ）成分である架橋剤がＮ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物から選ばれるモノマーを重合したポリマーであることが好ましい。
　本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜に関する。
　本発明の第３の態様は、本発明の第２の態様の硬化膜を有する光学フィルムに関する。
　本発明の第４の態様は、本発明の第２の態様の硬化膜を使用して形成される配向材に関する。
　本発明の第５の態様は、本発明の第２の態様の硬化膜を使用して形成される位相差材に関する。
　本発明によれば、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層及びアクリルフィルムとの密着性に優れる硬化膜を、１００℃未満の低温焼成で形成しうる硬化膜形成組成物を提供することができる。
　また、本発明によれば、上記硬化膜を有する光学フィルム、及び硬化膜又は光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供することができる。
　上述したように、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層及びアクリルフィルムとの密着性に優れた硬化膜（配向材）が求められている。そして、そのような性能の硬化膜（配向材）の形成に好適な硬化膜形成組成物が求められている。
　本発明者は、上述の要求に応えるべく、鋭意検討を行った結果、特定の組成を有する硬化膜形成組成物から得られる硬化膜が、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層及びアクリルフィルムとの密着性に優れた配向材としての利用が可能であることを見出した。
　以下において、本発明の硬化膜形成組成物について、成分等の具体例を挙げながら詳細に説明する。そして、本発明の硬化膜形成組成物を用いた本発明の硬化膜および配向材、並びに、その配向材を用いて形成される位相差材および液晶表示素子等について説明する。
＜硬化膜形成組成物＞
　本発明の硬化膜形成組成物は、（Ａ）光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物、（Ｂ）Ｎ－ヒドロキシメチル基またはＮ－アルコキシメチル基を有する架橋剤、（Ｃ）ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０％以上有するポリマー、（Ｄ）上記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を全繰り返し単位の４５モル％以上有し、さらにヒドロキシ基を有する繰り返し単位を有するポリマー、（Ｅ）重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物、及び（Ｆ）架橋触媒を含有する。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。さらに、溶剤を含有することができる。
　以下、各成分の詳細を説明する。
［（Ａ）成分］
　本発明の硬化膜形成組成物における（Ａ）成分は、光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物である。すなわち（Ａ）成分は、本発明の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜に光配向性を付与する成分であり、本明細書において、（Ａ）成分を光配向成分とも称する。
（Ａ）成分の低分子化合物は、ベースとなる後述の（Ｃ）成分のポリマーに比べて低分子量の光配向成分となる。（Ａ）成分の低分子化合物の分子量は、２，０００以下が好ましい。
　本発明の硬化膜形成組成物において、（Ａ）成分の低分子化合物は光配向性基を有する化合物であって、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、アミド基、アミノ基及びアルコキシシリル基からなる群から選ばれる一つの熱架橋性基をさらに有する化合物とすることができる。
　尚、本発明において、光配向性基とは、一般に光照射によって配向する性質を発揮する官能基を指し、代表的には光二量化又は光異性化する構造部位の官能基を言う。その他の光配向性基としては、たとえば光フリース転位反応を起こす官能基（例示化合物：安息香酸エステル化合物など）、光分解反応を起こす基（例示化合物；シクロブタン環など）などが挙げられる。
　（Ａ）成分の低分子化合物が光配向性基として有することのできる光二量化する構造部位とは、光照射により二量体を形成する部位であり、その具体例としては、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ、光二量化反応性の高さからシンナモイル基が好ましい。
　また、（Ａ）成分の低分子化合物が光配向性基として有することのできる光異性化する構造部位とは、光照射によりシス体とトランス体とに変わる構造部位を指し、その具体例としてはアゾベンゼン構造、スチルベン構造等からなる部位が挙げられる。これらのうち反応性の高さからアゾベンゼン構造が好ましい。
　光配向性基と、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、アミド基、アミノ基及びアルコキシシリル基からなる群から選ばれる一つの熱架橋性基とを有する低分子化合物は、例えば、下記式で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　前記式中、Ａ１とＡ２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
　Ｘ１１は単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合、ウレタン結合、アミノ結合、カルボニル結合又はそれらの組み合わせから選ばれる１種又は２種以上の結合を介して、炭素原子数１乃至１８のアルキレン基、フェニレン基、ビフェニレン基又はそれらの組み合わせから選ばれる１乃至３の置換基が結合してなる構造であって、前記置換基は前記結合を介してそれぞれ複数個が連結してなる構造であってもよい。
　Ｘ１２は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１乃至１８のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基又はシクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数１乃至１８のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基及びシクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又は尿素結合を介して２種以上の基が結合してもよい。
　Ｘ１３はヒドロキシ基、メルカプト基、炭素原子数１乃至１０のアルコキシ基、炭素原子数１乃至１０のアルキルチオ基、フェノキシ基、ビフェニルオキシ基又はフェニル基を表す。
　Ｘ１４は単結合、炭素原子数１乃至２０のアルキレン基、２価の芳香族環基、又は、２価の脂肪族環基を表す。ここで炭素原子数１乃至２０のアルキレン基は分岐状でも直鎖状でもよい。
　Ｘ１５はヒドロキシ基、カルボキシ基、アミド基、アミノ基又はアルコキシシリル基を表す。但し、Ｘ１４が単結合であるときは、Ｘ１５はヒドロキシ基またはアミノ基である。
　Ｘは単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。但し、Ｘ１４が単結合であるときは、Ｘも単結合である。
　なお、これらの置換基においてベンゼン環が含まれる場合、当該ベンゼン環上の水素原子は、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及びシアノ基から選ばれる同一又は相異なる１又は複数の置換基によって置換されていてもよい。
　上記式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。
　（Ａ）成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有する低分子化合物の具体例として、例えば上記式［Ａ１１］乃至［Ａ１５］で表される化合物並びに該式以外の化合物としては、例えば、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸メチルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸メチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸エチルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸エチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸フェニルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸フェニルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸ビフェニルエステル、けい皮酸８－ヒドロキシオクチルエステル、けい皮酸６－ヒドロキシヘキシルエステル、けい皮酸４－ヒドロキシブチルエステル、けい皮酸３－ヒドロキシプロピルエステル、けい皮酸２－ヒドロキシエチルエステル、けい皮酸ヒドロキシメチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）アゾベンゼン、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）アゾベンゼン、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）アゾベンゼン、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）アゾベンゼン、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）アゾベンゼン、４－ヒドロキシメチルオキシアゾベンゼン、４－ヒドロキシアゾベンゼン、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）カルコン、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）カルコン、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）カルコン、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）カルコン、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）カルコン、４－ヒドロキシメチルオキシカルコン、４－ヒドロキシカルコン、４’－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）カルコン、４’－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）カルコン、４’－（４－ヒドロキシブチルオキシ）カルコン、４’－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）カルコン、４’－（２－ヒドロキシエチルオキシ）カルコン、４’－ヒドロキシメチルオキシカルコン、４’－ヒドロキシカルコン、７－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）クマリン、７－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）クマリン、７－（４－ヒドロキシブチルオキシ）クマリン、７－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）クマリン、７－（２－ヒドロキシエチルオキシ）クマリン、７－ヒドロキシメチルオキシクマリン、７－ヒドロキシクマリン、６－ヒドロキシオクチルオキシクマリン、６－ヒドロキシヘキシルオキシクマリン、６－（４－ヒドロキシブチルオキシ）クマリン、６－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）クマリン、６－（２－ヒドロキシエチルオキシ）クマリン、６－ヒドロキシメチルオキシクマリン、６－ヒドロキシクマリン、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸メチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸エチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸ターシャリーブチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸フェニルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－［４－ヒドロキシベンゾイル］けい皮酸ビフェニルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸８－ヒドロキシオクチルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸６－ヒドロキシヘキシルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸４－ヒドロキシブチルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸３－ヒドロキシプロピルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸２－ヒドロキシエチルエステル、４－ベンゾイルけい皮酸ヒドロキシメチルエステル、４－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４－（４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル）カルコン、４－（４－ヒドロキシベンゾイル）カルコン、４’－［４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－［４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）ベンゾイル］カルコン、４’－（４－ヒドロキシメチルオキシベンゾイル）カルコン、４’－（４－ヒドロキシベンゾイル）カルコン等が挙げられる。
　（Ａ）成分である、光配向性基及びカルボキシ基を有する低分子化合物の具体例としては、けい皮酸、フェルラ酸、４－メトキシけい皮酸、４－プロポキシけい皮酸、３，４－ジメトキシけい皮酸、クマリン－３－カルボン酸、４－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）けい皮酸等が挙げられる。
　（Ａ）成分である、光配向性基及びアミド基を有する低分子化合物の具体例としては、けい皮酸アミド、４－メチルけい皮酸アミド、４－エチルけい皮酸アミド、４－メトキシけい皮酸アミド、４－エトキシけい皮酸アミド等が挙げられる。
　（Ａ）成分である、光配向性基及びアミノ基を有する低分子化合物の具体例としては、４－アミノけい皮酸メチルエステル、４－アミノけい皮酸エチルエステル、３－アミノけい皮酸メチルエステル、３－アミノけい皮酸エチルエステル等が挙げられる。
　（Ａ）成分である、光配向性基とアルコキシシリル基とを有する低分子化合物の具体例としては、４－（３－トリメトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリエトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリメトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（３－トリエトキシシリルプロピルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（３－トリメトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリエトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－トリメトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸エチルエステル及び４－（３－トリエトキシシリルヘキシルオキシ）けい皮酸エチルエステル等が挙げられる。
　（Ａ）成分の低分子化合物としては、さらに下記式（１）で表される光配向性部位と熱反応性部位とが結合した基に、スペーサーを介して重合性基が結合した化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （式中、Ｒ１０１はヒドロキシ基、アミノ基、ヒドロキシフェノキシ基、カルボキシフェノキシ基、アミノフェノキシ基、アミノカルボニルフェノキシ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基、カルボキシフェニルアミノ基、アミノフェニルアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基またはビス（ヒドロキシアルキル）アミノ基を表し、Ｘ１０１は任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基を表し、これらの置換基の定義におけるベンゼン環上の水素原子は置換基で置換されていてもよい。）
　ベンゼン環上の水素原子が置換基で置換されていてもよい場合の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等のアルキル基；トリフルオロメチル基等のハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、フッ素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ニトロ基等が挙げられる。
　上記Ｒ１０１の中では、ヒドロキシ基及びアミノ基が好ましく、ヒドロキシ基が特に好ましい。
　スペーサーとしては、直鎖状アルキレン基、分岐アルキレン基、環状アルキレン基及びフェニレン基から選ばれる二価の基であるか、当該二価の基が複数結合してなる基を表す。この場合、スペーサーを構成する二価の基同士の結合、スペーサーと上記式（１）で表される基との結合、スペーサーと重合性基との結合としては、単結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合またはエーテル結合が挙げられる。上記二価の基が複数となる場合は、二価の基同士は同一でも異なっていてもよく、上記結合が複数となる場合は、結合同士は同一でも異なっていてもよい。
　そのような（Ａ）成分である光配向性部位と熱反応性部位とが結合した基に重合性基が結合した低分子化合物の具体例としては、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（６－アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）けい皮酸、４－（４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）アクリルオキシ）安息香酸、４－（４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）ベンゾイルオキシ）けい皮酸、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）シンナムアミド、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）－Ｎ－（４－シアノフェニル）シンナムアミド、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）－Ｎ－ビスヒドロキシエチルシンナムアミドなどが挙げられる。
　（Ａ）成分である低分子化合物は、以上の具体例を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　以上のように本発明においては、（Ａ）成分としては低分子量の化合物を用いることができる。また、（Ａ）成分はそれぞれ１種以上の低分子量の化合物の混合物であってもよい。
［（Ｂ）成分］
　本実施の形態の硬化膜形成組成物に含有される（Ｂ）成分は、Ｎ－ヒドロキシメチル基またはＮ－アルコキシメチル基を有する架橋剤であり、より具体的には、Ｎ－ヒドロキシメチル化合物、Ｎ－アルコキシメチル化合物、またはＮ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物から選ばれるモノマーを重合したポリマーである。
　Ｎ－ヒドロキシメチル化合物、Ｎ－アルコキシメチル化合物としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミンおよびアルコキシメチル化メラミン等のメチロール化合物が挙げられる。
　アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、１，３，４，６－テトラキス（メトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ブトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ヒドロキシメチル）グリコールウリル、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（ブトキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（メトキシメチル）尿素、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）－４，５－ジヒドロキシ－２－イミダゾリノン、および１，３－ビス（メトキシメチル）－４，５－ジメトキシ－２－イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製グリコールウリル化合物（商品名：サイメル（登録商標）１１７０、パウダーリンク（登録商標）１１７４）等の化合物、メチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）６５）、ブチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）３００、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｓ６０、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｒ、Ｕ－ＶＡＮ１１ＨＶ）、ＤＩＣ（株）（旧　大日本インキ化学工業（株））製尿素／ホルムアルデヒド系樹脂（高縮合型、商品名：ベッカミン（登録商標）Ｊ－３００Ｓ、同Ｐ－９５５、同Ｎ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としてはテトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製（商品名：サイメル（登録商標）１１２３）、（株）三和ケミカル製（商品名：ニカラック（登録商標）ＢＸ－４０００、同ＢＸ－３７、同ＢＬ－６０、同ＢＸ－５５Ｈ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：サイメル（登録商標）３００、同３０１、同３０３、同３５０）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：マイコート（登録商標）５０６、同５０８）、（株）三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＷ－３０、同ＭＷ－２２、同ＭＷ－１１、同ＭＳ－００１、同ＭＸ－００２、同ＭＸ－７３０、同ＭＸ－７５０、同ＭＸ－０３５）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＸ－４５、同ＭＸ－４１０、同ＭＸ－３０２）等が挙げられる。
　また、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物及びベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第６３２３３１０号に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）３０３等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）１１２３（以上、日本サイテック・インダストリーズ（株）（旧　三井サイテック（株））製）等が挙げられる。
　Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物から選ばれるモノマーを重合したポリマー（以下、特定重合体１ともいう）としては、Ｎ－アルコキシメチルアクリルアミドまたはＮ－ヒドロキシメチルアクリルアミド等のモノマーを単独または共重合可能なモノマーと共重合したポリマーが挙げられる。このようなポリマーとしては、例えば、ポリ（Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－エトキシメチルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－メトキシメチルアクリルアミド）、ポリ（Ｎ－ヒドロキシメチルアクリルアミド）、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、Ｎ－エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びＮ－ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと２－ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００から５００，０００であり、好ましくは、２，０００から２００，０００であり、より好ましくは３，０００から１５０，０００であり、更に好ましくは３，０００から５０，０００である。
　これらの（Ｂ）成分のポリマーは、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
　本実施の形態の硬化膜形成組成物における（Ｂ）成分のＮ－ヒドロキシメチル基またはＮ－アルコキシメチル基を有する架橋剤の含有量は、（Ａ）成分である化合物の１００質量部に基づいて１００質量部乃至２０００質量部であることが好ましく、より好ましくは２００質量部乃至１５００質量部である。
［（Ｃ）成分］
　本発明の硬化膜形成組成物に含有される（Ｃ）成分は、単位構造として、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０モル％以上有するポリマー（以下、特定重合体２ともいう）である。
　（Ｃ）成分であるポリマーとしては、例えば、アクリル重合体、ウレタン変性アクリルポリマー、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエステルポリカルボン酸、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、セルロース類（セルロースまたはその誘導体）、フェノールノボラック樹脂等の直鎖構造または分岐構造を有するポリマー、シクロデキストリン類等の環状ポリマー等が挙げられる。
　このうち、アクリル重合体としてはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体が適用されうる。その合成方法としては、ヒドロキシ基を有するモノマーと、所望によりそれ以外のモノマーとを（共）重合する方法が簡便である。
　ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルアクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノメタクリレート、カプロラクトン２－（アクリロイルオキシ）エチルエステル、カプロラクトン２－（メタクリロイルオキシ）エチルエステル、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルアクリレート、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルメタクリレート、５－アクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン、５－メタクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン等が挙げられる。
　この中で４－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレートが特に好ましい。
　また、本発明の硬化膜形成組成物においては、特定重合体２を得る際に、ヒドロキシ基を有するモノマーと共重合可能なモノマー（以下、非反応性官能基を有するモノマーともいう）を併用することができる。
　そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
　以下、上記モノマーの具体例を挙げるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
　上述したアクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、グリシジルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルアクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルアクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
　上述したメタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ－プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３－メトキシブチルメタクリレート、２－メチル－２－アダマンチルメタクリレート、γ－ブチロラクトンメタクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルメタクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルメタクリレート、及び８－エチル－８－トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。
　上述したアクリルアミド化合物としては、例えば、Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ－メチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルメタクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチルメタクリルアミド等が挙げられる。
　上述したビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、３－エテニル－７－オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン、１，２－エポキシ－５－ヘキセン、及び１，７－オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。
　上述したスチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、及びブロモスチレン等が挙げられる。
　上述したマレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
　本発明の硬化膜形成組成物に用いる特定重合体２を得る方法は特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基を有するモノマー、所望により非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を共存させた溶剤中において、５０℃乃至１１０℃の温度下で重合反応させて得る方法が挙げられる。その際、用いられる溶剤は、ヒドロキシ基を有するモノマー、所望により用いられる非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する溶剤に記載する溶剤が挙げられる。
　このようにして得られる特定重合体２は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態であり、本発明において（Ｃ）成分のポリマー溶液としてそのまま使用することができる。
　また、上記のようにして得られた特定重合体２の溶液を、ジエチルエーテルや水等の撹拌下に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後、常圧又は減圧下で、常温あるいは加熱乾燥することで、特定重合体２の粉体とすることができる。このような操作により、特定重合体２と共存する重合開始剤や未反応モノマーを除去することができ、その結果、精製した特定重合体２の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解して、上記の操作を繰り返し行えばよい。
　本発明の硬化膜形成組成物においては、（Ｃ）成分のポリマーとして上記特定重合体２の粉体をそのまま用いてもよく、あるいはその粉体を、たとえば後述する溶剤に再溶解して溶液の状態として用いてもよい。
　（Ｃ）成分の例であるポリマーは、重量平均分子量が３，０００乃至２００，０００であることが好ましく、４，０００乃至１５０，０００であることがより好ましく、５，０００乃至１００，０００であることがさらに好ましい。
　また、本発明の組成物において、（Ｃ）成分は、（Ｃ）成分として例示されたポリマーの複数種の混合物であってもよい。
　（Ｃ）成分は、単位構造として、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０モル％以上有することが好ましく、より好ましくは７０モル％以上であり、さらに好ましくは８０モル％以上であり、特に好ましくは９０モル％以上である。
　すなわち、（Ｃ）成分である特定重合体２を得るために用いられるヒドロキシ基を有するモノマーの使用量は、（Ｃ）成分である特定重合体２を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、６０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０モル％以上であり、さらに好ましくは８０モル％以上であり、特に好ましくは９０モル％以上である。
　本発明の硬化膜形成組成物における（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、５０乃至１５００質量部であることが好ましく、より好ましくは１００質量部乃至１０００質量部であり、さらに好ましくは２００質量部乃至５００質量部である。
［（Ｄ）成分］
　本発明の硬化膜形成組成物に含有される（Ｄ）成分は、下記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を全繰り返し単位の４５モル％以上有するとともに、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を有するポリマー（以下特定共重合体３ともいう）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 （上記式中Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至５の直鎖又は分岐状のアルキル基を表す。）
　以下、上記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を与えるモノマーを、特定モノマーＸと称する。
　特定モノマーＸであるアクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート等のアクリル酸アルキルエステル化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ－プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート等のメタクリル酸アルキルエステル化合物が挙げられる。
　これらの化合物うち、入手容易性及び基材として用いられるアクリルフィルムとの親和性の点からメチルメタクリレートが特に好ましい。
　すなわち、（Ｄ）成分がメチルメタクリレートを単量体として用いて得られるポリマーであること、要するに式（Ｘ）（式中、Ｒ１及びＲ２がいずれもメチル基を表す。）で表される繰り返し単位構造を有するポリマーであることが好ましい。
　（Ｄ）成分である特定共重合体３には、特定モノマーＸであるアクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステルのほか、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを加え、これらを重合して得られる重合体が適用されうる。
　また、（Ｄ）成分は、特定モノマーＸであるアクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルに加えて、ヒドロキシ基を有するモノマーとを共重合させた、アクリル共重合体であることが好ましい。
　特定モノマーＸであるアクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルに加えて、さらにヒドロキシ基を有するモノマーとを共重合させたアクリル共重合体の合成方法としては、特定モノマーＸと、ヒドロキシ基を有するモノマーから選ばれる少なくとも一種のモノマーとを共重合する方法が簡便である。
　ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルアクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン２－（アクリロイルオキシ）エチルエステル、カプロラクトン２－（メタクリロイルオキシ）エチルエステル、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルアクリレート、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルメタクリレート、５－アクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン、５－メタクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン等が挙げられる。
　この中で、４－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレートが特に好ましい。
　また、本発明においては、特定共重合体３を得る際に、特定モノマーＸと、ヒドロキシ基を有するモノマーの他に、該モノマーと共重合可能であって前記熱架橋可能な置換基を有さないモノマーを併用することができる。
　そのようなモノマーの具体例としては、特定モノマーＸ、並びに、ヒドロキシ基を有するモノマーとは異なる構造を有するアクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
　以下、前記モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
　前記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するアクリル酸エステル化合物としては、例えば、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルアクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルアクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
　前記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するメタクリル酸エステル化合物としては、例えば、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３－メトキシブチルメタクリレート、２－メチル－２－アダマンチルメタクリレート、γ－ブチロラクトンメタクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルメタクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルメタクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。
　前記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するアクリルアミド化合物としては、例えば、Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ－メチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルメタクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチルメタクリルアミド等が挙げられる。
　前記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルビフェニル、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、フェニルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、３－エテニル－７－オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン、１，２－エポキシ－５－ヘキセン、及び１，７－オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。
　前記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するスチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。
　前記特定モノマーＸ等とは異なる構造を有するマレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
　（Ｄ）成分のポリマー中、式（Ｘ）で表される単位構造の存在割合が、該ポリマーを構成する全ての単位構造に基づいて４５モル％乃至９９モル％であることが好ましく、より好ましくは５５モル％乃至９８モル％であり、さらに好ましくは７０モル％乃至９５モル％である。
　すなわち、（Ｄ）成分である特定共重合体３を得るために用いられる特定モノマーＸの使用量は、（Ｄ）成分である特定共重合体３を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、４５モル％乃至９９モル％であることが好ましく、より好ましくは５５モル％乃至９８モル％であり、さらに好ましくは７０モル％乃至９５モル％である。
　また、（Ｄ）成分におけるヒドロキシ基を有するモノマーの使用量の合計は、（Ｂ）成分との十分な反応により膜と基板との密着性を強めるという観点から、（Ｄ）成分である特定共重合体３を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、５質量％乃至３０質量％であることが好ましい。
　（Ｄ）成分である特定共重合体３を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定モノマーＸと、ヒドロキシ基を有するモノマーと、所望によりそれ以外のモノマーと重合開始剤等とを共存させた溶剤中において、５０℃乃至１１０℃の温度下で重合反応により得られる。その際、用いられる溶剤は、上記式Ｘで示されるモノマー、ヒドロキシ基を有するモノマー、所望により用いられるそれ以外のモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する［溶剤］の項に記載する。
　以上の方法により得られる（Ｄ）成分である特定共重合体３は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態であり、本発明において（Ｄ）成分の溶液としてそのまま使用することができる。
　また、上記方法で得られた（Ｄ）成分である特定共重合体３の溶液を、撹拌下のジエチルエーテルや水等に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後に、常圧又は減圧下で、常温乾燥又は加熱乾燥し、（Ｄ）成分の特定共重合体３の粉体とすることができる。上述の操作により、（Ｄ）成分の特定共重合体３と共存する重合開始剤及び未反応のモノマーを除去することができ、その結果、精製した（Ｄ）成分である特定共重合体３の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解させ、上述の操作を繰り返し行えばよい。
　本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物において、（Ｄ）成分の特定共重合体３は、粉体形態で、又は精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。
　また、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物において（Ｄ）成分は、（Ｄ）成分である特定共重合体３の複数種の混合物であってもよい。
　本発明の硬化膜形成組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分である光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物の１００質量部に基づいて、１０質量部乃至５００質量部であり、更に好ましくは２０質量部乃至３００質量部であり、さらに好ましくは３０乃至２００質量部である。
［（Ｅ）成分］
　本実施形態の硬化膜形成組成物に含有される（Ｅ）成分は、重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物であり、例えばヒドロキシ基および（メタ）アクリル基を有する化合物である。
　（Ｅ）成分の化合物は、１つ以上のヒドロキシ基、および、１つ以上の（メタ）アクリル基を有することが好ましい。
　（Ｅ）成分を含有する本実施形態の硬化膜形成組成物から形成される硬化膜を配向材として用いる場合、配向材と重合性液晶の層との密着性が向上するよう、重合性液晶の重合性官能基と配向材の架橋反応部位を共有結合によりリンクさせることができる。その結果、本実施形態の配向材上に硬化した重合性液晶を積層してなる本実施形態の位相差材は、高温高湿の条件下でも、強い密着性を維持することができ、剥離等に対する高い耐久性を示すことができる。
　本発明の実施形態の硬化膜形成組成物における（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分である光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物の１００質量部に基づいて、好ましくは１質量部乃至１５０質量部であり、更に好ましくは５質量部乃至１００質量部である。
　また、本実施形態の硬化膜形成組成物において、（Ｅ）成分は、（Ｅ）成分の化合物の複数種の混合物であってもよい。
　以下に、（Ｅ）成分の化合物の好ましい例を挙げる。尚、（Ｅ）成分の化合物は、以下の化合物例に限定されるものではない。
　アロニックス（登録商標）Ｍ－９２６（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）ＭＴ－２５１８（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）ＭＴ－２５１９（東亞合成（株）製）、アロニックス（登録商標）ＭＴ－３５４８（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＥ－９０（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＥ－２００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＥ－３５０（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＡＥ－２００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＡＥ－４００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＰＰ－５００（日油（株）製）、ブレンマー（登録商標）ＡＰ－４００（日油（株）製）、６－ヒドロキシヘキシルアクリレート、８－ヒドロキシオクチルアクリレート、１０－ヒドロキシデシルアクリレート、１２－ヒドロキシドデシルアクリレート、６－ヒドロキシヘキシルメタクリレート、８－ヒドロキシオクチルメタクリレート、１０－ヒドロキシデシルメタクリレート、１２－ヒドロキシドデシルメタクリレート、及び下記のいずれかの式で表される化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 （上記式中、Ｒ１１は水素原子またはメチル基を表し、ｓは１乃至１０の整数を表す。）
［（Ｆ）成分］
　本発明の硬化膜形成組成物は、上述した（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分に加え、さらに（Ｆ）成分として架橋触媒を含有する。
　（Ｆ）成分である架橋触媒としては、例えば、酸又は熱酸発生剤が挙げられる。この（Ｆ）成分は、本発明の硬化膜形成組成物を用いた硬化膜の形成において、熱硬化反応の促進に有効である。
　（Ｆ）成分として酸又は熱酸発生剤を用いる場合、（Ｆ）成分は、スルホン酸基含有化合物、塩酸又はその塩、プリベーク又はポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度６０℃乃至２５０℃で熱分解して酸を発生する化合物であれば特に限定されるものではない。
　そのような酸としては、例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ｐ－キシレン－２－スルホン酸、ｍ－キシレン－２－スルホン酸、４－エチルベンゼンスルホン酸、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ（２－エトキシエタン）スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１，２－エタンジスルホン酸、メタンスルホン酸無水物等のスルホン酸又はその水和物や塩等が挙げられる。
　また、熱分解して酸を発生する化合物としては、例えば、ビス（トシルオキシ）エタン、ビス（トシルオキシ）プロパン、ビス（トシルオキシ）ブタン、ｐ－ニトロベンジルトシレート、ｏ－ニトロベンジルトシレート、１，２，３－フェニレントリス（メチルスルホネート）、ｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸エチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸プロピルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸ブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸イソブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸メチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルｐ－トルエンスルホネート、２，２，２－トリフルオロエチルｐ－トルエンスルホネート、２－ヒドロキシブチルｐ－トシレート、Ｎ－エチル－４－トルエンスルホンアミド、および下記式［ＴＡＧ－１］乃至式［ＴＡＧ－４１］で表される化合物等を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　前記（Ｆ）成分は、市販品として入手が可能であり、例えば、ＴＡ－１００、ＴＡ－１００ＦＧ、ＩＫ－１、ＩＫ－１ＦＧ（以上、サンアプロ（株）製）、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ２Ａ、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ７、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ３Ａ、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ３、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ５、サンエイド（登録商標）ＳＩ－Ｂ４、サンエイド（登録商標）ＳＩ－１５０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－１１０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－６０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－８０、サンエイド（登録商標）ＳＩ－１００（以上、三新化学工業（株）製）等が挙げられる。
　本発明の硬化膜形成組成物における（Ｆ）成分の含有量は、（Ａ）成分である光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物の１００質量部に基づいて、０．０１質量部乃至１００質量部、好ましくは１質量部乃至１００質量部、より好ましくは１０質量部乃至１００質量部、さらに好ましくは２０質量部乃至８０質量部である。（Ｆ）成分の含有量を０．０１質量部以上とすることで、充分な熱硬化性と溶剤耐性を付与することができ、露光に対する高い感度をも付与することができる。また、１００質量部以下とすることで、硬化膜形成組成物の保存安定性を良好にすることができる。
［その他の添加剤］
　本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
　その他の添加剤としては、例えば、増感剤が挙げられる。増感剤は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成するに際し、その光反応を促進することにおいて有効となる。
　増感剤としては、ベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン及びチオキサントン等の誘導体並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうちベンゾフェノンの誘導体であるＮ，Ｎ－ジエチルアミノベンゾフェノン、及びニトロフェニル化合物である２－ニトロフルオレン、２－ニトロフルオレノン、５－ニトロアセナフテン、４－ニトロビフェニル、４－ニトロけい皮酸、４－ニトロスチルベン、４－ニトロベンゾフェノン、５－ニトロインドールが特に好ましい。
　これらの増感剤は特に上述のものに限定されるものではない。これらは、単独又は２種以上の化合物を併用することが可能である。
　本発明の実施形態において、増感剤の使用割合は、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて１質量部乃至１００質量部であることが好ましく、より好ましくは１０質量部乃至８０質量部である。この割合が過小である場合には、増感剤としての効果を充分に得られない場合があり、過大である場合には、形成される硬化膜の透過率が低下したり塗膜が荒れたりすることがある。
　また、本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤として、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。
［溶剤］
　本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、溶剤に溶解した溶液状態で用いられることが多い。その際に用いられる溶剤は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、及び、必要に応じてその他の添加剤を溶解するものであり、そのような溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
　溶剤の具体例を挙げると、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、シクロペンチルメチルエーテル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ブタノン、３－メチル－２－ペンタノン、２－ペンタノン、２－ヘプタノン、γ－ブチロラクトン、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及びＮ－メチル－２－ピロリドン等が挙げられる。 
　溶剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、ネオエタノール（登録商標）ＰＭ、ネオエタノール（登録商標）ＭＩＰ、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭ、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＥ、ネオエタノール（登録商標）ＰＨＩ、ネオエタノール（登録商標）ＭＨＩ、ネオエタノール（登録商標）ＰＩＰ、ネオエタノール（登録商標）ＨＩＭＴＥ、ネオエタノール（登録商標）ＰＨＭ、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭＥ、ネオエタノール（登録商標）Ｐ－７（以上、大伸化学（株）製）等が挙げられる。
　これらの溶剤は、一種単独で、又は二種以上の組合せで使用することができる。これら溶剤のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸エチル及び３－エトキシプロピオン酸メチル、ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭは成膜性が良好で安全性が高いためより好ましい。
＜硬化膜形成組成物の調製＞
　本発明の硬化膜形成組成物は、上述したように、（Ａ）成分である光配向成分、（Ｃ）成分であるヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０％以上有するポリマーが溶剤に溶解したものである。本発明の硬化膜形成組成物は、さらに、（Ｂ）成分である架橋剤、（Ｄ）成分である特定共重合体３、（Ｅ）成分である密着性向上成分（ヒドロキシ基及び例えば（メタ）アクリル基などの重合性基を有する化合物）、（Ｆ）成分として架橋触媒を含有することができる。そして、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
　本発明の硬化膜形成組成物の好ましい例は、以下のとおりである。
　［１］：（Ａ）成分、（Ａ）成分である化合物の１００質量部に基づいて１００質量部乃至２０００質量部の（Ｂ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、５０質量部乃至１５００質量部の（Ｃ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、１０質量部乃至５００質量部の（Ｄ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、１質量部乃至１５０質量部の（Ｅ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、０．０１質量部乃至１００質量部の（Ｆ）成分、および溶剤を含有する硬化膜形成組成物。
　［２］：（Ａ）成分、（Ａ）成分である化合物の１００質量部に基づいて１００質量部乃至２０００質量部の（Ｂ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、１００質量部乃至１０００質量部の（Ｃ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、２０質量部乃至３００質量部の（Ｄ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、１質量部乃至１５０質量部の（Ｅ）成分、（Ａ）成分の１００質量部に基づいて、０．０１質量部乃至１００質量部の（Ｆ）成分、および溶剤を含有する硬化膜形成組成物。
　本発明の硬化膜形成組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。
　本発明の硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、１質量％乃至８０質量％であり、好ましくは２質量％乃至６０質量％であり、より好ましくは３質量％乃至４０質量％である。ここで、固形分とは、硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。
　本発明の硬化膜形成組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、溶剤に溶解した（Ｂ）成分の溶液に（Ａ）成分、さらに所望により（Ｃ）成分、さらには（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、又は、この調製法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。
　本発明の硬化膜形成組成物の調製においては、前述したように、溶剤中の重合反応によって得られる特定共重合体２（（Ｃ）成分）や特定共重合体３（（Ｄ）成分）の溶液をそのまま使用することができる。この場合、例えば、前述のヒドロキシ基を有するモノマーと所望によりそれ以外のモノマーとを共重合させて得られる（Ｃ）成分の溶液に、前述の特定モノマーＸとヒドロキシ基を有するモノマーとを共重合させて得られる（Ｄ）成分の溶液、更に（Ａ）成分、（Ｂ）成分、さらには、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分等を加えて均一な溶液とする。この際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の製造過程で用いられる溶剤と、硬化膜形成組成物の濃度調整に用いられる溶剤とは同一であってもよく、また異なってもよい。
　また、調製された硬化膜形成組成物の溶液は、孔径が０．２μｍ程度のフィルターなどを用いて濾過した後、硬化膜の形成に使用することが好ましい。
＜光学フィルム＞本発明の硬化膜形成組成物は、光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成するのに好適に用いることができる。
　本発明の光学フィルムは、好ましくは前述の硬化膜形成組成物の溶液をアクリルフィルム基材上に、バーコート、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレート又はオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することにより得られる。
　上記アクリルフィルムとしてはメタクリル酸アルキルエステル及び／又はアクリル酸アルキルエステルを主成分とした共重合体等からなるフィルムを適宜使用できる。なお基材として使用するアクリルフィルムは、その膜厚が２０乃至１００μｍであることが好ましい。
　加熱乾燥の条件としては、液晶配向膜として硬化膜を使用する際、該液晶配向膜の成分が、その上に塗布される重合性液晶溶液に溶出しない程度に硬化反応が進行すればよく、例えば、温度５０℃乃至９９℃、時間０．４分間乃至６０分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度及び加熱時間が採用される。加熱温度及び加熱時間は、好ましくは６０℃乃至９５℃、０．５分間乃至１０分間である。
　本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜の膜厚は、例えば、０．０５μｍ乃至５μｍであり、基材として使用するアクリルフィルムの段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。
　このようにして作製された本発明の光学フィルムは、偏光ＵＶ照射を行うことで、基材上に形成された硬化膜を液晶配向膜として、すなわち、重合性液晶等を含む液晶性を有する化合物を配向させる部材として機能させることができ、該光学フィルムを配向材として使用することができる。
　偏光ＵＶの照射方法としては、通常１５０ｎｍ乃至４５０ｎｍの波長の紫外光～可視光が用いられ、室温又は加熱した状態で、垂直又は斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。
　本発明の配向材において、液晶配向膜となる硬化膜は耐溶剤性及び耐熱性を有しているため、この配向材上に、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、その液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、所望とする配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、光学異方性を有する層を持つ位相差材を形成することができる。
　位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマー及びそれを含有する組成物等が用いられる。そして、本発明においては配向材における基材がアクリルフィルムであることから、本発明の位相差材は、位相差フィルムとして有用となる。このような位相差材を形成する位相差材料は、液晶状態となって、配向材上で、水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向状態をとるものがあり、それぞれ必要とされる位相差特性に応じて使い分けることができる。
　また、３Ｄディスプレイに用いられるパターン化位相差材を製造する場合には、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜に、ラインアンドスペースパターンのマスクを介して所定の基準から、例えば、＋４５度の向きで偏光ＵＶ露光し、次いで、マスクを外してから－４５度の向きで偏光ＵＶをより少ない露光量で露光する。これにより、該フィルム表面の硬化膜を液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された液晶配向膜とし、該光学フィルムを配向材とすることができる。その後、重合性液晶溶液からなる位相差材料を配向材上に塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とする。液晶状態となった重合性液晶は、２種類の液晶配向領域が形成された配向材上で配向し、各液晶配向領域にそれぞれ対応する配向状態を形成する。そして、そのような配向状態が実現された位相差材料をそのまま硬化させ、上述の配向状態を固定化し、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置された、パターン化位相差材を得ることができる。
　本発明の光学フィルムは、液晶表示素子の液晶配向膜としての利用も可能である。例えば、上記のようにして形成された、本実施形態の光学フィルムを用い、スペーサを介して両光学フィルムにおける配向材が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基材の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子を製造することができる。
　そのため、本発明の光学フィルムは、各種位相差材（位相差フィルム）や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
　以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。
［実施例で用いる略記号］
　以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
＜原料＞
ＢＭＡＡ：Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド
ＨＥＭＡ：２－ヒドロキシエチルメタクリレート
ＧＬＭ：グリセリンモノメタクリレート
ＣＨＤＭＭＡ：１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート
４ＨＢＡ：４－ヒドロキシブチルアクリレート
ＭＭＡ：メチルメタクリレート（特定モノマーＸに該当）
＜重合開始剤＞
ＡＩＢＮ：α，α’－アゾビスイソブチロニトリル
ＭＡＩＢ：２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル
＜Ａ成分：光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物＞
Ｍ６ＣＡ：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
６ＣＡＭ：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
＜Ｂ成分：Ｎ－ヒドロキシメチル基またはＮ－アルコキシメチル基を有する架橋剤＞
ＨＭＭ：ヘキサメトキシメチルメラミン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
＜Ｅ成分：重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物＞
ＣＨＤＭＭＡ：１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート
４ＨＢＡ：４－ヒドロキシブチルアクリレート
ＨＥＭＡ：２－ヒドロキシエチルメタクリレート
ＧＬＭ：グリセリンモノメタクリレート
Ｍ－９２６：アロニックス（登録商標）Ｍ－９２６（東亞合成（株）製）
ＭＴ－２５１８：アロニックス（登録商標）ＭＴ－２５１８（東亞合成（株）製）
ＭＴ－２５１９：アロニックス（登録商標）ＭＴ－２５１９（東亞合成（株）製）
ＭＴ－３５４８：アロニックス（登録商標）ＭＴ－３５４８（東亞合成（株）製）
ＰＥＴ－３０：ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）
ＰＥ－９０：ブレンマー（登録商標）ＰＥ－９０（日油（株）製）
ＰＥ－２００：ブレンマー（登録商標）ＰＥ－２００（日油（株）製）
ＰＥ－３５０：ブレンマー（登録商標）ＰＥ－３５０（日油（株）製）
ＡＥ－２００：ブレンマー（登録商標）ＡＥ－２００（日油（株）製）
ＡＥ－４００：ブレンマー（登録商標）ＡＥ－４００（日油（株）製）
ＰＰ－５００：ブレンマー（登録商標）ＰＰ－５００（日油（株）製）
ＡＰ－４００：ブレンマー（登録商標）ＡＰ－４００（日油（株）製）
６ＨＨＡ：６－ヒドロキシヘキシルアクリレート
８ＨＯＡ：８－ヒドロキシオクチルアクリレート
１０ＨＤＡ：１０－ヒドロキシデシルアクリレート
１２ＨＤＤＡ：１２－ヒドロキシドデシルアクリレート
８ＨＯＭＡ：８－ヒドロキシオクチルメタクリレート
１０ＨＤＭＡ：１０－ヒドロキシデシルメタクリレート
１２ＨＤＤＭＡ：１２－ヒドロキシドデシルメタクリレート
＜Ｆ成分：架橋触媒＞
ＣＳＡ：（±）－１０－カンファースルホン酸
＜その他の成分＞
ＰＥＰＯ：ポリライト（登録商標）８６５１（ＤＩＣ（株）製、ポリエステルポリオール）
Ｍ１００：サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（（株）ダイセル製、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート）
ＣＨＡ：シクロヘキサノール
＜溶剤＞
ＰＭ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＩＰＭ：ネオエタノール（登録商標）ＩＰＭ（大伸化学（株）製）
ＥＡ：酢酸エチル
ＣＰＮ：シクロペンタノン
＜重量平均分子量の測定＞
装置：東ソー（株）製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８３２０）
カラム：東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）α－４０００及びＴＳＫｇｅｌ（登録商標）α－３０００
カラムオーブン：４０℃
流量：１ｍｌ／分
溶離液：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
標準資料：ポリスチレン
＜Ｂ成分の合成＞
＜合成例１＞
　ＢＭＡＡ（１４５．５ｇ，９２６ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＡＩＢＮ（４．６ｇ，２８ｍｍｏｌ）をＰＭ（１５０．１ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（２００．１ｇ）を８０℃に保持したフラスコ中に３０分かけて滴下した。滴下終了後、５時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｂ－１）（固形分濃度３０質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは２３，０００であった。
＜Ｃ成分の合成＞
＜合成例２＞
　ＨＥＭＡ（１２５．０ｇ，９６１ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＡＩＢＮ（４．７ｇ，２９ｍｍｏｌ）をＰＭ（１９４．６ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（１７６．６ｇ）を８０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｃ－１）（固形分濃度２６質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは６３，４００であった。
＜合成例３＞
　ＧＬＭ（９６．０ｇ，５９９ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＭＡＩＢ（４．１ｇ，１８ｍｍｏｌ）をＰＭ（１５０．２ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（２５０．４ｇ）を８０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｃ－２）（固形分濃度２０質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは５１，３００であった。
＜合成例４＞
　ＣＨＤＭＭＡ（１９８．０ｇ，９９９ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＭＡＩＢ（１．８ｇ，７．８ｍｍｏｌ）をＰＭ（１３３．２ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（１６６．５ｇ）を７０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｃ－３）（固形分濃度４０質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは３３，９０５であった。
＜合成例５＞
　４ＨＢＡ（１９７．０ｇ，１．３７ｍｏｌ）及び重合触媒としてＭＡＩＢ（３．１ｇ，１３ｍｍｏｌ）をＰＭ（１３３．４ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（１６６．８ｇ）を７０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｃ－４）（固形分濃度４０質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは２２，７００であった。
＜合成例６＞
　４ＨＢＡ（２４８．０ｇ，１．７２ｍｏｌ）、α－チオグリセロール（１．９ｇ，１８ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＭＡＩＢ（０．２０ｇ，０．８７ｍｍｏｌ）をＰＭ（１６６．７ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（８３．４ｇ）を７０℃に保持したフラスコ中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｃ－５）（固形分濃度５０質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは２４，０００であった。
＜合成例７（比較合成例）＞
　ＭＭＡ（９３．５ｇ，９３４ｍｍｏｌ）及び重合触媒としてＭＡＩＢ（６．５ｇ，２８ｍｍｏｌ）をＰＭ（１５０．０ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（２４９．９ｇ）を８０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｃ’－１）（固形分濃度２０質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは９，１００であった。
＜Ｄ成分の合成＞
＜合成例８＞
　ＭＭＡ（８４．４ｇ，８４３ｍｍｏｌ）、４ＨＢＡ（１３．５ｇ，９３．６ｍｍｏｌ）、及び重合触媒としてＭＡＩＢ（２．２ｇ，９．６ｍｍｏｌ）をＰＭ（１５０．１ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（２５０．２ｇ）を７０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル共重合体の溶液（Ｄ－１）（固形分濃度２０質量％）を得た。得られたアクリル共重合体の重量平均分子量Ｍｗは３８，９００であった。
＜合成例９＞
　ＭＭＡ（１００．０ｇ，９９９ｍｍｏｌ）、ＨＥＭＡ（１１．１ｇ，８５．３ｍｍｏｌ）、及び重合触媒としてＡＩＢＮ（１．１ｇ，６．７ｍｍｏｌ）をＰＭ（４５０．０ｇ）に溶解させた後、８０℃にて２０時間反応させることにより、アクリル重合体の溶液（Ｄ－２）（固形分濃度２０質量％）を得た。得られたアクリル重合体の重量平均分子量Ｍｗは２９，９００であった。
＜合成例１０（比較合成例）＞
　ＧＬＭ（６９．０ｇ，４３１ｍｍｏｌ）、４ＨＢＡ（２６．６ｇ，１８４ｍｍｏｌ）、及び重合触媒としてＭＡＩＢ（４．３ｇ，１９ｍｍｏｌ）をＰＭ（１４９．８ｇ）に溶解させた後、この溶液を、ＰＭ（２４９．７ｇ）を８０℃に保持したフラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、１８時間反応させることにより、アクリル共重合体の溶液（Ｄ’－１）（固形分濃度２０質量％）を得た。得られたアクリル共重合体の重量平均分子量Ｍｗは３２，０００であった。
＜実施例１＞
　（Ａ）成分としてＭ６ＣＡ（３２質量部）、（Ｂ）成分として合成例１で得られたアクリル重合体（Ｂ－１）（１４８質量部）、（Ｃ）成分として合成例２で得られたアクリル重合体（Ｃ－１）（１００質量部）、（Ｄ）成分として合成例８で得られたアクリル共重合体（Ｄ－１）（３２質量部）、（Ｅ）成分としてＣＨＤＭＭＡ（１０質量部）、並びに（Ｆ）成分としてＣＳＡ（１６質量部）を混合し、これに溶剤組成がＰＭ：ＩＰＭ＝９０：１０（質量比）となるようにＰＭ及びＩＰＭを加え、溶解させ溶液とした。その後、孔径０．２μｍのフィルターでろ過することにより、固形分濃度が８．１質量％の硬化膜形成組成物（Ａ－１）を調製した。
＜実施例２乃至２７、比較例１乃至１０＞
　各成分の種類と量を、それぞれ表１に記載の通りとしたほかは、実施例１と同様に実施し、硬化膜形成組成物Ａ－２乃至Ａ－３７を、それぞれ調整した。
＜水平配向用重合性液晶溶液の作製＞
　水平配向用重合性液晶であるＰａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ－２４２（ＢＡＳＦジャパン（株）製）（１９．３ｇ）、光ラジカル開始剤としてＯｍｎｉｒａｄ（登録商標）９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）（０．６ｇ）、レベリング剤としてＢＹＫ（登録商標）－３６１Ｎ（ビック・ケミージャパン（株）製）（０．１ｇ）を加え、さらに溶剤としてＣＰＮ（８０ｇ）を加え、２時間撹拌し目視で溶解していることを確認し、２０質量％の重合性液晶溶液を得た。
［配向性の評価］
　実施例１乃至実施例２７及び比較例１乃至比較例１０で調製した硬化膜形成組成物をそれぞれ、基板としてのアクリルフィルム上にバーコーターを用いてＷｅｔ膜厚６μｍにて塗布した。熱風循環式オーブン内にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行った後、波長３１３ｎｍの直線偏光を２０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射することで硬化膜を形成した。上記水平配向用重合性液晶溶液を、バーコーターを用いて上記硬化膜上にＷｅｔ膜厚８μｍにて塗布した。次いで、熱風循環式オーブン内にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行った後、波長３６５ｎｍの非偏光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射することで重合性液晶を硬化させ、位相差フィルムを作製した。これらの位相差フィルムを一対の偏光板で挟み込み、目視によりクロスニコル下での位相差特性の発現状況を観察し、位相差が欠陥なく発現しているものを「○」、位相差が発現していないものを「×」と定義して「配向性」の欄に記載した。評価結果を表２に示す。
［密着性の評価］
　実施例１乃至実施例２７及び比較例１乃至比較例１０で調製した硬化膜形成組成物をそれぞれ、基板としてのアクリルフィルム上にバーコーターを用いてＷｅｔ膜厚６μｍにて塗布した。熱風循環式オーブン内にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行った後、波長３１３ｎｍの直線偏光を２０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射することで硬化膜を形成した。上記水平配向用重合性液晶溶液を、バーコーターを用いて上記硬化膜上にＷｅｔ膜厚８μｍにて塗布した。次いで、熱風循環式オーブン内にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行った後、波長３６５ｎｍの非偏光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射することで重合性液晶を硬化させ、位相差フィルムを作製した。これらの位相差フィルムの表面（重合性液晶の層が形成された表面）にカッターナイフを用いてクロスカット（１ｍｍ×１ｍｍ×１００マス）を入れ、その後、セロハンテープ（セロテープ（登録商標）　ニチバン（株）製）を貼り付けた。次いで、そのセロハンテープを剥がした時に、重合した重合性液晶の層が下層の硬化膜並びに更に下層のフィルム基材上で剥がれず残っているマス目の個数をカウントした。評価結果は「密着性」の欄に、重合液晶の層が１００マス全て剥がれず残っているものを密着性が良好であると判断し「○」で示し、剥がれず残っているマス目が９０個以上残っているものを密着性が概ね良好であると判断し「△」で示し、剥がれず残っているマス目が９０個未満の場合を密着性が不良であると判断し「×」で示した。得られた結果を表２にまとめて示す。
　表２の結果から明らかなように、実施例１乃至２７で得られた位相差フィルムはいずれも良好な配向性及び密着性を示した。
　それに対して、比較例１乃至比較例２、比較例４乃至比較例５、及び比較例９乃至比較例１０では十分な配向性が得られず、比較例１乃至比較例比較例４及び比較例６乃至比較例８では十分な密着性が得られなかった。
　本発明の硬化膜形成組成物により得られる硬化膜を形成したフィルムは、液晶表示素子の液晶配向材や、液晶表示素子に内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材として非常に有用であり、特に、３Ｄディスプレイのパターン化位相差材の形成材料として好適である。さらに、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示素子や有機ＥＬ素子などの各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜及び絶縁膜などの硬化膜を形成する材料、特に、ＴＦＴ型液晶素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜又は有機ＥＬ素子の絶縁膜などを形成する材料としても好適である。

Claims (9)

  1. 　（Ａ）光配向性基及び熱架橋性基を有する低分子化合物、
    　（Ｂ）Ｎ－ヒドロキシメチル基またはＮ－アルコキシメチル基を有する架橋剤、
    　（Ｃ）ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の６０モル％以上有するポリマー、
    （Ｄ）下記式（Ｘ）で表される繰り返し単位を全繰り返し単位の４５モル％以上有するとともに、ヒドロキシ基を有する繰り返し単位を有するポリマー、
    （Ｅ）重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物、及び
    （Ｆ）架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物。
    （上記式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至５の直鎖又は分岐状のアルキル基を表す。）
  2. 　（Ａ）成分の光配向性基が光二量化又は光異性化する構造を有する官能基である、請求項１に記載の硬化膜形成組成物。
  3. 　（Ａ）成分の光配向性基がシンナモイル基である、請求項１に記載の硬化膜形成組成物。
  4. 　（Ａ）成分の光配向性基がアゾベンゼン構造を有する基である、請求項１に記載の硬化膜形成組成物。
  5. 　（Ｂ）成分である架橋剤がＮ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ－アルコキシメチル（メタ）アクリルアミド化合物から選ばれるモノマーを重合したポリマーである、請求項１に記載の硬化膜形成組成物。
  6. 　請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜。
  7. 　請求項６に記載の硬化膜を有する光学フィルム。
  8. 　請求項６に記載の硬化膜を使用して形成される配向材。
  9. 　請求項６に記載の硬化膜を使用して形成される位相差材。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025088969A1 (ja) * 2023-10-27 2025-05-01 日産化学株式会社 硬化膜形成用組成物、硬化膜、配向材および位相差材
CN119955369A (zh) * 2025-01-24 2025-05-09 深圳市化讯半导体材料有限公司 一种Micro-LED激光巨量转移释放材料及其制备方法和应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013054784A1 (ja) * 2011-10-11 2013-04-18 日産化学工業株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
WO2014010688A1 (ja) * 2012-07-12 2014-01-16 日産化学工業株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
WO2014065324A1 (ja) * 2012-10-24 2014-05-01 日産化学工業株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
WO2014073658A1 (ja) * 2012-11-08 2014-05-15 日産化学工業株式会社 硬化膜を形成したフィルム、配向材および位相差材
WO2019189193A1 (ja) * 2018-03-27 2019-10-03 日産化学株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013054784A1 (ja) * 2011-10-11 2013-04-18 日産化学工業株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
WO2014010688A1 (ja) * 2012-07-12 2014-01-16 日産化学工業株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
WO2014065324A1 (ja) * 2012-10-24 2014-05-01 日産化学工業株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
WO2014073658A1 (ja) * 2012-11-08 2014-05-15 日産化学工業株式会社 硬化膜を形成したフィルム、配向材および位相差材
WO2019189193A1 (ja) * 2018-03-27 2019-10-03 日産化学株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025088969A1 (ja) * 2023-10-27 2025-05-01 日産化学株式会社 硬化膜形成用組成物、硬化膜、配向材および位相差材
CN119955369A (zh) * 2025-01-24 2025-05-09 深圳市化讯半导体材料有限公司 一种Micro-LED激光巨量转移释放材料及其制备方法和应用

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