[go: up one dir, main page]

WO2009028453A1 - 薄膜トランジスタ - Google Patents

薄膜トランジスタ Download PDF

Info

Publication number
WO2009028453A1
WO2009028453A1 PCT/JP2008/065099 JP2008065099W WO2009028453A1 WO 2009028453 A1 WO2009028453 A1 WO 2009028453A1 JP 2008065099 W JP2008065099 W JP 2008065099W WO 2009028453 A1 WO2009028453 A1 WO 2009028453A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
thin film
film transistor
layer composed
active layer
tft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2008/065099
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Katsura Hirai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2009530106A priority Critical patent/JPWO2009028453A1/ja
Publication of WO2009028453A1 publication Critical patent/WO2009028453A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • H10D30/67Thin-film transistors [TFT]
    • H10D30/674Thin-film transistors [TFT] characterised by the active materials
    • H10D30/6755Oxide semiconductors, e.g. zinc oxide, copper aluminium oxide or cadmium stannate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • H10D30/67Thin-film transistors [TFT]
    • H10D30/6757Thin-film transistors [TFT] characterised by the structure of the channel, e.g. transverse or longitudinal shape or doping profile
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/466Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/484Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions
    • H10K10/486Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions the channel region comprising two or more active layers, e.g. forming pn heterojunctions

Landscapes

  • Thin Film Transistor (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

 本発明は、薄膜トランジスタ(TFT)素子の安定化、即ち、移動度の向上、off電流の低下を果たしたon/off比の高い薄膜トランジスタを提供し、また、生産効率が向上した薄膜トランジスタを提供する。本発明の薄膜トランジスタは、金属酸化物半導体からなる第1の活性層と、有機半導体からなる第2の活性層を有し、第1と第2の活性層が積層した構成を有することを特徴とする。
PCT/JP2008/065099 2007-08-31 2008-08-25 薄膜トランジスタ Ceased WO2009028453A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009530106A JPWO2009028453A1 (ja) 2007-08-31 2008-08-25 薄膜トランジスタ

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007225516 2007-08-31
JP2007-225516 2007-08-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2009028453A1 true WO2009028453A1 (ja) 2009-03-05

Family

ID=40387173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2008/065099 Ceased WO2009028453A1 (ja) 2007-08-31 2008-08-25 薄膜トランジスタ

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2009028453A1 (ja)
WO (1) WO2009028453A1 (ja)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102290440A (zh) * 2010-06-21 2011-12-21 财团法人工业技术研究院 晶体管及其制造方法
CN103268918A (zh) * 2012-06-29 2013-08-28 上海天马微电子有限公司 双极性薄膜晶体管及其制造方法
JP2014517524A (ja) * 2011-06-01 2014-07-17 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ハイブリッド両極性tft
JP2014154734A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Kochi Univ Of Technology オゾン支援による高品質均質金属酸化物薄膜作製技術、及び、該薄膜作製技術による酸化物薄膜トランジスタ、及び、その製造方法
US8928046B2 (en) 2010-04-16 2015-01-06 Industrial Technology Research Institute Transistor and method of fabricating the same
KR101509115B1 (ko) 2011-03-09 2015-04-07 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터의 반도체층용 산화물, 상기 산화물을 구비한 박막 트랜지스터의 반도체층 및 박막 트랜지스터
US9142682B2 (en) 2012-09-05 2015-09-22 Samsung Display Co., Ltd. Thin film transistor and manufacturing method thereof
WO2017110953A1 (ja) * 2015-12-24 2017-06-29 株式会社Flosfia 成膜方法
JP2017157856A (ja) * 2011-07-08 2017-09-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP2018136552A (ja) * 2012-08-28 2018-08-30 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
JP2018139316A (ja) * 2012-11-28 2018-09-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP2019087766A (ja) * 2009-03-06 2019-06-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP2020102636A (ja) * 2009-07-17 2020-07-02 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
WO2020162130A1 (ja) * 2019-02-04 2020-08-13 富士フイルム株式会社 有機半導体膜の成膜方法
JP2024147583A (ja) * 2010-04-28 2024-10-16 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08228034A (ja) * 1994-12-09 1996-09-03 At & T Corp 有機薄膜トランジスタ装置
JPH09199732A (ja) * 1996-01-16 1997-07-31 Lucent Technol Inc トランジスタからなる製品
JP2002319682A (ja) * 2002-01-04 2002-10-31 Japan Science & Technology Corp トランジスタ及び半導体装置
WO2003016599A1 (en) * 2001-08-09 2003-02-27 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Organic semiconductor element
JP2004006686A (ja) * 2002-03-26 2004-01-08 Sanyo Electric Co Ltd ZnO半導体層の形成方法、半導体素子の製造方法及び半導体素子
JP2004256532A (ja) * 2003-02-05 2004-09-16 Asahi Kasei Corp ポリアセン化合物及びその合成方法
JP2004327857A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Pioneer Electronic Corp 有機トランジスタの製造方法および有機トランジスタ
JP2005032774A (ja) * 2003-07-07 2005-02-03 Seiko Epson Corp 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法
JP2005158765A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Canon Inc 電界効果型有機トランジスタおよびその製造方法
JP2006080172A (ja) * 2004-09-08 2006-03-23 Casio Comput Co Ltd 酸化亜鉛膜のパターニング方法
JP2006269469A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
WO2008099863A1 (ja) * 2007-02-16 2008-08-21 Idemitsu Kosan Co., Ltd. 半導体,半導体装置及び相補型トランジスタ回路装置

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08228034A (ja) * 1994-12-09 1996-09-03 At & T Corp 有機薄膜トランジスタ装置
JPH09199732A (ja) * 1996-01-16 1997-07-31 Lucent Technol Inc トランジスタからなる製品
WO2003016599A1 (en) * 2001-08-09 2003-02-27 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Organic semiconductor element
JP2002319682A (ja) * 2002-01-04 2002-10-31 Japan Science & Technology Corp トランジスタ及び半導体装置
JP2004006686A (ja) * 2002-03-26 2004-01-08 Sanyo Electric Co Ltd ZnO半導体層の形成方法、半導体素子の製造方法及び半導体素子
JP2004256532A (ja) * 2003-02-05 2004-09-16 Asahi Kasei Corp ポリアセン化合物及びその合成方法
JP2004327857A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Pioneer Electronic Corp 有機トランジスタの製造方法および有機トランジスタ
JP2005032774A (ja) * 2003-07-07 2005-02-03 Seiko Epson Corp 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法
JP2005158765A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Canon Inc 電界効果型有機トランジスタおよびその製造方法
JP2006080172A (ja) * 2004-09-08 2006-03-23 Casio Comput Co Ltd 酸化亜鉛膜のパターニング方法
JP2006269469A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
WO2008099863A1 (ja) * 2007-02-16 2008-08-21 Idemitsu Kosan Co., Ltd. 半導体,半導体装置及び相補型トランジスタ回路装置

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019087766A (ja) * 2009-03-06 2019-06-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
US11715801B2 (en) 2009-03-06 2023-08-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
US11309430B2 (en) 2009-03-06 2022-04-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
US10700213B2 (en) 2009-03-06 2020-06-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
JP2020102636A (ja) * 2009-07-17 2020-07-02 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
US8928046B2 (en) 2010-04-16 2015-01-06 Industrial Technology Research Institute Transistor and method of fabricating the same
JP2024147583A (ja) * 2010-04-28 2024-10-16 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置
CN102290440A (zh) * 2010-06-21 2011-12-21 财团法人工业技术研究院 晶体管及其制造方法
KR101509115B1 (ko) 2011-03-09 2015-04-07 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터의 반도체층용 산화물, 상기 산화물을 구비한 박막 트랜지스터의 반도체층 및 박막 트랜지스터
JP2014517524A (ja) * 2011-06-01 2014-07-17 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ハイブリッド両極性tft
US11011652B2 (en) 2011-07-08 2021-05-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US11588058B2 (en) 2011-07-08 2023-02-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US10658522B2 (en) 2011-07-08 2020-05-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US10043918B2 (en) 2011-07-08 2018-08-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2017157856A (ja) * 2011-07-08 2017-09-07 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
US12132121B2 (en) 2011-07-08 2024-10-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
CN103268918A (zh) * 2012-06-29 2013-08-28 上海天马微电子有限公司 双极性薄膜晶体管及其制造方法
JP2018136552A (ja) * 2012-08-28 2018-08-30 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
US10317736B2 (en) 2012-08-28 2019-06-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and electronic device
US9142682B2 (en) 2012-09-05 2015-09-22 Samsung Display Co., Ltd. Thin film transistor and manufacturing method thereof
JP2018139316A (ja) * 2012-11-28 2018-09-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
JP2014154734A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Kochi Univ Of Technology オゾン支援による高品質均質金属酸化物薄膜作製技術、及び、該薄膜作製技術による酸化物薄膜トランジスタ、及び、その製造方法
WO2017110953A1 (ja) * 2015-12-24 2017-06-29 株式会社Flosfia 成膜方法
JP7223041B2 (ja) 2019-02-04 2023-02-15 富士フイルム株式会社 有機半導体膜の成膜方法
JPWO2020162130A1 (ja) * 2019-02-04 2021-12-23 富士フイルム株式会社 有機半導体膜の成膜方法
WO2020162130A1 (ja) * 2019-02-04 2020-08-13 富士フイルム株式会社 有機半導体膜の成膜方法
US12207536B2 (en) 2019-02-04 2025-01-21 Fujifilm Corporation Film forming method for organic semiconductor film

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2009028453A1 (ja) 2010-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009028453A1 (ja) 薄膜トランジスタ
TWI373142B (en) Manufacturing method of thin film transistor using oxide semiconductor
WO2006051993A3 (en) Amorphous oxide and field effect transistor
WO2008132862A1 (ja) 半導体装置およびその製造方法
SG139657A1 (en) Structure and method to implement dual stressor layers with improved silicide control
WO2009044614A1 (ja) 有機半導体装置
EP4546976A3 (en) Semiconductor device and manufacturing method for same
EP1995787A3 (en) Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method therof
JP2010153828A5 (ja) 半導体装置
WO2006051994A3 (en) Light-emitting device
WO2008126449A1 (ja) 複合型有機発光トランジスタ素子およびその製造方法
WO2008123088A1 (ja) 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに表示装置
WO2009072421A1 (ja) Cmos半導体装置およびその製造方法
WO2008099528A1 (ja) 表示装置、表示装置の製造方法
WO2009057655A1 (ja) 半導体発光素子およびその製造方法
TW200625649A (en) Thin-film transistor and methods
WO2008142873A1 (ja) 半導体装置及びその製造方法
WO2008156294A3 (en) Semiconductor light emitting device and method of fabricating the same
WO2009082121A3 (en) Semiconductor light emitting device and method of fabricating the same
TW200742141A (en) Organic transistor and method for manufacturing the same
TW200727492A (en) Organic thin film transistor array panel
WO2009028235A1 (ja) 回路基板及び表示装置
TW200707750A (en) Flat panel display and manufacturing method of flat panel display
TW200802883A (en) Tunneling-effect thin film transistor, method of manufacturing the same, and organic light-emitting diode display using the same
WO2009057665A1 (ja) 薄膜能動素子群、薄膜能動素子アレイ、有機発光装置、表示装置および薄膜能動素子群の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08792707

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2009530106

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08792707

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1