TWI411563B

TWI411563B - 光罩盒

Info

Publication number: TWI411563B
Application number: TW099126918A
Authority: TW
Inventors: 邱銘乾; 呂保儀; 林志銘; 古震維
Original assignee: 家登精密工業股份有限公司
Priority date: 2009-09-25
Filing date: 2010-08-12
Publication date: 2013-10-11
Also published as: US8403143B2; TW201111244A; US20120037522A1

Description

光罩盒

本發明係有關於一種光罩盒，特別是有關於一種用以極紫外光微影製程中之光罩盒。

近代半導體科技發展迅速，其中光學微影技術(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是關於圖形(pattern)定義，皆需仰賴光學微影技術。光學微影技術在半導體的應用上，是將設計好的線路製作成具有特定形狀可透光之光罩(photo mask)。利用曝光原理，則光源通過光罩投影至矽晶圓(silicon wafer)可曝光顯示特定圖案。由於任何附著於光罩上的塵埃顆粒(如微粒、粉塵或有機物)都會造成投影成像的品質劣化，用於產生圖形的光罩必須保持絕對潔淨，因此在一般的晶圓製程中，都提供無塵室(clean room)的環境以避免空氣中的顆粒污染。然而，目前的無塵室也無法達到絕對無塵狀態。現代的半導體製程皆利用抗污染的光罩盒(reticle pod)進行光罩的保存與運輸，以使光罩保持潔淨。

而近年來為了生產更小的晶片，微影設備已開始使用波長為157nm的極紫外光(extreme ultraviolet light,EUV)，以便使光罩上的圖形(pattern)複製於晶圓表面時能達到更小的解析度。然而，使用深紫外光時，相對地，對於光罩盒的潔淨要求更加提高。以往光罩盒內的微粒(particle)若小於30微米，係可接受的，但用於極紫外光的光罩盒則必須要將微粒(particle)大小控制在30~50奈米以內。

接著，請參考第1圖，係習知一種用於極紫外光微影製程中之運送盒。運送盒80內配置有至少一光罩盒81，光罩盒81充填著潔淨氣體且容納有一光罩R。此外，在運送盒80中具有一熱泳源(thermophoretic source,82)，例如：乾冰，使得光罩盒81接近熱泳源82的那一面81A溫度較低，而驅使光罩盒81內的微粒移動或聚集到接近熱泳源的那一面81A，以避免微粒貼附到光罩R表面上。上述運送盒80似乎可以達到控制微粒的效果，但利用熱泳源82促使微粒遠離光罩R，若微粒原本係位於光罩R上方，則會造成微粒附著到光罩R上。因此，目前極需要一種用於極紫外光微影製程中之光罩運送盒。

依據先前技術之光罩運送盒其微粒控制不佳且需額外提供一熱泳源等問題，本發明之一主要目的在於提供一種光罩盒，此光罩盒不需使用熱泳源即可有效降低光罩盒內的微粒大小，適合運送用於紫外光微影製程中之光罩。

依據上述之目的，本發明首先提供一種光罩盒，包括一外盒、一內盒及一充氣閥。外盒包括一盒體及一底板以形成一第一容置空間，而在底板上設有至少一第一貫通孔。內盒，係配置於外盒之第一容置空間內，其包括一上蓋及一底座以形成一第二容置空間以容納一光罩，且在底座上設有至少一與第一貫通孔相通之第二貫通孔。充氣閥，係配置於底板之第一貫通孔中，其中充氣閥包括一彈簧及一閥件，使閥件在一充氣裝置往上的抵持下，閥件係壓縮彈簧並使充氣閥與充氣裝置相通。

本發明之光罩盒，除了可藉由一充氣裝置將潔淨空氣導入光罩盒內外，亦可藉由一抽真空裝置，將光罩盒內的氣體抽出，這兩種方式都可以有效地將光罩盒內的微粒降低。

為使本發明所運用之技術內容、發明目的及其達成之功效有更完整且清楚的揭露，茲於下詳細說明之，並請一併參閱所揭之圖示及圖號：首先，請參閱第2圖，係本發明之一種光罩盒之示意圖。光罩盒係包括一外盒、一內盒及一充氣閥50。外盒包括一盒體10及一底板20以形成一容納內盒之第一容置空間。內盒係由一上蓋30及一底座40組成，上蓋30與底座40形成一第二容置空間，以容納一光罩R。而前述底板20上設有至少一第一貫通孔24，且底座40設有至少一與第一貫通孔24相通之第二貫通孔44，在底板20的第一貫通孔24中配置有充氣閥50，可供一充氣裝置經第一貫通孔24及第二貫通孔44對光罩盒其內盒進行充氣，且在第一貫通孔24與第二貫通孔44接觸處具有一緩衝材(未顯示於圖中)，以增加氣密效果。上述盒體10、底板20、上蓋30及底座40可以使用金屬材質，以提供靜電遮蔽的效果並減少揮發性氣體或微粒粉塵的產生。

第3圖，係本發明之光罩盒其盒體10內部之示意圖。第4圖，係本發明之光罩盒其上蓋30之上視圖。第5圖，係本發明之光罩盒其上蓋30內部之示意圖。由第3圖可知，盒體10係由四個側壁11及在四個側壁11一端之封閉頂部12所組成，而在四個側壁11另一端係先向外延伸出一底板接受部13後，再形成一開口14。底板接受部13具有一平台131，可供底板20抵靠，而在接近開口14的側壁上設有複數個凹槽132，可供底板20之鎖固裝置(未顯示於圖中)嵌入。此外，在頂部12的內表面上配置有與內表面相隔一距離的固定肋15，在固定肋15上接近盒體10四個角落處則進一步各配置有一頂持件16。頂持件16具有一勾狀的頂持部，可抵壓上蓋30的四個角落30C(第2圖及第4圖)，以固定內盒於盒體10與底板20形成的第一容置空間內。

而如第4圖及第5圖，上蓋30具有一上表面301，且兩側進一步延伸有突把31，以供機器手臂提起。而上表面301垂直往下延伸有側壁302，側壁302之間係具有一容置空間；當上蓋30與底座40形成一體時，便可形成前述之第二容置空間。此外，在上表面301上接近四個邊緣的附近，係各配置有兩個上支撐件安裝部33，且在接近兩個突把31的上支撐件安裝部33之間各設有一通孔32。上支撐件安裝部33係一由上表面301往上蓋30的內部凹陷且形成一與上表面301夾角約45度的斜面。前述上支撐件安裝部33具有一安裝孔縫331，以供一上支撐件34背面的安裝肋341嵌入。而在上支撐件34的正面具有兩個突出肋342，以抵靠光罩的上陵線。上支撐件34可以係使用高分子聚合材料或高耐磨耗財的高分子聚合材料，例如：聚醚醚酮(PEEK)，以降低對光罩的摩擦，而上蓋30與上支撐件34可為同材料或不同材料，本發明並不加以限定。

如第6圖所示，上表面301的通孔32內部配置有一過濾片35，其係經由一固定件36而固設於通孔32中。固定件36與通孔32分別都具有卡準，因此，當固定件36往下抵壓過濾片35於通孔32上且旋轉一角度後，固定件36的卡準係處於通孔32周壁的卡準下緣，使固定件36與通孔32卡固成一體。

接著，請參閱第7圖，係本發明之光罩盒其底板20之示意圖。底板20具有一內表面21、一側表面22及一外表面23，底板20係利用內表面21與盒體10其底板接受部13之平台131接觸。而在底板20的內表面21與外表面23之間配置一鎖固裝置(未顯示於圖中)，鎖固裝置其匙孔係暴露於外表面23；因此，可經由一鑰匙嵌入匙孔及轉動下，使鎖固裝置伸出側表面22的開孔221並進入盒體10側壁上的凹槽132，使底板20與盒體10形成閉鎖狀態。而鎖固裝置亦可以係另一種設計：當一鑰匙嵌入匙孔及轉動下，鎖固裝置係從盒體10側壁上的凹槽132返回或縮回至底板20內部，使底板20與盒體10變成可開啟的狀態。此外，內表面21上設有三排彼此約夾角120度的定位裝置，每一排定位裝置包含兩個定位栓25，以固定內盒之底座40於底板20上。在一較佳的實施例中，定位栓25的個數為三的倍數(如：3、6、9...)，但本發明並不加以限制。而如前文所述，底板20係設有至少一第一貫通孔24；第一貫通孔24係導通底板20的內表面21與外表面23且其內配置有一充氣閥50。

接著，請參閱第8A圖及第8B圖，係本發明之光罩盒其底座40之下視圖及上視圖。底座40係具有一上表面41、一側表面42及一下表面43；如第8A圖，底座40的下表面43相對於底板20的定位栓25係設有定位槽45，可使底座40穩固地固定於底板20上，而定位槽45亦與定位栓25的個數同樣為三的倍數(如：3、6、9...)，但本發明並不加以限制。而底座40上相對於底板20的第一貫通孔24設有第二貫通孔44，第二貫通孔44係貫穿底座40的上表面41與下表面43。而在底座40的上表面41接近四個角落處各鎖固有一下支撐件46，每一下支撐件46具有兩個光罩支撐點461且在光罩支撐點461的外圍配置有一導引側壁462。光罩支撐點461是一半圓形的突點，可大幅降低與光罩接觸的面積。而導引側壁462係導引光罩至光罩支撐點461上方，且將光罩限制於導引側壁462之間。下支撐件46可以使用高分子聚合材料或高耐磨耗財的高分子聚合材料，例如：聚醚醚酮(PEEK)，以降低對光罩的摩擦，而底座40與下支撐件46可為同材料或不同材料，本發明並不加以限定。而在底座40的上表面41邊緣係設有一凹槽47，凹槽47可嵌入一氣密膠條48，氣密膠條48可與上蓋30的側壁302末端相接觸，以避免氣體從內盒內部經由上蓋30與底座40之間的空隙漏出。

其次，請參閱第9圖，係本發明之光罩盒其充氣閥之示意圖。充氣閥50係配置於底板20的第一貫通孔24中。第一貫通孔24由其內側壁向中央延伸有一接觸平台28，使接觸平台28之間形成一對外通道281。第一貫通孔24亦進一步向第一容置空間延伸有一突緣29。充氣閥50係包括一彈簧51、一閥件52及一彈性體53。閥件52包含一基座521及一由基座521的中心向下突起的筒狀部522；當閥件52置於第一貫通孔24時，筒狀部522係置於接觸平台28之間的對外通道281內，而基座521係抵靠著接觸平台28。而在閥件52的基座521上方進一步放置彈簧51後，藉由彈性體53與突緣29的卡扣，將閥件52、彈簧51固定於接觸平台28與彈性體53之間。

而在底座40的第二貫通孔44可進一步配置有一過濾片491。過濾片491的固定係類似上蓋30通孔32中的過濾片35；第二貫通孔44的周壁配置有卡準而一固定過濾片491用的固定件492亦具有卡準，固定件492的卡準係處於第二貫通孔44周壁的卡準上緣，使固定件492與第二貫通孔44卡固成一體。由於過濾片491固定於底座40的第二貫通孔44中，因此充氣裝置的氣體需經此過濾片491的過濾後才能進入光罩盒的內盒，使盒內的氣體更為潔淨。而在接觸平台28上可進一步設有一凹槽(未顯示於圖中)且凹槽內配置有一氣密環282，以避免光罩盒在未充氣時，內部氣體經由閥件52與接觸平台28之間的縫隙漏出。

而如第7圖及第10圖所示的，在底板20的內表面21往外表面23的方向延伸有一洩氣筒26，洩氣筒26內可進一步配置一洩氣閥27。洩氣閥27包括一過濾片上支撐件271、一過濾片272、一過濾片下支撐件273及一固定件274；過濾片上支撐件271、過濾片272及過濾片下支撐件273係依序放入洩氣筒26後，藉由固定件274固定於洩氣筒26中。上述過濾片上支撐件271、過濾片下支撐件273及一固定件274皆具有孔洞可供氣體通過，且洩氣筒26之一端係暴露於底板20的外表面23；因此，當光罩盒內部的氣體大於大氣壓力時，光罩盒內部的氣體可經由此洩氣裝置使多餘的氣體排出。

接著，請參閱第11圖，係本發明之光罩盒於充氣時之示意圖。當一充氣裝置之充氣筒P頂持充氣閥50的閥件52時，閥件52上方的彈簧51係處於壓縮狀態，且接觸平台28與閥件52之基座521產生一間隙；因此，充氣裝置之氣體可以經由第一貫通孔24及第二貫通孔44而進入第二容置空間102。充氣裝置提供的氣體係極潔淨乾燥氣體(Extremely Clean Dry Air,XCDA)或氮氣或鈍性氣體等，當氣體進入第二容置空間102時，可將原本充斥於此空間的氣體經由上蓋30的通孔32排出，使第二容置空間102處於一潔淨狀態。而隨著充氣裝置持續的充填氣體，會進一步將第一容置空間101也填滿潔淨乾燥氣體或氮氣或鈍性氣體，使原本在第一容置空間101中的氣體經由底板20的洩氣閥27排出。而且，由於洩氣閥27具有過濾片272，使得第一容置空間101中的氣體亦能維持在一定的潔淨狀態。

接著，請參考第12圖，係本發明之另一種光罩盒之示意圖。此光罩盒係包括一外盒、一內盒及一閥體50。本實施例之外盒與前實施例之外盒幾乎相同，都是包括一盒體10及一底板20且形成一容納內盒之第一容置空間101，不同的是在底板20上係不具有如第11圖之洩氣筒26及洩氣閥27。本實施例之內盒亦與前實施例之內盒幾乎相同，亦係由一上蓋30及一底座40組成，上蓋 30與底座40形成一第二容置空間102，以容納一光罩R。不同的是，在內盒的上蓋30係不具有如第6圖之通孔32、過濾片35及固定件36。本實施例之閥體50係與前實施例之充氣閥50相同，包含一彈性體53、一彈簧51及一閥件52，只是本實施例之閥體50係作為洩氣之用，而非充氣。

當一抽真空裝置之抽氣筒V頂持閥件52時，閥件52上方的彈簧51係處於壓縮狀態，且接觸平台28與閥件52之基座521產生一間隙；因此，抽真空裝置可進一步將第二容置空間102中的氣體抽出，使第二容置空間102處於一真空狀態，以避免原本在此空間中的微粒或汙染源貼附至光罩R上。而當第二容置空間102處於或接近真空狀態時，抽氣筒V便抽離閥體50，此時，彈簧51提供一彈力使閥件52之基座521抵壓接觸平台28，第二容置空間102便持續處於真空狀態。而由於接觸平台28係配置有一凹槽(未顯示於圖中)且凹槽內嵌有一氣密環282，因此，光罩盒外部的氣體亦無法藉由接觸平台28與閥件52之間的縫隙而進入第二容置空間102。

接著，請參閱第13圖，係本發明之光罩盒上的盒體與底板之第一密合部之一實施例之放大示意圖。如第13圖所示，盒體10為一體成型之結構，其中在環繞於盒體10四周之罩部(SHELL)的內側邊上形成一第一凸狀部61；而在底板20之四周的邊緣附近形成一第一凹狀部62且此第一凹狀部62係相對於盒體10之第一凸狀部61。當光罩盒之盒體10與底板20蓋合時，第一凸狀部61會與相對之第一凹狀部62相互結合。而在本實施例中，會於第一凹狀部62內配置一第一過濾材料63，當第一凸狀部61與第一凹狀部62相互結合時，第一凸狀部61會緊密地與第一凹狀部62中的第一過濾材料63接觸，以形成一密閉狀態，進而使得光罩盒之內部與外部之大氣隔離。特別要強調，在本發明之一較佳實施例中，此第一過濾材料63為一種多孔性之材質；例如：陶瓷材料(玻璃纖維，PTFE，或磁性纖維)所形成之多孔性之材質；然而，本發明對此第一過濾材料63之形式並不加以限制。

在本發明前述內容中，而光罩盒會因保存需求，將內部抽成真空之狀態，例如：將光罩盒之第二容置空間102抽真空至10^-1 torr時；因此，光罩盒之內部大氣壓力會遠比外部較小，致使外部之大氣會經由第一密合部60滲透進入光罩盒之內部，而可能破壞光罩盒之內部之潔淨度，造成光罩R之污染。然而，在本實施例中，當外部之大氣經由第一密合部60滲透進入光罩盒之內部時，即可藉由第一過濾材料63的配置，使得大氣滲透進入光罩盒之路徑必須經過第一過濾材料63，而當第一過濾材料63為一多孔性之材質時，即會對通過的大氣進行過濾，可避免光罩盒內部遭受污染。

接著，請參閱第14圖，係本發明之光罩盒上的盒體與底板之第一密合部之另一實施例之放大示意圖。如第14圖所示，盒體10為一體成型之結構，其中在環繞於盒體10四周之罩部的內側邊上形成一第一凸狀部61；而在底板20之四周的邊緣附近形成一第一凹狀部62且此第一凹狀部62係相對於盒體10之第一凸狀部61。當光罩盒之盒體10與底板20蓋合時，第一凸狀部61會與相對之第一凹狀部62相互結合。而在本實施例中，會於第一凸狀部61上與第一凹狀部62內配置一外盒第一磁性元件611及一外盒第二磁性元件621，此外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621其磁性為異性，亦即N極與S極。因此，當第一凸狀部61與第一凹狀部62相互結合時，運用磁性異性相吸之原理，使外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621彼此會相互吸引，因而可使第一密合部緊緊相連，藉此達成氣密之功效。

同樣地，光罩盒會因保存需求，將內部抽成真空之狀態，例如：將光罩盒之第二容置空間102抽真空至10^-1 torr時；因此，光罩盒之內部大氣壓力會遠比外部較小，致使外部之大氣會經由第一密合部60滲透進入光罩盒之內部，而可能破壞光罩盒之內部之潔淨度，造成光罩R之污染。然而，在本實施例中，當外部之大氣經由第一密合部60滲透進入光罩盒之內部時，即可藉由外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621的配置，使得大氣滲透進入光罩盒之路徑必須經過外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621，此時，即會對大氣中的金屬微粒及金屬離子產生吸附，故可以對滲透進入光罩盒之大氣進行過濾，可避免光罩盒內部遭受污染。同時，當本實施例之盒體10與底板20其材質為金屬時，彼此之間蓋合時會產生金屬微粒，因此配置在第一凸狀部61與第一凹狀部62之外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621會將產生之金屬微粒吸附，以避免內部遭受污染。

在本發明前述內容中，當盒體10與底板20其材質為金屬時，其金屬便與外盒第一磁性元件611或外盒第二磁性元件621有吸附作用，因此在本發明之再一實施例中，並不限定第一凸狀部61與第一凹狀部62是否皆須配置外盒第一磁性元件611或外盒第二磁性元件621，亦即只需於盒體10內之第一凸狀部61或是底板20上之第一凹狀部62其中之一配置外盒第一磁性元件611或外盒第二磁性元件621即可達到前述所提及之功效。

接著，請再參閱第15A圖與第15B圖，係本發明之磁性元件之另一實施例之示意圖，由於外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621之磁力具有穿透作用，亦即不需直接接觸即可產生吸附作用，因此，如第15A圖所示，係將外盒第一磁性元件611 及外盒第二磁性元件621以一種高分子材料所形成之包覆層64包覆，例如：此高分子材料為一種聚醚醯亞胺(TORLON-PAI)之材質；然而，本發明對此包覆層64之形式並不加以限制。而本發明對於包覆方式(如：兩側或上下)亦不加以限制。此包覆層64最主要功用，是當盒體10內之第一凸狀部61與底板20上之第一凹狀部62緊密結合時，更進一步達成密封之功效，並且亦有保護外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621彼此碰觸之磨損。請再參閱第15B圖，除了以包覆層64包覆外盒磁性元件611、621外，亦可先將外盒第一磁性元件611及外盒第二磁性元件621先配置於第一凸狀部61與第一凹狀部62上，在以一覆蓋層65覆蓋，此覆蓋層65與包覆層64為同一材質，並且亦有相同之功效。同樣地，當盒體10與底板20其材質為金屬時，其金屬便與外盒第一磁性元件611或外盒第二磁性元件621有吸附作用，因此在本發明之再一實施例中，並不限定第一凸狀部61與第一凹狀部62是否皆須配置外盒第一磁性元件611或外盒第二磁性元件621，亦即只需於盒體10內之第一凸狀部61或是底板20上之第一凹狀部62其中之一配置外盒第一磁性元件611或外盒第二磁性元件621，然後再於外盒第一磁性元件611或外盒第二磁性元件621上形成高分子材料，即可達到前述所提及之功效。

接著，請參考第16A圖至第16D圖，係本發明之光罩盒內的上蓋與底座之密合部之放大示意圖。與前述外盒之盒體10與底板20所形成之第一密合部60相同，內盒之上蓋30與底座40所形成之第二密合部70亦配置如前述所說之第二凸狀部71與第二凹狀部72，當內盒之上蓋30與底座40蓋合時，第二凸狀部71會與相對之第二凹狀部72相互結合。而如第16A圖所示，在第二凹狀部72內配置一第二過濾材料73；如第16B圖所示，在第二凸狀部71上配置一內盒第一磁性元件711與在第二凹狀部72上配置一內盒第二磁性元件721；如第16C圖所示，在內盒第一磁性元件711及二磁性元件721上以一高分子材料所形成之包覆層74包覆；如第16D圖所示，先將內盒第一磁性元件711及內盒第二磁性元件721先配置於第二凸狀部71與第二凹狀部72上，在以一覆蓋層75覆蓋。以上第16A圖至第16D圖所述之實施例，皆與第13圖至第15B圖之實施例相同，兩者差異只差別於應用在外盒與內盒，故不再重複贅述之。

雖然本發明以前述之較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習相像技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。

10‧‧‧盒體

11‧‧‧側壁

12‧‧‧頂部

13‧‧‧底板接受部

131‧‧‧平台

132‧‧‧凹槽

14‧‧‧開口

15‧‧‧固定肋

16‧‧‧頂持件

20‧‧‧底板

21‧‧‧內表面

22‧‧‧側表面

221‧‧‧開孔

23‧‧‧外表面

24‧‧‧第一貫通孔

25‧‧‧定位栓

26‧‧‧洩氣筒

27‧‧‧洩氣閥

271‧‧‧過濾片上支撐件

272‧‧‧過濾片

273‧‧‧過濾片下支撐件

274‧‧‧固定件

28‧‧‧接觸平台

281‧‧‧對外通道

282‧‧‧氣密環

29‧‧‧突緣

30‧‧‧上蓋

30C‧‧‧角落

301‧‧‧上表面

302‧‧‧側壁

31‧‧‧突把

32‧‧‧通孔

33‧‧‧上支撐件安裝部

331‧‧‧安裝孔縫

34‧‧‧上支撐件

341‧‧‧安裝肋

342‧‧‧突出肋

35‧‧‧過濾片

36‧‧‧固定件

40‧‧‧底座

41‧‧‧上表面

42‧‧‧側表面

43‧‧‧下表面

44‧‧‧第二貫通孔

45‧‧‧定位槽

46‧‧‧下支撐件

461‧‧‧光罩支撐點

462‧‧‧導引側壁

47‧‧‧凹槽

48‧‧‧氣密膠條

491‧‧‧過濾片

492‧‧‧固定件

50‧‧‧充氣閥

51‧‧‧彈簧

52‧‧‧閥件

521‧‧‧基座

522‧‧‧筒狀部

53‧‧‧彈性體

60‧‧‧第一密合部

61‧‧‧第一凸狀部

611‧‧‧外盒第一磁性元件

62‧‧‧第一凹狀部

621‧‧‧外盒第二磁性元件

63‧‧‧第一過濾材料

64‧‧‧包覆層

65‧‧‧覆蓋層

70‧‧‧第二密合部

71‧‧‧第二凸狀部

711‧‧‧內盒第一磁性元件

72‧‧‧第二凹狀部

721‧‧‧內盒第二磁性元件

73‧‧‧第二過濾材料

74‧‧‧包覆層

75‧‧‧覆蓋層

P‧‧‧充氣筒

R‧‧‧光罩

V‧‧‧抽氣筒

第1圖係習知一種用於極紫外光微影製程中之運送盒；第2圖係本發明之一種光罩盒之示意圖；第3圖係本發明之光罩盒其盒體內部之示意圖；第4圖係本發明之光罩盒其上蓋之上視圖；第5圖係本發明之光罩盒其上蓋內部之示意圖；第6圖係本發明之光罩盒其上蓋之局部上視圖；第7圖係本發明之光罩盒其底板之示意圖；第8A圖係本發明之光罩盒其底座之下視圖；第8B圖係本發明之光罩盒其底座之上視圖；第9圖係本發明之光罩盒其充氣閥之示意圖；第10圖係本發明之光罩盒其底板外表面之示意圖；第11圖係本發明之光罩盒於充氣時之示意圖；及第12圖係本發明之另一光罩盒於抽氣時之示意圖；第13圖係本發明之光罩盒上的盒體與底板之密合部之一實施例之放大示意圖；第14圖係本發明之光罩盒上的盒體與底板之密合部之另一實施例之放大示意圖；第15A圖係本發明之磁性元件之一實施例之示意圖；第15B圖係本發明之磁性元件之另一實施例之示意圖；第16A圖係本發明之光罩盒上的上蓋與底座之密合部之一實施例之放大示意圖；第16B圖係本發明之光罩盒上的上蓋與底座之密合部之另一實施例之放大示意圖；第16C圖係本發明之內盒之磁性元件之一實施例之示意圖；第16D圖係本發明之內盒之磁性元件之另一實施例之示意圖。