[go: up one dir, main page]

TWI687760B - 具有擾流結構的光罩盒 - Google Patents

具有擾流結構的光罩盒 Download PDF

Info

Publication number
TWI687760B
TWI687760B TW108113242A TW108113242A TWI687760B TW I687760 B TWI687760 B TW I687760B TW 108113242 A TW108113242 A TW 108113242A TW 108113242 A TW108113242 A TW 108113242A TW I687760 B TWI687760 B TW I687760B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
spoiler
convex portion
spoiler structure
concave portion
box
Prior art date
Application number
TW108113242A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202040263A (zh
Inventor
莊家和
薛新民
林書弘
邱銘乾
Original Assignee
家登精密工業股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 家登精密工業股份有限公司 filed Critical 家登精密工業股份有限公司
Priority to TW108113242A priority Critical patent/TWI687760B/zh
Priority to JP2019132962A priority patent/JP6757999B1/ja
Priority to US16/562,513 priority patent/US11854847B2/en
Priority to KR1020190144551A priority patent/KR102338455B1/ko
Priority to CN201911141711.XA priority patent/CN111830782A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI687760B publication Critical patent/TWI687760B/zh
Publication of TW202040263A publication Critical patent/TW202040263A/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • H10P72/1916—
    • H10P72/1906—
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70983—Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
    • H10P72/1902—
    • H10P72/1922—

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)

Abstract

一種具有擾流結構的光罩盒，其包含：一本體及一蓋體，本體的中央區域有一光罩置放區，蓋體蓋合於本體，蓋體的邊緣區域與本體的邊緣區域係以一凸部及一凹部相互組合，凹部及凸部搭配形成一環繞光罩置放區的擾流結構，其中擾流結構包括在凹部及凸部之間的一擾流通道，且本體在形成擾流通道的表面上具有至少一內縮的側壁，以形成一集塵空間。藉由本發明的具有擾流結構的光罩盒，當氣流挾帶的塵粒自外部進入擾流通道，塵粒將被滯留於集塵空間中，因而有效阻攔塵粒進入光罩置放區。

Description

具有擾流結構的光罩盒
本發明係關於一種光罩盒，更特別的是關於一種具有擾流結構的光罩盒。
先進微影製程中，特別是EUV（極紫外光）微影製程，對製程環境的潔淨度要求極高。若有塵粒（particle）汙染光罩，則會造成微影製程的缺陷。為達到潔淨度與保護光罩的需求，一般使用光罩盒以阻攔外界的塵粒。而傳統的光罩盒在微汙染控制上仰賴光罩盒上下蓋的密合的氣密程度，一旦氣密失效，塵粒就極容易進入光罩盒中汙染光罩。
因此，為解決習知光罩盒的種種問題，本發明提出一種具有擾流結構的光罩盒。
為達上述目的及其他目的，本發明提出一種具有擾流結構的光罩盒，其包含：一本體，該本體的中央區域有一光罩置放區；以及一蓋體，蓋合於該本體，該蓋體的邊緣區域與該本體的邊緣區域係以一凸部及一凹部相互組合，該凹部及該凸部搭配形成一環繞該光罩置放區的擾流結構，其中該擾流結構包括在該凹部及該凸部之間的一擾流通道，且該本體在形成該擾流通道的表面上具有至少一內縮的側壁，以形成一集塵空間。
於本發明之一實施例中，該凹部設置於該本體，該凸部設置於蓋體，該凹部的一側具有一內縮的側壁。
於本發明之一實施例中，該凹部的二側皆具有內縮的側壁。
於本發明之一實施例中，該凹部設置於該蓋體，該凸部設置於本體，該凸部的一側具有一內縮的側壁。
於本發明之一實施例中，該凸部的二側皆具有內縮的側壁。
於本發明之一實施例中，該凸部的截面為矩形。
於本發明之一實施例中，該凸部的截面為圓弧形。
於本發明之一實施例中，該內縮的側壁具有一銳角。
於本發明之一實施例中，該內縮的側壁具有一圓角。
藉此，本發明的具有擾流結構的光罩盒具有擾流通道，有效地延長氣體流通路徑，使得氣體挾帶的塵粒到達光罩置放區的可能性大為降低。除此之外，本體在形成擾流通道的表面上具有至少一內縮的側壁，當氣流挾帶的塵粒進入內縮的側壁中，將更難以沿著內縮的側壁爬升，因而使得塵粒被滯留於擾流通道中，更進一步阻攔塵粒進入光罩置放區。
為充分瞭解本發明，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本發明做一詳細說明。本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的目的、特徵及功效。須注意的是，本發明可透過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用，在不悖離本發明的精神下進行各種修飾與變更。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本發明的申請專利範圍。說明如後：
如圖1及圖2所示，本發明第一實施例之具有擾流結構的光罩盒100其包含： 一本體1及一蓋體2。
本體1的中央區域有一光罩置放區11，用以置放一光罩R；相對的，環繞光罩置放區11的則為本體1的邊緣區域12。
蓋體2蓋合於本體1，蓋體2的邊緣區域22（位置對應於本體1的邊緣區域12）與本體1的邊緣區域12係以一凸部32及一凹部31相互組合，凹部31及凸部32搭配形成一環繞光罩置放區11的擾流結構3。在本發明中，凹部31及凸部32並不限定分別設置於本體1或蓋體2的哪一個，可以為凹部31設於本體1而凸部32設於蓋體2，例如圖1及圖2所示；也可以相反地設置，凹部31設於蓋體2而凸部32設於本體1，例如圖4及圖5所示。在本實施例中，以凹部31設於本體1而凸部32設於蓋體2作為實施方式。
擾流結構3包括在凹部31及凸部32之間的一擾流通道33，在沿著圖1的A-A連線的截面中，擾流通道33為非線性。當氣流自外部空間進入本發明的具有擾流結構的光罩盒100時，首先經過蓋體2的邊緣區域22與本體1的邊緣區域12之間形成的平直通道，接著經過非線性的擾流通道33。氣體需在擾流通道33中下降、攀升才能抵達位於中央區域的光罩置放區11。因此擾流通道33有效地延長氣體流通路徑，使得氣體挾帶的塵粒到達光罩置放區11的可能性大為降低。除此之外，如圖2所示，在本實施例中，本體1在形成擾流通道33的表面上具有至少一內縮的側壁121，以形成一集塵空間S。當氣流挾帶的塵粒進入內縮的側壁121中，將更難以沿著內縮的側壁121爬升，因而使得塵粒被滯留於集塵空間S中。藉此，擾流結構3能擾亂氣流的爬升，更進一步阻攔塵粒進入光罩置放區11。
進一步地，如圖3所示，在本發明第二實施例中，與第一實施例的差別在於，本實施例的凹部31設置於本體1，凸部32設置於蓋體2，凹部31只有一側具有一內縮的側壁121。較佳地，內縮的側壁121的內縮方向為順著氣流方向（如箭頭所示）內縮。
進一步地，如圖2所示，凹部31的二側皆具有內縮的側壁121，以擴大集塵及擾流的效果。
進一步地，如圖4所示，在本發明第三實施例中，與第一實施例的差別在於，凹部31a設置於蓋體2，凸部32a設置於本體1，而位於本體1的凸部32a的一側具有一內縮的側壁121a。較佳地，內縮的側壁121a的內縮方向為順著氣流方向（如箭頭所示）內縮。
進一步地，如圖5所示，在本發明第四實施例中，與第三實施例的差別在於，凸部32a的二側皆具有內縮的側壁121a，以擴大集塵及擾流的效果。
進一步地，如圖3所示，在本發明第二實施例中，凸部32的截面為矩形；然而本發明不限於此，如圖6所示，在本發明第五實施例中，凸部32b的截面為圓弧形。換句話說，凸部的截面可以為任意形狀。
進一步地，如圖3及圖4所示，內縮的側壁121、121a可為具有一銳角；然而本發明不限於此，如圖2、圖5及圖6所示，內縮的側壁121、121a可為具有一圓角。也就是說，內縮的側壁121、121a的形狀、數量以及凸部32、32b的形狀可任意搭配。
本發明在上文中已以實施例揭露，然熟習本項技術者應理解的是，該實施例僅用於描繪本發明，而不應解讀為限制本發明之範圍。應注意的是，舉凡與該實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本發明之範疇內。因此，本發明之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。
100:具有擾流結構的光罩盒 1:本體 11:光罩置放區 12:邊緣區域 121:內縮的側壁 121a:內縮的側壁 2:蓋體 22:邊緣區域 3:擾流結構 31:凹部 31a:凹部 32:凸部 32a:凸部 32b:凸部 33:擾流通道 R:光罩 S:集塵空間
圖1係為根據本發明第一實施例之具有擾流結構的光罩盒之立體示意圖。 圖2係為根據圖1之A-A剖面示意圖。 圖3係為根據本發明第二實施例之擾流結構之剖面示意圖。 圖4係為根據本發明第三實施例之擾流結構之剖面示意圖。 圖5係為根據本發明第四實施例之擾流結構之剖面示意圖。 圖6係為根據本發明第五實施例之擾流結構之剖面示意圖。
100:具有擾流結構的光罩盒
1:本體
11:光罩置放區
12:邊緣區域
121:內縮的側壁
2:蓋體
22:邊緣區域
3:擾流結構
31:凹部
32:凸部
33:擾流通道
R:光罩
S:集塵空間

Claims (9)

  1. 一種具有擾流結構的光罩盒，其包含： 一本體，該本體的中央區域有一光罩置放區；以及 一蓋體，蓋合於該本體，該蓋體的邊緣區域與該本體的邊緣區域係以一凸部及一凹部相互組合，該凹部及該凸部搭配形成一環繞該光罩置放區的擾流結構， 其中該擾流結構包括在該凹部及該凸部之間的一擾流通道，且該本體在形成該擾流通道的表面上具有至少一內縮的側壁，以形成一集塵空間。
  2. 如請求項1所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該凹部設置於該本體，該凸部設置於蓋體，該凹部的一側具有一內縮的側壁。
  3. 如請求項2所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該凹部的二側皆具有內縮的側壁。
  4. 如請求項1所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該凹部設置於該蓋體，該凸部設置於本體，該凸部的一側具有一內縮的側壁。
  5. 如請求項4所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該凸部的二側皆具有內縮的側壁。
  6. 如請求項1所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該凸部的截面為矩形。
  7. 如請求項1所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該凸部的截面為圓弧形。
  8. 如請求項1所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該內縮的側壁具有一銳角。
  9. 如請求項1所述之具有擾流結構的光罩盒，其中該內縮的側壁具有一圓角。
TW108113242A 2019-04-16 2019-04-16 具有擾流結構的光罩盒 TWI687760B (zh)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108113242A TWI687760B (zh) 2019-04-16 2019-04-16 具有擾流結構的光罩盒
JP2019132962A JP6757999B1 (ja) 2019-04-16 2019-07-18 乱流構造を有するマスクケース
US16/562,513 US11854847B2 (en) 2019-04-16 2019-09-06 Reticle pod with spoiler structure
KR1020190144551A KR102338455B1 (ko) 2019-04-16 2019-11-12 스포일러 구조를 지닌 레티클 박스
CN201911141711.XA CN111830782A (zh) 2019-04-16 2019-11-20 具有扰流结构的光罩盒

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108113242A TWI687760B (zh) 2019-04-16 2019-04-16 具有擾流結構的光罩盒

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TWI687760B true TWI687760B (zh) 2020-03-11
TW202040263A TW202040263A (zh) 2020-11-01

Family

ID=70767219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108113242A TWI687760B (zh) 2019-04-16 2019-04-16 具有擾流結構的光罩盒

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11854847B2 (zh)
JP (1) JP6757999B1 (zh)
KR (1) KR102338455B1 (zh)
CN (1) CN111830782A (zh)
TW (1) TWI687760B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI755795B (zh) * 2020-07-23 2022-02-21 家登精密工業股份有限公司 具有導位構件的光罩盒

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11249392B2 (en) 2017-01-25 2022-02-15 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd EUV reticle pod
JP2021148827A (ja) * 2020-03-16 2021-09-27 アルバック成膜株式会社 マスクブランクス収納ケース
JP7176165B2 (ja) * 2020-04-24 2022-11-22 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 Ｅｕｖレチクルポッド
KR102243065B1 (ko) 2020-10-13 2021-04-21 박종민 휴대용 케이스
EP4258330A1 (en) * 2022-04-08 2023-10-11 Brooks Automation (Germany) GmbH Stocker pod, method and stocker for storing a semiconductor fabrication article
EP4511872A1 (en) * 2022-04-19 2025-02-26 Entegris, Inc. Reticle container having rotating connector with spring force latching
TWI875253B (zh) * 2023-03-17 2025-03-01 家登精密工業股份有限公司 具備背面靜電消除之光罩盒
TWD234768S (zh) * 2024-03-28 2024-11-11 家登精密工業股份有限公司 新北市土城區中央路4段2號9樓之5 (中華民國) 光罩盒

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0851294B1 (en) * 1996-07-17 2004-02-25 Mitsui Chemicals, Inc. Mask protecting device
TW200702254A (en) * 2005-02-27 2007-01-16 Entegris Inc Reticle pod with isolation system
TW201111244A (en) * 2009-09-25 2011-04-01 Gudeng Prec Industral Co Ltd Reticle pod
TW201627776A (zh) * 2015-01-16 2016-08-01 日本輕金屬股份有限公司 防塵膜用支持框
TW201638652A (zh) * 2015-04-17 2016-11-01 Micro Lithography Inc 光罩防塵框架結構
US20170184956A1 (en) * 2014-09-19 2017-06-29 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, production method thereof, exposure method
US20170184957A1 (en) * 2014-09-19 2017-06-29 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, pellicle production method and exposure method using pellicle
EP3217221A1 (en) * 2014-11-04 2017-09-13 Nippon Light Metal Co., Ltd. Pellicle support frame and production method
WO2017204223A1 (ja) * 2016-05-23 2017-11-30 凸版印刷株式会社 蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、蒸着用メタルマスク形成基材
EP3287846A1 (en) * 2016-08-24 2018-02-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle frame and pellicle
EP3550361A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle frame, pellicle, and method of producing pellicle frame

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63178958A (ja) * 1986-12-27 1988-07-23 キヤノン株式会社 防塵容器
US5296893A (en) * 1992-07-31 1994-03-22 Vlsi Technology, Inc. Box for an optical stepper reticle
US5310075A (en) * 1992-11-27 1994-05-10 Distribution Control Systems, Inc. Waterproof, gasketless enclosure
US6273426B1 (en) * 1999-07-22 2001-08-14 Avaya Technology Corp. Hydrodynamic seal and a method for providing the same
EP1215950B1 (de) * 2000-12-13 2009-02-25 Siemens Aktiengesellschaft Stellantrieb mit einem Gehäuse mit Abdichtung
US6719166B2 (en) * 2002-01-30 2004-04-13 Armando Ceolin Hermetic closure system between a cover and a package
JP2006103795A (ja) * 2004-09-10 2006-04-20 Nippon Valqua Ind Ltd ガラス基板収納ケース、ガラス基板入替装置、ガラス基板管理装置、ガラス基板流通方法、シール部材及びこのシール部材を用いたシール構造
JP4911275B2 (ja) * 2005-06-24 2012-04-04 Ｎｏｋ株式会社 密封構造
JP4667140B2 (ja) * 2005-06-30 2011-04-06 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP2007210655A (ja) * 2006-02-10 2007-08-23 Fujitsu Ltd 収納ケース
TWI344926B (en) * 2008-12-05 2011-07-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd Reticle pod
KR20110000457U (ko) * 2009-07-09 2011-01-17 박수구 밀폐용기의 체결구조
US8623145B2 (en) * 2010-03-25 2014-01-07 Parker-Hannifin Corporation Substrate processing apparatus with composite seal
DE102012215121A1 (de) * 2012-08-24 2014-05-28 Aesculap Ag Zentrierhilfe für Behälterdeckel
CN102910338B (zh) * 2012-10-11 2015-09-30 友达光电股份有限公司 包装盒
KR102155175B1 (ko) * 2013-12-23 2020-09-11 삼성전자주식회사 실링 부재 및 이를 갖는 기판 처리 시스템
US10453727B2 (en) * 2016-11-10 2019-10-22 Applied Materials, Inc. Electronic device manufacturing load port apparatus, systems, and methods
CN108375872B (zh) * 2017-01-25 2022-04-15 家登精密工业股份有限公司 极紫外光光罩容器

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0851294B1 (en) * 1996-07-17 2004-02-25 Mitsui Chemicals, Inc. Mask protecting device
TW200702254A (en) * 2005-02-27 2007-01-16 Entegris Inc Reticle pod with isolation system
TW201111244A (en) * 2009-09-25 2011-04-01 Gudeng Prec Industral Co Ltd Reticle pod
EP3196699A1 (en) * 2014-09-19 2017-07-26 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, production method thereof, exposure method
EP3196700A1 (en) * 2014-09-19 2017-07-26 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, pellicle production method and exposure method using pellicle
US20170184956A1 (en) * 2014-09-19 2017-06-29 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, production method thereof, exposure method
US20170184957A1 (en) * 2014-09-19 2017-06-29 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, pellicle production method and exposure method using pellicle
EP3217221A1 (en) * 2014-11-04 2017-09-13 Nippon Light Metal Co., Ltd. Pellicle support frame and production method
TW201627776A (zh) * 2015-01-16 2016-08-01 日本輕金屬股份有限公司 防塵膜用支持框
TW201638652A (zh) * 2015-04-17 2016-11-01 Micro Lithography Inc 光罩防塵框架結構
WO2017204223A1 (ja) * 2016-05-23 2017-11-30 凸版印刷株式会社 蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、蒸着用メタルマスク形成基材
EP3287846A1 (en) * 2016-08-24 2018-02-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle frame and pellicle
TW201820029A (zh) * 2016-08-24 2018-06-01 日商信越化學工業股份有限公司 表膜框架及表膜
EP3550361A1 (en) * 2018-04-03 2019-10-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle frame, pellicle, and method of producing pellicle frame

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI755795B (zh) * 2020-07-23 2022-02-21 家登精密工業股份有限公司 具有導位構件的光罩盒

Also Published As

Publication number Publication date
JP6757999B1 (ja) 2020-09-23
KR102338455B1 (ko) 2021-12-13
JP2020177215A (ja) 2020-10-29
CN111830782A (zh) 2020-10-27
US11854847B2 (en) 2023-12-26
US20200335371A1 (en) 2020-10-22
TW202040263A (zh) 2020-11-01
KR20200122213A (ko) 2020-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI687760B (zh) 具有擾流結構的光罩盒
TWI752547B (zh) 非密閉式光罩收容裝置
TWI666510B (zh) 極紫外光光罩容器
TWI705522B (zh) 基板容納裝置及其製造方法
JP2024120112A5 (zh)
KR20250003434A (ko) 펠리클
US20190033702A1 (en) Opc method for a pattern corner
US20180180991A1 (en) Pellicle frame and a pellicle using the same
JP2013222143A (ja) 半導体装置の製造方法および露光用マスク
TWI779505B (zh) 光罩盒及防止光罩污染之方法
TW201400978A (zh) 防塵薄膜組件框架
US20230267266A1 (en) Photomask and method for manufacturing photomask and semiconductor structure thereof
TWM505053U (zh) 光罩防塵框架結構
CN205213200U (zh) 一种具有通风口的壳体及仪表
TWM562548U (zh) 導風罩與應用其的電子裝置
KR101878541B1 (ko) 스퍼터링 장치 및 스퍼터링 방법
JP2014053425A (ja) マスク用ポッドおよび半導体装置の製造方法
CN201090993Y (zh) 容器及其罩盖
JPH0627643A (ja) フォトマスクおよび半導体装置の製造方法
TWI566033B (zh) Mask dustproof frame structure
JPWO2018220697A1 (ja) ダクト接続口及び換気装置
JP2021148827A (ja) マスクブランクス収納ケース
US20220168677A1 (en) Machine protection frame device with function of air filtering
TW589517B (en) A mask for reducing the optic proximity effect
JPH0733855Y2 (ja) クリーンルームの天井フィルター装置