TWI354763B - Heat treatment apparatus - Google Patents

Description

1354763 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於藉由熱風對基板等被加熱物進行熱處理之 熱處理裝置。 【先前技術】 自先則’下述專利文獻1中所揭示之熱處理裝置使用於 如液晶顯示器（LCD : Liquid Crysta丨Display)或電漿顯示器 (PDP : Piasma Display)、有機肌（士价〇 ，電 致發光）顯示器等之平板顯示器（FPD : Flat Panel dispiay) 之製作。熱處理裝置係如下者，即將預先對玻璃板等基板 (被加熱物）塗佈特定之溶液後經加熱乾燥者收容至熱處理 至内，其後將其暴露於導入至熱處理室内之特定溫度之熱 風下進行熱處理（燒成）。 [專利文獻1]曰本專利第2971771號公報 [發明所欲解決之問題] 先前技術之熱處理裝置具有用以取出放入被加熱物之開 口或間隙等’且並非為完全密閉狀態，上述開口或間隙之 附近較易形成低溫。因此，伴隨熱處理，塗佈於基板上之 特定之溶液等汽化後產生之生成氣體’於開口或間隙之附 近冷卻並固化，成為所謂之昇華物。昇華物呈顆粒狀或焦 油狀’存在如下問題，即不僅污染熱處理裝置内並使被加 熱物之品質降低’亦於取出放入被加熱物時洩漏至熱處理 裝置之外部。X ’存在如下問題，即於生成氣體自開口流 出之If形_ ’於熱處理裝置外，生成氣體冷卻後成為所謂 112189.doc “54763 置多數個載置段71。如圖3中箭頭所示，於形成於載置段 71、71之間之間隙中，可水平拔插板體w。此時，板體w 以將由臈狀體9c所覆蓋之表面9b侧朝向上方且使膜狀體“ 不直接接觸載置段71之方式載置。載置架7〇連接於未圖示 之升降裝置，且根據需要，可於熱處理室12内上下運動。

如圖1所示，於熱處理室12之背面側，設有保養時所使 用之門7。間壁43固定於與門7對向之位置上，且可於進行 保養等時根據需要而卸除。 管17係藉由從隔熱材料所構成之周壁13a〜13d包圍四方 之空間，且成為用以使自熱處理室12所排出之空氣於上游 側循環之流路之部分。 右更八體地進行說明，則空氣調節部11，如圖丨所示， 大致分為熱風供給機構14(熱源）、管17、以及機器室U。 熱風供給機構14具有加熱空氣等之加熱功能，與將經加熱 工風等送人熱處理室12内之送風功能^管丨7係以由間壁 ，43間隔且包圍熱處理室12之周圍之方坏置之空氣流 :’且形成將自熱處理室12排出之空氣返還至熱風供給機 構14之空氣流路。 *、’、處理至12係形成於以對向之方式配置之2枚間壁 43之間之空間。如圖1或圖4、圖5所示，於熱處理室12之 2側（圖1中載置架7〇之下側，圖4、圖5中之左側）設有換 广，該換裝部6係用以藉由未圖示之機器手臂等移載裝 而取出放入板體W(被加熱物）者。

若更具體地進行說明，則換裂部6係絲出放入板體W H2189.doc •13- 1354763 而权置之部位。m j-a i, i. 於叹置於熱處理室12之正面側之周壁13b 上’形成有7個開口40。開口 4〇,如圖4所*，以排列於上 下方向之方式而形成。於周壁m之開口 4〇上安裝有閉門 1 0 〇 閉門10構成為例如藉由氣虹或馬達等致動器而作動。閘 ’ 1 〇可自上下滑動者或向内側或外側打開者等中適當選 擇。本實施形態之閘門10 ’如圖4中以二點鎖線所示，構 、為可藉由致動器之動力而倒向換裝部6之内側後打開 口 40 ° 於相對於周壁m平行配置之間壁41上，於與周壁⑽之 開口 40對向之位置上設有開口 5〇。因此，可藉由打開閘門 10而對熱處理室12取出放入板體We 如圖4及圖5所示，管17藉由以橋接於周壁咖與間壁“ 之方式固定之隔板47a、47b間而隔為上下。又，如圖"斤 示，隔板47a、47b之兩端部分藉由以與之垂直之方式安裝 之隔板術，所堵塞。藉此，於熱處理裝置！之正面側 上形成有換裝部6 ’該換裝部6自開口 4〇連結於開口 5〇，且 與形成於周壁13b及間壁41之間之管17隔絕。 隔板47a如圖4及圖5所示，係作為各換裝部6之上方側之 間隔而設置者。於隔板47a上設有連通孔53〇因此，可經 由連通孔53a，將存在於換裝部6内之氣體吸人管^側。 即，管Η作為自換裝部6側吸引氣體之氣體吸引機構而起 作用。 又’隔板47b如圖4及圖5所示，於為打開開口⑽而使閘 U2189.doc ]4 1354763 3頃"時w不干涉閘門〗〇之方式成形為段狀。因此， 搞板w於間⑽傾倒時，大部分隱藏於閉⑽之背側， ::成形為段狀之段部54未隱藏於閘門…又，於段部Η上 μ連通孔53b。因此，換裝部6可經由連通孔別，於與 官1 7之間使氣體流通。 相對於換t部6，於鄰接於自熱處理室12 $漏之氣體之 流動方向⑻之箭頭X方向)外側之位置上，設有排氣管 74(氣體吸引機構）與空氣喷嘴7 5(氣流產生機構卜排氣管 74設置於相對於換裝部6之開口 4〇偏上方之位置。排氣管 74係用以吸入並回收自開口 4〇洩漏之氣體者。排氣管Μ含 有用以吸入氣體之進氣口 74a。 办空氣噴嘴75係噴出由如圖6所示之空氣系統⑽斤供給之 空氣者。空氣喷嘴75位於排氣f 74之下方。^氣喷嘴75， 如圖5中箭頭Y所示，可向排氣f74側喷出空氣後形成氣簾 A1。氣簾幻相對設置於排氣管74上之進氣口 ％之開口位 置’形成於偏向自熱處理室茂漏之氣體之流動方向（箭頭χ 方向）之下游側之位置。 如上所述，熱處理裝置丨含有7個換裝部6，且於每個換 裝部6上設有空氣喷嘴75。各空氣噴嘴75構成為可由如_ 所示之空氣系統68而供給空氣。空氣系統68係用以自未圖 示之供給源將潔淨之空氣供給至各空氣噴嘴75者。 空氣系統68，如圖6所示，含有連結於空氣之供給源之 主流路8 8。於主流路8 8上設有可以丰#^> 降“上„又頁j以予動進行開閉之元閥 9〇、流量調節用之電磁閥91、以及壓力調節閥92。主流路 U2189.doc •15· 1354763 88於相對壓力調節閥92之空氣之流動方向的下游侧，分為 7個系統之分支流路89(以下’根據需要，將各自稱為分支 流路89a〜89g)。 分支流路89&〜89§對應於以各自排列於上下方向之方式 • 設置之7個換裝部6而設置。分支流路89a〜89g實質上各自 ' $相同之構成。若更具體地進行說明，則分支流路89a〜 89g作為於中間用以調節空氣之流量之流量調節機構為 設有流量調節閥93、94與電磁閥95之構成…至於分支 μ路89a ’其構成為於比流量調節閥％、或電磁閥％更 靠近空氣之流動方向之上游側，設有由數位流量開關等構 • 成=流量檢測褒置1〇〇。分支流路89a〜89g構成為可藉由 • 調節流量調節閥93、94及電磁閥95而調節空氣之流量。 流量調節閥93與電磁闕95串聯配置於空氣之流動方向 上。又，流量調節閥94設於連接於分支流路89a之迂迴路 96上’且與電磁’為並聯関系。即’分支流路叫構成 籲冑如下’即可藉由電磁閥95之開閉而調節於比流量調節閥 94及電磁閥95更下游側流動之空氣之流量，並且可藉由調 節流量調節閥94之開度而對流量進行微調。 於分支流路89a〜89g中，於比流量調節閥94及電磁㈣ 更靠近空氣之流動方向之下游侧，設有用以補充空氣中所 含有之雜質之過濾器97。分支流路89a〜89g構成為可藉由 配置於比過遽器97更下游側之部位上之加熱器98(氣體加 熱機構）而加熱空氣《即，於本實施形態之熱處理裝置^ 中，加熱器98配置於比構成空氣系統68之主流路“與分支 112189.doc -16- 1354763 流路89a〜89g之分支部分T更靠近空氣之流動方向之下游 側。又，作為流量調節機構起作用之流量調節閥93、叫及 電磁閥95係各自配置於比加熱器98更靠近空氣之流動方向 之上游側。 繼而，參照圖式，就本實施形態之熱處理裝置1之動作 詳細加以說明。熱處理裝置i係採用所謂接觸方式者，該 接觸方式係以特定之順序打開排列設置於上下方向之7個 鲁 換裝6(以下，根據需要為換裝部6a〜6g)之閘門1〇，藉由 閘門10已打開之換裝部6，相對於配置於熱處理室12内之 載置架70而拔插板體w。拔插板體貿時，載置架π藉由未 圖示之升降機構而於熱處理室12内升降，且對準應拔插之 - 板體1之載置段71與閘門10之位置。 本實施形態之熱處理裝置〗於拔插板體臂時，自對應於 閘門H)打開之換裝部6a〜6g而設置之空氣喷嘴乃（以;，、 根據需要稱為空氣噴嘴75a〜75g)喷出經加熱之空氣後形 鲁錢簾A1，防止存在於熱處理室咖之氣體或昇華物自熱 處理室〗2之内側向外側洩漏。 若更具體地進行說明，則空氣噴嘴75a〜75g如圖7之時 序圖所示，於換裝部6a〜6g之閘門1〇打開之期間（換裝期 •間自換裝期間C開始之時序僅上溯特定期間之期間(準 備期間P)、以及自換裝期f4C結束之時序經過特定期間（延 長期間D)之3個期間中，使空氣之喷出量增加至特定量為 止並形成氣簾A1。 若更詳細地進行說明，則空氣噴嘴〜〜^於除去上述 H2I89.doc 17 1354763 換裝期間c、準備期間p、以及延長期間d之期間中，以約 1〇.°[升/分]左右之流量喷出空I此時，加熱器98亦作 動。 另一方面，如圖7所示，若成為換裝期間c，則自空氣喷

嘴75a〜75g喷出之經加熱 < 空氣之噴出量調節為特定量 α。於本實施形態中，構成A “ 成為如下，即潔淨之空氣自空氣 :嘴一g以約3 —升/分]左右之流量於加熱狀態下 又，自空氣噴嘴…〜、噴出之空氣之動壓(本實 中為卿a])高於流動於熱處理室12内之空氣或 生成氣體之靜壓。 又’若成為換裝期間C前後之準備期，或延長期間D， 則自空氣喷嘴75,喷出之空氣之喷出量為換裝期間C 之約1/2(α/2)。於本實施形態中，構成為如下，即於準備 期間Ρ或延長期間D中，潔淨之空氣自空氣喷嘴…〜、以 約1.5X102[升/分]左右之流量於加熱狀態下喷出。 設置於換裝期間C前後之準備期間p及延長期間D 短，約為換裝期間c之長短βυ/4(β/4)。即，熱處理裝置i 令’於設置於各換裝部6之閘門1〇打開之換裝期間〔前後， 且時間上短於換裝期間c之準備期間p及延長期間D中 空氣喷嘴75a〜75g喷出經加熱之空氣。 如上所述，熱處理裝置1中，依次切換間門10打開之換 裝部―。因此’如圖7所示，根據閉門1〇打開之換褒 部6a〜6g之切換，對於喷出經加熱之空氣之^氣喷嘴乃，、 亦以空氣喷嘴75a—空氣喷嘴75b——空氣喷嘴以之順序 112189.doc 18· 1354763 進行切換。 又，自空氣喷嘴75a〜75g噴出之空氣如圖5中箭頭γ所 示’自排氣管74之下方’向排氣管74喷出。即，若自空氣 噴嘴75 a〜75g喷出空氣，則於比閘門10更靠近自熱處理室 12洩漏之氣體之流動方向X的下游側，產生自下方向上方 之氣流，並形成氣簾A1。又，氣簾A1主要形成於比形成 有排氣管74之進氣口 74a之位置更靠近氣體之流動方向又的 下游側。因此，藉由閘門1 〇打開而自開口 4〇洩漏出之氣 體’如圖5所示，順利地被吸引至進氣口 74a。 本實施形態之熱處理裝置丨中，藉由氣簾A1(氣流）而遮 斷含有自熱處理室12之内側向外側之生成氣體之氣體的流 動其中該乳簾A1(氣流）係藉由於取出放入板體w時自空 氣噴嘴75喷出經加熱之空氣而形成者。又，熱處理裝置j 中，可將藉由氣簾A1阻止來自熱處理室12洩漏出之氣體回 收至管17或排氣管74。因此，熱處理裝置丨可防止伴隨於 熱處理室12内加熱板體W所產生之氣體（生成氣體）或藉由 冷部該氣體而產生之所謂昇華物的洩漏。 又，於本實施形態之熱處理裝置丨中，於取出放入板體 W之時（換裝期間C)與於此前後之準備期間p或延長期間D 中，加熱器98作動，且自空氣喷嘴75喷出經加熱之空氣。 又此時所喷出之空氣係加熱至熱處理室12内之環境溫度 左右者，且加熱至產生昇華物之固化溫度以上。因此，= 處理裝置1可防止伴隨取出放入板體W而自熱處理室12浪 漏之生成氣體冷卻後成為昇華物，且可於生成氣體之狀雜 112l89.doc •19· 1354763 下將其回收至管17或排氣管74中。因此，熱處理裝置1 I ’於回收自熱處理室叫漏之氣體時，可防止昇 著於空氣喷嘴75或管17、排氣管74等。 於此，於構成為藉由加熱器98對空氣進行加埶之 依據加熱器％之加熱能力等，有可能使加熱請作動 後無法立即將加熱至特定溫度之空氣供給至空氣㈣乃 根據該認識，本實施形態之熱處理裝置卜，構成為二 下，即先於換震期間C，使加埶器9 ‘”· 埶 1史加‘，，、副自準備期間P作動並加 …。因此’熱處理裝置1中’可自換裝期間C之開於之 m 特“度之…且可抑制昇華物之產生 又，上述實施形態令，構成為如下，即換裝期 =經過片刻(延長期間D)，自空氣喷嘴75喷出經加熱之空 :因此’依據上述構成，可於換裝期Μ結束後 於閘⑽之外側或内側之生成氣體之氣體料並回 收至官1 7或排氣管74中。 再者，上述實施形態中，構成為不僅於換裝期間q， :於以準備期間P或延長期間D為為代表之整個期間中，將 給至各空氣喷嘴75或使加熱器轉動，但本發明並 ^於此’例如亦可於除上述期間c、p、D之外之期間 二亭止自空氣喷嘴75喷出空氣，或停止藉由加熱器咖 之：氣進行加熱。又，可構成為於準備期 二方::Γ之期間t不排出經加…氣，或亦可 為不使加熱器98作動而排出非加熱狀態之空氣。 1 J2189.doc 1354763 ^於此，如上所述，準備期間P主要係以自換裝期間c開始 後’可立即排出加熱至特定溫度之空氣之方式使加熱器98 預先作動者。又，延長期間D係以於換裝期間C結束後’ 回收含有殘存於閘門1〇之附近之生成氣體之氣體為主要目 •者因此準備期間p或延長期間D之長短或於該等期間 P、D中所喷出之加熱空氣之量’為可達成該等目的之程度 即可。 因此’根據該認識’本實施形態中，使準備期間p或延 長期間D之期間之長短相對於換裝期間〔縮短。又，上述 實施形態中，於準備期間P或延長期間D中，單位時間内自 ;氣喷嘴75喷出之空氣之喷出量，少於於㈣期間C中， f位時間内自空氣喷嘴75喷出之氣體之嗔出量。因此，熱 處理裝置1於準備期間P或延長 A ± 飞、長期間乜中，喷出空氣所需之 施量消耗為最小限即可。 如上所述，熱處理裝晋丨播+ 4人， 冓成為3有多個換裝部6，對應 於此，於各換裝部6上設有空 氣赁嘴75。繼而，將空氣供 給至空氣喷嘴75之空氣系統68 ” ” 再珉為如下，即連結於空氣 之供給源之主流路88於中間 日+ »T間刀為7個系統之分支流路89， 且可藉由s亥分支流路89而將空痛 ,.^ . 氣供給至空氣喷嘴75。用以 加熱空虱之加熱器98構成為設置 斟夂八±味Α 勹**又置於各分支流路89上，且針 對各分支流路89而獨立動作。八 „ ^ Θ ^ , 节刀支流路89與主流路88相 比，城：!：杈少，因此配管直經 直厶亦比主流路88小。因此， 構成為將加熱器98設置於主流路 、 *教八配…… 机路88上，且藉此將經加熱之 工氣刀配至各分支流路8 9上 月形相比，加熱器98對空氣 II2189.doc -21- 1354763 之加熱效率高。 =:上所述’工乳糸統68，其作為流量調節機構而起 :用之〜量調_93'94或電則95配置於比加熱器嫩 罪近空氣之錢方向之上游側。因此，熱處理裝置丄中， 經加熱之空氣不流入流量調節間93、94或電磁間&因 此，依據上述構成，流量調節閥93、94或電磁間％不易因 熱之影響而老化。X，依上述構成，無需採用㈣性高之 高價者作為流量調節閥93等，而可相應降低熱處理裝置ι 之製造成本。 再者’若考慮流量調節閥93、94或電磁㈣之老化等， 則較理想的是空氣系統68為如上所述之構成，但本發明並 非限定於此，例如亦可構成為將加熱器98配置於比流量調 郎閥93、94或電磁閥95更靠近空氣之流動方向之上游側， 或構成為將加熱器98配置於主流路88。又，如上述空氣系 統68般，0支流路89進而構成為分為内側分支:路99a 與外側分支流路99b之情形時，亦可將加熱器崎置於該 内側分支流路99a或外側分支流路99b上。 熱處理裝置1中，構成為板體w之表面9b藉由膜狀體％ 所包覆’且表面9b側以朝向上方之姿勢相對熱處理室丨2進 行取出放入。因此，若於熱處理裝置丨中進行熱處理（燒 成），則於板體W之表面9b侧產生生成氣體，且分佈不均。 鑒於該現像，本實施形態之熱處理裝置】中，空氣喷嘴75 構成為自於熱處理室12中取出放入之板體w之背面9d側之 方向，向表面9b側之方向產生氣流。因此，本實施形態之 n2189.doc •22· 1354763 熱處理裝置1可順利將生成氣體引導至管17或排氣管74， 且可防止生成氣體或昇華物洩漏、或昇華物附著。 熱處理裝置〗藉由以如上所述之方式構成為將連通孔 53a、53b設於管17,而可有效地回收含有自熱處理室丨2浅 … 漏之生成氣體之氣體，但本發明並非限於此，亦可為不設 .· 置連通孔53a、53b之構成。 上述實施形態中，已例示將排氣管74與空氣噴嘴乃設置 ㈣位於換裝部6之最下游側之閘Η H)之外側鄰接的:置 之構成，但本發明並非限定於此，例如亦可為如下構成， 即將與空氣喷嘴75同樣可喷出空氣者設於與閑⑽之内側 ' 鄰接之位置上，以替代設置空氣喷嘴75 ^ ' ¥更具體地進行說明’則熱處理裝置1亦可例如如圖8或 圖9、圖10所示，構成為如 仏閱門10之内側，即換奘 生：裝部6之段部54之附近設置空氣喷嘴 3 3 (疯ι 〃IL 生機構）。 於此’空氣噴嘴55係如老， w 考其為以與由上述實施形能 所示之空氣噴嘴75同椹之古斗、▲，从 ^ ' 式噴出藉由空氣系統68(氣體 供給系統）所供給之空氣而 ” ^ , i)# ^ ϋ ^ a, 置即，空氣喷嘴55設置 為，將二氣嘴出至換裝 比立更靠近自心 室12之邊界部分，或 .比其更靠迓自熱處理室洩 X所示方向方向（圖9中箭頭 圖9所示，較理想的所谓之氣簾。空氣喷嘴55如 ^ 、疋°又置於比連通孔53a，53b更偏向自 熱處理室洩漏之氣體 更偏向自 一番h 向之下游側的位置。 於設置此種空f喑 ^ 嘴嘴（从下，根據需要稱為空氣噴嘴 U2189.doc •23 · !354763 5 5a〜5 5g)之情形時，自空氣噴嘴55a〜55g噴出之*严 工氣， 如圖9中箭頭Z所示，自隔板47b側向隔板47a側，g |目下方 側向上方側喷出，形成氣簾A2(氣流）。如圖9所； ^ 、，空氣 嘴嘴55之空氤之噴出方向z與自熱處理室12洩漏之氣體 流動方向X交又。即，空氣喷嘴55，如圖9中影線所示。 於遮擋自熱處理室12向熱處理裝置1之外側流動 ° ^ 7 <氣體之 机動的方向上喷出空氣’形成氣簾Α2 〇 如上所述，氣簾Α2主要形成於比設置於隔板47&、47 連通孔53a、53b更靠近氣體之流動方向χ 々几之 μ 卜游側。因 ，/、上述實施形態相同，於換裝期間c或準備期間ρ ' 簾A2 ^等b之期間中’自空氣喷嘴55喷出空氣’且形成氣 =4將經由開口 5〇自熱處理室12浅漏之氣體引導 主隔板47a、47b側。 之右至於設置空氣喷嘴55以替代設置空氣喷嘴-之氣體，含有自熱處理室12茂漏之生成氣體 定於+ 併孔s 74然而，本發明並非限 ;此，亦可為不設置排氣管74之構成。 再者，至於以上述方式設置 成為如ττ B 轧赁嘴55之情形，亦可構 攻馮如下，即不僅於換裝期 長期間D為代表之整個期二亦於以準備期間15或延 55或使# i。。 將空氣供給至各空氣喷嘴 戎使加熱裔98作動。又，至 可於除上述期間c、P、D外之期^述之構成之情形，亦 喷出空氣，式广^ 月間中，停止自空氣喷嘴55 ”或知止藉由加熱器98對空氣& > 4 &

構成為於準借划了二孔進仃加熱。又，可 、早備期間P及延長期間D 〈任方或雙方之期間 】12189.doc .24· 不排出經加熱之空氣，或亦可構成為不使加熱器98作 動而排出非加熱狀態之空氣。 又’熱處理裝置1亦可構成為以上述之方式設置空氣喷 嘴55或空氣噴嘴75之任一方，但本發明並非限定此，例如 如圖11或圖12所示，亦可構成為設置有空氣喷嘴”及空氣 喷嘴75之雙方。於該構成之情形時，可於取出放入板體w 之換裝期間C、或準備期間p、延長期間D等中，形成氣簾 A1、A2之雙方’且可抑制伴隨取出放入板體w之生成氣體 或昇華物之洩漏或者昇華物之產生。 如上所述，於設置空氣噴嘴55、75之情形，空氣系統^ 亦:構成為於分支部分丁中，按照空氣嘴扣、75之數量 進仃刀支。即’於如上述實施形態般設置空氣噴嘴55a〜 55g、75a〜75g之情形時’亦可構成為於分支部分了中，分 為M㈣統之分支流路。又，若無必須以空氣喷嘴55a〜 、二及：孔喷嘴75a〜75g而使空氣之噴出量或空氣之加埶 -度產生變化之特別之情況，則空氣系統“，如圖 示’亦可構成為如下，卽 7即將各分支流路，〜、於相對加 熱多於空氣之流動方向之下游側，分為連結於空氣嘴 嘴55a〜55g之内側分支流路99a與外側分支流路规、 該構成，則對於並存右介号 並存有空軋噴嘴55a〜55g及空氣喷嘴7 〜75g之構成而言’亦可使空氣系，㈣之構成較為簡單。 上述實施形態中，Μ出4為π 藉由加熱器98對供給至各空氣噴喈 75之工巩進仃加熱，但本發明並非限定於此 成為如下，即例如將槎士 J m 丨將構.成空氣系統68之主流路88或分龙流 iJ2J89.doc •25- 1354763 路89等配管之一部分或全部繞於熱處理室12之内部，且於 忒部位進行熱交換並進行加熱❶於該構成之情形時作為 將加熱器98之消耗能量抑制至最小限，或不設置加熱器％ 之構成，可使熱處理裝置丨之構成簡略化。 上述實施形態中，構成為針對換裝期間C或準備期間p、 延長期間D以外之期間而自各空氣噴嘴55、75噴出空氣， 但亦可為於上述各期間c、p、D以外，不自各空氣嗔嘴 55、75喷出空氣之構成。 上述熱處理裝置1係載置架7〇於熱處理室12内可上下運 動之構成，但本發明並非限定於此，熱處理裝置1亦可為 載置架70於熱處理室12内不上下運動之構成。 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之一實施形態之熱處理裝置之内 造的平面圓。 圖2(a)係表示板體之平面圖，係（“之A — A剖面圖， (c)係（b)之B部放大圖。 圖3係表示圖〗所示之熱處理裝置中所採用之載置架與 體之關係的說明圖。 圖4係將圖i所示之熱處理裝置之要㈣大後之剖面圖。 圖5係圖4之C部放大圖。 圖6係表示圖丨所示之熱處理裝置所具備之空氣系統的配 管系統圖。 圓7係表示圖丨所示之熱處理裝置所具備之空氣喷嘴中之 空氣的噴出量及喷出時序之時序圖。 112189.doc -26 - 1354763 圖8係將圖1所示之熱處理裝置之變形實 u見知形態之要部放 大後之剖面圖。 圖9係圖8之C部放大圖。 圖10係表示自熱處理室側觀察圖6所示之熱處理裝置所 具備之換裝部之狀態的剖面立體圖。 圖11係將圖1所示之熱處理裝置之其他变形實施形態之 要部放大後的剖面圖。 圖12係圖11之C部放大圖。 圖13係表示圖11所示之熱處理裝置所具備之空氣系統之 配管系統圖。 【主要元件符號說明】 1 熱處理裝置 6 換裝部 9a 基板 9b 表面（包覆面） 9c 膜狀體 9d 背面 10 閘門 12 熱處理室 14 熱風供給機構（熱源） 17 管（氣體吸引機構） 40，50 開口 55，75 空氣喷嘴（氣流產生機構） 68 空氣系統（氣體供給系統） 112189.doc -27- 1354763 74 排氣管（氣體吸引機構） 89 分支流路 93，94 流量調節閥（流量調節機構） 95 電磁閱 98 加熱器（氣體加熱機構） W 板體（被加熱物） C 換裝期間 P 準備期間 D 延長期間 1l2189.doc *28-

Claims (1)

1. 年月日修(更)正替换頁I第咖23564號專利申請案， 中文申凊專利範圍替換本(1〇〇年8月） 申請專利範圍： 種熱處理裝置，其特徵在於其係加熱藉由加熱會產生 生成氣體之被加熱物者；其中該生成氣體係藉由特定之 固化溫度而固化者， 上述熱處理裝置含有配置被加熱物之熱處理室、使該 熱處理室之室溫上升之熱源、以及用以對上述熱處理室 取出放入被加熱物之換裝部， 且包含：氣流產生機構，其配置於該換裝部與熱處理 至之邊界部分或者比該邊界部分更靠近熱處理室之外側 之位置上，且可產生遮擋自熱處理室之内側向外側之氣 體流動之氣流； 以及氣體吸引機構’其配置於藉由該氣流產生機構所 產生之氣流之下游側，且吸引氣體， 上述氣流產生機構於取出放入被加熱物之換裝期間 中’喷出已加熱至上述固化溫度以上之氣體。 2·如請求項1之熱處理裝置， 其中氣體吸引機構含有用以吸入氣體之進氣口， 精由攸4流產生機構產生之氣流所形成之氣簾形成於 ί於上述進氣口之開口位置，偏向自熱處理室浪漏之 氣體之流動方向之下游側㈣Ρ 3.如請求項1之熱處理裝置， 其中設有多個氣流產生機構， 3有將氣體供給至氣流產生機構之氣體供給系統， 且於氣體供认备处 山 、。系統之中間設有：用以加熱流動於氣體 112189-1000824.doc 1354763 _____ 、8月21修(更)正替換頁 供給系統中之氣體之氣體加熱機構，與用以調節氣體之 流量之流量調節機構， 氣體供給系統於比氣流產生機構及氣體加熱機構更靠 近氣體之流動方向之上游側之處，分為多個分支流路， 相對於該分支流路，於氣體之流動方向之下游側連接 氣流產生機構， 流量調節機構設置於比上述氣體加熱機構更靠近氣體 之流動方向之上游側之處。 4. 如請求項！之熱處理裝置，其中於取出放入被加熱物之 換裝期間，以及自該換裝期間開始之時序僅上溯特定期 門之準備期間及/或自換裝期間結束之時序經過特定期間 之延長期間中，自氣流產生機構噴出經加熱之氣體。 5. 如請求項1至4中任-項之熱處理裝置，其中藉由從氣流 產生機構所產生之自下方向上方之氣流形成氣簾。 6·如請求項…中任一項之熱處理裝置，其中自氣流產生 機構喷出之氣體之動壓高於熱處理室内流動之氣體之靜 壓。 7. 如請求項丨至4中任一項之熱處理裝置， 其中被加熱物之一面係由藉由加熱而產生生成氣體之 膜狀體所包覆之包覆面，且以該包覆面朝向特定方向之 方式配置於熱處理室内， 氣流產生機構係自取出放入於熱處理室之被加熱物之 包覆面之背面側方向向包覆面側之方向產生氣流者。 8. 如請求項丄至4中之任一項之熱處理裝置，纟中於假定取 112189-1000824.doc 1354763 ~~24 ~~~" ~Ί 年月百修使)正替換頁 · 出放入被加熱物之換裝期間，以及自 時序僅上料定期間 、㈣開始之 時序經過特定期間之延長期間之情形， 束之 於上述換裝期間，以·及上述 中，白裔攻太1 & k +侑肩間及/或延長期間 /J，L生機構噴出經加熱之氣體， 9.

   且準備期間及/或延長期間短於上述換裝期間。 如請求項1至4中之任—項之埶虛 項之热處理裝置，其十於假定取 出士放入破加熱物之換裝期間，以及自該換裝期間開始之 牯序僅上溯特定期間之準備期間及/或自換裝期間結束之 時序經過特定期間之延長期間之情形， 於上述換裝期間，以及上述準備期間及/或延長期間 中，自氣流產生機構喷出經加熱之氣體， 於準備期間及/或延長期間中，於單位時間内自氣流產 生機構噴出之氣體之嘴出4，少於於上述換裝期間中， 於單位時間内自氣流產生機構噴出之氣體之噴出量。

   10.如凊求項1至4中之任一項之熱處理裝置，其中設有多個 氣流產生機構， 且各氣流產生機構開始進行氣體喷出之時序係錯開。 11.如請求項丨至4中之任一項之熱處理裝置，其中上述氣流 產生機構係可將氣體噴出量調整為特定量。 112189-1000824.doc