200916201 八、 本案若有化學式時，請揭示最能顯示發 徵的化學式： # 九、 發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明疋關於塗佈塗佈液於基板（311|：)3_^&1；6)上之塗佈 裝置（coating apparatus)及其塗佈方法。 【先前技術】 在液晶顯示器（liquid crystal display)或電漿顯示 Is (plasma display)等的平面面板顯示器（fla1： panel display)使用有在玻璃基板（giass substrate)上塗佈有 光阻（resist)液者（稱為塗佈基板該塗佈基板是藉由均 勻地塗佈光阻液之塗佈裝置形成。 亦即塗佈裝置具有：承載玻璃基板的平台（stage); 吐出光阻液之開縫喷嘴（s 1 i t η ο z z 1 e )，將該開趋喷嘴支撐· 於平台上’並且沿著平台使其移動之門型的台架（gantry)， 藉由一邊由開縫喷嘴的開縫（slit)吐出光阻液，一邊使台 架移動於沿著玻璃基板的方向’以形成形成有預定厚度的 光阻液膜之塗佈基板。而且’在藉由這種塗佈裝置形成有 塗佈基板後’進行塗佈不均的檢測之塗佈膜的檢查被進 行。具體上’在藉由塗佈裝置進行預定片數的塗佈基板的生 產後’在與塗佈製程不同的塗佈膜檢查製程中被進行塗佈 基板的檢查》 5 200916201 這種塗佈裝置的台架疋在承載平台的基台上設置有延 伸於一方向的石材製的導軌’沿著該導軌移動而構成。近年 來’伴隨著平面面板顯示器的大型化，為了生產大型的塗 佈基板，平台的大型化及導轨的長條化是不可避免的。但 是’因若導軌被長條化’則伴隨著石材製的導軌的長條化 之加工界限的問題或塗佈裝置的運送上的問題就無法避 免’故在下述專利文獻1中揭示有藉由連結複數個導軌零件 構成導軌之塗佈裝置。 [專利文獻1 ]日本國特開2006-95665號公報 【發明内容】 如上述專利文獻1所示般，在藉由導執連結導執零件 而構成的情形下’在台架通過導軌的接縫，亦即導軌的不 連續面（分割部分）時台架變動，由於其影響而有產生塗佈 不均，不良基板容易被生產之問題。但是，在一旦不良基板 被生產的情形下’到在後製程的塗佈膜檢查製程不良基板被 檢測出為止之間，塗佈被以同一條件進行。亦即，因在產生 塗佈不均的條件下’預定片數的塗佈基板原封不動地被繼續 生產，故有不良基板被大量生產之問題。 本發8月乃4監於上述的問題點所進行的創作，其目的為 提供一種塗佈裝置’即使是導引台架的行走（running)之導 軌被刀割的情形也能抑制不良基板被大量生產，可提高塗 佈基板的良率（yield)。 ’本發明的塗佈裝置，包含·. 為了解決上述課題 刖 檢 斷 產 200916201 基台，配設有保持基板的爭台； 導軌，於在前述基台上延伸於特定方向 設’被複數地分割；以及 塗佈單元’沿著前述導軌對前述基板相對 佈塗佈液於前述基板， 其特徵為：配設有檢測前述塗佈單元的動 變動檢測手段’藉由該變動檢測手段的檢測結 的塗佈液的塗佈狀態被判斷。 依照上述塗佈裝置，因配設檢測塗佈塗佈 塗佈單元的動作的變動之變動檢測手段，故可 變動檢測手段的檢測結果判斷不良塗佈基板是 亦即，因在塗佈單元通過導軌的連結部分的情 單元的動作產生擾動（turbulence)，故可藉由 的擾動判斷是否產生塗佈不均。因此，即使是 的情形，因可在塗佈動作中檢測塗佈不均的產 以往般在生產預定片數的塗佈基板後，藉由別 佈膜檢查製程檢測塗佈不均的情形比較，可避免 大量生產之問題，可提高良率。 上述塗佈狀態的判斷中的具體的態樣能 述塗佈裝置更包含控制裝置，該控制裝置是 測手段的檢測結果判斷基板上的塗佈狀態 為塗佈狀態為不適當時，使前述塗佈單元 依照該構成，在塗佈單元進行像應被視 生塗佈不均之動作的情形下，彳自動地使 的狀態下配 地行走，塗 作的變動之 果’基板上 液於基板之 藉由監視該 否被生產。 形下，塗佈 檢測該動作 導軌被分割 生，故與如 的製程的塗 不良基板被 如下之構成： 由前述變動 良否，當判 止。 不良基板而 佈單元的動 200916201 作停止。因此，可防止不良基板被大量生產。 而且’前述變動檢測手段的具體的態樣也能以如下之 構成：前述變動檢測手段是檢測前述塗佈單元的行走速度 之速度檢測手段’由藉由該速度檢測手段檢測的塗佈單元的 行走速度的變化，塗佈狀態之良否被判斷。 依照該構成，可藉由以前述速度檢測手段檢測塗佈單 元通過導軌的分割部分時的行走速度的變化，檢測塗佈不 均的產生。因此，不配設用以檢測塗佈不均的複雜的裝置， 可使用習知的塗佈裝置中的既存的設備檢測塗佈不均的產 生。 而且’前述變動檢測手段之別的具體的態樣也能以如 下之構成：在前述塗佈單元包含有藉由供給空氣至導軌的 表面’使塗佈單元由導軌浮起來之軸承部，在供給空氣至 該軸承部的管路配設有檢測管路内的空氣的壓力的變化之 壓力檢測手段，前述變動檢測手段包含該壓力檢測手段， 藉由該壓力檢測手段由所檢測的塗佈單元的壓力的變化， 塗佈狀態之良否被判斷。 依照該構成，可藉由以前述壓力檢測手段檢測塗佈單 元通過導軌的分割部分時的前述管路内的空氣的壓力的變 化’檢測塗佈不均的產生。因此，不配設用以檢測塗佈不 均的複雜的裝置就能檢測塗佈不均的產生。 而且，前述變動檢測手段之再別的具體的態樣也能以 如下之構成：在前述塗佈單元包含有藉由供給空氣至導軌 的表面，使塗佈單元由導軌浮起來之軸承部，在供給空氣 8 至 之 段 化 元 化 均 供 部 氣 量 力 走 段 設 當 保 地 邊 本發明的塗佈方 200916201 該軸承部的管路配設有檢測管路内的空氣的流 流量檢測手段’前述變動檢測手段包含該流 ’藉由該流量檢測手段由所檢測的塗佈單元的 ’塗佈狀態之良否被判斷。 依照該構成，可藉由以前述流量檢測手段檢 通過導軌的分割部分時的前述管路内的空氣的 ’檢測塗佈不均的產生。因此，不配設用以檢 的複雜的裝置就能檢測塗佈不均的產生。 而且，也能以如下之構成：在前述塗佈單元包 給空氣至導執的表面，使塗佈單元由導軌浮起 ’在供給空氣至該軸承部的管路配設有：檢測管 的壓力的變化之壓力檢測手段；檢測管路内的 的變化之流量檢測手段，前述變動檢測手段包 檢測手段與前述流量檢測手段與檢測前述塗佈 速度之速度檢測手段，當此等速度檢測手段、壓 μ里榀測手段之中至少一個檢測手段的檢測結 疋的範圍時’被判斷為基板上的塗佈狀態為不由 依照該構成，可提高基板上的塗佈狀態被邦 之可靠度（reliability)。 為了解決上述課題 ，工·τ 〜 /¾ ； 持於基台上的平台，沿著延伸於特定方向 刀°彳之導軌對前述基板一邊相對地使塗佈 吐出塗佈液，塗佈塗佈液於基板上， 其特徵為:藉由檢測前述塗佈單元的動竹 量的變化 量檢測手 流量的變 測塗佈軍 流量的變 測塗佈不 含有藉由 來之軸承 路内的空 空氣的流 含前述壓 單元的行 力檢測手 果脫離所 !當。 斷為不適 由使基板 且被複數 行走，一 動之變動 9 200916201 檢測手段檢測吐出塗佈液於基板之前述塗佈單元的動作之 變動，根據該檢測結果，基板上的塗佈液的塗佈狀態被判斷。 依照上述塗佈方法，因即使是塗佈單元行走的導執被 分割的情形，也能在塗佈動作中檢測塗佈不均的產生，故 與如以往般在生產預定片數的塗佈基板後，藉由別的製程 的塗佈膜檢查製程檢測塗佈不均❸情形比較，可冑免不U 板被大量生產之問題，可提高良率。 土 而且也此以如下之構成：在前述塗佈單元包含有藉 供給空氣至導軌的表面，使塗佈單元由導軌浮起來之= :，在供給空氣至該轴承部的管路配設有:檢測管路… 〜 之壓力檢測手段；檢測管路内的空氣的户 Ϊ的變化之流量檢測手段，_ 〜 ^ , j予奴，別述變動檢測手段包含前述壓 力檢測手段與前述流量拾 娶 /、丨手奴與檢測前述塗佈單元的 走速度之速度檢測手段，者 丁 ρ 、Α θ认 田此4速度檢測手段、壓力檢漁J手 #又、b丨!_ 1Ε檢測手段之中$小 予 ^ ^ . r ^ ± 夕一個檢測手段的檢測結果脫離& β又疋的fe圍時，被判斷A ^ 反W斷為基板上的塗佈狀態為不適當。 依照該構成，可提离其 當之可靠度。 β 土板上的塗佈狀態被判斷為不適 【發明的功效】 可避免不良塗# 依照本發明的塗佈裝置及塗佈方法 基板被大量生產之問題，可提高良率。 【實施方式】 10 200916201 使用圖面說明與本發明有關的實施的形態。 疋』丁本發月的_實施形態中的塗佈裝置1之斜視 圖。圖2是概略地顯示 ,..^ z佈裝置1的空氣軸承（air bear 1 ng) 1 4中的空翁糸姑> _ '、、之圖，圖3是顯示塗佈單元5的 單元支撐部7附近之圖。 如圖1〜圖3所示，塗Λ θ .、姑 完佈裝置1疋塗佈藥液或光阻 (res 1st)等的液狀物（以下 卜稱為塗佈液）於所供給的薄板狀 的基板2。該塗佈裝置1且供 一備··基台3 ;用以承载基板2之平 台4;對該平台4可移舍 、、特疋方向而構成之塗佈單元5。 此外，在以下的說明中杲 _
T疋U塗佈早凡5移動的方向為X 轴方向，以與X轴方向在h J仕水千面上正交的方向為γ軸方向， 以正交於X軸及Y軸方向之罅古沾七A 4 I雙方的方向為z軸方向來進行說 明。 在前述基台3承載有各構成構件，例如平台4、導軌13 及塗佈單元5。 前述平台4是將所搬進的基板2承載於其表面而保持。 具體上，在平台4形成有開設於其表面的複數個吸引孔（未 圖示）此專及引孔與真空果（vacuum pump)9(參照圖4)是 連通而連接。而且，藉由於在平台4的表面承載有基板2 的狀態下使真空泵9動作，在吸引孔產生吸引力，使基板2 被吸引至平台4的表面側而被吸附保持。 而且，在平台4配設有使基板2進行升降動作之基板升 降機構（未圖示）。亦即，在平台4的表面形成有複數個銷孔 (Pin hole)，在該銷孔埋設有可在Z軸方向進行升降動作之 200916201 頂出銷（lift pin)。據此’藉由於在平台4的 2的狀態下使頂出銷上升或下降，於頂出銷的尖端部分：接 基板2的狀態下’可進行基板2的升降動作及可保持基板2 於預定的高度位置。 前述導轨13為導引塗佈單元5的行走，延伸配設於〉 軸方向。在本實施形態中’一對導軌13是在平台4的Y轴 方向兩側沿著平台4配設。料軌13是藉由連結有複數個 導軌零件13a而構成’在顯示於圖i的例子中，兩個導軌零 件13a是在連結部13b被連結。亦即’連結部1儿是位於導 軌13的X軸方向之約略中央。 導軌零件13a具有平坦且平滑的導面 face) 13c。該導面13c是形成於與後述的塗佈單元5的空氣 軸承14(本發明的軸承部）對向的位置。亦即在本實施2離 中’在各個導軌零件13a形成㈣z軸方向^直的方向和 與Y軸方向呈垂直的方向之兩處。而且，使導軌零件⑴ 連結’在組裝了導軌13的狀態下’形成該導面i3c連續延 伸於特定方向（X軸方向）的狀離。 J ^ 而且，在導執零件13a彼 此的接縫，亦即連結部】φ县夂加播 丨Ub中疋各個導軌零件13a的導面 W彼此連續，被連結成略平坦狀。據此，使塗佈單 順地移動於導軌1 3上。
刖述塗佈單元5是用Li膝洽V & AJU 疋用以將塗佈液塗佈於被承載於平台 的基板2’具有:延伸於一方向，吐出塗佈液之開縫喷嘴部 6,配設於該開縫喷嘴部6的兩端部分之單元支撐部卜 前述單元支樓部7是用以升降動作可能地支擇開 12 200916201 嘴部6 ’並且使該開縫噴嘴部6移動於χ軸方向。亦即，該 單元支樓部1 2 3 4 5具有：使開縫喷嘴部6進行升降動作之升降裝 置20 ;使開縫喷嘴部6行走之行走裝置1 〇。 升降裝置20是使開縫喷嘴部6進行升降動作，具有： 延伸於Z軸方向之導軌（guide rai 1)21 ;與開縫噴嘴部6 連結之滑塊（slider)22。在該導軌21，滑塊22是沿著導軌 21被滑動自如地安裝。而且，在滑塊22安裝有藉由伺服馬 達23驅動的滾珠螺桿（baU screw)機構，藉由驅動控制該 伺服馬達23使滑塊22移動於z軸方向，並且可在任意的位 置知止。據此’使開縫喷嘴部6朝Z轴方向的升降動作被驅 動控制’對平台4可接離（attach and detach)地動作。 行走裝置1 0如圖3所示是用以使開缝噴嘴部6行走於 X轴方向’具有滑塊支撐部11與線性馬達（linear motor) 1 2 ° 13 1 亥滑塊支擇部61是藉由配設於與導軌1 3之間的空氣軸 承14(本發明的轴承部）支撐於導執13上。而且，藉由驅動 控制安裝於滑塊支撐部丨丨之線性馬達1 2，使滑塊支撐部i丄 移動於X轴方向。具體上如圖2、圖3所示，在配設於滑塊 2 支撐部7的空氣軸承14透過管路81連接有壓縮機 3 (compressor)80 ’藉由使該壓縮機8〇動作，使空氣由空氣 4 轴承14供給至導面l3c側。而且，藉由在空氣軸承14與導 5 面1 3c之間供給有空氣，使滑塊支撐部〗丨被維持於由導面 6 13c '于起來的狀態。而且，藉由在滑塊支撐部11浮起來的 7 狀態下使線性馬達丨2驅動，使滑塊支撐部丨丨移動於X軸方 200916201 向。亦即’塗佈單元. 疋在藉由使線性馬達12驅動，使空 氣轴承14由導軌13+ 々'起來的狀態下可沿著X軸方向行走。 而且在管路81，备―々， 各個空氣軸承1 4配設有計測供給 至空氣抽承“的空氣的壓力之壓力言"2。而且，每一各個 空氣軸承14配設有計剛所供給的空氣的流量之流量計83。 此等壓力計82及流量斗 α 8 3疋連接於後述的控制裝置，計測 結果被取入控制裝置。 而且在滑塊支撐部 ― U，塗佈早兀5的χ軸方向中的位 置被檢測。亦即，在道# η 0 ^ 導執13上沿著導面丨&設有刻度 (scale)15b。而且，a说仏丄，此 在⑺塊支撐部11於與該刻度丨5b對向 的位置安裝有刻度讀取邱1 買取。P 1 5a，藉由以該刻度讀取部1 5a讀 取刻度1 5 b，即使塗佈罩开ς 冲早το 5為灯走中也能精度佳地檢測現 在的塗佈單元5的位置。吐冰 *1 * ^ ^ Α 罝此外，刻度瀆取部1 5a是與後述的 控制裝置連接，根據該位罟咨4 各& „ , 承X证罝貝訊使塗佈單元5的行走速度被 運算。據此，可經常檢測塗佈單元的行走速度。 刚述開縫喷嘴部6是塗佈塗佈液於基板2上。該開縫喷 嘴部6疋具有延伸於γ軸方向的形狀之柱狀構件，在與平台 4的表面對向之側形成有吐出塗佈液之喷嘴（n〇zzle)6i (參 照圖3)。該噴嘴61是突出於平台4的表面側，在該突出的 部分形成有延伸於γ軸方向的形狀之開縫（slit)。亦即，透 過該開縫使供給至開縫嘴嘴部6的塗佈液吐出至基板2的表 面。 接著’針對上述塗佈裝置1的控制系統之構成，使用圖 4所示的方塊圖來說明。 14 200916201 圖4是顯示配設於該塗佈裝置之控制裝置9 〇的控制系 統之方塊圖。如圖4所示’該塗佈裝置i配設有控制上述的 各種單元的驅動之控制裝置90。該控制裝置9〇具有.控制 本體部91、驅動控制部92、位置檢測部93、壓力檢測部94、 流量檢測部95、輸入/輸出裝置控制部96、外部裝置控制部 97 ° 控制本體部91具備：執行邏輯運算之週知的cpu;預先 記憶控制該CPU之種種的程式等之R〇M(Read-〇nly Mem〇ry : 唯讀記憶體）；在裝置動作中一時地記憶種種的資料（data) 之RAM(Random Access Memory:隨機存取記憶體）；記憶種 種的程式或OSCOperating System:作業系統）並且記憶生產 程式等的各種資料之HDD (Hard Disk:硬碟）等。而且，控制 本體部91具有：主控制部91a、判定部91b、記憶部9lc。 主控制部91 a為為了依照預先記憶的程式執行一連串 的塗佈動作，透過驅動控制部92驅動控制各種單元的驅動 裝置等’並且在該塗佈動作中進行必要的各種運算。在本實 施形態中，可根據來自刻度讀取部1 5a之位置資訊運算塗佈 單元5的行走速度。 判&。卩91 b為在塗佈單元5行走，塗佈塗佈液至基板2 的塗佈動作時’判定塗佈單元5的行走速度、供給至空氣軸 的二氣的壓力及空氣的流量是否適當。亦即，針對塗 ^ 、行走速度’是根據藉由刻度讀取部1 5 a檢測的位 f貝吼判斷藉由主控制部91 a運算的行走速度是否滿足預 疋的條件。而且，針對空氣的壓力及流量是判斷藉由壓力計 15 200916201 ^ 机叶83檢測的檢測壓力P及檢測流量F是否滿足預 ，的條件。具體上，在後述的記憶部9 1 c記憶有產生塗佈不 均的障$之條件（塗佈不均產生條件），判斷所檢測的行走速 檢/則壓力p、檢測流量F是否在該塗佈不均產生條件 :範圍内。亦即’對行走速度V、檢測壓力p及檢測流量F , 有臨界值（thresho 1 d va 1 ue )，當超過該臨界值 判斷為產生塗佈不均。在本實施形態中，當行走速度V、 壓力P檢測流量F之任一個超過所設定的臨界值時， 判斷為產生塗佈不均，主控制部9 i &透過驅動控制部Μ使 各伺服馬達23、線性馬達12等的驅動停止，並且發出警告。 — 圮憶部91 c是用以儲存有各種資料，並且一時地儲存運 算'、’《果、叶測結果等。在本實施形態中，隨時記憶有依照刻 度讀取部15a的檢測結果而運算的行走速度v，並且隨時記 隱有藉由壓力計8 2、流量計8 3檢測的檢測壓力p、檢測流 量F。具體上’在行走速度v、檢測壓力p、檢測流量F被 賦予與藉由刻度讀取部i 5 a讀取的刻度位置s (刻度1 5匕上 的塗佈單元5的位置）有關聯的狀態下被記憶。 而且，在該記憶部91 c記憶有塗佈不均產生條件。該塗 佈不均產生條件是藉由產生的塗佈不均在容限（t〇lerance) 内的情形之最大值、最小值、變動值等的臨界值構成，例如 以超過臨界值的情形或以由此等複數個臨界值設定的範圍 脫離的情形當作塗佈不均產生條件而設定。該塗佈不均產生 條件是藉由依照預先進行塗佈裝置丨的塗佈動作而求得的 實驗條件設定。此外，記憶於該記憶部9 1 c之塗佈不均產生 200916201 條件可由鍵盤（keyboard)98或觸控面板（t〇uch panei)99 變更。 驅動控制部9 2是根據來自主控制部9丨&的控制信號驅 動控制線性馬達1 2、伺服馬達2 3等。具體上，藉由控制線 性馬達12及飼服馬達23使塗佈單元5中的行走裝置1〇及 升降裝置20被驅動控制。 位置檢測部93是藉由刻度讀取部丨5a讀取刻度丨5b， 檢測塗佈單元5的位置。該檢測結果是隨時藉由記憶部91c §己憶。而且，根據該檢測結果透過主控制部9丨a運算塗佈 單元5的行走速度V。 壓力檢測部94是檢測藉由壓力計82計測的壓力。該被 檢測的檢測壓力p是隨時藉由記憶部91c記憶。 流量檢測部9 5疋檢測藉由流量計8 3計測的流量。該被 檢測的檢測流量F是隨時藉由記憶部9丨c記憶。
號進行外部裝置的驅動控制。 琢來自主控制部91 a的控制信 在本實施形態中藉由與壓縮機 200916201 80連接，使該壓縮機80驅動，以供給空氣至空氣軸承i4。 接著，針對該塗佈裝置1中的塗佈動作，一邊參照圖s 所不的流程圖，一邊說明。此外，在本實施形態中，塗佈不 均產生條件為塗佈單元5的行走速度V的最大值Va與最小 值Vb、檢測壓力p的最大值Pa與最小值扑、檢測流量f 的最大值Fa與最小值Fb分別當作臨界值而設定，針對當此 等行走速度V、檢測壓力p、檢測流量F由以臨界值設定的 範圍（以最大值與最小值設定的範圍）脫離時，判斷為塗佈不 均產生之情形來說明。 首先’在步驟S1中基板2的保持被進行。具體上，在 由平台4的表面突出複數根頂出銷的狀態下待機，基板2 被承載於此荨頂出銷的尖端部分。而且，藉由使頂出銷下降 將基板2承載於平台4的表面，在此狀態下使真空泵9動 作，在吸引孔產生吸引力，使基板2吸附保持於平台4的 表面上。 接著，開始塗佈單元5的行走（步驟S2)。具體上，在 藉由由壓縮機80供給空氣至空氣軸承14，使塗佈單元5浮 起來的狀態下，透過驅動控制線性馬達丨2使開縫喷嘴部6 行走至基板2上的預定位置。 接著’開始行走速度V、檢測壓力p、檢測流量f的監 視（步驟S3)。具體上，由來自刻度讀取部15a的塗佈單元5 的位置資訊運算塗佈單元5的行走速度v，該被運算的行走 逮度V被s己憶於記憶部91 c。而且，藉由壓縮機8 〇供給至 空氣軸承14的空氣的壓力透過壓力計82檢測，並且空氣的 200916201 流篁透過流量計8 3檢測，該被檢測的壓力值p及被檢測的 流量值F被記憶於記憶部91 c。 而且接著’塗佈液被塗佈於基板上（步驟S4)。具體上， 在監視行走速度V等的狀態下，使塗佈單元5行走至預定位 置。而且’藉由若塗佈單元5到達預定位置，則透過驅動控 制升降裝置20使開縫喷嘴部6由基板2的位置成為預定的 回度位置而設定’由此狀態驅動控制線性馬達1 2，使開縫 噴嘴邠6行走於X轴方向。亦即，藉由一邊由開缝噴嘴部6 的開缝吐出塗佈液，一邊使開縫喷嘴部6行走，使塗佈液被 以均勻厚度塗佈於基板2上。此時，行走速度V、檢測壓力 p、檢測流量F分別被記憶於記憶部91 c。 接著’判斷塗佈不均是否產生（步驟S5)。具體上，根 據行走速度V、檢測壓力p、檢測流量F是否由以臨界值設 定的範圍（最大值（Va，Pa, Fa)至最小值（Vb，Pb，Fb)的範 圍）脫離來判斷。此處，圖6是顯示行走速度v、檢測壓力p、 f測流量F的計測結果與刻度位置s的關係之圖，圖6(a) 是顯示行走速度v與刻度位置s的關係之圖，圖6(b)是顯 示檢測壓力p與刻度位置S的關係之圖，圖6(c)是顯示檢 測流量F與刻度位置s的關係之圖。 如該圖6(a)〜圖6(c)所示，在塗佈單元5行走於導軌 1 3的導面1 3c的狀態下，行走速度v、檢測壓力p、檢測流 量F是顯示大約一定值，惟在導軌13的連結部13b(刻度位 置S的中央部分So)中，在行走速度v、檢測壓力p、檢測 流量F產生擾動。亦即，由於塗佈單元5通過導軌13的連 19 200916201 結部13b(不連續面）時的塗佈單s 5的動作的擾動，且 氣轴承14朝導軌13供給的空氣的擾動’使得行走速 檢測壓力P、檢剛流量F變化。而且，在已變化的行：卢 V、檢測壓力P、檢测流量F超過以臨界值設定的 ： 判斷為具有塗佈不均。亦即，在圖6所示的例子中，因超 設定有連結部13b附近中的行走速度v的臨界值（Va ° °， 故在判定部91 b中坐丨i 1 ,a ’ J斷為具有塗佈不均。而且，藉由當 為具有塗佈不均時’前進到步驟S6，在觸控面板99上 警告顯示，催促警告给操作者，使塗佈裝置i停止。π 而且，在步驟S5中藉由不滿足塗佈不均產生條件，亦 即’行走速度V、檢測壓力ρ、檢測流量F均在以臨界值設 疋的範圍内，當判斷為不產生塗佈不均時，前進到步驟S7， 塗佈基板2被排出。而且，預定片數的塗佈基板2是否被生 產的判斷被進行，當未達到預定片數時，重複來自步驟S1 的處理（步驟S 8 )。 如此，依照本實施形態中的塗佈裝置1，可藉由監視塗 佈動作中的塗佈單元5的行走速度v、供給至空氣; 的空氣的壓力值Ρ、流量值F判斷不良塗佈基板是否被生 產。因此，即使是為了生產大型塗佈基板而不得已進行導軌 的分割的情形，因可在塗佈動作中檢測塗佈不均的產生，故 與如Μ彺般在生產預定片數的塗佈基板後，藉由別的製程的 塗佈膜檢查製程檢測塗佈不均的情形比車交，可冑免不良基板 被大量生產之問題，可提高良率。 而且，在上述實施形態中關於塗佈不均產生條件雖然是 20 200916201 針對以行走速度V、檢測壓力P、檢測流量F各自的最大值 及最小值當作臨界值而設定的例子來說明，惟不限定於此。 即使是例如僅以最大值當作臨界值，當超過該臨界值時，判 斷為產生塗佈不均者也可以。 而且’即使是在當行走速度V、空氣的檢測壓力P、檢 測流量F顯示預定的變化量時產生塗佈不均的情形下，以該 變化量當作臨界值而設定者也可以。具體上，即使是針對所 檢測的行走速度V運算其微分成分，當該微分成分超過預先 設定的微分成分（臨界值）時，判斷為產生塗佈不均者也可 以。據此，因可連續地監視塗佈單元5的變動，故與以最大 值及最小值‘作臨界值設定的情形比較，即使是塗佈單元已 微小地變動的情形也能有效地檢測塗佈不均的產生。因此， 伴隨著塗佈裝置的組裝之高精度化’連結部13b中的導執 1 3彼此的間隔變成一點點而已，對塗佈單元5的變動變成 微小的情形特別有效。 而且，在上述實施形態中雖然是針對當行走速度v、檢 測壓力P、檢測流量F之任一個脫離以臨界值設定的範圍 時，判斷為產生塗佈不均的例子來說明，惟即使是例如當檢 測壓力P與檢測流量F之兩方脫離以臨界值設定的範圍時， 判斷為產生塗佈不均者也可以"亦即’即使是當由行走迷声 V:檢測壓力P、檢測流量F選擇的兩個以上的要素脫心 臨界值設定的範圍時，判斷為產生塗佈不均者也可以。 對塗佈不均產生條件 過操作者適宜變更者 而且’在上述實施形態中雖然是針 在初期階段被設定的情形來說明，惟透 200916201 也可以。例如，儘管產生塗佈不均的不良塗佈基板被生產， 在塗佈動作未被停止的情形下，藉由透過操作者由觸控面板 99輸入生產有該不良塗佈基板之塗佈不均產生條件，更新 各臨界值’使其反映於之後的塗佈基板的生產者也可以。據 此，僅藉由被初期設定的塗佈不均產生條件就能避免不良塗 佈基板被大量生產之問題。 圖 圖式簡單說明】 1是顯示本發明的—實施形態中的塗饰裝置之斜視 圖 圖2疋概略地顯不上述塗佈裝置的空氣轴承中的空氣 系統之圖。 :::顯不上途塗佈裴置的單元支撐部附近之圖。 圖5是顯示上述塗4置置的：糸統之方塊圖。 圖⑽、⑻士)二置？作之流程圖。 v、檢測壓力p、檢測流量=述塗佈裳置中的行走速度 係之圖’ ® 6(a)是顯示行速：測結果與刻度位置S的關 圖，圖6⑻是顯示檢測 與刻度位置$的關係之 圖6(c)是顯示檢測流量 '刻度位置S的關係之圖， F與刻度位置S的關係之圖。 【主要元件符號說明】 1:塗佈裝置 2:基板 22 200916201 3 :基台 4 :平台 5 :塗佈單元 6 :開縫喷嘴部 7 :單元支撐部 9 :真空泵 I 0:行走裝置 II :滑塊支撐部 1 2 :線性馬達 13 :導執 13a:導執零件 13b:連結部 1 3c :導面 1 4 :空氣軸承 15a:刻度讀取部 15b:刻度 1 5c :導面 20:升降裝置 21 :導軌 2 2 :滑塊 2 3 :伺服馬達 6 1 :喷嘴 8 0 :壓縮機 81 :管路 23 200916201 82··壓力計 8 3 :流量計 90:控制裝置 9 1 :控制本體部 9 1 a :主控制部 9 1 b 判定部 91 c :記憶部 92:位置檢測部 9 3 :壓力檢測部 9 4 :流量檢測部 9 5 :流量檢測部 96:輸入/輸出裝置控制部 9 7 :外部裝置控制部 98 :鍵盤 9 9 :觸控面板 F :檢測流量 P :檢測壓力 V :行走速度