JP7228028B2 - 薄い耐久性の反射防止構造を有する無機酸化物物品 - Google Patents

Description

関連出願の説明

本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用される、２０１８年８月１７日に出願された米国仮特許出願第６２／７６５０８１号の米国法典第３５編第１１９（ｅ）条の下での優先権の恩恵を主張するものである。

本開示は、薄い耐久性の反射防止構造を有する無機酸化物物品およびその製造方法に関し、より詳しくは、薄い多層反射防止コーティングを有する物品に関する。

電気製品内の装置を保護するために、入力のためのユーザ・インターフェースおよび／またはディスプレイを提供するために、および／または多くの他の機能を提供するために、カバー物品がしばしば使用される。そのような製品としては、携帯型機器、例えば、スマートフォン、スマートウォッチ、ｍｐ３プレーヤー、およびタブレット型コンピュータが挙げられる。カバー物品は、建築物品、輸送物品（例えば、自動車用途、列車、航空機、船舶などに使用される内部と外部のディスプレイおよび非ディスプレイ物品）、電気器具物品、またはある程度の透明性、耐引掻性、耐摩耗性、またはその組合せから恩恵を受けるであろう任意の物品も含む。これらの用途は、しばしば、耐引掻性、並びに最大の光透過率および最小の反射率に関する強力な光学性能特徴を要求する。さらに、いくつかのカバー用途について、反射および／または透過における、示されるまたは知覚される色が、視角が変えられたときに感知できるほどは変わらないことが有益である。ディスプレイ用途において、これは、反射色または透過色が視角により、認識できる程度に変化する場合、その製品の使用者は、ディスプレイの色または輝度の変化を知覚し、これにより、ディスプレイの知覚品質が低下し得るからである。他の用途において、色の変化は、その装置の美的外観または他の機能面にマイナスの影響を及ぼすことがある。

これらのディスプレイおよび非ディスプレイ物品は、多くの場合、実装に制約がある用途（例えば、携帯型機器）に使用される。特に、これらの用途の多くは、数パーセントの減少でさえも、全体の厚さの減少から著しく恩恵を受けることができる。それに加え、そのようなディスプレイおよび非ディスプレイ物品を用いる用途の多くは、例えば、原材料費の最小化、工程の複雑さの最小化、および収率の改善により、低い製造費の恩恵を受ける。既存のディスプレイおよび非ディスプレイ物品に匹敵する光学的および機械的性質の性能属性を有するより小さいパッケージングも、減少した製造費（例えば、より少ない原材料費、反射防止構造における層の数の減少などにより）の要望をかなえることができる。

カバー物品の光学性能は、様々な反射防止コーティングを使用することにより改善することができる；しかしながら、公知の反射防止コーティングは、損耗や摩耗を受けやすい。そのような摩耗により、反射防止コーティングにより達成されるどのような光学性能の改善も損なわれ得る。例えば、光学フィルタは、多くの場合、異なる屈折率を有する多層コーティングから製造され、光学的に透明な誘電材料（例えば、酸化物、窒化物、およびフッ化物）から製造される。そのような光学フィルタに使用される典型的な酸化物のほとんどは、バンドギャップの大きい材料であり、これは、携帯型機器、建築物品、輸送物品または電化製品に使用するために要求される機械的性質、例えば、硬度を持たない。ほとんどの窒化物およびダイヤモンド状コーティングは、高い硬度値を示さないであろうし、この高い硬度値は、改善された耐摩耗性と関連付けられるが、そのような材料は、そのような用途にとって望ましい透過率を示さない。

摩耗損傷は、対向物体（例えば、指）の往復滑り接触を含み得る。それに加え、摩耗損傷は熱を生じ得、その熱は、膜材料中の化学結合を分解し、剥離およびカバーガラスに対する別のタイプの損傷を生じ得る。摩耗損傷は、大抵、引っ掻き傷を生じる単事象よりも長期間に亘り経験されるので、摩耗損傷を経験する配置された被覆材料は、酸化もすることがあり、これによって、コーティングの耐久性がさらに低下する。

したがって、耐摩耗性であり、許容されるまたは改善された光学的性能およびより薄い光学構造を有する、新たなカバー物品、およびその製造方法が必要とされている。

本開示のいくつかの実施の形態によれば、互いに反対の主面を有する無機酸化物基板；およびその無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含み、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有する光学フイルム構造を備えた物品が提供される。その物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、この硬度および最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定される。さらに、この物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す。

本開示のいくつかの実施の形態によれば、互いに反対の主面を有する無機酸化物基板；およびその無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、その第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造を備えた物品が提供される。各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含む。その低屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、高屈折率層は、１．８超の屈折率を有する。この高屈折率層は、無機酸化物基板上に約２マイクロメートル（ミクロンまたはμｍ）の物理的厚さを有する高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して１８ＧＰａ以上の最大硬度を示す。さらに、その物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す。

本開示のいくつかの実施の形態によれば、互いに反対の主面を有する無機酸化物基板；およびその無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、その第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造を備えた物品が提供される。各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含む。その低屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、高屈折率層は、１．８超の屈折率を有する。その光学フイルム構造はさらに、体積で３０％以上の高屈折率層を含む。さらに、その物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す。

本開示のいくつかの実施の形態によれば、互いに反対の主面を有する無機酸化物基板；およびその無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、その基板の第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造を備えた物品が提供される。その低屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、高屈折率層は、１．８超の屈折率を有する。その物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、この硬度および最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定される。その光学フイルム構造はさらに、体積で３５％以上の高屈折率層を含む。その物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す。この高屈折率層は、無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して１８ＧＰａ以上の最大硬度を示す。さらに、その物品は、反射で約－１０から＋２のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、このａ^＊値およびｂ^＊値の各々は、垂直入射照明角度で光学フイルム構造に測定される。

追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載されたような実施の形態を実施することによって認識されるであろう。

先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、例示に過ぎず、請求項の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供することが意図されているのが理解されよう。

添付図面は、さらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、１つ以上の実施の形態を示しており、説明と共に、例として、本開示の原理および作動を説明する働きをする。本明細書および図面に開示された本開示の様々な特徴は、任意と全ての組合せで使用できることを理解すべきである。非限定例により、本開示の様々な特徴は、以下の実施の形態にしたがって、互いに組み合わされることがある。

本開示のこれらと他の特徴、態様および利点は、添付図面を参照して本開示の以下の詳細な説明を読んだときに、よりよく理解される。

１つ以上の実施の形態による物品の側面図 １つ以上の実施の形態による物品の側面図 １つ以上の実施の形態による物品の側面図 １つ以上の実施の形態による物品の側面図 ここに開示された物品のいずれかを組み込んだ例示の電子機器の正面図 図４Ａの例示の電子機器の斜視図 ここに開示された物品のいずれかを組み込める乗物内装システムの乗物内装の斜視図 ここに開示された物品に関する硬度対圧入深さのプロット ここに記載された物品のほぼ垂直入射で測定した、または計算した第一面の反射色座標のプロット Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験が施された本開示の物品から得られる、およびニオビアとシリカからなる比較の反射防止コーティングから得られる、正反射光除去（ＳＥＣ）値のプロット 本開示の反射防止コーティングおよび物品に使用するのに適した、ある実施の形態による、高屈折率層材料の硬度試験積層体に関する硬度対圧入深さのプロット ５層と７層の反射防止コーティングを含む、本開示による物品の透過率（片面）対波長のプロット

以下の詳細な説明において、限定ではなく説明目的のために、特定の詳細を開示する例示の実施の形態が、本開示の様々な原理の完全な理解を与えるために述べられている。しかしながら、本開示の恩恵を受けた当業者には、本開示は、ここに開示された特定の詳細から逸脱する他の実施の形態においても実施されることがあることが明白であろう。さらに、よく知られた装置、方法および材料の記載は、本開示の様々な原理の説明を分かりにくくしないように省かれることがある。最後に、適用できるところはどこでも、同様の参照番号は同様の要素を指す。

範囲は、「約」ある特定の値から、および／または「約」別の特定の値までと、ここに表すことができる。ここに用いられているように、「約」という用語は、量、サイズ、配合物、パラメータ、および他の数量と特徴が、正確ではなく、正確である必要はないが、許容誤差、変換係数、丸め、測定誤差など、および当業者に公知の他の要因を反映して、必要に応じて、近似および／または大きいまたは小さいことがあることを意味する。値または範囲の端点を記載する上で、「約」という用語が使用されている場合、本開示は、称されている特定の値または端点を含むと理解すべきである。本明細書における数値または範囲の端点に「約」が付いていようとなかろうと、その数値または範囲の端点は、「約」で修飾されたもの、および「約」で修飾されていないものの２つの実施の形態を含むことが意図されている。それらの範囲の各々の端点は、他方の端点に関してと、他方の端点とは関係なくの両方で有意であることがさらに理解されよう。

ここに用いられている「実質的」、「実質的に」という用語、およびその変形は、記載された特徴が、ある値または記載と等しいまたはほぼ等しいことを指摘する意図がある。例えば、「実質的に平らな」表面は、平らまたはほぼ平らである表面を示す意図がある。さらに、「実質的に」は、２つの値が等しいまたはほぼ等しいことを示す意図がある。いくつかの実施の形態において、「実質的に」は、互いの約１０％以内、例えば、互いの約５％以内、または互いの約２％以内の値を示すことがある。

ここに用いられている方向を示す用語－例えば、上、下、右、左、前、後、上部、底部－は、描かれた図面に関してのみで使用され、絶対的な向きを暗示する意図はない。

特に明記のない限り、ここに述べられたどの方法も、その工程が特定の順序で行われることを必要とすると解釈されることは決して意図されていない。したがって、方法の請求項が、その工程がしたがうべき順序を実際に列挙していない場合、またはその工程が特定の順序に限定されるべきであることが特許請求の範囲または説明に他に具体的に述べられていない場合、どの点に関しても、順序が暗示されることは決して意図されていない。このことは、工程または操作の流れの配置に関する論理の問題；文法構成または句読点に由来する明らかな意味；明細書に記載された実施の形態の数またはタイプを含む、解釈のどの可能な不明確な基準にも適用される。

ここに用いられているように、名詞は、そうではないと明白に示されていない限り、複数の対象を含む。それゆえ、例えば、「成分」への言及は、そうではないと明白に示されていない限り、そのような成分を２つ以上有する実施の形態を含む。

本開示の実施の形態は、薄い耐久性の反射防止構造を有する無機酸化物物品およびその製造方法に関し、より詳しくは、耐摩耗性、低い反射率、および無色透過率および／または反射率を示す薄い多層反射防止コーティングを有する物品に関する。これらの物品の実施の形態は、５００ｎｍ未満の全物理的厚さを有しつつ、これらの物品に意図される用途（例えば、表示装置、内装および外装自動車構成部材などのカバー、筐体および基板としての）に関連する硬度、耐摩耗性および光学的性質を維持する反射防止光学構造を有する。

図１を参照すると、１つ以上の実施の形態による物品１００は、基板１１０およびその基板上に配置された反射防止コーティング１２０（ここでは「光学フイルム構造」とも称される）を備えることがある。基板１１０は、互いに反対の主面１１２、１１４および互いに反対の副面１１６、１１８を備える。反射防止コーティング１２０は、図１に、第１の主面１１２上に配置されていると示されている；しかしながら、反射防止コーティング１２０は、第１の主面１１２上に配置されることに加え、またはその代わりに、第２の主面１１４および／または互いに反対の副面の一方または両方に配置されてもよい。反射防止コーティング１２０は、反射防止表面１２２を形成する。

反射防止コーティング１２０は、少なくとも１種類の材料の少なくとも１つの層を含む。「層」という用語は、単層を含んでも、１つ以上の副層を含んでもよい。そのような副層は、互いに直接接触していてよい。その副層は、同じ材料または２種類以上の異なる材料から形成されてもよい。１つ以上の代わりの実施の形態において、そのような副層は、それらの間に配置された異なる材料の介在層を有することがある。１つ以上の実施の形態において、層は、１つ以上の接触した連続層および／または１つ以上の不連続の断続層（すなわち、互いに隣接して形成された異なる材料を有する層）を含むことがある。層または副層は、個別堆積過程または連続堆積過程により形成されてもよい。１つ以上の実施の形態において、その層は、連続堆積過程のみ、または、あるいは、個別堆積過程のみを使用して形成されてもよい。

ここに用いられているように、「配置する」という用語は、表面上に材料を被覆する過程、堆積する過程、および／または形成する過程を含む。配置された材料は、ここに定義されるような、層を構成することができる。「上に配置された」という句は、材料が表面と直接接触しているように表面上に材料を形成する例を含み、材料が表面上に、その材料と表面との間に１種類以上の介在材料が配置されて形成される例も含む。その介在材料は、ここに定義されるような、層を構成することができる。

１つ以上の実施の形態によれば、物品１００の反射防止コーティング１２０（例えば、図１に関して示され記載されたような）は、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって耐摩耗性により特徴付けることができる。ここに用いられているように、「Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験」は、Ｔａｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ５７５０リニア研磨機によって駆動される約１インチ（約２．５４ｃｍ）のストローク長さを使用して、５０回の研磨サイクルについて０．７ｋｇの総質量で市販の８００グリットのアルミナ研磨紙（１０ｍｍ×１０ｍｍ）に試料を施すことによって行われる。次に、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって、本開示の分野における当業者により理解される原理にしたがって、研磨試料からの反射した正反射光除去（ＳＥＣ）値を測定することによって、耐摩耗性が特徴付けられる。より詳しくは、ＳＥＣは、直径６ｍｍの開口を有するＫｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ ＣＭ７００Ｄを使用して測定される、反射防止コーティング１２０の表面からの乱反射の尺度である。いくつかの実施によれば、物品１００の反射防止コーティング１２０は、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験から得られた、０．４％未満、０．２％未満、０．１８％未満、０．１６％未満、またさらには０．０８％未満のＳＥＣ値を示すことができる。対照的に、市販の反射防止コーティング（６層のＮｂ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２多層コーティングなど）は、０．６％超の研磨紙研磨後のＳＥＣ値を有する。研磨誘起損傷は表面粗さを増加させ、乱反射（すなわち、ＳＥＣ値）の増加をもたらす。より低いＳＥＣ値は、それほどひどくない損傷を示し、改善された耐摩耗性を示す。

反射防止コーティング１２０および物品１００は、バーコビッチ圧子硬度試験により測定された硬度に関して記載されることがある。さらに、当業者には、反射防止コーティング１２０および物品１００り耐摩耗性は、これらの要素の硬度に関連付けられることが理解されよう。ここに用いられているように、「バーコビッチ圧子硬度試験」は、ダイヤモンド製バーコビッチ圧子で表面に窪みを付けることによって、表面上の材料の硬度を測定することを含む。このバーコビッチ圧子硬度試験は、ダイヤモンド製バーコビッチ圧子で物品１００の反射防止表面１２２または反射防止コーティング１２０の表面（またはその反射防止コーティング内の層のいずれか１つ以上の表面）に窪みを付けて、約５０ｎｍから約１０００ｎｍの範囲（もしくは反射防止コーティングまたは層の全厚さ、いずれか小さい方）の圧入深さまで窪みを形成する工程、および一般に、Ｏｌｉｖｅｒ，Ｗ．Ｃ．およびＰｈａｒｒ，Ｇ．Ｍ．の「An improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments」、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．６，１９９２，１５６４－１５８３；およびＯｌｉｖｅｒ，Ｗ．Ｃ．およびＰｈａｒｒ，Ｇ．Ｍ．の「Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation: Advances in Understanding and Refinements to Methodology」、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．，Ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．１，２００４，３－２０に述べられた方法を使用して、全圧入深さ範囲に沿った、この圧入深さの特定の区分（例えば、約１００ｎｍから約５００ｎｍの深さ範囲の）に沿った、様々な地点で、または特定の圧入深さで（例えば、１００ｎｍの深さで、５００ｎｍの深さでなど）、この圧入から硬度を測定する工程を含む。さらに、硬度が圧入深さ範囲（例えば、約１００ｎｍから約５００ｎｍの深さ範囲）に亘り測定される場合、その結果は、規定の範囲内の最大硬度として報告することができ、ここで、最大値は、その範囲内の各深さで行われた測定値から選択される。ここに用いられているように、「硬度」および「最大硬度」の両方は、硬度値の平均ではなく、測定されたままの硬度値を称する。同様に、硬度がある圧入深さで測定される場合、バーコビッチ圧子硬度試験から得られた硬度の値は、その特定の圧入深さについて与えられる。

典型的に、下にある基板より硬いコーティングのナノインデンテーション測定方法（バーコビッチ圧子を使用することなど）において、測定された硬度は、浅い圧入深さでの塑性領域の発生のために、最初に増加するようであり、次いで、より深い圧入深さで最大値または平坦域に到達する。その後、硬度は、下にある基板の効果のために、さらにより深い圧入深さで減少し始める。コーティングと比べて増加した硬度を有する基板が使用される場合、同じ効果が見られる；しかしながら、硬度は、下にある基板の効果のためにより深い圧入深さで増加する。

圧入深さ範囲および特定の圧入深さ範囲での硬度値は、下にある基板の効果のない、ここに記載された光学フイルム構造およびその層の特定の硬度応答を特定するように選択することができる。バーコビッチ圧子で光学フイルム構造（基板上に配置された場合）の硬度を測定するときに、材料の永久歪みの領域（塑性領域）は、材料の硬度に関連する。圧入中、弾性応力場が、永久歪みの領域をはるかに越えて延在する。圧入深さが増加するにつれて、見掛け硬度および弾性率は、下にある基板との応力場相互作用により影響を受ける。硬度に対する基板の影響は、より深い圧入深さ（すなわち、典型的に、光学フイルム構造または層の厚さの約１０％より深い深さ）で生じる。さらに、硬度応答は、圧入過程中に全塑性を生じるために特定の最小荷重を使用することが、さらにやっかいな問題である。その特定の最小荷重の前に、硬度は、概して増加する傾向を示す。

小さい圧入深さ（小さい荷重として特徴付けられることもある）（例えば、約５０ｎｍまで）では、材料の見掛け硬度は、圧入深さに対して劇的に増加するようである。この小さい圧入深さ領域は、硬度の真の指標を表さない；その代わりに、上述した塑性領域の発生を反映し、これは、圧子の有限曲率半径に関連する。中間の圧入深さでは、見掛け硬度は、最大レベルに近づく。より深い圧入深さでは、基板の影響は、圧入深さが増加するにつれて、より著しくなる。圧入深さが光学フイルム構造の厚さまたは層の厚さの約３０％を一旦超えると、硬度は劇的に低下し始めるであろう。

上述したように、当業者は、バーコビッチ圧子硬度試験から得られたコーティング１２０および物品１００の硬度および最大硬度の値が、例えば、基板１１０により過度に影響を受けるよりも、これらの要素を表すことを確実にする上で様々な試験関連の検討事項を検討することができる。さらに、当業者は、本開示の実施の形態が、意外なことに、反射防止コーティング１２０の比較的小さい厚さ（すなわち、５００ｎｍ未満）にもかかわらず、そのコーティング１２０に関連する高い硬度値を示すことも認識することができる。実際に、後の欄において下記に記載された実施例により証拠付けられるように、反射防止コーティング内の高屈折率（ＲＩ）層１３０Ｂ（例えば、図２Ａおよび２Ｂを参照のこと）の硬度は、これらの層に関連する比較的低い厚さ値にもかかわらず、反射防止コーティング１２０および物品１００の全体の硬度および最大硬度に著しく影響を与え得る。このことは、上述した試験関連の検討事項のために意外である。この検討事項は、測定された硬度が、コーティング、例えば、反射防止コーティング１２０の厚さによりどのように直接的に影響を受けるかを詳しく述べている。一般に、コーティング（より厚い基板の上の）の厚さが減少するにつれて、かつコーティング内のより硬い材料（例えば、硬度がより低いコーティング内の他の層と比べて）の体積が減少するにつれて、そのコーティングの測定硬度は、下にある基板の硬度に向かう傾向にあることが予測されるであろう。それにもかかわらず、反射防止コーティング１２０を含むような（そして、下記により詳しく概説された実施例により例示されるような）本開示の物品１００は、意外なことに、下にある基板と比べて著しく高い硬度値を示し、それゆえ、コーティングの厚さ（５００ｎｍ未満）、より高い硬度の材料の体積比および光学的性質の独特な組合せを示す。

いくつかの実施の形態において、物品１００の反射防止コーティング１２０は、約１００ｎｍの圧入深さでバーコビッチ圧子硬度試験により反射防止表面１２２について測定して、約８ＧＰａ超の硬度を示すことがある。反射防止コーティング１２０は、約１００ｎｍの圧入深さでバーコビッチ圧子硬度試験により測定して、約８ＧＰａ以上、約９ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１１ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１３ＧＰａ以上、約１４ＧＰａ以上、または約１５ＧＰａ以上の硬度を示すことがある。ここに記載されたような、反射防止コーティング１２０および任意の追加のコーティングを含む、物品１００は、約１００ｎｍの圧入深さでバーコビッチ圧子硬度試験により反射防止表面１２２について測定して、約８ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、または約１２ＧＰａ以上の硬度を示すことがある。そのような測定硬度値は、約５０ｎｍ以上または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍから約３００ｎｍ、約１００ｎｍから約４００ｎｍ、約１００ｎｍから約５００ｎｍ、約１００ｎｍから約６００ｎｍ、約２００ｎｍから約３００ｎｍ、約２００ｎｍから約４００ｎｍ、約２００ｎｍから約５００ｎｍ、または約２００ｎｍから約６００ｎｍ）の圧入深さに亘り反射防止コーティング１２０および／または物品１００により示されることがある。同様に、バーコビッチ圧子硬度試験により測定して、約８ＧＰａ以上、約９ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１１ＧＰａ以上、約１２ＧＰａ以上、約１３ＧＰａ以上、約１４ＧＰａ以上、または約１５ＧＰａ以上の最大硬度値が、約５０ｎｍ以上または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍから約３００ｎｍ、約１００ｎｍから約４００ｎｍ、約１００ｎｍから約５００ｎｍ、約１００ｎｍから約６００ｎｍ、約２００ｎｍから約３００ｎｍ、約２００ｎｍから約４００ｎｍ、約２００ｎｍから約５００ｎｍ、または約２００ｎｍから約６００ｎｍ）の圧入深さに亘りその反射防止コーティングおよび／またはその物品により示されることがある。

反射防止コーティング１２０は、約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して、約１８ＧＰａ以上、約１９ＧＰａ以上、約２０ＧＰａ以上、約２１ＧＰａ以上、約２２ＧＰａ以上、約２３ＧＰａ以上、約２４ＧＰａ以上、約２５ＧＰａ以上、およびそれらの間の全ての硬度値の最大硬度（そのような層の表面、例えば、図２Ａの第２の高ＲＩ層１３０Ｂの表面で測定して）を有する材料自体から製造された少なくとも１つの層を有することがある。これらの測定は、先に記載された厚さに関連する硬度測定効果を最小にするために、基板１１０上に配置された、約２マイクロメートルの物理的厚さでの反射防止コーティング１２０の指定された層を含む硬度試験積層体について行われる。そのような層の最大硬度は、約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して、約１８ＧＰａから約２６ＧＰａの範囲にあることがある。そのような最大硬度値は、約５０ｎｍ以上または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍから約３００ｎｍ、約１００ｎｍから約４００ｎｍ、約１００ｎｍから約５００ｎｍ、約１００ｎｍから約６００ｎｍ、約２００ｎｍから約３００ｎｍ、約２００ｎｍから約４００ｎｍ、約２００ｎｍから約５００ｎｍ、または約２００ｎｍから約６００ｎｍ）の圧入深さに亘り少なくとも１つの層（例えば、図２Ａに示されるような、高ＲＩ層１３０Ｂ）の材料により示されることがある。１つ以上の実施の形態において、物品１００は、基板の硬度（反射防止表面と反対の表面で測定することができる）より大きい硬度を示す。同様に、硬度値は、約５０ｎｍ以上または約１００ｎｍ以上（例えば、約１００ｎｍから約３００ｎｍ、約１００ｎｍから約４００ｎｍ、約１００ｎｍから約５００ｎｍ、約１００ｎｍから約６００ｎｍ、約２００ｎｍから約３００ｎｍ、約２００ｎｍから約４００ｎｍ、約２００ｎｍから約５００ｎｍ、または約２００ｎｍから約６００ｎｍ）の圧入深さに亘り少なくとも１つの層（例えば、図２Ａに示されるような、高ＲＩ層１３０Ｂ）の材料により示されることがある。それに加え、少なくとも１つの層（例えば、高ＲＩ層１３０Ｂ）に関連するこれらの硬度および／または最大硬度値は、測定された圧入深さ範囲に亘り特定の圧入深さ（例えば、１００ｎｍ、２００ｎｍなど）で観察することもできる。

反射防止コーティング１２０と空気との間の界面からの反射波と、反射防止コーティング１２０と基板との間の界面からの反射波との間の光学干渉が、物品１００における見掛けの色を作るスペクトル反射率および／または透過率振動をもたらし得る。ここに用いられているように、「透過率」という用語は、材料（例えば、物品、基板、もしくはその光学フイルムまたは部分）を透過する所定の波長範囲内の入射光パワーの百分率と定義される。「反射率」という用語は、同様に、材料（例えば、物品、基板、もしくはその光学フイルムまたは部分）から反射する所定の波長範囲内の入射光パワーの百分率と定義される。１つ以上の実施の形態において、透過率および反射率の特徴付けのスペクトル分解能は、５ｎｍまたは０．０２ｅＶ未満である。その色は、反射においてより明白であろう。角度による色(angular color)は、入射照明角度によるスペクトル反射率振動におけるシフトにより、視角により反射でずれる。視角による透過率における角度による色ずれも、入射照明角度によるスペクトル透過率振動における同じシフトのためである。入射照明角度による観察された色および角度による色ずれは、多くの場合、特に鋭いスペクトル特性を有する照明下で、例えば、蛍光照明およびいくつかのＬＥＤ照明下で、機器の使用者にとって気が散るか、または不愉快である。透過における角度による色ずれも、反射における角度による色ずれの要因となることがあり、その逆も同様である。透過および／または反射での角度による色ずれにおける要因は、特定の光源または試験システムにより定義される材料吸収（いくぶん角度とは関係ない）により生じるかもしれないある白色点から離れる色ずれまたは視角に起因する角度による色ずれも含むことがある。

振動は、振幅に関して記載されることがある。ここに用いられているように、「振幅」という用語は、反射率または透過率における最大値から最小値までの変化を含む。「平均振幅」という句は、光学波長領域内で平均された反射率または透過率の最大値から最小値までの変化を含む。ここに用いられているように、「光学波長領域」は、約４００ｎｍから約８００ｎｍ（およびさらに具体的に言うと、約４５０ｎｍから約６５０ｎｍ）の波長範囲を含む。いくつかの実施の形態によれば、光学波長範囲は、８００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルをさらに含む。

本開示の実施の形態は、異なる光源下で垂直入射から様々な入射照明角度で見たときの無色および／またはより小さい角度による色ずれに関して、改善された光学性能を提供するための反射防止コーティング（例えば、反射防止コーティング１２０または光学フイルム構造１２０）を含む。

本開示の１つの態様は、光源下で異なる入射照明角度で見たときでさえ、反射および／または透過における無色を示す物品に関する。１つ以上の実施の形態において、その物品は、ここに与えられた範囲における、基準照明角度と任意の入射照明角度との間で、約５以下、または約２以下の反射および／または透過における角度による色ずれを示す。ここに用いられているように、「色ずれ」（角または基準点）という句は、反射および／または透過において、国際照明委員会（ＣＩＥ）のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系の下でのａ^＊およびｂ^＊の両方の変化を称する。特に明記のない限り、ここに記載された物品のＬ^＊座標は、任意の角度または基準点で同じであり、色ずれに影響しないことを理解すべきである。例えば、角度による色ずれは、以下の式（１）：

を使用して決定することができ、式中、ａ^＊ _１、およびｂ^＊ _１は、基準照明角度（垂直入射を含むことがある）で見たときの物品のａ^＊およびｂ^＊の座標を表し、ａ^＊ _２、およびｂ^＊ _２は、入射照明角度が、基準照明角度と異なり、ある場合には、約１度以上、約２度以上、約５度以上、約１０度以上、約１５度以上、または約２０度以上、基準照明角度とは異なることを前提として、入射照明角度で見たときの物品のａ^＊およびｂ^＊の座標を表す。ある場合には、約１０以下（例えば、５以下、４以下、３以下、または２以下）の反射および／または透過における角度による色ずれが、光源下で基準照明角度から様々な入射照明角度で見たときに、その物品により示される。ある場合には、反射および／または透過における角度による色ずれは、約１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、０．２以下、または０．１以下である。いくつかの実施の形態において、角度による色ずれは約０であることがある。光源としては、Ａ光源（タングステン・フィラメント照明を表す）、Ｂ光源（昼光シミュレーション光源）、Ｃ光源（昼光シミュレーション光源）、Ｄ類光源（自然照明を表す）、およびＦ類光源（様々な種類の蛍光照明を表す）を含む、ＣＩＥにより決定されたような標準光源が挙げられる。具体例において、その物品は、ＣＩＥ Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５光源下、またはより詳しくはＣＩＥ Ｆ２光源下で基準照明角度から入射照明角度で見たときに、約２以下の反射および／または透過における角度による色ずれを示す。

基準照明角度は、入射照明角度と基準照明角度との間の差が、約１度以上、２度以上、約５度以上、約１０度以上、約１５度以上、または約２０度以上であるという前提で、垂直入射（すなわち、０度）、もしくは垂直入射から５度、垂直入射から１０度、垂直入射から１５度、垂直入射から２０度、垂直入射から２５度、垂直入射から３０度、垂直入射から３５度、垂直入射から４０度、垂直入射から５０度、垂直入射から５５度、または垂直入射から６０度を含むことがある。入射照明角度は、基準照明角度に対して、垂直入射から離れて、約５度から約８０度、約５度から約７５度、約５度から約７０度、約５度から約６５度、約５度から約６０度、約５度から約５５度、約５度から約５０度、約５度から約４５度、約５度から約４０度、約５度から約３５度、約５度から約３０度、約５度から約２５度、約５度から約２０度、約５度から約１５度の範囲、およびそれらの間の全ての範囲と部分的範囲にあることがある。その物品は、基準照明角度が垂直入射である場合、約２度から約８０度、または約５度から約８０度、または約１０度から約８０度、または約１５度から約８０度、または約２０度から約８０度の範囲にある全ての入射照明角度でと、それに沿ってここに記載された反射および／または透過における角度による色ずれを示すことがある。いくつかの実施の形態において、その物品は、入射照明角度と基準照明角度との間の差が、約１度以上、２度以上、約５度以上、約１０度以上、約１５度以上、または約２０度以上である場合、約２度から約８０度、または約５度から約８０度、または約１０度から約８０度、または約１５度から約８０度、または約２０度から約８０度の範囲にある全ての入射照明角度でと、それに沿ってここに記載された反射および／または透過における角度による色ずれを示すことがある。一例において、その物品は、垂直入射と等しい基準照明角度から離れて、約２度から約６０度、約５度から約６０度、または約１０度から約６０度の範囲の任意の入射照明角度で、２以下の反射および／または透過における角度による色ずれを示すことがある。他の例において、その物品は、基準照明角度が１０度であり、入射照明角度が、その基準照明角度から離れて、約１２度から約６０度、約１５度から約６０度、または約２０度から約６０度の範囲の任意の角度である場合、２以下の反射および／または透過における角度による色ずれを示すことがある。

いくつかの実施の形態において、角度による色ずれは、約２０度から約８０度の範囲にある基準照明角度（例えば、垂直入射）と入射照明角度との間の全ての角度で測定されることがある。言い換えれば、角度による色ずれは、約０度から約２０度、約０度から約３０度、約０度から約４０度、約０度から約５０度、約０度から約６０度、または約０度から約８０度の範囲の全ての角度で測定されることがあり、約５未満、または約２未満であることがある。

１つ以上の実施の形態において、物品１００は、基準点からの透過色または反射座標の間の距離または基準点色ずれが、光源（Ａ光源（タングステン・フィラメント照明を表す）、Ｂ光源（昼光シミュレーション光源）、Ｃ光源（昼光シミュレーション光源）、Ｄ類光源（自然照明を表す）、およびＦ類光源（様々な種類の蛍光照明を表す）を含み得る）下で、約５未満、または約２未満であるように、反射および／または透過におけるＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系における色を示す。具体例において、その物品は、ＣＩＥ Ｆ２、Ｆ１０、Ｆ１１、Ｆ１２またはＤ６５光源下、またはより詳しくはＣＩＥ Ｆ２光源下で、基準照明角度から入射照明角度で見たときに、約２以下の反射および／または透過における色ずれを示す。言い換えると、その物品は、ここに定義されるような、基準点から約２未満の基準点色ずれを有する反射防止表面１２２で測定される透過色（または透過色座標）および／または反射色（または反射色座標）を示す。特に明記のない限り、透過色または透過色座標は、その物品の反射防止表面１２２および反対の裸の表面（すなわち、１１４）でを含む、物品の２つの表面で測定される。特に明記のない限り、反射色または反射色座標は、物品の反射防止表面１２２のみで測定される。

１つ以上の実施の形態において、基準点は、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系における起点（０、０）（または色座標ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０）、色座標（ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２）もしくは基板の透過率または反射色座標であることがある。特に明記のない限り、ここに記載された物品のＬ^＊座標は、基準点と同じであり、色ずれに影響しないことを理解すべきである。物品の基準点色ずれが基板に関して定義されている場合、物品の透過色座標は基板の透過色座標と比べられ、物品の反射色座標は基板の反射色座標と比べられる。

１つ以上の具体的な実施の形態において、透過色および／または反射色の基準点色ずれは、１未満またさらには０．５未満であることがある。１つ以上の具体的な実施の形態において、透過色および／または反射色の基準点色ずれは、１．８、１．６、１．４、１．２、０．８、０．６、０．４、０．２、０およびそれらの間の全ての範囲と部分的範囲にあることがある。基準点が色座標ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０である場合、基準点色ずれは、式（２）：

により計算される。基準点が色座標ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２である場合、基準点色ずれは、式（３）：

により計算される。基準点が基板の色座標である場合、基準点色ずれは、式（４）：

により計算される。

いくつかの実施の形態において、物品１００は、基準点が、基板の色座標、色座標ａ^＊＝０、ｂ^＊＝０、および色座標ａ^＊＝－２、ｂ^＊＝－２のいずれか１つであるときに、基準点色ずれが２未満であるように、透過色（または透過色座標）および反射色（または反射色座標）を示すことがある。

いくつかの実施の形態において、物品１００は、ほぼ垂直入射角（すなわち、約０度、または垂直の１０度以内）で、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、約－１０から約＋２、約－７から約０、約－６から約－１、約－６から約０、または約－４から約０の範囲にある反射におけるｂ^＊値（反射防止表面１２２のみで測定される）を示すことがある。他の実施において、物品１００は、約０から約６０度（または約０度から約４０度、または約０度から約３０度）の範囲の全ての入射照明角度で、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、約－１０から約＋１０、約－８から約＋８、または約－５から約＋５の範囲にある反射におけるｂ^＊値（反射防止表面１２２のみで測定される）を示すことがある。

いくつかの実施の形態において、物品１００は、ほぼ垂直入射角（すなわち、約０度、または垂直の１０度以内）で、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、約－２から約２、約－１から約２、約－０．５から約２、約０から約２、約０から約１、約－２から約０．５、約－２から約１、約－１から約１、または約０から約０．５の範囲にある透過におけるｂ^＊値（物品の反射防止表面および反対の裸の表面で測定される）を示すことがある。他の実施において、その物品は、約０から約６０度（または約０度から約４０度、または約０度から約３０度）の範囲の全ての入射照明角度について、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、約－２から約２、約－１から約２、約－０．５から約２、約０から約２、約０から約１、約－２から約０．５、約－２から約１、約－１から約１、または約０から約０．５の範囲にある透過におけるｂ^＊値を示すことがある。

いくつかの実施の形態において、物品１００は、ほぼ垂直入射角（すなわち、約０度、または垂直の１０度以内）で、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、約－２から約２、約－１から約２、約－０．５から約２、約０から約２、約０から約１、約－２から約０．５、約－２から約１、約－１から約１、または約０から約０．５の範囲にある透過におけるａ^＊値（物品の反射防止表面および反対の裸の表面で測定される）を示すことがある。他の実施において、その物品は、約０から約６０度（または約０度から約４０度、または約０度から約３０度）の範囲の全ての入射照明角度について、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、約－２から約２、約－１から約２、約－０．５から約２、約０から約２、約０から約１、約－２から約０．５、約－２から約１、約－１から約１、または約０から約０．５の範囲にある透過におけるａ^＊値を示すことがある。

いくつかの実施の形態において、物品１００は、光源Ｄ６５、Ａ、およびＦ２下で、約０度から約６０度の範囲の入射照明角度で、約－１．５から約１．５（例えば、－１．５から－１．２、－１．５から－１、－１．２から１．２、－１から１、－１から０．５、または－１から０）の範囲にある透過におけるａ^＊および／またはｂ^＊値（反射防止表面および反対の裸の表面での）を示す。

いくつかの実施の形態において、物品１００は、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、ほぼ垂直入射角（すなわち、約０度、または垂直の１０度以内）で、約－１０から約＋５、－５から約＋５（例えば、－４．５から＋４．５、－４．５から＋１．５、－３から０、－２．５から－０．２５）、または約－４から＋４の範囲にある反射におけるａ^＊値（反射防止表面のみで）を示す。他の実施の形態において、物品１００は、ＣＩＥ Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊測色系において、約０度から約６０度の範囲の入射照明角度で、約－５から約＋１５（例えば、－４．５から＋１４）または約－３から＋１３の範囲にある反射におけるａ^＊値（反射防止表面のみで）を示す。

１つ以上の実施の形態の物品１００、または１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、約４００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の光学波長領域に亘り約９４％以上（例えば、約９４％以上、約９５％以上、約９６％以上、約９６．５％以上、約９７％以上、約９７．５％以上、約９８％以上、約９８．５％以上、または約９９％以上）の明所視平均光透過率を示すことがある。いくつかの実施の形態において、物品１００、または１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、約４００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の光学波長領域に亘り約２％以下（例えば、約１．５％以下、約１％以下、約０．７５％以下、約０．５％以下、または約０．２５％以下）の平均光反射率を示すことがある。これらの光透過率および光反射率値は、全光学波長領域またはその光学波長領域の選択された範囲（例えば、光学波長領域内の１００ｎｍ波長範囲、１５０ｎｍ波長範囲、２００ｎｍ波長範囲、２５０ｎｍ波長範囲、２８０ｎｍ波長範囲、または３００ｎｍ波長範囲）に亘り観察されることがある。いくつかの実施の形態において、これらの光反射率および透過率値は、全反射率または全透過率であることがある（反射防止表面１２２および反対の主面１１４の両方での反射率または透過率を考慮して）。特に明記のない限り、平均反射率または透過率は、０度の入射照明角度で測定される（しかしながら、そのような測定は、４５度または６０度の入射照明角度で行われてもよい）。

１つ以上の実施の形態の物品１００、または１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、約８００ｎｍから約１０００ｎｍ、約９００ｎｍから１０００ｎｍ、または９３０ｎｍから９５０ｎｍの赤外スペクトルの光学波長領域に亘り約８７％以上（例えば、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上、約９２％以上、約９３％以上、約９４％以上、または約９５％以上）の平均光透過率を示すことがある。これらの実施の形態において、物品１００、または１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、約４００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の光学波長領域に亘り約２％以下、約１％以下、または約０．５％以下（例えば、約１．５％以下、約１％以下、約０．７５％以下、約０．５％以下、または約０．２５％以下）の平均光反射率を示すことがある。これらの光透過率および光反射率値は、全光学波長領域またはその光学波長領域の選択された範囲（例えば、光学波長領域内の１００ｎｍ波長範囲、１５０ｎｍ波長範囲、２００ｎｍ波長範囲、２５０ｎｍ波長範囲、２８０ｎｍ波長範囲、または３００ｎｍ波長範囲）に亘り観察されることがある。これらの実施の形態のいくつかにおいて、光反射率および透過率値は、全反射率または全透過率であることがある（反射防止表面１２２および反対の主面１１４の両方での反射率または透過率を考慮して）。特に明記のない限り、これらの実施の形態の平均反射率または透過率は、０度の入射照明角度で測定される（しかしながら、そのような測定は、４５度または６０度の入射照明角度で行われてもよい）。

いくつかの実施の形態において、１つ以上の実施の形態の物品１００、または１つ以上の物品の反射防止表面１２２は、光学波長領域に亘り、約１％以下、約０．９％以下、約０．８％以下、約０．７％以下、約０．６％以下、約０．５％以下、約０．４％以下、約０．３％以下、または約０．２％以下の可視明所視平均反射率を示すことがある。これらの明所視平均反射率値は、約０°から約２０°、約０°から約４０°、または約０°から約６０°の範囲にある入射照明角度で示されることがある。ここに用いられているように、「明所視平均反射率」は、ヒトの目の感度にしたがって反射率対波長スペクトルを重み付けることによって、ヒトの目の反応を模倣する。明所視平均反射率は、公知の慣例、例えば、ＣＩＥ色空間の慣例にしたがって、反射光の輝度、または三刺激Ｙ値として定義されることもある。この明所視平均反射率は、光源スペクトルのＩ（λ）、および目のスペクトル感度に関連するＣＩＥの色合わせ関数の

で乗じられたスペクトル反射率Ｒ（λ）として式（５）に定義される：

いくつかの実施の形態において、１つ以上の物品の反射防止表面１２２（すなわち、片面測定のみによって反射防止表面１２２を測定した場合）は、約２％以下、約１．８％以下、約１．５％以下、約１．２％以下、約１％以下、約０．９％以下、約０．７％以下、約０．５％以下、約０．４５％以下、約０．４％以下、約０．３５％以下、約０．３％以下、約０．２５％以下、または約０．２％以下の可視明所視平均反射率を示すことがある。本開示に記載されたような「片面」測定において、第２の主面（例えば、図１に示された面１１４）からの反射率は、この面を屈折率整合吸収体に結合させることによって、除去される。ある場合には、約５．０未満、約４．０未満、約３．０未満、約２．０未満、約１．５未満、または約１．２５未満の、Ｄ６５光源を使用した、約５度から約６０度の全入射照明角度範囲（基準照明角度が垂直入射である）に亘る、最大反射色ずれを同時に示しつつ、可視明所視平均反射率範囲が示される。これらの最大反射色ずれ値は、同じ範囲において任意の角度で測定された最高の色点値(color point value)から差し引かれた、垂直入射から約５度から約６０度の任意の角度で測定された最低の色点値を表す。それらの値は、ａ^＊値における最大変化（ａ^＊ _最高－ａ^＊ _最低）、ｂ^＊値における最大変化（ｂ^＊ _最高－ｂ^＊ _最低）、ｂ^＊およびａ^＊値の両方における最大変化、または数量√（（ａ^＊ _最高－ａ^＊ _最低）^２＋（ｂ^＊ _最高－ｂ^＊ _最低）^２）における最大変化を表すことがある。

基板
基板１１０は、無機酸化物材料を含むことがあり、非晶質基板、結晶質基板またはその組合せを含むことがある。１つ以上の実施の形態において、その基板は、約１．４５から約１．５５の範囲にある屈折率、例えば、１．４５、１．４６、１．４７、１．４８、１．４９、１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、１．５５、およびそれらの間の全ての屈折率を示す。

適切な基板１１０は、約３０ＧＰａから約１２０ＧＰａの範囲にある弾性率（またはヤング率）を示すことがある。ある場合には、その基板の弾性率は、約３０ＧＰａから約１１０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約１００ＧＰａ、約３０ＧＰａから約９０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約８０ＧＰａ、約３０ＧＰａから約７０ＧＰａ、約４０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約５０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約６０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、約７０ＧＰａから約１２０ＧＰａ、および先の値の間の全ての範囲と部分的範囲にあることがある。本開示に挙げられたような基板自体のヤング率は、「Standard Guide for Resonant Ultrasound Spectroscopy for Defect Detection in Both Metallic and Non-metallic Parts」と題するＡＳＴＭ Ｅ２００１－１３に述べられた一般型の共鳴超音波分光技術によって測定された値を称する。

１つ以上の実施の形態において、その非晶質基板はガラスを含むことがあり、そのガラスは、強化されていても、されていなくてもよい。適切なガラスの例としては、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスが挙げられる。いくつかの変種において、そのガラスはチリアを含まないことがある。１つ以上の代わりの実施の形態において、基板１１０は、結晶質基板、例えば、ガラスセラミックまたはセラミック基板（強化されていても、されていなくてもよい）を含むことがある、または単結晶構造、例えば、サファイアを含むことがある。１つ以上の特別な実施の形態において、基板１１０は、非晶質ベース（例えば、ガラス）および結晶質クラッド（例えば、サファイア層、多結晶アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）層）を含む。

基板１１０は、実質的に平面またはシート状であることがあるが、他の実施の形態は、湾曲したまたは他のやり方で成形されたまたは彫刻された基板を利用してもよい。基板１１０は、実質的に光学的に透明で、透き通っており、光散乱がないことがある。そのような実施の形態において、その基板は、約８５％以上、約８６％以上、約８７％以上、約８８％以上、約８９％以上、約９０％以上、約９１％以上、または約９２％以上の光学波長領域に亘る平均光透過率を示すことがある。１つ以上の代わりの実施の形態において、基板１１０は、不透明であることがある、または約１０％未満、約９％未満、約８％未満、約７％未満、約６％未満、約５％未満、約４％未満、約３％未満、約２％未満、約１％未満、または約０％未満の光学波長領域に亘る平均光透過率を示すことがある。いくつかの実施の形態において、これらの光反射率および透過率値は、全反射率または全透過率（基板の両主面での反射率または透過率を考慮する）であることがある、または基板の片面で観察されることがある（すなわち、反対の面を考慮せずに、反射防止表面１２２のみについて）。特に明記のない限り、平均反射率または透過率は、０度の入射照明角度で測定される（しかしながら、そのような測定は、４５度または６０度の入射照明角度で行われてもよい）。基板１１０は、色、例えば、白、黒、赤、青、緑、黄、オレンジなどを必要に応じて示してよい。

それに加え、またはそれに代えて、基板１１０の物理的厚さは、審美的および／または機能的理由のために、その寸法の１つ以上に沿って変動してもよい。例えば、基板１１０のエッジが、基板１１０のより中央の領域と比べて、より厚くてもよい。基板１１０の長さ、幅および物理的厚さも、物品の用途または使途にしたがって変動してもよい。

基板１１０は、様々な異なる過程を使用して提供してもよい。例えば、基板１１０が、非晶質基板、例えば、ガラスを含む場合、様々な成形方法としては、フロートガラス法、圧延法、アップドロー法、並びにダウンドロー法、例えば、フュージョンドロー法およびスロットドロー法が挙げられる。

基板１１０は、一旦形成されたら、強化基板を形成するために強化されてもよい。ここに用いられているように、「強化基板」という用語は、例えば、基板の表面内にあるより小さいイオンのより大きいイオンによるイオン交換によって、化学強化された基板を称することがある。しかしながら、当該技術分野で公知の他の強化方法、例えば、熱強化、または圧縮応力領域と中央張力領域を作り出すための基板の複数の部分の間の熱膨張係数の不一致を使用して、強化基板を形成してもよい。

その基板がイオン交換過程により化学強化される場合、基板の表面層内のイオンは、同じ価数または酸化状態を有するより大きいイオンにより置換－すなわち、交換－される。イオン交換過程は、典型的に、基板内のより小さいイオンと交換されるべきより大きいイオンを含有する溶融塩浴中に、基板を浸漬することによって行われる。以下に限られないが、浴の組成と温度、浸漬時間、１つの塩浴（または複数の塩浴）中の基板の浸漬回数、多数の塩浴の使用、および任意の追加の工程（例えば、徐冷、洗浄など）を含む、イオン交換過程のパラメータは、一般に、基板の組成、所望の圧縮応力（ＣＳ）、および強化操作により生じる基板の圧縮応力（ＣＳ）層の所望の深さ（または層の深さ）により決定されることが当業者に認識されるであろう。一例として、アルカリ金属を含有するガラス基板のイオン交換は、塩、例えば、以下に限られないが、より大きいアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩、および塩化物を含有する少なくとも１つの溶融浴中の浸漬により行うことができる。溶融塩浴の温度は、典型的に、約３８０℃から約４５０℃までの範囲にある一方で、浸漬時間は、約１５分から約４０時間までに及ぶ。しかしながら、先に記載したものと異なる温度および浸漬時間も使用してよい。

それに加え、複数の浸漬の間に洗浄工程および／または徐冷工程が行われる、多数のイオン交換浴中にガラス基板が浸漬されるイオン交換過程の非限定例が、異なる濃度の複数の塩浴中の浸漬を含む多数の連続したイオン交換処理によって、ガラス基板が強化される、２００８年７月１１日に出願された米国仮特許出願第６１／０７９９９５号からの優先権を主張する、「Glass with Compressive Surface for Consumer Applications」と題する、Douglas C. Allan等により２００９年７月１０日に出願された米国特許出願第１２／５００６５０号明細書、およびガラス基板が、流出イオンにより希釈された第１の浴中のイオン交換と、その後の、第１の浴より小さい濃度の流出イオンを有する第２の浴中の浸漬とにより強化される、２００８年７月２９日に出願された米国仮特許出願第６１／０８４３９８号からの優先権を主張する、「Dual Stage Ion Exchange for Chemical Strengthening of Glass」と題する、２０１２年１１月２０日に発行された、Christopher M. Lee等による米国特許第８３１２７３９号明細書に記載されている。米国特許出願第１２／５００６５０号明細書、および米国特許第８３１２７３９号明細書が、ここに全て引用される。

イオン交換により達成される化学強化の程度は、中央張力（ＣＴ）、ピークＣＳ、圧縮深さ（ＤＯＣ、圧縮が張力に変化する、厚さに沿った地点である）、および層の深さ（ＤＯＬ）のパラメータに基づいて、定量化することができる。ピークＣＳは、最大の観察圧縮応力であり、これは基板１１０の表面近く、または様々な深さで強化ガラス内に測定されることがある。ピークＣＳ値は、強化基板の表面での測定ＣＳ（ＣＳ_Ｓ）を含むことがある。他の実施の形態において、ピークＣＳは、強化基板の表面より下で測定される。圧縮応力（表面ＣＳを含む）は、有限会社折原製作所（日本国）により製造されているＦＳＭ－６０００などの市販の計器を使用して、表面応力計（ＦＳＭ）により測定される。表面応力測定は、ガラスの複屈折に関連する、応力光学係数（ＳＯＣ）の精密測定に依存する。次に、ＳＯＣは、その内容がここに全て引用される、「Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient」と題する、ＡＳＴＭ基準Ｃ７７０－１６に記載されている、手順Ｃ（ガラスディスク法）にしたがって測定される。ここに用いられているように、ＤＯＣは、ここに記載された化学強化されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス中の応力が圧縮から引張に変化する深さを意味する。ＤＯＣは、イオン交換処理に応じて、ＦＳＭにより、または散乱光偏光器（ＳＣＡＬＰ）により測定することができる。ガラス物品中の応力が、ガラス物品中へのカリウムイオンの交換により生じている場合、ＤＯＣを測定するために、ＦＳＭが使用される。応力が、ガラス物品中へのナトリウムイオンの交換により生じている場合、ＤＯＣを測定するために、ＳＣＡＬＰが使用される。ガラス物品中の応力が、ガラス中にカリウムイオンとナトリウムイオンの両方を交換することによって生じる場合、ＤＯＣはＳＣＡＬＰにより測定される。何故ならば、ナトリウムイオンの交換深さはＤＯＣを表し、カリウムイオンの交換深さは、圧縮応力の大きさの変化（圧縮から引張への応力の変化ではない）を表すと考えられるからである；そのようなガラス物品におけるカリウムイオンの交換深さは、ＦＳＭにより測定される。最大ＣＴ値は、当該技術分野で公知の散乱光偏光器（ＳＣＡＬＰ）を使用して測定される。完全な応力プロファイルを測定する（グラフに描く、視覚的に示す、または他のやり方で精密に示す）ために、屈折近視野（ＲＮＦ）法またはＳＣＡＬＰが使用されることがある。応力プロファイルを測定するために、ＲＮＦ法が使用される場合、ＳＣＡＬＰにより与えられる最大ＣＴ値がＲＮＦ法に利用される。詳しくは、ＲＮＦ法により測定された応力プロファイルは、ＳＣＡＬＰ測定により与えられる最大ＣＴ値に対して力平衡され、較正される。このＲＮＦ法は、ここに全てが引用される、「Systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample」と題する米国特許第８８５４６２３号明細書に記載されている。詳しくは、ＲＮＦ法は、基準ブロックに隣接してガラス物品を配置する工程、１Ｈｚから５０Ｈｚまでの速度で直交偏光の間で切り換えられる偏光切替光線を生成する工程、その偏光切替光線の出力量を測定する工程、および偏光切替基準信号を生成する工程を含み、直交偏光の各々の出力の測定量は互いの５０％以内にある。この方法は、偏光切替光線を、ガラス試料中の異なる深さについて、ガラス試料および基準ブロックに透過させ、次いで、リレー光学系を使用して、透過した偏光切替光線を信号光検出器に中継する工程をさらに含み、その信号光検出器は偏光切替検出器信号を生成する。この方法は、検出器信号を基準信号で割って、正規化検出器信号を形成する工程、およびその正規化検出器信号からガラス試料の特徴を示すプロファイルを決定する工程も含む。

いくつかの実施の形態において、強化基板１１０は、２５０ＭＰａ以上、３００ＭＰａ以上、４００ＭＰａ以上、４５０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以上、５５０ＭＰａ以上、６００ＭＰａ以上、６５０ＭＰａ以上、７００ＭＰａ以上、７５０ＭＰａ以上、または８００ＭＰａ以上のピークＣＳを有し得る。その強化基板は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上（例えば、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ以上）のＤＯＣ、および／または１０ＭＰａ以上、２０ＭＰａ以上、３０ＭＰａ以上、４０ＭＰａ以上（例えば、４２ＭＰａ、４５ＭＰａ、または５０ＭＰａ以上）であるが、１００ＭＰａ未満（例えば、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５ＭＰａ以下）のＣＴを有することがある。１つ以上の特別な実施の形態において、その強化基板は、以下の１つ以上を有する：５００ＭＰａ超のピークＣＳ、１５μｍ超のＤＯＣ、および１８ＭＰａ超のＣＴ。

その基板に使用できる例示のガラスとしては、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物またはアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラス組成物が挙げられるが、他のガラス組成物も考えられる。そのようなガラス組成物は、イオン交換過程によって化学強化することができる。１つの例示のガラス組成物は、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３およびＮａ_２Ｏを含み、ここで、（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）≧６６モル％およびＮａ_２Ｏ≧９モル％。いくつかの実施の形態において、そのガラス組成物は、約６質量％以上の酸化アルミニウムを含む。いくつかの実施の形態において、この基板は、アルカリ土類酸化物の含有量が約５質量％以上であるように、１種類以上のアルカリ土類酸化物を有するガラス組成物を含む。いくつかの実施の形態において、適切なガラス組成物は、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯ、またはＣａＯの少なくとも１つをさらに含む。いくつかの実施の形態において、その基板に使用されるガラス組成物は、６１～７５モル％のＳｉＯ_２、７～１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～１２モル％のＢ_２Ｏ_３、９～２１モル％のＮａ_２Ｏ、０～４モル％のＫ_２Ｏ、０～７モル％のＭｇＯ、および０～３モル％のＣａＯを含み得る。

前記基板に適したさらなる例示のガラス組成物は、６０～７０モル％のＳｉＯ_２、６～１４モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～１５モル％のＢ_２Ｏ_３、０～１５モル％のＬｉ_２Ｏ、０～２０モル％のＮａ_２Ｏ、０～１０モル％のＫ_２Ｏ、０～８モル％のＭｇＯ、０～１０モル％のＣａＯ、０～５モル％のＺｒＯ_２、０～１モル％のＳｎＯ_２、０～１モル％のＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３、および５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、ここで、１２モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦２０モル％、および０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。

前記基板に適したさらに別の例示のガラス組成物は、６３．５～６６．５モル％のＳｉＯ_２、８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～３モル％のＢ_２Ｏ_３、０～５モル％のＬｉ_２Ｏ、８～１８モル％のＮａ_２Ｏ、０～５モル％のＫ_２Ｏ、１～７モル％のＭｇＯ、０～２．５モル％のＣａＯ、０～３モル％のＺｒＯ_２、０．０５～０．２５モル％のＳｎＯ_２、０．０５～０．５モル％のＣｅＯ_２、５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３、および５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、ここで、１４モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦１８モル％、および２モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。

いくつかの実施の形態において、基板１１０に適したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、アルミナ、少なくとも１種類のアルカリ金属、およびいくつかの実施の形態において、５０モル％超のＳｉＯ_２、他の実施の形態において、５８モル％以上のＳｉＯ_２、およびさらに他の実施の形態において、６０モル％以上のＳｉＯ_２を含み、ここで、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）は１より大きく、ここで、これらの成分の比はモル％で表され、改質剤はアルカリ金属酸化物である。特別な実施の形態において、このガラス組成物は、５８～７２モル％のＳｉＯ_２、９～１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３、２～１２モル％のＢ_２Ｏ_３、８～１６モル％のＮａ_２Ｏ、および０～４モル％のＫ_２Ｏを含み、ここで、比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）は１より大きい。

いくつかの実施の形態において、基板１１０は、６４～６８モル％のＳｉＯ_２、１２～１６モル％のＮａ_２Ｏ、８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３、０～３モル％のＢ_２Ｏ_３、２～５モル％のＫ_２Ｏ、４～６モル％のＭｇＯ、および０～５モル％のＣａＯを含み、６６モル％≦ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣａＯ≦６９モル％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％、５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％、（Ｎａ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３）－Ａｌ_２Ｏ_３≦２モル％、２モル％≦Ｎａ_２Ｏ－Ａｌ_２Ｏ_３≦６モル％、および４モル％≦（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）－Ａｌ_２Ｏ_３≦１０モル％である、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物を含むことがある。

いくつかの実施の形態において、基板１１０は、２モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３および／またはＺｒＯ_２、または４モル％以上のＡｌ_２Ｏ_３および／またはＺｒＯ_２を含むアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物を含むことがある。

基板１１０が結晶質基板を含む場合、その基板は単結晶を含むことがあり、その単結晶はＡｌ_２Ｏ_３を含むことがある。そのような単結晶基板は、サファイアと呼ばれる。結晶質基板のための他の適切な材料としては、多結晶アルミナ層および／またはスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）が挙げられる。

必要に応じて、結晶質基板１１０は、ガラスセラミック基板を含むことがあり、この基板は、強化されていてもされていなくてもよい。適切なガラスセラミックの例としては、Ｌｉ_２Ｏ・Ａｌ_２Ｏ_３・ＳｉＯ_２系（すなわち、ＬＡＳ系）ガラスセラミック、ＭｇＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・ＳｉＯ_２系（すなわち、ＭＡＳ系）ガラスセラミック、および／またはβ－石英固溶体、β－スポジュメン固溶体、コージエライト、および二ケイ酸リチウムを含む主結晶相を有するガラスセラミックが挙げられる。そのガラスセラミック基板は、ここに開示された化学強化過程を使用して強化されることがある。１つ以上の実施の形態において、ＭＡＳ系のガラスセラミック基板は、Ｌｉ_２ＳＯ_４溶融塩中で強化することができ、それによって、２Ｌｉ^＋のＭｇ^２＋との交換が起こり得る。

１つ以上の実施の形態による基板１１０は、約５０μｍから約５ｍｍに及ぶ物理的厚さを有し得る。例示の基板１１０の物理的厚さは、約５０μｍから約５００μｍ（例えば、５０、１００、２００、３００、４００または５００μｍ）に及ぶ。さらに、例示の基板１１０の物理的厚さは、約５００μｍから約１０００μｍ（例えば、５００、６００、７００、８００、９００または１０００μｍ）に及ぶ。基板１１０は、約１ｍｍ超（例えば、約２、３、４、または５ｍｍ）の物理的厚さを有することがある。１つ以上の具体的な実施の形態において、基板１１０は、２ｍｍ以下または１ｍｍ未満の物理的厚さを有することがある。基板１１０は、表面傷の影響をなくすまたは低下させるために、酸磨きまたは他の方法で処理することができる。

反射防止コーティング
図１に示されるように、物品１００の反射防止コーティング１２０は、複数の層１２０Ａ、１２０Ｂ、１２０Ｃを備えることがある。いくつかの実施の形態において、１つ以上の層が、基板１１０の反射防止コーティング１２０と反対側（すなわち、主面１１４上）に配置されている（図示せず）。物品１００のいくつかの実施の形態において、図１に示されるような層１２０Ｃは、キャッピング層（例えば、図２Ａおよび２Ｂに示され、下記の欄に記載されるようなキャッピング層１３１）の機能を果たすことができる。

反射防止コーティング１２０の物理的厚さは、約５０ｎｍから約５００ｎｍ未満までの範囲にあることがある。ある場合には、反射防止コーティング１２０の物理的厚さは、約１０ｎｍから約５００ｎｍ未満、約５０ｎｍから約５００ｎｍ未満、約７５ｎｍから約５００ｎｍ未満、約１００ｎｍから約５００ｎｍ未満、約１２５ｎｍから約５００ｎｍ未満、約１５０ｎｍから約５００ｎｍ未満、約１７５ｎｍから約５００ｎｍ未満、約２００ｎｍから約５００ｎｍ未満、約２２５ｎｍから約５００ｎｍ未満、約２５０ｎｍから約５００ｎｍ未満、約３００ｎｍから約５００ｎｍ未満、約３５０ｎｍから約５００ｎｍ未満、約４００ｎｍから約５００ｎｍ未満、約４５０ｎｍから約５００ｎｍ未満、約２００ｎｍから約４５０ｎｍの範囲、およびそれらの間の全ての範囲と部分的範囲内にあることがある。例えば、反射防止コーティング１２０の物理的厚さは、１０ｎｍから４９０ｎｍ、または１０ｎｍから４８０ｎｍ、または１０ｎｍから４７５ｎｍ、または１０ｎｍから４６０ｎｍ、または１０ｎｍから４５０ｎｍ、または１０ｎｍから４３０ｎｍ、または１０ｎｍから４２５ｎｍ、または１０ｎｍから４２０ｎｍ、または１０ｎｍから４１０ｎｍ、または１０ｎｍから４００ｎｍ、または１０ｎｍから３５０ｎｍ、または１０ｎｍから３００ｎｍ、または１０ｎｍから２５０ｎｍ、または１０ｎｍから２２５ｎｍ、または１０ｎｍから２００ｎｍ、または１５ｎｍから４９０ｎｍ、または２０ｎｍから４９０ｎｍ、または２５ｎｍから４９０ｎｍ、または３０ｎｍから４９０ｎｍ、または３５ｎｍから４９０ｎｍ、または４０ｎｍから４９０ｎｍ、または４５ｎｍから４９０ｎｍ、または５０ｎｍから４９０ｎｍ、または５５ｎｍから４９０ｎｍ、または６０ｎｍから４９０ｎｍ、または６５ｎｍから４９０ｎｍ、または７０ｎｍから４９０ｎｍ、または７５ｎｍから４９０ｎｍ、または８０ｎｍから４９０ｎｍ、または８５ｎｍから４９０ｎｍ、または９０ｎｍから４９０ｎｍ、または９５ｎｍから４９０ｎｍ、または１００ｎｍから４９０ｎｍ、または１０ｎｍから４８５ｎｍ、または１５ｎｍから４８０ｎｍ、または２０ｎｍから４７５ｎｍ、または２５ｎｍから４６０ｎｍ、または３０ｎｍから４５０ｎｍ、または３５ｎｍから４４０ｎｍ、または４０ｎｍから４３０ｎｍ、または５０ｎｍから４２５ｎｍ、または５５ｎｍから４３０ｎｍ、または６０ｎｍから４１０ｎｍ、または７０ｎｍから４００ｎｍ、または７５ｎｍから４００ｎｍ、または８０ｎｍから３９０ｎｍ、または９０ｎｍから３８０ｎｍ、または１００ｎｍから３７５ｎｍ、または１１０ｎｍから３７０ｎｍ、または１２０ｎｍから３６０ｎｍ、または１２５ｎｍから３５０ｎｍ、または１３０ｎｍから３２５ｎｍ、または１４０ｎｍから３２０ｎｍ、または１５０ｎｍから３１０ｎｍ、または１６０ｎｍから３００ｎｍ、または１７０ｎｍから３００ｎｍ、または１７５ｎｍから３００ｎｍ、または１８０ｎｍから２９０ｎｍ、または１９０ｎｍから２８０ｎｍ、または２００ｎｍから２７５ｎｍであることがある。

図２Ａおよび２Ｂに示されるような、１つ以上の実施の形態において、物品１００の反射防止コーティング１２０は、２つ以上の層を含む周期１３０を含むことがある。１つ以上の実施の形態において、その２つ以上の層は、互いに異なる屈折率を有するとして特徴付けられることがある。いくつかの実施の形態において、周期１３０は、第１の低ＲＩ層１３０Ａおよび第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含む。第１の低ＲＩ層１３０Ａおよび第２の高ＲＩ層１３０Ｂの屈折率の差は、約０．０１以上、０．０５以上、０．１以上、またさらには０．２以上であることがある。いくつかの実施において、第１の低ＲＩ層１３０Ａの屈折率は、第１の低ＲＩ層１３０Ａの屈折率が約１．８未満であるように基板１１０の屈折率内であり、高ＲＩ層１３０Ｂは、１．８より大きい屈折率を有する。

図２Ａに示されるように、反射防止コーティング１２０は、複数の周期（１３０）を含むことがある。１つの周期は、第１の低ＲＩ層１３０Ａおよび第２の高ＲＩ層１３０Ｂを含み、よって、複数の周期が設けられる場合、第１の低ＲＩ層１３０Ａ（「Ｌ」と説明のために示されている）および第２の高ＲＩ層１３０Ｂ（「Ｈ」と説明のために示されている）は以下の層の順序で交互になり：Ｌ／Ｈ／Ｌ／ＨまたはＨ／Ｌ／Ｈ／Ｌ、よって第１の低ＲＩ層および第２の高ＲＩ層が反射防止コーティング１２０の物理的厚さに沿って交互に見える。図２Ａに示された例において、反射防止コーティング１２０は、それぞれ、低ＲＩおよび高ＲＩの層１３０Ａおよび１３０Ｂが三対あるように、３つの周期を含む。図２Ｂの例において、反射防止コーティング１２０は、それぞれ、低ＲＩおよび高ＲＩの層１３０Ａおよび１３０Ｂが二対あるように、２つの周期を含む。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１２０は２５までの周期を含むことがある。例えば、反射防止コーティング１２０は、約２から約２０周期、約２から約１５周期、約２から約１０周期、約２から約１２周期、約３から約８周期、約３から約６周期を含むことがある。

図２Ａおよび２Ｂに示された物品１００の実施の形態において、反射防止コーティング１２０は、追加のキャッピング層１３１を備えることがあり、これは、第２の高ＲＩ層１３０Ｂよりも低い屈折率の材料を含むことがある。いくつかの実施において、キャッピング層１３１の屈折率は、低ＲＩ層１３０Ａの屈折率と同じまたは実質的に同じである。

ここに用いられているように、「低ＲＩ」および「高ＲＩ」という用語は、反射防止コーティング１２０内の別の層のＲＩに対する各層のＲＩの相対値を称する（例えば、低ＲＩ＜高ＲＩ）。１つ以上の実施の形態において、「低ＲＩ」という用語は、第１の低ＲＩ層１３０Ａまたはキャッピング層１３１に使用される場合、約１．３から約１．７の範囲を含む。１つ以上の実施の形態において、「高ＲＩ」という用語は、高ＲＩ層１３０Ｂに使用される場合、約１．６から約２．５の範囲を含む。ある場合には、低ＲＩおよび高ＲＩの範囲は重複することがある；しかしながら、ほとんどの場合、反射防止コーティング１２０の層は、低ＲＩ＜高ＲＩのＲＩに関する一般的関係を有する。

反射防止コーティング１２０に使用するのに適した例示の材料としては、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ、酸素ドープＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＨｆＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ダイヤモンド状炭素、およびＭｇＡｌ_２Ｏ_４が挙げられる。

低ＲＩ層１３０Ａに使用するための適切な材料のいくつかの例としては、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ_２、ＳｉＯ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ＭｇＯ、およびＭｇＡｌ_２Ｏ_４が挙げられる。第１の低ＲＩ層１３０Ａ（すなわち、基板１１０と接触する層１３０Ａ）に使用するための材料（例えば、材料、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３およびＭｇＡｌ_２Ｏ_４中）の窒素含有量は最小にされることがある。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１２０中の低ＲＩ層１３０Ａおよび存在する場合には、キャッピング層１３１は、ケイ素含有酸化物（例えば、二酸化ケイ素）、ケイ素含有窒化物（例えば、酸化物ドープ窒化ケイ素、窒化ケイ素など）、およびケイ素含有オキシ窒化物（例えば、酸窒化ケイ素）の内の１つ以上を含み得る。物品１００のいくつかの実施の形態において、低ＲＩ層１３０Ａおよびキャッピング層１３１は、ケイ素含有酸化物、例えば、ＳｉＯ_２を含む。

高ＲＩ層１３０Ｂに使用するのに適した材料のいくつかの例としては、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ、酸素ドープＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＨｆＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、およびダイヤモンド状炭素が挙げられる。高ＲＩ層１３０Ｂの材料、特に、ＳｉＮ_ｘまたはＡｌＮ_ｘ材料中の酸素含有量が最小にされることがある。先の材料は、約３０質量％まで水素化されることがある。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１２０中の高ＲＩ層１３０Ｂは、ケイ素含有酸化物（例えば、二酸化ケイ素）、ケイ素含有窒化物（例えば、酸化物ドープ窒化ケイ素、窒化ケイ素など）、およびケイ素含有オキシ窒化物（例えば、酸窒化ケイ素）の内の１つ以上を含み得る。物品１００のいくつかの実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂは、ケイ素含有窒化物、例えば、Ｓｉ_３Ｎ_４を含む。高ＲＩ層と低ＲＩ層との間に、中間の屈折率を有する材料が望ましい場合、いくつかの実施の形態は、ＡｌＮおよび／またはＳｉＯ_ｘＮ_ｙを利用することがある。高ＲＩ層の硬度は具体的に特徴付けられることがある。いくつかの実施の形態において、約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定されるような、高ＲＩ層１３０Ｂの最大硬度（すなわち、基板１１０上に配置された層１３０Ｂの２マイクロメートル厚の材料層を有する硬度試験積層体上の）は、約１８ＧＰａ以上、約２０ＧＰａ以上、約２２ＧＰａ以上、約２４ＧＰａ以上、約２６ＧＰａ以上、およびそれらの間の全て値であることがある。

１つ以上の実施の形態において、物品１００の反射防止コーティング１２０の層の内の少なくとも１つは、特定の光学的厚さ範囲を有することがある。ここに用いられているように、「光学的厚さ」は、（ｎ^＊ｄ）により決定され、式中、「ｎ」は副層のＲＩを称し、「ｄ」はその層の物理的厚さを称する。１つ以上の実施の形態において、反射防止コーティング１２０の層の内の少なくとも１つは、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、または約１５ｎｍから約１００ｎｍの範囲内の光学的厚さを有することがある。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１２０中の層の全ての各々は、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、または約１５ｎｍから約１００ｎｍの範囲にある光学的厚さを有することがある。ある場合には、反射防止コーティング１２０の少なくとも１つの層は、約５０ｎｍ以上の光学的厚さを有する。ある場合には、低ＲＩ層１３０Ａの各々は、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、または約１５ｎｍから約１００ｎｍの範囲にある光学的厚さを有する。他の場合には、高ＲＩ層１３０Ｂの各々は、約２ｎｍから約２００ｎｍ、約１０ｎｍから約１００ｎｍ、または約１５ｎｍから約１００ｎｍの範囲にある光学的厚さを有する。いくつかの実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂの各々は、約２ｎｍから約５００ｎｍ、または約１０ｎｍから約４９０ｎｍ、または約１５ｎｍから約４８０ｎｍ、または約２５ｎｍから約４７５ｎｍ、または約２５ｎｍから約４７０ｎｍ、または約３０ｎｍから約４６５ｎｍ、または約３５ｎｍから約４６０ｎｍ、または約４０ｎｍから約４５５ｎｍ、または約４５ｎｍから約４５０ｎｍの範囲、およびそれらの間の任意と全ての部分的範囲にある光学的厚さを有する。いくつかの実施の形態において、キャッピング層１３１（図２Ａ、２Ｂおよび３を参照のこと）、またはキャッピング層１３１がない構成については、最も外側の低ＲＩ層１３０Ａは、約１００ｎｍ未満、約９０ｎｍ未満、約８５ｎｍ未満、または約８０ｎｍ未満の物理的厚さを有する。

先に述べたように、物品１００の実施の形態は、反射防止コーティング１２０の層の内の１つ以上の物理的厚さが最小となるように作られる。１つ以上の実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂおよび／または低ＲＩ層１３０Ａの物理的厚さは、それらが合計で５００ｎｍ未満であるように最小にされる。１つ以上の実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂ、低ＲＩ層１３０Ａおよび任意のキャッピング層１３１の合計の物理的厚さは、５００ｎｍ未満、４９０ｎｍ未満、４８０ｎｍ未満、４７５ｎｍ未満、４７０ｎｍ未満、４６０ｎｍ未満、４５０ｎｍ未満、４４０ｎｍ未満、４３０ｎｍ未満、４２５ｎｍ未満、４２０ｎｍ未満、４１０ｎｍ未満、４００ｎｍ未満、３５０ｎｍ未満、３００ｎｍ未満、２５０ｎｍ未満、または２００ｎｍ未満、および５００ｎｍ未満かつ１０ｎｍ超の全ての全厚値である。例えば、高ＲＩ層１３０Ｂ、低ＲＩ層１３０Ａおよび任意のキャッピング層１３１の合計の物理的厚さは、１０ｎｍから４９０ｎｍ、または１０ｎｍから４８０ｎｍ、または１０ｎｍから４７５ｎｍ、または１０ｎｍから４６０ｎｍ、または１０ｎｍから４５０ｎｍ、または１０ｎｍから４５０ｎｍ、または１０ｎｍから４３０ｎｍ、または１０ｎｍから４２５ｎｍ、または１０ｎｍから４２０ｎｍ、または１０ｎｍから４１０ｎｍ、または１０ｎｍから４００ｎｍ、または１０ｎｍから３５０ｎｍ、または１０ｎｍから３００ｎｍ、または１０ｎｍから２５０ｎｍ、または１０ｎｍから２２５ｎｍ、または１０ｎｍから２００ｎｍ、または１５ｎｍから４９０ｎｍ、または２０ｎｍから４９０ｎｍ、または２５ｎｍから４９０ｎｍ、または３０ｎｍから４９０ｎｍ、または３５ｎｍから４９０ｎｍ、または４０ｎｍから４９０ｎｍ、または４５ｎｍから４９０ｎｍ、または５０ｎｍから４９０ｎｍ、または５５ｎｍから４９０ｎｍ、または６０ｎｍから４９０ｎｍ、または６５ｎｍから４９０ｎｍ、または７０ｎｍから４９０ｎｍ、または７５ｎｍから４９０ｎｍ、または８０ｎｍから４９０ｎｍ、または８５ｎｍから４９０ｎｍ、または９０ｎｍから４９０ｎｍ、または９５ｎｍから４９０ｎｍ、または１００ｎｍから４９０ｎｍ、または１０ｎｍから４８５ｎｍ、または１５ｎｍから４８０ｎｍ、または２０ｎｍから４７５ｎｍ、または２５ｎｍから４６０ｎｍ、または３０ｎｍから４５０ｎｍ、または３５ｎｍから４４０ｎｍ、または４０ｎｍから４３０ｎｍ、または５０ｎｍから４２５ｎｍ、または５５ｎｍから４３０ｎｍ、または６０ｎｍから４１０ｎｍ、または７０ｎｍから４００ｎｍ、または７５ｎｍから４００ｎｍ、または８０ｎｍから３９０ｎｍ、または９０ｎｍから３８０ｎｍ、または１００ｎｍから３７５ｎｍ、または１１０ｎｍから３７０ｎｍ、または１２０ｎｍから３６０ｎｍ、または１２５ｎｍから３５０ｎｍ、または１３０ｎｍから３２５ｎｍ、または１４０ｎｍから３２０ｎｍ、または１５０ｎｍから３１０ｎｍ、または１６０ｎｍから３００ｎｍ、または１７０ｎｍから３００ｎｍ、または１７５ｎｍから３００ｎｍ、または１８０ｎｍから２９０ｎｍ、または１９０ｎｍから２８０ｎｍ、または２００ｎｍから２７５ｎｍであることがある。

１つ以上の実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂの合計の物理的厚さが特徴付けられることがある。例えば、いくつかの実施の形態において、高ＲＩ層１３０Ｂの合計の物理的厚さは、約９０ｎｍ以上、約１００ｎｍ以上、約１５０ｎｍ以上、約２００ｎｍ以上、約２５０ｎｍ以上、または約３００ｎｍ以上であるが、５００ｎｍ未満であることがある。この合計の物理的厚さは、介在する低ＲＩ層１３０Ａまたは他の層がある場合でさえ、反射防止コーティング１２０中の個々の高ＲＩ層１３０Ｂの物理的厚さの計算された合計である。いくつかの実施の形態において、高硬度材料（例えば、窒化物またはオキシ窒化物）も含むことがある、高ＲＩ層１３０Ｂの合計の物理的厚さは、反射防止コーティングの全物理的厚さ（もしくは、体積の文脈で称される）の３０％超であることがある。例えば、高ＲＩ層１３０Ｂの合計の物理的厚さ（または体積）は、反射防止コーティング１２０の全物理的厚さ（または体積）の約３０％以上、約３５％以上、約４０％以上、約４５％以上、約５０％以上、約５５％以上、またさらには約６０％以上であることがある。

いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１２０は、反射防止表面１２２で測定された場合（例えば、吸収体に結合された背面上の屈折率整合油、または他の公知の方法を使用することにより、物品１００の未被覆の背面（例えば、図１の１１４）からの反射を除去した場合）、光学波長領域に亘り、１％以下、０．９％以下、０．８％以下、０．７％以下、０．６％以下、０．５％以下、０．４％以下、０．３％以下、０．２５％以下、または０．２％以下の明所視平均光反射率を示す。ある場合には、反射防止コーティング１２０は、例えば、約４５０ｎｍから約６５０ｎｍ、約４２０ｎｍから約６８０ｎｍ、約４２０ｎｍから約７００ｎｍ、約４２０ｎｍから約７４０ｎｍ、約４２０ｎｍから約８５０ｎｍ、または約４２０ｎｍから約９５０ｎｍの他の波長範囲に亘り、そのような平均光反射率を示すことがある。いくつかの実施の形態において、反射防止表面１２２は、その光学波長領域に亘り、約９０％以上、９２％以上、９４％以上、９６％以上、または９８％以上の明所視平均光透過率を示す。いくつかの実施の形態において、反射防止表面１２２は、８００ｎｍから１０００ｎｍ、９００ｎｍから１０００ｎｍ、または９３０ｎｍから９５０ｎｍの赤外スペクトルの光学波長領域に亘り、約８７％以上、８８％以上、８９％以上、９０％以上、９１％以上、９２％以上、９３％以上、９４％以上、または９５％以上の明所視平均光透過率を示す。特に明記のない限り、平均反射率または透過率は、０度の入射照明角度で測定される（しかしながら、そのような測定は、４５度または６０度の入射照明角度で行われてもよい）。

物品１００は、図３に示されるように、反射防止コーティング上に配置された１つ以上の追加のコーティング１４０を備えることがある。１つ以上の実施の形態において、その追加のコーティングは、洗浄し易い(easy-to-clean)コーティングを含むことがある。適切な洗浄し易いコーティングの一例が、ここに全て引用される、２０１２年１１月３０日に出願された、「PROCESS FOR MAKING OF GLASS ARTICLES WITH OPTICAL AND EASY-TO-CLEAN COATINGS」と題する、米国特許出願第１３／６９０９０４号明細書に記載されている。この洗浄し易いコーティングは、約５ｎｍから約５０ｎｍの範囲の物理的厚さを有することがあり、公知の材料、例えば、フッ素化シランを含むことがある。いくつかの実施の形態において、その洗浄し易いコーティングは、約１ｎｍから約４０ｎｍ、約１ｎｍから約３０ｎｍ、約１ｎｍから約２５ｎｍ、約１ｎｍから約２０ｎｍ、約１ｎｍから約１５ｎｍ、約１ｎｍから約１０ｎｍ、約５ｎｍから約５０ｎｍ、約１０ｎｍから約５０ｎｍ、約１５ｎｍから約５０ｎｍ、約７ｎｍから約２０ｎｍ、約７ｎｍから約１５ｎｍ、約７ｎｍから約１２ｎｍ、または約７ｎｍから約１０ｎｍの範囲、およびそれらの間の全ての範囲と部分的範囲の物理的厚さを有することがある。

追加のコーティング１４０は、耐引掻性コーティングを含むことがある。この耐引掻性コーティングに使用される例示の材料としては、無機炭化物、窒化物、酸化物、ダイヤモンド状材料、またはこれらの組合せが挙げられるであろう。この耐引掻性コーティングの適切な材料の例に、金属酸化物、金属窒化物、金属オキシ窒化物、金属炭化物、金属オキシ炭化物、および／またはその組合せが挙げられる。例示の金属としては、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＴａおよびＷが挙げられる。耐引掻性コーティングに利用されることのある材料の具体例に、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙ、ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素、Ｓｉ_ｘＣ_ｙ、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＣ_ｚ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_ｘＮ_ｙ、およびその組合せが挙げられるであろう。

いくつかの実施の形態において、追加のコーティング１４０は、洗浄し易い材料および耐引掻性材料の組合せを含むことがある。一例において、その組合せは、洗浄し易い材料およびダイヤモンド状炭素を含む。そのような追加のコーティング１４０は、約５ｎｍから約２０ｎｍの範囲の物理的厚さを有することがある。追加のコーティング１４０の成分は、別々の層に与えられることがある。例えば、ダイヤモンド状炭素材料は第１の層として配置されることがあり、洗浄し易い材料は、ダイヤモンド状炭素の第１の層の上に第２の層として配置することができる。第１の層と第２の層の物理的厚さは、追加のコーティングについて先に与えられた範囲内にあることがある。例えば、ダイヤモンド状炭素の第１の層は、約１ｎｍから約２０ｎｍまたは約４ｎｍから約１５ｎｍ（またはより具体的に約１０ｎｍ）の物理的厚さを有することがあり、洗浄し易い材料の第２の層は、約１ｎｍから約１０ｎｍ（またはより具体的に約６ｎｍ）の物理的厚さを有することがある。このダイヤモンド状コーティングは、四面体非晶質炭素（Ｔａ－Ｃ）、Ｔａ－Ｃ：Ｈ、および／またはＴａ－Ｃ－Ｈを含むことがある。

本開示のさらなる態様は、ここに記載された物品１００（例えば、図１～３に示されるような）を形成する方法に関する。いくつかの実施の形態において、この方法は、被覆チャンバ内に主面を有する基板を提供する工程、その被覆チャンバに真空を生じる工程、その主面上に約５００ｎｍ以下の物理的厚さを有する耐久性の反射防止コーティングを形成する工程、その反射防止コーティング上に位置するものとして、洗浄し易いコーティングおよび耐引掻性コーティングの少なくとも一方を含む追加のコーティングを必要に応じて形成する工程、および被覆チャンバから基板を取り出す工程を有してなる。１つ以上の実施の形態において、反射防止コーティングおよび追加のコーティングは、同じ被覆チャンバ内で、または別々の被覆チャンバ内で真空を破らずに、のいずれかで、形成される。

１つ以上の実施の形態において、前記方法は、基板が動かされるときに真空が維持されるようなロードロック条件下で、次に基板を異なる被覆チャンバに出入りするように動かすために使用される担体上に基板を装填する工程を含むことがある。

反射防止コーティング１２０（例えば、層１３０Ａ、１３０Ｂおよび１３１を含む）および／または追加のコーティング１４０は、様々な堆積方法、例えば、真空蒸着技術、化学気相堆積法（例えば、プラズマ支援化学気相堆積法（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学気相堆積法、大気圧化学気相堆積法およびプラズマ支援大気圧化学気相堆積法）、物理気相堆積法（例えば、反応性または非反応性スパッタリングまたはレーザアブレーション）、熱または電子線蒸発および／または原子層堆積を使用して形成されることがある。液体に基づく方法、例えば、吹付けまたはスロットコーティングを使用してもよい。真空堆積が利用される場合、１つの堆積運転において反射防止コーティング１２０および／または追加のコーティング１４０を形成するために、インラインプロセスが使用されることがある。ある場合には、真空堆積は、線ＰＥＣＶＤ源により行うことができる。この方法のいくつかの実施、およびその方法により製造された物品１００において、反射防止コーティング１２０は、スパッタリング法（例えば、反応性スパッタリング法）、化学気相堆積（ＣＶＤ）法、プラズマ支援化学気相堆積法、またはこれらの過程のいくつかの組合せを使用して調製することができる。１つの実施において、低ＲＩ層１３０Ａおよび高ＲＩ層１３０Ｂを含む反射防止コーティング１２０は、反応性スパッタリング法にしたがって調製することができる。いくつかの実施の形態によれば、物品１００の反射防止コーティング１２０（低ＲＩ層１３０Ａ、高ＲＩ層１３０Ｂおよびキャッピング層１３１を含む）は、回転式ドラム塗工機内で金属モードの反応性スパッタリング法を使用して製造される。この反応性スパッタリング法の条件は、硬度、屈折率、光透過性、薄い色および制御された膜応力の所望の組合せを達成するために、注意深い実験によって規定した。

いくつかの実施の形態において、前記方法は、反射防止コーティング１２０（例えば、その層１３０Ａ、１３０Ｂおよび１３１を含む）および／または追加のコーティング１４０の物理的厚さを、反射防止表面１２２の面積の約８０％以上に沿って、または基板の面積に沿った任意の地点での各層の目標物理的厚さから、約４％を超えて変動しないように制御する工程を含むことがある。いくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１２０および／または追加のコーティング１４０の物理的厚さは、反射防止表面１２２の面積の約９５％以上に沿って約４％を超えて変動しないように制御される。

図１～３に示された物品１００のいくつかの実施の形態において、反射防止コーティング１２０は、約＋５０ＭＰａ（引張）未満から約－１０００ＭＰａ（圧縮）の残留応力により特徴付けられる。物品１００のいくつかの実施において、反射防止コーティング１２０は、約－５０ＭＰａから約－１０００ＭＰａ（圧縮）、または約－７５ＭＰａから約－８００ＭＰａ（圧縮）の残留応力により特徴付けられる。特に明記のない限り、反射防止コーティング１２０における残留応力は、反射防止コーティング１２０の堆積の前後で基板１１０の曲率を測定し、次いで、本開示の分野における当業者により知られており、理解されている原理にしたがって、ストーニーの式により残留膜応力を計算することによって得られる。

ここに開示された物品１００（例えば、図１～３に示されるような）は、デバイス物品、例えば、ディスプレイを有するデバイス物品（または表示装置物品）（例えば、携帯電話、タブレット、コンピュータ、ナビゲーションシステム、ウェアラブルデバイス（例えば、腕時計）などを含む家庭用電子機器）、拡張現実ディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ、眼鏡系ディスプレイ、建築デバイス物品、輸送デバイス物品（例えば、自動車、列車、航空機、船舶など）、電化製品デバイス物品、またはある程度の透明性、耐引掻性、耐摩耗性またはその組合せの恩恵を受ける任意のデバイス物品に組み込まれることがある。ここに開示された物品のいずれか（例えば、図１～３に示された物品１００にしたがう）を組み込んだ例示のデバイス物品が、図４Ａおよび４Ｂに示されている。詳しくは、図４Ａおよび４Ｂは、前面４０４、背面４０６、および側面４０８を有する筐体４０２；その筐体の少なくとも部分的に内部にあり、または完全に中にあり、少なくとも制御装置、メモリ、およびその筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイ４１０を含む電気部品（図示せず）；およびディスプレイ上にあるように、筐体の前面にまたはその上にあるカバー基板４１２を備えた家庭用電子機器４００を示す。いくつかの実施の形態において、カバー基板４１２は、ここに開示された物品のいずれかを含むことがある。いくつかの実施の形態において、その筐体の一部またはカバーガラスの少なくとも一方が、ここに開示された物品から作られている。

いくつかの実施の形態によれば、物品１００（例えば、図１～３に示されるような）は、図５に示されるような、乗物内装システムを有する乗物内装内に組み込まれることがある。より詳しくは、物品１００は、様々な乗物内装システムに関連して使用されることがある。乗物内装システム５４４、５４８、５５２の３つの異なる例を含む乗物内装５４０が示されている。乗物内装システム５４４は、ディスプレイ５６４を含む表面５６０を有するセンターコンソールベース５５６を備える。乗物内装システム５４８は、ディスプレイ５７６を含む表面５７２を有するダッシュボードベース５６８を備える。ダッシュボードベース５６８は、典型的に、ディスプレイも含むことがある計器盤５８０を備える。乗物内装システム５５２は、表面５８８およびディスプレイ５９２を有するハンドルベース５８４を備える。１つ以上の例において、乗物内装システムは、アームレスト、ピラー、シートバック、床板、ヘッドレスト、ドアパネル、または表面を含む乗物の内装の任意の部分であるベースを備えることがある。ここに記載された物品１００は、乗物内装システム５４４、５４８および５５２の各々に交換可能に使用できることが理解されよう。

いくつかの実施の形態によれば、物品１００（例えば、図１～３に示されるような）は、電子ディスプレイまたは電気的に活性のデバイスと統合されることがあるまたはない、パッシブ光学素子、例えば、レンズ、窓、照明カバー、眼鏡、またはサングラスに使用されることがある。

再び図５を参照すると、ディスプレイ５６４、５７６および５９２の各々は、前面、背面、および側面を有する筐体を備えることがある。少なくとも１つの電気部品がその筐体の少なくとも部分的に内部にある。ディスプレイ要素は、筐体の前面にまたはそれに隣接している。物品１００（図１～３参照）は、ディスプレイ要素の上に配置されている。物品１００は、先に説明したように、アームレスト、ピラー、シートバック、床板、ヘッドレスト、ドアパネル、または表面を含む乗物の内装の任意の部分の上に、またはそれに関連して、使用されることもあることが理解されよう。様々な例によれば、ディスプレイ５６４、５７６および５９２は、乗物画像表示システムまたは乗物インフォテインメントシステムであってもよい。物品１００は、自律車両の様々なディスプレイおよび構造成分に組み込まれてもよいこと、および従来の車両に関連してここに与えられた記載は限定するものではないことが理解されよう。

以下の実施例によって、様々な実施の形態がさらに明白になるであろう。

実施例１
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ｂおよび下記の表１に示されるように、そのガラス基板上に５層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例１の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。

実施例１のモデル化試料（「実施例１－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。さらに、このモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表１に示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。全ての実施例について報告された光学的性質は、特に明記のない限り、ほぼ垂直入射で測定した。

実施例２
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ｂおよび下記の表２に示されるように、そのガラス基板上に５層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例２の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。

実施例２のモデル化試料（「実施例２－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。さらに、このモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表２に示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。

実施例３
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ｂおよび下記の表３に示されるように、そのガラス基板上に５層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例３の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。

実施例３のモデル化試料（「実施例３－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。さらに、このモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表３に示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。

実施例３Ａ
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ｂおよび下記の表３Ａに示されるように、そのガラス基板上に５層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例３Ａの製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。

実施例３Ａのモデル化試料（「実施例３－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。さらに、このモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表３Ａに示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。

実施例４
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ａおよび下記の表４に示されるように、そのガラス基板上に７層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例４の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。

実施例４のモデル化試料（「実施例４－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。さらに、このモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表４に示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。

実施例５
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ｂおよび下記の表５Ａに示されるように、そのガラス基板上に５層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例５の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。

実施例５のモデル化試料（「実施例５－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。さらに、このモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表５Ａに示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。

実施例５Ａ
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ｂおよび下記の表５Ｂに示されるように、そのガラス基板上に５層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例５Ａの製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。

実施例５Ａのモデル化試料（「実施例５－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。さらに、このモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表５Ｂに示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。

ここで図６を参照すると、実施例１、２、３、４、５および５Ａの製造したままの物品に関する硬度対圧入深さのプロットが与えられている。図６に示されたデータは、実施例１～５Ａの試料についてのバーコビッチ圧子硬度試験を用いて生成した。図６から明らかなように、硬度値は、１５０から２５０ｎｍの圧入深さでピークに達する。さらに、実施例４、５および５Ａの製造したままの試料は、１００ｎｍと５００ｎｍの圧入深さで最高の硬度値、および１００ｎｍから５００ｎｍの圧入深さ内で最高の最大硬度値を示した。

ここで図７を参照すると、実施例１～５Ａにおいて先に概説した試料のほぼ垂直入射で測定した、またはそれに関して予測された第一面の反射色座標のプロットが与えられている。図７から明らかなように、実施例の各々からの製造したままの試料とモデル化試料により示された色座標間にかなり良好な相関関係がある。さらに、図７に示された試料によって示された色座標は、本開示の反射防止コーティングに関連する限定された色ずれを表す。

実施例６
実施例６は二組のモデル化試料に関する。詳しくは、実施例６のモデル化試料（「実施例３－Ｍ」および「実施例６－Ｍ」）は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。実施例６における実施例３－Ｍのモデル化試料は、実施例３に用いたような反射防止コーティングと同じ構成、すなわち、実施例３－Ｍを使用していることに留意のこと。しかしながら、実施例６－Ｍの試料は、類似しているが、より厚い低ＲＩ層が基板と接触している、反射防止コーティングの構成を有する。より詳しくは、そのモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表６に示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。表６に示されたデータから明らかなように、実施例６－Ｍの試料は、モデル化試料の実施例３－Ｍと比べて、さらに低い明所視平均反射率（すなわち、Ｙ値）を示す。

ここで図８を参照すると、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ Ｔｅｓｔが行われた試料から得られたような、先の実施例、詳しくは、実施例１～５の試料に関する、正反射光除去（ＳＣＥ）値のプロットが与えられている。さらに、ＳＣＥ値は、比較物品（「比較例１」）からも報告されており、この物品は、実施例１～５に用いたのと同じ基板を備え、ニオビアおよびシリカを含む従来の反射防止コーティングを有する。特に、本開示の実施例１～５からの試料（すなわち、実施例１～５）は、比較試料（比較例１）に報告されたＳＣＥ値よりも３倍（以上）低い、約０．２％以下のＳＣＥ値を示した。先に述べたように、より低いＳＣＥ値は、それほど酷くない摩耗関連の損傷を示す。

ここで図９を参照すると、本開示による、高ＲＩ層１３０Ｂと一致するＳｉＮ_ｘから作られた高屈折率層材料（すなわち、図２Ａおよび２Ｂに示されたような高ＲＩ層１３０Ｂに適した材料）の硬度試験積層体についての硬度（ＧＰａ）対圧入深さ（ｎｍ）のプロットが与えられている。特に、図９のプロットは、本開示において先に記載された基板および他の試験関連の物品の影響を最小にするために、実施例１～５Ａにおけるものと一致する基板、および約２マイクロメートルの厚さを有するＳｉＮ_ｘから作られた高ＲＩ層とを含む試験積層体についてのバーコビッチ圧子硬度試験を用いて得た。その結果、２マイクロメートル厚の試料について図９に観察された硬度値は、本開示の反射防止コーティング１２０に用いたずっと薄い高ＲＩ層の実際の固有の材料硬度を示す。

実施例７
６９モル％のＳｉＯ_２、１０モル％のＡｌ_２Ｏ_３、１５モル％のＮａ_２Ｏ、および５モル％のＭｇＯの公称組成を有するガラス基板を提供し、図２Ａと２Ｂおよび下記の表７に示されるように、そのガラス基板上に５層（実施例７、７Ａおよび７Ｂ）および７層（実施例７Ｃ）を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例７（「実施例７、７Ａ、７Ｂおよび７Ｃ」）の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング（例えば、本開示に概説された反射防止コーティング１２０と一致するような）は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。この実施例における試料の選択された光学的性質と機械的性質も、表７において下記に与えられている。

ここで図１０を参照すると、実施例７（実施例７、７Ａ、７Ｂおよび７Ｃ）において先に概説された試料のほぼ垂直入射で測定した、またはそれについて予測された第一面の反射透過率（％）対波長（すなわち、３５０ｎｍから９５０ｎｍ）のプロットが与えられている。図１０から明らかなように、この実施例における試料の各々は、４５０ｎｍから６５０ｎｍの可視スペクトルにおける９６％超の平均透過率、および８００ｎｍから９５０ｎｍ、８００ｎｍから９５０ｎｍ、および９３０ｎｍから９５０ｎｍの赤外スペクトルにおける８７％以上の平均透過率を示す。

ここに用いられているように、本開示における「ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ」、「ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ」および「Ｓｉ_ｕＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ」材料は、下付文字「ｕ」、「ｘ」、「ｙ」および「ｚ」に関する特定の数値および範囲にしたがって記載された、本開示の分野の当業者により理解されるような、様々な酸窒化アルミニウム、酸窒化ケイ素およびサイアロン(silicon aluminum oxynitride)材料を含む。すなわち、「整数式」の記述、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３で固体を記載することが、一般的である。同意義の「原子分率式」の記述、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３と等しい、Ａｌ_０．４Ｏ_０．６を用いて固体を記載することも一般的である。原子分率式において、その式中の全ての原子の合計は、０．４＋０．６＝１であり、式中のＡｌおよびＯの原子分率は、それぞれ、０．４および０．６である。原子分率の記述は、多くの一般的な教科書に記載されており、原子分率の記述は、合金を記載するためにしばしば使用される。例えば、（ｉ）Charles Kittel, Introduction to Solid State Physics, seventh edition, John Wiley & Sons, Inc., NY, 1996, pp. 661-627；（ｉｉ）Smart and Moore, Solid State Chemistry, An introduction, Chapman & Hall University and Professional Division, London, 1992, pp. 136-151；および（ｉｉｉ）James F. Shackelford, Introduction to Materials Science for Engineers, Sixth Edition, Pearson Prentice Hall, New Jersey, 2005, pp. 404-418を参照のこと。

再び、本開示における「ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ」、「ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ」および「Ｓｉ_ｕＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ」材料を参照すると、これらの下付文字により、当業者が、特定の下付文字の値を明記せずに、材料の種類としてこれらの材料に言及することができる。特定の下付文字の値を明記せずに、一般に合金、例えば、酸化アルミニウムについて言えば、Ａｌ_ｖＯ_ｘについて語ることができる。記述Ａｌ_ｖＯ_ｘは、Ａｌ_２Ｏ_３またはＡｌ_０．４Ｏ_０．６のいずれも表すことができる。ｖ＋ｘが合計で１となるように選択された（すなわち、ｖ＋ｘ＝１）場合、ひいては、その式は、原子分率の記述であろう。同様に、より複雑な混合物、例えば、Ｓｉ_ｕＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚを記載することができ、ここでも、合計ｕ＋ｖ＋ｘ＋ｙが１と等しければ、原子分率の記述の場合となるであろう。

もう一度、本開示における「ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ」、「ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ」および「Ｓｉ_ｕＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ」材料を参照すると、これらの表記法により、当業者は、これらの材料と他のものを容易に比較することができる。すなわち、原子分率式は、ときどき、比較に使用するのにより容易である。例えば、（Ａｌ_２Ｏ_３）_０．３（ＡｌＮ）_０．７からなる例示の合金は、式の記述Ａｌ_{０．４４８}Ｏ_０．３１Ｎ_{０．２４１}およびＡｌ_３６７Ｏ_２５４Ｎ_１９８とも密接に等しい。（Ａｌ_２Ｏ_３）_０．４（ＡｌＮ）_０．６からなる別の例示の合金は、式の記述Ａｌ_{０．４３８}Ｏ_{０．３７５}Ｎ_{０．１８８}およびＡｌ_３７Ｏ_３２Ｎ_１６とも密接に等しい。原子分率式Ａｌ_{０．４４８}Ｏ_０．３１Ｎ_{０．２４１}およびＡｌ_{０．４３８}Ｏ_{０．３７５}Ｎ_{０．１８８}は、互いに比較するのが比較的容易である。例えば、Ａｌは０．０１だけ原子分率が減少し、Ｏは０．０６５だけ原子分率が増加し、Ｎは０．０５３だけ原子分率が減少した。整数式の記述Ａｌ_３６７Ｏ_２５４Ｎ_１９８およびＡｌ_３７Ｏ_３２Ｎ_１６を比較するためには、より詳しく計算および検討する必要がある。したがって、固体の原子分率式の記述を使用することが好ましいことがある。それにもかかわらず、Ａｌ、ＯおよびＮの原子を含有するどの合金も含むので、Ａｌ_ｖＯ_ｘＮ_ｙの使用が一般的である。

光学膜８０のための先の材料のいずれか（例えば、ＡｌＮ）に関する本開示の分野における当業者に理解されるように、下付文字「ｕ」、「ｘ」、「ｙ」および「ｚ」の各々は、０から１まで様々であり得、それらの下付文字の合計は１以下となり、組成の残りは、材料中の第一元素（例えば、ＳｉまたはＡｌ）である。それに加え、当業者は、「Ｓｉ_ｕＡｌ_ｘＯ_ｙＮ_ｚ」は、「ｕ」がゼロと等しくなるように作ることができ、その材料を「ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ」と記載できることを認識できる。さらにまた、光学膜８０の先の組成は、純粋な元素形態（例えば、純粋なケイ素、純粋なアルミニウム金属、酸素ガスなど）をもたらすであろう下付文字の組合せは除く。最後に、当業者には、先の組成は、明白に示されていない他の元素（例えば、水素）を含むことがあり、これにより非化学量論的組成となり得る（例えば、ＳｉＮ_ｘ対Ｓｉ_３Ｎ_４）ことも認識されるであろう。したがって、その光学膜のための先の材料は、先の組成の表現における下付文字の値に応じて、ＳｉＯ_２－Ａｌ_２Ｏ_３－ＳｉＮ_ｘ－ＡｌＮまたはＳｉＯ_２－Ａｌ_２Ｏ_３－Ｓｉ_３Ｎ_４－ＡｌＮ相図内の利用可能空間を表すことができる。

本開示の精神および様々な原理から実質的に逸脱せずに、本開示の上述した実施の形態に、多くの変更および改変を行うことができる。そのような改変および変更の全ては、本開示の範囲内に含まれ、以下の特許請求の範囲により保護されることが意図されている。例えば、本開示の様々な特徴は、以下の実施形態にしたがって、組み合わされることがある。

実施の形態１
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含む光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
さらに前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。

実施の形態２
前記物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して１０ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して１１ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、前記光学フイルム構造の物理的厚さは約２００ｎｍから約４５０ｎｍであり、さらに該物品は、０．６％未満の片面明所視平均反射率を示す、実施の形態１の物品。

実施の形態３
前記物品が、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態１または実施の形態２の物品。

実施の形態４
前記物品が、反射で約－４から＋４のａ^＊値、および反射で－６から－１のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態１または実施の形態２の物品。

実施の形態５
前記物品が、約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘りバーコビッチ圧子硬度試験によって測定して約１２ＧＰａ以上の最大硬度を示す、実施の形態１から４のいずれか１つの物品。

実施の形態６
前記光学フイルム構造が、約－１０００ＭＰａ（圧縮）から約＋５０ＭＰａ（引張）の範囲の残留応力を有する、実施の形態１から５のいずれか１つの物品。

実施の形態７
前記光学フイルム構造が、ケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施の形態１から６のいずれか１つの物品。

実施の形態８
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施の形態１から７のいずれか１つの物品。

実施の形態９
前記ガラスが、化学強化されており、２５０ＭＰａ以上のピークＣＳを持つ圧縮応力（ＣＳ）層を有し、該ＣＳ層は、前記第１の主面から約１０マイクロメートル以上の圧縮深さ（ＤＯＣ）まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施の形態８の物品。

実施の形態１０
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか１つ以上をさらに備える、実施の形態１から９のいずれか１つの物品。

実施の形態１１
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施の形態１から１０のいずれか１つの物品。

実施の形態１２
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、該第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、１．８超の屈折率を有し、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して１８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。

実施の形態１３
前記高屈折率層が示す最大硬度が、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる前記硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して２２ＧＰａ以上であり、前記光学フイルム構造の物理的厚さが約２００ｎｍから約４５０ｎｍであり、さらに前記物品が、０．６％未満の片面明所視平均反射率を示す、実施の形態１２の物品。

実施の形態１４
前記物品が、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態１２または実施の形態１３の物品。

実施の形態１５
前記物品が、反射で約－４から＋４のａ^＊値、および反射で－６から－１のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態１２または実施の形態１３の物品。

実施の形態１６
前記光学フイルム構造が、約－１０００ＭＰａ（圧縮）から約＋５０ＭＰａ（引張）の範囲の残留応力を有する、実施の形態１２から１５のいずれか１つの物品。

実施の形態１７
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施の形態１２から１６のいずれか１つの物品。

実施の形態１８
前記ガラスが、化学強化されており、２５０ＭＰａ以上のピークＣＳを持つ圧縮応力（ＣＳ）層を有し、該ＣＳ層は、前記第１の主面から約１０マイクロメートル以上の圧縮深さ（ＤＯＣ）まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施の形態１７の物品。

実施の形態１９
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか１つ以上をさらに備える、実施の形態１２から１８のいずれか１つの物品。

実施の形態２０
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも４層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の１つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施の形態１２から１９のいずれか１つの物品。

実施の形態２１
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層の物理的厚さが約７０ｎｍ以上であり、該キャッピング低屈折率層の物理的厚さが約８０ｎｍ以上である、実施の形態１２から２０のいずれか１つの物品。

実施の形態２２
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施の形態１２から２１のいずれか１つの物品。

実施の形態２３
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、該基板の第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような前記無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、１．８超の屈折率を有し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で３０％以上の前記高屈折率層を含み、
さらに前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。

実施の形態２４
前記光学フイルム構造はさらに、体積で５０％以上の前記高屈折率層を含む、実施の形態２３の物品。

実施の形態２５
前記物品が、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態２３または実施の形態２４の物品。

実施の形態２６
前記物品が、反射で約－４から＋４のａ^＊値、および反射で－６から－１のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態２３または実施の形態２４の物品。

実施の形態２７
前記光学フイルム構造が、約－１０００ＭＰａ（圧縮）から約＋５０ＭＰａ（引張）の範囲の残留応力を有する、実施の形態２３から２６のいずれか１つの物品。

実施の形態２８
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施の形態２３から２７のいずれか１つの物品。

実施の形態２９
前記ガラスが、化学強化されており、２５０ＭＰａ以上のピークＣＳを持つ圧縮応力（ＣＳ）層を有し、該ＣＳ層は、前記第１の主面から約１０マイクロメートル以上の圧縮深さ（ＤＯＣ）まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施の形態２８の物品。

実施の形態３０
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか１つ以上をさらに備える、実施の形態２３から２９のいずれか１つの物品。

実施の形態３１
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも４層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の１つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施の形態２３から３０のいずれか１つの物品。

実施の形態３２
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層が約７０ｎｍ以上の物理的厚さを有し、該キャッピング低屈折率層が約８０ｎｍ以上の物理的厚さを有する、実施の形態２３から３１のいずれか１つの物品。

実施の形態３３
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施の形態２３から３２のいずれか１つの物品。

実施の形態３４
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、該基板の第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、１．８超の屈折率を有し、
前記物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で３５％以上の前記高屈折率層を含み、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して１８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、このａ^＊値およびｂ^＊値の各々は、垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、物品。

実施の形態３５
前記高屈折率層が、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して２１ＧＰａ以上の最大硬度を示す、実施の形態３４の物品。

実施の形態３６
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施の形態３４または実施の形態３５の物品。

実施の形態３７
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施の形態１から１１のいずれか１つの物品。

実施の形態３８
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施の形態１２から２２のいずれか１つの物品。

実施の形態３９
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施の形態２３から３３のいずれか１つの物品。

実施の形態４０
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施の形態３４から３６のいずれか１つの物品。

実施の形態４１
前面、背面、および側面を有する筐体、
前記筐体の少なくとも部分的に内部にあり、制御装置、メモリ、および該筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイを含む電気部品、および
前記ディスプレイ上に配置されたカバー基板、
を備えた家庭用電子機器であって、
前記筐体の一部または前記カバー基板の少なくとも一方が、実施の形態１から４０のいずれか１つの物品から作られている、家庭用電子機器。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含む光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
さらに前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。

実施形態２
前記物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して１０ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して１１ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、前記光学フイルム構造の物理的厚さは約２００ｎｍから約４５０ｎｍであり、さらに該物品は、０．６％未満の片面明所視平均反射率を示す、実施形態１に記載の物品。

実施形態３
前記物品が、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態１または２に記載の物品。

実施形態４
前記物品が、反射で約－４から＋４のａ^＊値、および反射で－６から－１のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態１または２に記載の物品。

実施形態５
前記物品が、約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘りバーコビッチ圧子硬度試験によって測定して約１２ＧＰａ以上の最大硬度を示す、実施形態１から４のいずれか１つに記載の物品。

実施形態６
前記光学フイルム構造が、約－１０００ＭＰａ（圧縮）から約＋５０ＭＰａ（引張）の範囲の残留応力を有する、実施形態１から５のいずれか１つに記載の物品。

実施形態７
前記光学フイルム構造が、ケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施形態１から６のいずれか１つに記載の物品。

実施形態８
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施形態１から７のいずれか１つに記載の物品。

実施形態９
前記ガラスが、化学強化されており、２５０ＭＰａ以上のピークＣＳを持つ圧縮応力（ＣＳ）層を有し、該ＣＳ層は、前記第１の主面から約１０マイクロメートル以上の圧縮深さ（ＤＯＣ）まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施形態８に記載の物品。

実施形態１０
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか１つ以上をさらに備える、実施形態１から９のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１１
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施形態１から１０のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１２
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、該第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、１．８超の屈折率を有し、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して１８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。

実施形態１３
前記高屈折率層が示す最大硬度が、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる前記硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して２２ＧＰａ以上であり、前記光学フイルム構造の物理的厚さが約２００ｎｍから約４５０ｎｍであり、さらに前記物品が、０．６％未満の片面明所視平均反射率を示す、実施形態１２に記載の物品。

実施形態１４
前記物品が、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態１２または１３に記載の物品。

実施形態１５
前記物品が、反射で約－４から＋４のａ^＊値、および反射で－６から－１のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態１２または１３に記載の物品。

実施形態１６
前記光学フイルム構造が、約－１０００ＭＰａ（圧縮）から約＋５０ＭＰａ（引張）の範囲の残留応力を有する、実施形態１２から１５のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１７
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施形態１２から１６のいずれか１つに記載の物品。

実施形態１８
前記ガラスが、化学強化されており、２５０ＭＰａ以上のピークＣＳを持つ圧縮応力（ＣＳ）層を有し、該ＣＳ層は、前記第１の主面から約１０マイクロメートル以上の圧縮深さ（ＤＯＣ）まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施形態１７に記載の物品。

実施形態１９
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか１つ以上をさらに備える、実施形態１２から１８のいずれか１つに記載の物品。

実施形態２０
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも４層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の１つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施形態１２から１９のいずれか１つに記載の物品。

実施形態２１
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層の物理的厚さが約７０ｎｍ以上であり、該キャッピング低屈折率層の物理的厚さが約８０ｎｍ以上である、実施形態１２から２０のいずれか１つに記載の物品。

実施形態２２
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施形態１２から２１のいずれか１つに記載の物品。

実施形態２３
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、該基板の第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような前記無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、１．８超の屈折率を有し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で３０％以上の前記高屈折率層を含み、
さらに前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。

実施形態２４
前記光学フイルム構造はさらに、体積で５０％以上の前記高屈折率層を含む、実施形態２３に記載の物品。

実施形態２５
前記物品が、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態２３または２４に記載の物品。

実施形態２６
前記物品が、反射で約－４から＋４のａ^＊値、および反射で－６から－１のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態２３または２４に記載の物品。

実施形態２７
前記光学フイルム構造が、約－１０００ＭＰａ（圧縮）から約＋５０ＭＰａ（引張）の範囲の残留応力を有する、実施形態２３から２６のいずれか１つに記載の物品。

実施形態２８
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施形態２３から２７のいずれか１つに記載の物品。

実施形態２９
前記ガラスが、化学強化されており、２５０ＭＰａ以上のピークＣＳを持つ圧縮応力（ＣＳ）層を有し、該ＣＳ層は、前記第１の主面から約１０マイクロメートル以上の圧縮深さ（ＤＯＣ）まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施形態２８に記載の物品。

実施形態３０
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか１つ以上をさらに備える、実施形態２３から２９のいずれか１つに記載の物品。

実施形態３１
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも４層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の１つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施形態２３から３０のいずれか１つに記載の物品。

実施形態３２
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層が約７０ｎｍ以上の物理的厚さを有し、該キャッピング低屈折率層が約８０ｎｍ以上の物理的厚さを有する、実施形態２３から３１のいずれか１つに記載の物品。

実施形態３３
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施形態２３から３２のいずれか１つに記載の物品。

実施形態３４
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、該基板の第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約１．８未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、１．８超の屈折率を有し、
前記物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で３５％以上の前記高屈折率層を含み、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して１８ＧＰａ以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、反射で約－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、このａ^＊値およびｂ^＊値の各々は、垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、物品。

実施形態３５
前記高屈折率層が、前記無機酸化物基板上に約２マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して２１ＧＰａ以上の最大硬度を示す、実施形態３４に記載の物品。

実施形態３６
前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、実施形態３４または３５に記載の物品。

実施形態３７
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施形態１から１１のいずれか１つに記載の物品。

実施形態３８
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施形態１２から２２のいずれか１つに記載の物品。

実施形態３９
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施形態２３から３３のいずれか１つに記載の物品。

実施形態４０
前記物品が、９００ｎｍから１０００ｎｍの赤外スペクトルにおいて８７％以上の片面平均透過率を示す、実施形態３４から３６のいずれか１つに記載の物品。

実施形態４１
前面、背面、および側面を有する筐体、
前記筐体の少なくとも部分的に内部にあり、制御装置、メモリ、および該筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイを含む電気部品、および
前記ディスプレイ上に配置されたカバー基板、
を備えた家庭用電子機器であって、
前記筐体の一部または前記カバー基板の少なくとも一方が、実施形態１から４０のいずれか１つに記載の物品から作られている、家庭用電子機器。

１００ 物品
１１０ 基板
１１２、１１４ 主面
１１６、１１８ 覆面
１２０ 反射防止コーティング
１２０Ａ、１２０Ｂ、１２０Ｃ 複数の層
１２２ 反射防止表面
１３０ 複数の周期
１３０Ａ 低ＲＩ層
１３０Ｂ 高ＲＩ層
１３１ キャッピング層
１４０ 追加のコーティング
４００ 家庭用電子機器
４０２ 筐体
４０４ 前面
４０６ 背面
４０８ 側面
４１０、５６４、５７６、５９２ ディスプレイ
４１２ カバー基板
５４０ 乗物内装
５４４、５４８、５５２ 乗物内装システム
５５６ センターコンソールベース
５６０、５７２、５８８ 表面
５６８ ダッシュボードベース
５８０ 計器盤
５８６ ハンドルベース

Claims (15)

1. 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
   前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含む光学フイルム構造、
   を備えた物品であって、
   前記物品は、約１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または約１００ｎｍから約５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
   前記光学フイルム構造のキャッピング低屈折率層の物理的厚さが８０ｎｍ以上であり、
   さらに前記物品は、２％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
2. 前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、請求項１記載の物品。
3. 前記物品が、反射で－１０から＋５のａ^＊値、および反射で－１０から＋２のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、請求項１または２記載の物品。
4. 前記物品が、反射で－４から＋４のａ^＊値、および反射で－６から－１のｂ^＊値を示し、該ａ^＊値および該ｂ^＊値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、請求項１または２記載の物品。
5. 前記光学フイルム構造が、－１０００ＭＰａ（圧縮）から＋５０ＭＰａ（引張）の範囲の残留応力を有する、請求項１から４いずれか１項記載の物品。
6. 前記光学フイルム構造が、ケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、請求項１から５いずれか１項記載の物品。
7. 前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか１つ以上をさらに備える、請求項１から６いずれか１項記載の物品。
8. 前記物品が、Ａｌｕｍｉｎａ ＳＣＥ試験にしたがって測定して、０．２％以下の正反射光除去（ＳＥＣ）値を示す、請求項１から７いずれか１項記載の物品。
9. 前記無機酸化物基板がガラスセラミック基板である、請求項１から８いずれか１項記載の物品。
10. 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
    前記無機酸化物基板の第１の主面上に配置された光学フイルム構造であって、５０ｎｍから５００ｎｍ未満の物理的厚さを有し、該無機酸化物基板の第１の主面上に第１の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
    を備えた物品であって、
    各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含み、
    前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が前記無機酸化物基板の屈折率の範囲内であって１．８未満であり、前記高屈折率層は、１．８超の屈折率を有し、
    前記光学フイルム構造はさらに、体積で３０％以上の前記高屈折率層を含み、
    前記キャッピング低屈折率層の物理的厚さが８０ｎｍ以上であり、
    さらに前記物品は、２％未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
11. 前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、請求項１０記載の物品。
12. 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
    前記無機酸化物基板の第１の主面に直接接触した光学フイルム構造であって、１３０ｎｍから３２５ｎｍ未満の物理的厚さを有し、前記第１の主面上に第１の低屈折率層を含む複数の交互の高屈折率層と低屈折率層、およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
    を備えた耐引掻性物品であって、
    前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層は少なくとも４層であり、各低屈折率層がケイ素含有酸化物を含み、各高屈折率層がケイ素含有窒化物またはケイ素含有酸化物を含み、
    前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層の光学的厚さが４５ｎｍから４５０ｎｍであり、該キャッピング低屈折率層の物理的厚さが８０ｎｍ以上であり、
    前記物品は、１００ｎｍの圧入深さで測定して８ＧＰａ以上の硬度または１００ｎｍから５００ｎｍの圧入深さ範囲に亘り測定して９ＧＰａ以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
    前記高屈折率層の組み合わされた物理的厚さが前記光学フイルム構造の物理的厚さの３０％以上であり、
    さらに前記物品は、２％未満の片面明所視平均反射率を示す、耐引掻性物品。
13. 前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、請求項１２記載の耐引掻性物品。
14. 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
    前記無機酸化物基板の第１の主面に直接接触した光学フイルム構造であって、２００ｎｍから４５０ｎｍ未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の１つ以上を含む光学フイルム構造、
    を備えた耐引掻性物品であって、
    前記光学フイルム構造は、キャッピング層および前記基板の第１の主面に第１の低屈折率層を含み４層以下の複数の交互の高屈折率層と低屈折率層を有し、さらに前記キャッピング層および各低屈折率層はケイ素含有オキシ窒化物であり、各高屈折率層はケイ素含有窒化物またはケイ素含有酸化物であり、
    前記キャッピング層の物理的厚さが８０ｎｍから１００ｎｍであり、
    前記高屈折率層の組み合わされた物理的厚さが前記光学フイルム構造の物理的厚さの３５％以上であり、
    さらに前記物品は、１％未満の片面明所視平均反射率を示す、耐引掻性物品。
15. 前面、背面、および側面を有する筐体、
    前記筐体の少なくとも部分的に内部にあり、制御装置、メモリ、および該筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイを含む電気部品、および
    前記ディスプレイ上に配置されたカバー基板、
    を備えた家庭用電子機器であって、
    前記筐体の一部または前記カバー基板の少なくとも一方が、請求項１から１４いずれか１項記載の物品から作られている、家庭用電子機器。

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