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JP2001500550A - 重合触媒 - Google Patents

重合触媒

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JP2001500550A
JP2001500550A JP10513353A JP51335398A JP2001500550A JP 2001500550 A JP2001500550 A JP 2001500550A JP 10513353 A JP10513353 A JP 10513353A JP 51335398 A JP51335398 A JP 51335398A JP 2001500550 A JP2001500550 A JP 2001500550A
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catalyst composition
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hydrocarbyl
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substituted
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Withdrawn
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JP10513353A
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ドーラー,ビルギット,アンゲーリカ
リトル,イアン,レイモンド
シャープ,クリストファー
スティックバリー,ジョアン,クレア
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BP Chemicals Ltd
Original Assignee
BP Chemicals Ltd
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Priority claimed from GBGB9714386.1A external-priority patent/GB9714386D0/en
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Abstract

(57)【要約】 オレフィンの重合に際し使用するのに適した触媒組成物は、金属に直接結合したO、S、NおよびPからの少なくとも1個の原子を含むキレート化リガンドを有する個々の金属錯体を含む。これら錯体はルイス酸の存在下に使用され、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム錯体により例示することができる。典型的なキレート化リガンドはアセチルアセトネートを包含し、各錯体はたとえばMAOのような従来の活性化剤を必要としないという格別の利点を有する。

Description

【発明の詳細な説明】 重合触媒 本発明は、或る種の新規な個々の金属錯体、その製造およびオレフィンの重合 に適した触媒組成物におけるその使用に関するものである。特に本発明は、個々 の金属錯体と活性化剤とを含む触媒組成物に関するものである。 1−オレフィン(たとえばエチレン)を重合させるための或る種の遷移金属化 合物の使用は従来技術にて充分確立されている。チタンハロゲン化物をたとえば トリエチルアルミニウムのような有機金属化合物で活性化することにより生成さ れるチーグラー・ナッタ触媒の使用は、ポリオレフィンを製造するための多くの 工業方法につき基礎的である。過去20年間もしくは30年間にわたり、技術の 進歩は極めて低濃度の残留触媒を含有するオレフィンポリマーおよびコポリマー を工業的重合方法にて直接製造しうるような高活性を有するチーグラー・ナッタ 触媒の開発をもたらした。生成されたポリマーに残存する残留触媒の量は、殆ど の工業用途につきその分離および除去を不必要にするような少量である。この種 の方法は、モノマーを気相にて或いは溶液にて或いは液体炭化水素希釈剤におけ る懸濁物にて重合させることにより操作することができる。各モノマーの重合は 、たとえば重合条件下にて標的ポリオレフィン粉末と所望触媒の粒子とからなる 床を気体モノマーからなる流動化用ガス流を用いて流動化させることにより、気 相(「気相法」)にて行うことができる。いわゆる「溶液法」においては、「共 」重合はモノマーを液体炭化水素希釈剤における触媒の溶液もしくは懸濁物に、 生成ポリオレフィンが炭化水素希釈剤における溶液として生成するような温度お よび圧力の条件下で導入することにより行われる。「スラリー法」においては温 度、圧力および希釈剤の選択を生成ポリマーが液体炭化水素希釈剤における懸濁 物として生成するようにする。これら方法は、一般に比較的低圧力(たとえば1 0〜50バール)および低温度(たとえば50〜150℃)にて操作される。 商品ポリエチレンは各種の異なる種類および等級にて工業的に生産される。 遷移金属系触媒によるエチレンのホモ重合は、いわゆる「高密度」級のポリエチ レンの生産をもたらす。これらポリマーは比較的高い剛性を有すると共に固有の 剛性が必要とされる物品を作成するのに有用である。エチレンと高級1−オレフ ィン(たとえばブテン、ヘキセンもしくはオクテン)との共重合は、広範な種類 の密度および他の重要な物理的性質にて相違するコポリマーを生成させるべく工 業的に使用される。エチレンを高級1−オレフィンと遷移金属系触媒を用いて共 重合させることにより作成される特に重要なコポリマーは、0.91〜0.93 の範囲の密度を有するコポリマーである。一般に当業界にて「線状低密度ポリエ チレン」と称するこれらコポリマーは多くの面において、いわゆるエチレンの高 圧力遊離基触媒重合により製造される「低密度」ポリエチレンに類似する。この 種のポリマーおよびコポリマーは、軟質吹込フィルムの製造に広範に使用される 。 エチレンおよび高級1−オレフィンのコポリマーにおける微構造の重要な特徴 は、重合したコモノマー単位が重合エチレン単位の「骨格」鎖に沿って分布する ことである。慣用のチーグラー・ナッタ触媒は、重合コモノマー単位が連鎖に沿 って互いにクランプするコポリマーを生成する傾向を有した。この種のコポリマ ーから特に望ましいフィルム特性を達成するには、各コポリマー分子におけるコ モノマー単位を、好ましくは互いにクランプさせず各線状ポリエチレン鎖の長さ に沿って充分離間させる。近年、遷移金属に基づく個々の金属錯体の使用は極め て高活性を有すると共にコモノマー単位の向上した分布を与えうる触媒をもたら している。この種の錯体はメタロセンとして知られ、ビスシクロペンタジエニル 遷移金属錯体により例示することができる。 これら個々の金属錯体に基づくオレフィン重合触媒の使用が現在充分に確立さ れている。この種の錯体の例はEP129368号、EP206794号および EP260130号に見ることができる。典型的には、メタロセン錯体はビス( シクロヘンタジエニル)ジルコニウム錯体、たとえば二塩化ビス(シクロペンタ ジエニル)ジルコニウムもしくは二塩化ビス(テトラメチルシクロペンタジエニ ル)ジルコニウムからなっている。 この種の触媒系において、個々の金属錯体は適する活性化剤の存在下に使用 される。この種のメタロセン錯体と共に最も好適に使用される活性化剤はアルミ ノキサン、特に好適にはメチルアルミノキサンもしくはMAOである。他の適す る活性素剤は過弗素化硼素化合物である。 極く最近、拘束された配置を有する金属錯体がオレフィン重合触媒系の各成分 として使用されている。この種の錯体はEP420436号およびEP4166 815号に記載されている。さらに、この種の錯体は上記活性化剤(たとえばア ルミノキサン)の存在下にも使用される。 しかしながら、個々の金属錯体に基づくオレフィン重合触媒の性能を向上させ ることが有利であろう。さらに、これら個々の金属錯体と共に一層単純および一 層安価な活性化剤を使用し、或いは低活性化剤濃度を用いることも有利であろう 。 EP519746号は、アルキルスルホネートリガンドと有機アルミニウムオ キシ化合物とを有するビス(シクロペンタジエニル)遷移金属錯体からなるオレ フィン重合用の触媒系を記載している。この種の系は、活性化剤としてアルミノ キサンの使用を必要とする。 EP591756号は、メタロセン錯体とイオン性化合物とのポリカチオン錯 体からなる重合触媒系を記載している。このポリカチオン錯体は、たとえばビス (シクロペンタジエニル)ジルコニウムジトリフレートである。 EP598134号は、キレート形成性リガンド(たとえばアセチルアセトネ ート基)を有するチタン錯体を記載しており、これはチタン錯体とのイオン性複 合体を形成しうる化合物と一緒にオレフィン重合用の触媒として使用することが できる。この引例は、キレート形成性のリガンド(たとえばアセチルアセトネー ト基)を有するチタノセンをも特定している。得られる触媒系は有機アルミニウ ム化合物の存在下に使用される。 EP472741号は共役配位子、たとえばジケトンをアルミノキサンと共に 有する遷移金属錯体からなるオレフィン重合触媒を記載している。そこに記載さ れた錯体はシクロペンタジエニルリガンドを含有せず、金属の原子価は典型的に はジクロライドリガンドで満たされる。 同様なジケトンリガンドを含有する多数の錯体の製造が従来技術に報告され ている。 アンゲバンテ・ヘミー・インターナショナル・エディション、イングリッシュ (1996)、第35(1)巻、第80−2頁は、予備形成されたジルコノセン −ベタインカチオンを用いるアセチルアセトナトジルコノセンボレーとの製造を 記載している。 オーガノメタリックス(1994)、第13(10)巻、第3897−902 頁は、(アセチルアセトナト)η−1−(ピラゾール−N)ジルコノセンテトラ フェニルボレートの製造を記載している。 ブレチン・ソシエテ・ヒミカ・フランス(1984)、第(3−4、Pt1) 巻、第113−14頁;ツァイトシュリフト・ナチュールホルシュンク、B:ア ンオーガニッシェン・ヘミー、オーガニッシェン・ヘミー(1984)、第39 B(5)巻、第604−6頁;シンセチック・リアクション・インオーガニック ・メタル−オーガニック・ケミストリー(1983)、第13(8)巻、第10 59−65頁;シンセチック・リアクション・インオーガニック・メタル−オー ガニック・ケミストリー(1983)、第13(3)巻、第357−66頁およ びモナートシェン・ヘミー(1983)、第114(4)巻、第399−405 頁は、メタロセンアセチルアセトナトキサンテートおよびカルバメートの製造を 記載している。 Izv.Akad.Nauk.SSSr,Ser.Khim(1978)、第 (11)巻、第2645−7頁はCp2Zr(PhCOCHCOPh)(Cl) の製造を記載している。 今回、オレフィンの重合に適するキレート化用リガンドを含有した或る種の異 原子を含む個々の金属錯体に基づく触媒系が見出された。さらに、これら触媒系 の格別の利点は、これらを従来のアルミノキサン活性化剤の不存在下に使用しう る点である。 従って本発明によれば、オレフィンの重合に使用するのに適した触媒組成物が 提供され、前記組成物は: (A)一般式 (L)pMYnmq [式中、Lはオレフィン重合条件下にMに結合し続けるリガンドを示し、 Mは第IIIA族元素または第IIIB族、第IVB族、第VB族、第VIB族 もしくは第VIII族遷移金属(周期律表コットン・アンド・ウイルキンソン、 第5版のCASバージョン)であり、 YはMに直接結合したO、S、NおよびPからの少なくとも1個の原子を含むキ レート化リガンドであり、 XはYと同一であるか、またはハイドライド、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビル、ハライド、ペルクロレート、置換スルホネート、トリフルオロメタンスル ホネート、メタンスルホネート、フルオロスルホネート、アリールスルホネート 、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)メチル、ビス(トリフルオロメチルス ルホニル)ベンジル、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド、アルコキ シド、アリールオキシド、テトラアルキルボレート、テトラアリールボレート、 テトラフェニルボレート、置換テトラフェニルボレート、テトラキス(ペンタフ ルオロフェニル)ボレート、テトラキス[ビス(3,5−ジトリフルオロメチル )フェニル]ボレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート もしくはペンタフルオロテルレートよりなる群から選択され、 Zは中性ルイス塩基であり、 n>もしくは=1であり、 p>もしくは=1であり、 m>もしくは=0であり、 q>もしくは=0であり、 ただしn、m、pおよびqは金属の原子価を満たす整数もしくは0である] を有する中性の個々の金属錯体と、 (B)1種もしくはそれ以上のルイス酸と からなることを特徴とする。 本発明の触媒組成物に使用するのに適する個々の金属錯体の例は、限定はしな いが上記一般式にて次のY基を有するものである: アセチルアセトネート β−ジケトネート β−ケトエステル β−ケトアルデヒド ジチオアセチルアセトネート HC(SO2CF32 カルボキシレート カルバメート チオカルボキシレート ジチオカルボキシレート チオカルバメート ジチオカルバメート キサンテート チオキサンテート ホスフィネート チオホスフィネート ジチオホスフィネート ジアルキルジチオホスフェート アミジネート ビスイミダゾレート ホスフェート スルファージイミネート アミデート トロポロネート オキサレート オキサレートエステル ナイトレート ナイトライト カーボネート スクワレート クロコネート スルフィネート サルフェート サルファイト フルオロサルフェート ヒドロキサメート チオヒドロキサメート ジチオヒドロキサメート。 好適錯体は、Y基が金属に直接結合した少なくとも1個のO原子を含むもので ある。 特に適する錯体は、Y基がβ−ジケトネートもしくはβ−ケトエステル、たと えばアセチルアセトネートもしくは置換アセチルアセトネート(たとえば弗素化 誘導体)であるようなものである。 特に適する錯体は、pが1もしくは2であり、Mが第IVB族金属(たとえば ジルコニウムもしくはチタン)であるようなものである。 特に適する錯体は、X基がヒドロカルビル、ハライドもしくはトリフルオロメ タンスルホネート(トリフレート)であるようなものである。 本発明に使用するのに適する個々の金属錯体は、たとえばEP129368号 もしくはEP206794号に開示されたようなビスシクロペンタジエニルリガ ンドを含むメタロセン錯体を包含する。 特に適するメタロセン錯体は、一般式: (L)pMYnmq [式中、Lは未置換もしくは置換シクロペンタジエニルリガンドを示し、 Mは第IVB族、第VB族、第VIB族もしくは第VIII族遷移金属(周期律 表コットン・アンド・ウイルキンソン、第5版のCASバージョン)であり、 YはMに直接結合したO、S、NおよびPからの少なくとも1個の原子を含むキ レート化リガンドであり、 XはYと同一であるか或いはハイドライド、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビ ル、ハライド、ペルクロレート、置換スルホネート、トリフルオロメタンスルホ ネート、メタンスルホネート、フルオロスルホネート、アリールスルホネート、 ビス(トリフルオロメチルスルホニル)メチル、ビス(トリフルオロメチルスル ホニル)ベンジル、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド、アルコキシ ド、アリールオキシド、テトラアリールボレート、テトラフェニルボレート、置 換テトラフェニルボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、 テトラキス[ビス(3,5−ジトリフルオロメチル)フェニル]ボレート、テト ラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェートもしくはペンタフルオロテル レートよりなる群から選択され、 Zは中性ルイス塩基であり、 n>もしくは=1であり、 p>もしくは=1であり、 m>もしくは=0であり、 q>もしくは=0であり、 ただしn、m、pおよびqは金属の原子価を満たす整数もしくは0である] を有するものである。 シクロヘンタジエニルリガンドはアルキル、アリール、アルケニル、アリール アルキルもしくはアルキルアリール基により置換することができ、或いは2個の 置換基を互いに結合させて融合環(たとえばインデニル)を形成することもでき る。好適シクロペンタジエニルリガンドはメチル基により置換される。 pが2である場合、すなわち2個のシクロペンタジエニル基が存在する場合、 これらは架橋基を介し、たとえば式(R2Z)p(ここでZは珪素、ゲルマニウム もしくは炭素であり、pは1〜8であり、Rは水素またはヒドロカルビルもしく はその組み合わせから選択される基である)の基により、互いに結合することが できる。 好適錯体は、Mがジルコニウム、チタンもしくはハフニウムであり、pが2で あり、nが1もしくは2であるようなものである。 さらに本発明に使用するのに適するものは、たとえばEP4168l5号もし くはEP420436号に開示されたような拘束配置を有する錯体である。 たとえば次の一般式を有する錯体が適している: [式中、Cp*は、Z−Pを介しMに適宜共有結合すると共に式: (式中、Rはそれぞれ水素またはハロゲン、アルキル、アリール、ハロアルキル 、アルコキシ、アリールオキシ、シリル基および20個までの非水素原子を有す るその組み合わせから選択される部分であり、または2個もしくはそれ以上のR 基は一緒になって融合環系を形成する) に対応する単一のη5−シクロペンタジエニルもしくはη5−置換シクロペンタ ジエニル基である]。 Mはη5結合方式にてシクロペンタジエニルもしくは置換シクロペンタジエニ ル基に結合したジルコニウム、チタンもしくはハフニウムであって+3もしくは +4の原子価状態である。 Zは酸素、硼素または元素周期律表(周期律表コットン・アンド・ウイルキン ソン、第5版のCASバージョン)における第IVA族の一員である。 Pは窒素、燐、酸素もしくは硫黄からなる金属に共有結合した結合基であり、 或いは必要に応じZとPとは一緒になって融合環系を形成し、 X、Y、nおよびmは上記した通りであって、nおよびmはMの原子価を満た す。 好適錯体は、金属Mがチタンであり、Pが窒素であり、Zが珪素であるような ものである。 本発明のLリガンドを与えうる他の適する錯体はEP672676号およびE P757996号に記載された錯体である。この種の錯体はシクロオクタテトラ エニル(もしくはCOT)リガンドを含み、従ってLがシクロオクタテトラエニ ルである上記式を示す。 本発明に使用するのに適するルイス酸の例はアルキルアルミニウム化合物、た とえばトリメチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、アリールアルミ ニウム化合物、たとえばトリス(ペンタフルオロフェニル)アルミニウム、アル ミニウム水素化物、たとえばアルミニウム三水素化物および混合水素化物/アリ ール/アルキルアルミニウム化合物、たとえばジイソブチルアルミニウム水素化 物、モノ(ペンタフルオロフェニル)ジ−イソブチルアルミニウムである。さら にアルキルアルミニウムハロゲン化物、たとえば塩化ジメチルアルミニウムもし くはアルキルアルミニウムジハライド、たとえば二塩化メチルアルミニウムもし くは二塩化エチルアルミニウムも適している。 さらにアルキルもしくはアリール硼素、硼素ハロゲン化物および水素化物、マ クロ環式硼素化合物、たとえばボラシクロドデカン、アルキルマグネシウムもし くはマグネシウムハロゲン化物もルイス酸として使用するのに適する。トリス( ペンタフルオロフェニル)硼素およびトリイソブチル硼素が特に適している。 アリールオキシアルミニウム化合物、たとえば(2,7−ジメチル−1,8− ビフェニレンジオキシ)ビス(ジ−イソ−ブチルアルミニウム)およびアリール オキシ硼素化合物、たとえばカテコールボランも適している。 1個もしくはそれ以上のルイス酸と本発明による個々の金属錯体との比は0. 2:10,000、好ましくは0.2:5000である。 本発明による触媒組成物は好適に支持することができる。たとえば個々の金属 錯体を触媒支持体、たとえばシリカ、アルミナもしくは塩化マグネシウムに含浸 させることができる。支持触媒の製造は慣用技術により行うことができる。 本発明による触媒組成物はさらに他の触媒成分、たとえばチーグラー触媒もし くは他の金属錯体をも含むことができる。たとえば支持金属錯体と本発明によ る活性化剤とをチーグラー触媒、たとえばチタン、マグネウムおよびハロゲンの 各原子を含む触媒と一緒に含む多部位触媒組成物を使用することができる。この 種の多部位触媒は、慣用ルートにより作成することができる。 さらに、所要に応じ本発明による錯体を慣用の活性化剤、たとえばアルミノキ サン(特にメチルアルミノキサン)の存在下に使用することもできる。 本発明による錯体はさらにイオン化用のイオン性化合物、たとえばトリチルテ トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチルアニリニウムテトラキ ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、リチウムテトラキス(ペンタフルオロ フェニル)ボレート、トリチルテトラフェニルボレート、テトラフルオロ硼酸な どの存在下に使用することもできる。 さらに本発明はポリオレフィン、特にエチレンのホモポリマーおよびエチレン と少量の少なくとも1種のC3〜C10(好ましくはC3〜C8)α−オレフィ ンとのコポリマーの製造方法をも提供する。この方法は、モノマーを必要に応じ 水素の存在下に本発明による触媒組成物と、重合反応を開始させるのに充分な温 度および圧力にて接触させることからなっている。 好適にはα−オレフィンはプロピレン、ブテン−1、ヘキセン−1、4−メチ ルペンテン−1およびオクテン−1とすることができる。 本発明によるオレフィン重合触媒組成物は溶液重合、スラリー重合または気相 重合の各技術を用いてポリマーを製造すべく使用することができる。この種の重 合反応を行う方法および装置は周知されており、たとえばエンサイクロペジア・ オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・エンジニアリング[ジョーン・ウイリー ・アンド・サンズ社により出発(1987)、第7巻、第480−488頁、並 びに(1988)、第12巻、第504−541頁]に記載されている。本発明 による触媒は、公知のオレフィン重合触媒と同様な量および同様な条件下で使用 することができる。 必要に応じ重合は水素の存在下に行うことができる。水素または他の適する連 鎖延長剤を使用して、生成ポリオレフィンの分子量を調節することができる。 本発明の他面によれば、一般式: (L)2MYX[式中、Lは未置換もしくは置換シクロペンタジエニルリガンドを示し、 Zは酸素、硼素または元素周期律表(周期律表コットン・アンド・ウイルキンソ ン、第5版のCASバージョン)における第IVA族の一員からなる二価成分で あり、 Pは窒素、燐、酸素もしくは硫黄を含む金属に共有結合した結合基であり、必要 に応じZおよびPは融合環系を形成し、 MはZr、TiもしくはHfであり、 XはSO3CF3もしくはヒドロカルビルであり、 YはRCOCHCORであり、 同一でも異なってもよいRはヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル、たと えばCH3、C25もしくはCF3、C(CH33もしくはOCH2CH3である] を有する新規な金属錯体も提供される。 特に次式を有する錯体が開示される: (1,3−(CH32532Zr(CH3COCHCOCH3)SO3CF3、 (1,3−(CH32532Zr(CF3COCHCOCF3)SO3CF3 、 (1,3−(CH32532Zr(CH3COCHCOOCH2CH3)−SO3 CF3、 (CH32Si((CH345)(NC(CH33)Ti(CF3COCHCO CF3)SO3CF3、 (1,3−(CH32532Zr((CH33CCOCHCOC−(CH33 )SO3CF3、 (C552Zr(CH3COCHCOCH3)CH3。 本発明のさらに他面によれば新規錯体の製造方法も提供され、この方法は金属 に結合された少なくとも1個のヒドロカルビル置換基を有する先駆体の錯体(た とえばCp2Zr(CH3)(SO3CF3))を適するジオンと、適する溶剤(た とえばトルエンもしくはペンタン)中で反応させると共に濾過もしくは溶剤の除 去により錯体を回収することからなっている。 すなわち式Cp2M(ヒドロカルビル)Xの錯体を式RCOCH2CORのジオ ンと適する溶剤中にて反応させることによる式Cp2MXYの錯体の製造方法が 提供され、上記式中 M=Zr、Ti、Hf Y=RCOCHCOR X=SO3CF3 R=ヒドロカルビル である。 先駆体の錯体が2個以上のヒドロカルビル置換基を有すると共に得られる錯体 もヒドロカルビル置換基を有することが望ましければ、ジオンを先駆体錯体の撹 拌溶液に滴下することにより反応を行うのが好適である。 従って、式Cp2M(ヒドロカルビル)2の錯体の溶液を式RCOCH2COR のジオンで処理することによる式Cp2M(ヒドロカルビル)Yの錯体の製造方 法も提供され、上記式中 M=Zr、Ti、Hf Y=RCOCHCOR R=ヒドロカルビル である。 以下、実施例を参照して本発明をさらに説明する。実施例1 の作成 20mlのトルエンにおける307mg(1ミリモル)のビス(1,3−ジメ チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチルの溶液に88μl(1ミ リモル)のトリフルオロメタンスルホン酸を添加した。この混合物を1時間撹拌 し、次いで102μl(1ミリモル)の2,4−ペンタンジオンを一度に添加し た。溶剤を蒸発乾固させ、残留物をエーテル/ヘキサン(1/5)から結晶化さ せて247mgの(1,3−(CH32532Zr(CH3COCHCOCH3 )SO3CF3を淡黄色結晶(47%収率)として得た。 次のようにnmrにより特性化された:1 H−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=5.63(4H、m、Cp−CH)、5.56(2H、m、Cp−CH)、 4.98(1H、s、acacCH)、1.85(12H、brs、Cp−CH3 )、1.67(6H、brs、acacMe)13 C−NMR:(dδ−トルエン、室温、DEPT−45) δ=14.7(3−Cp)、26.5(3−acac)、102.3( H−acac)、120.7、129.4(H−Cp)19 F−NMR:(dδトルエン、室温) δ=−79.4実施例2 の作成 20mlのトルエンにおける307mg(1ミルモル)のビス(1,3−ジメ チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチルの溶液に88μl(1ミリモ ル)のトリフルオロメタンスルホン酸を添加した。この混合物を1時間撹拌し、 次いで141μl(1ミリモル)の1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ− 2,4−ペンタンジオンを一度に添加した。溶剤を蒸発乾固させ、残留物をトル エン/ヘキサン(1/10)から結晶化させて442mgの(1,3−(CH3 2532Zr(CF3COCHCOCF3)SO3CF3を淡黄色結晶(70% 収率)として得た。 次のようにnmrにより特性化された:1 H−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=5.99(1H、s、hfacac)、5.72(2H、s、Cp−CH )、5.45(4H、s、Cp−CH)、1.86(6H、s、Cp−CH3) 、1.65(6H、s、Cp−CH313 C−NMR:(dδ−トルエン、室温、DEPT−45) δ=13.83、14.02(3−Cp)、92.31(H−hfaca c)、116.286、117.154、123.081(H−Cp)19 F−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=−77.10、−77.39、−79.41実施例3 20mlのトルエンにおける307mg(1ミルモル)のビス(1,3−ジメ チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチルの溶液に88μl(1ミリモ ル)のトリフルオロメタンスルホン酸を添加した。この混合物を1時間撹拌し、 次いで127μl(1ミリモル)のエチルアセトアセテートを一度に添加した。 溶剤を蒸発乾固させ、残留物をトルエン/ヘキサン(1/10)から結晶化させ て442mgの(1,3−(CH32532Zr(CF3COCHCOCF3 )SO3CF3を無色結晶(76%収率)として得た。 nmrにより次のように特性化された:1 H−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=5.76(2H、sbr、Cp−CH)、5.63(2H、sbr、Cp− CH)、5.51(2H、sbr、Cp−CH)、4.82(1H、s、aca c−CH)、4.46(2H、sbr、OC 2CH3)、1.90(6H、sb r、Cp−CH3)、1.85(6H、sbr、Cp−CH3)、1.52(3H 、s、br acac−CH3)、1.09(3H、s、br、OCH23 19 F−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=−78.98実施例4 (CH32Si((CH345)(NC(CH33)Ti(CH32出発物 質により実施例2の方法を用いて、次のようにnmrにより特性化される(CH32Si((CH345)(NC(CH33)Ti(CF3COCHCOCF3 )SO3CF3を得た:1 H−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=6.15(1H、s、acac−CH)、2.23、1.91、1.82、 1.09(12H、4s、Cp−CH3)、0.99(9H、s、NC(CH33 、0.48、0.39(6H、2S)Si−CH319 F−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=−76.4、−76.7、−79.2実施例5 20mlのトルエンにおける307mg(1ミルモル)のビス(1,3−ジメ チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチルの溶液に88μl(1ミリモ ル)のトリフルオロメタンスルホン酸を添加した。この混合物を1時間撹拌し、 次いで208μl(1ミリモル)の2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘ プタンジオンを一度に添加した。溶剤を蒸発乾固させ、残留物をエーテル/ヘキ サン(1/20)から結晶化させて531mgの(1,3−(CH32532 Zr((CH33CCOCHCOC(CH33)SO3CF3を無色結晶(87 %収率)として得た。 nmrにより次のように特性化された:1 H−NMR:(dδ−トルエン、室温) δ=5.67(4H、m、Cp−CH)、5.63(2H、m、Cp−CH)、 5.8(bs、acacCH)、2.03(12H、br s、Cp−CH3) 、1.0(18H、brs、acactBu)13 C−NMR:(dδトルエン、室温、DEPT−45) δ=14.6(3−Cp)、27.8、28.3(tBu−acac)、9 2.2(H−acac)、116.3、117.0、122.9(H−Cp )実施例6 −78℃の100m lのペンタンにおける920mg(3.6ミリモル)の ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチルの溶液に370μl(3. 6ミリモル)の2,4−ペンタンジオンを撹拌しながら滴下した。この混合物を 1時間撹拌した後に室温まで加温した。白色沈殿物が生成し、これを濾過により 単離すると共に冷ペンタン(2x50ml)で洗浄した。(C552Zr(C H3COCHCOCH3)CH3の収量は630mg(52%収率)であった。 nmrにより次のように特性化された:1 H−NMR:(dδ−ベンゼン、室温) δ=5.79(10H、s、Cp)、5.08(1H、s、acacCH)、 1.61(6H、s、acacCH3)、0.61(3H、s、CH3重合 実施例7〜12を、反応媒体としてイソブタンを用いることにより1リットル 容積のオートクレーブで行った。反応器を85℃まで加熱し、完全に窒素(2リ ットル/min)により90分間にわたりパージした。次いで温度を50℃まで 低下させ、反応器に選択アルキルアルミニウム試薬およびイソブタン(500m l)を充填した。この混合物を75℃にて200rpmで最小120分間にわた り撹拌し、10バールのエチレンの過剰圧力を加えた。金属錯体および他のルイ ス酸(使用する場合)を次いで反応器に添加した。エチレンを添加して、操作期 間にわたり一定反応器圧力を維持した。この操作を、反応器を急速にに排気する と共に20℃まで冷却して停止させた。固体のポリマー生成物をメタノール性塩 化水素で洗浄し、水性エタノールで濯ぎ、次いで乾燥させた(50℃、減圧下、 16h)。使用した錯体およびルイス酸の詳細は次の通りである:実施例7 トリイソブチルアルミニウム(トルエンにおける3mlの1M溶液;アルドリ ッチ社)およびトリメチルアルミニウム(ヘキサンにおける1mlの2M溶液; アルドリッチ社)を反応器に充填し、次いで(1,3−(CH32532Z r(CH3COCHCOCH3)SO3CF3(0.95μモル;実施例1にて作成 )を添加した。反応時間は66分間とした。ポリマー収量は10.22gであり 、触媒活性は978gポリマー/ミリモルZr.b.h.であった。実施例8 トリイソブチルアルミニウム(トルエンにおける4mlの1M溶液;アルドリ ッチ社)を反応器に充填し、次いで(1,3−(CH32532Zr(CH3 COCHCOCH3)SO3CF3(1.0μモル;実施例1にて作成)とトリイ ソブチルアルミニウム(10μモル)との混合物を添加した。反応時間は60分 間とした。ポリマー収量は23.47gであり、触媒活性は2347gポリマー /ミリモルZr.b.h.であった。実施例9 トリイソブチルアルミニウム(トルエンにおける4mlの1M溶液;アルドリ ッチ社)を反応器に充填し、次いで(1,3−(CH32532Zr(CH3 COCHCOCH3)SO3CF3(0.95μモル;実施例1にて作成)および B(C653(ボウルダー・サイエンチフィックス社;1.425μモル)を 添加した。反応時間は60分間とした。ポリマー収量は15.61gであり、触 媒活性は1643gポリマー/ミリモルZr.b.h.であった。実施例10 トリイソブチルアルミニウム(トルエンにおける5mlの1M溶液;アルドリ ッチ社)を反応器に充填し、次いで(1,3−(CH32532Zr(CF3 COCHCOCF3)SO3CF3(0.95μモル;実施例2にて作成)および B(C653(ボウルダー・サイエンチフィックス社;0.95μモル)を添 加した。反応時間は60分間とした。ポリマー収量は21.61gであり、触媒 活性は2275gポリマー/ミリモルZr.b.h.であった。実施例11 トリイソブチルアルミニウム(トルエンにおける4mlと1M溶液;アルドリ ッチ社)を反応器に充填し、次いで(1,3−(CH32532Zr(C H3COCHCOOCH2CH3)SO3CF3(0.95μモル;実施例3にて作 成)およびB(C653(ボウルダー・サイエンチフィックス社;0.95μ モル)を添加した。反応時間は60分間とした。ポリマー収量は12.19gで あり、触媒活性は1283gポリマー/ミリモルZr.b.h.であった。実施例12 トリイソブチルアルミニウム(トルエンにおける4mlの1M溶液;アルドリ ッチ社)を反応器に充填し、次いで(1,3−(CH32532Zr(CF3 COCHCOCF3)SO3CF3(1.0μモル;実施例2にて作成)およびM AO(Al:Zr比600:1)を添加した。反応時間は60分間とした。ポリ マー収量は48.8gであり、触媒活性は4880gポリマー/ミリモルZr. b.h.であった。実施例13 トリイソブチルアルミニウム(トルエンにおける4mlの1M溶液;アルドリ ッチ社)を反応器に充填し、次いで(1,3−(CH32532Zr(CH3 COCHCOCH3)SO3CF3(0.95μモル;実施例3にて作成)および [CPh3][B(C654](ボウルダー・サイエンチフィックス社;1.4 3μモル)を添加した。反応時間は60分間とした。ポリマー収量は37.8g であり、触媒活性は3979gポリマー/ミリモルZr.b.h.であった。実施例14 40mlのトルエンにおける(C552Zr(CH3COCHCOCH3)M e(17.5mg、0.05ミリモル;実施例6にて作成)およびB(C653 (25.6mg、0.05ミリモル)の溶液にトリイソブチルアルミニウム( トルエンにおける2.5mlの1M溶液)を添加した。この溶液を減圧下に脱ガ スし、エチレンの雰囲気を逆充填した。60分間の操作時間に際し溶液を1気圧 におけるエチレンの供給に開放し続け、激しく撹拌した。重合を希HCl(約4 0ml)の添加により停止させ、30分間にわたり撹拌してアルキルアルミニウ ム残留物を溶解させた。固体ポリエチレンを反応物から濾過し、酸性化メタノー ルで洗浄すると共に40℃にて減圧下に1晩乾燥させた。ポリエチレンの収 量は8.94gであった。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. オレフィンの重合に使用するのに適した触媒組成物において、前記触媒は : (A)一般式 (L)pMYnmq [式中、Lはオレフィン重合条件下にMに結合し続けるリガンドを示し、Mは第 IIIA族元素または第IIIB族、第IVB族、第VB族、第VIB族もしく は第VIII族遷移金属(周期律表コットン・アンド・ウイルキンソン、第5版 のCASバージョン)であり、 YはMに直接結合したO、S、NおよびPからの少なくとも1個の原子を含むキ レート化リガンドであり、 XはYと同一であるか、またはハイドライド、ヒドロカルビル、置換ヒドロカル ビル、ハライド、ペルクロレート、置換スルホネート、トリフルオロメタンスル ホネート、メタンスルホネート、フルオロスルホネート、アリールスルホネート 、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)メチル、ビス(トリフルオロメチルス ルホニル)ベンジル、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド、アルコキ シド、アリールオキシド、テトラアルキルボレート、テトラアリールボレート、 テトラフェニルボレート、置換テトラフェニルボレート、テトラキス(ペンタフ ルオロフェニル)ボレート、テトラキス[ビス(3,5−ジトリフルオロメチル )フェニル]ボレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート もしくはペンタフルオロテルレートよりなる群から選択され、 Zは中性ルイス塩基であり、 n>もしくは=1であり、 p>もしくは=1であり、 m>もしくは=0であり、 q>もしくは=0であり、 ただしn、m、pおよびqは金属の原子価を満たす整数もしくは0である] を有する中性の個々の金属錯体と、 (B)1種もしくはそれ以上のルイス酸と からなることを特徴とする触媒組成物。 2. リガンドYが、Mに直接結合した少なくとも1個のO原子を含む請求の範 囲第1項に記載の触媒組成物。 3. リガンドYがβ−ジケトネート、β−ケトエステルもしくはβ−ケトアル デヒドから選択される請求の範囲第1項または第2項に記載の触媒組成物。 4. リガンドYがアセチルアセトネートもしくは置換アセチルアセトネートで ある請求の範囲第3項に記載の触媒組成物。 5.Xリガンドがヒドロカルビル、ハライドもしくはトリフルオロメタンスルホ ネートである請求の範囲第1〜4項のいずれか一項に記載の触媒組成物。 6. ルイス酸がアルキルもしくはアリールアルミニウム化合物またはアルキル もしくはアリール硼素化合物である請求の範囲第1〜5項のいずれか一項に記載 の触媒組成物。 7. ルイス酸がトリイソブチルアルミニウムもしくはトリス(ペンタフルオロ フェニル)硼素である請求の範囲第6項に記載の触媒組成物。 8. 中性の個々の金属錯体が式: (L)pMYnmq [式中、Lは未置換もしくは置換シクロペンタジエニルリガンドを示し、 Mは第IVB族、第VB族、第VIB族もしくは第VIII族遷移金属 (周期律表コットン・アンド・ウイルキンソン、第5版のCASバージョン)で あり、 YはMに直接結合したO、S、NおよびPからの少なくとも1個の原子を含むキ レート化リガンドであり、 XはYと同一であり、またはハイドライド、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビ ル、ハライド、ペルクロレート、置換スルホネート、トリフルオロメタンスルホ ネート、メタンスルホネート、フルオロスルホネート、アリールスルホネート、 ビス(トリフルオロメチルスルホニル)メチル、ビス(トリフルオロメチルスル ホニル)ベンジル、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド、アルコキシ ド、アリールオキシド、テトラアリールボレート、テトラフェニルボレート、置 換テトラフェニルボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、 テトラキス[ビス(3,5−ジトリフルオロメチル)フェニル]ボレート、テト ラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ペンタフルオロテルレート よりなる群から選択され、 Zは中性ルイス塩基であり、 n>もしくは=1であり、 p>もしくは=1であり、 m>もしくは=0であり、 q>もしくは=0であり、 ただしn、m、pおよびqは金属の原子価を満たす整数もしくは0である] を有する請求の範囲第1項に記載の触媒組成物。 9. Mが第IVB族金属であり、pが2であり、nが1もしくは2である請求 の範囲第8項に記載の触媒組成物。 10. Mがジルコニウムである請求の範囲第8項に記載の触媒組成物。 11. リガンドYがβ−ジケトネート、β−ケトエステルもしくはβ−ケトア ルデヒドから選択される請求の範囲第8項に記載の触媒組成物。 12. リガンドYがアセチルアセトネートもしくは置換アセチルアセトネート である請求の範囲第11項に記載の触媒組成物。 13. 中性の個々の金属錯体が式: [式中、Cp*は、必要に応じZ−Pを介しMに共有結合すると共に式:(式中、Rはそれぞれ水素またはハロゲン、アルキル、アリール、ハロアルキル 、アルコキシ、アリールオキシ、シリル基および20個までの非水素原子を有す るその組み合わせ物から選択される部分であり、または2個もしくはそれ以上の R基は一緒になって融合環系を形成し; Mはシクロペンタジエニルもしくは置換シクロペンタジエニル基にη5−結合方 式で結合したジルコニウム、チタンもしくはハフニュウムであって+3もしくは +4の原子価状態にあり、 Zは酸素、硼素または元素周期律表(周期律表コットン・アンド・ウイルキンソ ン、第5版のCASバージョン)の第IVA族の一員からなる二価成分であり、 Pは窒素、燐、酸素もしくは硫黄を含む金属に共有結合した結合基であり、また は必要に応じZおよびPは一緒になって融合環系を形成し、 X、Y、nおよびmは上記の通りであってnおよびmがMの原子価を満たすもの である に対応する単一のη5−シクロペンタジエニルもしくはη5−置換シクロペンタ ジエニル基である] を有する請求の範囲第1項に記載の触媒組成物。 14. Mがチタンであり、Pが窒素であり、Zが珪素である請求の範囲第13 項に記載の触媒組成物。 15. ルイス酸と金属錯体との比が0.2:10,000である請求の範囲第 1〜14項のいずれか一項に記載の触媒組成物。 16. 個々の金属錯体が支持される請求の範囲第1〜15項のいずれか一項に 記載の触媒組成物。 17. 支持体がシリカである請求の範囲第16項に記載の触媒組成物。 18. エチレンおよびα−オレフィンを請求の範囲第1〜17項のいずれか 一項に記載の触媒組成物の存在下に接触させることを特徴とするエチレンの重合 またはエチレンとα−オレフィンとの共重合の方法。 19.式: (L)2MYX [式中、Lは未置換もしくは置換シクロペンタジエニルリガンドを示し、 Zは酸素、硼素または元素周期律表(周期律表コットン・アンド・ウイルキンソ ン、第5版のCASバージョン)の第IVA族の金属からなる二価部分であり、 Pは窒素、燐、酸素もしくは硫黄からなる金属に共有結合した結合基であり、必 要に応じZおよびPは融合環系を形成し、 MはZr、TiもしくはHfであり、 XはSO3CF3もしくはヒドロカルビルであり、 YはRCOCHCORであり (ここでRは同一でも異なってもよく、ヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカル ビルである)] を有する個々の金属錯体。 20.式: Cp2M(ヒドロカルビル)X の錯体を式RCOCH2CORのジオンと適する溶剤中で反応させることを特徴 とする式 Cp2MXY M=Zr、Ti、Hf Y=RCOCHCOR X=SO3CF3および R=ヒドロカルビル の錯体の製造方法。 21.式 Cp2M(ヒドロカルビル)2 の錯体の溶液を式RCOCH2COR のジオンで滴下処理することを特徴とする、式 Cp2M(ヒドロカルビル)Y [式中、M=Zr、Ti、Hf Y=RCOCHCORNおよび R=ヒドロカルビル] の錯体の製造方法。 22.式: (1,3−(CH32532Zr(CH3COCHCOCH3)SO3CF3、 (1,3−(CH32532Zr(CH3COCHCOCF3)SO3CF3、 (1,3−(CH32532Zr(CH3COCHCOOCH2CH3)−SO3 CF3、 (CH32Si((CH345)(NC(CH33)Ti(CF3COCHCO CF3)SO3CF3、 (1,3−(CH32532Zr((CH33CCOCHCOC−(CH33 )SO3CF3、 (C552Zr(CH3COCHCOCH3)CH3 の個々の金属錯体。
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