DE2741452A1 - Lichtempfindliche masse - Google Patents
Lichtempfindliche masseInfo
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Description
DR. E. WIEGAND C1PL-IHG. W. NiZMANN
DR. M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT
MÖNCHEN // HAMBURG 2 7 414 5
""««-"».«„«, 8°M M0NCHEN *
V. 42 977/77 - Ko/Ja ^, Sep, J977
Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)
Lichtempfindliche Masse
Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Massen und befaßt sich insbesondere mit Photopolycierisationsinitiatoren,
die in lichtempfindlichen Hassen verwendet worden können, welche polymerisierbare äthylenisch ungesättigte
Doppelbindungen enthaltende Verbindungen umfassen.
Gemäß der Erfindung wird eine lichtempfindliche Masse angegeben, welche durch Addition polymerisierbare äxhylenische
Doppelbindungen enthaltende Verbindungen und einen Photopolymerisationsinitiator umfaßt, der (1)
mindestens eine Verbindung aus der Gruppe von Benzanthron, substituierten Benzanthronen, wobei die Substituenten
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IIalogenatorce, Alkylgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen
und Alkoxygruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen umfassen, 1,2-Benzanthrachincn und substituierte Benzanthrachinone,
wobei die Substituenten Halogenatome, Alkylgruppen mit 1
bis 5 Kohlenstoffatomen und Alkoxygruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen umfassen,und (2) mindestens eine Verbindung
aus der Gruppe von 4,4'-disubstituierten Aminobenzophenonen
entsprechend der folgenden allgemeinen Formel (a), p-substituierton Aminobenzaldehydderivaten entsprechend
der folgenden allgemeinen Formel (b), 2-p-substituierten
Aminophenyl-1,3-dioxolanen entsprechend der folgenden
Formel (c), h,A'-bis-substituierten Amino-N-benzilidenanilinen
entsprechend der folgenden Formel (d) und 2-hsubstituierten
Amino-zinnamoyl-naphthalinen entsprechend
der folgenden allgemeinen Formel (o):
N// \VCO-// \\N
(a)
n// \\cor°
(b)
O 1
(c)
N-// \Vhc=n// \>n
(d)
HC=CH-CO
(e)
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worin R und R', die gleich oder unterschiedlich sein
können, jeweils eine Methylgruppe oder eine Äthylgruppe, und R ein Wasserstoffatom, eine Hydroxylgruppe, eine
Gruppe -CR1R2R3, worin R1, R2 und R·5, die gleich oder
unterschiedlich sein können, jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen
darstellen;cder eine Gruppe -OR bedeuten, worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt, enthält.
Die Photopolymerisation von eine äthylenisch ungesättigte
Doppelbindung enthaltenden Verbindungen kann durch Bestrahlung dieser Verbindungen mit Ultraviolettlicht
und insbesondere mit Ultraviolettlicht im kürzeren Wellenlängenbereich eingeleitet werden. Jedoch verläuft
eine lediglich durch Bestrahlung mit Licht, wie Ultraviolettlicht, ganz gleich wie stark die angewandte Bestrahlung
ist, eingeleitete Polymerisation weit langsamer im Vergleich zu dem Fall, v/o die Polymerisation in Gegenwart
bestimmter Katalysatorarten, die zur chemischen Bildung freier Radikale fähig sind, stattfindet. Außerdem
ist eine äußerst lange Aussetzungszeit an Ultraviolettlicht für eine ausreichende Polymerisation der verwendeten
Monomeren erforderlich oder es ist eine Lichtquelle einer solchen Art, welche eine äußerst starke Wirkung auf die
zu polymerisierenden Monomeren ausüben kann, für eine ausreichende
und rasche Polymerisation notwendig. Infolgedessen wurden zahlreiche Untersuchungen unternommen, um Materialien
aufzufinden, welche die aufgrund der Bestrahlung mit Licht stattfindende Polymerisation beschleunigen können.
Eine Anzahl von Verbindungen wurden als Photosensibilisatoren oder Photopolymerisationsinitiatoren gefunden, welche zur
Erhöhung der Geschwindigkeit der Photopolymerisation verwendet
werden können, die sich aufgrund der Bestrahlung und elektromagnetischen Wellen ergibt. Diese Verbindungen
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besitzen die Wirkung, daß sie die Fähigkeit zur Absorption
von Licht und zur Bildung von freiem Radikalen besitzen, die zur Einleitung der Polymerisation fehig sind. Jedoch
müssen mit den üblichen bekannten Photopolymerisationsinitiatoren verschiedene Probleme in der Praxis gelöst
werden, obwohl sie die Polymerisation von bestimmten Monomeren einleiten können, beispielsweise äthylenisch ungesättigten
Verbindungen, mit denen sich die- vorliegende Aufgabe befaßt. Da beispielsweise die Photopolymerisationsinitiationseignung
der meisten bekannten Photopolymerisationsinitiatoren durch Wechselwirkung des Sauerstoffes hiermit
unterdrückt wird, muß die Photopolymerisationsreaktion in Abwesenheit von Sauerstoff ausgeführt werden. Jedoch
bringen die verschiedenen Verfahren, die zur Entfernung des Sauerstoffes vorgeschlagen vmrden, die Probleme mit
sich, daß zahlreiche Schwierigkeiten auftreten, wenn sie in die Praxis umgesetzt werden und ein starker Aufwand erforderlich
ist.
Benzanthron, 1,2-Benzanthrachinon und Derivate hiervon
sind bereits als Photopolymerisationsinitiatoren bekannt und beispielsweise in Insha Kogaku, Shinichi Kikuchi und
Eiichi Inoue, Ed., Kyoritsu Shuppan, Tokyo, hinsichtlich Benzanthron und Journal of Applied Polymer Science, Band 2,
Seite 308 (1959), Jaromir Kosar, Light-Sensitive Systems, John Wiley und Sons Inc., New York (1965) und Journal of
the Society of Photographic Science and Technology of Japan, Band 28, Seite 7 (1965) für 1,2-Benzanthrachinon
beschrieben. Jedoch beeinflussen diese Verbindungen die Polymerisation von äthylenisch ungesättigten Verbindungen,
mit denen sich die vorliegende Erfindung befaßt, in geringerem Ausmaß, obwohl ihre Sensibilisierwirkung für eine
Vernetzungsreaktion von Harzen, die lichtempfindliche Gruppen, wie Cinnaraoylgruppen, enthalten, ausgezeichnet ist.
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Eine Aufgabe der Erfindung besteht deshalb in der Lösung der vorstehend geschilderten Probleme aufgrund
der Anwendung von üblichen Photopolymerisationsinitiatoren,
v/ie Benzanthron und dgl. bei der Photopolymerisation von eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung
enthaltenden Verbindungen.
Diese Aufgabe wird mit einer lichtempfindlichen Masse erreicht, die polymerisierbar, eine äthylenisch
ungesättigte Doppelbindung enthaltende Verbindungen und als Photopolymerisationsinitiatoren die Kombination
von (1) mindestens einer Verbindung aus der Gruppe von Benzanthron, substituierten Benzanthrnnen, v/obei die
Substituenten Halogenatome, v/ie F, Cl, Br und I, Alkylgruppen
mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, wie Methyl, Äthyl, Propyl, Isopropyl, η-Butyl, Isobutyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl,
Pentyl und Isoamyl, und Alkoxygruppen mit 1 bis Kohlenstoffatomen, wie Methoxy, Äthoxy, Propoxy, Butoxy,
Pentyloxy, Isopropoxy und Isoamyloxy umfassen, 1,2-Benzanthrachinon und substituierte Benzanthrachinone,
wobei die Substituenten Halogenatome, wie F, Cl, Br und I, Alkylgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, wie Methyl,
Äthyl, Propyl, Isopropyl, η-Butyl, Isobutyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl, Pentyl und Isoamyl, und Alkoxygruppen mit
1 bis 5 Kohlenstoffatomen, wie Methoxy, Äthoxy, Propoxy, Butoxy, Pentyloxy, Isopropoxy und Isoamyloxy umfassen,
und (2) mindestens einer Verbindung aus der Gruppe der Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln (a), (b),
(c), (d) und <e):
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(b)
(c)
(d)
HOCH-G
worin R und Rf, die gleich oder unterschiedlich sein können,
eine Methylgruppe oder eine Äthylgruppe und R ein
1 1 2 ~*i Wasserstoffatom, eine Hydroxygruppe, eine Gruppe -CR R RR,
12 3
worin R , R und R , die gleich oder unterschiedlich sein können, jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, wie eine Methylgruppe, Äthylgruppe, Propylgruppe und Isopropylgruppe darstellen^oder eine Gruppe -OR , worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 K Kohlenstoffatomen, wie Methyl, Äthyl, Propyl, Isopropyl, η-Butyl, Isobutyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl, Pentyl und Isoamyl darstellen, bedeuten, enthält.
worin R , R und R , die gleich oder unterschiedlich sein können, jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, wie eine Methylgruppe, Äthylgruppe, Propylgruppe und Isopropylgruppe darstellen^oder eine Gruppe -OR , worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 K Kohlenstoffatomen, wie Methyl, Äthyl, Propyl, Isopropyl, η-Butyl, Isobutyl, sec.-Butyl, tert.-Butyl, Pentyl und Isoamyl darstellen, bedeuten, enthält.
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Der hier verwendete Ausdruck "eine polymerisierbare äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltende Verbindungen"
bedeutet durch Addition polymerisierbare und Beispiele für polymerisierbare, eine äthylenisch ungesättigte
Doppelbindung enthaltende Verbindungen im Rahmen der Erfindung umfassen eine große Vielzahl von Monomeren
und Oligomeren, beispielsweise mit einem Molekulargewicht von etwa 1000 oder weniger. Allgemeine Beispiele umfassen
Ester von eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enhaltenden organischen Säuren, wie Acrylsäure, Methacrylsäure,
Itakonsäure und dgl. mit aliphatischen mehrwertigen Alkoholen, beispielsweise mit 1 bis 20, vorzugsweise 1 bis
10 Kohlenstoffatomen und mit 1 bis 8, vorzugsweise 1 bis 6 Hydroxygruppen, wie Äthylenglykol, Triäthylenglykol,
Tetraäthylenglykol, Neopentylglykol, 1,10-Dekandiol, Trimethyloläthan,
Trimethylolpropan, Butandiol, Pentaerythrit, Dipentacrythrit, Tripentaerythrit und weiteren Polyerythrolen,
v/ie Tetra- bis Decaerythrol, Sorbit, d-Mannit, Ester von Diolen äthylenisch ungesättigter Fettsäuren, z.
B. Undecylensäure, Oleinsäure und dgl., und chemisch modifizierte Substanzen hiervon. Der geeignete Bereich der
Anzahl dor Kohlenstoffatome in den Estern der eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltenden organischen Säuren
zur Anwendung im Rahmen der Erfindung beträgt 3 bis 20, vorzugsweise 3 bis 6 Kohlenstoffatome. Spezifische Beispiele
derartiger Verbindungen umfassen Trimethylolpropantriacrylat, Trimethyloläthantriacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethyloläthantrimethacrylat, Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Äthylenglykoldiacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat,
Triäthylenglykoldimethacrylat, Tetraäthylenglykoldimethacrylat, Tetraäthylenglykoldiacrylat,
Pentaerythritdiacrylat, Fentaerythrittriacrylat, Pentaerythritetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacrylat,
Dipentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritpentaacrylat,
Dipentaerythrithexaacrylat,
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Tripontaerythritoctaacrylat, Pentaerythritdinüthacrylat,
Pentaerythrittrimethacrylat, Dipentaerythritdimethacrlat,
Dipentaerythrittrirnethacrylat, Dipentaerythrittetramethacrylat,
Tripentaerythritoctamethacrlyat, Pentaerythritdiitaconat,
Dipentaerythrittriitaconat, Dipentaerythritpentaitaconat, Dipentaerythrithexaitaconat, Athylenglykoldimethacrylat,
1,3-Butandioldiacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat,
1,4-Butandioldiitaccnat, Sorbittriacrylat,
Sorbittetraacrylat, Sorbittetramethacrylat, Sorbitpentaacrylat,
Sorbithexaacrylat und Gemische hiervon sowie die Oligomeren hiervon.
Die in den lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung vorliegenden Photopolymerisationsinitiatoren umfassen
die Kombination der Komponente (1) und der Komponente (2).
Die Komponente (1) umfaßt mindestens eine Verbindung aus der Gruppe von Benzanthron, substituierten Benzanthronen,
1,2-Benzanthrachinon und substituierten 1,2-Benzanthrachinonen.
Spezifische Beispiele für verwendbare substituierte Benzanthrachinone umfassen 1-Methoxybenzanthron,
2-Methoxybenzanthron, 3-Methoxybenzanthron, 5-Methoxybenzanthron,
6-Äthoxybenzanthron, 8-Äthoxybenzanthron, 3-Methylbenzanthron,
3-Chlorbenzanthron, 11-Chlorbenzanthron,
3-ChloΓ-2-methoxybenzanthron, 9-Brom-2-methoxybenzanthron
\and dgl. Spezifische Beispiele von verwendbaren substituierten
1,2-Benzanthrachinonen umfassen 6-Chlor-1,2-Benzanthrachinon,
6-Methyl-1,2-benzanthrachinon, 6-Methoxy-1,2-benzanthrachinon
und dgl.
Andererseits umfasst die Komponente (2) mindestens eine Verbindung aus der Gruppe von Verbindungen der allgemeinen
Formel (a) bis (e), wie sie oben angegeben wurden.
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Spezifische Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel (a) umfassen (i) N,N,N1 >N'-Tetramethyl-4,4'-diaminobenzophenon
(Michler's-Keton), (ii) N,N,N1,Nf-Tetraäthyl-4,4'-diaminobenzophenon,
(iii) N,N»-Dimethyl-N,N·-
diäthyl-4,4'-diarninobenzophenon und dgl. Spezifische
Beispiele von Verbindungen entsprechend der allgemeinen Formel (b) umfassen (iv) N-Methyl-N-äthyl-p-aminobenzaldehyd,
(v) Ν,Ν-Dimethyl-p-amlnobenzaldehyd, (vi) N,N-Diäthyl-p-aminobenzaldehyd,
(vii) N,N-Dimethyl-paminobenzoesäure, (viii) Methyl-NjN-dimethyl-p-aminobenzoat
und dgl. Spezifische Beispiele für Verbindungen entsprechend der allgemeinen Formel (c) umfassen (ix)
2-p-(Dimethylamino)phenyl-1,3-dioxolan, (x) 2-p-(Diäthylamino)phenyl-1,3-dioxolan,
(xi) 2-p-(Methylethylamino)-phenyl-1,3-dioxolan
und dgl. Spezifische Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel (d) umfassen (xii)
4,4l-Bis(diraethylamino)-N-benzilidenanilin, (xiii) 4,4'-Bis-(diäthyl)-N-benzilidenanilin,
(xiv) 4,4'-Bis(methyläthylamino)-N-benzilidenanilin
und dgl. Spezifische Beispiele für Verbindungen entsprechend der allgemeinen Formel (e)
umfassen (xv) 2-[4-(Dimethylamino)cinnamoyl]naphthalin, (xvi) 2-[4-(Diäthylamino)cinnamoyl]naphthalin, (xvii)
2-[4-(methyläthylamino)cinnamoyl]naphthalin und dgl.
Die vorstehend aufgeführten spezifischen Beispiele erläutern lediglich substituierte Verbindungen, die im
Rahmen der vorliegenden Erfindung verwendet werden können.
Geeignete Verfahren zur Herstellung der Verbindungen der allgemeinen Formel (a) sind beispielsweise in U.E.
Fierz-David und L.Blangey (übersetzt durah P.W.Vittum),
Fundamental Process of Dye Chemistry, Seite 139, -Interscience Publishers Inc., 1949, beschrieben.
Hinsichtlich der Verbindungen der allgemeinen Formel (b) 809811/1035
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ist in der US-PS 3 552 973 angegeben, daß sie als Photopolymerisationsinitiatoren in Kombination mit
Hexaarylbiimidazol (p-Aminophenylketon) verwendet
v/erden können und im US-Reissue-Patent 28 789 ist angegeben, daß sie als Photopolymerisationsinitiator in
Kombination mit einer cis-a-Dicarbonylverbindung verwendet
werden können.
Geeignete Verfahren zur Herstellung der Verbindungen entsprechend der allgemeinen Formel (c) sind beispielsweise
in J.Am.Chom.Soc, Band 70, Seiten 2827 bis 2828 (1948) beschrieben.
Geeignete Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der allgemeinen Formel (d) sind beispielsweise in Helmut
Krauch und Werner Kumz, Organic Name Reactions, Seite 96 (1964), John V/iley and Sons Inc., New York, beschrieben.
Geeignete Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der allgemeinen Formel (e) sind beispielsweise in P.Pfeiffer
und 0. Angen, Justus Liebigs Annalen der Chemie, Band 44, Seiten 228 bis 265 (1925), B.N.Dashkevich "und I.V.Smedanka,
Ukrain.Khim.Zhur., Band 21, Seiten 669 bis 624 (1955) und
I.V.Smedanka, Nauch.Zapiski. Uzhgrod. Univ., Band 18, Seiten 15 bis 19 (1957) beschrieben.
Mindestens eine Verbindung aus jeder Gruppe der für die Komponenten (1) und (2) aufgeführten Verbindungen v/ird
als in den lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung vorliegender Photopolymerisationsinitiator verwendet. Das
geeignete anwendbare Gewichtsverhältnis der Komponente (1) zur Komponente (2), um den erfindungsgemäß gewünschten
Effekt zu erzielen, liegt im Bereich von etwa 10:1 bis etwa 1:100, vorzugsweise etwa 5:1 bis etv/a 1:20, am
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stärksten bevorzugt etwa 2:1 bis etwa 1:5. Der geeignete Betrag von Photopolymerisationsinitiator zur photopolymerisierbaren
Verbindung (eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltende Verbindung) kann im Bereich von
etwa 0,1% bis etv/a 20%, vorzugsweise etwa 1 bis 15 Gew.% liegen. Die geeignete l-lenge von Photopolymerisationsinitiator
zu photopolymerisierbarer Masse (unter Ausschluß von Lösungsmitteln) kann im Bereich von etwa 0,05% bis
etv/a 10%, vorzugsweise etwa 0,5% bis etv/a 7 Gew.% liegon.
Sämtliche vorstehend, für die Komponente (2) aufgeführten Verbindungen können zur Erzielung dos im Rahmen
der Erfindung gewünschten Effektes angewandt werden. Von den Verbindungen haben die Verbindungen entsprechend der
Formeln (a) und (b), insbesondere den Vorteil der fehlenden Selektivität hinsichtlich der polymerisierbaren Verbindungen,
mit denen sie angewandt v/erdcn. Dies wird aus den nachfolgend
aufgeführten Beispielen deutlich. Wenn nämlich Trimethylclpropantriacrylat
und Trimethylolpropantrimethacrylat als polymerisierbar Verbindungen in den nachfolgenden Beispielen
angewandt werden, kennen sämtliche Verbindungen der allgemeinen Formeln (a) oder (b) angewandt werden, um
den im Rahmen der Erfindung gewünschten Effekt in zufriedenstellendem Ausmaß mit sämtlichen der eine äthylenisch
ungesättigte Doppelbindung enthaltenden polymsrisierbaren Verbindungen zu erzielen, wenn sie als Komponente (2) dos
erfindungsgemäß angewandten Photopolymerisationsinitiators
verwendet werden.
Obwohl die lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung grundsätzlich zwei Elemente enthalten, d.h., eine
polymerisierbar Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator,
der die vorstehend aufgeführten Komponenten (1) und (2) enthält, können verschiedene Arten von Zusätzen in
Abhängigkeit von dem Endgebrauchszweck der lichtempfindlichen
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Masse, den anzuwendenden Verfahren und anderen Bedingungen zugegeben v/erden. Beispiele derartiger Zusätze
umfassen Binder, thermische Polymericationshemmstoffe, Plastifizierer, Lösungsmittel, Färbungsmittsl,
Oberflächenmodifiziermittel und dgl. Die geeignete Menge derartiger Zusätze, ausgenommen Lösungsmittel, liegen
im Bereich von etwa 0,1 bis etwa 40%, vorzugsweise 0,5%
bis 20 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der photopolymerisierbaren
Masse gemäß der Erfindung. Der Zusatz dieser Zusätze zu lichtempfindlichen Massen ist ganz
allgemein eine gut bekannte Maßnahme bei der Handhabung von Massen dieser Art.
Spezifische Beispiele für geeignete Binder umfassen Gelatine, Polyvinylalkohol, Polyvinylbutyral, Polyacrylsäure,
Polymethecrylsäure , Polyäthylenoxid, Äthylcellulose,
Polyester, Polyvinylchlorid, Polystyrol, Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester, Polyvinylacetal,
Polyamide, Polyacrylnitril, Polyäthylen, halogenierte Polyolefine, chlorierten Kautschuk, Äthylcellulosc,
Celluloseacetat, Cellulosenitrat und andere Homopolymere, sov/ie Copolymere aus verschiedenen Arten von
Vinylverbindungen, wie Vinylchlorid-Vinylacetatcopolymere, Styrol-Butadiencopolymere und dgl. Der geeignete
Binder kann unter den vorstehend aufgeführten Beispielen in Abhängigkeit von der Verträglichkeit mit den weiteren
in die Masse einverleibten Komponenten," insbesondere der polymerisierbaren Verbindung und den anzuwendenden Verfahren,
beispielsweise Entwicklungsverfahren, im Fall eines Bildausbildungsmaterials gewählt werden. Die Menge
des gewählten Binders läßt sich experimentell bestimmen, wenn die vorstehenden Bedingungen in Betracht gezogen
werden.
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Spezifische Beispiele für geeignete thermische Polymerisationshemmstoffe umfassen Hydrochinon, Hydrochinonmonoäthyläther,
Katechin, ß-Naphthol, Mono-tert,-buty!hydrochinon,
Pyrogallol und dgl. Die geeignete Menge des angewandten Thermopolymerisationshemmstoffes
liegt im Bereich von etwa 0,01 bis etwa 50, vorzugsweise 0,1 bis 3 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der photopolymerisierbaren
Masse gemäß der Erfindung (ausschließlich Lösungsmittel).
Spezifische Beispiele für geeignete Plastifizierer umfassen Dioctylphthalat, Dibutylphthalat, Butylphthalatbutylglycolat,
Tricresylphosphat, Plastifizierer der Polyesterreihe und chlorierte Paraffine. Die geeignete Menge
des Plastifizierers kann im Bereich von etwa 0,1% bis etwa
20%, vorzugsweise 1% bis 10 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der photopolymerisierbaren Masse gemäß der Erfindung
(ausschließlich Lösungsmittel) liegen.
Spezifische Beispiele für Füllstoffe umfassen Glasfaser, gepulverte Kieselsäure, Baryt und Calciumcarbonat.
Geeignete Beispiele für Lösungsmittel umfassen Aceton, Methyläthylketon, Methylcellosolve, Methylcellosolveacetat,
1,2-Dichloräthan, Butylalkohol und dgl. Die geeignete
Menge des angewandten Lösungsmittels in der photopolymerisierbaren Masse gemäß der Erfindung liegt zwischen etwa
50 und etwa 1000%, vorzugsweise 70 bis 500 Gew.%.
Gewünschtenfalls können Farbstoffe und/oder Pigmente zu den erfindungsgemäßen Massen zum Zweck der Färbung
in gewünschtem Ton zugefügt werden. Es muß jedoch die Tatsache berücksichtigt werden, daß bestimmte Farben oder
Pigmente einen Desensibilisierungseffekt auf die Masse ausüben. Die geeignet anwendbare Menge der Farbstoffe
liegt im Bereich von etwa 0,01% bis etwa 10%, vorzugsweise
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0,1 bis 3 Gew.%, bezogen auf das Gev/icht der photopolymerisierbaren
Masse gemäß der Erfindung (ausschließlich Lösungsmittel). Die geeignete Menge der anzuwendenden
Lösungsmittel liegt im Bereich von etwa 0,05% bis etwa 20%, vorzugsweise 0,1% bis 3 Gew.%, bezogen auf
das Gewicht der photopoly.nerisierbaren Masse gemäß der
Erfindung.(ausschließlich Lösungsmittel).
Zusätzlich können feinzerteiltesTitanoxid oder Kieselsäurepulver zugesetzt werden, um die Oberfläche
der erfindungsgemäßen Massen zu mattieren. Weiterhin können höhere Fettsäuren mit mehr a.is 17 Kohlenstoffatomen,
wie Behensäure, zu der lichtempfindlichen Masse nach der Aussetzung an Licht zugegeben werden, um den
Einfluß von Sauerstoff hierauf auf ein geringeres Ausmaß zu verringern. Da derartige Maßnahmen bereits bekannt
sind, braucht an dieser Stelle keine ausführliche Beschreibung hiervon gegeben werden.
Im allgemeinen werden die in der photopolymerisierbaren Masse einzusetzenden Komponenten einfach mit einem
oder mehreren Lösungsmitteln in einem Homogenisator oder Mischer unter Rühren vermischt, wodurch eine Lösung der
Masse hergestellt wird. Zur Herstellung der photopolymerisierberen
Massen gemäß der Erfindung verwendbare Lösungsmittel umfassen Ketone, wie Aceton, Methyläthylketon,
Methylisobutylketon, Cyclohexanon, Diisobutylketon und
dgl., Ester wie Äthylacetat, Butylacetat, Allylacetat, Methylformiat, Äthylpropionat, Dimethylphthalat, Äthylbenzoat
und dgl., aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol, Xylol, Benzol, Äthylbenzol und dgl., halogenierte
Kohlenwasserstoffe, wie Tetrachlorkohlenstoff, -Trichlorethylen, Chloroform, 1,1,1-Trichloräthan, 1,2-Dichlor-Sthan,
Monochlorbenzol, Chlornaphthalin und dgl., Äther, wie Tetrahydrofuran, Diäthyläther, Äthylenglykolmonoäthyl-
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ätheracetat, Äthylenglykolmonomethyläther und dgl., Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid und dgl. sowie Gemische
hiervon.
Die in dieser Weise erhaltene photopolymerisierbare Masse erleidet leicht eine Photopolymerisation bei
der Bestrahlung mit aktinischer Strahlung mit Wellenlängen im Bereich von etwa 1800 9. bis etwa 5000 S. in
Gegenwart oder Anwesenheit von Luft.
Beispiele für Lichtquellen zur Erzeugung der vorstehend angegebenen aktinischen Strahlung umfassen Kohlenbogenlampen,
Quecksilberdampflampen, Ultraviolettfluoreczenzlampen,
Wolframlampen, Glühlampen, Xenonlampen, Argonglühlampen,
Lampen für photographische Beleuchtung und Sonnenlicht. Der erforderliche Belichtungszeitraum zur
Erzielung der Polymerisation hängt von der' Stärke der Lichtquelle und dem Abstand zwischen der Lichtquelle
und der Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse ab. Im allgemeinen liegt der geeignete Zeitraum zwischen etwa
1 see und etwa 5 min, vorzugsweise etwa 3 see bis etwa 60 see.
Die entsprechend den Ausführungsformen der Erfindung
hergestellten photopolymerisierbaren Massen zeigen photochemisch eine Polymerisation nach der Bestrahlung mit der
vorstehend aufgeführten aktinischen Strahlung und es ergibt sich die Ausbildung eines photogehärteten Materials.
Die photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung besitzen den Vorteil, daß die Empfindlichkeit für die
Photopolymerisation von äthylenisch ungesättigten Verbindungen markant hoch ist, die charakteristischen Eigenschaften
der hohen Empfindlichkeit während eines relativ langen Zeitraumes beibehalten werden können, da eine Ände-
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rung in der Masse im Verlauf der Zeit gering ist, und die Massen durch Sauerstoff höchstens geringfügig beeinflußt
werden. Deshalb können sie wirksam auf einer großen Vielzahl von Fachgebieten unter Anwendung bekannter
Methoden angewandt werden, beispielsweise zur Herstellung von p"hotographischen Bildern, der Herstellung
von Druckplatten, der Herstellung von V.'iderständen für
Masken, photohärtbaren Druckfarben, photohärtenden Überzugsmaterialien und Namensplatten, Unterüberzüge für
verschiedene Arten von Materialien, wie Glas, synthetische Harze, Papier, Metall, Steinmaterialien, Holz,
natürliche polymere Materialien, beispielsweise Cellulose und dgl., der Herstellung von gedruckten Materialien,
der Herstellung von gedruckten Schaltungen, der Herstellung von Schichtgebilden, der Herstellung von imprägnierten
Materialien, der Herstellung von synthetischen Harzformkörpern und dgl. Ein Kompositionsträger aus den vorstehend
aufgeführten Trägermaterialien, welcher durch Ausbildung einer dünnen Schicht auf beispielsweise einem
mit synthetischem Harz überzogenen Papier, einem synthetischen Harzbogen und dgl. hergestellt wurde, kann
gleichfalls verwendet werden.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand des folgenden Beispiels.erläutert. Falls nichts anderes angegeben ist,
sind sämtliche Teile, Prozentsätze, Verhältnisse und dgl. auf das Gewicht bezogen.
Eine Legierung mit der Zusammensetzung Al^Fe1 wurde
in ein Schiffchen als Verdampfungsmaterial innerhalb einer Vakuumverdampfungsapparatur gebracht und ein
100μ dicker Polyäthylenterephthalatfilm wurde etwa 30 cm
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entfernt von dem Schiffchen in Form eines Bogens in der vorstehenden Apparatur untergebracht. Der Druck
in der Apparatur wurde bei 5x10 Torr gehalten.
Die Stärke der aufgedampften Dünnschicht wurde unter Anwendung eines mit der Apparatur verbundenen Monitors
bestimmt und die Verdampfung wurde fortgesetzt, bis die Schicht eine Stärke von 600 R hatte. Dadurch wurde eine
Dünnsohicht auf der Al-Fe-Legierung auf dem Polyäthylenterephthalatfilm
gebildet. Auf die erhaltene Legierungsschicht wurde jede der nachfolgend aufgeführten lichtempfindlichen
Massen, wovon jede Probe unterschiedlich war, mittels einer Drehüberzugsmaschine zu einer Abdeckung
von 3μ Trockenstärke aufgezogen und bei 1O0C während 2 min getrocknet.
Äthylenisch ungesättigte Doppelbindung
enthaltende Verbindung * 0,85 g
Photopolymerisationsinitiator* 0,07 g
Binder (Benzylmethacrylat-Methacrylsäure-
copolymeres, Copolymerisationsmolarver-
hältnis 73:27, M jO = 0,12) 1,0 g
Binder (chloriertes Polyäthylen) 0,2 g
Behensäure 0,02 g
Lösungsmittel (1,2-Dichloräthan) 3 g
Fußnote:
* Die eingesetzten spezifischen Verbindungen sind in
der folgenden Tabelle aufgeführt.
Die in dieser Weise hergestellten Bildausbildungsmaterialien wurden in einen Abstand von 50 cm von der
Lichtquelle gebracht und durch einen Keil an Licht während 20 see ausgesetzt. Dafür wurde eine Superhochdruckquecksilberlampe
"Jet Light 200" (Produkt der Ohku Seisakusho) mit einer Stärke von 2 kw als Lichtquelle eingesetzt. Die
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belichteten Materialien wurden mit einem Entwickler der nachfolgend aufgeführten Zusammensetzung bei einer
Temperatur von 310C während 30 see entv/ickelt, wobei
sich die Entfernung der unbelichteten Bereiche der Schicht der lichtempfindlichen Masse durch Auflösung
und die Ätzung der freigelegten Legierung praktisch gleichzeitig ergaben. Der angewandte Keil war "Step
Guide for PS" (Stufe ΔΌ = 0,15) (Produkt der Fuji
Photo Film Co., Ltd.).
Natriumhydroxid 4 g
Natriumchlorit 10 g
Trinatriumhydrogenphosphat 10 g
Natriuraaluminat 3 g
Oberflächenaktives Mittel (Monogen Y-100) (JMatriumsalz eines Schwefelsäureesters
eines höheren Alkohols, Produkt der Dai-ichi Kogyo Seiyeku Co., Ltd.) 10g
Wasser zu 11
Die "Empfindlichkeit" jeder Probe wird als minimale Stufenzahl am festen Teil des erhaltenen Stufenbildes
wiedergegeben. Die Ergebnisse für jede Probe sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
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| Photopolvmerisationsinitiator | Komponente (2) |
Mischverhält nis auf das Gewicht be zogen |
Empfindlichkeit | Trimethylolpropan- trimethacrylat |
\ | |
| Komponente TD |
(S) I |
|||||
| - | - | Verbindung mit äthylenisch ungesättigter | O | |||
| Versuch Nr. |
Benzanthron | Verbindung ÖL) | - | Doppelbindung | 0,5 | |
| Vergleich | - | Triäthanol- amin |
1 : 2 | Trimethylolpropan- triacrylat |
O | |
| 1 | Benzanthron | Thio-MihchLer Keton |
's- 1 : 2 | O | ||
| 2 | Benzanthron | 2,4,7-Tri- nitrofluoren Methyl-rot |
1 : 2 1 :2 1 : 2 |
O | O O O |
|
| 3 β» |
Benzanthron Benzanthron Benzanthron |
Verbindung l· | \r) 1 : 2 | 3,5 | O | |
| <D 4 OO |
Anthron | O | ||||
| ^ 5 O cj 6 cn 7 |
O | |||||
| 8 | O O O |
|||||
| O | ||||||
| Photopolvmerisationsinitiator | Komponente (2) |
(i) | Mischverhält nis auf das Gewicht be zogen |
2 | Verbindung mit äthylenisch ungesättigter | Trimethylolpropan- trimethacrylat |
\ | I | |
| Komponente XD |
(v) | 2 | Doppelbindung | ||||||
| Versuch Nr. |
Verbindung | (D | 1 : | 2 2 |
Trimethylolpropan- triacrylat |
8,5 | |||
| erfindungs gemäß |
Benzanthron | Verbindung | (v) (i) |
1 : | CJ CvI | 9,5 | |||
| 9 | Benzanthron | Verbindung (viii) Verbindung |
(v) | 1 : 1 : |
2 | 5 | 6,5 9 |
||
| 10 | Benzanthron 4-Chlorbenz- anthron |
Verbindung Verbindung |
(i) | 1 : 1 : |
2 | 6,5 | 8 7 |
||
| ω 11 ο cc α 12 |
4-Chlorbenz- anthron 1,2-Benzan- thrachinon |
Verbindung | (ix | 1 : | 2 | 4 6,5 |
8,5 | ||
| 1: 13 ο LO σι 14 |
1,2-Benzan- thrachinon |
Verbindung | 1 : | 2 | 6,5 4,5 |
8 | |||
| 15 | 6-Chlor-1,2- benzanthra- chinon |
Verbindung | ) 1 : | 7,5 | 9,5 -3 | ||||
| 16 | 'Benzanthron | Verbindung | (xii) 1 : | 5 | 6'5 £ cn IS) |
||||
| 17 | Benzanthron | 1,5 | |||||||
| 18 | 1 | ||||||||
Versuch Nr.
erfindungsgemäß
Komponente
TO
Komponente (2)
Mischverhältnis auf das Gewicht be-
Verbindung mit äthylenisch un^esättigter Doppelbindung
Trimethylolpropantriacrylat
Trimethylolprcpantrimethacrylat
| 19 | Benzanthron | Verbindung | (xv) | 1 | : 2 | |
| α» C cc |
20 | 4-Chlorbenz- anthron |
Verbindung | 1 | : 2 | |
| OC | 21 | A-Chlorbenz- anthron |
Verbindung | (xii) | 1 | : 2 |
| ο U) tn |
22 | 1,2-Benzan- thrachinon |
Verbindung | (ix) | 1 | : 2 |
1
3
3
2,5
6,5
^,5
5,5 8,5
-F-
274H52
Es ergibt sich aus den Werten der vorstehenden Tabelle, daß die spezifische Kombination von Photopolymerisationsinitiatoren
gemäß der Erfindung einen bemerkenswerten Effekt auf die Photopolymerisation
von eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltenden Verbindungen zeigt, obwohl die Einzelanwendung
eines derartigen Initiators nicht die Empfindlichkeit
hinsichtlich der Photopolymerisation dieser Art besitzt. Deshalb ergibt sich eindeutig, daß die lichtempfindlichen
Massen gemäß der Erfindung wertvoll als Bildausbildungsmaterialien bei Bildherstellungsverfahren sind.
Ferner können Kombinationen, die eine Stufenksilzahl
von 1 bis 3 besitzen, ebenfalls in der Praxis durch Verlängerung der Belichtungszeit und/oder durch Intensivierung
der Intensität der eingesetzten Lichtquelle verwendet werden.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß die Erfindung
hierauf begrenzt ist.
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Claims (1)
- Patentansprüche1. Lichtempfindliche Masse, enthaltend mindestens eine durch Addition polymerisierbar, eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltende Verbindung und einen Photopolymorisationsinitiator, v/obei der Photopolymerisationsinitiator(1) mindestens eine der Verbindungen Benzanthron, mit einem oder mehreren Halogenatomen, Alkylgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder Alkoxygruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen substituierte Benzanthrone, 1,2-Benzanthrachinone und mit einem oder mehreren Halogenatomen, Alkylgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen und Alkoxygruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen substituierten Benzanthrachinonen und(2) mindestens eine Verbindung aus Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln (a), (b), (c), (d) und (e):HC=N(a)hc=ch-co(b)(c)ν/7 nVcor°(d)80981 1 /1035(e)GRJGiNAL IMSPECTED274H52worin R und R', die gleich oder unterschiedlich sein können, jeweils eine Methylgruppe oder eine Äthylgruppe und R ein Wasserstoffatom, eine Hydroxygruppe, eine Gruppe -CR1R2R , worin R1, R2 und R , die gleich oder unterschiedlich sein können, jeweils ein Wasserstoffaton oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen darstellen, oderA Ixeine Gruppe -OR bedeuten, worin R ' eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt, umfaßt.2. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Addition polymerisierbar, eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltende Verbindung aus einem Ester einer eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltenden organischen Säure mit einem aliphatischen mehrwertigen Alkohol oder einem Oligoineren aus diesem Ester besteht.3. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Addition polymerisierbare, eine äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthaltende Verbindung aus Trimethylolpropantriacryiat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethyloläthantriacrylat, Trimethyloläthantrimethacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Pentaerythritdimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacrylat, Dipentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritpentaacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat, Dipentaerychritdimethacrylat, Dipentaerythrittrimethacrylat, Dipentaerythrittetraacrylat, Äthylenglykoldiacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat oder Gemischen hiervon besteht.h. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (1) des Photopolymerisationsinitiators aus Benzanthron, 1-Methoxybenz-809ö11/1035anthron, 2-Methoxybenzanthron, 3-rviethoxybenzanthron, 5-Methoxybenzanthron, 6-Äthoxybenzanthron, 8-A'thoxybenzanthron, 3-Iiethylb3nzanthron, 3-Chlorbenzanthron, 11-Chlorbenzanthron, 3-Chlor-2-metho:xybenzanthron, 9-Brom-2-methoxybenzanthron, 1,2-Benzanthrachinon, 6-Chlor-1,2-benzanthrachinon, 6-Methyl-1,2-benzanthrachinon oder 6-Methoxy-1,2~benzanthrachinon besteht und die Komponente (2) des Photopolymerisationsinitiators aus N,N,N',N'-Tetramethyl-4,4'-diaminobenzophsnon, N,N,N1,N'-Tetraäthyl-4,4'-diaminobenzophenon, Ν,Ν'-Dimethyl-N,N'-diathyl-4,4'-diaminobenzcphenon, N-Methyl-N-äthyl-p-aminobenzaldehyd, N,N-Dimethyl-p-aminobenzaldehyd, N, N-Diäthyl-p-aminobenzaldehyd, N,N-Dirnethylp-aminobenzoesäure, Methyl-N,N-dimethyl-p-aminobenzoat, 2-p-(Dimethylaminophenyl)-1,3-dioxolan, 2-p-(Diäthylamino)phenyl-1,3-dioxolan, 2-p-(Methyläthylamino)phenyl-1,3-dioxolan, 4,4'-Bis(dimethylamino)-N-benzilidenanilin, 4,4'-Bis(diäthyl)-N-benzilidenanilin, 4,4'-Bis(methyläthylamino)-N-benzilidenanilin, 2-[4-(Dimethylamine)cinnamoyl]-naphthalin, 2-[4-(Diäthylamino)-cinnamoyljnaphthalin oder 2-[4-(Methyläthylamino)cinnamoylj-naphthalin besteht.5. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis der Komponente (1) zur Komponente (2) des Photopolymerisationsinitiators im Bereich von etwa 10:1 bis etwa 1:100 liegt und die Menge dec Photopclymerisationsinitiators im Bereich von etwa 0,1 bis etwa 20 Gev/.% zu dem Gewicht der durch Addition polynerisierbaren eine äthylenisch \ingesättigte Doppelbindung enthalenden Verbindung liegt.809811/1035
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51110151A JPS5994B2 (ja) | 1976-09-14 | 1976-09-14 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2741452A1 true DE2741452A1 (de) | 1978-03-16 |
Family
ID=14528334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19772741452 Ceased DE2741452A1 (de) | 1976-09-14 | 1977-09-14 | Lichtempfindliche masse |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US4175971A (de) |
| JP (1) | JPS5994B2 (de) |
| DE (1) | DE2741452A1 (de) |
| GB (1) | GB1585639A (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0729069A1 (de) * | 1995-02-24 | 1996-08-28 | International Paper Company | Benzanthron als Polymerisierungsregler in fotopolymerisierbarer Zusammensetzung |
| WO1998018764A1 (de) * | 1996-10-28 | 1998-05-07 | Merck Patent Gmbh | Dihydrobenzoanthracenone, -pyrimidinone oder dihydronaphthochinolinone |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6026122B2 (ja) * | 1977-01-20 | 1985-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPS5550001A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photo-polymerizable composition |
| US4288527A (en) * | 1980-08-13 | 1981-09-08 | W. R. Grace & Co. | Dual UV/thermally curable acrylate compositions with pinacol |
| US4352723A (en) * | 1980-08-13 | 1982-10-05 | W. R. Grace & Co. | Method of curing a dual UV/thermally curable acrylate composition |
| EP0077849B1 (de) * | 1981-10-28 | 1985-02-20 | Kanebo, Ltd. | Harzbildender Stoff und Instandsetzungsmittel für ärztlichen und zahnärztlichen Gebrauch |
| JPS58170567A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-07 | Nippon Paint Co Ltd | 複合塗膜形成方法 |
| JPS5978339A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS60159742A (ja) * | 1984-01-30 | 1985-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS60191237A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-28 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 露光硬化後非粘着性感光性樹脂組成物 |
| US5080999A (en) * | 1985-06-10 | 1992-01-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive diazo resin composition containing a higher fatty acid or higher fatty acid amide |
| US4940645A (en) * | 1985-07-16 | 1990-07-10 | The Mead Corporation | Imaging material employing photosensitive microcapsules containing tertiary amines as coinitiators |
| US4952482A (en) * | 1987-08-03 | 1990-08-28 | Hoechst Calanese Corporation | Method of imaging oxygen resistant radiation polymerizable composition and element containing a photopolymer composition |
| US5026626A (en) * | 1987-08-03 | 1991-06-25 | Barton Oliver A | Oxygen resistant radiation-polymerizable composition and element containing a photopolymer composition |
| JPH0820733B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | ドライフイルムレジスト用光重合性組成物 |
| JP3220498B2 (ja) * | 1992-03-06 | 2001-10-22 | 岡本化学工業株式会社 | 光重合性組成物 |
| DE4416660A1 (de) * | 1993-05-14 | 1994-11-17 | Du Pont | Verfahren zum Abscheiden eines Metalls auf einem Substrat aus einem Galvanisierbad |
| US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
| US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
| US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
| US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
| US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
| US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
| US6211383B1 (en) | 1993-08-05 | 2001-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Nohr-McDonald elimination reaction |
| CA2120838A1 (en) | 1993-08-05 | 1995-02-06 | Ronald Sinclair Nohr | Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation |
| US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
| US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
| US6242057B1 (en) | 1994-06-30 | 2001-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition and applications therefor |
| US5685754A (en) | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
| US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
| US5739175A (en) | 1995-06-05 | 1998-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer |
| US6008268A (en) | 1994-10-21 | 1999-12-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor |
| US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
| US5798015A (en) | 1995-06-05 | 1998-08-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition |
| US5811199A (en) | 1995-06-05 | 1998-09-22 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Adhesive compositions containing a photoreactor composition |
| BR9608367A (pt) | 1995-06-05 | 1998-08-18 | Kimberly Clark Co | Pré-corantes novos |
| US5747550A (en) | 1995-06-05 | 1998-05-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material |
| US5849411A (en) | 1995-06-05 | 1998-12-15 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition |
| CA2221565A1 (en) | 1995-06-28 | 1997-01-16 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel colorants and colorant modifiers |
| DE19535161A1 (de) * | 1995-09-22 | 1997-03-27 | Basf Ag | Strahlungshärtbare Zusammensetzungen, enthaltend oberflächenaktive, verkappte Aminoverbindungen |
| US6099628A (en) | 1996-03-29 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| JPH10513502A (ja) | 1995-11-28 | 1998-12-22 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良された着色剤安定剤 |
| US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| SK1552000A3 (en) | 1998-06-03 | 2000-08-14 | Kimberly Clark Co | Novel photoinitiators and applications therefor |
| PL342006A1 (en) | 1998-06-03 | 2001-05-07 | Kimberly Clark Co | Neonanoplasts and method of obtaining microemulsions for printing inks being applied by spraying |
| EP1100852A1 (de) | 1998-07-20 | 2001-05-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Verbesserte tintenstrahldrucktinten-zusammensetzungen |
| DE69930948T2 (de) | 1998-09-28 | 2006-09-07 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc., Neenah | Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren |
| US6368396B1 (en) | 1999-01-19 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
| US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
| US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
| US6916508B2 (en) * | 2001-05-25 | 2005-07-12 | Nippon Paint Co., Ltd. | Method of coating a plastic molding, ultraviolet-curable under coating for metal evaporation, and plastic moldings |
| TWI335332B (en) * | 2001-10-12 | 2011-01-01 | Theravance Inc | Cross-linked vancomycin-cephalosporin antibiotics |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3427161A (en) * | 1965-02-26 | 1969-02-11 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
| US3878075A (en) * | 1973-03-30 | 1975-04-15 | Scm Corp | Photopolymerization of pigmented binders using combinations of organic carbonyls and halogenated naphthalenes |
| DE2517034A1 (de) * | 1974-04-18 | 1975-11-20 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Lichtempfindliche zusammensetzung |
| DE2302820B2 (de) * | 1972-01-25 | 1976-04-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. (V.St.A.) | Fotopolymerisierbares gemisch |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3552973A (en) * | 1967-07-20 | 1971-01-05 | Du Pont | Light sensitive hexaarylbiimidazole/p- aminophenyl ketone compositions |
| BE759041A (fr) * | 1969-11-18 | 1971-05-17 | Du Pont | Compositions photopolymerisables contenant des aminophenylcetones et des adjuvants |
| USRE28789E (en) | 1972-01-25 | 1976-04-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing cyclic cis-α-dicarbonyl compounds and selected sensitizers |
| JPS51134123A (en) * | 1975-05-15 | 1976-11-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive compositions for image formation |
| JPS6026122B2 (ja) * | 1977-01-20 | 1985-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| DE2861268D1 (en) * | 1977-11-29 | 1982-01-07 | Bexford Ltd | Photopolymerisable elements and a process for the production of printing plates therefrom |
| GB2029423A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-19 | Agfa Gevaert Nv | Photo-polymerisable materials and recording method |
-
1976
- 1976-09-14 JP JP51110151A patent/JPS5994B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-09-13 US US05/832,864 patent/US4175971A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-09-14 GB GB38424/77A patent/GB1585639A/en not_active Expired
- 1977-09-14 DE DE19772741452 patent/DE2741452A1/de not_active Ceased
-
1979
- 1979-07-12 US US06/057,149 patent/US4298679A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-03-04 US US06/240,433 patent/US4386153A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-04-14 US US06/484,818 patent/US4439515A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3427161A (en) * | 1965-02-26 | 1969-02-11 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
| DE2302820B2 (de) * | 1972-01-25 | 1976-04-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. (V.St.A.) | Fotopolymerisierbares gemisch |
| US3878075A (en) * | 1973-03-30 | 1975-04-15 | Scm Corp | Photopolymerization of pigmented binders using combinations of organic carbonyls and halogenated naphthalenes |
| DE2517034A1 (de) * | 1974-04-18 | 1975-11-20 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Lichtempfindliche zusammensetzung |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0729069A1 (de) * | 1995-02-24 | 1996-08-28 | International Paper Company | Benzanthron als Polymerisierungsregler in fotopolymerisierbarer Zusammensetzung |
| WO1998018764A1 (de) * | 1996-10-28 | 1998-05-07 | Merck Patent Gmbh | Dihydrobenzoanthracenone, -pyrimidinone oder dihydronaphthochinolinone |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1585639A (en) | 1981-03-11 |
| US4439515A (en) | 1984-03-27 |
| JPS5994B2 (ja) | 1984-01-05 |
| JPS5335518A (en) | 1978-04-03 |
| US4298679A (en) | 1981-11-03 |
| US4175971A (en) | 1979-11-27 |
| US4386153A (en) | 1983-05-31 |
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