DE69621173T2

DE69621173T2 - Benzanthron als Polymerisierungsregler in fotopolymerisierbarer Zusammensetzung

Info

Publication number: DE69621173T2
Application number: DE69621173T
Authority: DE
Inventors: John R. Delude; Paul A. Perron; Maria T. Sypek
Original assignee: Kodak Graphics Holding Inc
Current assignee: Kodak Graphics Holding Inc
Priority date: 1995-02-24
Filing date: 1996-02-07
Publication date: 2003-01-02
Anticipated expiration: 2016-02-08
Also published as: CA2169898A1; JP3650455B2; DE69621173D1; AU696613B2; EP0729069B1; EP0729069A1; US5543262A; AU4551596A; JPH08297365A

Description

Hintergrund der Erfindung

Bereich der Erfindung

Die Erfindung betrifft photopolymerisierbare Zusammensetzungen und photographische Elemente, die solche photopolymerisierbaren Zusammensetzungen enthalten. Im Besonderen, betrifft die Erfindung photopolymerisierbare Zusammensetzungen enthaltend eine Benzanthronkomponente und ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer, die die Reproduktionsqualität von photographischen Elementen, bei denen diese Zusammensetzung verwendet wird, verbessert. Diese Elemente sind als lithographische Druckplatten geeignet.

Beschreibung des Standes der Technik

Es ist bekannt, dass lithographische Druckplatten durch das Aufbringen einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung auf einen Träger, wie z. B. einen Träger aus einem hydrophilen Aluminium oder behandelten Aluminium, hergestellt werden können.
Beispiele solcher photopolymerisierbarer Zusammensetzungen sind in den US-Patenten 5,061,605 und 5,286,594 offenbart.
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung enthält normalerweise eine radikalbildende Komponente, wie z. B. einen Photoinitiator, ein photopolymerisierbares Monomer oder Oligomer sowie Bindemittel, Farbmittel und andere Bestandteile, die auf dem Fachgebiet bekannt sind. Durch eine Photomaske wird diese ultravioletter oder aktinischer Strahlung ausgesetzt, wodurch der Photoinitiator Radikale erzeugt, die die Polymerisation des Monomers oder Oligomers, auf den Flächen des Bildes, die von Licht getroffen werden, startet. Beschichtete Flächen, die nicht bestrahlt wurden, werden dann durch eine Entwicklerlösung abgetragen, wodurch man ein Bild eines belichteten, oleophilen Photopolymers auf einem Hintergrund eines hydrophilen Trägers erhält.
Ein Problem solcher Platten ist die kontaktlose Belichtung von Flächen in den gewünschten Nicht-Bildbereichen. Die Photomaske wird dazu verwendet, zwischen den Bereichen, für die eine Belichtung beabsichtigt ist, und den Bereichen, die gegen eine solche Belichtung abgedeckt sein sollen, zu unterscheiden. Jedoch sind die abgedeckten Bereiche oft in der Form von kleinen Rasterpunkten von variierender Größe. In der Praxis gibt es einen geringen Grad von unerwünschter Belichtung in den Nichtbildbereichen auf Grund von Lichtstreuung, Lichtdiffusion, nicht vollständigem Kontakt von Maske und Platte und anderen diversen Gründen. Dies verursacht eine ungewollte teilweise Belichtung in den Nichtbildbereichen und folglich Hintergrundflecken durch Lichthofbildung und Hotspots. Lichthofbildung und Hotspots sind ein ernsthaftes Problem in kommerziellen Druckanwendungen, da sie eine Verschlechterung der Reproduktionsqualität von Bildern aus Rasterpunkten verursachen. Der Fachmann war danach bestrebt, eine Vielzahl von Lösungen für dieses Problem bereitzustellen, einschließlich der Auswahl von photopolymerisierbaren Zusammensetzungen, die eine hohe Belichtungsdosis erfordern, und dem Gebrauch von Bestrahlungsfiltern. Diese haben bekannte Nachteile. Es wäre wünschenswert, eine photopolymerisierbare Zusammensetzung herzustellen, die angemessener zwischen den Bild- und den Nichtbildbereichen unterscheiden kann, indem sie eine höchsteffektive Photopolymerisation in den unbedeckten Bildbereichen, bei denen beabsichtigt ist, sie der aktinischen Strahlung auszusetzen, ermöglicht, wogegen sie die Photopolymerisation in den bedeckten Nichtbildbereichen, von denen nicht beabsichtigt ist, sie der Strahlung auszusetzen, verhindern soll. Die vorliegende Erfindung erreicht dieses Ziel durch die Aufnahme einer kleinen Menge von Benzanthron oder eines Benzanthronderivats in die photopolymerisierbare Zusammensetzung. Das Benzanthron wirkt als Polymerisationsregler (gate) oder -schalter (switch). In den unbedeckten Bereichen, die der vollen Strahlungsmenge über einem bestimmten Schwellenwert ausgesetzt werden sollen, erfolgt die Photopolymerisation so effektiv, als wäre kein Benzanthron vorhanden. Jedoch, in Bereichen, die teilweise einer solchen Strahlung ausgesetzt sind, d. h. unter einem Schwellenwert, durch Lichtstreuung oder Störlicht, verhindert das Benzanthron unerwünschte Polymerisation. Ohne auf eine bestimmte Theorie eingeschränkt zu sein, wird angenommen, dass das Benzanthron in den bedeckten Bereichen, die relativ niedrigen Strahlungsdosen ausgesetzt sind, die Polymerisation verhindert oder einschränkt, wogegen das Benzanthron bei hohen Strahlungsdosen in den unbedeckten Bereichen im wesentlichen unwirksam in diesem Sinne ist und von der hohen Strahlungsdosis in den unbedeckten Bereichen "übermannt" wird. Das Ergebnis ist ein photographisches Element, das eine verbesserte Unterscheidung zwischen den Bild- und Nichtbildbereichen aufweist. Die Reproduktionsqualität ist verbessert, Hotspots und Lichthofbildung, verursacht durch kontaktlose Belichtung sind reduziert, ohne das Ausmaß der gewünschten Photopolymerisation einzuschränken. In photopolymerisierbaren Zusammensetzungen, die mit kleinen Mengen von Benzanthron versetzt wurden, verursacht Belichtung mit aktinischer Strahlung unter einem Schwellenwert keine wesentliche Polymerisation. Wenn jedoch die Belichtung über den Schwellenwert ansteigt, findet die Photopolymerisation statt, so, als ob kein Benzanthron vorhanden wäre. Obwohl der Gebrauch von Benzanthronen als Photoinitiatoren aus den US-Patenten 4,367,280 und 4,386,153 bekannt ist, waren sie bis jetzt als Photopolymerisationsregler in Zusammensetzungen, die andere Komponenten als Photoinitiatoren verwenden, unbekannt.
DE-A-27 18 047 offenbart eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die ein polyfunktionales photopolymerisierbares Monomer, ein Photoinitiatorsystem und Benzanthron umfasst.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Die Erfindung stellt eine lichtempfindliche Zusammensetzung bereit, die durch Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung photopolymerisierbar ist und enthält:
(a) mindestens eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit mindestens zwei olefinisch ungesättigten Doppelbindungen, die in einer zur Photopolymerisation in Gegenwart einer radikalbildenden Komponente, die zur radikalischen Initiierung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung befähigt ist, ausreichenden Menge vorliegt;
(b) mindestens eine radikalbildende Komponente, die zur Photoinitiierung der radikalischen Polymerisation befähigt ist, in einer zur Bewirkung der radikalischen Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung ausreichenden Menge;
(c) mindestens eine Verbindung aus der Gruppe, bestehend aus Benzanthron und mit einem oder mehreren Halogenatomen, Alkylresten mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen und Alkoxyresten mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen substituiertem Benzanthron, in einer so großen Menge, dass die radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung unterhalb eines Schwellenwerts weitgehend verhindert wird, die freie radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung oberhalb eines Schwellenwerts jedoch ablaufen kann; und
(d) mindestens ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer.
Die Erfindung stellt auch ein lichtempfindliches Element bereit, das einen Träger und eine darauf angeordnete lichtempfindliche Zusammensetzung umfaßt, bei welcher es sich um eine durch Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung radikalisch polymerisierbare Zusammensetzung handelt, und die enthält:
(a) mindestens eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit mindestens zwei olefinisch ungesättigten Doppelbindungen, die in einer zur Photopolymerisation in Gegenwart einer radikalbildenden Komponente, die zur radikalischen Initiierung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung befähigt ist, ausreichenden Menge vorliegt;
(b) mindestens eine radikalbildende Komponente, die zur Photoinitiierung der radikalischen Polymerisation befähigt ist, in einer zur Bewirkung der radikalischen Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung ausreichenden Menge;
(c) Benzanthron in einer so großen Menge, dass die radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung unterhalb eines Schwellenwerts weitgehend verhindert wird, die freie radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung oberhalb eines Schwellenwerts jedoch ablaufen kann; und
(d) mindestens ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer.
Die Erfindung stellt weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines bebilderten Gegenstands bereit, umfassend:
(A) Herstellen eines lichtempfindlichen Elements durch Erzeugen einer lichtempfindlichen Zusammensetzung auf einem Träger, wobei die lichtempfindliche Zusammensetzung umfaßt:
(a) mindestens eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit mindestens zwei olefinisch ungesättigten Doppelbindungen, die in einer zur Photopolymerisation in Gegenwart einer radikalbildenden Komponente, die zur radikalischen Initiierung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung befähigt ist, ausreichenden Menge vorliegt;
(b) mindestens eine radikalbildende Komponente, die zur Photoinitiierung der radikalischen Polymerisation befähigt ist, in einer zur Bewirkung der radikalischen Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung ausreichenden Menge;
(c) Benzanthron in einer so großen Menge, dass die radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung unterhalb eines Schwellenwerts weitgehend verhindert wird, die freie radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung oberhalb eines Schwellenwerts jedoch ablaufen kann; und
(d) mindestens ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer enthält.
(B) Bildweises Belichten des lichtempfindlichen Elements mit ultravioletter Strahlung, um bildmäßig belichtete und unbelichtete Bereiche zu erzeugen und
(C) Entwickeln des lichtempfindlichen Elements, indem man die unbelichteten Nichtbildbereiche mit einem flüssigen Entwickler entfernt.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM

Die erfindungsgemäße Zusammensetzung umfasst mindestens eine radikalisch photopolymerisierbare Verbindung, die ein Monomer, ein Oligomer oder ein Polymer sein kann, die mindestens zwei olefinisch ungesättigte Doppelbindungen hat. Solche sind auf dem Fachgebiet bekannt. Geeignete polymerisierbare Verbindungen sind Ether, Ester und Partialester von Acryl- und Methacrylsäure und aromatischen und aliphatischen Polyolen, die bevorzugt 2 bis 30 Kohlenstoffatome enthalten, oder cycloaliphatischen Polyolen, die bevorzugt 5 oder 6 Ringkohlenstoffatome enthalten. Solche Polyole können auch mit Epoxiden modifiziert sein, wie mit Ethylenoxid oder Propylenoxid. Die Partialester und Ester von Polyoxyalkylenglykolen sind auch geeignet. Beispiele sind Ethylenglykoldimethacrylat, Diethylenglykoldimethacrylat, Triethylenglykoldimethacrylat, Tetraethylenglykoldimethacrylat, Polyethylenglykoldimethacrylate mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht im Bereich von 200 bis 2000, Ethylenglykoldiacrylat, Diethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Polyethylenglykoldiacrylate mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht im Bereich von 200 bis 2000, Trimethylolpropanethoxylattrimethacrylat, Trimethylolpropanpolyethoxylattrimethacrylate mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht im Bereich von 500 bis 1500, Trimethylolpropanethoxylattriacrylate mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht im Bereich von 500 bis 1500, Pentaerythritoldiacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat, Dipentaerythritoldiacrylat, Dipentaerythritoltriacrylat, Dipentaerythritoltetraacrylat, Dipentaerythritolpentaacrylat, Dipentaerythritolhexaacrylat, Tripentaerythritoloctaacrylat, Pentaerythritoldimethacrylat, Pentaerythritoltrimethacrylat, Dipentaerythritoldimethacrylat, Dipentaerythritoltetramethacrylat, Tripentaerythritoloctamethylacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Sorbitoltriacrylat, Sorbitoltetraacrylat, Sorbitoltetramethacrylat, Sorbitolpentaacrylat, Sorbitolhexaacrylat, Oligoesteracrylate, Oligoestermethacrylate, Glyceroldi- und -triacrylat, 1,4-Cyclohexandiacrylat, Bisacrylate und Bismethacrylate von Polyethylenglykolen mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 100 bis 1500, Ethylenglykoldiallylether, 1,1,1-Trimethylolpropantriallylether, Pentaerythritoltriallylether, Diallylsuccinate und Diallyladipate oder Gemische der oben genannten Verbindungen. Bevorzugte multifunktionale Acrylatoligomere schließen folgende mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: acrylierte Epoxidharze, wie Interez Corporation's Novacure 3701, acrylierte Polyurethane, wie Sartomer Co.'s C9505, und acrylierte Polyester, wie Henkel Corp.'s Photomer 5007. Bevorzugte photopolymerisierbare Polymere schließen die folgenden mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: acrylamidsubstituiertes Celluloseacetatbutyrat und Celluloseacetatpropionat, erhältlich von Bomar; acrylierte Epoxidharze von Echo Resins; acrylierte Polyester; acrylierte Polyether und acrylierte Urethane. Ein bevorzugtes photopolymerisierbares Polymer ist Jaylink 106E, welches ein acrylamidmodifiziertes Celluloseacetatbutyratpolymer ist, welches von Bomar Specialties hergestellt wird. Solche sind in den US-Patenten 4,557,951 und 4,490,516 beschrieben. Diese beschreiben ein polymerisierbares Celluloseester- oder -etherprodukt, das zur Homopolymerisation oder zur Co-Polymerisation mit Vinylmonomeren in der Lage ist. Diese haben einen Substitutionsgrad zwischen 2,0 und 2,9, reagieren mit einem Acrylamidreaktanten, der eine Methylolgruppe enthält, um einen Substitutionsgrad von etwa 0,05 bis etwa 0,5 und einen Hydroxylsubstitutionsgrad von etwa 0,05 bis etwa 0,5 zu erreichen. Eine weitere bevorzugte photopolymerisierbare Verbindung ist Sartomer 9041, was ein Pentaacrylatester ist, der von Sartomer hergestellt wird.
Die photopolymerisierbare Verbindung ist in einer ausreichenden Menge vorhanden, um sie über Bestrahlung mit einer ausreichenden aktinischen Strahlung zu photopolymerisieren. In der bevorzugten Ausführungsform ist die multifunktionale photopolymerisierbare Verbindung in einer Menge von 1 bis 80 Gew.-% in der gesamten Zusammensetzung vorhanden, bevorzugt in einer Menge von 20 bis 70%, basierend auf den Nicht-Lösungsmittel-Anteilen der gesamten Zusammensetzung.
Die Zusammensetzung umfasst weiterhin mindestens eine radikalbildende Komponente, die zur Photoinitiation von Radikalpolymerisation in der Lage ist. Beispiele solcher Komponenten schließen Photoinitiatoren mit ein, welche ihrerseits durch Fragmentierung oder nach dem Norrish-Mechanismus Typ 1 Radikale photolytisch bilden können. Letztere haben eine Kohlenstoffcarbonylbindung, die in zwei Radikale gespalten werden kann, wovon mindestens eines davon zur Photoinitiation befähigt ist. Geeignete Initiatoren schließen aromatische Ketone, wie Benzophenon, acryliertes Benzophenon, 2-Ethylanthrachinon, Phenanthrachinon, 2-tert-Butylanthrachinon, 1,2-Benzanthrachinon, 2,3-Benzanthrachinon, 2,3-Dichloronaphthochinon, Benzyldimethylketal und andere aromatische Ketone, z. B. Benzoin, Benzoinether, wie Benzoinmethylether, Benzoinethylether, Benzoinisobutylether und Benzoinphenylether, Methylbenzoin, Ethylbenzoin und andere Benzoine; Diphenyl-2,4,6-trimethylbenzoylphosphinoxid; Bis(pentafluorophenyl)titanocen ein.
Die radikalbildende Komponente kann eine Kombination von radikalbildenden Initiatoren, die Radikale durch den Norrish-Mechanismus Typ 1 bilden, und einem Spektralsensibilisator sein. Solche Kombinationen schließen folgende Kombinationen mit ein: 2-Methyl-1-(4-methylthiophenyl]-2-morpholinopropanon, erhältlich von Ciba-Geigy als Irgacure 907, in Kombination mit Ethyl Michlers Keton (EMK), das 4,4'-Bisdiethylaminobenzophenon ist; Irgacure 907 in Kombination mit 2-Isopropylthioxanthanon (ITX); Benzophenon in Kombination mit EMK; Benzophenon in Kombination mit ITX; 2-Benzyl-2-N,N-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanon, das bei Ciba-Geigy als Irgacure 369 erhältlich ist, in Kombination mit EMK; Irgacure 369 in Kombination mit ITX. In solchen Fällen ist es bevorzugt, dass das Gewichtsverhältnis des radikalbildenden Initiators und des Spektralsensibilisators im Bereich von etwa 5 : 1 bis etwa 1 : 5 liegt.
Andere Radikalbildner, die für diese Erfindung geeignet sind, schließen die folgenden Radikalbildner mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: Triazine, wie Chlorradikalbildner, wie 2-substituierte 4,6-Bis(trihalogenmethyl)-1,3,5-triazine. Die vorgenannte Substitution mit einer chromophoren Gruppe verleiht dem Triazin eine spektrale Empfindlichkeit in einem Teil des elektromagnetischen Strahlungsspektrums. Beispiele dieser Radikalbildner, die nicht beschränkend wirken, schließen 2-(4-Methoxynaphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5,- triazin, welches kommerziell von PCAS, Longjumeau Cedex (Frankreich) als Triazin B erhältlich ist; 2-(4-Methylthiophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5,triazin; 2-(4-Methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin; 2-(4-Diethylaminophenyl-1,3-butadienyl)-4,6- bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin, unter anderen mit ein. Für die Erfindung sind auch Verbindungen geeignet, die nach dem Norrish-Mechanismus Typ II reagieren, wie z. B. Kombinationen von Thioxanthonen, wie ITX, und einer Quelle von abspaltbaren Wasserstoffatomen, wie Triethanolamin.
Die radikalbildende Komponente ist in einer so ausreichenden Menge vorhanden, dass die Photopolymerisation der photopolymerisierbaren Verbindung durch Bestrahlung mit ausreichender aktinischer Strahlung bewirkt wird. Der Photoinitiator kann 1% bis 50% der Nicht-Lösungsmittel-Anteile der gesamten Zusammensetzung umfassen, oder mehr bevorzugt 2% bis 40% und am meisten bevorzugt 5% bis 25%.
Die Zusammensetzung umfasst weiter mindestens eine Verbindung ausgewählt aus Benzanthron und Benzanthron, das mit einem oder mehreren Halogenatomen, Alkylresten mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, und Alkoxyresten mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, substituiert ist. Unsubstituierte Benzanthrone sind am bevorzugtesten. Das Benzanthron oder substituierte Benzanthron ist in einer Menge vorhanden, die ausreicht, um die Photopolymerisation der photopolymerisierbaren Verbindung im wesentlichen zu verhindern, wenn die lichtempfindliche Zusammensetzung einer aktinischen Strahlung unter dem Schwellenwert ausgesetzt ist, aber die die Photopolymerisation der photopolymerisierbaren Verbindung ermöglicht, wenn die lichtempfindliche Zusammensetzung aktinischer Strahlung über dem Schwellenwert ausgesetzt ist. Das Benzanthron oder substituierte Benzanthron kann 0,1 bis 15 Gew.-% der Nicht-Lösungsmittel-Anteile der gesamten Zusammensetzung umfassen, oder bevorzugter 0,5% bis 10% und am meisten bevorzugt 1% bis 5%.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung schließt mindestens ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer ein. Solche Diazoniumpolymere sind dem Fachmann bekannt und können durch Kondensation eines Diazoniummomomers mit einem Kondensationsmittel in einem sauren Medium hergestellt und das Kondensationsprodukt mit einem Anion isoliert werden. Geeignete Diazoniumverbindungen schließen Diazoniumverbindungen, die mit Formaldehyd kondensiert sind, wie in den US-Patenten 2,063,631 und 2,667,415 offenbart, die Polykondensationsprodukte, wie in den US-Patenten 3,849,392 und 3,867,147 offenbart, und die hochempfindlichen und cokondensierten Diazoniumverbindungen, wie in den US-Patenten 4,436,804 und 4,533,620 offenbart, ein. Ein geeignetes Diazonium ist ein Polykondensationsprodukt von 3-Methoxy-4-diazodiphenylaminsulfat und 4,4'-Bismethoxy-methyldiphenylether, das als Mesitylensulfonat ausgefällt wird, wie in US-Patent 3,849,392 beschrieben. Typische Diazo-Verbindungen sind auf den Seiten 194-214 und 321-330 der Ausgabe "Light Sensitive Systems" von Jaromir Kosar, John Wiley & Sons, Inc., New York, 1965, offenbart. Geeignete lichtempfindliche Diazoniumpolymere werden als Salze des Kondensationsprodukts von geeignetem monomerem Diazonium oder einem Gemisch von monomeren Diazoniums mit einem geeigneten Kondensationsmittel, welches in einer starken Säure kondensiert, isoliert. Beispiele für geeignete monomere Diazoniumverbindungen schließen die folgenden mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: p-Diazodiphenylaminsulfat; 3-Methoxy-4-diazodiphenylaminsulfat; 4-Diazo-4'-methoxydiphenylaminsulfat; 2,5-Diethoxy-4-diazo-4'-thiotolylsulfat und Kombinationen davon. Beispiele für geeignete Kondensationsmittel schließen folgende Kondensationsmittel mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: Formaldehyd; Paraformaldehyd; 4,4-Bismethoxymethyldiphenylether; 4,4-Bishydroxymethyldiphenylether; 4,4'-Bismethoxymethyldiphenylsulfid; 4,4'-Bismethoxymethylbisphenol A und Kombinationen davon. Beispiele für geeignete kondensierende Säuren schließen die folgenden Säuren mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: Schwefelsäure, Phosphorsäure, Trifluoromethylsulfonsäure und Salpetersäure. Beispiele für geeignete Salzanionen, die zur Isolierung des Kondensationsprodukts verwendet werden, schließen die folgenden Anionen mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: p-Toluolsulfonat, Hexafluorophosphat, Tetrafluoroborid, Mesitylensulfonat und Trifluoromethylsulfonat. Die bevorzugteste Diazonium-Verbindung ist DSO-19, welches das Kondensationsprodukt von 4- Diazodiphenylaminsulfat und Formaldehyd ist, das als p-Toluolsulfonat isoliert und von PCAS hergestellt wird. Das Diazoniumpolymer ist in einer so ausreichenden Menge vorhanden, dass eine lichtempfindliche Zusammensetzung hergestellt wird, die im Wesentlichen empfindlich gegenüber aktinischer Strahlung in einem Bereich von etwa 300 bis 550 nm ist. Bevorzugt enthält es davon 0.5% bis 25% der Nicht-Lösungsmittel-Anteile der gesamten Zusammensetzung, oder mehr bevorzugt 1% bis 15% und am meisten bevorzugt 5% bis 10%.
In einer bevorzugten Ausführungsform kann die Zusammensetzung auch ein polymeres Bindemittel enthalten, um die anderen Komponenten, zu einem im Wesentlichen einheitlichen Gemisch zu verbinden, welches auf einen Träger aufgebracht werden kann. Beispiele für geeignete Bindemittel schließen die folgenden mit ein, sind aber nicht darauf beschränkt: Gelatine, Polyvinylalkohol, Polyvinylalkoholcopolymere, Polyvinylbutyral, Acrylesterpolymere und -copolymere; Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Polyethylenoxid, Ethylcellulose, Polyester, Polystyrol, Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester, Polyvinylacetal, Polyamide, Polyacrylnitril, Polyethylen, halogenierte Polyolefine, chlorierte Gummiethylcellulose, Celluloseacetat, Cellulosenitrat und andere Homopolymere; und Copolymere, hergestellt aus verschiedenen Arten von Vinylverbindungen, wie etwa Polyvinylacetat, und Copolymere von Polyvinylacetat, Polyvinylchlorid und Copolymere; Polyvinylidenchlorid polymere und -copolymere; Vinylchloridvinylacetatcopolymer und Styrolbutadiencopolymer. Die Menge des Bindemittels kann experimentell durch den Fachmann variiert werden, abhängig von den gewünschten Produkteigenschaften, umfasst jedoch typischerweise 1 bis 50 Gew.-% und bevorzugt 5 bis 30 Gew.-% der gesamten Zusammensetzung.
Farbmittel, wie etwa Farbstoffe und organische und anorganische Pigmente, werden üblicherweise benutzt, um den Beschichtungen Farbe zu verleihen. Farbe ist eine gewünschte Eigenschaft für eine photoempfindliche Beschichtung für Druckplatten. Die Farbe erlaubt eine Untersuchung der Druckplatte vor der Verwendung auf Beschichtungsfehler und Einheitlichkeit der Beschichtung. Nachdem die Platte bildmäßig belichtet ist und die unbelichtete Beschichtung durch Entwicklung entfernt ist, bietet Farbe in der belichteten Beschichtung, die zurückgeblieben ist, eine sichtbare Unterscheidungsmöglichkeit zwischen den belichteten, bebilderten Bereichen auf der Platte und den unbelichteten Nichtbildbereichen auf der Platte. Jedoch sollten bestimmte Farbstoffe und Pigmente, von denen dem Fachmann bekannt ist, dass sie einen Desensibilisierungseffekt auf lichtempfindliche Zusammensetzungen haben, vermieden werden.
Geeignete Farbmittel enthalten nicht ausschließlich Farbstoffe, wie etwa Rhodamin, Chalcozin, Victoriablau und Methylviolett, und Pigmente, wie etwa vom Anthrachinon- und Phthalocyanintyp. Perylenkastanienbraun, Phthalocyaninblau, Phthalocyaningrün und Cadmiumrot sind ebenfalls geeignet. Im Allgemeinen ist das Farbmittel in der Form einer Pigmentdispersion, welche eines oder mehrere Pigmente in einem geeigneten Dispergiermittel dispergiert, umfasst. Das Pigment wird 20 bis 80% der Pigmentdispersion, bevorzugt 40 bis 60%, umfassen. Beispiele für geeignete Dispergiermittel enthalten, aber sind nicht beschränkt auf Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Celluloseester, Polyurethane und Epoxidharze. Das Dispergiermittel wird 20 bis 80% der Pigmentdispersion, bevorzugt 40 bis 60%, umfassen. Ein bevorzugtes Farbmittel ist Chip 79S26C, welches eine Dispersion von 60% Phthalocyaninblaupigment (Pigment blau 15 : 4) in Monsanto Butvar B-98 (Polyvinylbutyralpolymer) ist und von Penn Color Inc. kommerziell erhältlich ist. Das Chip 79S26C bewirkt in der Photobeschichtung eine blaue Farbe. Derartige Dispersionen sind in US-Patent 5,286,594 beschrieben. Eine geeignete Menge des Farbmittels, die verwendet werden kann, reicht von 0,01% bis 25 Gew.-%, bevorzugt 0,1% bis 15 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der erfindungsgemäßen Zusammensetzung, ohne Lösungsmittel. Eine, weitere bevorzugte Komponente ist ein Belichtungsindikator, wie etwa Metanilgelb (Phenylazodiphenylamin, 4- Sulfonsäurenatriumsalz). Dies ist ein pH-empfindlicher Farbstoff, welcher in Verbindung mit der Säure, die durch die Diazoniumverbindung produziert wurde, ein Farbbild ergibt.
Die Komponenten der obenstehenden Zusammensetzung können durch ihre Vermischung in einem geeigneten Lösungsmittelmedium kombiniert werden. Lösungsmittel, die bei der Herstellung der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Zusammensetzung verwendet werden können, schließen 1,2-Dichlorethan, Alkohole, wie etwa Methanol, Ethanol, Propanol und Butanol; Ketone, wie etwa Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon, Cyclohexanon, Diisobutylketon usw., Ester, wie etwa Ethylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Methylformiat, Ethylpropionat, Dimethylphthalat, Ethylbenzoat und Methylcellosolveacetat, aromatische Kohlenwasserstoffe, wie etwa Toluol, Xylol, Benzol, Ethylbenzol; halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie etwa Tetrachlorkohlenstoff, Trichlorethylen, Chloroform, 1,1,1- Trichlorethan, 1,2-Dichlorethan, Monochlorbenzol, Chlornaphthalen; Ether, wie etwa Tetrahydrofuran, Diethyletherethylenglykolmonoethyletheracetat, Ethylenglykolmonomethylether, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid und Gemische davon, ein. Die am meisten bevorzugten Lösungsmittel sind Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether und Dimethylformamid, welche die anderen Komponenten der photographischen Beschichtung lösen. Eine geeignete Menge des Lösungsmittels, welche in der photopolymerisierbaren Zusammensetzung dieser Erfindung verwendet werden kann, reicht von 50% bis 1000%, bevorzugt 70% bis 500%, bezogen auf das Gewicht der Nicht-Lösungsmittel-Anteile der Gesamtzusammensetzung.
Verschiedene optionale Zusatzstoffe können zu der Zusammensetzung zugegeben werden, abhängig von der beabsichtigten Endverwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung oder von anderen Bedingungen. Beispiele für diese schließen thermische Polymerisationsinhibitoren, Weichmacher und andere ein.
Spezielle Beispiele von geeigneten thermischen Polymerisationsinhibitoren enthalten Hydrochinon, Hydrochinonmonomethylether, Catechol, Beta-Naphthol, Mono-t-butylhydrochinon, Pyrogallol, 4-tert-Butylphenol, 2,5-Di-tert-butylhydrochinon oder 2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol. Eine geeignete Menge des Thermopolymerisationsinhibitors, welche verwendet werden kann, reicht von 0,01 Gew.-% bis 5 Gew.-%, bevorzugt 0,1 Gew.-% bis 3 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der Nicht-Lösungsmittel-Anteile der Zusammensetzung.
Beispiele für geeignete Weichmacher schließen Dioctylphthalat, Dibutylphthalat, Butylphthalyl, Butylglykolat, Tricresyl, Phosphat, Weichmacher der Polyesterreihe und chlorierte Paraffine ein. Eine geeignete Menge des Weichmachers kann von 0,1 Gew.-% bis 20 Gew.-%, bevorzugt 1 Gew.-% bis 10 Gew.-%, reichen, basierend auf dem Gewicht der Nicht- Lösungsmittel-Anteile der Zusammensetzung.
Uni ein photographisches Element der vorliegenden Erfindung herzustellen, wird die lichtempfindliche Zusammensetzung auf einen geeigneten Träger aufgebracht und getrocknet. Geeignete Träger schließen Aluminiumlegierungen, Silicium und polymere Filme als Grundlage, wie etwa Polyethylenterephthalat und Celluloseacetatbutyrat ein. Der am stärksten bevorzugte Träger ist eine Aluminiumlegierung von lithographischer Qualität, bei welchem in diesem Fachgebiet bekannte Oberflächenbehandlungen durchgeführt worden sein können. Wenn das der Fall ist, kann ein flächiger metallischer Träger, bevorzugt Aluminium oder Legierungen davon, speziell jene Aluminiumzusammensetzungen, die zur Herstellung von lithographischen Druckplatten geeignet sind, wie etwa Alcoa 3003 und Alcoa 1100, welche entweder durch in diesem Fachgebiet bekannte Standardtechniken vorbehandelt oder nicht vorbehandelt sein können, durch Sprühen, Bürsten, Tauchen oder andere Verfahren, mit einer Zusammensetzung, die geeignet ist zur Verwendung als eine hydrophilisierende Zwischenschicht für lithographische Platten, behandelt werden. Standardvorbehandlungen für Metallsubstrate schließen chemisches Ätzen, chemisches, elektrochemisches oder mechanisches Auftauen und Anodisieren ein, Methoden, die einem Fachmann bekannt sind. Ein Auftauen kann der Aluminiumoberfläche durch Drahtbürsten oder mit einem Bimssteinschlamm oder durch elektrochemisches Auftauen in Salpetersäure, gefolgt von der Entfernung von Schmutz, verliehen werden. Die Anodisierung kann durch elektrolytische Behandlung des beschichteten Trägers in einer wässrigen Lösung von Schwefel-, Chrom- oder Phosphorsäure mit einer Konzentration von etwa 0,5 bis 25 Gew.-% der Säure in Wasser durchgeführt werden. Die Anodisierung findet bevorzugt in einem Bad, das auf einer Temperatur von etwa 15ºC bis 35ºC gehalten wird, für etwa 1 bis etwa 20 Minuten bei etwa 5 bis 20 Volt und einer Stromdichte von etwa 10 bis 70 Ampere pro ft² statt. Die vorhergehenden Techniken sind auf dem Fachgebiet bekannt.
Der Träger kann mit einer wässrigen Lösung einer hydrophilisierenden Verbindung, wie etwa Alkalisilikat, Kieselsäure, Fluoriden der Metalle der IV-B-Gruppe, den Alkalimetallsalzen, Polyvinylphosphonsäure, Polyacrylsäure, den Alkalizirkonfluoriden, wie etwa Kaliumzirkoniumhexafluorid, oder Hydrofluorzirkonsäure in Konzentrationen von 0,5 bis 20 Vol.% behandelt werden. Ein bevorzugter Konzentrationsbereich ist 3 bis 8% und der am stärksten bevorzugte Bereich ist 4 bis 5%.
As nächstens kann die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung auf einen Träger aufgebracht und getrocknet werden. Die Beschichtung wird durch bekannte Beschichtungstechniken bevorzugt auf einen geeigneten präparierten Träger für Lithographieplatten aufgebracht, und die Lösungsmittel werden abgedampft, um ein Trockenschichtgewicht von 0,70 ± 0,05 Gramm pro Quadratmeter zu erreichen.
Die derartig hergestellten photographischen Elemente können dann ultravioletter oder aktinischer Strahlung wie Strahlung im Nanometerbereich von etwa 300 bis 550 Nanometer durch eine photographische Maske ausgesetzt und entwickelt werden. Geeignete UV-Quellen sind Kohlenstoffbogenlampen, Xenonbogenlampen, Quecksilberdampflampen, welche mit Metallhalogeniden (Metallhalogenidlampe) dotiert sein können, Fluoreszenzlampen, Argondrahtlampen, elektronische Blitzlampen und photographische Flutlichtlampen. Die Belichtung wird durchgeführt, um dem Element genügend aktinische Energie zuzuführen, um die Photopolymerisation der photopolymerisierbaren Verbindung in den Bildbereichen, wo die lichtempfindliche Zusammensetzung durch eine Maske belichtet wird, zu ermöglichen und im Wesentlichen jedoch die Photopolymerisation der photopolymerisierbaren Verbindung in den Nichtbildbereichen zu verhindern. Die Nichtbildbereiche werden dann mit einem geeigneten Entwickler entfernt.
Typische Entwicklerzusammensetzungen können von alkalischer oder neutraler Natur sein und haben einen pH-Bereich von etwa 5 bis etwa 9. Entwickler werden bevorzugt aus wässrigen Lösungen von Phosphaten, Silikaten oder Metabisulfiten gebildet. Diese enthalten nicht ausschließlich, Mono-, Di- und Trialkalimetallphosphat, Natriumsilikat, Alkalimetallmetasilikat und Alkalimetabisulfit. Alkalimetallhydroxide können auch verwendet werden, obwohl diese nicht bevorzugt sind. Die Entwickler können auch im Fachgebiet bekannte oberflächenaktive Mittel, Puffer und andere Inhaltsstoffe enthalten.
Die folgenden nichteinschränkenden Beispiele werden dazu dienen, die Erfindung zu erläutern. Es wird anerkannt werden, dass Variationen in den Verhältnissen und Alternativen in den Elementen der Komponenten der photoempfindlichen Beschichtungszusammensetzung für einen Fachmann offensichtlich und innerhalb des Bereiches der vorliegenden Erfindung sind.

BEISPIELE

Die Zusammensetzungen der folgenden Beispiele werden durch Lösen der Komponenten in den angegebenen Lösungsmitteln hergestellt. Jede Zusammensetzung wird dann auf mechanisch oder elektrochemisch aufgeraute, anodisierte, nach der Anodisierung hydrophilisierte Aluminiumlegierungsträger aufgetragen. Sie werden für 90 Sekunden bei 70ºC getrocknet, um lithographische Druckplatten mit einem Trockenschichtgewicht von 0,70 ± 0,05 Gramm pro Quadratmeter herzustellen. Die Platten werden mit 17,5 Einheiten auf einem Teaneck-Vakuumrahmen, ausgerüstet mit einer Olec A1 83 Lichteinheit, enthaltend eine Olec 1282 Multispektrumlampe, belichtet. Die Platten werden mit Anitec SP Plattenentwickler in einer Anitec SN 32 Plattenentwickleranlage entwickelt.

BEISPIEL 1 (VERGLEICHSBEISPIEL)

Komponente Gew.-%

Ethylenglykolmonomethylether 61,87
Ethylenglykolmonoethylether 18,30
Dimethylformamid 15,32
Jaylink 106E 0,56
Sartomer 9041 1,95
Irgacure 907 0,60
Ethyl Michlers Keton 0,24
Metanilgelb 0,11
79526C Chip 0,68
DSO-19 (Diazoniumpolymer) 0,37
100,00

BEISPIEL 1

0,08 Gewichtsteile Benzanthron werden zu der Zusammensetzung aus Vergleichsbeispiel 1 zugegeben.

BEISPIEL 2 (VERGLEICHSBEISPIEL)

Komponente Gew.-%

Ethylenglykolmonomethylether 62,41
Ethylenglykolmonoethylether 18,30
Dimethylformamid 15,32
Jaylink 106E 0,56
Sartomer 9041 1,95
Triazin B 0,30
Metanilgelb 0,11
79S26C Chip 0,68
DSO-19 (Diazoniumpolymer) 0,37
100,00
Triazin B ist 2-(4-Methoxynaphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin, kommerziell erhältlich von PCAS, Longjumeau Cedex (Frankreich).

BEISPIEL 2

0,08 Gewichtsteile Benzanthron wurden zu der Zusammensetzung von Vergleichsbeispiel 2 zugegeben.

ERGEBNISSE

Belichtung mit Hilfe eines Stouffer 21-Stufen Belichtungsleitfadens ergibt Vollflächenstufe 5 bei allen Platten. Die Platten von Vergleichsbeispiel 1 und Vergleichsbeispiel 2 ergeben eine teilweise gedeckte Stufe 13, während die Platten von Beispiel 1 und 2 eine teilweise gedeckte Stufe 10 ergeben. Lösungsmittelbeständigkeit wird wie in dem Test, der in den Beispielen des US-Patents 5,286,594 beschrieben ist, untersucht. Bei diesem Test wird Benzylalkohol direkt auf die bebilderte und entwickelte Platte gegossen. Nach fünf Sekunden wird die bebilderte und entwickelte Platte mit einem mit Benzylalkohol getränkten Wischtuch 20 Mal vorwärts und rückwärts heftig abgerieben. Alle Platten zeigen einen Einstufenabfall, welcher gute Lösungsbeständigkeit und daher ein gutes Ausmaß der Photopolymerisation anzeigt. Die Zugabe von Benzanthron in Beispiel 1 und Beispiel 2 bewirkt keinerlei Verringerung der Lösungsmittelbeständigkeit. Belichtung durch ein Rasterfeld mit 50% Flächendeckung bei 150 Linien/cm Auflösung wird durchgeführt, um qualitativ Lichthofbildung und Hotspots zu messen. Die Qualität der Sichtblende, die auf jeder Platte erzeugt wird, wird mit der Sichtblende verglichen, und eine Zahl wird der Reproduktionsqualität zugeordnet. Die Platte aus Vergleichsbeispiel 1 wird mit 2+/3 bewertet, während die Platte aus Beispiel 1 mit 1/l+ bewertet wird. Die Platte aus Vergleichsbeispiel 2 wird mit 2 bewertet, während die Platte aus Beispiel 2 mit 1 bewertet wird. Die verbesserte Reproduktionsqualität von Beispiel 1 und Beispiel 2 relativ zu Vergleichsbeispiel 1 und Vergleichsbeispiel 2 zeigt den Einfluß der Zugabe von Benzanthron auf die qualitative Reproduktionsqualität.
Belichtung durch einen Fogra Kontaktkontrollstreifen KKS wird durchgeführt, um qualitativ den Effekt von kontaktloser Belichtung zu messen. Der KKS-Streifen misst die Fähigkeit einer Platte, konzentrische Linien mit 50 Mikrometer bei steigender kontaktloser Belichtung abzubilden. Ziel 1 auf dem KKS-Streifen verwendet einen 75 Mikrometer Spacer zwischen der Platte und dem Ziel mit 50 Mikrometer konzentrischen Linien. Der Spacer wird auf 150 Mikrometer bei Ziel 2 und 225 Mikrometer bei Ziel 3 vergrößert. Jedes Ziel auf dem KKS- Streifen wird durch eine 8X- oder 30X-Lupe betrachtet, und die Zahl des konzentrischen Kreises, bei welchem die 50-Mikrometer-Linien abgebildet sind, wird abgelesen. Je höher die Zahl ist, desto stärker hat die kontaktlose Belichtung die Reproduktion beeinträchtigt. Die Ergebnisse für die vorgenannten Beispiele sind folgendermaßen: TABELLE
Die verbesserte Reproduktionsqualität bei kontaktloser Belichtung bei den Platten aus Beispielen 1 und 2 relativ zu den Vergleichsbeispielen 1 und 2 zeigt den Effekt von Benzanthron auf die Verbesserung der Reproduktionsqualität.

VERGLEICHSBEISPIEL 3

Phenothiazin, ein bekannter Radikalfänger, wurde zu der Zusammensetzung von Vergleichsbeispiel 1 zugegeben. Bei einem Anteil von 1000 ppm an den gesamten Beschichtungsfeststoffen wird kein Abfall in der Lösungsmittelbeständigkeit beobachtet. Man beobachtet dennoch keine Verbesserung bei Hotspots oder Lichthofbildung bei Messung durch ein Rasterfeld mit 50% Flächendeckung bie 150 Linien/cm Auflösung. Bei einem Anteil von 5000 ppm wird keine Verbesserung bei Hotspots oder Lichthöfen registriert, aber ein Abfall in der Lösungsmittelbeständigkeit (2 bis 3 Stufen Abfall) beobachtet. Die Zugabe von Phenothiazin erzeugt nicht den gleichen Effekt wie die Zugabe von Benzanthron.

Claims

1. Durch Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung photopolymerisierbare lichtempfindliche Zusammensetzung, enthaltend:

(a) mindestens eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit mindestens zwei olefinisch ungesättigten Doppelbindungen, die in einer zur Photopolymerisation in Gegenwart einer radikalbildenden Komponente, die zur radikalischen Initiierung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung befähigt ist, ausreichenden Menge vorliegt;

(b) mindestens eine radikalbildende Komponente, die zur Photoinitiierung der radikalischen Polymerisation befähigt ist, in einer zur Bewirkung der radikalischen Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung ausreichenden Menge;

(c) mindestens eine Verbindung aus der Gruppe bestehend aus Benzanthron und mit einem oder mehreren Halogenatomen, Alkylresten mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen und Alkoxyresten mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen substituiertem Benzanthron in einer so großen Menge, daß die radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung unterhalb eines Schwellenwerts weitgehend verhindert wird, die freie radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung oberhalb eines Schwellenwerts jedoch ablaufen kann; und

(d) mindestens ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer.

2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, bei der das mindestens eine lichtempfindliche Diazoniumpolymer durch Kondensation eines Diazoniummonomers mit einem Kondensationsmittel und Isolierung des Kondensationsprodukts mit einem Anion gebildet wird und in einer Menge vorliegt, die zur Bildung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die im wesentlichen gegenüber aktinischer Strahlung im Bereich von 300 bis 550 nm empfindlich ist, ausreicht.

3. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2, bei der es sich bei dem Diazoniumpolymer um das als p-Toluolsulfonat isolierte Kondensationsprodukt von 4-Diazodiphenylaminsulfat und Formaldehyd handelt.

4. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der die radikalisch polymerisierbare Verbindung eine oder mehrere, unter Ethern, Estern und Teilestern der Acryl- und Methacrylsäure mit aromatischen oder aliphatischen Polyolen ausgewählte Komponenten umfaßt.

5. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der die radikalisch polymerisierbare Verbindung eine oder mehrere, unter acrylamidmodifizierten Celluloseacetatbutyratpolymeren und Pentaacrylatestern ausgewählte Komponenten umfaßt.

6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der die radikalbildende Komponente einen oder mehrere Photoinitiatoren, die unter Verbindungen, die photolytisch Radikale bilden und eine Kohlenstoff-Carbonyl-Bindung aufweisen, die an einer derartigen Bindung unter Bildung von zwei Radikalen, von denen mindestens eines zur Photoinitiierung befähigt ist, gespalten werden können, ausgewählt sind, und Kombinationen von radikalbildenden Verbindungen mit Spektralsensibilisatoren umfaßt.

7. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der die radikalbildende Komponente eine oder mehrere Verbindungen umfaßt, die unter aromatischen Ketonen, Benzoin, Benzoinethern, Diphenyl-2,4,6-trimethylbenzoylphosphinoxid, Bis(pentafluorphenyl)titanocen, Triazinen und Thioxanthonen in Kombination mit einer Quelle abspaltbaren Wasserstoffs ausgewählt sind.

8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei es sich bei der radikalbildenden Komponente um ein 2- substituiertes 4,6-Bis(trihalogenmethyl)-1,3,5- triazin mit Chromophorgruppen-Substitution handelt.

9. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der die radikalbildende Komponente eine oder mehrere Verbindungen, die unter 2-Ethyl-1-[4-(methylthiophenyl)]-2- morpholinopropanon, 2-Benzyl-2-N,N-dimethylamino- 1-(4-morpholinophenyl)-1-butanon und Benzophenon ausgewählt sind, in Kombination mit einer oder mehreren Verbindungen, die unter 2-Isopropylthioxanthanon und 4,4'-Bisdiethylaminobenzophenon ausgewählt sind, umfaßt.

10. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 9, bei der die radikalisch polymerisierbare Verbindung eine oder mehrere, unter einem acrylamidmodifizierten Celluloseacetatbutyratpolymer und einem Pentaacrylatester ausgewählte Komponenten umfaßt.

11. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, in der die radikalisch polymerisierbare Verbindung in einer Menge von 1 bis 80 Gew.-%, die radikalbildende Komponente in einer Menge von 1 bis 50 Gew.-%, das Benzanthron in einer Menge von 0,1 bis 15 Gew.-% und das Diazoniumpolymer in einer Menge von 0,5 bis 25 Gew.-%, bezogen auf die Nichtlösungsmittelanteile der lichtempfindlichen Zusammensetzung, vorliegt.

12. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, die außerdem auch noch eine oder mehrere, unter Bindemitteln, Farbmitteln, Lösungsmitteln, die thermische Polymerisation hemmenden Stoffen und Weichmachern ausgewählte Komponenten enthält.

13. Lichtempfindliches Element mit einem Träger und einer darauf angeordneten lichtempfindlichen Zusammensetzung, bei welcher es sich um eine durch Bestrahlung mit genügend aktinischer Strahlung radikalisch polymerisierbare Zusammensetzung handelt, enthaltend:

(c) Benzanthron in einer so großen Menge, dass die radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung unterhalb eines Schwellenwertes weitgehend verhindert wird, die freie radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung oberhalb eines Schwellenwertes jedoch ablaufen kann; und

(d) mindestens ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer.

14. Lichtempfindliches Element nach Anspruch 13, bei dem der Träger eine Komponente aus der Gruppe bestehend aus Aluminiumlegierungen, Silicium und Polymerfoliengrundlagen umfaßt.

15. Lichtempfindliches Element nach Anspruch 14, bei dem es sich bei dem Träger um eine Aluminiumlegierung handelt und die Trägeroberfläche vor dem Auftragen der lichtempfindlichen Zusammensetzung nach einem oder mehreren Verfahren aus der Gruppe bestehend aus chemischem Ätzen, chemischem Aufrauen, elektrochemischem Aufrauen, mechanischem Aufrauen, Anodisieren und Hydrophilisieren vorbehandelt worden ist.

16. Lichtempfindliches Element nach Anspruch 15, bei dem die radikalisch polymerisierbare Verbindung eine oder mehrere, unter Ethern, Estern und Teilestern der Acryl- und Methacrylsäure mit einem aromatischen oder aliphatischen Polyol ausgewählte Komponenten umfaßt und die radikalbildende Komponente einen oder mehrere Photoinitiatoren, die unter Verbindungen, die photolytisch Radikale bilden und eine Kohlenstoff-Carbonyl-Bindung aufweisen, die an einer derartigen Bindung unter Bildung von zwei Radikalen, von denen mindestens eines zur Photoinitiierung befähigt ist, gespalten werden können, ausgewählt sind, und Kombinationen von radikalbildenden Verbindungen mit Spektralsensibilisatoren umfaßt.

17. Lichtempfindliches Element nach einem der Ansprüche 13 bis 16, bei dem die radikalisch polymerisierbare Verbindung eine oder mehrere, unter acrylamidmodifizierten Celluloseacetatbutyratpolymeren und Pentaacrylatestern ausgewählte Komponenten umfaßt und die radikalbildende Komponente eine oder mehrere Verbindungen, die unter aromatischen Ketonen, Benzoin, Benzoinethern, Diphenyl-2,4,6-trimethylbenzoylphosphinoxid, Bis(pentafluorphenyl)titanocen, Triazinen und Thioxanthonen in Kombination mit einer Quelle abspaltbaren Wasserstoffs ausgewählt sind, und eine oder mehrere Verbindungen aus der Gruppe bestehend aus 2-Methyl-1-[4-(methylthiophenyl)]-2-morpholinopropanon, 2-Benzyl-2-N,N-dimethylamino-1-(4- morpholinophenyl)-1-butanon und Benzophenon in Kombination mit einer oder mehreren Verbindungen aus der Gruppe bestehend aus 2-Isopropylthioxanthanon und 4,4'-Bisdiethylaminobenzophenon umfaßt.

18. Verfahren zur Herstellung eines bebilderten Gegenstands, umfassend

(A) Herstellen eines lichtempfindlichen Elements durch Ausbilden einer lichtempfindlichen Zusammensetzung auf einem Träger, wobei die lichtempfindliche Zusammensetzung umfaßt:

(c) Benzanthron in einer so großen Menge, daß die radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung unterhalb eines Schwellenwerts weitgehend verhindert wird, die freie radikalische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung bei Bestrahlung der lichtempfindlichen Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung oberhalb eines Schwellenwerts jedoch ablaufen kann; und

(d) mindestens ein lichtempfindliches Diazoniumpolymer;

(B) Bildweises Belichten des lichtempfindlichen Elements mit ultravioletter Strahlung, wodurch bildmäßig belichtete und unbelichtete Bereiche erzeugt werden und

(C) Entwicklen des lichtempfindlichen Elements durch Entfernen der unbelichteten Nichtbildbereiche mit einem flüssigen Entwickler.

19. Verfahren nach Anspruch 18, bei dem die radikalisch polymerisierbare Verbindung eine oder mehrere, unter Ethern, Estern und Teilestern der Acryl- und Methacrylsäure mit einem aromatischen oder aliphatischen Polyol ausgewählte Komponenten umfaßt und die radikalbildende Komponente einen oder mehrere Photoinitiatoren, die unter Verbindungen, die photolytisch Radikale bilden und eine Kohlenstoff-Carbonyl-Bindung aufweisen, die an einer derartigen Bindung unter Bildung von zwei Radikalen, von denen mindestens eines zur Photoinitiierung befähigt ist, gespalten werden können, ausgewählt sind, und Kombinationen von radikalbildenden Verbindungen mit Spektralsensibilisatoren umfaßt.

20. Verfahren nach Anspruch 18 oder 19, bei dem die radikalisch polymerisierbare Verbindung eine oder mehrere, unter acrylamidmodifizierten Celluloseacetatbutyratpolymeren und Pentaacrylatestern ausgewählte Komponenten umfaßt und die radikalbildende Komponente eine oder mehrere Verbindungen, die unter aromatischen Ketonen, Benzoin, Benzoinethern, Diphenyl-2,4,6-trimethylbenzoylphosphinoxid, Bis(pentafluorphenyl)- titanocen, Triazinen und Thioxanthonen in Kombination mit einer Quelle abspaltbaren Wasserstoffs ausgewählt sind, und eine oder mehrere Verbindungen aus der Gruppe bestehend aus 2-Methyl-1-[4-(methylthiophenyl)]-2-morpholinopropanon, 2-Benzyl-2-N,N-dimethylamino-1-(4- morpholinophenyl)-1-butanon und Benzophenon in Kombination mit einer oder mehreren Verbindungen aus der Gruppe bestehend aus 2-Isopropylthioxanthanon und 4,4'-Bisdiethylaminobenzophenon umfaßt.