DE2533925B2 - Verfahren zur Herstellung von feinstteiligen Oxiden von Metallen und/oder des Siliciums - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von feinstteiligen Oxiden von Metallen und/oder des SiliciumsInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung feinstteiliger Oxide von Metallen, z. B. Aluminium, Titan,
und/oder des Siliciums durch hydrolytische Umsetzung deren flüchtiger Chloride in einer Flamme, indem man
die Chloride im Gemisch mit unter Wasserbildung verbrennenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff einer
aus einem Brenner in einem Reaktionsraum abbrennenden Flamme zuführt und zur Umsetzung bringt,
dann das gebildete Oxidaerosol zusammen mit den Prozeßgasen ein nachfolgendes Kühlsystem durchlaufen
läßt und in einer Abscheidungsvorrichtung von den Prozeßgasen abtrennt, wobei die Freihaltung des
Prozeßgases von Chlor gewährleistet wird.
Nach bekannten Verfahren werden durch hydrolytische Verbrennung flüchtiger Metallhalogenid-Verbindungen
feinstteilige Oxide hergestellt, indem die flüchtigen Verbindungen zusammen mit Wasserdampf
bildenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff getrennt oder bereits in Mischung einem Brenner zugeführt werden.
Dabei werden Luft bzw. Sauerstoff und Wasserstoff in einem solchen Mengenverhältnis vermischt, daß sowohl
eine vollständige Verbrennung des Wasserstoffs als auch eine Hydrolyse der Halogenid-Verbindung
gewährleistet ist. Zur Herstellung besonders aktiver Produkte wird die Flammentemperatur durch Zugabe
überstöchiometrischen Luft- bzw. Sauerstoffmengen oder von Inertgasen, wie z. B. Stickstoff, gesteuert.
Die nedi diesen bekannten Verfahren gewonnenen
Produkte fallen zusammen mit Halogenwasserstoffgas enthaltenden Abgas an, welches in einem Abscheider
von den Oxidteilchen abgetrennt wird. Die Hydrolyse -> des Halogenids erfolgt z. B. bei Verwendung von SiCU
nach der Gleichung:
SiCl4 + 2 K2 + O2- SiO2 + 4 HCl.
In einer Nebenreaktion entsteht durch teilweise κι Oxydation von HCl mit überschüssigem O2 freies
Halogen nach der Gleichung:
4 HCI+ O2-2 CI2+ 2 H2O,
so daß das Reaktionsgas je nach Führung der
H Flammreaktion 6—10 Gewichtsprozent freies Chlor,
bezogen auf den HCl-Anteil, enthält
Das zwangläufig als Nebenprodukt anfallende Chlor muß durch zusätzlichen technischen Aufwand nach
Absorption des Chlorwasserstoffs aus dem Betriebsabgas entfernt werden. Dies erfolgt nach bekannten
Verfahren.
Infolge der Aufwendigkeit dieser Verfahren wurde auch schon versucht, die Bildung von Chlor während der
pyrolytischen Umsetzung zu beeinflussen. So ist es aus
r> der deutschen Patentschrift Nr. 12 10 421 bekannt, die Bildung von freiem Chlor dadurch zu vermeiden, daß die
Pyrolyse nicht in Gegenwart von Sekundärluft, sondern von einem Inertgas, z. B. Stickstoff, durchgeführt wird,
da das Verfahren mit einer sogenannten autarken
«ι Flamme arbeitet, d. h. die Flamme bereits alle für die
Reaktion notwendigen Komponenten homogen gemischt enthält. Aus der deutseien Patentschrift
Nr. 12 44 125 ist weiter bekannt, in Erweiterung vorgenannten Verfahren einen Teil des Reaklions-
ii abgases nach der Feststoff-Abscheidung abzuzweigen
und statt der sogenannten Sekundärluft dosiert in einen abgeschlossenen Brennraum einzuführen.
Nach diesem bekannten Verfahren kann zwar die Bildung von freiem Chlor weitgehend verhindert
4» werden, jedoch läßt sich die Umsetzung nur durch das
Abbrennen der Flamme innerhalb einer Inertgas-Atmosphäre bzw. in einer geschlossenen Brennkammer
durchführen.
Bei einem anderen bekannten Verfahren (DE-OS
Bei einem anderen bekannten Verfahren (DE-OS
v> 21 53 671) wird die Bildung von freiem Halogen durch »Umhüllen« der Flamme mit einem Wasserdampfmantel
verhindert, der entweder durch Eindüsen von Wasserdampf oder durch Abbrennen eines hohen
^-Überschusses hergestellt wird. Im letzten Falle ist
■-,ο weiterhin die Zumischung von Stickstoff erforderlich,
um entsprechende Produktqualitäten wie bei normaler, offener Fahrweise zu erreichen.
Dies bedeutet, daß man durch Manipulationen an der Flamme (im Reaktionsraum) gravierend in den Reak-
Y-, tionsablauf eingreift und zusätzliche Maßnahmen
ergreifen muß, um zu den üblichen Produktqualitäten zu gelangen.
Der Erfindung lag die Aufgabenstellung zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung feinstteiliger Oxide von
mi Metallen, z. B. Aluminium, Titan, und/oder des Siliciums
durch hydrolytische Umsetzung deren flüchtiger Chloride in einer Flamme anzugeben, indem man die
Chloride im Gemisch mit unter Wasserbildung verbrennenden
Gasen und Luft bzw. Sauerstoff einer aus einem
μ Brenner in einem Reaktionsraum abbrennenden Flamme
zuführt und zur Umsetzung bringt, dann das gebildete Oxidaerosol zusammen mit den Prozeßgasen
ein nachfolgendes Kühlsystem durchlaufen läßt und in
einer Abscheidungsvorrichtung von den Prozeßgasen
abtrennt, wobei ohne Eingriff in den Reaktionsablauf die Schwierigkeiten der Absorption des stark verdünnten,
elementaren Chlors aus den Reaktionsgasen vermieden werden.
Das Kennzeichnende der Erfindung ist darin zu sehen, daß während des Abkühlens des Reaktionsgases
unterhalb der Reaktionstemperatur von Wasserstoff mit dem im Reaktionsgas enthaltenen Sauerstoff das bei
der Flammenreaktion gebildete Chlor mittels eingeführtem Wasserstoff reduziert wird.
Dies kann erreicht werden durch einfache oder mehrfache Einführung von Wasserstoff in das ca. 5000C
heiße Reaktionsgas, ein Temperaturniveau, das bei der Abkühlung der Reaktionsprodukte ohnehin durchlaufen
wird. Bei der Einleitung des Wasserstoffs wird für eine gute Durchniischung mit bekannten Mitteln gesorgt,
z. B. durch Einbau eines Formkörpers.
Eine andere Variante des Verfahrens besteht darin, daß vor oder nach der Abscheidung der festen
Reaktionsprodukte unter Einsatz von energiereichem Licht oder Katalysatoren das Chlor, jedoch nicht der
gleichzeitig im Reaktionsgas anwesende Sauerstoff zur Reaktion mit Wasserstoff gebracht wird.
Der bei dieser Reaktion gebildete Chlorwasserstoff wird zusammen mit dem bei der Flammenhydrolyse
gebildeten Chlorwasserstoff nach bekannten Verfahren absorbiert und als konzentrierte Salzsäure gewonnen.
Neben dem Vorteil dieses neuen Verfahrens, wonach die Flammenreaktion ungestört ablaufen kann, ist noch
die bessere Wirtschaftlichkeit hervorzuheben. Wie im Beispiel beschrieben, werden weder Zusatz-Stickstoff
20 noch -Wasserdampf und darüber hinaus nur geringe
Mengen an zusätzlichem Wasserstoff benötigt. Weiterhin bleibt die Anlagenkapazität der normalen Betriebsweise
erhalten, da die Apparatur mit keinem zusätzliehern Gasbailast beaufschlagt werden muß, wie es bei
den bekannten Verfahren geschieht.
2000 kg SiCI4, 648NmVh Wasserstoff und
1900NmVh Luft wurden dem AEROSOL-Brenner zugeführt, sowie 22 NmVh Wasserstoff über den Mantel
zur Freihaltung des Brennermundes (»normale« Betriebsweise), wobei 705 kg/h feinstteilige Kieselsäure
mit einer spez. Oberfläche von 200 m2/g erhalten wurden. 7,5% des zu erwartenden Chlorwasserstoffs
wurden als freies Chlor in den Reaktionsgasen gefunden.
70 NmVh Wasserstoff wurden in das auf 510° C
abgekühlte Reaktionsgas eingeleitet. Die Menge an freiem Chlor wurde dadurch auf 0,07%, bezogen auf den
Chlorwasserstoffanteil, gesenkt.
In der Tabelle sind die Einslellwerte für normale Betriebsweise, für das bekannte Verfahren nach der
DE-OS 2153671 sowie für die erfindungsgemäße Ausführung zusammengestellt. Es ist zu ersehen, daß mit
einem sehr geringen Aufwand an Einsatzstoffen nach dem neuen Verfahren gearbeitet werden kann.
In analoge: Weise kann die Herstellung von feinstteiligen Oxiden des Aluminiums oder Titans sowie
deren Mischoxide mit Siliciumdioxid durch gleichzeitige Umsetzung der Chloride des Aluminiums oder Titans
mit Siliciumtetrachlorid erfolgen.
Wasserslolfbedarf für Chlorfrci-Vcrlahrcn (Angaben H2 100%-ig)
Verfahren zur Herstellung von
fcinslsleiligcm Siliciumdioxid
fcinslsleiligcm Siliciumdioxid
NnvVh
Wasserstoff
im llrcnngas-
im llrcnngas-
Manlel-Hi /ur Frcihiillung
des Hrennermundes Zusalz-Wasscrstoft"
Gcsaml-WiisscrslolT
Stickstoff
Normal-Verfahren
(I)E-PS 9 74 793
US-PS 2990 249
US-PS 30 86 851
US-PS 3006 738)
US-PS 2990 249
US-PS 30 86 851
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Chlorfrci-Vcrlahrcn
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648
22
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648
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22
22
70
903
740
740
718
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung feinstteiliger Oxide von Metallen und/oder des Siliciums durch hydrolytische
Umsetzung deren flüchtiger Chloride in einer Flamme, indem man die Chloride im Gemisch
mit unter Wasserbildung verbrennenden Gasen und Luft bzw. Sauerstoff einer aus einem Brenner in
einem Reaktionsraum abbrennenden Flamme zuführt und zur Umsetzung bringt, dann das gebildete
Oxidaerosol zusammen mit den Prozeßgasen ein nachfolgendes Kühlsystem durchlaufen läßt und in
einer Abscheidungsvorrichtung von den Prozeßgasen abtrennt, unter Freihaltung des Prozeßgases
von Chlor, dadurch gekennzeichnet, daß während des Abkühlens des Reaktionsgases unterhalb
der Reaktionstemperatur von Wasserstoff mit dem im Reaktionsgas enthaltenen Sauerstoff das bei
der Flammenreaktion gebildete Chlor mittels eingeführtem Wasserstoff reduziert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reduzierung des Chlors durch
einfache oder mehrfache Einführung von Wasserstoff in das auf einem Temperaturniveau im Bereich
von 5000C liegende Reaktionsgas vorgenommen wird.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchmischung der Reaktionsgase
im Kühlsystem mittels eingebrachter Formkörper vorgenommen wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß vor oder nach der Abscheidung der
festen Reaktionsprodukte unter Einsatz von energiereichem Licht (UV-Licht) oder Katalysatoren
das Chlor mit Wasserstoff zur Reaktion gebracht wird.
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| US4710369A (en) * | 1986-06-10 | 1987-12-01 | Toth Aluminum Corporation | Oxidation method for production of special aluminas from pure aluminum chloride |
| US5123836A (en) * | 1988-07-29 | 1992-06-23 | Chiyoda Corporation | Method for the combustion treatment of toxic gas-containing waste gas |
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