[go: up one dir, main page]

DE2241462A1 - Verfahren zum rueckgewinnen einer kupfer(ii)-chlorid enthaltenden aetzloesung - Google Patents

Verfahren zum rueckgewinnen einer kupfer(ii)-chlorid enthaltenden aetzloesung

Info

Publication number
DE2241462A1
DE2241462A1 DE2241462A DE2241462A DE2241462A1 DE 2241462 A1 DE2241462 A1 DE 2241462A1 DE 2241462 A DE2241462 A DE 2241462A DE 2241462 A DE2241462 A DE 2241462A DE 2241462 A1 DE2241462 A1 DE 2241462A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
copper
chloride
etching
oxygen
hydrochloric acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE2241462A
Other languages
English (en)
Inventor
Werner Plappert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bach and Co GmbH
Original Assignee
Bach and Co GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bach and Co GmbH filed Critical Bach and Co GmbH
Priority to DE2241462A priority Critical patent/DE2241462A1/de
Publication of DE2241462A1 publication Critical patent/DE2241462A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J49/00Regeneration or reactivation of ion-exchangers; Apparatus therefor
    • B01J49/05Regeneration or reactivation of ion-exchangers; Apparatus therefor of fixed beds
    • B01J49/06Regeneration or reactivation of ion-exchangers; Apparatus therefor of fixed beds containing cationic exchangers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

  • Verfahren zu Rückgewinnen einer Kupfer(II)-chlorid enthaltenden Ätzlösung Die-Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Rückgewinnen einer Kupfer(II)-chlorid enthaltenden Ätzlösung, welche zum Ätzen von Kupfer oder Kupferlegierungen, beispielsweise bei der IIerstellung von gedruckten Schaltungen aus kupferbeschichteten isolierstoffplatten vorgesehen ist, bei dem die während des ';tzens entstehende Kupfer(I)-chloridlösung dem htzraum entnommen und in einem P.egenerierungsraum mittels Salzsäure und Sauerstoff zu einer Kupfer (11)-chioridlösung oxidiert wird, bei dem ferner die eine Hälfte der oxidierten Kupfer (11 )-chloridlosung dem Ätzraum wieder zugeführt und die andere Hälfte zur Gewinnung der für die Oxidation der Kupfer(I)-chloridlösung benötigten Salzsäure- und Sauerstoffanteile herangezogen wird.
  • Zum Ätzen von gedruckten Schaltungen aus kupferbeschichteten Isolierstoffplatten ist es bekannt (DDR-Patentschrift 45 299), eine Eisen(III)-chlorid enthaltende Ätzlösung zu verwenden, welche das metallische Kupfer in Kupfer(II)-chlorid unter gleichzeitigem Übergang in Eisen(II)-chlorid umwandelt. Die verbrauchte, kupfer(II)-chloridhaltige Ätzlösung wird zur Rückgewinnung vori unfer und Eisen(III)-chlorid-Ätzlösung elektrolysiert, wobei die Kathode der Elektrolysevorrichtung durch ein Diaphragma von der Anodenraum getrennt werden muß, um das an der Anode gebildete Eisen-(III)-chlorid daran zu hindern, das an der Kathode abgeschiedene Kupfer wieder aufzulösen. Da indessen das verbrauchte Ätzmittel noch einen erheblichen Anteil an Eisen(III)-chlorid enthält, ist es entweder erforderlich, die Kathode als endlo.Jes Band oder als Scheibe auszubilden, dessen bzw. deren eingetauchter Teil nach Austritt aus der verbrauchten ätzlösung von dem Kupferniederschlag befreit wird, oder die vollständige Erschöpfung ?cr itzlösung abzuwarten. Die erste möglichkeit bedingt jedoch einen erheblichen mechanischen, störungsanfälligen Aufwand, während die zweite Möglichkeit die ätzgeschwindigkeit in unerwünschter Weise herabsetzt.
  • Es ist ferner bekannt (DT-AS 1 223 653), an Stelle einer isen-(III)-chloridlösung eine Kupfer(II)-chloridlösung zum Ätzen von kupferbeschichteten Isolierstoffplatten zu verwenden, wobei eine Umsetzung gemäß der Gleichung Cu + CuCl2 2 CuCl stattfindet. Zur Rückgewinnung von Kupfer und Kupfer(II)-chlorid-Ätzlösung wird bei dem bekannten Verfahren gleichfalls die verbrauchte Ätzlösung elektrolysiert und der Kathodenraum durch ein Diaphragma vom Anodenraum getrennt, um die Auflösung des an der Kathode niedergeschlagen Kupfers durch das an der Anode entstehende Kupfer(II)-chlorid zu vermeiden. Da indessen die verbrauchte Ätzlösung in ähnlicher Weise wie bei dem vorstehend erwähnten Verfahren noch einen gewissen Anteil an Kupfer(I1)-chlorid enthält, ist es auch bei dem bekannten Verfahren erforderlich, die Kathode als endloses Band auszubilden, dem der bereits erwähnte Nachteil eines verhältnismäßig hohen und zudem noch störungsanfälligen mechanischen Aufwandes anhaftet.
  • Lin ähnliches Regenerierverfahren wie das vorstehend erwähnte Verfahren ist ferner durch die DU-AS 1 268 468 bekannt, bei dem zur Vermeidung eines Diaphragmas mit eine Uberschuß an Chlorionen in der zu regenerierenden Ätzlösung gearbeitet wird. Es ist indessen auch bei diesem Verfahren erforderlich, die Kathode kontinuierlich durch die zu regenerierende Ätzlösung hindurch zu bewegen und das darauf niedergeschlagene Kupfer mechanisch oder elektrolytisch zu entfernen. Die vorstehend genannten Nachteile haften daher auch diesem bekannten Verfahren an.
  • Es ist weiterhin bekannt ( DT-AS 2 008 766), zum Regenerieren einer beim Ätzen von Kupfer mit salzsaurer Kupfer(II)-chloridlösung diese mit Sauerstoff zu versetzen, wodurch gemäß der Gleichung 2 CuCl + 2 HC1 + 1/2 O2 2 CuC12 + H20 aus zwei bei der Ätzung von Kupfer mit einem Gewichtsanteil Kupfer-(TI)-chlorid anfallenden Gewichtsanteilen Kupfer(I)-chlorid zwei Gewichtsanteile Kupfer(II)-chlorid gebildet werden. Der uerschüssige .Gewichtsanteil von 1 Mol wässerigem Kupfer(II)-chlorid wird bei dem bekannten Verfahren durch Elektrolyse in Kupfer, Sauerstoff und Salzsäure zerlegt, wobei die gebildete Salzsäure zusammen mit dem nicht elektrolysierten Kupfer(II)-chlorid dem Ätzraum und der gebildete Sauerstoff dem Regenerierungsraum zugeführt werden. Das bekannte Verfahren. besitzt jedoch ebenfalls die Nachteile einer durchlaufenden Kathode, da das zu elektrolysierende hochkonzentrierte KupSer(II)-chlorid den Kupferniederschiag an der Kathode stark angreift.Weiterhin ist an dem bekannten Verfahren nachteilig, daß bei der ätzung mit salzsaurem Kupfer(II)-chlorid gigtige Salzsäuredämpfe entstehen, die aus dem Ätzraum abgesaugt und in Wasser aufgelöst werden müssen, wodurch laufend umweltschädigende Verfahrensprodukte anfallen.
  • Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zu schaffen, welches eine Regenerierung von Kupfer(II)-Chloridlösung in einem völlig geschlossenen Kreislauf ohne Anfall von giftigen Verfahrensrückständen sowie eine einfache Kupfer-Rückgewinnung ohne durchlaufende Kathode ermöglicht.
  • Die Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangsgenannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daS zur Gewinnung der Salzsäure- und Sauerstoffanteile folgende Verfahrensschritte vorgesehen sind: a) die andere Hälfte der oxidierten Kupfer(II)-chloridlösung wird einem Kationentauscher zugeführt und dort unter Bildung von Salzsäure gemäß der Gleichung CuCl2 + CuX + 2HC1 entkupfert, wobei X ein zweiwertiger organischer Stoff ist, b) die in dem Kationentauscher entstehende Salzsäure wird in den Regenerierungsraum zurückgeleitet, c) die in dem Kationentauscher entstehende Verbindung CuX wird mit Schwefelsäure zu der für die Entkupferung wieder verwendbaren Verbindung Il2X gemäß der Gleichung CuX + H2SO4 H2X + CuSO4 umgewandelt, d) die bei der Umwandlung der Verbindung CuX entstehende Kupfersulfatlösung wird einem Elektrolyseraum zugeführt und dort gemäß der Gleichung CuSo4 + H2O + Energie Cu + 112504 + 1/2 02 in Kupfer, Schwefelsäure und Sauerstoff zerlegt und e) die bei der Dlektrolyse der Kupfersulfatlösung entstehende Schwefelsäure wird in den Kationentauscher und der entstehende Sauerstoff wird in den Regenerierungsraum zurückgelcitet.
  • In Ausgestaltung der Erfindung wird vorgeschlagen, daß als organischer Stoff X Polystyrol oder Polyacrylate mit SulSosäure - oder Carboxylgruppen vorgesehen sind.
  • Die Erfindung wird mit ihren Vorteilen und weiteren Einzelheiten an Hand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert; die Figur zeigt dabei eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens in schematischer Darstellung.
  • In den Ätzraum 1 werden mit Kupferfolie beschichtete Isolierstoffplatten 2 mit einer Kupfer(II)-chloridlösung besprüht, wodurch die nicht maskierten Teile der Kupferfolie weggeätzt werden. Es findet dabei eine chemische Reaktion gemäß der Gleichung Cu + CuCl2 2 CuCl ........ (1) statt.
  • Die zum Ätzen benötigte Menge an Kupfer(II)-chlorid wird aus dem Regenerierungsraum 3 mittels der Fördervorrichtung 4 über die Rohrleitung 5 in den Ätzraum 1 gepumpt, wo die Ätzlösung durch nicht näher dargestellte Düsen in dem endständigen Rohrleitungsabschnitt austritt. Der Regenerierungsraum 3 wird von dem htzraum 1 über die Rohrleitung 6 mit der bei der Ätzung anfallenden Kupfer(I)-chloridlösung gespeist, welche als Ausgangsprodukt für die Rückgewinnung der Ätzlösung dient. Hierzun wird der Re6enerierungsraum 3 uber die Rohrleitung 7 mit Salzsäure und über die Rohrleitung 8 mit Sauerstoff beschickt, wodurch die Kupfer(I)-chloridlösung zu Kupfer(I)-chlorid und Wasser gemäß der Gleichung 2 CuCl + 2 HCl + 1/2 °2 2 CuCl2 + 1120 ... (2) umgesetzt wird.
  • Aus den Gleichungen (1) und (2) ergibt sich, daß bei der Ätzung von Kupfer mit 1 Mol Kupfer(II)-chlorid 2 Mol Kupfer(I)-chlori,d und damit bei der anschließenden Regenerierung auch 2 Mol Kupfer(II)-chlorid entstehen. Da für die Wiederverwendung der regenerierten Kupfer(II)-chloridlösung zu Ätzen nur die Hälfte, d.h., 1 Mol benötigt wird, muß die andere Hälfte der regenerierten Kupfer(II)-chloridlösung periodisch oder intervaliweise aus den Regenerierungsraum 3 entfernt werden.
  • Erfindungsgemäß wird die nicht zum ;tzen benötigte andere Hälfte der regenerierten Kupfer(II)-chloridlösung zur Gewinnung der für die Regenerierung erforderlichen Salzsäure-und Sauerstoffanteile herangezogen. Hierfür wird die erwähnte andere Hälfte der regenerierten I;unfer(LI )-chlaridlosung mittels der Fördervorrichtung 9 über die Rchrleitung 10 aus dem Regenerierungsraum 3 angepumpt. Die Fördervorrichtungen 4 und 9 sind so ausgebildet, daß sie in gleichen Zeiträumen gleiche Mengen an Kupfer(II)-chloridlösung fördern, wodurch sichergestelle ist, daß die eine Hälfte der regenerierten Kupfer(II)-chloridlösung den sitzraum 1 und die andere Hälfte den an die Rohrleitung 9 angeschlossenen Kationentauscher 11 zur Entkupferung zugeführt werden.
  • Der Kationentauscher 11 ist als drehbare Trommel ausgeblldet, welche in zwei Kammern 11 a und 11 b unterteilt ist. In den beiden Kammern befindet sich ein granulierter organischer Stoff, beispielsweise Polystyrol oder ein Polyacrylat, mit Sulfosäure- oder Carboxylgruppen, weller in der einen Kammer unverbraucht, d.h., an Wasserstoff gebunden ist.
  • Bei der Einleitung von Kupfer(II)-chloridlösung in die mit unverbrauchtem Polystyrol od.dgl. gefüllte. Kammer (im dargestellten Beispielsfall die Kammer-lla) erfolgt die Umsetzung (Entkupferung) von Kupfer(II)-.chlorid zu Salz-Säure gemäß der Gleichung CuCl2 + CuX + 2 HCl ... (3), wobei X das Symbol für den organischen Stoff ist, welcher an Wasserstoff (H2X) oder an Kupfer (CuX) gebunden ist.
  • Die bei der Umoetzung von 1 Mol Kupfer(II)-chlorid entstehenden 2 Mol Salzsäure werden über die bereits erwähnte Rohrleitung 7 dem Regenerierungsraum 3 zugeführt, wo sie den zum Regenerieren von 2 Mol Kupfer(I)-chlorid gelaß' Gleichung (2) erforderlichen Salzsäurebedarf exakt decken. Weiterhin wird das verbrauchte, an Kupfer angelagert. Kunstharz durch Drehung der Kationentauschertrommel um 180° einer Schwefelsäurelösung ausgesetzt. velche über die Rohrleitung 12 der nit den verbrauchten Kunstharz gefüllten Kammer (im dargesatellten Beispielsfall die Kammer 11b) zugeführt wird. Bei der Reaktion des verbrauchten Kunststharzes mit Schwefelsäure erfolgt eine Regenorierung des Kunstharzes unter Bildung von Kupfersulfat genäß der Gleichung CuX + H2O4 H2X + CuSO4 ... (4).
  • Das regenerierte an Wasserstoff gebundene Kunstharz steht nach erneuter Drehung der Kationentauschertronnel um 1800 zur erneuten Entkupferung zur Verfügung, während die bei der Reaktion gemäß Gleichung (4) entzstandene Kupfersulfatlösung über die Rohrleitung 13 in den Elektrolyseraum 14 eingeleitet wird.
  • In den Elektrolyseraum 14 wird die Kupfersulfatlösung in bekannter Weise in Kupfer, Schwefelsäure und Sauerstoff gemäß der Gleichung CuSO4 + H2O * Energie Cu + H2SO4 + 1/2 O2 ... (5) zerlegt-. Das bei der Elektrolyse von 1 Mol Kupfersulfat entstehende halbe Mol sauerstoff strönt über die bereits erwähnte Rohrleitung g in den Regenerierungsraum 31 WO es der zur wegenerieren von 2 Mol Kupfer(I)-chlorid gemäß Gleichung (2) erforderlichen Sauerstoffbedarf exakt deckt. Weiterhin wird d bei der Elektrolyse von 1 ol Kupfersulfat entstehende eine Mol Schwefewlsäure mittels der Fördereinrichtung 15 über die bereits erwähnte Rohrleitung 12 in die mit verbrauchtem Kunstharz gefüllte Kammer 11a bzw. 11b (im dargestellten Beispielsfall die Kammer 11b) gepumpt, wodurch der zur Regenerieurung des Kunstharzes erforderliche Schwefelsnurebedarf ebenfalls exakt gedeckt wird, Das vorstehend beschriebene erfindungsgemäße Verfahren bildet, wiem aus der nachstehenden Zusammenstellung der Gleichungen (1) bis (5) hervorgeht, einen in sich geschlossenen Kreislauf, zu dessen Aufrechterhaltung lediglich Energie zur Elektrolysierung und Förderung der einzelnen Lösungen erfoerderlich ist.
    (1) Cu + Cuci2 > 2 CuCl
    (2) 2 CuCl + 2 HCl + 1/2 02 -2 CuCl2 + H20
    (3) CuC12 + 112X zu CuX + 2 EC1
    (4) CuX + H2504 zu H2X + CuSO4
    (5) CuS04 + H20 + Energie > Cu + H2504 + 1/2 O2
    -r L L L
    Energie
    Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht somit eine völlig abfallfreie Bogenerierung der Ätzlösung für Kupfer sowie eine einfache Rückgewinnung des weggeätzten Kupfers ohne durchlaufende Kathode, so daß neben einem wirtschaftlich außerordentlich günstigen Betrieb jegliche Bezeitigung von unerwünschten, insbesondere giftigen Verfahrenrückständen entfällt.
  • Die Konzentration der verwendeten Salz- und Schwefelsäure beträgt zwischen etwa 50 und 250 g/l vorzugsweise etwa 110 g/l.
  • -Patentansprüche-

Claims (1)

  1. P a t e n t a n s p r ü c h e 1. Verfahren zum Rückgewinnen einer Kupfer(II)-chlorid enthaltenden Ätzlösung, welche zum Ätzen von Kupfer oder Kupferegierungen, beispielsweise bei der Herstellung von gedruckten Schaltungen aus kupferbeschichteten Isolierstoffplatten vorgesehen ist, bei dem die während des Ätzens entstehenden Kupfer(I)-chloridlösung dem Ätzraum entnommen und in einem Regenerierungsraum mittels Salzsäure und Sauerstoff zu einer Kupfer(II)-chloridlösung oxidiert wird, bei dem ferner die eine Hälfte der oxidierten Kupfer-(II)-chloridlösung dem Ätzraum wieder zugeführt und die andere Hälfte zur Gewinnung der für die Oxidation der Kupfer (1 )-chloridlösung benotigten Salzsäure und Sauerstoffanteile herangezogen wird, d a d u r c k g e k e n nz e i c h n e t , daß zur Gewinnung der Salzsäure- und Sauerstoffanteile folgende Verfahrensschritte vorgesehen sind : a) die andere Hälfte der oxidierten Kupfer(II)-chloridlösung wird einem Kationentauscher zugeführt und dort unter Bildung von Salzsäure gemäß der Gleichung CuCl2 + 2 s entkupfert, wobei I ein zweiwertiger organischer Stoff ist, b) die in dem Kationentauscher entstehende Salzsäure wird in den Regenerierungsraum zurückgeleitet, c) die in dem Kationentauscher entstehende Verbindung CuX wird mit Schwefelsäure zu der für die Entkupplung wieder vertendbaren Verbindung H2X gemäß der Gleichung CuX + Il2S04 H2X + CuSO4 umgewandelt, d) die bei der Umwandlung der Verbindung CuX entstehende Kupfersulfatlösung wird einem Elektrolyseraum zugeführt und dort gemaß der Gleichung CuSOJ+ + 1120 + Energie Cu + H2504 + 1/2 02 in Kupfer, Schwefelsäure und Sauerstoff zerlegt und e) die bei der Elektrolyse der Kupfersulfatlösung entstehende Schwefelsäure wird in den Kationentauscher und der entstehende Sauerstoff wird in den Regenerierungsraum zurückgeleitet 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als organischer Stoff X ein Kunstharz, beispielsweise Epoxiharz vorgesehen ist.
    3. Verfahren nach Anspruch 2 gekennzeichnet durch Polystyrol als kunstharz.
    4. Verfahren nach Anspruch 2. gekennzeichnet durch ein Polyacrylat mit Sulfonsäure- oder Carboxylgruppen als Kunstharz.
    5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4 gekennzeichnet durch eine Konzentration zwischen etwa 50 und 250 g/l vorzugsweise etwa 110 g/l, für die Salzsäure und die Schwefelsäure.
    L e e r s e i t e
DE2241462A 1972-08-23 1972-08-23 Verfahren zum rueckgewinnen einer kupfer(ii)-chlorid enthaltenden aetzloesung Pending DE2241462A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2241462A DE2241462A1 (de) 1972-08-23 1972-08-23 Verfahren zum rueckgewinnen einer kupfer(ii)-chlorid enthaltenden aetzloesung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2241462A DE2241462A1 (de) 1972-08-23 1972-08-23 Verfahren zum rueckgewinnen einer kupfer(ii)-chlorid enthaltenden aetzloesung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2241462A1 true DE2241462A1 (de) 1974-03-07

Family

ID=5854332

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2241462A Pending DE2241462A1 (de) 1972-08-23 1972-08-23 Verfahren zum rueckgewinnen einer kupfer(ii)-chlorid enthaltenden aetzloesung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2241462A1 (de)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0018848A1 (de) * 1979-05-08 1980-11-12 The Electricity Council Verfahren und Vorrichtung für die elektrolytische Regenerierung von Metallbeizen
EP0141905A1 (de) * 1983-08-23 1985-05-22 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur elektrochemischen Kompensation der Luftoxidation bei der elektrochemischen Regenerierung von chloridhaltigen Kupferätzlösungen
DE3345050A1 (de) * 1983-12-13 1985-06-20 Walter 7758 Meersburg Holzer Verfahren zum umweltfreundlichen aetzen von leiterplatten und vorrichtung zur ausuebung des arbeitsverfahrens
EP0304687A3 (de) * 1987-08-28 1990-03-21 International Business Machines Corporation Verfahren zur Regeneration einer sauren Lösung
WO1991014800A1 (de) * 1990-03-29 1991-10-03 Hans Höllmüller Maschinenbau GmbH & Co. Vorrichtung zur elektrolytischen regeneration eines chlorid- und metallionen enthaltenden ätzmittels
EP0458119A1 (de) * 1990-05-24 1991-11-27 Gütling Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Abtrennung von Kupfer, insbesondere aus CUC12-ÄtzlÀ¶sungen
EP1251920A4 (de) * 2000-01-03 2006-05-17 Hydromatix Inc Verfahren und vorrichtung zur metallentfernung durch ionenaustausch
CN102795654A (zh) * 2012-09-12 2012-11-28 冯云香 一种从电路板削挂废液中回收硝酸及五水硫酸铜的方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0018848A1 (de) * 1979-05-08 1980-11-12 The Electricity Council Verfahren und Vorrichtung für die elektrolytische Regenerierung von Metallbeizen
US4468305A (en) * 1979-05-08 1984-08-28 The Electricity Council Method for the electrolytic regeneration of etchants for metals
EP0141905A1 (de) * 1983-08-23 1985-05-22 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur elektrochemischen Kompensation der Luftoxidation bei der elektrochemischen Regenerierung von chloridhaltigen Kupferätzlösungen
DE3345050A1 (de) * 1983-12-13 1985-06-20 Walter 7758 Meersburg Holzer Verfahren zum umweltfreundlichen aetzen von leiterplatten und vorrichtung zur ausuebung des arbeitsverfahrens
EP0304687A3 (de) * 1987-08-28 1990-03-21 International Business Machines Corporation Verfahren zur Regeneration einer sauren Lösung
US5013395A (en) * 1987-08-28 1991-05-07 International Business Machines Corporation Continuous regeneration of acid solution
WO1991014800A1 (de) * 1990-03-29 1991-10-03 Hans Höllmüller Maschinenbau GmbH & Co. Vorrichtung zur elektrolytischen regeneration eines chlorid- und metallionen enthaltenden ätzmittels
EP0458119A1 (de) * 1990-05-24 1991-11-27 Gütling Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Abtrennung von Kupfer, insbesondere aus CUC12-ÄtzlÀ¶sungen
EP1251920A4 (de) * 2000-01-03 2006-05-17 Hydromatix Inc Verfahren und vorrichtung zur metallentfernung durch ionenaustausch
CN102795654A (zh) * 2012-09-12 2012-11-28 冯云香 一种从电路板削挂废液中回收硝酸及五水硫酸铜的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19880534C2 (de) Verfahren zum Reinigen von Edelmetall
DE60002838T2 (de) Verfahren zur rückgewinnung von zinn, zinnlegierungen oder bleilegierungen aus leiterplatten
DE2850564C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren einer Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid enthaltenden Ätzlösung in einer Elektrolysezelle
DE10392375T5 (de) Abtrennverfahren für Elemente der Platingruppe
DE69219063T2 (de) Verfahren zum Regenerieren von Ätzmitteln
DE2850542C2 (de) Verfahren zum Ätzen von Oberflächen aus Kupfer oder Kupferlegierungen
DE2241462A1 (de) Verfahren zum rueckgewinnen einer kupfer(ii)-chlorid enthaltenden aetzloesung
DE3732177C2 (de) Verfahren zur Rückgewinnung von Metallen aus Metall-Kunststoffabfällen und dergleichen
EP0138801B1 (de) Elektrolytisches Silberraffinationsverfahren
DE4243698C1 (de) Elektrolytisches Verfahren zum Lösen von Platin, Platinmetallverunreinigungen und/oder Platinmetallegierungen
DE2641905C2 (de) Verfahren zur Regenerierung verbrauchter Ätzlösungen
DE1171919B (de) Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Bleitetraalkylen
DE3438644C2 (de)
DE69310811T2 (de) Verfahren und Einrichtung zur Behandlung von Kupferchlorid enthaltender Ätzlösung
DE19829274C2 (de) Verfahren zur Rückgewinnung von Edelmetallen
DE2214479B2 (de) Verfahren zur Abtrennung und Rückgewinnung von Quecksilber bei der Chloralkali-Elektrolyse in Elektrolysezellen mit fließender Quecksilberelektrodenschicht
DE2603874A1 (de) Verfahren zur entfernung von arsen aus einer arsen zusammen mit kupfer enthaltenden loesung
WO1996041902A1 (de) Verfahren zur aufarbeitung ammoniakalischer metallösungen
DE2623658A1 (de) Verfahren zur gewinnung von kupfer (ii)-sulfat aus kupfersalzhaltigen aetzloesungen
DE2219095A1 (de) Verfahren zur Reinigung von Abwässern
DE2025211A1 (en) Selective anodic recovery of silver - from scrap by electro - -deposition from aq soln
DE102015110179B3 (de) Verfahren zur Behandlung von festem Ausgangsmaterial
DE71783C (de) Verfahren zur Darstellung von Barium- und Strontiumhydroxyd mittelst Elektrolyse
DE1793505C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Dimethylsulfoxid
DE2401318C3 (de) Verfahren zur Behandlung von kupferhaltigen Materialien