DE2850564C2 - Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren einer Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid enthaltenden Ätzlösung in einer Elektrolysezelle - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren einer Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid enthaltenden Ätzlösung in einer ElektrolysezelleInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Regenerieren einer beim chemischen Bearbeiten metallischer
Oberflächen verwendeten Ätzlösung, die Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid enthält, in
einer zwischen Anode und Kathode ein Diaphragma oder eine Ionenaustauschermembran aufweisenden
Elektrolysezelle, die von der Ätzlösung zur anodischen Oxidation der bei der Ätzung der metallischen
Oberfläche gebildeten Kupfer(I)- und/oder Eisen(II)-Ionen durchströmt wird, sowie auf eine Vorrichtung zur
Durchführung des Verfahrens.
Kupfer(Il)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid sind als Oxidationsmittel in Ätzlösungen zur Bearbeitung
metallischer Oberflächen bekannt. Sie werden zur Herstellung von Leiterplatten oder gedruckten Schaltungen
eingesetzt, wobei von Kunststoffplatten, die ein- oder doppelseitig kupferkaschiert sind, nach Abdecken
der die Schaltung bildenden Flächen mit einer Schutzschicht der übrige Teil der Kupferkaschierung
abzuätzen ist. Auch zur Ausbildung des Oberflächenreliefs von Druckereiwalzen werden die Ätzlösungen
verwendet. Neben Oberflächen aus Kupfer oder Kupferlegierungen werden auch Stahl oder Hartmetalle
geätzt.
Um die Verfahren wirtschaftlich zu gestalten, werden die verbrauchten Ätzlösungen regeneriert und wieder
aufgearbeitet, vergleiche Bruch et al, »Leiterplatten«, Leuze Verlag, Saulgau, 1978. Dabei wird insbesondere
bei der Ätzung von Kupfer angestrebt, das in der Ätzlösung enthaltene Kupfer zurückzugewinnen.
Für eine kontinuierliche Wiederaufarbeitung der Ätzlösung sind elektrochemische Verfahren geeignet,
wobei die Ätzlösung in eine Elektrolysezelle eingeführt wird, an deren Anode das zur Ätzung dienende
Oxidationsmittel regeneriert wird. Wird Eisen(III)-Chlorid als Ätzmittel verwendet, so wird das beim Ätzen
gebildete Eisen(II)-Chiorid zu Eisen(lll)-Chlorid oxidiert
In gleicher Weise lassen sich Ätzlösungen, die Kupfer(II)-Chlorid als Oxidationsmittel enthalten, regenerieren.
Das nach Abtragen der Kupferoberfläche in der Elektrolytlösung enthaltene Kupfer(I)-Chlorid wird
an der Anode der Elektrolysezelle wieder in Kupfer(II)-Chlorid überführt. Nachteilig ist dabei jedoch die
Chlorentwicklung an der Anode, die zu erheblicher Belastung der Umwelt und zum Verbrauch des
Oxidationsmittels führt.
Zur Verhinderung der Chlorgasentwicklung ist es aus DE-OS 25 37 757 bekannt, eine Kupferchlorid als
Oxidationsmittel enthaltende Ätzlösung durch Einleiten in einen Kathodenraum einer Elektrolysezelle unter
Zugabe von Salzsäure und Wasserstoffperoxid zu regenerieren, wobei der Anodenraum der Elektrolysezelle
durch ein Diaphragma vom Kathodenraum getrennt ist. Der Anodenraum enthält eine Natriumhydroxidlösung.
Das Natriumhydroxid dient zur Aufnahme des sich an der Anode bei der Regeneration der
Ätzlösung entwickelnden Chlors. Es reagiert mit dem Natriumhydroxid unter Bildung von Natriumhypochlorid.
Nachteilig ist bei diesem Verfahren der hohe Verbrauch an Chemikalien. Neben Natriumhydroxid
muß auch Salzsäure und Wasserstoffperoxid zugesetzt werden, um die Ätzbedingungen in der Ätzkammer
konstant zu halten. Nachteilig ist darüber hinaus die toxische Wirkung des im .Anodenraum gebildeten
Natriumhypochlorits, dessen Verarbeitung aufwendig ist.
Ein weiteres Verfahren zur Regeneration einer Kupfer(III)-Chlorid als Oxidationsmittel enthaltenden
Ätzlösung in einer Elektrolysezelle wird in der DE-OS 26 50 912 beschrieben. Um die Chlorgasbildung an der
Anode zu vermeiden, werden sowohl der Kupfergehalt der zu regenerierenden Ätzlösung als auch das
Verhältnis von Kupfer(l)- zu Kupfer(II)-Ionen auf enge Bereiche begrenzt. Auch sind hohe Stromdichten in der
Elektrolysezelle erforderlich. Neben einer aufwendigen Regelung zur Einstellung der vorgegebenen Konzentrationsgrenzen
ist infolgedessen auch das Abscheiden des abgeätzten Kupfers an der Kathode der Elektrolysezelle
erschwert. Es bilden sich im wesentlichen schlammige Niederschläge.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Ätzlösung durch Einführen in eine Elektrolysezelle unter Vermeidung
der Entwicklung von Chlor in der Weise zu regenerieren, daß keine die Umwelt belastenden, toxisch
wirkenden Stoffe entstehen und das Verfahren in einfacher Weise zu handhaben ist.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung bei dem Verfahren der oben genannten Art durch die in
Patentanspruch 1 angegebenen Maßnahmen gelöst. Die in der Ätzlösung in der Anodenkammer der Elektrolyse-
zelle suspendierten Aktivkohlepulverteilchen reagieren mit dem nach Regeneration des Oxidationsmittels
entstehenden Chlor unter Bildung von Chlorid-Ionen, wobei das Aktivkohlepulver oxidiert wird. Die Konzentration
an Kupfer(ll)- und/oder Eisen(in)-C!:iorid in der
Ätzlösung läßt sich bei Anwesenheit von Aktivkohleteüchen
verhältnismäßig hoch halten. Vorteilhaft ist darüber hinaus, daß mit Ätzlösungen gemäß der
Erfindung bearbeitete, metallbeschichtete Werkstücke eine geringe Unterätzung der abgedeckten Oberflächenbereiche
aufweisen. An der Kathode der Elektrolysezelle, die vom Anodenraum durch ein für die
Aktivkohlepulverteilchen undurchlässiges Diaphragma oder eine Ionenaustauschermembran abgeschirmt ist,
sind die vom Ätzmittel abgetragenen und in Lösung gegangenen Metalle abscheidbar. Dies ist insbesondere
für die Rückgewinnung von Kupfer von wirtschaftlicher Bedeutung.
Eevorzugt werden der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen in einer Konzentration zwischen 5 und
25 Gew.-% zugegeben. Besonders geeignet sind für die Regeneration der Ätzlösungen in den Patentansprü
chen 3 und 4 gekennzeichnete Aktivkohlepulverteilchen.
Eine zweckmäßige Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird in Patentanspruch
5 angegeben. Die die Aktivkohlepulverteilchen enthaltende Ätzlösung wird zwischen Ätzkammer und
Anodenraum im Kreislauf geführt, so daß neben einer kontinuierlichen Ätzung mit einer in ihrer Zusammensetzung
unverändert bleibenden Ätzlösung, insbesondere im Falle der Bearbeitung von Kupferoberflächen eine
kontinuierliche Rückgewinnung von Kupfer ermöglicht wird. Das in Lösung gegangene Kupfer scheidet sich an
der Kathode der Elektrolyse wieder ab. Vorteilhaft ist ferner die geringe Unterätzung der in der Ätzkamrner
mit einer Aktivkohlepulverteilchen enthaltenden Ätzlösung behandelten metallbeschichteten Werkstücke.
Die Erfindung wird an Hand von Ausführungsbeispielen und einer in der Zeichnung schematisch dargestellten
beispielhaften Vorrichtung näher erläutert.
Wie aus der Zeichnung ersichtlich ist, weist die Vorrichtung eine Ätzkammer 1 und eine Elektrolysezelle
2 auf, zwischen denen eine Ätzlösung 3 im Kreislauf geführt wird.
In der Ätzkammer 1 wird die Ätzlösung mittels einer Sprühdüse 4 auf die zu bearbeitende Oberfläche eines
Werkstücks 5 aufgebracht. Die verbrauchte Ätzlösung fließt zum Boden der Ätzkammer 1 ab. Von dort wird sie
über eine Saugleitung 6 von einer Lösungsmittelpumpe 7 abgesaugt und in die Elektrolysezelle 2 gepumpt. In
der Elektrolysezelle ist zwischen Anode 8 und Kathode
9 ein Diaphragma oder eine Ionenaustauschermembran
10 eingesetzt, die den Kathodenraum 11 der Elektrolysezelle
vom Anodenraum 12 trennt. Am Kathodenraum
11 ist für die im Kathodenraum enthaltene Lösung ein Überlauf 13 vorgesehen, der in die Ätzkammer 1
mündet. Im Ausführungsbeispiel besteht die Anode 8 aus Graphit und ist als Rohr ausgebildet, durch das die
Ätzlösung hindurchfließt. Die Wand des Graphitrohres weist Durchbrüche 14 auf, um die Ätzlösung an das
Diaphragma oder die Ionenaustauschermembran heranzuführen und den Ionenaustausch zwischen Anodenraum
11 und Kathodenraum 12 zu ermöglichen. An der
Anode 8 wird das Oxidationsmittel der Ätzlösung regeneriert, an der Kathode 9 ist — falls die bearbeitete
Oberfläche aus Kupfer oder einer Kupferlegierung besteht — das abgetragene Kupfer abscheidbar. Die
wiederaufbereitete Ätzlösung strömt aus dem Anoden-
raum 11 über eine Druckleitung 15 zur Ätzkammer 1 zurück.
Ausführungsbeispiel 1
In Ätzlösungen mit verschiedenem Eisenchlorid-Gehalt
wurden Aktivkohlepulverteilchen entsprechend einer Konzentration von 15Gew.-% Aktivkohlepulver
bezogen auf das Gewicht der Ätzlösung suspendiert. In der Vorrichtung wurden insgesamt 1,4 1 Ätzlösung im
Kreislauf geführt. An der Graphitanode wurde mit Hilfe eines Galvanostaten ein gleichbleibender Strom von
5 A eingestellt. Die Ätzlösung wurde dem Anodenraum mit einer Temperatur von etwa 500C entnommen und
mittels der Sprühdüse 4 unter einem Druck von 1,5 bar aus etwa 4 cm Abstand auf ein Edelstahlblech gesprüht.
Gemessen wurde der Gewichtsverlust des Edelstahlblechcs je Minute in Abhängigkeit vom Eisengehalt in
der Ätzlösung. Bei einem Eisengehalt von 5 g/l in der Ätzlösung wui den 42 mg Edelstahl pro Minute abgeätzt.
Die Ätzgeschwindigkeit nahm mit steigendem Eisenge-
3» halt zu und erreichte bei einem Eisengehalt von 50 g/l
einen Metallabtrag von 221 mg/min. Bei allen Versuchen konnte auch nach vollständiger Oxidation von
Eisen(ll)- zu Eisen(III)-Ionen ein Entweichen von Chlor aus der Elektrolysezelle bei gleichbleibendem Strom
von 5 A nicht festgestellt werden. Der Gewichtsverlust an Aktivkohlepulver betrug während der Bearbeitungszeit bis zu 5 Stunden unter 1 %.
Ausführungsbeispiel 2
to In einer Kupferchlorid enthaltenden Ätzlcsung
wurden 15Gew.-°/o Aktivkohlepulver suspendiert. In der Vorrichtung wurden in gleicher Weise wie im
vorhergehenden Ausführungsbeispiel 1,4 1 Ätzlösung im Kreislauf gefördert. An der Graphitanode war ein
gleichbleibender Strom von 5 A eingestellt. Die aus dem Anodenraum der Elektrolysezelle abgezogene Ätziösung
war auf eine Temperatur von etwa 50°C aufgeheizt und wurde unter einem Druck von 1,5 bar mittels der
Sprühdüse 4 auf ein Kupferblech aufgesprüht.
An der Elektrolysezelle wurde auch nach vollständiger Oxidation von Kupfer(l)- zu Kupfer(II)-lonen bei
gleichbleibendem Strom von 5 A keine Chlorgasentwicklung festgestellt. Der Gewichtsverlust an Aktivkohlepulver
blieb nach 5 Betriebsstunden unter 1 %.
Eine Entwicklung von Chlor konnte bei Regeneration einer Eisen- und Kupferchlorid enthaltenden Ätzlösung,
in der Aktivkohlepulver suspendiert worden war, auch nach Zugabe von 1 Mol/l Natriumchlorid nicht festgestellt
werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Verfahren zum Regenerieren einer beim chemischen Bearbeiten metallischer Oberflächen
verwendeten Ätzlösung, die Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(Ill)-Chlorid enthält, in einer zwischen
Anode und Kathode ein Diaphragma oder eine Ionenaustauschermembran aufweisenden Elektrolysezelle,
die von der Ätzlösung zur anodischen Oxidation der bei der Ätzung der metallischen ,o
Oberfläche gebildeten Kupfer(I)- und/oder Eisen(ll)-lonen durchströmt wird, dadurch gekennzeichnet,
daß im Anodenraum der Elektrolysezelle in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen
suspendiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der Ätzlösung Aktivkohlepulverteilchen
in einer Konzentration zwischen 5 und 25 Gew.-% suspendiert werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dafl die in der Ätzlösung suspendierten
Aktivkohlepulverteilchen zuvor im Vakuum, in inerter oder reduzierender Atmosphäre bei einer
Temperatur zwischen 900 und 12000C geglüht wurden.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Aktivkohlepulver über eine Stunde
lang geglüht wurde.
5. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit
einer Ätzkammer und einer zwischen Anode und Kathode ein Diaphragma oder eine Ionenaustauschermembran
aufweisenden Elektrolysezelle, die mit der Älzkammer über Flüssigkeitsleitungen zur
Führung einer Kupfer(II)-Chlorid und/oder j-, Eisen(III)-Chlorid enthaltenden, von einer Förderpumpe
zwischen Ätzkammer und Elektrolysezelle geförderten Ätzlösung verbunden ist, dadurch
gekennzeichnet, daß die Ätzlösung im Raum zwischen Ätzkammer (1) und Anodenraum (8) der
Elektrolysezelle (2) in der Ätzlösung suspendierte Aktivkohlepulverteilchen enthält.
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