DE19820001A1 - Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und Kunststoffteilen - Google Patents
Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und KunststoffteilenInfo
- Publication number
- DE19820001A1 DE19820001A1 DE1998120001 DE19820001A DE19820001A1 DE 19820001 A1 DE19820001 A1 DE 19820001A1 DE 1998120001 DE1998120001 DE 1998120001 DE 19820001 A DE19820001 A DE 19820001A DE 19820001 A1 DE19820001 A1 DE 19820001A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- demetallization
- metal
- parts
- reoxidation
- electrolysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 title description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract 4
- LFINSDKRYHNMRB-UHFFFAOYSA-N diazanium;oxido sulfate Chemical class [NH4+].[NH4+].[O-]OS([O-])(=O)=O LFINSDKRYHNMRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 125000005385 peroxodisulfate group Chemical group 0.000 claims description 11
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous oxide Inorganic materials [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008351 acetate buffer Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
Verfahren zur Entmetallisierung von Gestellen, Kontakten, fehlerhaften Teilen, Wannen und Zubehör mittels Lösungen die aus Peroxomonosulfaten und Peroxodisulfaten bestehen und mittels einer Rückoxidationselektrolyse regeneriert werden.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entfernung von
Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik oder Kunststoffen,
insbesondere Kontakten, Gestellen, beschichteten fehlerhaften
Teilen, Behälterwänden und Einbauten in Anlagen der Oberflä
chentechnik. Anlagen der Oberflächentechnik bezeichnen Galva
nikanlagen, Anlagen zur stromlosen Metallbeschichtung, PVD
oder CVD Beschichtung sowie Kombinationen der unterschiedli
chen Verfahren. Bei einer galvanischen Beschichtung, auch in
Kombination mit einem stromlosen Beschichtungsprozeß (z. B.
chemisch Nickel) werden die Teile üblicherweise auf Kontakte
aufgesteckt. Die Kontakte sind Bestandteil eines Galvanoge
stells, welches eine Vielzahl von Teilen aufnehmen kann.
Mehrere Gestelle sind zumeist an einem Warenträger befestigt.
Die Gestelle sind mit einem elektrisch isolierenden Überzug
versehen, nur die Kontaktspitzen sind freiliegend und elek
trisch leitend. Je nach Art der Teile werden also auch Teile
der Kontaktspitzen mit beschichtet und bei stromlosen Prozes
sen kommt es immer wieder zur Beschichtung des isolierenden
Gestellüberzugs. Diese metallischen Schichten führen dazu,
daß die Kontaktspitzen dick zuwachsen bzw. Teile des Galva
nikgestells beim Galvanisieren mit beschichtet werden. Zum
anderen fallen immer Teile an, die Fehler aufweisen und
wieder entschichtet werden müssen. Dies wird heute ohne Strom
in sogenannten chemischen Tauchlösungen oder unter Strom in
verschiedenen Entmetallisierungsbädern durchgeführt. Tauchlö
sungen können beispielsweise Salzsäure, Salpetersäure, alka
lische cyanidhaltige Lösungen, Chromsäure /1/(Handbuch der
Galvanotechnik, Band III, Dettner, Elze, S. 317 bis 350, Carl
Hanser Verlag, München 1969/, Mischungen aus Oxidationsmit
teln, Komplexbildnern und Puffersubstanzen sein. Im letzteren
Fall handelt es sich meist um Nitroaromaten als Oxidations
mittel, Amine als Komplexbildner und Acetatpuffer /2/(DE
18 08 780 und /3/DE 13 01 185). Es handelt sich zumeist um Stof
fe, die Probleme in der Abwasserbehandlung bereiten und wenig
umweltfreundlich sind. Andere Verfahren wie z. B. die anodi
sche Entmetallisierung in Schwefelsäure oder Amidosulfonsäure
/4/(Metalloberfläche 51(1997), Heft 9, S. 659, Heft 10, S. 742
und 52(1998), Heft 1, S. 44) versagen, wenn chemisch abgeschie
dene Schichten auf der Gestellisolation, auf Kunststoffteilen
oder an den Behälterwänden zu entfernen sind. Dann wird zum
Entfernen der Metalle Salpetersäure in Konzentrationen zwi
schen 30% und 65% eingesetzt. Dabei entstehen hochtoxische
nitrose Gase (NOx), die sicher abgesaugt und in einem geeig
neten Abluftwäscher behandelt werden müssen. Das Waschwasser
enthält Nitrat und Nitrit und muß einer Nitritbehandlung
unterworfen werden /5/(Abwasser- und Recyclingtechnik, 2.
Auflage, Hartinger, S. 70/71 und 320/322, Carl Hanser Verlag,
München, 1991).
Andererseits sind Beizverfahren für Kupfer und Messing be
kannt, bei denen mit Natriumperoxodisulfat gearbeitet wird
und die verbrauchte Beize durch eine Rückoxidationszelle
regeneriert wird /6/Matschiner, H. u. a. DD-PS 211129, vom
5.11.1982, Pryor, M. J. und Brock, A. J. US-PS. 4,973,380 vom
27.11.1990, Thiele, W. u. a. DE 195 06 832.9 vom 28.02.95.
Demgegenüber liegt der Erfindung das technische Problem
zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art anzugeben,
bei dem einerseits das Metall funktionssicher und in angemes
sener Zeit vom Grundmaterial entfernt werden kann, ohne das
nitrose Gase entstehen und das sich durch eine hohe Umwelt
verträglichkeit auszeichnet.
Zur Lösung des technischen Problems lehrt die Erfindung ein
Verfahren zur Entfernung von mindestens eines Metalles von
einem Substrat, insbesondere Galvanogestellen, beschichteten
Teilen (Ware) und Bauteilen der Galvanikanlage wie Bädern,
Heizungen etc. durch Behandeln mit einer Metallperoxodisulfat
und/oder Metallperoxomonosulfat und gegebenenfalls Halogeni
de, Netzmittel und Inhibitoren enthaltenden Lösung und Rege
neration der Lösung mittels Elektrolysezellen unter gleich
zeitiger Rückoxidation zum Metallperoxodisulfat und Hydrolyse
im Bad zum Peroxomonosulfat und gleichzeitiger Abscheidung
von zumindest Kupfer, ggf. anderen Metallen oder Legierungen
im Kathodenraum der Elektrolysezelle.
Zur Aufrechterhaltung der Arbeitskonzentration im Entmetalli
sierungsbad wird ein Teil der Lösung kontinuierlich oder
diskontinuierlich abgenommen und der Rückoxidationselektroly
se zugeführt. Es versteht sich, daß dabei auch Pufferbehälter
zum Sammeln der abgenommen Lösungen eingesetzt werden können.
In der Rückoxidationszelle wird im Kathodenraum Kupfer oder
andere Metalle als Pulver abgeschieden und zyklisch aus der
Zelle entfernt. Die bevorzugte Rückoxidationszelle ist in der
DE-PS 44 19 683 vom 06.06.94 beschrieben. Es können aber auch
andere geeignete Zellen eingesetzt werden. Im Anodenraum
erfolgt eine Rückoxidation von Sulfat zu Peroxodisulfat. Es
wird vorzugsweise ein potentialerhöhender Zusatz direkt in
den Einlauf zum Anodenraum zudosiert, um die Stromausbeute
und damit die pro Zeiteinheit gebildete Peroxosulfatmenge
möglichst hoch zu halten. Die gebildete Peroxodisulfat ent
haltende Lösung wird vorzugsweise wieder in einem Pufferbe
hälter gespeichert, kann allerdings auch direkt in das Entme
tallisierungsbad gepumpt werden. Die Hydrolyse zu Peroxomono
sulfat setzt bereits im Pufferbehälter ein, so daß immer mit
Mischungen aus Peroxomonosulfat und Peroxodisulfat bzw. im
Extremfall mit reiner Peroxomonosulfatlösung entmetallisiert
wird. Reste der potentialerhöhenden Zusätze stören nicht. Es
kann auch mit Zusätzen wie Inhibitoren und Netzmittel gear
beitet werden.
In einer Kunststoffgalvanikanlage werden Teile mit folgendem
Schichtaufbau hergestellt: Chemisch Nickel, Kupfer, Nickel,
Rißnickel, Chrom. Die Kontakte und Teile der gealterten
Gestelle weisen eine ähnliche Zusammensetzung wie die Teile
auf. Die Gestelle werden nach dem Abnehmen der Teile in ein
Entchromungsbad zum anodischen Entchromen in Natronlauge
gefahren. Eine Tauchbehandlung in Salzsäure oder anderen
Medien ist zur Chromentfernung ebenfalls möglich. Danach
werden die entchromten Teile in ein Entmetallisierungsbad
gefahren, welches 80 g/l einer Mischung aus Natrium- und
Nickelperoxodisulfat sowie 20 g/l der zugehörigen Peroxomono
sulfate, Natriumsulfat, Nickelsulfat und 150 g/l Schwefelsäu
re enthält. Die Temperatur im Bad betrug 55°C. Die Gestelle
einschließlich der Kontaktspitzen waren nach 20 min völlig
frei vom aufgewachsenen Metall. Nach dem Spülen und Trocknen
wurden die Gestelle wieder zur Neubestückung transportiert.
Das Bad enthielt 3200 l der obigen Lösung und hatte 4 Statio
nen für die Aufnahme von Warenträgern mit Gestellen. Es
wurden mittels einer Pumpe stündlich 20 l entnommen und in
ein Puffergefäß gefüllt. Die gleiche Menge wurde mittels
einer zweiten Pumpe in den Kathodenraum der Elektrolysezelle
nach DE-PS 44 19 683 gegeben. Die Zelle wurden mit 600 A, bei
14,6 V und 40°C betrieben. Im Kathodenraum wurde Kupfer
pulverförmig abgeschieden und mittels eines Hydrozyklones
kontinuierlich abgetrennt. Gleichzeitig wurde der Peroxomono
sulfatgehalt bis gegen Null abgebaut Etwa 14,5 l/h Lösung,
die noch ca. 5 g/l Peroxodisulfat enthielt, liefen über einen
eingebauten Überlauf in den Anodenraum. Hier erfolgte die
Rückoxidation am blanken Platin zu einer Lösung, die etwa 180
g/l Peroxodisulfat enthielt. In den Anodenraum wurden 100
ml/h eines potentialerhöhenden Zusatzes (z. B. einer Thiover
bindung angesetzt mit 1 g/l) dosiert. Die Stromausbeute
bezogen auf die Peroxodisulfatbildung betrug 61%. Dem Entme
tallisierungsbad wurde jeweils soviel Peroxodisulfatlösung
zudosiert, daß der Gesamtgehalt an Peroxodisulfat und Peroxo
monosulfat in einem Bereich von +/- 5% konstant blieb.
Galvanisierte Kunststoffteile, welche Fehler an der Oberfläche
aufwiesen, wurden auf Gestelle aufgesteckt und in das Ent
chromungsbad gefahren. Dort wurde die Chromschicht weitgehend
entfernt. Bleiben isolierte Inseln zurück, stören diese die
nachfolgende Entmetallisierung nicht. Danach wurden die Teile
in das Entmetallsierungsbad gemäß Beispiel 1 eingefahren.
Nach 30 min waren die Teile vollständig entmetallisiert. Die
Oberflächenqualität war so gut, daß die Teile nach dem Spülen
und Trocknen wieder zum Beschichten verwendet werden konnten.
Sie wurden wie Neuteile behandelt. Vorzugsweise wird eine
wesentlich kürzere Beizzeit gewählt, in dem Falle etwa ein
Drittel der üblichen Beizzeit.
/1/ Dettner/Elze, Handbuch der Galvanotechnik, Bd.III, S. 317
/2/ Dillenberg, H., DE 11 80 878 vom 14.11.68
/3/ Dillenberg, H., DE 13 01 185 vom 06.12.67
/4/ Möbius, A. u. a., Metalloberfläche 51(1997), 659 und 742, sowie 52(1998),44
/5/ Hartinger, L., Abwasser und Recyclingtechnik, CarlHanser Verlag München 1991
/6/ Matschiner, H. u. a., DD-PS 2 11 129 vom 05.12.82
/7/ Pyor, M. J. u. a., US-PS 4973380 vom 27.11.1990
/8/ Thiele, W. u. a., DE 195 06 832.9 vom 28.02.95.
/2/ Dillenberg, H., DE 11 80 878 vom 14.11.68
/3/ Dillenberg, H., DE 13 01 185 vom 06.12.67
/4/ Möbius, A. u. a., Metalloberfläche 51(1997), 659 und 742, sowie 52(1998),44
/5/ Hartinger, L., Abwasser und Recyclingtechnik, CarlHanser Verlag München 1991
/6/ Matschiner, H. u. a., DD-PS 2 11 129 vom 05.12.82
/7/ Pyor, M. J. u. a., US-PS 4973380 vom 27.11.1990
/8/ Thiele, W. u. a., DE 195 06 832.9 vom 28.02.95.
Claims (11)
1. Verfahren zur Entmetallisierung von metallbeschichteten
Oberflächen wie Gestellen, Kontakte, fehlerhaft beschich
teten Teilen, Wannen, Einbauten und Zubehör in der Ober
flächentechnik, gekennzeichnet dadurch, daß die Teile mit
einer Lösung behandelt, vorzugsweise getaucht werden,
die Metall- und/oder Ammoniumperoxomonosulfate und Me
tall- und/oder Ammoniumperoxodisulfate enthalten und das
die Entmetallisierungslösung durch eine Rückoxidationse
lektrolyse geeigneter Bauart wieder regeneriert und der
Entmetallisierungswanne oder Spritzeinrichtung wieder zu
geführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, daß im
Temperaturbereich von 20 . . . 95°C gearbeitet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, gekennzeichnet dadurch,
daß die Summe der Konzentrationen von Peroxomonosulfaten
und Peroxodisulfaten im Bereich von 20 . . . 150 g/l vorzugs
weise im Bereich von 50 . . . 100 g/l liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3 gekennzeichnet dadurch,
daß mit Netzmitteln und Inhibitoren gearbeitet wird, wo
bei Reste der potentialerhöhenden Zusätze aus der
Rückoxidationselektrolyse gleichzeitig als Inhibitoren
wirken können.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, gekennzeichnet dadurch,
daß in der Rückoxidationszelle ein Teil der abgelösten
Metalle kathodisch vorzugsweise pulverförmig abgeschieden
wird und in geeigneter Weise z. B. durch eine Hydrozyklon
aus dem Kathodenraum bzw. Kathodenkreislauf ausgetragen
wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, gekennzeichnet dadurch,
daß eine Vorelektrolyse zur Entfernung der abgelösten Me
talle, dem Abbau von organischen Zusätzen und Peroxomono
sulfat vor der Rückoxidationszelle eingesetzt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, gekennzeichnet dadurch,
daß es nur zur Gestellentmetallisierung benutzt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, gekennzeichnet dadurch,
daß es zum Gestellentmetallisieren und zum Entfernen von
Metallschichten auf Wannenwänden und Einbauten wie Heiz
körper sowie Pumpen und Filter benutzt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, gekennzeichnet dadurch,
daß es zum Entmetallisieren von fehlerhaften Teilen
(Ware) benutzt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, gekennzeichnet dadurch,
daß es zum gleichzeitigen Entmetallisieren von Teilen und
Gestellen benutzt wird.
11. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 10, gekennzeichnet
dadurch, daß alle Entmetallisierungsaufgaben in einer An
lage der Oberflächentechnik damit ausgeführt werden und
daß die einzelnen Entmetallisierungsaufgaben vorzugsweise
zeitlich versetzt durchgeführt werden.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1998120001 DE19820001C2 (de) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und Kunststoffteilen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1998120001 DE19820001C2 (de) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und Kunststoffteilen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19820001A1 true DE19820001A1 (de) | 1999-11-11 |
| DE19820001C2 DE19820001C2 (de) | 2003-04-03 |
Family
ID=7866706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1998120001 Expired - Fee Related DE19820001C2 (de) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und Kunststoffteilen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE19820001C2 (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006042225B3 (de) * | 2006-09-06 | 2007-12-20 | Emil Hepting | Vorrichtung zum Galvanisieren elektrisch leitender Ware |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3406108A (en) * | 1965-04-28 | 1968-10-15 | Fmc Corp | Regeneration of spent ammonium persulfate etching solutions |
| US3843504A (en) * | 1972-08-16 | 1974-10-22 | Western Electric Co | Method of continuously regenerating and recycling a spent etching solution |
| DD211129A1 (de) * | 1982-11-05 | 1984-07-04 | Univ Halle Wittenberg | Kreislaufverfahren zum beizen von kupfer und kupferlegierungen |
| DE4137022A1 (de) * | 1991-11-11 | 1993-05-13 | Eilenburger Chemie Werk Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur regenerierung schwefelsaurer, kupferhaltiger peroxodisulfat-beizloesungen |
-
1998
- 1998-05-06 DE DE1998120001 patent/DE19820001C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3406108A (en) * | 1965-04-28 | 1968-10-15 | Fmc Corp | Regeneration of spent ammonium persulfate etching solutions |
| US3843504A (en) * | 1972-08-16 | 1974-10-22 | Western Electric Co | Method of continuously regenerating and recycling a spent etching solution |
| DD211129A1 (de) * | 1982-11-05 | 1984-07-04 | Univ Halle Wittenberg | Kreislaufverfahren zum beizen von kupfer und kupferlegierungen |
| DE4137022A1 (de) * | 1991-11-11 | 1993-05-13 | Eilenburger Chemie Werk Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur regenerierung schwefelsaurer, kupferhaltiger peroxodisulfat-beizloesungen |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Meller: "a Comprehensive Treatise on Inorganic and Theoretical Chemistry, 10, London, 1930 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19820001C2 (de) | 2003-04-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3048083C2 (de) | Verfahren zur chemischen Entfernung von Oxidschichten von Gegenständen aus Titan oder Titanlegierungen | |
| DE3020371C2 (de) | Verfahren zur Vorbehandlung von Edelstahl für eine direkte galvanische Vergoldung | |
| JPS6045274B2 (ja) | 金属析出物の化学的剥離用組成物および方法 | |
| CN105401151B (zh) | 一种铁基体镀层中性剥离剂 | |
| DE2947998C2 (de) | ||
| US5401379A (en) | Chrome plating process | |
| US1972835A (en) | Coating ferrous articles with zinc | |
| CH638568A5 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung eines bronzebelags auf aluminium. | |
| US4397721A (en) | Pickling of aluminum | |
| DE19820001C2 (de) | Verfahren zur Entfernung von Metallschichten auf Metall, Glas, Keramik und Kunststoffteilen | |
| DE2729387A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen aufbereitung eines galvanischen nickelbades sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
| DE843489C (de) | Verfahren zum Elektroplattieren mit Indium | |
| DE19850530A1 (de) | Kreislaufverfahren zum Beizen von Kupfer und Kupferlegierungen | |
| DE2057606A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Rueckgewinnung von Nickel und/oder von anderen der Eisengruppe des periodischen Systems angehoerenden,vorzugsweise hoeherwertigen Metallen | |
| Ballay | Modern Nickel‐Plating in France | |
| DE2747562C2 (de) | ||
| DE919450C (de) | Verfahren zur Herstellung starker Chromueberzuege auf Aluminium und Aluminiumlegierungen, insbesondere von magnesiumhaltigen Aluminiumlegierungen | |
| RU2844312C1 (ru) | Способ подготовки поверхности изделий из коррозионно-стойких сталей перед гальваническим меднением | |
| DE3015768A1 (de) | Verfahren zur abwasserfreien metallisierung, insbesondere zur abwasserfreien verzinkung von stahloberflaechen | |
| RU2750654C1 (ru) | Способ регенерации нитратно-аммонийного раствора снятия кадмиевых покрытий | |
| SU975832A1 (ru) | Раствор для подготовки поверхности стали перед нанесением гальванического покрытия 1 | |
| CN119352034A (zh) | 一种挂具浸泡退镀药剂及其配制方法 | |
| DE19533748A1 (de) | Aktivierungslösung zur Aktivierung von metallischen Werkstoffen und Verfahren zur Aktivierung von metallischen Werkstoffen | |
| DE1961562A1 (de) | Verfahren zur Kreislauffuehrung und Verwertung bei Anlagen zum Herstellen von metallischen UEberzuegen,z.B. Feuerverzinkereien und Verzinnereien,nach dem Beizen der zu ueberziehenden Teile anfallenden Spuelwaesser | |
| JPS5743997A (en) | Uniform electroplating method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8304 | Grant after examination procedure | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee | ||
| 8370 | Indication of lapse of patent is to be deleted | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |