[go: up one dir, main page]

DE19547900C2 - Galvanisches Platinbad - Google Patents

Galvanisches Platinbad

Info

Publication number
DE19547900C2
DE19547900C2 DE19547900A DE19547900A DE19547900C2 DE 19547900 C2 DE19547900 C2 DE 19547900C2 DE 19547900 A DE19547900 A DE 19547900A DE 19547900 A DE19547900 A DE 19547900A DE 19547900 C2 DE19547900 C2 DE 19547900C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
acid
platinum
galvanic
bath
complex
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19547900A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19547900A1 (de
Inventor
Werner Dipl Ing Kuhn
Wolfgang Dipl Chem Zilske
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Umicore Galvanotechnik GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Degussa GmbH filed Critical Degussa GmbH
Priority to DE19547900A priority Critical patent/DE19547900C2/de
Priority to DE59604983T priority patent/DE59604983D1/de
Priority to EP96102799A priority patent/EP0737760B1/de
Priority to US08/624,806 priority patent/US5620583A/en
Priority to JP8089750A priority patent/JPH08319595A/ja
Publication of DE19547900A1 publication Critical patent/DE19547900A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19547900C2 publication Critical patent/DE19547900C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein galvanisches Platinbad, insbesondere zur Abscheidung dicker Schichten, das 5 bis 30 g/l Platin als Aminsulfamato-Komplex enthält und einen pH-Wert von weniger als 1 aufweist.
Für die galvanische Abscheidung von Platin werden saure und alkalische Bäder auf der Basis von Platin(II)- und Platin(IV)-Verbindungen verwendet. Die wichtigsten Badtypen enthalten Diaminodinitritoplatin (II) (P-Salz), Sulfatodinitritoplatinsäure (DNS) oder Hexahydroxoplatinsäure, beziehungsweise deren Alkalisalze. Die genannten Badtypen eignen sich überwiegend nur für die Abscheidung dünner Platinschichten von wenigen µm. Die Abscheidung dicker Schichten für technische Anwendungen ist bei Platin ein generelles Problem. Entweder die Schichten haben hohe innere Spannungen, werden rissig und platzen sogar auf, oder die Elektrolyte sind nicht ausreichend stabil und zersetzen sich bei den langen Elektrolysezeiten relativ rasch.
Aus der DE-PS 11 82 924 ist ein saures Bad zum galvanischen Abscheiden von Platinüberzügen bekannt, das aus einer wäßrigen Lösung einer komplexen Dinitroplatinat(II)-Verbindung besteht und einen pH-Wert unter 2 aufweist. Als komplexe Platinverbindung kann auch der Dinitrosulfamatokomplex eingesetzt werden. Nach eigenen Angaben erhält man mit diesen Platinbädern nur Schichtdicken bis zu 25 µm. Schichten über 25 µm neigen zum Reißen und sind daher für viele Anwendungen nicht geeignet.
In der DE-PS 12 56 992 wird ein galvanisches Platinbad beschrieben, das aus einer wäßrigen Lösung von Platindiaminodinitrit (P-Salz) und Alkalisalzen der Sulfamidsäure besteht und bei pH-Werten von 6,5 bis 8 betrieben wird. Auch hier bekommt man nach eigenen Angaben nur Schichtdicken bis zu etwa 20 µm. Allerdings muß der pH-Wert in engen Grenzen konstant gehalten werden. Bei pH-Werten unterhalb 3 löst sich die Platinschicht wieder ab.
Nach der DE-AS 11 44 074 wird das P-Salz mit einem hohen Überschuß an Sulfamidsäure, NH₂SO₃H, umgesetzt, so daß man nach Verdünnen mit Wasser ein gebrauchsfertiges Bad erhält, das 6-20 g/l Platin und 20-100 g/l Sulfamidsäure (Amidoschwefelsäure) enthält. Jedoch ist dieser Elektrolyt nur so lange stabil, wie das Bad in Betrieb ist. Dicke Schichten können rißfrei nur mit matter Oberfläche erhalten werden.
Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein galvanisches Platinbad insbesondere zur Abscheidung dicker Schichten zu entwickeln, das 5 bis 30 g/l Platin als Aminsulfamato-Komplex enthält und einen pH-Wert von weniger als 1 aufweist, mit dem auch Schichtdicken über 100 µm rißfrei, glatt und glänzend abgeschieden werden können und das auch bei Nichtbenutzung stabil ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Elektrolyt höchstens 5 g/l freie Amidoschwefelsäure (Sulfamidsäure) und 20 bis 400 g/l einer starken Säure mit einem pKs-Wert kleiner 1 enthält.
Vorzugsweise wird als starke Säure Schwefelsäure, Methansulfonsäure oder Perchlorsäure eingesetzt. Daneben können auch andere Mineralsäuren, wie Fluorschwefelsäuren oder Fluoroborsäure, Alkansulfonsäuren, wie Methandisulfonsäure, Ethansulfonsäure, Hydroxiethansulfonsäure und Homologe, oder perfluorierte Alkansulfonsäuren, wie Trifluormethansulfonsäure oder Pentafluorethansulfonsäure, und Perfluorcarbonsäuren, wie Trifluoressigsäure, eingesetzt werden.
Außerdem ist es von Vorteil, wenn der Elektrolyt zusätzlich 0,01 bis 0,2 g/l eines Fluortensids als Netzmittel enthält.
Bewährt hat es sich, wenn als Aminsulfamato-Komplex das Produkt aus der Umsetzung von 1 Mol P-Salz (Platindiamminodinitrito-Komplex) mit 4 bis 6 Mol Amidoschwefelsäure eingesetzt wird.
Sehr gute Abscheideergebnisse erhält man, wenn das Platin-P-Salz mit Amidoschwefelsäure in äquivalenten Mengen umgesetzt wird und die resultierende Platinsulfamato-Komplexlösung einer wäßrigen Lösung einer starken Säure zugegeben wird, wobei die Säure z. B. Schwefelsäure, Methansulfonsäure oder Perchlorsäure sein kann. Dabei muß das Bad eine ausreichende Menge der starken Säure enthalten. Bewährt haben sich Mengen von 20 bis 400 g/l.
Das Bad kann außerdem 0,01-0,2 g/l eines Fluortensids zur Unterdrückung von Sprühnebeln enthalten. Es wird bei Temperatur zwischen 60 und 90°C und bei Stromdichten von 1-4 A/dm² betrieben.
Die Platinaminsulfamato-Komplexlösung erwies sich in dem 20 stark sauren Bad ohne freie Amidoschwefelsäure als überraschend stabil. Das Bad zeigte auch bei langen Elektrolysezeiten keinerlei Niederschlagsbildung. Bei der Abscheidung des Platins freiwerdendes Sulfamat wird rasch hydrolysiert und reichert sich nicht im Elektrolyten an.
Die aus diesen Bädern abgeschiedenen Platinüberzüge sind rißfrei, glänzend und duktil auch bei Schichtdicken über 100 µm.
Folgendes Beispiel zeigt die Vorteile des erfindungsgemäßen Bades:
Ein galvanisches Platinbad wird wie folgt bereitet:
80 ml Schwefelsäure (97%) werden in ca. 600 ml Wasser verdünnt. Dieser Lösung werden 16 g Platin in Form der Platinaminsulfamato-Komplexlösung und 0,1 g eines Fluortensids zugegeben. Nach Auffüllen mit Wasser erhält man 1 l fertiges Bad. Bei einer Badtemperatur von 80°C und einer Stromdichte von 2 A/dm² wird ein Teil aus Silber bei rotierender Bewegung beschichtet. Nach ca. 13 Stunden hat sich eine ca. 120 µm dicke, glänzende Platinschicht gleichmäßig abgeschieden. Nach Ablösen des Silbers mit Salpetersäure, verdünnt 1 : 1, erhält man eine stabile, rißfreie Platinfolie.

Claims (4)

1. Galvanisches Platinbad, insbesondere zur Abscheidung dicker Schichten, das 5 bis 30 g/l Platin als Amin­ sulfamato-Komplex enthält und einen pH-Wert von weniger als 1 aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt höchstens 5 g/l freie Amidoschwefelsäure und 20 bis 400 g/l einer starken Säure mit einem pKs-Wert kleiner 1 enthält.
2. Galvanisches Platinbad gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als starke Säure Schwefelsäure, Methansulfonsäure oder Perchlorsäure eingesetzt wird.
3. Galvanisches Platinbad gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,01 bis 0,2 g/l eines Fluortensids als Netzmittel enthält.
4. Galvanisches Platinbad gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Amin-sulfamato-Komplex das Produkt aus der Umsetzung von 1 Mol Diaminodinitritoplatin(II) mit 4 bis 6 Mol Amidoschwefelsäure eingesetzt wird.
DE19547900A 1995-04-15 1995-12-21 Galvanisches Platinbad Expired - Fee Related DE19547900C2 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19547900A DE19547900C2 (de) 1995-04-15 1995-12-21 Galvanisches Platinbad
DE59604983T DE59604983D1 (de) 1995-04-15 1996-02-24 Galvanisches Platinbad
EP96102799A EP0737760B1 (de) 1995-04-15 1996-02-24 Galvanisches Platinbad
US08/624,806 US5620583A (en) 1995-04-15 1996-03-27 Platinum plating bath
JP8089750A JPH08319595A (ja) 1995-04-15 1996-04-11 電気メッキ用白金浴

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19514253 1995-04-15
DE19547900A DE19547900C2 (de) 1995-04-15 1995-12-21 Galvanisches Platinbad

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19547900A1 DE19547900A1 (de) 1996-10-17
DE19547900C2 true DE19547900C2 (de) 1997-10-02

Family

ID=7759789

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19547900A Expired - Fee Related DE19547900C2 (de) 1995-04-15 1995-12-21 Galvanisches Platinbad
DE59604983T Expired - Fee Related DE59604983D1 (de) 1995-04-15 1996-02-24 Galvanisches Platinbad

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59604983T Expired - Fee Related DE59604983D1 (de) 1995-04-15 1996-02-24 Galvanisches Platinbad

Country Status (1)

Country Link
DE (2) DE19547900C2 (de)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL123540C (de) * 1958-08-06

Also Published As

Publication number Publication date
DE59604983D1 (de) 2000-05-25
DE19547900A1 (de) 1996-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69127394T2 (de) Zinn-Elektroplattierung bei hoher Geschwindigkeit
EP0737760B1 (de) Galvanisches Platinbad
DE3428345A1 (de) Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von zink und zinklegierungen
EP2937450B1 (de) Galvanisches bad oder mischung zur verwendung in einem galvanischen bad zur abscheidung einer glanznickelschicht sowie verfahren zur herstellung eines artikels mit einer glanznickelschicht
DE362981T1 (de) Waesseriges elektroplattierungsbad und verfahren zum elektroplattieren von zinn und/oder blei.
DE3447813C2 (de)
DE2610705C3 (de) Saure galvanische Kupferbäder
DE1242969B (de) Verfahren zur galvanischen Herstellung von korrosionsfesten, aus einer Nickel- und einer Chromschicht bestehenden UEberzuegen
DE3402554C2 (de)
DE2608644C3 (de) Glanzzinkbad
DE19547900C2 (de) Galvanisches Platinbad
DE3149043A1 (de) "bad zur galvanischen abscheidung duenner weisser palladiumueberzuege und verfahren zur herstellung solcher ueberzuege unter verwendung des bades"
DE3108508C2 (de) Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung
DE1009880B (de) Saures Bad zur galvanischen Abscheidung glatter Zinnschichten
DE3228911C2 (de)
DE1952218A1 (de) Verfahren und Mittel zum galvanischen Verzinnen
DE3108467A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung einer palladium/nickel-legierung
DE2014122C3 (de) Wäßriges saures Rutheniumbad zur galvanischen Abscheidung von Ruthenium
DE3619386C2 (de)
DE3232735C2 (de) Verwendung einer als Glanzbildnerzusatz zu Nickelbädern bekannten Verbindung als Korrosionsschutzadditiv
DE957615C (de) Mehrstufige galvanische Glanzvernickelung
EP1630258B1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer
DE3139641A1 (de) "galvanisches bad und verfahren zur abscheidung halbglaenzender duktiler und spannungsfreier nickelueberzuege"
DE971335C (de) Glanzvernickelung
DE3108466A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung einer palladium/nickel-legierung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: DEGUSSA-HUELS AG, 60311 FRANKFURT, DE

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: DEGUSSA GALVANOTECHNIK GMBH, 73525 SCHWAEBISCH GMU

8339 Ceased/non-payment of the annual fee