DE1239906B - Verfahren zur Herstellung eines Boridueberzuges auf elektrolytischem Wege - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Boridueberzuges auf elektrolytischem WegeInfo
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 60
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 45
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 13
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 11
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000008030 elimination Effects 0.000 claims description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 16
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 8
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- 235000019786 weight gain Nutrition 0.000 description 7
- 230000004584 weight gain Effects 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- -1 boron halide Chemical class 0.000 description 5
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 3
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- 229910001104 4140 steel Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010041662 Splinter Diseases 0.000 description 2
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 235000021053 average weight gain Nutrition 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010963 304 stainless steel Substances 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000589 SAE 304 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000639 Spring steel Inorganic materials 0.000 description 1
- LIQLLTGUOSHGKY-UHFFFAOYSA-N [B].[F] Chemical compound [B].[F] LIQLLTGUOSHGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- XTDAIYZKROTZLD-UHFFFAOYSA-N boranylidynetantalum Chemical compound [Ta]#B XTDAIYZKROTZLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011833 salt mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940096017 silver fluoride Drugs 0.000 description 1
- REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M silver monofluoride Chemical compound [F-].[Ag+] REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B35/00—Boron; Compounds thereof
- C01B35/02—Boron; Borides
- C01B35/04—Metal borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D9/00—Electrolytic coating other than with metals
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
Int. Cl.:
C23b
C'2 Sj)
Deutsche Kl.: 48 a - 5/60
Nummer: 1 239 906
Aktenzeichen: G 34270 VI b/48 a
Anmeldetag: 15. Februar 1962
Auslegetag: 3. Mai 1967
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Boridüberzuges durch Kontaktabscheidung
mit gegebenenfalls zusätzlicher äußerer EMK auf Metallkörpern mit einem Schmelzpunkt von
wenigstens 600° C und aus wenigstens 50 Molprozent wenigstens eines Metalls mit der Ordnungszahl
23 bis 29, 41 bis 47, 73 bis 79 durch Abscheiden von Bor aus einem Schmelzbad einer Borverbindung.
Normalerweise geht man bei der Herstellung eines Boridüberzuges so vor, daß man den Metallgegenstand
Borhalogeniddämpfen bei einer Temperatur aussetzt, die zur Zersetzung der Halogenide und zur
Abscheidung eines Borüberzuges auf dem Metall ausreicht. Das Metall wird dann auf eine noch höhere
Temperatur aufgeheizt, damit das Bor in das Metall hineindiffundiert und sich mit dem Metall legiert. In
Abwesenheit eines reduzierenden Gases tritt eine Verschiebungsreaktion auf, bei welcher das Bor im
Borhalogenid teilweise durch das Metall ersetzt wird. In Gegenwart von Wasserstoff wird das Borhalogenid
zu Bor und Halogenwasserstoff reduziert. Zur Erzielung ausreichender Abscheidungsgeschwindigkeiten
sind Temperaturen in der Größenordnung von 1200 bis 14000C erforderlich. Die Abscheidungsgeschwindigkeit
muß sorgfältig gesteuert werden, da sich bei schneller Abscheidung eine untere Boridschicht
und darüber eine äußere aus geschmolzenem Bor bestehende Schicht bildet. Zur Erzielung haftender
Überzüge ist es normalerweise erforderlich, zunächst einen sehr dünnen Überzug abzuscheiden und
dann in Wasserstoff zu glühen, damit der Überzug in das Metall diffundiert. Zur Erzielung der gewünschten
Dicke werden in derselben Weise weitere Überzüge aufgebracht. Dieses Verfahren eignet sich nicht
zur Herstellung von Präzisionsteilen, die vor dem Aufbringen eines Boridüberzuges auf sehr genaue
Toleranzen bearbeitet werden müssen. Durch die hohen Temperaturen und Phasenumwandlungen,
denen die Teile beim Aufheizen und Abkühlen ausgesetzt sind, verformen sich die Teile, besonders
wenn eine mehrmalige Behandlung zur Erzielung der gewünschten Überzugsdicke erforderlich ist, wodurch
die Toleranzgrenzen überschritten werden. Die Abscheidungsgeschwindigkeiten von Bor hängt sehr
stark von der Geschwindigkeit des über die Oberfläche streichenden Borhalogenids und von der Temperatur
des zu überziehenden Gegenstandes ab. Da diese Bedingungen sehr schwierig zu steuern sind,
besonders bei großen oder unregelmäßig geformten Gegenständen, sind die auf die gesamte Oberfläche
aufgebrachten Überzüge gewöhnlich nicht gleichmäßig.
Verfahren zur Herstellung eines Boridüberzuges
auf elektrolytischem Wege
auf elektrolytischem Wege
Anmelder:
General Electric Company,
Schenectady, N.Y. (V. St. A.)
Schenectady, N.Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. M. Licht und Dr. R. Schmidt,
Patentanwälte, München 2, Theresienstr. 33
Als Erfinder benannt:
Newell Choice Cook,
Schenectady, N.Y. (V. St. A.)
Newell Choice Cook,
Schenectady, N.Y. (V. St. A.)
Es wurden bereits Boridüberzüge auf Eisen unter Anwendung einer Schmelzelektrolyse aufgebracht,
bei welcher in einem aus einer Borverbindung, beispielsweise Boroxyd, Borsäure, Borax usw., bestehenden
Schmelzbad der aus Eisen bestehende Gegenstand als Kathode und Graphit als Anode verwendet
wurde. Dabei sind Spannungen von 4 bis 40VoIt und Stromdichten von 50 bis 100 Ampere
pro Quadratzentimeter erforderlich. Bei niedrigeren Stromdichten kann sich das Eisen in dem Schmelzbad
schneller auflösen, als Bor auf dem Eisen abgeschieden wird, wodurch sich ein Gewichtsverlust ergibt.
Dieser Effekt ist besonders bei Borverbindungen beachtlich, die sauer sind, beispielsweise bei Borsäure, oder die Borsäure als Verunreinigung enthalten.
Es hat sich nun unerwarteterweise herausgestellt, daß man einen gleichmäßigen, gut haftenden, zähen,
korrosionsfesten Boridüberzug erzielt, wenn beim Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß
ein aus 0,5 bis 50 Molprozent wenigstens eines Alkalimetallfluorborates und wenigstens einem
Alkalimetallfluorid bestehendes, auf eine Temperatur von 600 bis 800° C gehaltenes Schmelzbad verwendet
und mit einer Boranode bei einer Stromdichte von bis zu 3 Ampere pro Quadratdezimeter unter
weitgehender Abwesenheit von Sauerstoff gearbeitet wird. Zweckmäßigerweise wird das Schmelzbad zur
Beseitung von Sauerstoff unter Vakuum gehalten.
Wird außerhalb des Schmelzbades eine elektrische
Verbindung zwischen dem Metallkörper und der Boranode hergestellt, geht Bor im Schmelzbad in
Lösung, und Borionen werden an der Oberfläche des Metalls entladen, wobei das sich abscheidende Bor
3 4
sofort in den Metallkörper diffundiert und unter BiI- oder Deformation der mit einer Boridschicht zu verdung
eines Boridüberzuges mit dem Metall reagiert. sehenden Gegenstände eine möglichst niedrige Tem-Es
hat sich herausgestellt, daß sich die Lösungsge- peratur erwünscht ist, können Mischungen eines oder
schwindigkeit und Abscheidungsgeschwindigkeit von mehrerer Fluoride mit einem oder mehreren Fluor-Bor
selbst einreguliert, so daß niemals mehr Bor ab- 5 boraten zur Herstellung von Bädern verwendet wergeschieden
wird, als diffundieren und sich mit dem den, die einen niedrigeren Schmelzpunkt als die einMetall
legieren kann. Eine niedrigere Abscheidungs- zelnen Bestandteile der Bäder haben,
geschwindigkeit kann gegebenenfalls leicht in an sich Das Verfahren ist bei einer Temperatur von nicht bekannter Weise erzielt werden, beispielsweise durch unter ungefähr 600° C durchzuführen, selbst wenn Einschalten eines entsprechenden Widerstandes, io das Schmelzbad eine viel niedrigere Schmelztempedurch Änderung der dem Bad ausgesetzten Ober- ratur hat, um eine angemessene Abscheidungsgefläche usw. Zur Erzielung einer höheren Geschwin- schwindigkeit zu erzielen und ein Hineindiffundieren digkeit kann an den Stromkreis zur Erzeugung zu- des Bors in das Metall unter Bildung von Borid zu sätzlichen Gleichstroms eine begrenzte Spannung an- gewährleisten. Bei niedrigeren Temperaturen ist es gelegt werden. 15 möglich, daß sich das Bor nur auf der Metallober-
geschwindigkeit kann gegebenenfalls leicht in an sich Das Verfahren ist bei einer Temperatur von nicht bekannter Weise erzielt werden, beispielsweise durch unter ungefähr 600° C durchzuführen, selbst wenn Einschalten eines entsprechenden Widerstandes, io das Schmelzbad eine viel niedrigere Schmelztempedurch Änderung der dem Bad ausgesetzten Ober- ratur hat, um eine angemessene Abscheidungsgefläche usw. Zur Erzielung einer höheren Geschwin- schwindigkeit zu erzielen und ein Hineindiffundieren digkeit kann an den Stromkreis zur Erzeugung zu- des Bors in das Metall unter Bildung von Borid zu sätzlichen Gleichstroms eine begrenzte Spannung an- gewährleisten. Bei niedrigeren Temperaturen ist es gelegt werden. 15 möglich, daß sich das Bor nur auf der Metallober-
Die Erfindung soll nun näher erläutert werden. fläche abscheidet und nicht in das Metall hinein-Bei
den mit dem erfindungsgemäßen Verfahren mit diffundiert. Vorzugsweise verwendet man Temperaeinem
Boridbelag überziehbaren Metallen handelt es türen von nicht über 800° C, da das Alkalimetallsich
um die Metalle mit den Ordnungszahlen 23 bis fluoborat sich im Gleichgewicht mit Bortrifluorid und
einschließlich 29, 41 bis einschließlich 47 und 73 bis 20 dem Alkalimetallfluorid befindet und bei Temperaeinschließlich
79. Zu diesen Ordnungszahlbereichen türen von über 800° C der Dampfdruck des Bortrigehörcn
die Metalle, die in dem in Lange's Hand- fluoride so groß ist, daß es aus dem Salzschmelzbad
book of Chemistry, 9th Edition, Handbook Publis- abgedampft wird. Wegen dieser Gleichgewichtsreakhers,
Inc., Sandusky, Ohio, 1956, auf S. 56 und 57 tion ist es auch möglich, das gewünschte Alkaligezeigten
Periodischen System der Elemente in der 25 metallfmoborat unmittelbar im Salzschmelzbad durch
Gruppe IB, VB, VIB, VIIB und VIII angeführt Auflösen von Bortrifluorid in dem aus Alkalimetallsind.
Dabei umfaßt die Gruppe IB Kupfer, Silber fluorid bestehenden Schmelzbad herzustellen. Nor-
und Gold, die Gruppe VB Vanadium, Niob und malerweise sollen im Schmelzbad 0,5 bis 50 Molpro-Tantal,
die Gruppe VIB Chrom, Molybdän und zent Alkalimetallfluoborat vorhanden sein. Vorzugs-Wolfram,
die Gruppe VIIB Mangan, Technetium 30 weise wird eine Konzentration von 1 bis 5 Molpro-
und Rhenium und die Gruppe VIII Eisen, Kobalt, zent verwendet. Bei unter 0,5 Molprozent liegenden
Nickel, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Osmium, Mengen lassen die Qualität und die Geschwindigkeit
Iridium und Platin. Das erfindungsgemäße Verfahren der Boridbildung merklich nach. Mengen von über
kann auch bei Legierungen dieser Metalle unterein- 5 Molprozent haben zwar keinen nachteiligen Einander
oder bei Legierungen verwendet werden, bei 35 fluß, sind jedoch unwirtschaftlich, da die höhere
denen diese Metalle als Hauptbestandteil, d. h. mit Konzentration die Bildung des Boridüberzuges nicht
über 50 Molprozent, jedoch gewöhnlich mit über begünstigt, sondern lediglich den Partialdruck von
75 Molprozent und vorzugsweise mit über 90 Mol- Bortrifluorid und daher die Verdampfungsverluste
prozent, vorhanden sind und mit anderen Metallen von Bortrifluorid erhöht.
als Nebenbestandteil legiert sind, d. h. mit weniger 40 Die Ausgangssalze sollten möglichst frei von Wasals
50 Molprozent, jedoch gewöhnlich weniger als ser und allen Verunreinigungen sein oder sollten
25 Molprozent und vorzugsweise weniger als 10 Mol- durch einfaches Aufheizen beim Schmelzen leicht geprozent,
wobei jedoch die Voraussetzung gilt, daß trocknet oder gereinigt werden können. Der Einfluß
der Schmelzpunkt der sich ergebenden Legierung der Verunreinigungen ist noch nicht genau bekannt,
nicht unter 600° C liegt. Bei Verwendung anderer 45 Da sich Sauerstoff nachteilig auf die Reaktion ausMetalle
als Nebenbestandteil einer Legierung der wirkt, muß das Verfahren in einer Atmosphäre
oben angegebenen Metalle wird die Bildung des ge- durchgeführt werden, die im wesentlichen frei von
wünschten Borüberzugs auf dem Gegenstand nicht Sauerstoff ist, beispielsweise in einer Schutzgasatmoverhindert.
Diese Nebenbestandteile können irgend- sphäre oder in Vakuum. Sehr nachteilig wirken sich
welche andere Metalle des Periodischen Systems sein, 50 Sulfate aus, die die Erzielung einer einwandfreien
d. h. Metalle der Gruppen IA, II A, IIB, III A, III B, Boridschicht unmöglich oder außerordentlich schwie-IVA,
IVB, VA und VIA. Diese Metalle haben die rig machen. Auch andere Metallverbindungen kön-Ordnungszahlen
3, 4, 11 bis einschließlich 13, 19 bis nen die Bildung von schlechten Boridschichten zur
einschließlich 22, 30 bis einschließlich 32, 37 bis ein- Folge haben. Die besten Ergebnisse erzielt man,
schließlich 40, 48 bis einschließlich 51, 55 bis ein- 55 wenn man als Ausgangsstoffe chemisch reine Salze
schließlich 72, 80 bis einschließlich 84 und 87 bis verwendet und das Verfahren im Vakuum durcheinschließlich
98. In der Beschreibung und in den führt. Es ergab sich manchmal, daß selbst im Handel
Ansprüchen wird der Ausdruck »Borid« zur Be- erhältliche, chemisch reine Salze weitergereinigt werzeichnung
irgendeiner aus Bor und Metall bestehen- den mußten, damit das Verfahren zufriedenstellend
den festen Lösung oder Legierung verwendet, und 60 durchgeführt werden konnte. Diese weitere Reinizwar
ohne Rücksicht darauf, ob das Metall mit Bor gung kann leicht dadurch erfolgen, indem man zueine
intermetallische Verbindung mit einem bestimm- nächst Ausschußware verwendet, die vorzugsweise
ten stöchiometrischen Verhältnis bildet, das durch aus dem gleichen Material wie die später zu behaneine
chemische Formel dargestellt werden kann. delnden Gegenstände besteht, und auf diese Borid-
Zur Herstellung des Schmelzbades können die 65 überzüge gegebenenfalls unter Verwendung einer zu-
Fluoride und Fluoborate der Alkalimetalle Lithium, sätzlichen Spannung aufbringt, wodurch aus dem
Natrium, Kalium, Rubidium und Caesium verwendet Schmelzbad die Verunreinigungen abgeschieden und
werden. Da zur Verhinderung einer Beschädigung entfernt werden, welche die Bildung eines hochwer-
tigen Boridbelages verhindern würden. Die Durchführung des Verfahrens unter Vakuum ist günstig, da
dadurch Verunreinigungen und störende Substanzen, beispielsweise Wasser, aus dem Schmelzbad abgedampft
werden. Es ist außerdem wünschenswert, daß die Metalloberfläche vor dem Einführen in das
Schmelzbad vollständig gereinigt wird, beispielsweise durch Beizen gegebenenfalls verbunden mit einer
Scheuerbehandlung.
Es hat sich weiterhin herausgestellt, daß zur Erzielung eines gleichmäßigen Boridüberzuges auf
großen Flächen ein poröser, leitender Behälter vorteilhaft ist, welcher sich bei den Verfahrensbedingungen
neutral verhält, beispielsweise ein perforierter Graphitkorb, welcher das Bor in Form von kleinen
Stücken enthält. Diese Anordnung ist besser als ein einziger Borkörper, da Bor die Elektrizität nicht gut
leitet und sich wegen des im Borkörper auftretenden Spannungsabfalls das Bor sich hauptsächlich an der
Stelle abscheidet, an welcher der Borkörper in das Schmelzbad eintaucht. Dadurch wird also an der dieser
Stelle am nächsten liegenden Fläche des zu behandelnden Gegenstandes mehr Bor als an einer weiter
von dieser Stelle entfernten Fläche des Gegenstandes abgeschieden, selbst wenn beide Flächen von
dem festen Borkörper den gleichen Abstand haben. Durch Verwendung eines leitenden Behälters löst
sich Bor einheitlich über die gesamte Fläche auf, und es entstehen auf kleinen Gegenständen einheitliche
Boridbelege, wenn die Borelektrode wenigstens 6 mm und vorzugsweise 25 bis 50 mm vom Gegenstand
entfernt ist. Sollen außerordentlich große Gegenstände mit einer Boridschicht versehen werden, beispielsweise
eine Platte, bei welcher eine Seite von der einzigen Borelektrode abgeschirmt wäre, dann
verwendet man gegebenenfalls zwei oder mehrere Borelektroden, die entsprechend rund um den Gegenstand
zur Erzielung eines einheitlichen Überzuges angeordnet sind. Festes Bor ist sehr empfindlich
gegen thermische Schocks und kann unter den Betriebsbedingungen splittern. Die poröse Korbelektrode
verhindert, daß die abgesplitterten Stücke verlorengehen.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann in sehr zufriedenstellender Weise ohne Verwendung einer zusätzlichen
EMK im elektrischen Stromkreis verwendet werden. Falls jedoch die Abscheidungsgeschwindigkeit
von Bor erhöht werden soll, ohne daß die DifTusionsgeschwindigkeit von Bor in den Gegenstand
zur Bildung der Boridschicht überschritten werden soll, kann eine kleine Spannung von außen
aufgeprägt werden. Die aufgeprägte EMK sollte 0,5 Volt nicht überschreiten und normalerweise zwischen
0,1 und 0,3 Volt liegen. Höhere Spannungen weisen auf einen oder mehrere der folgenden Zustände
hin: (1) höherer Widerstand irgendwo in der äußeren Leitung, (2) Verunreinigungen im Bad,
welche sich störend auf die gewünschten chemischen Reaktionen an der Elektrode auswirken, (3) zu hohe
Abscheidungsgeschwindigkeiten, (4) Wackelkontakte oder durch Korrosion angegriffene Kontakte usw. Das
erfindungsgemäße Verfahren funktioniert auch zwar unter diesen Umständen zufriedenstellend, jedoch
sollen diese Zustände nach Möglichkeit beseitigt werden, damit eine wirksamere Arbeitsweise gewährleistet
ist. Besteht beispielsweise die Anode aus einem festen Borstab, dann kann die Spannung manchmal
diese Grenzen überschreiten, da wegen der niedrigen Leitfähigkeit von Bor der Widerstand im Stromkreis hoch ist. Dies kann beispielsweise vermieden
werden, indem man einen mit einzelnen Borstücken beschickten porösen Graphitkorb oder das Bor in
Verbindung mit einem gut leitenden Kern verwendet.
Wird die Verfahrensanordnung ohne äußere EMK als Zelle betrieben, dann beträgt bei 700 bis 800° C
die anfängliche Stromdichte 0,1 bis 1,0 Ampere pro Quadratdezimeter. Mit zunehmender Dicke des Boridüberzuges
auf dem Gegenstand nimmt die Stromdichte ab und beträgt bei einer Dicke des Überzuges
von ungefähr 0,025 mm nur mehr gewöhnlich ein Drittel bis ein Zehntel des Anfangswertes.
Wird zur Verkürzung der für das Verfahren erforderlichen Zeit eine zusätzliche äußere Spannung
dem Stromkreis aufgezwungen, dann sollte die Gesamtstromstärke einen Betrag von 3 Ampere pro
Quadratdezimeter nicht überschreiten. Bei der Herstellung dicker Boridüberzüge sollte die Stromdichte
vorzugsweise einen Wert von 1 Ampere pro Quadratdezimeter nicht überschreiten, nachdem die Boridschicht
bereits 0,025 mm dick ist. Bei oberhalb diesen angegebenen Bereichen liegenden Stromdichten
entsteht elementares Bor in Form von nicht haftenden Belägen oder in Form von körnigen kristallinen
Abscheidungen, die einen rauhen Belag ergeben, der bei weiterer Elektrolyse oder beim Abkühlen auf
Zimmertemperatur zum Splittern neigt. Solche Niederschläge sind lediglich bei der elektrolytischen Gewinnung
von Bor aus Borverbindungen erwünscht.
Bei Verwendung einer äußeren EMK, beispielsweise einer Batterie oder einer anderen Gleichspannungsquelle
sollte diese so in Reihe in den äußeren Stromkreis eingeschaltet werden, daß die negative
Klemme mit dem zu überziehenden Metall und die positive Klemme mit der Borelektrode verbunden
wird. Dadurch addiert sich die Spannung der Zelle zu der von außen zugeführten Spannung.
Zur Steuerung des Verfahrens können natürlich in den äußeren Kreis Meßinstrumente, beispielsweise
Voltmeter, Amperemeter, Widerstände, Zeitgeber usw., eingeschaltet werden.
Zur näheren Erläuterung der Erfindung dienen die folgenden Beispiele. Im Rahmen der Erfindung können
natürlich die angeführten Reaktionsbedingungen und Reaktionsteilnehmer in vielerlei Hinsicht abgeändert
werden.
Ein Gefäß aus rostfreiem Stahl (Tiefe 280 mm, Innendurchmesser 120 mm) mit einer Monelauskleidung
(Tiefe 275 mm, Innendurchmesser 115 mm) wurde mit 2610 g (45 Mol) chemisch reinem wasserfreiem
KF, 1170 g (45 Mol) chemisch reinem LiF und 420 g (10 Mol) chemisch reinem NaF beschickt.
Das Gefäß wurde mit einer Glashaube bedeckt, die zwei Öffnungen für die Elektroden, eine Öffnung für
ein Thermoelement und einen Anschluß für eine Vakuumquelle hatte. Ein durch Nickeldraht an
einem Nickelstab mit einem Durchmesser von ungefähr 6,5 mm befestigter Borstab (6,5 · 6,5 ■ 75 mm)
wurde mit Hilfe einer Gummirohrdichtung in einer der Elektrodenöffnungen befestigt. In die andere
Elektrodenöffnung wurde in ähnlicher Weise ein Eisenband (2 · 10 · 0,05 cm) als Kathode eingebracht.
Das Gefäß wurde in einen elektrischen Ofen gebracht, der aus einem Aluminiumoxydrohr mit einer
Chromnickelheizwicklung bestand, evakuiert und auf eine Temperatur von 600° C gebracht, bei welcher
das Salzgemisch eine wasserklare Schmelze war. Anschließend wurde die Schmelze auf Zimmertemperatur
abgekühlt und der Schmelze 1 Mol KBF4 zügegeben,
worauf das Gemisch wieder im Vakuum geschmolzen wurde. Der Dampfdruck von BF3 über
der Schmelze bei 700° C lag unter 0,5 mm. Alle weiter unten angegebenen Reaktionsbeispiele wurden
bei Drücken von 0,1 bis 3,0 mm durchgeführt. Ahnlieh
erfolgreiche Reaktionen wurden in Schutzgasatmosphären erzielt, jedoch wurde Vakuum bevorzugt,
da im Vakuum ausgezeichnete Ergebnisse einwandfrei erzielt werden können. Die Boranode und
die Eisenkathode wurden in die Schmelze so weit eingetaucht, daß die Verbindungsstellen mit den
Nickelstäben ungefähr 6 bis 12 mm oberhalb der Schmelze lagen. Anschließend wurde dann die Elektrolyse
durchgeführt, indem in die Verbindungsleitung zwischen Anode und Kathode eine mäßige
EMK eingeschaltet wurde. In diesen äußeren Stromkreis wurde in bekannter Weise ein Amperemeter
und ein Voltmeter eingeschaltet. Es wurden dabei folgende Ergebnisse erzielt:
| Zeit | Temperatur | Stromdichte |
| Minuten | 0C | A/dm2 |
| 0 | 700 | 1,0 |
| 2 | 700 | 1,0 |
| 11 | 700 | 0,75 |
| 15 | 700 | 0,75 |
| 25 | 700 | 0,75 |
| 31 | 700 | 0,75 |
| 228 (Ende) | 700 | 0,50 |
30
35
Nach diesem Versuch wurden die Elektroden aus dem Salzbad herausgezogen und die Schmelze vor
dem öffnen der Zelle auf Zimmertemperatur abgekühlt. Die tatsächliche Gewichtszunahme der Eisenkathode
betrug 40 mg bei einer theoretischen Gewichtszunahme von 70 bis 75 mg. Die Eisenelektrode
war mit einer harten, glatten, haftenden Boridschicht überzogen, deren durch metallurgische Methoden gemessene
Dichte 0,025 mm betrug und die, wie sich bei Röntgenuntersuchungen ergab, aus einem Gemisch
von Fe2B (innerer Teil der Schicht) und FeB (äußerer Teil der Schicht) bestand. Die Borelektrode
war etwas unterhalb der Oberfläche der Schmelze abgebrochen. Auch bei weiteren Versuchen ergab
sich, daß Borstäbe nicht ohne Zersplittern erwärmt und gekühlt werden können, so daß in allen folgenden
Beispielen mit Ausnahme von Beispiel 8 an Stelle der Borstäbe Kohlenstoffkörbe verwendet werden,
die mit körnigem Bor gefüllt sind.
Wurde die oben beschriebene Zelle ohne äußere EMK betrieben, dann betrug die Stromdichte beim
Aufbringen der Boridschicht auf den Stahl 0,1 Ampere pro Quadratdezimeter.
messer) verwendet, der mit 15 g Borkörnern (mit einer Körnung entsprechend der Maschenweite von
Prüfsieben mit ungefähr 2,3 bis 5,5 Maschen pro Zentimeter) gefüllt wurde. Die Anode und die Kathode
wurden wie im Beispiel 1 miteinander verbunden und wiederum eine mäßige EMK von außen zugeführt.
| Zeit | Temperatur | Stromdichte |
| Minuten | 0C | A/dm2 |
| 0 | 700 | 0,10 |
| 5 | 700 | 0,10 |
| 13 | 700 | 0,10 |
| 22 | 700 | 0,10 |
| 45 | 700 | 0,085 |
| 65 | 700 | 0,085 |
Der Gewichtsverlust des Tantalkorbes betrug 17 mg bei einem theoretisch möglichen Gewichtsverlust
von 143 mg für den Fall, daß sich kein Bor löst. 88% der anodischen Zersetzung trat also an den in
dem Tantalkorb befindlichen Borkristallen auf, während lediglich 12°/o am Tantal selbst auftraten. Nach
einer auf das obige Beispiel folgenden, aus zehn Versuchen bestehenden Versuchsreihe betrug die anodische
Zersetzung am Tantalkorb nur mehr 3 °/o und die anodische Zersetzung an den Borkörnern 97°/o.
Daraus kann geschlossen werden, daß sich möglicherweise durch die teilweise kurzgeschlossene Zellenwirkung
ein schützender Tantalboridüberzug bildet, da Tantal mit einem Boridüberzug versehen werden
kann, wenn es als Kathode vorhanden ist.
Die Gewichtszunahme der Kathode betrug 101 mg bei einer theoretisch möglichen Gewichtszunahme von
143 mg. Am Stahl konnten keine Maßänderungen festgestellt werden, und die mit einer Boridschicht
versehene Oberfläche hatte denselben schönen Glanz wie die ursprüngliche Oberfläche. Der Überzug (metallurgisch
bestimmte Dicke von ungefähr 0,038 mm) war glatt und hart (Vickers-Härte von 1700 im Vergleich
zu 300 bis 400 für unbehandelten 4140-Stahl) und konnte ohne Reißen und Splittern mit einem
Kugelhammer eingebeult werden.
Ein Eisenband (2-12-0,05 cm) wurde entsprechend
dem im Beispiel 2 beschriebenen Verfahren mit einer Boridschicht versehen. Als Anode wurde jedoch ein
Korb aus Kohlenstoff (Außendurchmesser: 22,2 mm, Innendurchmesser: 17,9 mm, Länge: 178 mm) verwendet,
der mit Borkörnern (mit einer Korngröße entsprechend der Maschenweite von Prüfsieben mit
2,3 bis 5,5 Maschen pro Zentimeter) gefüllt wurde. Am Anfang wurde in den äußeren Kreis keine zusätzliche
EMK eingeschaltet.
60
Als Kathode wurde ein Stab (12 · 4 · 0,5 cm) aus S. A. E.-4140-Stahl verwendet, der mit einem Stück
Tantaldraht an einem Nickelstab mit einem Durchmesser von ungefähr 6 mm aufgehängt und die im
Beispiel 1 beschriebene Salzschmelze vollständig eingetaucht wurde. Als Anode wurde ein perforierter
Tantalkorb (75 mm lang und ungefähr 12 mm Durch-
| Zeit | Temperatur | Strom dichte |
Betriebsweise |
| Minuten | 0C | A/dm2 | |
| 0 | 680 | 0,32 | I keine zu- |
| 13 | 710 | 0,38 | Isätzliche EMK |
| 21 | 730 | 0,43 | |
| 35 | 750 | 0,50 | J |
| 55 | 750 | 1,0 | I zusätzliche |
| 140 | 750 | 1,0 | [ EMK |
| 170 (Ende) | 750 | 1,0 |
Die Gewichtszunahme des Eisenbandes entsprach der theoretischen Gewichtszunahme, die durch die
Bormenge (152 mg) gegeben ist, welche durch die zwischen den Elektroden geflossene Strommenge abgeschieden
würde. Das Band hatte einen harten, glatten, einheitlichen Boridüberzug. Bei der metallographischen
Analyse wurde eine Dicke des Boridüberzuges von 0,038 mm festgestellt, obwohl die ursprüngliche
Dicke weniger als 0,0025 mm geschwankt hatte.
Ein Nickelband (10·3 0,075 cm) wurde entsprechend dem im Beispiel 2 beschriebenen Verfahren
mit einer Boridschicht versehen.
| Zeit | Temperatur | Stromdichte |
| Minuten | 0C | A/dm2 |
| 0 | 738 | 0,63 |
| 2 | 740 | 0,31 |
| 3 | 740 | 0,33 |
| 60 | 750 | 0,33 |
| 240 | 750 | 0,33 |
| Zeit Minuten |
Temperatur 0C |
Stromdichte A/dm2 |
Betriebsweise |
| 0 4 20 21 192 247 |
745 745 745 745 745 745 |
0,25 0,20 0,14 0,20 0,20 0,20 |
I keine zu sätzliche EMK I zusätzliche f EMK |
dicke von 0,28 mm auf ungefähr 0,12 mm trat kein Ablösen oder Zerreißen des Überzuges auf. Die
Boridschicht verlieh dem Band auch eine beträchtliche Elastizität, und das Kobaltband, das vor dem
Aufbringen einer Boridschicht Ähnlichkeit mit geglühtem Kupferband hatte, benahm sich nach dem
Aufbringen der Boridschicht wie ein Stück Federstahl.
Mit der Kante des Bandes konnte leicht Pyrexglas
ίο angekratzt werden, wenn das Band über die Glasoberfläche
gezogen wurde.
Eine Chromscheibe (Durchmesser: 18,6 mm, Dicke: 2,5 mm) wurde entsprechend dem im Beispiel
2 beschriebenen Verfahren mit einer Boridschicht versehen. Da ein Vorversuch ergeben hatte,
daß bei Chrom die Boridbildung sehr langsam verläuft, wurde längere Zeit die Stromdichte auf einen
niedrigen Wert gehalten, indem nur eine sehr kleine EMK im äußeren Kreis verwendet wurde.
Die Gewichtszunahme des Nickelbandes betrug 111 mg, was dem theoretischen Borgewicht entspricht.
Das Nickelband hatte einen harten, glatten, einheitlichen Belag, der eine Dicke von 0,038 mm hatte
und Ni2B enthielt. Die Dicke des Nickelbandes nahm um ungefähr 0,005 bis 0,0075 mm zu. Die Boridschicht
konnte ohne Splittern und Reißen gebogen und deformiert werden, jedoch nicht in demselben
Maß wie die auf Eisen aufgebrachte Boridschicht.
Ein Kobaltband (2,2 · 11,5 · 0,028 cm) wurde im allgemeinen entsprechend dem im Beispiel 2 beschriebenen
Verfahren mit einer Boridschicht versehen.
| Zeit | Temperatur | Stromdichte |
| Minuten | 0C | A/dm2 |
| 0 | 750 | 0,23 |
| 275 | 750 | 0,23 |
| 276 | 750 | 0,15 |
| 925 | 750 | 0,15 |
30 Die Gewichtszunahme des Chroms betrug 7,2 mg
bei einer theoretisch möglichen Gewichtszunahme von 22,1 mg. Bei der mikroskopischen Untersuchung
zeigte sich ein glatter Überzug mit einer Dicke von 0,01 mm, obwohl die Dickenzunahme der Scheibe
nur ungefähr 0,0025 mm betrug. Der Überzug war außerordentlich hart und konnte nur schwer mit
Schmirgel poliert werden. Mit dem Überzug konnte außerdem leicht Hartmetall aus Wolframkarbid und
Kobalt abgescheuert werden. Der Überzug hatte ungefähr dieselbe Farbe wie das unbehandelte Metall
und konnte ungefähr in der gleichen Weise wie das Metall verformt werden.
45
Eine ausNiob bestehendeDrahtschleife (20 -0,10 cm)
wurde entsprechend dem im Beispiel 2 angegebenen Verfahren mit einem Boridüberzug versehen.
Die Gewichtszunahme des Kobaltbandes entsprach der theoretischen Bormenge, die im vorliegenden Fall
53 mg beträgt. Das Kobaltband besaß einen harten, äußerlich glatten, haftenden Überzug mit einer Dicke
von 0,012 bis 0,032 mm. Diese Dickenänderung ist auf wurzelartige Finger zurückzuführen, die in den
Kobaltkörper hineinwachsen und als Wurzeln des Boridüberzuges wirken. Das Band konnte auf einen
Krümmungsradius von 6 mm ohne Zerreißen und Zersplittern des Überzuges auf der Innenseite der
Krümmung und auf einen Krümmungsradius von ungefähr 3 mm gebogen werden, ohne daß auf der
äußeren Seite der Krümmung ein Zerreißen oder Absplittern des Überzuges beobachtet werden konnte.
Bei Verformung des Bandes mit einem Kugelhammer auf einem Stahlblock unter Verringerung der Band-
| Zeit Minuten |
Temperatur 0C |
Stromdichte A/dm2 |
| 0 70 195 |
700 700 700 |
0,8 0,8 0,8 |
Die Gewichtszunahme des Drahtes betrug 2,8 mg bei einer theoretisch möglichen Gewichtszunahme
von 21,5 mg. Der Draht hatte einen harten, glatten, leicht grauen Überzug, dessen durch mikroskopische
Betrachtung gefundene Dicke zwischen 0,0025 und 0,005 mm lag. Die Dicke des Drahtes war ungefähr
um 0,0025 mm größer als zuvor. Der Überzug war ziemlich biegsam.
Ein Molybdänband (10 - 1,5 ■ 0,05 cm) wurde entsprechend dem im Beispiel 1 beschriebenen Verfahren
709 578/275
unter Verwendung eines festen Borstabes mit einer Boridschicht versehen.
| Zeit | Temperatur | Stromdichte |
| Minuten | 0C | A/dm2 |
| 0 | 710 | 1,0 |
| 20 | 720 | 1,0 |
| 110 | 720 | 0,73 |
| 165 | 720 | 1,0 |
Oberfläche war außerordentlich hart, ritzte Glas und Hartmetall aus Wolframkarbid und Kobalt und
konnte mit Schmirgelpapier nur sehr langsam poliert werden.
Ein Rheniumband (7,5-0,6-0,012 cm) wurde untei
Verwendung des im Beispiel 3 beschriebenen Verfahrens mit einer Boridschicht versehen.
10
Die Gewichtszunahme des Molybdänbandes betrug 29 mg bei einer theoretisch möglichen Gewichtszunahme
von 100 mg. Die Dickenzunahme betrug 0,0025 mm. Bei mikroskopischer Betrachtung des
Überzuges wurde gefunden, daß der Überzug insgesamt eine Dicke von 0,0075 bis 0,01 mm hatte und
aus zwei Schichten bestand, von denen die äußere Schicht ziemlich spröde und sehr hart war und ein
kristallines Aussehen zeigte und die innere Schicht weniger spröde, aber sehr hart und glatt war.
Ein Wolframstab (12 · 0,2 cm) wurde durch das im Beispiel 3 beschriebene Verfahren mit einer Boridschicht
versehen.
30
35
Die Gewichtszunahme des Wolframstabes betrug 12 mg bei einer theoretisch möglichen Gewichtszunahme
von 34 mg. Bei mikroskopischer Betrachtung des Stabquerschnittes zeigte sich ein Überzug,
der eine Dicke von ungefähr 0,0075 mm hatte. Die
| Zeit Minuten |
Temperatur 0C |
Stromdichte A/dm2 |
| 0 43 133 223 (Ende) |
740 740 740 740 |
0,1 0,2 0,2 0,2 |
| Zeit | Temperatur | Stromdichte |
| Minuten | 0C | A/dm2 |
| 0 | 800 | 0,7 |
| 130 | 800 | 0,7 |
| 131 | 800 | 0,3 |
| 700 | 800 | 0,3 |
Die Gewichtszunahme des Rheniumbandes betrug 5,2 mg bei einer! theoretisch möglichen Gewichtszunahme
von 8,6 mg. Die 0,005 mm dicke Boridschicht hatte eine leicht bräunliche Färbung, war
glatt, gleichmäßig, biegsam und außerordentlich hart, ritzte Siliciumcarbid und Saphir und besaß ein
außerordentlich starkes Haftvermögen.
. In der folgenden Tabelle sind weitere Metalle und Legierungen angeführt, die unter Verwendung der im Beispiel 3 beschriebenen Anlage und des dabei beschriebenen Verfahrens mit einer Boridschicht versehen wurden. In der Tabelle ist angegeben, wenn die Versuchsanordnung als Zelle (keine zusätzliche äußere EMK) betrieben wurde. In diesen Fällen ist der Anfangs- und Endwert der Stromdichte angegeben. Alle Legierungen bildeten außerordentlich harte Überzüge, die bei einer Belastung von 100 g Knoop-Härtezahlen von 1200 bis über 2000 zeigten. Aus den durchgeführten Versuchen ergab sich einwandfrei, daß diese Oberflächen im Vergleich zu den unbehandelten Legierungsoberflächen eine erhöhte Korrosionsfestigkeit und eine erhöhte Abtriebfestigkeit aufwiesen.
. In der folgenden Tabelle sind weitere Metalle und Legierungen angeführt, die unter Verwendung der im Beispiel 3 beschriebenen Anlage und des dabei beschriebenen Verfahrens mit einer Boridschicht versehen wurden. In der Tabelle ist angegeben, wenn die Versuchsanordnung als Zelle (keine zusätzliche äußere EMK) betrieben wurde. In diesen Fällen ist der Anfangs- und Endwert der Stromdichte angegeben. Alle Legierungen bildeten außerordentlich harte Überzüge, die bei einer Belastung von 100 g Knoop-Härtezahlen von 1200 bis über 2000 zeigten. Aus den durchgeführten Versuchen ergab sich einwandfrei, daß diese Oberflächen im Vergleich zu den unbehandelten Legierungsoberflächen eine erhöhte Korrosionsfestigkeit und eine erhöhte Abtriebfestigkeit aufwiesen.
| Beispiel | Metall | Kupfer | 14 | kohlenstofffreies Eisen | Tempe ratur |
Stromdichte | 0,15 | Wirkungsgrad in °/o |
Überzug |
| (3,5% C, 2,5 °/o Si, | 0C | A/dm* | |||||||
| 11 | 0,75 %> Mn) | 700 | 30 | Dicke: 0,0075 mm, braun, | |||||
| Tantal | 15 | A.I.S.I.-410-Stahl | 0,1 | äußere Oberfläche härter | |||||
| als eine Feile, spröde | |||||||||
| 12 | Platin | 16 | A.I.S.I.-304-Stahl, rostfrei | 745 | 3 bis 0,3 (Zelle) | 15 | Dicke: 0,0025 mm, grau, hart, | ||
| spröde | |||||||||
| 13 | Legierungen | 17 | InconelX (70%Ni, 15%Cr, | 800 | 100 | sehr hart, glänzend, und mäßig | |||
| 7% Fe, 2,5% Ti, 1% Ta | 0,6 bis 0,2 (Zelle) | biegsam | |||||||
| + Nb, 0,7% Mn, 0,7% Al, | |||||||||
| 0,5% Si, 0,37% C) | 750 | 100 | Dicke: 0,075 mm, grau, härter | ||||||
| 0,4 | als Carboloy, etwas biegsam | ||||||||
| 750 | 0,7 bis 0,1 (Zelle) | 100 | Dicke: 0,05 mm, leicht grau, | ||||||
| sehr hart, biegsam | |||||||||
| 800 | 1,2 bis 0,4 (Zelle) | 100 | Dicke: 0,038 mm, glänzend, | ||||||
| hart, biegsam | |||||||||
| 750 | 100 | Dicke: 0,05 mm, glänzend, | |||||||
| hart, mäßig biegsam | |||||||||
| (Knoop-Härte 1200) | |||||||||
| 13 | Metall | Tempe ratur 0C |
Stromdichte A/dm2 |
Wirkungsgrad in°/o |
14 | Überzug | |
| Beispiel | HastelloyX(45°/oNi, 22°/oCr, 23 VoFe, 9% Mo) HastelloyB(28°/oMo, 5% Fe, 65% Ni, l°/oCr) A 286 (26% Ni, 2% Co, 15°/oCr, 1,25% Mo, 1,5% Mn, 2% Ti, 0,35% Al, Rest Fe |
750 800 750 |
1,3 bis 0,3 (Zelle) 1,0 bis 0,3 (Zelle) 0,4 |
100 100 70 |
Dicke: 0,038 mm, glänzend, hart, biegsam Dicke: 0,05 mm, glänzend, hart, biegsam Dicke: 0,025 mm, blaugrau, hart, mäßig biegsam |
||
| 18 19 20 |
Zur Demonstration des Einflusses der Boridoberflächen auf die Reibungseigenschaften wurden
sechs normale V-Blöcke aus S. A. E.-2320-Stahl und drei normale Stifte aus S. A.E.-3151-Stahl für eine ao
Falex-Testmaschine (D. F. Fuller, »Theory and Practice of Lubrication Engineers«, John Wiley &
Sons, New York, 1956, S. 363 bis 366) entsprechend dem im Beispiel 2 beschriebenen Verfahren mit einer
Boridschicht versehen.
| Zeit | Temperatur | Stromdichte |
| Minuten | 0C | A/dma |
| 0 | 710 | 0,30 |
| 10 | 710 | 0,30 |
| 15 | 710 | 0,30 |
| 50 | 710 | 0,27 |
| 180 | 715 | 0,23 |
35
Das Durchschnittsgewicht der Blöcke betrug 9,2336 g, die durchschnittliche Gewichtszunahme
8,6 mg, das Durchschnittsgewicht der Stifte 7,4302 g und die durchschnittliche Gewichtszunahme der
Stifte 8,2 mg. Die Proben wurden unter normalen Testbedingungen untersucht und mit Proben verglichen,
die aus demselben Stahl bestanden, jedoch mit keiner Boridschicht überzogen waren. Es ergaben
sich dabei die folgenden Ergebnisse:
45
| Probe | Belastung für Festfressen kg |
Belastung für Abrieb von 0,025 mm kg |
| Ohne Boridschicht Mit Boridschicht |
680 1900 |
320 1130 |
Die obigen Beispiele dienen zur Erläuterung bevorzugter Ausführungsformen der Erfindung. Es sind
jedoch im Rahmen der vorliegenden Erfindung vielerlei Abänderungen möglich. Beispielsweise kann
derBoridüberzug auf einem Metall hergestellt werden, der selbst einen Überzug auf einem anderen Metall
darstellt, beispielsweise ein galvanischer Überzug eines Grundmetalls ist, beispielsweise eine auf Eisen
aufgebrachte Chromschicht.
Da die Zähigkeit, das Haftvermögen und die Korrosionsfestigkeit der erfindungsgemäß aufgebrachten
Boridüberzüge an allen Stellen der gesamten behandelten Flächen einen gleichmäßigen Wert hat,
können die nach der vorliegenden Erfindung mit einer Boridschicht versehenen Metallmassen zu vielerlei
Zwecken verwendet werden. Beispielsweise können sie zur Herstellung von Reaktionsgefäßen für chemische
Reaktionen, zur Herstellung von Moderatoren für Kernreaktoren, zur Herstellung von Turbinenschaufeln
von Gas- und Dampfturbinen, die den korrodierenden und auslaugenden Einflüssen des gasförmigen
Antriebsmittels ausgesetzt sind, zur Herstellung von Getrieben, Lagern und anderen Gegenständen
verwendet werden, bei denen eine harte, abriebfeste Oberfläche erforderlich ist. Erfindungsgemäß
behandelte Gegenstände können natürlich auch für viele andere Zwecke Verwendung finden.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung eines Boridüberzugs durch Kontaktabscheidung mit gegebenenfalls
zusätzlicher äußerer EMK auf Metallkörpern mit einem Schmelzpunkt von wenigstens
600° C und aus wenigstens 50 Molprozent wenigstens eines Metalls mit der Ordnungszahl 23 bis
29, 41 bis 47, 73 bis 79 durch Abscheiden von Bor aus einem Schmelzbad einer Borverbindung,
dadurch gekennzeichnet, daß ein aus 0,5 bis 50 Molprozent wenigstens eines Alkalimetallfluorborats
und wenigstens einem Alkalimetallfluorid bestehendes, auf eine Temperatur von 600 bis 800° C gehaltenes Schmelzbad verwendet
und mit einer Boranode bei einer Stromdichte von bis zu 3 Ampere pro Quadratdezimeter
unter weitgehender Abwesenheit von Sauerstoff gearbeitet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Schmelzbad zur Beseitigung
von Sauerstoff unter Vakuum gehalten wird.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US831493A US3024176A (en) | 1959-08-04 | 1959-08-04 | Corrosion resistant coating |
| DE1962G0034270 DE1239906B (de) | 1962-02-15 | 1962-02-15 | Verfahren zur Herstellung eines Boridueberzuges auf elektrolytischem Wege |
| FR888678A FR1320964A (fr) | 1962-02-15 | 1962-06-21 | Revêtement de borure résistant à la corrosion |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1962G0034270 DE1239906B (de) | 1962-02-15 | 1962-02-15 | Verfahren zur Herstellung eines Boridueberzuges auf elektrolytischem Wege |
| GB588062A GB989807A (en) | 1962-02-15 | 1962-02-15 | Formation of corrosion resistant boride coatings on metal compositions |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1239906B true DE1239906B (de) | 1967-05-03 |
Family
ID=25978394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1962G0034270 Pending DE1239906B (de) | 1959-08-04 | 1962-02-15 | Verfahren zur Herstellung eines Boridueberzuges auf elektrolytischem Wege |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1239906B (de) |
-
1962
- 1962-02-15 DE DE1962G0034270 patent/DE1239906B/de active Pending
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