DE1224111B - Acid galvanic copper and nickel baths and process for depositing the coatings - Google Patents
Acid galvanic copper and nickel baths and process for depositing the coatingsInfo
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 20
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 20
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 19
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 5
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical group NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 2
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 claims 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 6
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 6
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical group C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSAPYRIVHFAQGR-UHFFFAOYSA-N 1-sulfanylbenzimidazole Chemical group C1=CC=C2N(S)C=NC2=C1 KSAPYRIVHFAQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMPAPJBFYQSNFM-UHFFFAOYSA-N 1-sulfanylimidazole Chemical compound SN1C=CN=C1 ZMPAPJBFYQSNFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHPYMWDTONKSCO-UHFFFAOYSA-N 2,2'-piperazine-1,4-diylbisethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCN1CCN(CCS(O)(=O)=O)CC1 IHPYMWDTONKSCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- 206010061217 Infestation Diseases 0.000 description 1
- FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N N-phenylthiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-N carbonotrithioic acid Chemical group SC(S)=S HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-M decyl sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N dimethylmethane Natural products CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical group CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- ZBGWAJQUDSCDPB-UHFFFAOYSA-N n-(benzenesulfonyl)benzamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 ZBGWAJQUDSCDPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid monodecyl ester Natural products CCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
- C07D295/20—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carbonic acid, or sulfur or nitrogen analogues thereof
- C07D295/21—Radicals derived from sulfur analogues of carbonic acid
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/04—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D233/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D233/30—Oxygen or sulfur atoms
- C07D233/42—Sulfur atoms
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
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Description
DEUTSCHESGERMAN
PATENTAMTPATENT OFFICE
AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL
Int. Cl.:Int. Cl .:
C23bC23b
Deutsche Kl.: 48 a-5/00 German class: 48 a -5/00
Nummer: 1224111Number: 1224111
Aktenzeichen: D 36777 VI b/48 aFile number: D 36777 VI b / 48 a
Anmeldetag: 10. August 1961Filing date: August 10, 1961
Auslegetag: 1. September 1966Opening day: September 1, 1966
Bisher wurden galvanisch wirksame Zusatzmittel, wie Glanz-, Einebnungs-, Kornverfeinerungs-, Porenverhütungs-, Egalisier- und Netzmittel, den Bädern in Form von wäßrigen Lösungen bestimmter Konzentration zugegeben. Während des Betriebes der Bäder tritt ein mehr oder minder starker Verbrauch dieser Zusatzmittel ein. Es würde daher im Bad bald die kritische Konzentration erreicht sein, d. h. die Konzentration, unterhalb der keine brauchbaren Niederschläge mehr erzielt werden, wenn die verbrauchten Mittel nicht laufend ergänzt würden. Der einwandfreie Betrieb derartiger Bäder erfordert daher eine ständige analytische überwachung, um die Konzentration der Zusatzmittel stets in dem für die Erzielung einwandfreier Niederschläge erforderlichen Bereich zu halten. In der Praxis erfolgt der Zusatz jedoch vielfach rein empirisch nach Ablauf bestimmter Zeiträume und oft erst dann, wenn Störungen sichtbar werden, was zu Ausschußware führen kann. Bei der periodischen Zugabe von Zusatzmitteln kann auch infolge nicht ausreichender Vermischung eine Uberkonzentration im Kathodenraum entstehen, die sich auf die Metallabscheidung ungünstig auswirkt, überdies besteht ganz allgemein die Gefahr der Unter- · oder Uberdosierung der Zusatzmittel im Elektrolyten, die zu Störungen mannigfacher Art Anlaß geben kann.So far, galvanically effective additives, such as gloss, leveling, grain refinement, pore prevention, Leveling and wetting agents, the baths in the form of aqueous solutions of a certain concentration admitted. During the operation of the baths there is a more or less high consumption this additive. The critical concentration would therefore soon be reached in the bathroom, i.e. H. the concentration below which usable precipitates are no longer obtained when they are used up Funds would not be continuously replenished. The proper operation of such baths requires therefore constant analytical monitoring to ensure that the concentration of the additives is always in the to maintain the range required to achieve perfect precipitation. In practice it is done however, the addition is often purely empirical after a certain period of time and often only when Disturbances become visible, which can lead to rejects. With the periodic addition of Additives can also lead to an overconcentration in the cathode compartment as a result of insufficient mixing arise, which has an unfavorable effect on the metal deposition, moreover, there is a very general one the risk of underdosing or overdosing the additives in the electrolyte, which can lead to malfunctions can give rise to manifold kinds.
Im Gegensatz hierzu werden, erfindungsgemäß galvanisch wirksame, schwerlösliche, organische Verbindungen,
die wenigstens 2 Kohlenstoffatome aufweisen, welche nur an Heteroatome gebunden sind
und deren Sättigungskonzentration 0,5 bis 500 mg je Liter Badflüssigkeit und deren kritische Konzentration
die Hälfte bis ein Achtel dieser Sättigungskonzentration beträgt, in einer mehrfachen Menge
dieser Sättigungskonzentration in den Bädern verwendet, die im Bad eine heterogene Phase bilden.
Dadurch wird die Badflüssigkeit ständig und selbstregulierend nahe der Sättigungskonzentration der
zugesetzten Komponente gehalten. Vermindert sich im Bad durch Verbrauch die Konzentration an
Zusatzmitteln, so wird aus dem schwerlöslichen Bodenkörper die Sättigungskonzentration wiederhergestellt,
so daß weitere Zugaben zur Korrektur des Bades während des Betriebes nicht erforderlich
sind. Da die Konzentration an Zusatzmitteln im Elektrolyten konstant bleibt, bedarf das Bad keiner
laufenden analytischen überwachung. Es besteht also bei den erfindungsgemäß angesetzten Bädern
weder die Gefahr einer Unter- noch die einer überdosierung an Zusatzmitteln. Weiterhin gewährleistet
die konstante Zusatzmittelkonzentration des Elektro-Saure galvanische Kupfer- und Nickelbäder und
Verfahren zum Abscheiden der ÜberzügeIn contrast, according to the invention, galvanically effective, sparingly soluble, organic compounds which have at least 2 carbon atoms, which are only bound to heteroatoms and whose saturation concentration is 0.5 to 500 mg per liter of bath liquid and whose critical concentration is half to one eighth of this saturation concentration , used in a multiple amount of this saturation concentration in the baths, which form a heterogeneous phase in the bath. As a result, the bath liquid is constantly and self-regulatingly kept close to the saturation concentration of the added component. If the concentration of additives in the bath decreases due to consumption, the saturation concentration is restored from the poorly soluble sediment, so that further additions to correct the bath during operation are not necessary. Since the concentration of additives in the electrolyte remains constant, the bath does not require ongoing analytical monitoring. In the baths used in accordance with the invention, there is therefore neither the risk of underdosing nor of overdosing the additives. Furthermore, the constant additive concentration of the electro-acid ensures galvanic copper and nickel baths and
Process for depositing the coatings
Anmelder:Applicant:
Dehydag Deutsche Hydrierwerke G. m. b. H.,Dehydag Deutsche Hydrierwerke G. m. B. H.,
Düsseldorf, Henkelstr. 67Düsseldorf, Henkelstr. 67
Als Erfinder benannt:Named as inventor:
Dipl.-Ing. Gregor Michael, DüsseldorfDipl.-Ing. Gregor Michael, Düsseldorf
lyten einen völlig gleichmäßigen Verbrauch, wodurch neben einer Güteerhöhung der Niederschläge auch die Wirtschaftlichkeit des Verfahrens verbessert wird. Bei der Abscheidung der Niederschläge aus einem stets gleichmäßig zusammengesetzten Elektrolyten wird naturgemäß deren Qualität völlig konstant bleiben, was für die Abscheidung starker Metallschichten, wie diese z. B. bei der Walzenverkupferung und der Herstellung von Schallplattenmatrizen erforderlich sind, von erheblicher praktischer Bedeutung ist. Die schwerlöslichen Zusatzmittel der heterogenen Badphase können flüssig oder fest sein und bilden in letzterem Fall gewöhnlich einen Bodenkörper. Die festen Mittel können auch in Bädern verwendet werden, die kontinuierlich oder periodisch umgepumpt werden. Man kann sie dabei beispielsweise mittels Lösefilter in die Umpumpleitung einschalten.lyten a completely even consumption, which in addition to an increase in the quality of the precipitation also the economy of the process is improved. When separating the precipitates from If the electrolyte is always composed of the same composition, its quality is naturally completely constant remain what for the deposition of strong metal layers, such as these z. B. in the roll copper plating and the manufacture of record stencils are of considerable practical importance is. The sparingly soluble additives of the heterogeneous bath phase can be liquid or solid and in the latter case usually form a soil body. The fixed funds can also be in Baths are used, which are continuously or periodically pumped around. You can do it for example, switch on by means of a release filter in the circulation line.
Derartige nur an Heteroatome gebundene Kohlenstoffatome finden sich z. B. in Stickstoff- und/oder schwefelhaltigen Gruppen, wie Thioharnstoffgruppen, Dithiocarbaminsäuregruppen, Thioxanthogensäuregruppen, Trithiokohlensäuregruppen, Xanthogensäuregruppen, Thioimidazol- bzw. Thiobenzimidazolgruppen, Merkaptothiazol- bzw. Merkaptobenzthiazolgruppen. Diese Verbindungen können auch wasserlöslichmachende Reste, wie Carboxylgruppen und Sulfosäuregruppen, enthalten, die mit den Schwermetallionen der Bäder schwerlösliche Metallsalze bilden. Weiterhin können die Zusatzmittel die durch das nur an Heteroatome gebundene Kohlenstoffatom gekennzeichneten Gruppen auch mehr als zweifach und in Kombination miteinander enthalten, wie beispielsweise schwerlösliche Verbindungen, die gleichzeitig eine oder mehrere Thioharnstoffgruppen und eine oder mehrere Dithiocarbaminsäuregruppen besitzen.Such carbon atoms bound only to heteroatoms can be found e.g. B. in nitrogen and / or sulfur-containing groups, such as thiourea groups, Dithiocarbamic acid groups, thioxanthogenic acid groups, trithiocarbonic acid groups, xanthogenic acid groups, Thioimidazole or thiobenzimidazole groups, mercaptothiazole or mercaptobenzthiazole groups. These compounds can also contain water-solubilizing radicals, such as carboxyl groups and sulfonic acid groups, which are associated with the Heavy metal ions in the baths form sparingly soluble metal salts. Furthermore, the additives can also more than groups identified by the carbon atom bound only to heteroatoms contain twice and in combination with one another, such as, for example, sparingly soluble compounds, the simultaneously one or more thiourea groups and one or more dithiocarbamic acid groups own.
Man kann daher vielfach ,von bekannten Glanz-, Einebnungs- und dergleichen Substanze ausgehen,One can therefore often start from known gloss, leveling and similar substances,
609 658/348609 658/348
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die wenigstens 2 Kohlenstoffatome aufweisen, welche werden. Man kann den Bädern übliche Netzmittel, nur an Heteroatome gebunden sind und die durch wie bekannte Äthylenoxydanlagerungsprodukte an Einführung geeigneter Substituenten, beispielsweise höhermolekulare organische Verbindungen mit aus-Arylresten, schwerlöslich gemacht sind. Man kann tauschbaren Wasserstoffatomen, Alkylsulfat u. a., aber auch von unlöslichen Produkten ausgehen 5 zusetzen. Diese Netzmittel sind löslich, wirken jedoch und diese beispielsweise durch Steigerung der Säure- in einem breiten Konzentrationsbereich und bekonzentration des Badelektrolyten oder in anderen dürfen deshalb keiner strengen überwachung. BeFällen durch Zusatz organischer Lösungsmittel, wie steht der schwerlösliche Bodenkörper aus einem Äthanol, Isopropanol u. dgl., löslich machen. Glanzmittel, dessen einebnende Wirkung ungenügendwhich have at least 2 carbon atoms which become. You can use the usual wetting agents in the baths, are only bound to heteroatoms and are bound by the well-known Äthylenoxydanlagungsprodukte Introduction of suitable substituents, for example higher molecular weight organic compounds with aus-aryl radicals, are made difficult to dissolve. You can use exchangeable hydrogen atoms, alkyl sulfate and others, but also start from insoluble products 5 add. These wetting agents are soluble but work and this, for example, by increasing the acidity in a wide range of concentrations and concentrations the bath electrolyte or in others must therefore not be strictly monitored. Befall by adding organic solvents, how does the poorly soluble soil body consist of a Solubilize ethanol, isopropanol and the like. Gloss agent whose leveling effect is insufficient
Es ist vorteilhaft, wenn die Sättigungskonzentration io ist, so kann zur Verbesserung der Einebnung einIt is advantageous if the saturation concentration is io, so that one can improve the leveling
der schwerlöslichen Mittel in der Regel wenigstens Einebnungsmittel entweder gleichfalls in Form einesof the poorly soluble agents usually at least leveling agents either also in the form of a
das Zweifache der kritischen Konzentration der schwerlöslichen Bodenkörpers oder aber auch intwice the critical concentration of the poorly soluble soil body or else in
Mittel beträgt. Die Sättigungskonzentration der gelöster Form mitverwendet werden. In letztgenann-Means is. The saturation concentration of the dissolved form can also be used. In the latter
erfindungsgemäß verwendeten Zusatzmittel liegt in tem Fall bedarf der Gehalt des Bades an Einebnungs-additive used according to the invention is in tem case the content of the bath requires leveling
den jeweils verwendeten Elektrolyten etwa bei 0,5 15 mittel naturgemäß der überwachung. Das Mittelthe electrolyte used in each case at around 0.5 15 medium, naturally according to the monitoring. The middle
bis 500 mg/1, insbesondere 2 bis 300 mg/1. Durch muß von Zeit zu Zeit entsprechend seinem Ver-up to 500 mg / l, in particular 2 to 300 mg / l. Through must from time to time according to his
den oberen Grenzwert der Sättigungskonzentration brauch ergänzt werden. Besonders vorteilhaft sindthe upper limit of the saturation concentration need to be added. Are particularly advantageous
wird der maximale Gehalt des Elektrolyten an demgemäß schwerlösliche Zusatzmittel, die mehrerethe maximum content of the electrolyte of accordingly sparingly soluble additives, the several
Zusatzmittel bestimmt und eine Uberdosierung Funktionen ausüben, die also gleichzeitig Hoch-Additives are determined and an overdose has functions that are simultaneously high-
mit Sicherheit vermieden. Die kritischen Konzen- 20 glänz geben, einebnen und auch eine für die prakti-certainly avoided. Giving and leveling the critical concentrations and also providing a practical
trationen betragen in der Regel die Hälfte bis ein sehen Bedürfnisse ausreichende Temperaturtoleranztrations are usually half to see one needs adequate temperature tolerance
Achtel der Sättigungskonzentration, so daß selbst besitzen. Es gibt aber auch eine ganze Reihe vonEighth of the saturation concentration, so own that. But there are also quite a number of
Bäder, die nur noch eine Sättigungskonzentration technischen Galvanisierungsprozessen, bei denenBaths that only have a saturation concentration technical galvanizing processes in which
von 50 bzw. 12,5% an Zusatzmittel aufweisen, kein Hochglanz erforderlich ist und schon eineof 50 or 12.5% of additives, no high gloss is required and already one
noch einwandfreie Metallniederschläge liefern. Bei 25 Kornverfeinerung den technischen Anforderungenstill deliver perfect metal deposits. With 25 grain refinement the technical requirements
normaler Badbelastung von etwa 0,5 Amp./l beträgt entspricht.corresponds to a normal bath load of about 0.5 Amp./l.
der stündliche Verbrauch an Zusatzmitteln etwa In den Fällen, in denen der Badzusatz lediglich 3 bis 16% der Differenzmengen zwischen Sättigungs- aus den erfindungsgemäßen schwerlöslichen Zusatzkonzentration und kritischer Konzentration (Kon- mitteln und eventuell Netzmitteln besteht, können zentrationstoleranzbereich), womit eine gewisse Ar- 30 die Bäder völlig wartungsfrei betrieben werden, beitsreserve gegen unvorhergesehene Zwischenfälle sofern nur darauf geachtet wird, daß die Umpumpgeschaffen und eine lokale Unterdosierung aus- filtration einwandfrei arbeitet und die Zusatzmittel geschlossen ist. im Lösefilter rechtzeitig erneuert werden. Damitthe hourly consumption of additives about In those cases in which the bath additive is only 3 to 16% of the difference between the saturation and the sparingly soluble additional concentration according to the invention and critical concentration (Konmitteln and possibly wetting agents exist, can centering tolerance range), with which a certain amount of time the baths are operated completely maintenance-free, Working reserve against unforeseen incidents, provided that care is taken to ensure that the pumping over is created and local underdosing of filtration works perfectly and the additives closed is. in the release filter must be renewed in good time. In order to
Als vorteilhafte Ausführungsform des erfindungs- ist aber nicht nur ein wesentlich einfacherer, sondernAs an advantageous embodiment of the invention is not only a much simpler, but
gemäßen Verfahrens hat sich ergeben, die schwer- 35 auch rationellerer Betrieb der Bäder möglich. DurchAccording to the procedure, it has been found that it is more difficult to operate the baths more efficiently. By
löslichen Mittel in einem Lösefilter unterzubringen, die Selbstregulierung der Bäder wird der Anfall anTo accommodate soluble agents in a dissolving filter, the self-regulation of the baths will affect the attack
welches bei der kontinuierlichen Badfiltration in die Ausschlußstücken praktisch ausgeschaltet.which practically eliminated in the continuous bath filtration in the exclusion pieces.
Umpumpleitung eingebaut ist. Um eine Verstopfung Die folgenden Beispiele veranschaulichen die vor-Circulation line is installed. To avoid a blockage The following examples illustrate the
des Lösefilters durch Badverunreinigung zu ver- liegende Erfindung,of the dissolving filter due to contamination of the bath,
meiden, wird ein Schmutzabfangfilter vorgeschaltet. 40 B e i s ' e I 1avoid, a dirt trap filter is connected upstream. 40 B e i s' e I 1
Das schwerlösliche Zusatzmittel kann mit Kieselgur, PThe sparingly soluble additive can be mixed with kieselguhr, P
Aktivkohle, Spezialschamotte und anderen porösen Für die saure galvanische Verkupferung wird einActivated carbon, special chamotte and other porous For the acidic galvanic copper plating is a
Massen gemischt oder im Fall flüssiger Mittel Bad folgender Zusammensetzung benutzt:Mixed masses or, in the case of liquid agents, a bath of the following composition:
damit getränkt werden. Dadurch wird die Durch- 01Λ ,, „ f w„t n cn rUnto be soaked with it. As a result, the through-01Λ ,, " f w" tn cn r U n
lässigkeit und Inkompressibilität der Filterschicht 45 ?}° g Kupfersulfat CuSO4 · 5 H2O,Permeability and incompressibility of the filter layer 45?} ° g copper sulfate CuSO 4 · 5 H 2 O,
gewährleistet. Die Benetzbarkeit der festen schwer- Liyi g} ^cnwere saure,guaranteed. The wettability of the solid hard- liy i g } ^ cnwere acid,
löslichen Mittel durch die Badflüssigkeit kann durch 8 ^ *e t? Anlagerungsproduktes von 8 Mol
den Zusatz von Netzmitteln verbessert werden. Zur Athylenoxyd an 1 Mol eines Kokosfett-Erhaltung
der Sättigungskonzentration im galvani- alkoholgemisches C12 bis C18.
sehen Bad genügt in allen Fällen die in der Praxis 50 Das Bad wird umgepumpt und kontinuierlich
übliche Badumlaufgeschwindigkeit zur Erzielung filtriert. Dem üblichen Schmutzabfangfilter ist ein
einer ausreichenden kontinuierlichen Filtration mit Lösefilter nachgeschaltet, das als schwerlösliches
etwa einem bis zwei Badvolumen pro Stunde. Glanzmittel N,N"-di-benzylthiocarbaminyl-diäthylen-soluble agent by the bath liquid can by 8 ^ * e t ? Addition product of 8 moles can be improved with the addition of wetting agents. For ethylene oxide on 1 mole of a coconut oil - preservation of the saturation concentration in the galvanic alcohol mixture C 12 to C 18 .
50 The bath is circulated and continuously filtered to achieve the usual bath circulation speed to achieve this. The usual dirt trap filter is followed by a sufficient continuous filtration with a dissolving filter, which is a poorly soluble one to two bath volumes per hour. Gloss agent N, N "-di-benzylthiocarbaminyl-diethylen-
Das erfindungsgemäße Verfahren kann in sauren triamin-N'-dithiocarbonyl-S-propan-cu-sulfonsauresThe process according to the invention can be carried out in acidic triamine-N'-dithiocarbonyl-S-propane-cu-sulfonic acid
galvanischen Kupfer- und Nickelbädern angewendet 55 Kupfer der FormelElectroplating copper and nickel baths applied 55 copper of the formula
CH2 — NH — C — NH — CH5. — H2C SCH 2 - NH - C - NH - CH 5 . - H 2 CS
N-C- S(CH2)3 — SO3 1/2 Cu
CH2 — NH — C — NH — CH2 — H2CNC- S (CH 2 ) 3 - SO 3 1/2 Cu
CH 2 - NH - C - NH - CH 2 - H 2 C
enthält. Das Bad liefert bei einem Umlauf von einem und porenfreie Kupferniederschläge im Stromdichte-Badvolumen pro Stunde glänzende, glatte, knospen- bereich von 0,5 bis 8 Amp./dm2 bei einer Temperatur-contains. The bath delivers with a circulation of one and pore-free copper precipitates in the current density bath volume per hour shiny, smooth, bud area of 0.5 to 8 Amp./dm 2 at a temperature
toleranz von 17 bis 300C. Das Einebnungsvermögen des Bades ist für viele praktische Anwendungszwecke ausreichend, so daß sich die Mitverwendung' anderer Zusatzmittel erübrigt. Die Sättigungskonzentration des Glanzmittels liegt bei 10 mg/1, die kritische Konzentration beträgt etwa 50% der Sättigungskonzentration, liegt also bei etwa 5 mg/1. Der Verbrauch an Glanzstoff pro Amperestunde beträgt 0,8 mg, wodurch ein einwandfreies Arbeiten des Bades selbst bei einem Ausfall des Lösefilters bis zu 6 Amperestunden pro Liter gewährleistet ist.Tolerance from 17 to 30 ° C. The leveling capacity of the bath is sufficient for many practical purposes, so that the use of other additives is unnecessary. The saturation concentration of the brightener is 10 mg / 1, the critical concentration is around 50% of the saturation concentration, i.e. around 5 mg / 1. The consumption of gloss substance per ampere hour is 0.8 mg, which ensures that the bath works properly even if the release filter fails up to 6 ampere hours per liter.
Wird in einem sauren galvanischen Verkupferungsbad der Zusammensetzung entsprechend dem Beispiel 1 im Lösefilter als schwerlösliches Glanzmittel Piperazin - N,N' - bis - dithiocarbonyl - S - propan-ω-sulfonsaures Natrium von der FormelIs in an acidic galvanic copper plating bath of the composition according to the example 1 in the dissolving filter as a sparingly soluble brightener piperazine - N, N '- bis - dithiocarbonyl - S - propane-ω-sulfonic acid Sodium from the formula
S CH2 — H2C SS CH 2 - H 2 CS
NaO3S — (CHa)3 — S — C — N N — C — S — (CH2)3 — SO3NaNaO 3 S - (CHa) 3 - S - C - NN - C - S - (CH 2 ) 3 - SO 3 Na
CH2 — H2CCH 2 - H 2 C
eingesetzt, so liefert dieses Bad bei einem Umlauf von einem Badvolumen pro Stunde glänzende, glatte, knospen- und porenfreie Kupferüberzüge im Stromdichtebereich von 0,5 bis 8 Amp./dm2 bei einer Temperaturtoleranz von 17 bis 300C. Die einebnende Wirkung des Bades ist für viele Anwendungsbereiche bereits ohne den Zusatz besonderer Einebnungsmittel ausreichend. Die Sättigungskonzentration des Bodenkörpers liegt bei 40 ml/1, die kritische Konzentration beträgt etwa 25% der Sättigungskonzentration, liegt also bei etwa 10 mg/1. Bei einem Glanzmittelverbrauch von 1,2 mg pro Amperestunde ist damit eine Arbeitsreserve des Bades von 25 Amperestunden pro Liter gewährleistet. used, this bath delivers shiny, smooth, bud and pore-free copper coatings in the current density range from 0.5 to 8 Amp./dm 2 with a temperature tolerance of 17 to 30 0 C. The leveling effect of the Bades is sufficient for many areas of application without the addition of special leveling agents. The saturation concentration of the soil body is 40 ml / 1, the critical concentration is around 25% of the saturation concentration, i.e. around 10 mg / 1. With a rinse aid consumption of 1.2 mg per ampere hour, a working reserve of 25 ampere hours per liter is guaranteed in the bath.
In einem sauren galvanischen Kupferbad der ZusammensetzungIn an acid electroplating copper bath of the composition
210 g/l Kupfersulfat CuSO4 · 5 H2O,
60 g/l Schwefelsäure,210 g / l copper sulphate CuSO 4 5 H 2 O,
60 g / l sulfuric acid,
8 g/l des Anlagerungsproduktes von 8 Mol Äthylenoxyd an 1 Mol eines Kokosfettalkoholgemisches Ci2 bis C188 g / l of the adduct of 8 moles of ethylene oxide with 1 mole of a coconut fatty alcohol mixture Ci 2 to C18
wird als schwerlösliches Glanzmittel in einem dem üblichen Schmutzabfangfilter nachgeschalteten Lösefilter Piperazin-N^'-bis-dithiocarbonyl-S-propionsaures Natrium der Formelis used as a sparingly soluble brightener in a dissolving filter connected downstream of the usual dirt trap filter piperazine-N ^ '- bis-dithiocarbonyl-S-propionic acid Sodium the formula
NaOOC — (CH2)2 — S — C — NNaOOC - (CH 2 ) 2 - S - C - N
CH2 — H2CCH 2 - H 2 C
CH2 — H2C N — C — S — (CH2)2 — COONaCH 2 - H 2 CN - C - S - (CH 2 ) 2 - COONa
eingesetzt. Das Bad liefert bei einem Umlauf von einem Badvolumen pro Stunde glänzende, glatte, knospen- und porenfreie Kupferüberzüge im Stromdichtebereich von 0,5 bis 8 Amp./dm2 bei einer Temperaturtoleranz von 17 bis 300C. Bei einer Sättigungskonzentration des Bodenkörpers von 30 mg/1, einer kritischen Konzentration von etwa 12 mg/1, die 40% der Sättigungskonzentration beträgt, und einem Glanzmittelverbrauch von 1,5 mg pro Amperestunde ergibt sich eine Arbeitsreserve des Bades von 12 Amperestunden pro Liter.used. The bath provides for a circulation of a bath volume per hour shiny, smooth, bud and pore-free copper coatings in the current density range of 0.5 to 8 Amp./dm 2 at a temperature tolerance 17-30 0 C. At the saturation concentration of the base body 30 mg / 1, a critical concentration of about 12 mg / 1, which is 40% of the saturation concentration, and a brightener consumption of 1.5 mg per ampere hour results in a working reserve of the bath of 12 ampere hours per liter.
In einem dem üblichen Schmutzabfangfilter des sauren galvanischen Kupferbades der gleichen Grundzusammensetzung wie im Beispiel 3 nachgeschalteten Lösefilter wird als Festkörper ein Gemisch aus dem im Beispiel 1 benutzten schwerlöslichen Glanzstoffbodenkörper und dem als Einebner wirkenden schwerlöslichen l-Benzylthiocarbaminyl-2-mercaptoimidazolin der FormelIn one of the usual dirt trapping filters of the acidic galvanic copper bath of the same basic composition as in Example 3 downstream dissolving filter is a mixture of the solid as a solid In Example 1, the sparingly soluble glossy floor body used and that acting as a leveler sparingly soluble l-benzylthiocarbaminyl-2-mercaptoimidazoline the formula
CH2-CH2- CH 2 -CH 2 -
■N■ N
C = S
C = SC = S
C = S
CH2 — HN'CH 2 - HN '
6060
6565
eingesetzt. Das Bad liefert bei einem Umlauf von einem Badvolumen pro Stunde gleichmäßig glänzende, gut einebnende Kupferniederschläge im Stromdichtebereich von 0,5 bis 8 Amp./dm2 bei einer Temperaturtoleranz von 17 bis 300C. Die Sättigungskonzentration des Einebnerbodenkörpers beträgt 6 mg/1, die kritische Konzentration liegt bei etwa 1,5 mg/1, was etwa 25% der Sättigungskonzentration entspricht. Aus diesen Werten und dem Verbrauch von etwa 0,4 mg/1 pro Amperestunde ergibt sich eine Arbeitsreserve des Bades von 11 Amperestunden pro Liter.used. The bath provides uniform gloss, good planarizing copper precipitation in the current density range of 0.5 to 8 Amp./dm 2 at a temperature tolerance 17-30 0 C. for a circulation of a bath volume per hour, the saturation concentration of the Einebnerbodenkörpers is 6 mg / 1, the critical concentration is around 1.5 mg / l, which corresponds to around 25% of the saturation concentration. From these values and the consumption of about 0.4 mg / 1 per ampere hour, the bath has a working reserve of 11 ampere hours per liter.
In einem sauren galvanischen Kupferbad der gleichen Zusammensetzung wie im Beispiel 3 wird als schwerlösliches Einebnungsmittel das Kondensationsprodukt aus 1 Mol Phenylthioharnstoff und 1 Mol Formaldehyd neben 40 mg/1 eines löslichen Glanzmittels, nämlich Ν,Ν-diäthyldithiocarbaminyl-S-propan-cu-sulfonsaures Natrium, eingesetzt. In diesem Bad wirkt nur das Einebnungsmittel selbstregulierend, wohingegen das gelöste Glanzmittel einer ständigen Überwachung bedarf. Der Vorteil gegenüber üblichen Verfahren besteht darin, daß die laufende überwachung auf das in einem breiten Konzentrationsbereich wirkende Glanzmittel beschränkt ist, während die schwierige Kontrolle geringer Mengen des Einebners wegfällt. Bei einemIn an acidic electroplating copper bath of the same composition as in Example 3 as a sparingly soluble leveling agent, the condensation product of 1 mole of phenylthiourea and 1 mol of formaldehyde in addition to 40 mg / 1 of a soluble brightener, namely Ν, Ν-diethyldithiocarbaminyl-S-propane-cu-sulfonic acid Sodium, used. In this bath only the leveling agent is self-regulating, whereas the dissolved brightener requires constant monitoring. The advantage Compared to the usual procedures, the ongoing monitoring on the in a wide Concentration range acting gloss agent is limited, while difficult to control small amounts of the leveler is not required. At a
Umlauf von einem Badvolumen pro Stunde ergibt das Bad gut einebnende, glänzende und porenfreie Kupferüberzüge im Stromdichtebereich von 1 bis 8 Amp./dm2 bei einer Temperaturtoleranz von 17 bis 300C. Bei einer Sättigungskonzentration des Einebnungsmittels von etwa 4 mg/1, einer kritischen Konzentration von etwa 0,5 mg/1 (entsprechend 12,5% der Sättigungskonzentration) und einem Verbrauch von etwa 0,2 mg pro AmperestundeCirculation of one bath volume per hour, the bath results in well-leveling, shiny and pore-free copper coatings in the current density range from 1 to 8 Amp./dm 2 with a temperature tolerance of 17 to 30 0 C. With a saturation concentration of the leveling agent of about 4 mg / 1, one critical concentration of about 0.5 mg / 1 (corresponding to 12.5% of the saturation concentration) and a consumption of about 0.2 mg per ampere hour
CH2 — H2C ergibt sich eine Arbeitsreserve des Bades von etwa Amperestunden pro Liter.CH 2 - H 2 C results in a working reserve of the bath of about ampere hours per liter.
In ein saures galvanisches Kupferbad der Zusammensetzung entsprechend Beispiel 1 wird als schwerlösliches Glanzmittel N-Phenylthiocarbaminylpiperazin - N' - dithiocarbonyl - S - propan - ω - sulfosaures Kupfer N-phenylthiocarbaminylpiperazine - N '- dithiocarbonyl - S - propane - ω - sulphonic acid copper is added as the sparingly soluble brightener in an acid electroplated copper bath of the composition according to Example 1
- C — N N — C — S —· (CHa)3 — SO3 V2 Cu- C - NN - C - S - · (CHa) 3 - SO 3 V2 Cu
S CH2 — H2C SS CH 2 - H 2 CS
gegeben. Bei einem Umlauf von einem Badvolumen pro Stunde liefert das Bad glänzende, glatte, gut einebnende, knospen- und porenfreie Kupferüberzüge im Stromdichtebereich von 1 bis 8 Amp./dm2 bei einer Temperaturtoleranz von 17 bis 30°C. Die Sättigungskonzentration des Kupfersalzes liegt bei etwa 8 mg/1, die kritische Konzentration beträgt etwa 38% der Sättigungskonzentration und liegt bei etwa 3 mg/1. Bei einem Glanzmittelverbrauch von 0,6 mg pro Amperestunde ist damit eine Arbeitsreserve des Bades von 8 Amperestunden pro Liter gewährleistet.given. With a circulation of one bath volume per hour, the bath delivers shiny, smooth, well-leveling, bud- and pore-free copper coatings in the current density range from 1 to 8 amps / dm 2 with a temperature tolerance of 17 to 30 ° C. The saturation concentration of the copper salt is around 8 mg / 1, the critical concentration is around 38% of the saturation concentration and is around 3 mg / 1. With a rinse aid consumption of 0.6 mg per ampere hour, a working reserve of 8 ampere hours per liter is guaranteed in the bath.
In einem sauren galvanischen Nickelbad der ZusammensetzungIn an acidic nickel electroplating bath of the composition
270 g/l Nickelsulfat NiSO4 ■ 7 H2O,
60 g/l Nickelchlorid NiCl2 · 6 H2O,
30 g/l Borsäure,270 g / l nickel sulfate NiSO 4 ■ 7 H 2 O,
60 g / l nickel chloride NiCl 2 6 H 2 O,
30 g / l boric acid,
1 g/l Decylsulfat als Netzmittel,
2,5 g/l N-(Benzolsulfonyl)-benzoesäureamid der Formel C6H5-CO-NH-SO2-C6H5
als löslicher Grundglänzer1 g / l decyl sulfate as a wetting agent,
2.5 g / l N- (benzenesulfonyl) -benzoic acid amide of the formula C 6 H 5 -CO-NH-SO 2 -C 6 H 5 as a soluble basic gloss
wird als schwerlöslicher Einebnerbodenkörper l-Benzylthiocarbaminyl-2-mercapto-irnidazolinL-benzylthiocarbaminyl-2-mercapto-irnidazoline is used as a sparingly soluble leveling body
CH2 — HNCH 2 - HN
CH2 CH 2
-N-N
* ^>— CH2 — HN/ * ^> - CH 2 - HN /
C = S
C = SC = S
C = S
eingesetzt. In diesem Bad wirkt nur das Einebnungsmittel selbstregulierend, wohingegen das gelöste Grundglanzmittel einer ständigen überwachung bedarf, was aber im Hinblick auf dessen weiten Wirkungsbereich ohne schwerwiegende Bedeutung ist. Bei einem Umlauf von einem Badvolumen pro Stunde liefert das Bad porenfreie, duktile Nickelniederschläge mit gleichmäßigem Glanz und Einebnungsvermögen im Stromdichtebereich von 1 bis 8 Amp./dm2 bei einer Temperaturtoleranz von 45 bis 600C. Die Sättigungskonzentration des schwerlöslichen Einebnungsmittels liegt bei 55 0C etwa bei mg/1, die kritische Konzentration bei derselben Temperatur etwa bei 3 mg/1, wobei eine genügend große Spanne zwischen Sättigungs- und kritischer Konzentration besteht, die ein zufriedenstellendes Arbeiten des Bades gewährleistet.used. In this bath, only the leveling agent has a self-regulating effect, whereas the dissolved basic gloss agent requires constant monitoring, but this is of no serious importance in view of its wide range of action. In a circulation of a bath volume per hour, the bath provides pore-free, ductile nickel deposits with uniform gloss and Einebnungsvermögen in the current density range 1-8 Amp./dm 2 at a temperature tolerance of 45 to 60 0 C. The saturation concentration of the sparingly soluble leveling agent is 55 0 C is around mg / 1, the critical concentration at the same temperature is around 3 mg / 1, with a sufficiently large range between the saturation and critical concentration to ensure that the bath works satisfactorily.
Claims (3)
Deutsche Patentschrift Nr. 1 037 801;
deutsche Auslegeschriften Nr. 1 071 438,1 008 542; österreichische Patentschrift Nr. 172 066 (referiert im Chemischen Zentralblatt, 1953, S. 3473);
französische Patentschriften Nr. 1097123,1181721: USA.-Patentschrift Nr. 2 799 634.Considered publications:
German Patent No. 1,037,801;
German Auslegeschriften No. 1,071,438,1008,542; Austrian patent specification No. 172 066 (reported in Chemisches Zentralblatt, 1953, p. 3473);
French patents No. 1097123,1181721: USA.-Pat. No. 2,799,634.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL281922D NL281922A (en) | 1961-08-10 | ||
| BE621297D BE621297A (en) | 1961-08-10 | ||
| DED36777A DE1224111B (en) | 1961-08-10 | 1961-08-10 | Acid galvanic copper and nickel baths and process for depositing the coatings |
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| GB26837/62A GB941823A (en) | 1961-08-10 | 1962-07-12 | Improvements in or relating to electroplating |
| DE19621421977 DE1421977B2 (en) | 1961-08-10 | 1962-08-01 | Acid galvanic metal baths |
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| GB30313/63A GB1055243A (en) | 1961-08-10 | 1963-07-31 | Improvements in or relating to electroplating |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DED36777A DE1224111B (en) | 1961-08-10 | 1961-08-10 | Acid galvanic copper and nickel baths and process for depositing the coatings |
| DED0039520 | 1962-08-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1224111B true DE1224111B (en) | 1966-09-01 |
Family
ID=25971309
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DED36777A Pending DE1224111B (en) | 1961-08-10 | 1961-08-10 | Acid galvanic copper and nickel baths and process for depositing the coatings |
| DE19621421977 Pending DE1421977B2 (en) | 1961-08-10 | 1962-08-01 | Acid galvanic metal baths |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19621421977 Pending DE1421977B2 (en) | 1961-08-10 | 1962-08-01 | Acid galvanic metal baths |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US3257294A (en) |
| BE (1) | BE621297A (en) |
| CH (1) | CH429356A (en) |
| DE (2) | DE1224111B (en) |
| GB (2) | GB941823A (en) |
| NL (1) | NL281922A (en) |
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0
- NL NL281922D patent/NL281922A/xx unknown
- BE BE621297D patent/BE621297A/xx unknown
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- 1961-08-10 DE DED36777A patent/DE1224111B/en active Pending
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- 1962-07-12 GB GB26837/62A patent/GB941823A/en not_active Expired
- 1962-08-01 DE DE19621421977 patent/DE1421977B2/en active Pending
- 1962-08-03 US US214490A patent/US3257294A/en not_active Expired - Lifetime
-
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE621297A (en) | |
| DE1421977A1 (en) | 1968-11-07 |
| DE1421977B2 (en) | 1970-02-19 |
| US3245886A (en) | 1966-04-12 |
| US3257294A (en) | 1966-06-21 |
| GB941823A (en) | 1963-11-13 |
| GB1055243A (en) | 1967-01-18 |
| CH429356A (en) | 1967-01-31 |
| NL281922A (en) |
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