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CH427493A - Exposure measuring device in photographic or cinematographic devices, in particular single-lens reflex cameras - Google Patents

Exposure measuring device in photographic or cinematographic devices, in particular single-lens reflex cameras

Info

Publication number
CH427493A
CH427493A CH1367863A CH1367863A CH427493A CH 427493 A CH427493 A CH 427493A CH 1367863 A CH1367863 A CH 1367863A CH 1367863 A CH1367863 A CH 1367863A CH 427493 A CH427493 A CH 427493A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
plate
photographic
measuring device
lens reflex
photoresistor
Prior art date
Application number
CH1367863A
Other languages
German (de)
Inventor
Traenkner Werner
Original Assignee
Kamera & Kinowerke Dresden Veb
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kamera & Kinowerke Dresden Veb filed Critical Kamera & Kinowerke Dresden Veb
Publication of CH427493A publication Critical patent/CH427493A/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B7/00Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
    • G03B7/08Control effected solely on the basis of the response, to the intensity of the light received by the camera, of a built-in light-sensitive device
    • G03B7/099Arrangement of photoelectric elements in or on the camera
    • G03B7/0993Arrangement of photoelectric elements in or on the camera in the camera
    • G03B7/0997Through the lens [TTL] measuring
    • G03B7/09971Through the lens [TTL] measuring in mirror-reflex cameras
    • G03B7/09976Through the lens [TTL] measuring in mirror-reflex cameras the sensor being mounted in, before, or behind the porro-prism

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Viewfinders (AREA)

Description

  

      Belichtungsmesseinrichtung    in photographischen oder     kinematographischen    Geräten,  insbesondere     Spiegelreflexkameras       Das Hauptpatent     Nr.403.475    betrifft eine     Be-          lichtungsmesseinrichtung    in photographischen oder  kinematographischen Geräten, insbesondere Spiegel  reflexkameras, die dadurch gekennzeichnet ist, dass  durch integrierende Teilmessung die Belichtungsmes  sung durch     Ausspiegelung    von Sucherstrahlen auf  lichtempfindliche Empfänger erfolgt.  



  Der lichtempfindliche Empfänger, vorzugsweise  ein Photowiderstand, ist gemäss der Ausführung im  Hauptpatent mindestens an einer der Seitenflächen  einer Platte, zu der sich die Prismen zusammensetzen,  mit oder ohne Luftabstand angeordnet. Soll diese  Platte zur Erzielung einer geringen Bauhöhe der  Kamera flach gehalten werden, so kann der Keilwin  kel a der Prismen gerade so klein gewählt werden,  dass der Messstrahl nach Reflexion an der     teilver-          spiegelten        Hypotenusenfläche    an seiner     Eintrittsflä-          ehe    noch totalreflektiert wird.

   Dann tritt jedoch an  der Seitenfläche der Platte, der der Photowiderstand  zugeordnet ist, nochmals     Totalreflexion        ein,    sodass  der Photowiderstand zur Vermeidung von Lichtver  lusten     angekittet    werden muss. Der Photowiderstand  kann dann nur zusammen mit dem Messprisma, ver  bunden mit hohem Aufwand, ausgewechselt werden.  



  Aufgabe der     Erfindung    ist, die     Totalreflexion    von  Messstrahlen an der dem Photowiderstand zugeord  neten Seitenfläche der Platte zu verhindern, ohne den  Photowiderstand     anzukitten.     



  Erfindungsgemäss ist diese Aufgabe dadurch ge  löst, dass die Seitenfläche (n) der Platte, die einem  Photowiderstand mit Luftabstand zugeordnet ist  (sind), als Rasterfläche (n) mit prismatischen Erhe  bungen ausgebildet ist (sind). Daraus ergibt sich der       Vorteil,    dass keine das Messergebnis     beeinflussenden     Lichtverluste durch Totalreflexion eintreten, aber    gleichzeitig der Photowiderstand unabhängig vom  Suchersystem ausgewechselt werden kann.  



  Anhand von Ausführungsbeispielen ist der Erfin  dungsgegenstand näher dargestellt. Dabei ist auf alle  Einzelheiten verzichtet worden, die mit dem Gegen  stand der Erfindung nicht unmittelbar in Zusammen  hang stehen.  



  Es zeigen:       Fig.    1 :die Anordnung einer aus mehreren Spie  gelprismen bestehenden Platte innerhalb des Sucher  strahlenganges;       Fig.    2 die Anordnung einer aus zwei Spiegelpris  men zusammengesetzten Platte innerhalb des Sucher  strahlenganges.  



  Der Strahlengang einer an sich bekannten Spie  gelreflexsuchereinrichtung verläuft vom Aufnahme  objektiv 1 über den Reflexspiegel 2 und die Bild  feldlinsen 3 und 4 zum     Pentadachkantprisma    5 und  durch das Okular 6 in den Augenpunkt 7. Weiter be  findet sich im Strahlengang zwischen     Bildfeldlinse    4  und     Pentadachkantprisma    5 eine aus Spiegelprismen  8, 9 und 10 zusammengesetzte planparallele Platte 11  mit einer Grundfläche 14. Die Höhe der Platte 11  wird bestimmt durch den Keilwinkel a der Spiegel  prismen 8 und 10. Die Seitenflächen 15 und 16 der  Platte 11 sind als Rasterflächen mit prismatischen  Erhebungen 17 ausgebildet. Den Seitenflächen 15  und 16 sind Photowiderstände 12 und 13 mit Luftab  stand zugeordnet.

   Die Kittstellen der Spiegelprismen  8, 9 und 10 sind mit einem teildurchlässigen Belag  versehen.  



  Die Wirkungsweise der Einrichtung gemäss     Fig.    1  ist so, dass ein Teil der in die planparallele Platte 11       eintretenden    Sucherstrahlen an den     teilverspiegelten          Hypotenusenflächen    der Spiegelprismen 8 und 10  reflektiert wird. Infolge des gewählten Keilwinkels a      werden diese     Strahlen        innerhalb    der Platte 11 an der       Grundfläche    14 totalreflektiert und zu den Seitenflä  chen 15 und 16 gelenkt.

   Infolge der prismatischen  Struktur dieser Seitenflächen 15 und 16 findet keine  Totalreflexion statt und     alle        auftreffenden        Strahlen     werden den Photowiderständen 12 und 13 zur Licht  messung     zugeleitet.     



  In dem     Ausführungsbeispiel    nach     Fig.    2     ist    eine  keilförmige Platte 18     zwischen        Bildfeldlinse    4 und       Pentadachkantprisma    5 angeordnet, die aus     zwei          keilförmigen    Prismen 19 und 20 besteht, deren ver  kittete     Hypotenusenflächen    21 und 22 unter einem       Keilwinkel    ansteigen und halbdurchlässig verspiegelt  sind.

   Die keilförmige Platte 18 weist Seitenflächen 23  und 24 und eine     Grundfläche    25 auf, wobei die dem  Okular 6 zugewendete Seitenfläche 24 als Rasterflä  che mit prismatischen Erhebungen 17 ausgebildet ist.  Dieser Fläche 24 ist ein Photowiderstand 12 mit Luft  abstand zugeordnet.  



  Bei diesem     Ausführungsbeispiel    wird ein Teil der       in    das Prisma 19 eintretenden Sucherstrahlen an den       Hypotenusenflächen    21 und 22 abgelenkt, wobei der  Keilwinkel a so bemessen ist, dass die gespiegelten  Sucherstrahlen an der Grundfläche 25     totalreflektiert     werden.

   Die an der Spitze des Prismas 19 eintreten  den Sucherstrahlen gelangen je zweimal an die     halb-          verspiegelten        Hypotenusenflächen    21 und 22 und die  Grundfläche 25, während die im mittleren Teil des       Prismas    19 eintretenden Strahlen teilweise auf die    Grundfläche 25 zurückgespiegelt werden, um von da  nach     Totalreflexion    direkt auf die     Seitenfläche    24 mit  prismatischer Struktur und auf den Photowiderstand  12     zu    treffen.  



  Da der Photowiderstand 12 nur an der dem Oku  lar 6 zugewendeten Seite der Platte 18 angeordnet ist,  kann Falschlicht, das durch das Okular 6     eindringt,          nicht    zum Photowiderstand 12 gelangen, da es bereits  an der     Seitenfläche    23 der     keilförmigen    Platte 18, die  mattschwarz lackiert ist, absorbiert wird.     Paraxiale     Strahlen, die durch das Okular 6 eindringen, werden  an der Grundfläche 25, die noch besonders entspie  gelt sein kann, auf natürliche Weise reflektiert.



      Exposure measuring device in photographic or cinematographic devices, in particular reflex cameras The main patent No. 403.475 relates to a light measuring device in photographic or cinematographic devices, in particular mirror reflex cameras, which is characterized in that the exposure measurement is carried out by reflecting viewfinder beams onto light-sensitive receivers.



  The light-sensitive receiver, preferably a photoresistor, is arranged according to the embodiment in the main patent at least on one of the side surfaces of a plate to which the prisms are assembled, with or without an air gap. If this plate is to be kept flat in order to achieve a low overall height of the camera, the wedge angle a of the prisms can be selected to be just so small that the measuring beam after reflection on the partially mirrored hypotenuse surface is completely reflected on its entry surface.

   Then, however, total reflection occurs again on the side surface of the plate to which the photoresistor is assigned, so that the photoresistor must be cemented to avoid losses of light. The photoresistor can then only be exchanged together with the measuring prism, which is very costly.



  The object of the invention is to prevent total reflection of measuring beams on the side surface of the plate assigned to the photoresistor without cementing the photoresistor.



  According to the invention, this object is achieved in that the side surface (s) of the plate, which is (are) assigned to a photoresistor with an air gap, is (are) designed as a grid surface (s) with prismatic elevations. This has the advantage that there is no loss of light due to total reflection that would affect the measurement result, but at the same time the photoresistor can be replaced independently of the viewfinder system.



  The subject of the invention is illustrated in more detail using exemplary embodiments. All details have been omitted that are not directly related to the subject matter of the invention.



  1 shows the arrangement of a plate consisting of several mirror prisms within the viewfinder beam path; Fig. 2 shows the arrangement of a plate composed of two Spiegelpris men within the viewfinder beam path.



  The beam path of a known mirror reflex viewfinder runs from the recording lens 1 via the reflex mirror 2 and the image field lenses 3 and 4 to the pentagonal prism 5 and through the eyepiece 6 into the eye point 7. Next be found in the beam path between the image field lens 4 and the pentagonal prism 5 Plane-parallel plate 11 composed of mirror prisms 8, 9 and 10 with a base 14. The height of the plate 11 is determined by the wedge angle α of the mirror prisms 8 and 10. The side surfaces 15 and 16 of the plate 11 are designed as grid surfaces with prismatic elevations 17 . The side surfaces 15 and 16 are photoresistors 12 and 13 with Luftab assigned.

   The cemented points of the mirror prisms 8, 9 and 10 are provided with a partially permeable coating.



  The mode of operation of the device according to FIG. 1 is such that part of the viewfinder rays entering the plane-parallel plate 11 is reflected on the partially mirrored hypotenuse surfaces of the mirror prisms 8 and 10. As a result of the selected wedge angle α, these rays are totally reflected within the plate 11 on the base 14 and directed to the Seitenflä surfaces 15 and 16.

   As a result of the prismatic structure of these side surfaces 15 and 16, there is no total reflection and all incident rays are fed to the photoresistors 12 and 13 for light measurement.



  In the embodiment of Fig. 2, a wedge-shaped plate 18 is arranged between the image field lens 4 and pentatachometer prism 5, which consists of two wedge-shaped prisms 19 and 20, the ver cemented hypotenuse surfaces 21 and 22 rise at a wedge angle and are semi-transparent mirrored.

   The wedge-shaped plate 18 has side surfaces 23 and 24 and a base surface 25, the side surface 24 facing the eyepiece 6 being designed as a raster surface with prismatic elevations 17. This surface 24 is assigned a photoresistor 12 with air gap.



  In this exemplary embodiment, some of the viewfinder beams entering prism 19 are deflected at hypotenuse surfaces 21 and 22, the wedge angle a being dimensioned such that the mirrored viewfinder beams are totally reflected on base surface 25.

   The viewfinder rays entering at the tip of the prism 19 reach the semi-mirrored hypotenuse surfaces 21 and 22 and the base surface 25 twice each, while the rays entering the middle part of the prism 19 are partially reflected back onto the base surface 25, from there to total reflection to hit the side surface 24 with prismatic structure and the photoresistor 12 directly.



  Since the photoresistor 12 is only arranged on the side of the plate 18 facing the eyepiece 6, stray light that penetrates through the eyepiece 6 cannot reach the photoresistor 12, since it is already painted on the side surface 23 of the wedge-shaped plate 18, which is matt black is absorbed. Paraxial rays that penetrate through the eyepiece 6 are reflected in a natural way on the base 25, which can still be particularly anti-reflective.

 

Claims (1)

PATENTANSPRUCH Belichtungsmesseinrichtung in photographischen oder kinematographischen Geräten, insbesondere Spiegelreflexkameras, nach dem Patentanspruch des Hauptpatentes, bei welchen Geräten die Belichtungs messung innerhalb des Sucherstrahlenganges mittels mehrerer Prismen erfolgt, deren teildurchlässige Hypotenusenflächen die Messstrahlen zu mindestens einem lichtempfindlichen Empfänger lenken und die sich zu einer Platte zusammensetzen, dadurch ge kennzeichnet, dass die Seitenflächen (15, 16, 23, 24) der Platte (11, 18), .die einem Photowiderstand (12, 13) mit Luftabstand zugeordnet ist (sind), als Raster fläche (n) PATENT CLAIM Exposure measuring device in photographic or cinematographic devices, in particular single-lens reflex cameras, according to the claim of the main patent, in which devices the exposure measurement takes place within the viewfinder beam path by means of several prisms, whose partially transparent hypotenuse surfaces direct the measuring beams to at least one light-sensitive receiver and which are assembled into a plate, characterized in that the side surfaces (15, 16, 23, 24) of the plate (11, 18), which is (are) assigned to a photoresistor (12, 13) with an air gap, as a grid surface (s) mit prismatischen Erhebungen (17) ausge bildet ist (sind). with prismatic elevations (17) forms is (are).
CH1367863A 1961-09-27 1963-11-07 Exposure measuring device in photographic or cinematographic devices, in particular single-lens reflex cameras CH427493A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD7610661 1961-09-27
DD7816062 1962-02-10
DD8614363 1963-07-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH427493A true CH427493A (en) 1966-12-31

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ID=27179659

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CH1367863A CH427493A (en) 1961-09-27 1963-11-07 Exposure measuring device in photographic or cinematographic devices, in particular single-lens reflex cameras

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