DE1208990B

DE1208990B - Exposure measuring device in photographic or cinematographic single-lens reflex cameras

Info

Publication number: DE1208990B
Application number: DEE25306A
Authority: DE
Inventors: Werner Traenkner
Original assignee: Elbe Kamera GmbH
Current assignee: Elbe Kamera GmbH
Priority date: 1963-08-08
Filing date: 1963-08-08
Publication date: 1966-01-13

Description

Belichtungsmeßeinrichtung in photographischen oder kinematographischen Spiegelreflexkameras Die Erfindung betrifft eine Belichtun-smeßeinrichtung in photographischen oder kinematographischen Spiegelreflexkameras mit einem hinter mindestens einer teilverspiegelten Umlenkfläche des Reflexionsprismas angeordneten lichtempfindlichen Empfänger.Exposure measuring device in photographic or cinematographic Single lens reflex cameras The invention relates to an exposure measuring device in photographic applications or cinematographic single lens reflex cameras with one behind at least one partially mirrored deflecting surface of the reflection prism arranged light-sensitive Recipient.

Es ist bereits bekannt, daß sich der lichtempfindliche Empfänger hinter einer oder mehreren teilverspiegelten Umlenkflächen eines Reflexionsprismas, vorzugsweise eines Pentaprismas, befindet. Eine derartige Einrichtung hat jedoch den Nachteil, daß auf diese teilverspiegelte Umlenkfläche und damit auf den lichtempfindlichen Empfänger nicht nur Sucherstrahlen, sondern auch durch das Okular eintretende Falschlichtstrahlen gelangen, die das Meßergebnis verfälschen.It is already known that the photosensitive receiver is behind one or more partially mirrored deflecting surfaces of a reflection prism, preferably a pentaprism. However, such a device has the disadvantage that on this partially mirrored deflecting surface and thus on the light-sensitive Receivers not only viewfinder beams, but also stray light beams entering through the eyepiece get that falsify the measurement result.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Belichtungsmeßeinrichtung zu schaffen, bei der hinter der teilverspiegelten Umlenkfläche des Reflexionsprismas ausschließlich das ausgespiegelte Sucherlicht gemessen wird.The object of the invention is to create a light metering device, exclusively for the one behind the partially mirrored deflecting surface of the reflection prism the reflected light from the viewfinder is measured.

Erfindungsgemäß ist diese Aufgabe dadurch gelöst, daß der die an der teilverspiegelten Umlenkfläche austretenden Sucherstrahlen aufnehmende lichtempfindliche Empfänger geneigt zur Umlenkfläche an-eordret ist, während im Bereich der durch das Okular eindrin-enden, an der Umlenkfläche ausgespiegelten Falschlichtstrahlen ein Absorptionsblech gelagert ist.According to the invention this object is achieved in that the on the partially mirrored deflecting surface exiting viewfinder rays absorbing light-sensitive Receiver is inclined to the deflection surface, while in the area of the through Stray light rays reflected on the deflecting surface penetrate the eyepiece an absorption plate is mounted.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist an Hand einer Zeichnung näher dargestellt. Die Abbildung zeigt ein im Gehäuse einer Spiegelreflexkamera angeordnetes Porro-Prismensystem mit Belichtungsnie3cinrichtuLg.An embodiment of the invention is based on a drawing shown in more detail. The illustration shows an in the housing of a single lens reflex camera arranged Porro prism system with exposure device.

Im Gehäuse l einer Spiegelreflexkamera mit den Bediemnigselementen 2, 3 und 4 befindet sich ein Aufnahmeobjektiv 5 und ein um 45° zum Aufnahmestrahlengang geneigter Reflexspiegel 6, der die auftreffenden Lichtstrahlen zu einer Bildfeldlinse 7 lenkt. über der Bildfeldlinse 7 ist ein Porro-Prismensystem an `geordnet, das aus den rechtwinkligen Prismen 8 und 9 besteht, wobei die Kathetenfläche 10 des Prismas 9 an einen Teil der Hypotenusenfläche 11 des Prismas 8 anliegt. Hinter der Hypotenusenfläche des Prismas 9 befindet sich ein Okular 12. Das Prisma 8 besitzt Umlenkflächen 13 und 14, wobei die Umlenkfläche 13 teilverspiegelt ist. Außerhalb der Umlenkfläche 13 im Gehäuse 1 befindet sich ein Photowiderstand 15, der geneigt zur Umlenkfläche 13, in Richtung der ausgespiegelten Sucherstrahlen angeordnet ist. Ebenfalls geneigt zur Umlenkfläche 13, aber in Richtung der durch das Okular 12 eingetretenen, an der Umlenkfläche 13 ausgespiegelten Falschlichtstrahlen befindet sich ein Absorptionsblech 16.In the housing 1 of a reflex camera with the operating elements 2, 3 and 4 there is a recording lens 5 and a reflective mirror 6 which is inclined at 45 ° to the recording beam path and which directs the incident light beams to an image field lens 7. A Porro prism system is arranged above the image field lens 7 and consists of the right-angled prisms 8 and 9, with the cathetus surface 10 of the prism 9 resting on part of the hypotenuse surface 11 of the prism 8. An eyepiece 12 is located behind the hypotenuse surface of the prism 9. The prism 8 has deflection surfaces 13 and 14, the deflection surface 13 being partially mirrored. Outside the deflecting surface 13 in the housing 1 there is a photoresistor 15 which is inclined to the deflecting surface 13 in the direction of the reflected viewfinder beams. An absorption plate 16 is likewise inclined to the deflecting surface 13, but in the direction of the stray light rays that have entered through the eyepiece 12 and are reflected out on the deflecting surface 13.

Die Wirkungsweise der Einrichtung ist folgende: Die auf den Reflexspiegel 6 treffenden Lichtstrahlen werden zur Bildfeldlinse 7 abgelenkt und treten in das Prisma 8 des Porro-Prismensystems ein. Während der Hauptteil der Strahlen an den Umlenkflächen 13 und 14 reflektiert, in das Prisma 9 und über dessen Hypotenusenfläche zum Okular 12 gelenkt wird, wird ein Teil der Strahlen an der teilverspiegelten Umlenkfläche 13 ausgespiegelt und trifft auf den geneigt zur Umlenkfläche 13 angeordneten Photowiderstand 15. Treten jedoch durch das Okular 12 Falschlichtstrahlen in das Porro-Prismensystem ein, die ebenfalls zu einem Teil an der teilverspiegelten Umlenkfläche 13 ausgespiegelt werden, so geschieht das unter einem solchen Winkel, daß die Falschlichtstrahlen alle vom Absorptionsblech 16 aufgenommen werden und das Meßergibnis nicht verfälschen.The mode of operation of the device is as follows: The one on the reflex mirror 6 hitting light beams are deflected to the field lens 7 and enter the Prism 8 of the Porro prism system. While the main part of the rays at the Deflection surfaces 13 and 14 reflected into the prism 9 and over its hypotenuse surface is directed to the eyepiece 12, some of the rays at the partially mirrored Deflecting surface 13 is reflected and meets the inclined to the deflecting surface 13 Photoresistor 15. However, if through the eyepiece 12 stray light rays enter the Porro prism system, which is also partly on the partially mirrored deflection surface 13 are reflected, it is done at such an angle that the false light rays are all taken up by the absorption sheet 16 and do not falsify the measurement result.

Claims

Claims: 1. Exposure measuring device in photographic or cinematographic single lens reflex cameras with one behind at least one partially mirrored deflecting surface of the reflection prism arranged light-sensitive Receiver, characterized in that the at the partially mirrored deflecting surface light-sensitive receiver to the deflecting surface that absorbs emerging viewfinder beams is arranged inclined, while in the area of penetrating through the eyepiece the deflection surface reflected out stray light rays stored an absorption sheet is. z. Exposure measuring device according to Claim 1, characterized in that that the light-sensitive receiver, preferably a photoresistor (15), and the absorption plate (16) behind a partially mirrored deflection surface (13) of a Porro primer system (8, 9) are arranged. 3. Exposure meter according to the Claims 1 and 2, characterized in that the photoresistor (15) and the Absorption plate (16) behind the first deflection surface (13) of a Porro prism system (8, 9) are arranged.