CH427493A - Belichtungsmesseinrichtung in photographischen oder kinematographischen Geräten, insbesondere Spiegelreflexkameras - Google Patents
Belichtungsmesseinrichtung in photographischen oder kinematographischen Geräten, insbesondere SpiegelreflexkamerasInfo
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B7/00—Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
- G03B7/08—Control effected solely on the basis of the response, to the intensity of the light received by the camera, of a built-in light-sensitive device
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- G03B7/0993—Arrangement of photoelectric elements in or on the camera in the camera
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- G03B7/09971—Through the lens [TTL] measuring in mirror-reflex cameras
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Description
Belichtungsmesseinrichtung in photographischen oder kinematographischen Geräten, insbesondere Spiegelreflexkameras Das Hauptpatent Nr.403.475 betrifft eine Be- lichtungsmesseinrichtung in photographischen oder kinematographischen Geräten, insbesondere Spiegel reflexkameras, die dadurch gekennzeichnet ist, dass durch integrierende Teilmessung die Belichtungsmes sung durch Ausspiegelung von Sucherstrahlen auf lichtempfindliche Empfänger erfolgt.
Der lichtempfindliche Empfänger, vorzugsweise ein Photowiderstand, ist gemäss der Ausführung im Hauptpatent mindestens an einer der Seitenflächen einer Platte, zu der sich die Prismen zusammensetzen, mit oder ohne Luftabstand angeordnet. Soll diese Platte zur Erzielung einer geringen Bauhöhe der Kamera flach gehalten werden, so kann der Keilwin kel a der Prismen gerade so klein gewählt werden, dass der Messstrahl nach Reflexion an der teilver- spiegelten Hypotenusenfläche an seiner Eintrittsflä- ehe noch totalreflektiert wird.
Dann tritt jedoch an der Seitenfläche der Platte, der der Photowiderstand zugeordnet ist, nochmals Totalreflexion ein, sodass der Photowiderstand zur Vermeidung von Lichtver lusten angekittet werden muss. Der Photowiderstand kann dann nur zusammen mit dem Messprisma, ver bunden mit hohem Aufwand, ausgewechselt werden.
Aufgabe der Erfindung ist, die Totalreflexion von Messstrahlen an der dem Photowiderstand zugeord neten Seitenfläche der Platte zu verhindern, ohne den Photowiderstand anzukitten.
Erfindungsgemäss ist diese Aufgabe dadurch ge löst, dass die Seitenfläche (n) der Platte, die einem Photowiderstand mit Luftabstand zugeordnet ist (sind), als Rasterfläche (n) mit prismatischen Erhe bungen ausgebildet ist (sind). Daraus ergibt sich der Vorteil, dass keine das Messergebnis beeinflussenden Lichtverluste durch Totalreflexion eintreten, aber gleichzeitig der Photowiderstand unabhängig vom Suchersystem ausgewechselt werden kann.
Anhand von Ausführungsbeispielen ist der Erfin dungsgegenstand näher dargestellt. Dabei ist auf alle Einzelheiten verzichtet worden, die mit dem Gegen stand der Erfindung nicht unmittelbar in Zusammen hang stehen.
Es zeigen: Fig. 1 :die Anordnung einer aus mehreren Spie gelprismen bestehenden Platte innerhalb des Sucher strahlenganges; Fig. 2 die Anordnung einer aus zwei Spiegelpris men zusammengesetzten Platte innerhalb des Sucher strahlenganges.
Der Strahlengang einer an sich bekannten Spie gelreflexsuchereinrichtung verläuft vom Aufnahme objektiv 1 über den Reflexspiegel 2 und die Bild feldlinsen 3 und 4 zum Pentadachkantprisma 5 und durch das Okular 6 in den Augenpunkt 7. Weiter be findet sich im Strahlengang zwischen Bildfeldlinse 4 und Pentadachkantprisma 5 eine aus Spiegelprismen 8, 9 und 10 zusammengesetzte planparallele Platte 11 mit einer Grundfläche 14. Die Höhe der Platte 11 wird bestimmt durch den Keilwinkel a der Spiegel prismen 8 und 10. Die Seitenflächen 15 und 16 der Platte 11 sind als Rasterflächen mit prismatischen Erhebungen 17 ausgebildet. Den Seitenflächen 15 und 16 sind Photowiderstände 12 und 13 mit Luftab stand zugeordnet.
Die Kittstellen der Spiegelprismen 8, 9 und 10 sind mit einem teildurchlässigen Belag versehen.
Die Wirkungsweise der Einrichtung gemäss Fig. 1 ist so, dass ein Teil der in die planparallele Platte 11 eintretenden Sucherstrahlen an den teilverspiegelten Hypotenusenflächen der Spiegelprismen 8 und 10 reflektiert wird. Infolge des gewählten Keilwinkels a werden diese Strahlen innerhalb der Platte 11 an der Grundfläche 14 totalreflektiert und zu den Seitenflä chen 15 und 16 gelenkt.
Infolge der prismatischen Struktur dieser Seitenflächen 15 und 16 findet keine Totalreflexion statt und alle auftreffenden Strahlen werden den Photowiderständen 12 und 13 zur Licht messung zugeleitet.
In dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 ist eine keilförmige Platte 18 zwischen Bildfeldlinse 4 und Pentadachkantprisma 5 angeordnet, die aus zwei keilförmigen Prismen 19 und 20 besteht, deren ver kittete Hypotenusenflächen 21 und 22 unter einem Keilwinkel ansteigen und halbdurchlässig verspiegelt sind.
Die keilförmige Platte 18 weist Seitenflächen 23 und 24 und eine Grundfläche 25 auf, wobei die dem Okular 6 zugewendete Seitenfläche 24 als Rasterflä che mit prismatischen Erhebungen 17 ausgebildet ist. Dieser Fläche 24 ist ein Photowiderstand 12 mit Luft abstand zugeordnet.
Bei diesem Ausführungsbeispiel wird ein Teil der in das Prisma 19 eintretenden Sucherstrahlen an den Hypotenusenflächen 21 und 22 abgelenkt, wobei der Keilwinkel a so bemessen ist, dass die gespiegelten Sucherstrahlen an der Grundfläche 25 totalreflektiert werden.
Die an der Spitze des Prismas 19 eintreten den Sucherstrahlen gelangen je zweimal an die halb- verspiegelten Hypotenusenflächen 21 und 22 und die Grundfläche 25, während die im mittleren Teil des Prismas 19 eintretenden Strahlen teilweise auf die Grundfläche 25 zurückgespiegelt werden, um von da nach Totalreflexion direkt auf die Seitenfläche 24 mit prismatischer Struktur und auf den Photowiderstand 12 zu treffen.
Da der Photowiderstand 12 nur an der dem Oku lar 6 zugewendeten Seite der Platte 18 angeordnet ist, kann Falschlicht, das durch das Okular 6 eindringt, nicht zum Photowiderstand 12 gelangen, da es bereits an der Seitenfläche 23 der keilförmigen Platte 18, die mattschwarz lackiert ist, absorbiert wird. Paraxiale Strahlen, die durch das Okular 6 eindringen, werden an der Grundfläche 25, die noch besonders entspie gelt sein kann, auf natürliche Weise reflektiert.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH Belichtungsmesseinrichtung in photographischen oder kinematographischen Geräten, insbesondere Spiegelreflexkameras, nach dem Patentanspruch des Hauptpatentes, bei welchen Geräten die Belichtungs messung innerhalb des Sucherstrahlenganges mittels mehrerer Prismen erfolgt, deren teildurchlässige Hypotenusenflächen die Messstrahlen zu mindestens einem lichtempfindlichen Empfänger lenken und die sich zu einer Platte zusammensetzen, dadurch ge kennzeichnet, dass die Seitenflächen (15, 16, 23, 24) der Platte (11, 18), .die einem Photowiderstand (12, 13) mit Luftabstand zugeordnet ist (sind), als Raster fläche (n)mit prismatischen Erhebungen (17) ausge bildet ist (sind).
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD7610661 | 1961-09-27 | ||
| DD7816062 | 1962-02-10 | ||
| DD8614363 | 1963-07-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH427493A true CH427493A (de) | 1966-12-31 |
Family
ID=27179659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH1367863A CH427493A (de) | 1961-09-27 | 1963-11-07 | Belichtungsmesseinrichtung in photographischen oder kinematographischen Geräten, insbesondere Spiegelreflexkameras |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH427493A (de) |
-
1963
- 1963-11-07 CH CH1367863A patent/CH427493A/de unknown
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