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WO2004048434A1 - 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 - Google Patents

光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 Download PDF

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WO2004048434A1
WO2004048434A1 PCT/JP2003/015187 JP0315187W WO2004048434A1 WO 2004048434 A1 WO2004048434 A1 WO 2004048434A1 JP 0315187 W JP0315187 W JP 0315187W WO 2004048434 A1 WO2004048434 A1 WO 2004048434A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
resin
photocurable
resin composition
carboxyl group
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2003/015187
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English (en)
French (fr)
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Hideaki Kojima
Yoshitaka Hirai
Naoki Yoneda
Shoji Minegishi
Hidekazu Miyabe
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Taiyo Holdings Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to EP03775937A priority patent/EP1568723B1/en
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    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions

Definitions

  • the present invention relates to a photo-curing / thermo-setting resin composition and a printed wiring board using the same, and more particularly, to a dry-to-touch property, an adhesive property, excellent resolution, and mist generated during heat curing.
  • the photocurable thermosetting resin composition which is low in sensitivity and high in storage stability, and the gas produced at the time of component mounting manufactured using it is reduced.
  • the present invention relates to a printed wiring board having a solder-resist layer and / or a resin insulation layer having excellent resistance and electrical insulation. Background art
  • Solder resist compositions are used for the purpose of preventing solder ridges and protecting circuits when soldering components to printed wiring boards.Therefore, the cured product has good adhesion, chemical resistance, and electrical properties. And other characteristics are required. In recent years, the printed wiring board manufacturing industry has been required to reduce the weight of printed wiring boards and increase the density of conductive circuits. Accordingly, photo-developable solder-resist compositions, especially compositions that can be developed with aqueous alkaline solutions Has been developed and used (see, for example, JP-A-1-141904).
  • a solder-resist layer using such a photo-developable type composition The coating is performed by a screen printing method, a curtain coating method, a spray coating method, a roll coating method, etc., in which a resist composition is applied to the entire surface of the substrate, a temporary drying step in which an organic solvent is volatilized to enable contact exposure, It requires an exposure step of cooling and contact exposure, a development step of removing unexposed areas by development, and a thermosetting step to obtain sufficient coating film properties.
  • the exposure step is an extremely complicated one, such as exchanging a negative film depending on the type of printed wiring board, performing alignment, vacuuming, and exposing.
  • a hot air circulation method is used in a pre-drying step involving heating, an exposure step, a thermosetting step, and a soldering step.
  • Volatile components (mist) generated from the resist composition adhere to drying ovens and exposure equipment, causing mounting errors in the subsequent soldering and subsequent plating processes. Therefore, in the pre-drying process, the exposure process, the thermosetting process, and the soldering process, there is an increasing demand for the development of a solder resist composition with a small amount of components (mist) that evaporates from the resist composition. No satisfactory material has been found.
  • a method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which a resin insulating layer is formed using a photo-developing type composition in which a resin insulating layer is formed using a photo-developing type composition.
  • an arbitrary method such as screen printing, force coating, spray coating, or the like, of a liquid photosensitive resin composition so that the conductive circuit is embedded on the entire surface of the wiring board on which the conductive circuit is formed is used.
  • a negative film having a predetermined exposure pattern is superimposed on the dried coating film and exposed to ultraviolet light, and then the negative film is removed.
  • a conductor layer is formed by electroless plating, electrolytic plating, or the like.
  • the photosensitive resin composition used has sufficient photocuring depth at the time of exposure, and
  • the interlayer resin insulation layer to be formed is required to have excellent properties such as adhesion to the conductor layer, electrical insulation, heat resistance, and chemical resistance.
  • volatile components generated from the interlayer resin insulation layer have caused poor adhesion of the conductor layer. No material has been found that can sufficiently solve such problems.
  • a laser light source is mainly used as a light source for such direct imaging, and ultraviolet light having a wavelength of 300 to 450 nm is used for a single wavelength or a combination of a plurality of wavelengths. Is 5 to 15 m, and the output is about several watts.
  • the time required to form a resist pattern on a single printed wiring board depends greatly on the sensitivity of the solder-resist composition, since the image is drawn by scanning at a width of 5 to 15 zm.
  • the solder-resist composition for laser direct imaging is required to have higher sensitivity than the development-type solder-resist composition by general-purpose contact exposure.
  • the present invention has been made under the above-mentioned background, and has a main object of being that it can be developed with an aqueous alkali solution, has sufficiently high deep curability at the time of exposure, provides high resolution, has excellent heat resistance, Provides a cured product with chemical resistance, electrical properties, moisture absorption resistance, and PCT resistance, and volatilizes from the solder resist composition in the pre-drying, exposure, heat curing, and soldering processes involving heating. It is intended to provide a photo-curable and thermo-curable resin composition having a small amount of components (mist).
  • Another object of the present invention is to provide a photo-curing / thermosetting resin composition having excellent storage stability, which is highly sensitive and excellent in workability, and which can also be used for a solder resist for laser * direct / imaging. To provide things.
  • Still another object of the present invention is to provide a printed wiring board on which a solder-resist layer and / or a resin insulating layer formed with a reduced gas generated at the time of component mounting and excellent in PCT resistance, electrical insulation, etc. are formed. It is in. Disclosure of the invention
  • a photocurable or thermosetting composition comprising: a photopolymerization initiator; (C) a reactive diluent; and (D) an epoxy compound having two or more epoxy groups per molecule.
  • the initiator (B) is mixed with a composition different from the composition containing at least the carboxyl group-containing resin (A) and the reactive diluent (C), and is formed into at least a two-part system.
  • a photocurable and thermosetting resin composition comprising: a photopolymerization initiator; (C) a reactive diluent; and (D) an epoxy compound having two or more epoxy groups per molecule.
  • a printed wiring board having a solder resist layer and a resin or resin insulating layer formed using the photocurable thermosetting resin composition.
  • the photocurable and thermosetting resin composition according to the present invention uses a photopolymerization initiator having an oxime bond as the photopolymerization initiator, it has high sensitivity, high deep curability, heat resistance, It is possible to stably form a cured film having excellent properties such as PCT resistance. In addition, the high sensitivity enables excellent workability and low cost, making it possible to use the laser direct imaging method.
  • the photopolymerization initiator having a highly sensitive oxime bond is separated and blended with a carboxyl group-containing photosensitive resin or a reactive diluent having one or more unsaturated double bonds in one molecule.
  • the oxime-based initiator is prepared by separating a photopolymerization initiator having an oxime bond from a carboxyl group-containing resin and blending it. It is also possible to provide a stable photo-curing / thermo-curing resin composition in which deterioration of the agent is prevented. Furthermore, since no mist due to the photopolymerization initiator is generated in the exposure step, the thermosetting step involving heating, and the soldering step, the effect of reducing the contamination of the working environment can be obtained. Best mode for carrying out the invention.
  • the present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, (A) a carboxyl group-containing resin having one or more carboxyl groups in one molecule, (C) a reactive diluent, and D) As a photopolymerization initiator (B), at least one type of photopolymerization initiator having an oxime bond represented by the general formula (I), which is combined with an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule.
  • the photopolymerization rate of the photosensitive component (a carboxyl group-containing resin having two or more photosensitive unsaturated double bonds in one molecule and a reactive diluent) is increased, and the resolution is improved. It was found that a coating film with excellent dryness to the touch was obtained, and that the generation of volatile components (mist) during heat curing was small.
  • the photopolymerization initiator (B) having an oxime bond represented by the general formula (I) used in the present invention has high sensitivity, sufficient resolution can be obtained even with a small amount of addition. Since it is not scattered by heating, it does not cause mist, and is hardly soluble in solvents, which contributes to obtaining a coating film having good dryness to the touch.
  • the photopolymerization initiator (B) having an oxime bond represented by the general formula (I) has an unpaired electron pair at the nitrogen atom, it has at least one carboxyl group in one molecule. It was newly confirmed that the storage stability was poor when blended with the carboxyl group-containing resin (A).
  • the photopolymerization initiator (B) having an oxime bond represented by the general formula (I) has high sensitivity, and is preferably contacted with the reactive diluent (C) from the viewpoint of storage stability. I don't.
  • the inventors of the present invention have made a composition containing at least the carboxyl group-containing resin (A) and the reactive diluent (C) the photopolymerization initiator (B) having an oxime bond. It has been found that a photo-curable and thermo-curable resin composition having excellent storage stability can be obtained by blending it into a composition other than the above-mentioned composition and forming at least a two-part system, thereby completing the present invention. It has been reached.
  • the photopolymerization initiator having an oxime bond represented by the general formula (I) may be referred to as an oxime-based photopolymerization initiator.
  • each component of the photocurable and thermosetting resin composition of the present invention will be described in detail.
  • the carboxyl group-containing resin (A) having one or more carboxyl groups in one molecule a resin having a carboxyl group, specifically, a carboxyl group which itself has an ethylenically unsaturated double bond Containing photosensitive resin and Any carboxyl group-containing resin having no ethylenically unsaturated double bond can be used, and is not limited to any particular resin.
  • the resins (oligomer and polymer resin) listed below are used. May be used).
  • a carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing (a) an unsaturated carboxylic acid and (b) a compound having an unsaturated double bond,
  • Carboxyl group-containing photosensitivity obtained by adding an ethylenically unsaturated group (b,) as a pendant to a copolymer of (a) an unsaturated carboxylic acid and (b) a compound having an unsaturated double bond.
  • Carboxyl group-containing photosensitivity obtained by reacting (h) a polyfunctional epoxy compound with (d) an unsaturated monocarboxylic acid, and reacting (e) a saturated or unsaturated polybasic anhydride with a generated hydroxyl group.
  • a photosensitive resin having a hydroxyl group having two or more photosensitive unsaturated double bonds in one molecule particularly a carboxyl group-containing photosensitive resin of the above (5) is preferable.
  • the carboxyl group-containing resin (A) as described above has a large number of free carboxyl groups in the backbone and in the side chains of the polymer, development with a dilute aqueous solution is possible.
  • the acid value of the carboxyl group-containing resin (A) is preferably in the range of 45 to 200 mg K0HZg, preferably 45 to 160 mgKOH / g. If the acid value of the carboxyl group-containing resin is less than 45 mgK OH / g, alkali development becomes difficult.On the other hand, if the acid value exceeds 20 OmgKOH / g, the dissolution of the exposed area by the developer proceeds, and the In some cases, it is not preferable because the exposed portion and the unexposed portion are dissolved and peeled off with a developer without distinction, and it becomes difficult to draw a normal resist pattern.
  • the carboxyl group-containing resin (1) is obtained by copolymerization of (a) an unsaturated carboxylic acid and (b) a compound having an unsaturated double bond. It is soluble in aqueous solution.
  • the unsaturated carboxylic acid (a) include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and anhydrides of these acids.
  • Acid anhydrides such as maleic acid, itaconic anhydride and pyromellitic anhydride and hydroxyl groups such as hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate.
  • the compound (b) having an unsaturated double bond examples include styrene, chlorostyrene, monomethylstyrene; and methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, and the like as substituents.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resin of the above (2) is characterized in that an ethylenically unsaturated photopolymer is added to a part of the carboxy group of the copolymer of the unsaturated carboxylic acid (a) and the compound having an unsaturated double bond (b).
  • the ethylenically unsaturated group (b,) added as the pendant is examples include an enyl group, an aryl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group.
  • the method for adding such an ethylenically unsaturated group to the copolymer is to add an ethylenically unsaturated compound having an epoxy group or (meth) acrylic acid chloride to the propyloxyl group of the copolymer. There are methods.
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound having an epoxy group and (meth) acrylic acid chloride include glycidyl (meth) acrylate, arylglycidyl ether, ⁇ -methylglycidyl (meth) acrylate, and glycidyl crotonate. Ter, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid chloride, crotonic acid chloride, and the like. Of these, glycidyl acrylate is preferred.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resin of the above (3) comprises (c) a copolymer of a compound having an epoxy group and an unsaturated double bond in the molecule and (b) a copolymer of a compound having an unsaturated double bond. (D) reacting the epoxy group with the carboxyl group of the unsaturated monocarboxylic acid at a rate that improves the photocurability to the extent that a sufficient photocuring depth can be obtained; In addition to introducing the bond into the side chain, the secondary hydroxyl group formed by the above addition reaction is subjected to esterification reaction of (e) a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride, and a resin having a carboxyl group introduced into the side chain. I will.
  • the compound (c) containing an epoxy group and an unsaturated double bond in the above molecule include glycidyl (meth) acrylate, ⁇ -methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl ( Methacrylate) and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • unsaturated monocarboxylic acid (d) examples include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, hyanocyanic acid, 3-styryacrylic acid, and -furfurylacrylic acid. These can be used alone or in combination of two or more.
  • saturated or unsaturated polybasic acid anhydride examples include Citric acid, maleic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrofluoric anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, itaconic anhydride, methylendmethylenetetrahydrofluoric anhydride, trimellitic anhydride And anhydrous pyromellitic acid, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resin of the above (4) includes (f) an acid anhydride having an unsaturated double bond and (b) an acid anhydride group of a copolymer of a compound having an unsaturated double bond; (G) A resin in which a hydroxyl group and a hydroxyl group of a compound having an unsaturated double bond are reacted to form a hive fest, and the unsaturated double bond of the compound (g) is introduced into a side chain.
  • the acid anhydride (f) having an unsaturated double bond examples include maleic anhydride, itaconic anhydride, and pyromellitic anhydride and 2-hydroxysethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl
  • examples thereof include partial reaction products with an unsaturated compound having a hydroxyl group such as hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • maleic anhydride which can stably synthesize the polymer is preferable.
  • the compound (g) having a hydroxyl group and an unsaturated double bond include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyshethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; lactone-modified Hydroxyethyl (meth) acrylate; and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resins (2) to (4) as described above have excellent photocurability and contribute to dryness of the composition to the touch.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resin of (5) is obtained by reacting (h) the epoxy group of the polyfunctional epoxy compound with the (d) carboxyl group of the unsaturated monocarboxylic acid to form epoxy acrylate.
  • the above-mentioned (e) the saturated or unsaturated polybasic anhydride is esterified with the secondary hydroxyl group generated by the above addition reaction. It is a resin in which a lipoxyl group has been introduced into the side chain by a chemical reaction.
  • epoxy resins can be used.
  • Representative examples include bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, phenol novolak type, cresol novolak type, bisphenol A nopolak type, biphenol type, and bixylenol.
  • epoxy compounds known in the art such as N-glycidyl type and EHP E-315'0 manufactured by Daicel Co., Ltd., and the like as commercially available products.
  • a polyfunctional bisphenol-type epoxy resin obtained by reacting a hydroxyl group of a solid bisphenol-type epoxy resin with an epihalohydrin such as epichlorohydrin to obtain a polyfunctional bisphenol-type epoxy resin may be used.
  • a phenol novolak type epoxy resin a cresol novolak type epoxy resin, or a polyfunctional bisphenol type epoxy resin which has a large amount of epoxy groups and is solid.
  • These polyfunctional epoxy compounds (h) can be used alone or in combination of two or more.
  • the number of equivalents of the epoxy group is 0.8 to 1.2, preferably 0.9 to 1. It is preferable to carry out at a rate of 05. If the number of equivalents of the epoxy group / the number of equivalents of the carboxyl group is less than 0.8, there is a problem of odor because the unsaturated monocarboxylic acid (d) remains, and if the above number of equivalents exceeds 1.2, Since a large number of epoxy groups remain, it is not preferable because a gel is easily formed at the stage of reacting the saturated or unsaturated polybasic acid anhydride (e).
  • the reaction ratio of the saturated or unsaturated polybasic anhydride (e) to the generated secondary hydroxyl groups is such that the acid value of the finally obtained resin is preferably in the range of 45 to 160 mgKOH / g. Adjust to Generally, the acid anhydride group is in an amount of 0.3 to 0.9 equivalent, preferably 0.1 to 1 equivalent of the hydroxyl group generated by the reaction of the polyfunctional epoxy compound (h) and the unsaturated monocarboxylic acid (d). 5-0.7 equivalents.
  • the hydroxyl group- and carboxyl group-containing resin (6) is obtained by reacting (i) a hydroxyl group-containing polymer with (e) a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride.
  • the hydroxyl-containing polymer (i) polyvinyl acetate cellulose or the like is used.
  • water is added to the diluent of the composition. Water can be used as the developer in addition to the dilute aqueous solution.
  • the synthesis reaction of the carboxyl group-containing photosensitive resin of (7) is carried out by adding the unsaturated monocarboxylic acid (d) (or at least one alcoholic hydroxyl group in one molecule) to the polyfunctional epoxy compound (h). And a compound having one reactive group other than an alcoholic hydroxyl group that reacts with an epoxy group (j)), and then reacting at least one alcoholic hydroxyl group in one molecule with an epoxy group Reacting a compound (j) (or unsaturated monocarboxylic acid (d)) having one reactive group other than a reactive hydroxyl group, and further reacting a saturated or unsaturated polybasic anhydride (e).
  • the method comprises the steps of preparing a polyfunctional epoxy compound (g), an unsaturated monocarboxylic acid (h), at least one alcoholic hydroxyl group in one molecule, and one reactive group other than the alcoholic hydroxyl group that reacts with the epoxy group. Yes Reacted that of compound a (j) at the same time, there is a second process of reacting further saturated or unsaturated polybasic acid anhydride (e). Either method may be used, but the second method is preferred.
  • a compound having at least one hydroxyl group and one reactive group other than an alcoholic hydroxyl group that reacts with an epoxy group in one molecule for example, a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, a secondary amino group, etc.
  • j include, for example, hydroxymonocarboxylic acids such as glycolic acid, dimethylolpropionic acid, dimethylolacetic acid, dimethylolbutyric acid, dimethylol-l-valeric acid, dimethylol-l-l-caproic acid; and (bis) hydroxymethyl Phenols such as (bis) hydroxymethylcresol, p-hydroxyphenyl-12-methanol, p-hydroxyphenyl-13-propanol, p-hydroxyphenethyl alcohol, etc .; Dial force nolamine such as propanolamine Etc.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resin (8) is replaced with (1) a polyfunctional oxetane compound instead of the polyfunctional epoxy resin (h) which is a starting material of the carboxyl group-containing photosensitive resin (5). It was a resin.
  • the unsaturated monocarboxylic acid (d) is reacted with the polyfunctional oxetane compound (1), and the generated primary hydroxyl group is further reacted with the saturated or unsaturated polybasic anhydride (d).
  • Carboxyl group-containing photosensitive resin As described above, the bonding site between the primary hydroxyl group and the acid anhydride is made of a resin that is hardly cleaved thermally and has excellent thermal stability. This makes it possible to prepare a photo-curable / thermo-curable resin composition of the heat-resistant and heat-stable type which is excellent in heat resistance and thermal stability.
  • photopolymerization initiator (B) having an oxime bond represented by the above general formula (I) known and commonly used photo-polymerization initiators such as an o-axyl oxime ester compound, an oxime sulfonate compound, and a ketoxime ester compound are exemplified.
  • An oxime-based photopolymerization initiator can be used, but is preferably an oxime-based photopolymerization initiator having any one of a xanthone skeleton, a thioxanthone skeleton, and an anthraquinone skeleton represented by the following general formula (II). Agents.
  • R are groups represented by the following formula (III), and the rest is a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group or a phenyl group, and is an oxygen atom, a sulfur atom, or Represents a carbonyl group.
  • R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group, a biphenyl group, or a phenyl group or a biphenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • oxime-based photopolymerization initiators having a thioxanthone skeleton represented by the following general formula (IV).
  • R 2 represents a methyl group or an ethyl group.
  • these oxime-based photopolymerization initiators (B) have an unpaired electron pair at the nitrogen atom and have high sensitivity, they are different from the carboxyl group-containing resin (A) and the reactive diluent (C). It is preferable to mix the composition with another composition and form at least a two-part system from the viewpoint of stabilization of characteristics and storage stability.
  • the oxime-based photopolymerization initiator (B) when allowed to stand in a state of being mixed with an acid group-containing compound such as the carboxyl group-containing resin (A), the photosensitivity of the composition is significantly reduced or the composition is not exposed to light. Radicals are generated in the product, causing gelation and characteristic deterioration.
  • the oxime-based photopolymerization initiator (B) is used in the above-mentioned carboxyl group-containing resin. It is important that it be blended in a composition different from (A).
  • the composition is mixed with a composition different from the composition in which the resin containing a reactive functional group (A) having a reactive functional group and the reactive diluent (C) are mixed.
  • Mixing at this time is preferable from the viewpoint of storage stability. Therefore, for example, when the photo-curable and thermo-curable resin composition is a two-component composition of component A and component B, if the carboxyl group-containing resin (A) is blended with component A, the oxime-based photopolymerization It is desirable that the initiator (B) is blended with the component B, and the reactive diluent (C) is blended with the component A.
  • oxime-based photopolymerization initiators (B) may be used alone or in combination of two or more. Further, the above-mentioned oxime-based photopolymerization initiator
  • the amount of (B) is usually 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (A).
  • photopolymerization initiators (B-I) that can be used in combination with the above-mentioned oxime-based photopolymerization initiator (B) include benzophenone-based, acetophenone-based, benzoin ether-based, and benzoin ether-based. It is a radical photopolymerization initiator such as mono-, acyl-phosphine-oxide, peroxide-type, and titanium-nocene-type.
  • photopolymerization initiators (B-I) include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoine ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; and acetophenone.
  • photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of these photopolymerization initiators (B-I) is preferably in the range of 0.1 to 0.5 parts by mass per 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (A).
  • the sensitizer (B-II) used in combination with the photopolymerization initiator (B and B-I) includes N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl- Tertiary amines such as 4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine and the like can be mentioned, and they can be used alone or in combination of two or more.
  • thiocyanocene-based photopolymerization initiators such as Circa's specialty's Irgacure 784, which initiates radical polymerization in the visible region, and leuco dyes And the like can be used in combination as a curing aid.
  • the reactive diluent (C) used in the photocurable and thermosetting resin composition of the present invention adjusts the viscosity of the composition, improves workability, increases crosslink density, and improves adhesion.
  • a reactive diluent (C) include compounds having one or more unsaturated double bonds in one molecule, for example, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) Alkyl (meth) acrylates such as acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc .; ethylene glycol, propylene glycol, Mono- or di (meth) acrylates of alkylene oxide derivatives such as diethylene glycol and dipropylene glycol; hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, ditrimethyl-l-propane, dipenty
  • a compound having an unsaturated double bond in one molecule and further having a carboxyl group can be used as the reactive diluent (C).
  • examples of such a compound include a reaction product of a saturated or unsaturated dibasic acid anhydride and a (meth) acrylate having one hydroxyl group in one molecule, such as succinic anhydride, maleic anhydride, and phthalic anhydride.
  • Acid tetrahydrofluoric anhydride, hexanehydrofluoric anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrofluoric anhydride, Saturated or unsaturated dibasic anhydrides such as itaconic anhydride and methylendmethylenetetrahydrophthalic anhydride; and hydroxyxethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate.
  • the compounding amount is preferably in the range of 2 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (A).
  • the amount of the reactive diluent (C) is less than the above range, poor curing of the coating film and a decrease in sensitivity are caused.
  • the amount is more than the above range, the dryness to the touch decreases, and It is not preferable because the cured coating film becomes brittle.
  • the photo-curable and thermo-curable resin composition of the present invention uses the above-mentioned reactive diluent (C), so that it is not necessary to use an organic solvent, but in order to adjust the viscosity of the composition, or An organic solvent can be added to dissolve the carboxyl group-containing resin to form a varnish.
  • C reactive diluent
  • An organic solvent can be added to dissolve the carboxyl group-containing resin to form a varnish.
  • the organic solvent a solvent that is easy to dry and has low toxicity is selected.
  • alcohols such as methanol, ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butanol, and isobutanol; ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl acetate acetate, and methyl dimethyl adipate
  • Acetic acid esters such as dimethyl glutamate and dimethyl succinate
  • ketones such as cyclohexanone, methylcyclohexanone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, and acetone
  • epoxy compound (D) having two or more epoxy groups in one molecule all conventionally known polyfunctional epoxy compounds can be used.
  • Epoxy resin manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. 828, Epikote 834, Epikoto 100, Epikoto 104, Epicron 840, Epicron 850 and Epicron 1050 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. Picron 2005, Toto Kasei Co., Ltd. YD—011, YD—013, YD—127, YD—128, Sumiepoxy E SA manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • Bisphenol A type epoxy resin such as —011, ESA—014, ELA—115, ELA-128 (all trade names); Epikote, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. YL 903, Epiclon 152, Ebicron 165, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., Toto Kasei Bromo epoxy resin such as Epototo YD B-400, YDB-500, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Sumy Epoxy ESB-400, ESB-700 (all trade names); Japan epoxy resin Epikote 1 52, Epikoto 1 54, Dainichi Epiclon N-730, Epiclone N-77 manufactured by Honki Chemical Industry Co., Ltd.
  • Novolatc type epoxy resin such as Sumi-Epoxy ES CN-195X and ES CN-220 (all trade names) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd .; Epiclon 830 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.
  • Bisphenol F-type epoxy resin such as Epikoto 807 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., YD F-170, YD F-175, YD F-2004 (all trade names) manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.
  • a hydrogenated bisphenol A-type epoxy resin such as EP-TOTO ST-2004, ST-2007, ST-300000 (all trade names) manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd .; manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epikote 604, Eptote YH-434 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., Sumi-Epoxy ELM-120 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. (all trade names) Glycidylamine type epoxy resin; Alicyclic epoxy resin such as Celloxide 2021 (trade name) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .; YL-933 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Trihydroxyphenyl methane type epoxy resin such as EP PN-501, EP PN-502 (all trade names) manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd .; YL-656, YX-40 manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd. Boxylenol-type or biphenol-type epoxy resin such as 0 0, YL-6 121 (all trade names) or a mixture thereof; EBPS-200, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.
  • Bisphenol S-type epoxy resin such as EPX-30 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., and EXA-1514 (all trade names) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .; Epiko 1 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
  • Bisphenol A novolak type epoxy such as 5 7 S (trade name) Resin
  • Tetra phenylene epoxy resin such as Epicoat YL-931 (trade name) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd .
  • Complex resin such as TE PIC (trade name) manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.
  • Formula epoxy resin Formula epoxy resin; Diglycidyl phthalate resin such as Bremma D GT (trade name) manufactured by NOF Corporation; ZX-106 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. 3 Tetraglycidyl xylenolethane resin such as (trade name); ESN-190, ESN-360, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd .; HP-40, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 3, 2, EXA-4750, EXA-470 0 (all trade names) and other epoxy resins containing naphthylene groups; HP-7200, HP-7200H manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
  • Diglycidyl phthalate resin such as Bremma D GT (trade name) manufactured by NOF Corporation
  • Epoxy resins having a dicyclopentene skeleton such as (all trade names); glycidyl methacrylates such as CP-50S and CP-50M (all trade names) manufactured by NOF Corporation Copolymer type epoxy resin; and a compound having two or more epoxy groups in one molecule, such as a copolymerized epoxy resin of cyclohexyl maleimide and glycidyl methacrylate. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the compounding amount of the polyfunctional epoxy compound (D) as the thermosetting component is such that the epoxy group is 0.6 to 2.0 equivalents, preferably 1 equivalent of the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin (A). It is desirable that the ratio be 0.8 to 1.6 equivalents.
  • the amount of the epoxy group is less than 0.6 equivalent, the carboxyl group remains, and the alkali resistance and the electrical insulation are undesirably reduced. On the other hand, if the amount of the epoxy group exceeds 2.0 equivalents, the excess epoxy resin acts as a plasticizer, and the strength of the coating film decreases, which is not preferable.
  • reaction accelerator between the polyfunctional epoxy compound (D) and the carboxyl group-containing resin examples include amines, dicyandiamide, urea derivatives, melamine, S-triazine compounds, guanamine compounds, 2-ethyl-4-methylimidazo.
  • a known epoxy curing accelerator such as an imidazole compound such as an ester and a derivative thereof can be used in combination. When these are used in combination and thermally cured, various properties such as heat resistance, chemical resistance, adhesion, and pencil hardness of the cured coating film can be improved.
  • an inorganic and / or organic filler (E) can be added in order to improve the properties.
  • Known and commonly used inorganic fillers such as silica, crystalline silica, fused silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and mica powder can be used.
  • the amount used is preferably 0 to 60% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, in the composition of the present invention.
  • fine particles of a high molecular compound such as an epoxy-based, rubber-based, acrylic-based, urethane-based, polyimide-based, or polyamide-based compound can be used, and the particle size is preferably 10 / m or less. It can be added to the composition at a ratio of 0 to 30% by mass.
  • the photocurable and thermosetting resin composition of the present invention may further comprise, if necessary, a lid cyanine 'blue, a phthalocyanine' green, an aosin green, a diazoiello, a crystal bioplate, a titanium oxide, a carbon black, Known and commonly used colorants such as naphthalene black; known and commonly used polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, and phenothiazine; asbestos, orben, benzone, montmorillonite Known and commonly used thickeners; silicone-based, fluorine-based, polymer-based antifoaming agents and / or leveling agents; imidazole-based, thiazole-based, triazole-based, silane coupling agents, etc.
  • Known and commonly used additives such as a property imparting agent can be blended.
  • a printed wiring board having a solder resist layer and / or a resin insulating layer formed thereon can be provided by using the photo-curable and thermo-curable resin composition having the above component composition as follows.
  • the photo-curable and thermo-curable resin composition of the present invention may be adjusted, for example, to a viscosity suitable for a coating method as needed, and then coated on a substrate by a dip coating method, a flow coating method, a roll coating method, a bar coating method. Apply by the overnight method, screen printing method, ten-coat method, etc., and volatilize and dry (temporarily dry) the organic solvent contained in the composition at a temperature of about 60 to 100 ° C. Thus, a tack-free coating film can be formed.
  • the above composition is applied on a plastic film, dried, and dried.
  • the resin insulation layer can be formed by laminating the rolled film on a substrate.
  • aqueous alkali solution for example, a 0.3 to 3% sodium carbonate aqueous solution.
  • aqueous alkali solution for example, a 0.3 to 3% sodium carbonate aqueous solution.
  • the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin (a) and two or more epoxy groups in one molecule are obtained.
  • the epoxy group of the epoxy compound (D.) reacts to form a cured coating film with excellent properties such as heat resistance, solvent resistance, acid resistance, moisture absorption resistance, PCT resistance, adhesion, and electrical properties. can do.
  • a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or a metal-halide lamp is suitable as an irradiation light source for photocuring a coating film.
  • a laser-light source can be used as an active light source for exposure in the direct imaging method, and direct drawing can be performed.
  • an alkaline aqueous solution of sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, ammonia, amines, etc. can be used as the diluted alkaline aqueous solution used in the above development.
  • Sodium carbonate is preferred.
  • the present invention will be described specifically with reference to Synthesis Examples, Examples, and Comparative Examples. However, needless to say, the present invention is not limited to the following Examples. In the following, “parts” and “%” represent “parts by mass” and “% by mass”, respectively, unless otherwise specified.
  • Example 1 Composition in which component (B) is separated from component (A) and component (C)) To 100 parts of the carboxyl group-containing photosensitive resin of component (A) obtained in Synthesis Example 1, (C) Ingredients: 10 parts of dipentyl erythritol hexaacrylate, 1 part of defoamer (AC-300, manufactured by Kyoeisha Yushi Yushi Co., Ltd.), 80 parts of barium sulfate, and 0.5 part of Phthalocyanine'Green, and 3 roll mills The composition obtained by mixing and dispersing in (A) was used as solution A, and 5 parts of a photopolymerization initiator having an oxime bond represented by the formula (IV) of the component (B) and R 2 being a methyl group, 1 part of getyl thioxanthone (B-I) component (Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kyakuya DETX-S), 4-ethyl dimethylaminobenzoate ethy
  • Example 2 Composition in which component B is separated from component A and component C
  • Comparative Example 1 100 parts of the carboxyl group-containing photosensitive resin (A) obtained in Synthesis Example 1 is photopolymerized with an oxime bond represented by the formula (IV) of the component (B), wherein R 2 is a methyl group.
  • Comparative Example 2 (A composition in which the component B was blended with the components A and C) 100 parts of the carboxyl group-containing photosensitive resin of the component (A) obtained in Synthesis Example 1 was added to the above formula (IV) of the component (B). ), 5 parts of a photopolymerization initiator having an oxime bond in which R 2 is a methyl group, and getyl thioxanthone as a component (B-I) (Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayakua DETX-S) 1 Part, 4- (dimethylaminobenzoic acid ethyl ester of component (B-II) (Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayakua EPA) 2.5 parts, Antifoaming agent (Kyoeisha Yushi Co., Ltd .: AC-300) 1 part, barium sulfate 80 parts, and phthalocyanine 'green 0.5 part, (C) component dipentyl erythritol
  • Comparative Example 3 Composition using an initiator other than the oxime-based photopolymerization initiator
  • Comparative Example 1 ′ instead of 5 parts of the photopolymerization initiator having an oxime bond represented by the above formula (IV) of the component (B), wherein R 2 is a methyl group, 2-methyl-1- [4 ⁇ ( Methylthio) phenyl] — 2-morpholinopropane-1-one (Circular Specialty Chemicals, Inc .: Irgacure-1 907) Except for using 5 parts of the same photocuring and heat as in Comparative Example 1, except that 5 parts were used. Solution A and solution B of the curable resin composition were prepared.
  • the photocurable and thermosetting resin compositions obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3 were stored in a thermostat at 20 ° C. and 50 ° C. for 3 days. Thereafter, with respect to the photocurable and thermosetting resin compositions obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 3, Liquid A and Liquid B were sufficiently mixed.
  • the coating film after the preliminary drying was developed without exposing, and the presence or absence of development residue was evaluated.
  • the coating film after pre-drying put Kodak N 0. 2 steps evening breccias DOO, and 30 Om JZcm 2 exposed using an exposure system of ultra-high pressure mercury lamp, after developing, step The sensitivity was evaluated from the number of steps obtained from the evening bread.
  • JIS Japanese Industrial Standards
  • D-0202 100 crosscuts are cut in a cross-cut pattern on the cured coating film of the test piece, and then the peeled part after the peeling test with cellophane adhesive tape is visually judged. did.
  • the cured coating film was immersed in a solder bath at 260 ° C for 10 seconds, and the peeling test was performed using cellophane adhesive tape as one cycle. evaluated.
  • a Kodak No. 2 step tablet is adhered to the temporarily dried coating film, Using an exposure apparatus equipped with a laser primary light source for irradiating the multiple wavelengths of 350 nm and 366 nm, were exposed as integrated quantity of light 350 nm is 6 OmJ / cm 2, after developing, the step evening Puretsu DOO The sensitivity was evaluated from the obtained number of stages. Number: Number of steps obtained
  • Comparative Example 1 in which the component (II) was blended together with the component (II) was inferior in storage stability to Examples 1 and 2. Further, Comparative Example 2 in which the component (II) was blended together with the component (II) and the component (C) was further inferior in storage stability to Comparative Example 1.
  • Comparative Example 3 using the ( ⁇ _ ⁇ ) component and ( ⁇ - ⁇ ) as the photopolymerization initiator without using the ( ⁇ ) component there was no problem in storage stability, but the sensitivity and resolution were poor. I was Industrial applicability
  • the photocurable and thermosetting resin composition according to the present invention is useful for forming a solder resist layer and / or a resin insulating layer of a printed wiring board or a multilayer printed wiring board. It can also be used for the messaging method.

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Description

明 細 書 光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 技術分野
本発明は、 光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線 板に関し、 さらに詳しくは、 指触乾燥性、 密着性、 解像†生に優れ、 加熱硬化 時に発生するミストが少なく、 高感度で保存安定性に優れた光硬化性■熱硬 化性樹脂組成物と、 それを用いて製造した、 部品実装時に発生するガスが低 減され、 P C T (プレッシャー ' クッ力一 .テス ト) 耐性、 電気絶縁性等に 優れたソルダ一レジスト層及び/又は樹脂絶縁層を有するプリント配線板に 関する。 背景技術
ソルダーレジスト組成物は、 プリント配線板に部品をはんだ付けする際の はんだプリッジの防止及び回路の保護を目的として用いられるものであり、 そのため、 その硬化物には密着性、 耐薬品性、 電気特性などの諸特性が要求 される。 近年、 プリント配線板製造業界においては、 プリント配線板の軽量 化、 導体回路の高密度化が求められ、 これに応じて写真現像タイプのソルダ 一レジスト組成物、 特にアルカリ水溶液により現像可能な組成物が開発され 用いられている (例えば、 特開平 1— 1 4 1 9 0 4号参照) 。
しかしながら、 これまで用いられているソルダーレジスト組成物の場合、 画像形成の際に、 露光時の塗膜深部の光硬化が不充分であるため、 現像時に 塗膜が剥離する場合があり、 高解像性の画像が得られない大きな要因となつ ている。 そのため、 露光時の深部硬化性に優れたソルダ一レジスト組成物の 開発に対する要望が高まっているが、 現在まで充分に満足しうる材料は見出 されていない。
また、 このような写真現像タイプの組成物を用いたソルダ一レジスト層の 形成は、 スクリーン印刷法、 カーテンコート法、 スプレーコート法、 ロール コート法等によりレジスト組成物を基板上に全面塗布する塗布工程、 接触露 光を可能にするため有機溶剤を揮発させる仮乾燥工程、 冷却し接触露光する 露光工程、 未露光部を現像により取り除く現像工程、 充分な塗膜特性を得る ための熱硬化工程を必要とする。 これらの工程の中で、 特に露光工程は、 プ リント配線板の種類によりネガフィルムを交換し、 位置合わせをした後、 真 空引きし、 露光するというような極めて煩瑣な工程である。 従って、 生産性 向上、 低価格化のためには露光工程の短縮が大きなファクターとなり、 ま た、 露光工程の短縮にはソルダーレジスト組成物の高感度化が大きく寄与す る。 このようなことから、 汎用の電子機器に使用されるソルダ一レジスト組 成物については、 高感度化の要望が高くなつている。 このような高感度化の 要求を実現するためには、 一般に、 多官能 (メタ) ァクリレート化合物を組 成物中に多量に添加することが考えられる。 しかし、 低分子量の多官能 (メ 夕) ァクリレート化合物を多量に添加すると、 感度は上がるが、 接触露光時 に必要な指触乾燥性 (タックフリー性) が著しく低下し、 硬化塗膜特性も低 下するという問題がある。
さらに、 このような写真現像タイプのソルダ一レジスト組成物を用いたソ ルダ一レジスト層の形成においては、 加熱を伴う予備乾燥工程、 露光工程、 熱硬化工程, 及びはんだ付け工程において、 熱風循環式乾燥炉や露光機にレ ジスト組成物から発生する揮発成分 (ミスト) が付着し、 後工程のはんだ付 け工程や、 その後の金めつき工程での実装異常の要因となっている。 そのた め、 予備乾燥工程、 露光工程、 熱硬化工程及びはんだ付け工程において、 レ ジスト組成物から揮発する成分 (ミスト) が少ないソルダーレジスト組成物 の開発に対する要望が高まっているが、 現在まで充分に満足しうる材料は見 出されていない。
一方、 多層プリント配線板の製造方法としては、 従来から積層プレス法が 知られているが、 この方法では、 生産設備が大掛かりとなり、 コストが高く なる上、 スル一ホールめつきの際に外層にめっきが行なわれるため銅厚が大 きくなり、 ファインパターンの形成が困難となる。 このような問題を克服す るため、 近年、 導体層上に樹脂絶縁層を交互にビルドアップしていく多層ブ リント配線板の開発が活発に進められている (ビルドアヅプ工法) 。
このようなビルドアヅプ工法の 1つとして、 例えば、 写真現像タイプの組 成物を用いて樹脂絶縁層を形成する多層プリント配線板の製造方法がある。 この方法は、 まず、 導体回路が形成された配線板の全面に、 導体回路が埋ま るように液状の感光性樹脂組成物をスクリーン印刷、 力一テンコーティン グ、 スプレーコーティングなどの任意の方法で塗布し、 乾燥した後、 乾燥塗 膜に所定の露光パターンを有するネガフィルムを重ねて紫外線を照射して露 光し、 次いでネガフィルムを取り除いた後、 現像処理して所定のパターンの 硬化樹脂絶縁層を形成し、 次いで粗化剤により粗面化処理を行なった後、 無 電解めつき、 電解めつきなどにより導体層を形成するものである。
このようにして導体層と樹脂絶縁層を交互にビルドアップする多層プリン ト配線板の製造工程においても、 用いる感光性樹脂組成物には、 露光時の光 硬化深度が充分であること、 及び形成される層間樹脂絶縁層は導体層に対す る密着性や電気絶縁性、 耐熱性、 耐薬品性などの特性に優れることが要求さ れる。 また、 無電解めつき、 電解めつきなどにより導体層を形成した後の加 熱工程において、 層間樹脂絶縁層より発生する揮発成分が導体層の密着不良 の要因となっているが、 現在までこのような問題を充分に解消しうる材料は 見出されていない。
また、 分析機器などの少量生産機種に使用されるプリント配線板の製造 や、 試作品のプリント配線板の製造に関しては、 コンピューターからの C A D ( Computer Aided Design) デ一夕により、 直接、 プリント配線板に画像 を描くダイレクト 'イメージング工法に対応したソルダーレジスト組成物の 要求がある。 このようなダイレクト ·イメージングに使用される光源には、 主にレーザー光源が用いられており、 波長が 3 0 0 - 4 5 0 n mの紫外線を 単波長或いは複数の波長を組み合わせて用い、 ビーム径が 5 ~ 1 5 mであ り、 出力が数ワッ ト程度である。 このようなレーザ一光を O N— O F Fさせ ながら 5〜 1 5 z m幅でスキャンして画像を描くため、 1枚のプリント配線 板にレジストパターンを形成する時間は、 ソルダ一レジスト組成物の感度に 大きく依存する。 このようなことから、 レーザ一 ·ダイレクト ·ィメ一ジン グ用のソルダ一レジスト組成物については、 汎用の接触露光による現像型ソ ルダ一レジスト組成物以上の高感度化が要求されている。
本発明は、 前述した背景のもとでなされたものであり、 その主たる目的 は、 アルカリ水溶液により現像可能であり、 露光時の深部硬化性が充分高く 高解像度が得られ、 優れた耐熱性、 耐薬品性、 電気特性, 耐吸湿性、, P C T 耐性を有する硬化物を与え、 かつ、 加熱を伴う予備乾燥工程、 露光工程、 熱 硬化工程及びはんだ付け工程において、 ソルダーレジスト組成物から揮発す る成分 (ミスト) が少ない光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物を提供することに める。
また、 本発明の他の目的は、 高感度で作業性に優れ、 かつ、 レーザ一 *ダ ィレクト ·イメージング用ソルダーレジストにも対応できる、 保存安定性に 優れた光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。
さらに、 本発明の他の目的は、 部品実装時に発生するガスが低減され、 P C T耐性、 電気絶縁性等に優れたソルダ一レジスト層及び/又は樹脂絶縁層 を形成したプリント配線板を提供することにある。 発明の開示
前記目的を達成するために、 本発明によれば、 (A ) 1分子中に 1個以上 のカルボキシル基を有するカルボキシル基含有樹脂、 (B ) 下記一般式 ( I ) で示されるォキシム結合を有する光重合開始剤、 ( C ) 反応性希釈 剤、 及び (D ) 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を 含有する光硬化性,熱硬化性組成物であって、 上記光重合開始剤 (B ) は、 少なくとも上記カルボキシル基含有樹脂 (A ) 及び上記反応性希釈剤 (C ) の配合された組成物とは別の組成物に配合され、 少なくとも 2液系に組成さ れていることを特徴とする光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物が提供される。
Figure imgf000007_0001
さらに本発明によれば、 上記光硬化性■熱硬化性樹脂組成物を用いて形成 されたソルダ一レジスト層及びノ又は樹脂絶縁層を有するプリント配線板が 提供される。
本発明に係る光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物は、 光重合開始剤として、 ォ キシム結合を有する光重合開始剤を使用しているため、 高感度で深部硬化性 が高く、 耐熱性、 P C T耐性等の諸特性に優れた硬化皮膜を安定して形成す ることが可能となる。 また、 高感度であることから、 作業性に優れ、 低コス ト化も可能となり、 レーザ一 ' ダイレクト ·イメージング工法にも対応が可 能となる。 さらに、 高感度であるォキシム結合を有する光重合開始剤をカル ボキシル基含有感光性樹脂や 1分子中に 1個以上の不飽和二重結合を有する 反応性希釈剤と分離して配合することにより、 可視光でラジカルを発生する ォキシム系開始剤を使用した組成物の製造も容易になり、 またォキシム結合 を有する光重合開始剤をカルボキシル基含有樹脂と分離して配合することに よりォキシム系開始剤の劣化も防止され、 安定した光硬化性 ·熱硬化性樹脂 組成物を提供することができる。 さらにまた、 露光工程、 加熱を伴う熱硬化 工程及びはんだ付け工程において光重合開始剤に由来するミス卜が発生しな いため、 作業環境を汚染することが少なくなるという効果も得られる。 発明を実施するための最良の形態.
本発明者らは、 前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、 (A ) 1分 子中に 1個以上のカルボキシル基を有するカルボキシル基含有樹脂、 (C ) 反応性希釈剤、 及び (D ) 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有するェポキ シ化合物と組み合わせて、 光重合開始剤 (B ) として、 前記一般式 ( I ) で 表わされるォキシム結合を有する少なくとも 1種の光重合開始剤を含有する 組成物が、 露光の際に照射された活性エネルギー線に対して高感度に反応 し、 感光性成分 ( 1分子中に感光性の不飽和二重結合を 2個以上有するカル ボキシル基含有樹脂及び反応性希釈剤) の光重合速度が大きくなり、 解像性 が向上すると共に、 指触乾燥性に優れた塗膜が得られ、 しかも加熱硬化時の 揮発する成分 (ミスト) の発生が少ないことを見出した。
即ち、 本発明で用いる前記一般式 ( I ) で表わされるォキシム結合を有す る光重合開始剤 (B ) は、 感度が高いために少量の添加でも充分な解像性が 得られ、 また、 加熱によって飛散しないためにミスト発生の原因となること がなく、 さらに溶剤に溶け難いので指触乾燥性の良好な塗膜が得られるのに 寄与する。
しかしながら、 前記一般式 ( I ) で表わされるォキシム結合を有する光重 合開始剤 (B ) は、 窒素原子に不対電子対を持つことから、 前記 1分子中に 1個以上のカルボキシル基を有するカルボキシル基含有樹脂 (A ) と一緒に 配合された場合、 保存安定性が劣ることが新たに確認された。 しかも、 前記 一般式 ( I ) で表わされるォキシム結合を有する光重合開始剤 (B ) は、 高 感度であることから反応性希釈剤 (C ) との接触も、 保存安定性の面から好 ましくない。
このようなことから、 本発明者らは、 上記ォキシム結合を有する光重合開 始剤 (B ) を、 少なくとも上記カルボキシル基含有樹脂 (A ) 及び上記反応 性希釈剤 (C ) の配合された組成物とは別の組成物に配合し、 少なくとも 2 液系に組成することにより、 保存安定性に優れた光硬化性 ·熱硬化性樹脂組 成物が得られることを見出し、 本発明を完成するに至ったものである。 なお、 本明細書において、 前記一般式 ( I ) で表わされるォキシム結合を 有する光重合開始剤を、 ォキシム系光重合開始剤と称する場合がある。 以下、 本発明のアル力リ現像型の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物の各構成 成分について詳細に説明する。
まず、 前記 1分子中に 1個以上のカルボキシル基を有するカルボキシル基 含有樹脂 (A ) としては、 カルボキシル基を有する樹脂、 具体的にはそれ自 体がエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂及び エチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使 用可能であり、 特定のものに限定されるものではないが、 特に以下に列挙す るような樹脂 (オリゴマー及びポリマ一のいずれでもよい) を好適に使用で ぎる。
( 1 ) (a) 不飽和カルボン酸と (b) 不飽和二重結合を有する化合物の 共重合によって得られるカルボキシル基含有樹脂、
( 2 ) (a) 不飽和カルボン酸と (b) 不飽和二重結合を有する化合物の 共重合体にエチレン性不飽和基 (b, ) をペンダントとして付加させること によって得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
( 3) ( c) エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物と (b) 不飽和 二重結合を有する化合物の共重合体に、 (d) 不飽和モノカルボン酸を反応 させ、 生成した第二級の水酸基に (e) 飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反 応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(4) (f ) 不飽和二重結合を有する酸無水物と (b) 不飽和二重結合を 有する化合物の共重合体に、 (g) 水酸基と不飽和二重結合を有する化合物 を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
( 5 ) (h) 多官能エポキシ化合物と (d) 不飽和モノカルボン酸を反応 させ、 生成した水酸基に (e) 飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて 得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
( 6 ) ( i) 水酸基含有ポリマーに (e) 飽和又は不飽和多塩基酸無水物 を反応させた後、 生成したカルボン酸に ( c) エポキシ基と不飽和二重結合 を有する化合物を反応させて得られる水酸基及びカルボキシル基含有感光性 樹脂、
( 7) (h) 多官能エポキシ化合物と、 (d) 不飽和モノカルボン酸と、 ( j ) 1分子中に少なくとも 1個のアルコール性水酸基と、 エポキシ基と反 応するアルコール性水酸基以外の 1個の反応性基を有する化合物との反応生 成物に、 (e) 飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボ キシル基含有感光性樹脂、 及び (8) (1) 1分子中に少なくとも 2個のォキセタン環を有する多官能ォ キセタン化合物に (d) 不飽和モノカルボン酸を反応させ、 得られた変性ォ キセタン樹脂中の第一級の水酸基に対して (e) 飽和又は不飽和多塩基酸無 水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂などが挙げられ る。
これらの中でも、 1分子中に感光性の不飽和二重結合を 2個以上有する力 ルポキシル基含有感光性樹脂、 特に前記 (5) のカルボキシル基含有感光性 樹脂が好ましい。
上記のようなカルボキシル基含有樹脂 (A) は、 バックボーン ,ポリマー の側鎖に多数の遊離のカルボキシル基を有するため、 希アル力リ水溶液によ る現像が可能になる。
また、 上記カルボキシル基含有樹脂 (A) の酸価は、 45〜 200 mgK 0 HZ g、 好ましくは 45〜; 160mgKOH/gの範囲にあることが好ま しい。 カルボキシル基含有樹脂の酸価が 45 mgK OH/g未満であるとァ ルカリ現像が困難となり、 一方、 20 OmgKOH/gを超えると現像液に よる露光部の溶解が進むために、 必要以上にラインが痩せたり、 場合によつ ては、 露光部と未露光部の区別なく現像液で溶解剥離してしまい、 正常なレ ジストパターンの描画が困難となるので好ましくない。
前記 ( 1 ) のカルボキシル基含有樹脂は、 (a) 不飽和カルボン酸と (b) 不飽和二重結合を有する化合物の共重合によって得られるものであ り、 カルボキシル基を含有するためアル力リ水溶液に対して可溶性である。 前記不飽和カルボン酸 (a) の具体的な例としては、 アクリル酸、 メタァ クリル酸、 ィタコン酸、 クロ トン酸、 マレイン酸、 フマル酸、 ビニル酢酸、 又はこれらの酸無水物、 さらには、 無水マレイン酸、 無水ィタコン酸、 無水 ピロメリヅ ト酸などの酸無水物と 2—ヒドロキシェチル (メタ) ァクリレ一 ト、 2—ヒドロキシプロピル (メタ) ァクリレート等のヒドロキシアルキル (メタ) ァクリレート類などの水酸基を有する不飽和化合物との反応生成物 等が挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせて用いることがで きる。 これらの中でもアクリル酸及び/又はメタアクリル酸が好ましい。 な お、 本明細書において (メタ) ァクリレートとは、 ァクリレートとメタクリ レートを総称する用語であり、 他の類似の表現についても同様である。
前記不飽和二重結合を有する化合物 (b ) の具体例としては、 スチレン、 クロロスチレン、 ひ一メチルスチレン ;置換基としてメチル、 ェチル、 n— プロピル、 イソプロピル、 n—プチル、 イソブチル、 tーブチル、 ァミル、 2—ェチルへキシル、 ォクチル、 力プリル、 ノニル、 ドデシル、 へキサデシ ル、 ォクタデシル、 シクロへキシル、 イソボルニル、 メ トキシェチル、 ブト キシェチル、 2—ヒ ドロキシェチル、 2 —ヒ ドロキシプロビル、 3 —クロ口 一 2—ヒドロキシプロピル等を有する (メタ) ァクリレート ; ポリエチレン グリコールのモノ (メタ) ァクリレート又はポリプロピレングリコ一ルのモ ノ (メタ) ァクリレ一ト ;酢酸ビニル、 酪酸ビニル、 安息香酸ビニル; ァク リルアミ ド、 メタクリルアミ ド、 N—ヒドロキシメチルアクリルアミ ド、 N —ヒ ドロキシメチルメタクリルアミ ド、 N—メ トキシメチルアクリルアミ ド、 N—ェトキシメチルァクリルアミ ド、 N—ブトキシメチルァクリルアミ ド、 アクリロニトリル、 ビニルェ一テル類、 もしくはイソプチレン等が挙げ られ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせて使用することができる。 これらの化合物の中でも、 好ましくは、 スチレン、 ひーメチルスチレン、 低 級アルキル (メタ) ァクリレート、 イソプチレンが用いられる。
前記 ( 2 ) のカルボキシル基含有感光性樹脂は、 前記不飽和カルボン酸 ( a ) と前記不飽和二重結合を有する化合物 (b ) の共重合体のカルボキシ ル基の一部に、 エチレン性不飽和基 (b, ) をペンダントさせ、 感光性のェ チレン性不飽和基 (b, ) を側鎖に導入した樹脂である。 共重合体のカルボ キシル基の一部は未反応のまま残存するため、 得られるカルボキシル基含有 感光性樹脂は、 アルカリ水溶液に対して可溶性である。 そのため、 このよう な樹脂を含有する感光性樹脂組成物から形成した皮膜は、 選択的露光後にァ ルカリ水溶液により安定した現像が可能となる。
上記ペンダントとして付加するエチレン性不飽和基 (b, ) としては、 ビ ニル基、 ァリル基、 ァクリロイル基、 メタクリロイル基などがある。 このよ うなエチレン性不飽和基を前記共重合体に付加させる方法は、 共重合体の力 ルポキシル基に、 エポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物や (メタ) ァ クリル酸クロライ ドを付加反応させる方法などがある。
ここでいうエポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物や (メタ) ァクリ ル酸クロライ ドとしては、 グリシジル (メタ) ァクリレート、 ァリルグリシ ジルェ一テル、 ^ーメチルグリシジル (メタ) ァクリレート、 クロ トン酸グ リシジルェ一テル、 3 , 4—エポキシシクロへキシルメチル (メタ) ァクリ レートや、 (メタ) ァクリル酸クロライ ド、 クロトン酸クロライ ドなどが挙 げられる。 これらの中でもグリシジル (メ夕) ァクリレートが好ましい。 前記 (3 ) のカルボキシル基含有感光性樹脂は、 ( c ) 分子中にエポキシ 基と不飽和二重結合を有する化合物と前記 (b ) 不飽和二重結合を有する化 合物の共重合体のエポキシ基に、 充分な光硬化深度が得られる程度にまで光 硬化性を向上させる割合で、 (d ) 不飽和モノカルボン酸のカルボキシル基 を反応させ、 該不飽和モノカルボン酸の不飽和二重結合を側鎖に導入すると 共に、 上記付加反応で生成した第二級の水酸基に (e ) 飽和又は不飽和多塩 基酸無水物をエステル化反応させ、 側鎖にカルボキシル基を導入した樹脂で める。
上記分子中にエポキシ基と不飽和二重結合を含有する化合物 (c ) の具体 例としては、 グリシジル (メタ) ァクリレート、 ^—メチルグリシジル (メ 夕) ァクリレート、 3 , 4—エポキシシクロへキシルメチル (メタ) ァクリ' レートなどが挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせて用いる ことができる。
前記不飽和モノカルボン酸 (d ) の具体例としては、 アクリル酸、 メタァ クリル酸、 クロトン酸、 ケィ皮酸、 ひ—シァノケィ皮酸、 3—スチリルァク リル酸、 ?—フルフリルアクリル酸等が挙げられ、 これらを単独で又は 2種 以上を組み合わせて使用することができる。
一方、 飽和又は不飽和多塩基酸無水物 (e ) の具体例としては、 無水コハ ク酸、 無水マレイン酸、 無水フタル酸、 テトラヒドロ無水フ夕ル酸、 へキサ ヒドロ無水フタル酸、 メチルへキサヒドロ無水フタル酸、 無水ィタコン酸、 メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フ夕ル酸、 無水トリメリヅ ト酸、 無 水ピロメリッ ト酸等が挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせ て使用することができる。
前記 (4 ) のカルボキシル基含有感光性樹脂は、 (f ) 不飽和二重結合を 有する酸無水物と前記 (b ) 不飽和二重結合を有する化合物の共重合体の酸 無水物基に、 (g ) 水酸基と不飽和二重結合を有する化合物の水酸基を反応 させてハ一フェステルとし、 該化合物 (g ) の不飽和二重結合を側鎖に導入 した樹脂である。
前記不飽和二重結合を有する酸無水物 (f ) の具体的な例としては、 無水 マレイン酸、 無水ィタコン酸、 さらには無水ピロメリッ ト酸と 2—ヒドロキ シェチル (メタ) ァクリレート、 2—ヒドロキシプロピル (メタ) ァクリレ —ト等のヒドロキシアルキル (メタ) ァクリレート類などの水酸基を有する 不飽和化合物との部分反応生成物等が挙げられ、 これらを単独で又は 2種以 上を組み合わせて用いることができる。 これらの中でも、 ポリマ一を安定し て合成できる無水マレイン酸が好ましい。
水酸基と不飽和二重結合を有する化合物 (g ) の具体例としては、 2—ヒ ドロキシェチル (メタ) ァクリレート、 2—ヒドロキシプロピル (メタ) ァ クリレート等のヒドロキシアルキル (メタ) ァクリレート類; ラク トン変性 ヒドロキシェチル (メタ) ァクリレート等が挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせて使用することができる。
前記したようなカルボキシル基含有感光性樹脂 ( 2 ) 〜 ( 4 ) は、 光硬化 性に優れると共に、 組成物の指触乾燥性に寄与する。
前記 ( 5 ) のカルボキシル基含有感光性樹脂は、 (h ) 多官能エポキシ化 合物のエポキシ基に、 前記 (d ) 不飽和モノカルボン酸のカルボキシル基を 反応させ、 エポキシァクリレートを生成させると共に、 上記付加反応で生成 した第二級の水酸基に前記 (e ) 飽和又は不飽和多塩基酸無水物をエステル 化反応させ、 側鎖に力ルポキシル基を導入した樹脂である。
前記多官能エポキシ化合物 (h) としては、 全てのエポキシ樹脂が使用で きる。 代表的な例としては、 ビスフヱノール A型、 水添ビスフヱノール A 型、 ビスフエノール F型、 ビスフエノール S型、 フエノールノボラヅク型、 クレゾ一ルノボラック型、 ビスフエノール Aのノポラック型、 ビフエノール 型、 ビキシレノール型、 N—グリシジル型等の公知慣用のエポキシ化合物 や、 市販品として好適なものとしてはダイセル社製 E HP E— 315' 0等が 挙げられる。 さらに、 固形のビスフエノール型エポキシ樹脂の水酸基に、 ェ ピクロルヒドリンなどのェピハロヒドリンを反応させ、 多官能化した多官能 ビスフエノール型エポキシ樹脂などが挙げられる。 これらの中でも、 特にェ ポキシ基が多く固形であるフエノールノボラヅク型エポキシ樹脂、 クレゾ一 ルノボラヅク型エポキシ樹脂や多官能ビスフエノール型エポキシ樹脂を用い ることが好ましい。 これら多官能エポキシ化合物 (h) は、 単独で又は 2種 以上を組み合わせて用いることができる。
前記多官能エポキシ化合物 (h) と不飽和モノカルボン酸 (d) の反応 は、 エポキシ基の当量数ノカルボキシル基の当量数が 0. 8〜1. 2、 好ま しくは 0. 9~1. 05となる割合で行なうことが好ましい。 エポキシ基の 当量数/カルボキシル基の当量数が 0. 8未満では、 不飽和モノカルボン酸 (d) が残るため臭気の問題があり、 一方、 上記当量数が 1. 2を越えた場 合、 エポキシ基が多く残るため、 飽和又は不飽和多塩基酸無水物(e)を反応 させる段階でゲル化し易くなるので好ましくない。 また、 生成した第二級の 水酸基に対する飽和又は不飽和多塩基酸無水物 (e) の反応比率は、 最終的 に得られる樹脂の酸価が好ましくは 45〜160mgKOH/gの範囲内と なるように調整する。 一般的には、 多官能エポキシ化合物 (h) と不飽和モ ノカルボン酸 (d) の反応で生成する水酸基 1当量に対し、 酸無水物基が 0. 3-0. 9当量、 好ましくは 0. 5〜0. 7当量である。
前記 (6) の水酸基及びカルボキシル基含有樹脂は、 (i) 水酸基含有ポ リマ一に (e) 飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反応させ、 生成したカルボ ン酸の一部にエポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させ、 感光 基を導入した樹脂である。 水酸基含有ポリマ一 ( i ) としてはポリビニルァ セ夕一ルゃセルロース等が用いられ、 飽和又は不飽和多塩基酸無水物 (e ) の反応量を調整することにより、 組成物の希釈剤に水を用いることができ、 現像液は希アル力リ水溶液以外に水を使うことが可能である。
前記 (7 ) のカルボキシル基含有感光性樹脂の合成反応は、 前記多官能ェ ポキシ化合物 (h ) に前記不飽和モノカルボン酸 (d ) (又は 1分子中に少 なくとも 1個のアルコール性水酸基と、 エポキシ基と反応するアルコール性 水酸基以外の 1個の反応性基を有する化合物 ( j ) ) を反応させ、 次いで 1 分子中に少なくとも 1個のアルコール性水酸基と、 エポキシ基と反応するァ ルコール性水酸基以外の 1個の反応性基を有する化合物 ( j ) (又は不飽和 モノカルボン酸 (d ) ) を反応させ、 さらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物 ( e ) を反応させる第一の方法と、 多官能エポキシ化合物 (g ) と不飽和モ ノカルボン酸 (h ) と 1分子中に少なくとも 1個のアルコール性水酸基と、 エポキシ基と反応するアルコール性水酸基以外の 1個の反応性基を有する化 合物 ( j ) を同時に反応させ、 さらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物 (e ) を反応させる第二の方法とがある。 どちらの方法でもよいが、 第二の方法が 好ましい。
前記 1分子中に少なくとも 1個の水酸基と、 エポキシ基と反応するアルコ —ル性水酸基以外の 1個の反応性基 (例えば、 カルボキシル基、 フヱノール 性水酸基、 2級ァミノ基等) を有する化合物 ( j ) の具体例としては、 例え ば、 グリコール酸、 ジメチロールプロピオン酸、 ジメチロール酢酸、 ジメチ ロール酪酸、 ジメチ口一ル吉草酸、 ジメチ口一ルカブロン酸等のヒドロキシ モノカルボン酸; (ビス) ヒドロキシメチルフエノール、 (ビス) ヒドロキ シメチルクレゾール、 p —ヒドロキシフエニル一 2 —メタノール、 p —ヒド ロキシフエニル一 3—プロパノール、 p—ヒドロキシフエネチルアルコール などのァメコール性水酸基含有フヱノール類; ジェタノールアミン、 ジイソ プロパノールアミン等のジアル力ノールアミン類等が挙げられる。 前記 (8) のカルボキシル基含有感光性樹脂は、 前記 (5) のカルボキシ ル基含有感光性樹脂の出発原料である多官能エポキシ樹脂 (h) に代えて、 (1) 多官能ォキセタン化合物を用いた樹脂である。
即ち、 多官能ォキセタン化合物 (1) に不飽和モノカルボン酸 (d) を反 応させ、 生成した主として第一級の水酸基に対してさらに飽和又は不飽和多 塩基酸無水物 (d) を反応させたカルボキシル基含有感光性樹脂である。 こ のように第一級の水酸基と酸無水物との結合部位は、 熱的に切断され難く、 熱安定性に優れた樹脂としたものであり、 このカルボキシル基含有感光性樹 脂を用いることによって耐熱性、 熱安定性に優れたアル力リ現像型の光硬化 性 ·熱硬化性樹脂組成物を調製できる。
次に、 前記一般式 (I) で表わされるォキシム結合を有する光重合開始剤 (B) としては、 o—ァシルォキシムエステル化合物、 ォキシムスルホナ一 ト化合物、 及びケトォキシムェ一テル化合物などの公知慣用のォキシム系光 重合開始剤を使用することができるが、 好ましくは、 下記一般式 (II) で表 わされる、 キサントン骨格、 チォキサントン骨格、 アントラキノン骨格のい ずれかの骨格を有するォキシム系光重合開始剤が挙げられる。
Figure imgf000016_0001
(式中、 Rの 1つ又は 2つは次式 (III) で表わされる基であり、 残りは、 水素原子、 ハロゲン原子、 メチル基又はフエニル基であり、 は、 酸素原 子、 硫黄原子又はカルボ二ル基を表わす。 ) CH二 N― 0
(式中、 R 1は、 水素原子、 メチル基、 フエニル基、 ビフエ二ル基、 又は炭 素数 1〜 6のアルキル基で置換されたフエ二ル基もしくはビフエ二ル基を表
〇c=
わす。 )
さらに、 これらの中でも特に好 Rましいものとしては、 下記一般式 (IV)で表 わされるチォキサントン骨格を有するォキシム系光重合開始剤が挙げられ る。
Figure imgf000017_0001
(式中、 R 2は、 メチル基又はェチル基を表わす。 )
これらォキシム系光重合開始剤 (B ) は、 窒素原子に不対電子対を持ち、 また、 高感度であることから、 前記カルボキシル基含有樹脂 (A ) 及び前記 反応性希釈剤 (C ) とは別の組成物に配合され、 少なくとも 2液系に組成す ることが、 特性の安定化や保存安定性の面から好ましい。
すなわち、 上記ォキシム系光重合開始剤 (B ) を前記カルボキシル基含有 樹脂 (A ) のような酸基含有化合物と混合した状態で放置すると、 組成物の 感光性が著しく低下したり、 感光せずにラジカルが発生してゲル化が生じた り、 特性的に劣化が起こる。 このような劣化を防止し、 特性の安定化を図 ¾ るためは、 ォキシム系光重合開始剤 (B ) は、 前記カルボキシル基含有樹脂 (A) とは別の組成物に配合されることが重要である。 また同様に、 使用直 前まで、 反応性官能基を有する前記力ルポキシル基含有樹脂 (A) 及び前記 反応性希釈剤 (C) が配合された組成物とは別の組成物に配合され、 使用時 に混合することが、 保存安定性の面から好ましい。 従って、 例えば光硬化 性 ·熱硬化性樹脂組成物を A成分と B成分の 2液型組成物とした場合、 前記 カルボキシル基含有樹脂 (A) が A成分に配合されれば、 ォキシム系光重合 開始剤 (B) は B成分に配合され、 前記反応性希釈剤 (C) は A成分に配合 されることが望ましい。
これらォキシム系光重合開始剤 (B) は、 単独で用いてもよいし、 2種類 以上を組み合わせて用いてもよい。 また、 上記ォキシム系光重合開始剤
(B) の配合量は、 前記カルボキシル基含有樹脂 (A) 1 00質量部当た り、 通常 0. 01〜20質量部、 好ましくは 0. 1〜 10質量部の範囲であ る o
また、 これらォキシム系光重合開始剤 (B) を含むアルカリ現像型の光硬 化性 ·熱硬化性樹脂組成物を銅箔上で使用した場合、 銅箔界面でカルボキシ ル基と水分により、 強力なルイス酸である銅イオンが生成することがある。 このようなルイス酸は、 前記ォキシム系光重合開始剤 (B) を分解させ、 露 光 '現像後の塗膜にアンダーカツ トを発生させることがあるため、 他の光重 合開始剤 (B— I) 及び/又は増感剤 (B— Π) を併用することが好まし い。
本発明の組成物において、 上記ォキシム系光重合開始剤 (B) と組み合わ せて用いることができる他の光重合開始剤 (B— I ) は、 ベンゾフエノン 系、 ァセトフエノン系、 ベンゾインエーテル系、 ケ夕一ル系、 ァシルホスフ インオキサイ ド、 パーオキサイ ド系、 チ夕ノセン系などのラジカル光重合開 始剤である。 例えば、 他の光重合開始剤 (B— I) の具体例としては、 ベン ゾイン、 ベンゾインメチルエーテル、 ベンゾインェチルェ一テゾレ、 ベンゾィ ンイソプロピルエーテル等のベンゾィンとべンゾィンアルキルエーテル類; ァセトフエノン、 2 , 2—ジメ トキシー 2—フエニルァセ トフエノン、 2, 2—ジエトキシ一 2 _フエニルァセ トフエノン、 2, 2—ジエトキシ一 2— フエニルァセ トフエノン、 1 , 1ージクロロアセ トフエノン等のァセ トフエ ノン類; 2—メチル一 1— [ 4一 (メチルチオ) フエニル] ー 2—モルフォ リノプロパン一 1 —オン、 2 —ベンジル一 2 —ジメチルアミノー 1— ( 4— モルフオリノフェニル) ーブ夕ノン一 1等のアミノァセ トフエノン類; 2 - メチルアントラキノン、 2—ェチルアントラキノン、 2—夕一シャリ一プチ ルアントラキノン、 1 一クロ口アントラキノン等のアントラキノン類; 2 , 4—ジメチルチオキサントン、 2 , 4—ジェチルチオキサントン、 2—クロ 口チォキサントン、 2 —イソプロピルチォキサントン、 4 一イソプロピルチ ォキサントン等のチォキサントン類; ァセ トフエノンジメチルケ夕一ル、 ベ ンジルジメチルケ夕一ル等のケ夕一ル類; ベンゾフエノン等のベンゾフエノ ン類; 又はキサントン類; ( 2, 6—ジメ トキシベンゾィル) 一 2 , 4 , 4 —ペンチルホスフィンオキサイ ド、 ビス ( 2 , 4 , 6 —トリメチルベンゾィ ル) 一フエニルホスフィンオキサイ ド、 2 , 4 , 6 — トリメチルベンゾィル ジフエ二ルホスフィンオキサイ ド、 ェチル— 2 , 4 , 6 — トリメチルベンゾ ィルフヱニルホスフイネィ ト等のァシルホスフィンォキサイ ド類;各種パ一 ォキサイ ド類などが挙げられ、 これら公知慣用の光重合開始剤を単独で又は 2種以上を組み合わせて用いることができる。 これらの光重合開始剤 (B— I ) の配合割合は、 前記カルボキシル基含有樹脂 (A ) 1 0 0質量部当た り、 0 . 1〜; L 0質量部の範囲が好ましい。
また、 上記光重合開始剤 (B及び B— I ) と組み合わせて用いられる増感 剤 (B— II) としては、 N, N—ジメチルァミノ安息香酸ェチルエステル、 N, N—ジメチルァミノ安息香酸イソアミルエステル、 ペンチルー 4—ジメ チルァミノべンゾエート、 トリェチルァミン、 ト リエタノールァミン等の三 級ァミン類などが挙げられ、 単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いる ことができる。
さらに、 可視領域でラジカル重合を開始するチバ ' スペシャルティ 'ケミ カルズ社製ィルガキュア 7 8 4等のチ夕ノセン系光重合開始剤、 ロイコ染料 等を硬化助剤として組み合わせて用いることができる。
本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物に用いられる反応性希釈剤 (C ) は、 該組成物の粘度を調整して作業性を向上させるとともに、 架橋密度を上 げ、 密着性などを有する塗膜を得るために用いられる。 このような反応性希 釈剤 ( C ) としては、 1分子中に 1個以上の不飽和二重結合を有する化合 物、 例えば、 2—ェチルへキシル (メタ) ァクリレート、 シクロへキシル (メタ) ァクリレート等のアルキル (メタ) ァクリレート類; 2—ヒ ドロキ シェチル (メタ) ァクリレート、 2—ヒドロキシプロピル (メタ) ァクリレ —ト等のヒ ドロキシアルキル (メタ) ァクリ レート類 ; エチレングリコー ル、 プロピレングリコール、 ジエチレングリコール、 ジプロピレングリコー ル等のアルキレンォキシド誘導体のモノ又はジ (メタ) ァクリレート類; へ キサンジオール、 トリメチロールプロパン、 ペン夕エリスリ トール、 ジトリ メチ口一ルプロパン、 ジペン夕エリスリ トール、 トリスヒ ドロキシェチルイ ソシァヌレート等の多価アルコール又はこれらのエチレンォキシドあるいは プロピレンォキシド付加物の多価 (メタ) ァクリレート類; フエノキシェチ ル (メタ) ァクリレート、 ビスフエノ一ル Aのポリエトキシジ (メ夕) ァク リレート等のフエノール類のエチレンォキシドあるいはプロピレンォキシド 付加物の (メタ) ァクリレート類; グリセリンジグリシジルェ一テル、 トリ メチロールプロパントリグリシジルエーテル、 トリグリシジルイソシァヌレ ートなどのグリジジルエーテルの (メタ) ァクリレ一ト類 ; 及びメラミン (メタ) ァクリレート等を挙げることができる。 これらの中でも、 液状のも のが、 反応性、 希釈性の面から好ましい。
また、 1分子中に不飽和二重結合を有し、 さらにカルボキシル基を有する 化合物を反応性希釈剤 (C ) として用いることもできる。 このような化合物 としては、 飽和又は不飽和二塩基酸無水物と 1分子中に 1個の水酸基を有す る (メタ) ァクリレート類との反応物、 例えば無水コハク酸、 無水マレイン 酸、 無水フタル酸、 テトラヒ ドロ無水フ夕ル酸、 へキサヒ ドロ無水フ夕ル 酸、 メチルへキサヒ ドロ無水フタル酸、 メチルテトラヒ ドロ無水フ夕ル酸、 無水ィタコン酸、 メチルェンドメチレンテトラヒ ドロ無水フタル酸等の飽和 又は不飽和二塩基酸無水物と、 ヒ ドロキシェチル (メタ) ァクリレート、 ヒ ドロキシプロピル (メタ) ァクリレート、 ヒドロキシブチル (メタ) ァクリ レート、 ポリエチレングリコールモノ (メタ) ァクリレート、 グリセリンジ (メタ) ァクリレート、 トリメチロールプロパンジ (メタ) ァクリレート、 ペン夕エリスリ トールトリ (メタ) ァクリレート、 ジペン夕エリスリ トール ペン夕 (メタ) ァクリレート、 フエニルグリシジルエーテルの (メタ) ァク リレート等の 1分子中に 1個の水酸基を有する (メタ) ァクリレート類を等 モル比で反応させて得られたハーフエステル類を使用することができる。 これらの反応性希釈剤 (C ) は、 単独で又は 2種類以上を組み合わせて用 いてもよい。 また、 その配合量は、 前記カルボキシル基含有樹脂 (A ) 1 0 0質量部当たり 2〜 5 0質量部の範囲が好適である。 反応性希釈剤 (C ) の 配合量が上記範囲よりも少ない場合、 塗膜の硬化不良、 感度低下を招き、 一 方、 上記範囲よりも多い場合には、 指触乾燥性が低下し、 また硬化塗膜が脆 くなるので好ましくない。
本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物では前記した反応性希釈剤 (C ) を用いているので、 有機溶剤を用いる必要はないが、 組成物の粘度を調整す るため、 又は前記カルボキシル基含有樹脂を溶解しワニス化するために、 有 機溶剤を添加することができる。 有機溶剤としては、 乾燥が容易で毒性の少 ない溶剤が選ばれる。 例えば、 メタノール、 エタノール、 プロピルアルコ一 ル、 イソプロピルアルコール、 ブ夕ノール、 イソブ夕ノール等のアルコール 類;酢酸ェチル、 酢酸ブチル、 酢酸アミル、 酢酸シクロへキシル、 ァセ ト酢 酸メチル、 アジピン酸ジメチル、 グルタミン酸ジメチル、 琥珀酸ジメチル等 の酢酸エステル類; シクロへキサノン、 メチルシクロへキサノン、 2—ブ夕 ノン、 メチルイソプチルケトン、 アセ トン等のケトン類;エチレングリコ一 ルモノメチルエーテルァセテ一ト、 エチレングリコールモノェチルエーテル アセテート、 エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、 エチレン グリコールモノメチルエーテル、 ェチレングリコールモノェチルエーテル、 エチレングリコールモノプチルェ一テル、 エチレングリコールジメチルェ一 テル、 エチレングリコ一ルジェチルェ一テル、 エチレングリコールジブチル ェ一テル、 ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、 ジェチレ ングリコールモノェチルエーテルァセテ一ト、 ジェチレングリコールモノブ チルェ一テルアセテート、 ジエチレングリコールモノメチルエーテル、 ジェ チレングリコールモノェチルエーテル、 ジエチレングリコールモノブチルェ 一テル、 ジエチレングリコールジメチルェ一テル、 ジエチレングリコールジ ェチルエーテル、 ジエチレングリコールジプチルエーテル、 プロピレングリ コールモノメチルエーテルァセテ一ト、 プロピレングリコールモノメチルェ —テル、 プロピレングリコールモノブチルエーテル、 ジプロピレングリコー ルモノメチルェ一テルァセテ一ト、 ジプロピレングリコールモノメチルェ一 テル等のアルキレンォキサイ ド誘導体;及びトルエン、 ミネラルスピリヅ ト などを好適に用いることができる。 これらの有機溶剤は、 単独で又は 2種以 上を混合して使用することができる。
前記 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物 (D) とし ては、 従来公知の全ての多官能エポキシ化合物を用いることができ、 例え ば、 ジャパンエポキシレジン (株) 製のェピコ一ト 8 2 8、 ェピコート 8 3 4、 ェピコ一ト 1 0 0 1、 ェピコ一ト 1 0 0 4、 大日本ィンキ化学工業 (株) 製のェピクロン 840、 ェピクロン 8 5 0、 ェピクロン 10 5 0、 ェ ピクロン 2 0 5 5、 東都化成 (株) 製のェポトート YD— 0 1 1、 YD— 0 1 3、 YD— 1 2 7、 YD— 1 2 8、 住友化学工業 (株) 製のスミーェポキ シ E SA— 0 1 1、 E SA— 0 14、 E LA— 1 1 5、 E L A- 1 2 8 (何 れも商品名) 等のビスフエノール A型エポキシ樹脂; ジャパンエポキシレジ ン (株) 製のェピコート YL 9 0 3、 大日本ィンキ化学工業 (株) 製のェピ クロン 1 5 2、 ェビクロン 1 6 5、 東都化成 (株) 製のェポトート YD B— 400、 YDB— 5 00、 住友化学工業 (株) 製のスミーエポキシ E S B— 400、 E S B - 7 00 (何れも商品名) 等のブロム化エポキシ樹脂; ジャ パンエポキシレジン (株) 製のェピコート 1 5 2、 ェピコ一ト 1 54、 大日 本ィンキ化学工業 (株) 製のェピクロン N— 7 3 0、 ェピクロン N— 7 7
0、 ェピクロン N— 8 6 5、 東都化成 (株) 製のェポトート YD CN— 70
1、 YD CN- 704, 日本化薬 (株) 製の E P PN— 20 1、 E 0 CN- 1 0 2 5、 E 0 C N— 1 02 0 , E O CN— 1 04 S、 RE— 30 6、 住友 化学工業 (株) 製のスミ—エポキシ E S CN— 1 9 5 X、 E S CN— 220 (何れも商品名) 等のノボラツク型エポキシ樹脂;大日本ィンキ化学工業 (株) 製のェピクロン 8 30、 ジャパンエポキシレジン社製のェピコ一ト 8 07、 東都化成 (株) 製のェポトート YD F— 1 70、 YD F— 1 7 5、 Y D F- 2004 (何れも商品名) 等のビスフヱノール F型エポキシ樹脂;東 都化成 (株) 製のェポトート S T— 2 004、 S T— 2 007、 S T— 3 0 00 (何れも商品名) 等の水添ビスフエノール A型エポキシ樹脂; ジャパン エポキシレジン (株) 製のェピコート 604、 東都化成 (株) 製のェポトー ト YH— 4 3 4、 住友化学工業 (株) 製のスミ—エポキシ E LM— 1 2 0 (何れも商品名) 等のグリシジルァミン型エポキシ樹脂; ダイセル化学工業 (株) 製のセロキサイ ド 20 2 1 (商品名) 等の脂環式エポキシ樹脂; ジャ パンエポキシレジン (株) 製の YL— 933、 日本化薬 (株) 製の EP PN — 5 0 1、 E P PN— 5 02 (何れも商品名) 等のトリヒドロキシフエニル メタン型エポキシ樹脂; ジャパンエポキシレジン (株) 製の Y L— 6 0 5 6、 YX- 40 0 0, YL- 6 1 2 1 (何れも商品名) 等のビキシレノール 型もしくはビフエノ一ル型エポキシ樹脂又はそれらの混合物 ; 日本化薬 (株) 製の E B P S— 2 00、 旭電化工業 (株) 製の E PX— 30、 大日本 ィンキ化学工業 (株) 製の EXA— 1 5 14 (何れも商品名) 等のビスフエ ノール S型エポキシ樹脂; ジャパンエポキシレジン (株) 製のェピコ一ト 1 5 7 S (商品名) 等のビスフエノール Aノボラヅク型エポキシ樹脂; ジャパ ンエポキシレジン (株) 製のェピコート YL— 9 3 1 (商品名) 等のテトラ フエ二ロールェ夕ン型エポキシ樹脂; 日産化学 (株) 製の TE P I C (商品 名) 等の複素璟式エポキシ樹脂; 日本油脂 (株) 製のブレンマ一 D GT (商 品名) 等のジグリシジルフタレート樹脂;東都化成 (株) 製の ZX— 1 0 6 3 (商品名) 等のテトラグリシジルキシレノィルェタン樹脂;新日鉄化学 (株) 製の E SN— 1 9 0、 E SN— 3 6 0、 大日本ィンキ化学工業 (株) 製の HP— 40 3 2、 EXA— 47 5 0、 E XA- 47 0 0 (何れも商品 名) 等のナフ夕レン基含有エポキシ樹脂;大日本インキ化学工業 (株) 製の HP- 7200, HP - 72 00 H (何れも商品名) 等のジシクロペン夕ジ ェン骨格を有するエポキシ樹脂; 日本油脂 (株) 製の C P— 5 0 S、 CP— 5 0 M (何れも商品名) 等のグリシジルメタァクリレート共重合系エポキシ 樹脂;さらにシクロへキシルマレイミ ドとグリシジルメタァクリレートの共 重合エポキシ樹脂などの 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有する化合物な どが挙げられる。 これらは、 それそれ単独で又は 2種以上を組み合わせて使 用することができる。 上記熱硬化性成分としての多官能エポキシ化合物 (D) の配合量は、 前記カルボキシル基含有樹脂 (A) のカルボキシル基 1 当量に対して、 エポキシ基が 0. 6〜2. 0当量、 好ましくは 0. 8〜1. 6当量の割合であることが望ましい。 エポキシ基の配合量が 0. 6当量未満 の場合、 カルボキシル基が残存し、 耐アルカリ性や電気絶縁性が低下するの で好ましくない。 一方、 エポキシ基の配合量が 2. 0当量を超えた場合、 過 剰なエポキシ樹脂が可塑剤として働き、 塗膜強度が低下するので好ましくな い
また、 これら多官能エポキシ化合物 (D) と前記カルボキシル基含有樹脂 の反応促進剤として、 アミン類、 ジシアンジアミ ド、 尿素誘導体、 メラミ ン、 S—トリアジン化合物、 グアナミン化合物、 2—ェチル—4—メチルイ ミダゾ一ル等のィミダゾール化合物及びその誘導体等の公知のエポキシ硬化 促進剤を併用することができる。 これらを併用し熱硬化させることにより、 硬化塗膜の耐熱性、 耐薬品性、 密着性、 鉛筆硬度などの諸特性を向上させる ことができる。
さらに本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物には、 特性を向上させるた めに無機及び/又は有機フイラ一 (E) を添加することもできる。 無機フィ ラーとしては硫酸バリウム、 チタン酸バリウム、 微粉状酸化ケィ素、 無定形 シリカ、 結晶性シリカ、 溶融シリカ、 タルク、 クレー、 炭酸マグネシウム、 炭酸カルシウム、 酸化アルミニウム、 水酸化アルミニウム、 雲母粉等の公知 慣用の無機充填剤が使用できる。 その使用量は、 本発明の組成物中に、 0〜 6 0質量%の割合で配合することが好ましく、 特に好ましくは 5〜4 0質 量%である。
有機フイラ一としては、 エポキシ系、 ゴム系、 アクリル系、 ウレタン系、 ポリイミ ド系、 ポリアミ ド系などの高分子化合物の微粒子が使用でき、 粒径 は 1 0 / m以下が好ましく、 本発明の組成物中に、 0 ~ 3 0質量%の割合で 配合することができる。
本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物は、 さらに必要に応じて、 フタ口 シァニン ' ブルー、 フタロシアニン ' グリーン、 アイォジン · グリーン、 ジ スァゾイエロ一、 クリスタルバイオレヅ ト、 酸化チタン、 カーボンブラヅ ク、 ナフタレンブラヅクなどの公知慣用の着色剤;ハイ ドロキノン、 ハイ ド ロキノンモノメチルェ一テル、 t e r t—プチルカテコール、 ピロガロ一 ル、 フエノチアジン等の公知慣用の重合禁止剤;アスベスト、 オルベン、 ベ ントン、 モンモリロナイ ト等の公知慣用の増粘剤 ; シリコーン系、 フッ素 系、 高分子系等の消泡剤及び 又はレべリング剤; イミダゾール系、 チアゾ —ル系、 トリアゾ一ル系、 シランカヅプリング剤等の密着性付与剤のような 公知慣用の添加剤類を配合することができる。
以上のような成分組成を有する光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物を以下のよ うに用いて、 ソルダ一レジスト層及び 又は樹脂絶縁層を形成したプリント 配線板を提供することができる。
本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物は、 例えば、 必要に応じて塗布方 法に適した粘度に調整し、 基材上に、 ディップコート法、 フローコート法、 ロールコート法、 バーコ一夕一法、 スクリーン印刷法、 力一テンコート法等 の方法により塗布し、 約 6 0〜 1 0 0 °Cの温度で組成物中に含まれる有機溶 剤を揮発乾燥 (仮乾燥) させることにより、 タックフリーの塗膜を形成でき る。 また、 上記組成物をプラスチックフィルム上に塗布し、 乾燥させてフィ ルムとして巻き取ったものを基材上に張り合わせることにより、 樹脂絶縁層 を形成できる。 その後、 接触式 (又は非接触方式) により、 パターンを形成 したフォトマスクを通して選択的に活性光線により露光し、 未露光部を希ァ ルカリ水溶液 (例えば 0 . 3〜3 %炭酸ソ一ダ水溶液) により現像してレジ ストパターンが形成される。 さらに、 例えば約 1 4 0〜 1 8 0 °Cの温度に加 熱して熱硬化させることにより.、 前記カルボキシル基含有樹脂 (a ) のカル ボキシル基と、 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物 ( D.) のエポキシ基が反応し、 耐熱性、 耐溶剤性、 耐酸性、 .耐吸湿性、 P C T耐性、 密着性、 電気特性などの諸特性に優れた硬化塗膜を形成することが できる。
ここで、 塗膜を光硬化させるための照射光源としては、 低圧水銀灯、 中圧 水銀灯、 高圧水銀灯、 超高圧水銀灯、 キセノンランプ又はメタルハラィ ドラ ンプが適当である。 その他、 レーザ一光源などもダイレクト 'イメージング 工法に露光用活性光源として利用し、 直接描画することができる。
また、 上記現像に用いられる希アルカリ水溶液としては、 水酸化力リウ ム、 水酸化ナト リウム、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リウム、 ケィ酸ナトリウ ム、 アンモニア、 アミン類などのアルカリ水溶液が使用でき、 特に、 炭酸ナ トリゥムが好ましい。 以下に合成例、 実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明す るが、 本発明が以下の実施例に限定されるものでないことは言うまでもな い。 なお、 以下において 「部」 及び 「%」 とあるのは、 特に断りのない限り 全て 「質量部」 及び 「質量%」 を表わす。
合成例 1 (カルボキシル基含有感光性樹脂の合成)
温度計、 撹拌機、 滴下ロート、 及び還流冷却器を備えた三つ口フラスコ に、 エポキシ当量が 2 1 7で、 かつ 1分子中に平均して 7個のフエノール核 残基と、 さらにエポキシ基とを併せて有するクレゾールノボラック型ェポキ シ樹脂 2 1 7 g ( 1 . 0当量) とカルビトールアセテート 2 0 4 . 8 gを入 れ、 加熱溶解した。 この混合物に、 重合禁止剤としてハイ ドロキノン 0. 2 g、 触媒としてトリフヱニルホスフィン 1. 0 gを加え、 アクリル酸 72. 0 g ( 1. 0当量) を徐々に加えながら、 85〜 105°Cで 16時間反応さ せた。 さらに、 テトラヒドロ無水フ夕ル酸 9 1. 2 g (0. 67当量) を付 加反応させた。 このようにして得られたワニスは、 カルビトールアセテート を 35部含んだ粘調な液体であり、 混合物としての酸価が 65mgKOH/ gのカルボキシル基含有感光性樹脂であった。
実施例 1 ( (B) 成分を、 (A) 成分及び (C) 成分と分けた組成物) 合成例 1で得られた (A) 成分のカルボキシル基含有感光性樹脂 100部 に、 (C) 成分のジペン夕エリスリ トールへキサァクリレート 10部、 消泡 剤 (共栄社油脂 (株) 製: AC— 300 ) 1部、 硫酸バリゥム 80部、 及び フタロシアニン ' グリーン 0. 5部を配合し、 さらに 3本ロールミルで混合 分散させることにより得られた組成物を A液とし、 また、 (B) 成分の前記 式 (IV) で示され、 R2がメチル基であるォキシム結合を有する光重合開始 剤 5部、 (B— I ) 成分のジェチルチオキサントン (日本化薬製 (株) : カ ャキュア一 DETX—S) 1部、 (B—II) 成分の 4—ジメチルァミノ安息 香酸ェチルエステル (日本化薬製 (株) : カャキュア一 EPA) 2. 5部、 (D) 成分のクレゾ一ルノポラック型エポキシ樹脂 (日本化薬 (株) 製: E 0 C N 1020 ) 20部、 ビスフエノール A型エポキシ樹脂 (油化シェルェ ポキシ (株) 製:ェピコート 828 ) 10部を配合し、 さらに 3本口一ルミ ルで混合分散させることにより得られた組成物を B液として、 光硬化性 ·熱 硬化性樹脂組成物の A液及び B液を調製した。
実施例 2 (B成分を、 A成分及び C成分と分けた組成物)
実施例 1において、 (B— I ) 成分のジェチルチオキサントン、 (B— II) 成分の 4—ジメチルァミノ安息香酸ェチルエステルを用いない以外は、 実施例 1と全く同じ処方及び方法により光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物の A 液及び B液を調製した。
比較例 1 (B成分を A成分と共に配合した組成物) 合成例 1で得られた (A) 成分のカルボキシル基含有感光性樹脂 100部 に、 (B) 成分の前記式 (IV) で示され、 R2がメチル基であるォキシム結 合を有する光重合開始剤 5部、 (B— I) 成分のジェチルチオキサントン (日本化薬製 (株) : カャキュア一 DETX— S) 1部、 (B— II) 成分の 4—ジメチルァミノ安息香酸ェチルエステル (日本化薬製 (株) : カャキュ ァ一 E P A) 2. 5部、 消泡剤 (共栄社油脂 (株) 製: A C— 300 ) 1 部、 硫酸バリウム 80部、 及びフタロシアニン · グリーン 0. 5部を配合 し、 さらに 3本ロールミルで混合分散させることにより得られた組成物を A 液とし、 また、 (C) 成分のジペン夕エリスリ トールへキサァクリレート 1 0部、 (D) 成分のクレゾ一ルノポラック型エポキシ樹脂 (日本化薬 (株) 製: EOCN 1020) 20部、 ビスフエノール A型エポキシ樹脂 (油化シ エルエポキシ (株) 製:ェピコート 828 ) 10部を配合し、 さらに 3本口 ールミルで混合分散させることにより得られた組成物を B液として、 光硬化 性 ·熱硬化性樹脂組成物の A液及び B液を調製した。
比較例 2 (B成分を、 A成分及び C成分と共に配合した組成物) 合成例 1で得られた (A) 成分のカルボキシル基含有感光性樹脂 100部 に、 (B) 成分の前記式 (IV) で示され、 R2がメチル基であるォキシム結 合を有する光重合開始剤 5部、 (B— I) 成分のジェチルチオキサントン (日本化薬製 (株) : カャキュア一 DETX— S) 1部、 (B— II) 成分の 4—ジメチルァミノ安息香酸ェチルエステル (日本化薬製 (株) : カャキュ ァー E PA) 2. 5部、 消泡剤 (共栄社油脂 (株) 製: AC— 300 ) 1 部、 硫酸バリウム 80部、 及びフタロシアニン ' グリーン 0. 5部、 (C) 成分のジペン夕エリスリ トールへキサァクリレート 10部、 (D) 成分のク レゾ一ルノボラック型エポキシ樹脂 (日本化薬 (株) 製: E O CN 1 02 0 ) 20部、 ビスフエノール A型エポキシ樹脂 (油化シェルエポキシ (株) 製:ェピコート 828 ) 10部を配合し、 さらに 3本ロールミルで混合分散 させることにより、 一液の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物を調製した。 比較例 3 (ォキシム系光重合開始剤以外の開始剤を使用した組成物) 比較例 1'において、 (B) 成分の前記式 (IV) で示され、 R2がメチル基 であるォキシム結合を有する光重合開始剤 5部の代わりに、 2—メチルー 1 一 [4 - (メチルチオ) フエニル] — 2—モルフォリノプロパン一 1—オン (チバ■スペシャルティ ·ケミカルズ社製: ィルガキュア一 907 ) 5部を 使用した以外は、 比較例 1と全く同じ処方及び方法により光硬化性 ·熱硬化 性樹脂組成物の A液及び B液を調製した。 前記実施例 1、 2及び比較例 1〜 3で得られた光硬化性 ·熱硬化性樹脂組 成物を、 20°C及び 50°Cの恒温槽にて 3日間保管した。 その後、 前記実施 例 1、 2及び比較例 1、 3で得られた光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物につい ては、 それそれ A液と B液は充分に混合した。
上記の各条件で保管後の実施例 1、 2及び比較例 1〜 3の各光硬化性 ·熱 硬化性樹脂組成物を、 銅箔 (厚さ 35 m) をラミネートしたガラスェポキ シ基材の銅張積層板及びこれを予めエッチングしてパターンを形成しておい たプリント配線板の全面に、 スクリーン印刷によりそれそれ塗布した。 その 後、 熱風循環式乾燥機で乾燥した後、 所望のネガフィルムを密着させ、 その 上から 30 OmJ/cm2の紫外線を照射させた後、 1. 0質量%炭酸ナト リウム水溶液で 60秒間現像処理し、 さらに熱風循環式乾燥機により 1 5 0°Cで 60分間熱硬化させ、 硬化塗膜を得た。 得られた各硬化塗膜の特性に ついて、 各実施例の結果を表 1に、 また各比較例の結果を表 2に示す。 な お、 各硬化塗膜の特性は下記の方法により評価した。
( 1 ) 現像性
仮乾燥後の塗膜を露光せずに現像し、 現像残りの有無を評価した。
〇:現像可能であるもの。
X :現像できないもの。
(2) 感度
仮乾燥後の塗膜にコダック N 0. 2のステップ夕ブレッ トをのせ、 超高圧 水銀灯の露光機を用いて 30 Om JZcm2露光し、 現像した後、 ステップ 夕ブレッドから得られた段数より感度を評価した。
数字:得られた段数
X :現像後に硬化塗膜が得られなかった。
( 3 ) 解像性
仮乾燥後の塗膜に、 50〜 130〃mのラインのネガパターンを介して超 高圧水銀灯の露光機を用いて 30 OmJ/cm2露光し、 現像した後、 形成 されている最小幅のラインを読み取り、 解像性を評価した。
( 4 ) 密着性
J I S (日本工業規格) D— 0202の試験方法に従って、 テストピース の硬化塗膜に碁盤目状に 100個のクロスカッ トを入れ、 次いでセロハン粘 着テープによるピーリング試験後の剥がれた箇所を目視により判定した。
(剥がれた箇所) ノ100
(5) はん'だ耐熱性
硬化塗膜を J I S C— 648 1の試験方法に従って、 260 °Cのはんだ 槽に 10秒浸漬後、 セロハン粘着テープによりピーリングを行なう試験を 1 サイクルとし、 合計 3サイクルを行なった後の塗膜状態を評価した。
〇: 3サイクル後も塗膜に変化のないもの。
X : 3サイクル後に剥離を生じるもの。
( 6 ) 無電解めつき耐性
市販の無電解ニッケルめっき浴及び無電解金めつき浴を用いて、 ニッケル 0. 5 m、 金 0. 03 zmの条件でめっきを行ない、 セロハン粘着テープ によりピーリングを行なう試験により、 硬化塗膜の剥がれの有無やめつきの しみ込みの有無を評価した。
〇 :全く剥がれがないもの
△:ほんの僅かに剥がれのあるもの
X :硬化塗膜に剥がれがあるもの
( 7 ) LD I (レーザーダイレク トイメ一ジング) 感度
仮乾燥後の塗膜にコダック N o . 2のステップタブレヅ トを密着させて、 350 nmと 366 nmの複波長を照射するレーザ一光源を搭載した露光機 を用いて、 350 nmの積算光量が 6 OmJ/cm2となるように露光し、 現像した後、 ステップ夕プレツ トから得られた段数より感度を評価した。 数字:得られた段数
X :現像後に硬化塗膜が得られなかった。
表 1
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表 2
Figure imgf000032_0001
表 1及び表 2から明らかなように、 (Β)成分を (Α)成分と共に配合し た比較例 1は、 実施例 1、 2に比べ、 保存安定性が劣っていた。 また、 (Β)成分を (Α)成分及び (C)成分と共に配合した比較例 2は、 比較例 1よりさらに保存安定性が劣っていた。 なお、 光重合開始剤として、 (Β) 成分を用いず、 (Β_Ι)成分と (Β— Π) を用いた比較例 3は、 保存安定 性には問題無いが、 感度と解像性が劣っていた。 産業上の利用可能性
本発明に係る光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物は、 プリント配線板や多層プ リント配線板のソルダーレジスト層及び/又は樹脂絶縁層の形成に有用であ り、 またレーザー, ダイレク ト ' ィメ一ジング工法にも用いることができ る。

Claims

請 求 の 範 囲
1. ( A) 1分子中に 1個以上のカルボキシル基を有するカルボキシル 基含有樹脂、 (B) 下記一般式 (I) で示されるォキシム結合を有する光重 合開始剤、 (C) 反応性希釈剤、 及び (D) 1分子中に 2個以上のエポキシ 基を有するエポキシ化合物を含有する光硬化性 ·熱硬化性組成物であって、 上記光重合開始剤 (B) は、 少なくとも上記カルボキシル基含有樹脂 (A) 及び上記反応性希釈剤 (C) の配合された組成物とは別の組成物に配合さ れ、 少なくとも 2液系に組成されていることを特徴とする光硬化性 ·熱硬化 性樹脂組成物。
C二 N一 0― …… ( I )
2. 前記カルボキシル基含有樹脂 (A) が、 1分子中に感光性の不飽和 二重結合を 2個以上有するカルボキシル基含有感光性樹脂である請求項 1に 記載の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物。
3. 前記一般式 ( I) で示されるォキシム結合を有する光重合開始剤 (B) が、 下記一般式 (I I) で示される化合物である請求項 1又は 2に記 載の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物。
Figure imgf000033_0001
(式中、 Rの 1つ又は 2つは次式 (III) で表わされる基であり、 残りは、 水素原子、 ハロゲン原子、 メチル基又はフヱニル基であり、 Xは、 酸素原 子、 硫黄原子又はカルボ二ル基を表わす。 ) o
— CH=N― O― C II― R γ丄 …… (in)
(式中、 R1は、 水素原子、 メチル基、 フエニル基、 ビフエ二ル基、 又は炭 素数 1〜 6のアルキル基で置換されたフヱニル基もしくはビフヱ二ル基を表 わす。 )
4. 前記光重合開始剤 (B) 以外の他の光重合開始剤 (B— I) 及び/ 又は増感剤 (B— II) を、 さらに含有する請求項 1乃至 3のいずれか一項に 記載の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物。
5. 前記反応性希釈剤 (C) が、 1分子中に 1個以上の不飽和二重結合 を有する液状感光性化合物であり、 その含有量が前記カルボキシル基含有樹 脂 (A) 100質量部当たり 2〜50質量部である請求項 1乃至 4のいずれ か一項に記載の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物。
6. さらに無機及び/又は有機フィラー (E) を含有する請求項 1乃至 5のいずれか一項に記載の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物。
7. 前記光重合開始剤 (B) が下記一般式 (IV) で表わされる化合物 である請求項 1乃至 6のいずれか一項に記載の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成 物。
Figure imgf000034_0001
(式中、 R 2は、 メチル基又はェチル基を表わす。 )
8 . 請求項 1乃至 7のいずれか一項に記載の光硬化性 '熱硬化性樹脂組 成物を用いて形成されたソルダーレジスト層及び/又は樹脂絶縁層を有する プリント配線板。
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Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006043638A1 (ja) * 2004-10-20 2006-04-27 Mitsubishi Chemical Corporation 感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
JP2007100074A (ja) * 2005-09-06 2007-04-19 Taiyo Ink Mfg Ltd 樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
JP2009534718A (ja) * 2006-04-24 2009-09-24 コーロン インダストリーズ インク Ldi用ドライフィルムフォトレジスト樹脂組成物
EP1887425A4 (en) * 2005-05-31 2010-09-22 Taiyo Ink Mfg Co Ltd LIGHT CURING / THERMAL CURING RESIN COMPOSITION, CURING / EXPERIMENTAL PRODUCT THEREFORE, AND CIRCUIT BOARD OBTAINED THEREFROM
CN101223478B (zh) * 2005-07-13 2011-10-12 太阳控股株式会社 黑色糊剂组合物及使用其的黑色矩阵图案的形成方法、以及该黑色矩阵图案
WO2012043001A1 (ja) * 2010-09-29 2012-04-05 株式会社カネカ 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2012098470A (ja) * 2010-11-01 2012-05-24 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物及びその利用
JP2012103703A (ja) * 2005-09-06 2012-05-31 Taiyo Holdings Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
WO2013038624A1 (ja) * 2011-09-13 2013-03-21 凸版印刷株式会社 静電容量式タッチパネルセンサー基板の製造方法、静電容量式タッチパネルセンサー基板および表示装置
JP2013105069A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013105068A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013109164A (ja) * 2011-11-21 2013-06-06 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013109165A (ja) * 2011-11-21 2013-06-06 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013539072A (ja) * 2010-09-16 2013-10-17 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物、ドライフィルムソルダーレジスト及び回路基板
KR101395375B1 (ko) * 2006-03-29 2014-05-14 다이요 홀딩스 가부시키가이샤 광경화성ㆍ열경화성 수지 조성물 및 그의 경화물 및 그것을이용하여 얻어지는 인쇄 배선판
JP2014191001A (ja) * 2013-03-26 2014-10-06 Tamura Seisakusho Co Ltd 感光性樹脂組成物
KR20190120361A (ko) 2017-06-06 2019-10-23 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 잉크젯용 경화성 조성물 세트, 경화물, 그의 제조 방법, 프린트 배선판 및 팬아웃형의 웨이퍼 레벨 패키지
JP2020140161A (ja) * 2019-03-01 2020-09-03 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物
WO2022050372A1 (ja) * 2020-09-04 2022-03-10 太陽インキ製造株式会社 光硬化性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物および当該硬化物を有する電子部品
KR20220136130A (ko) 2021-03-31 2022-10-07 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 2액형 경화성 수지 조성물, 제품, 드라이 필름, 경화물, 및 프린트 배선판
WO2024204644A1 (ja) * 2023-03-31 2024-10-03 太陽ホールディングス株式会社 多液型硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および電子部品

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102445850B (zh) * 2006-04-13 2013-07-31 太阳控股株式会社 碱显影型阻焊剂及其固化物以及使用其得到的印刷线路板
KR100883047B1 (ko) * 2006-07-10 2009-02-11 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 광 경화성ㆍ열 경화성 수지 조성물, 그의 경화물 및 인쇄배선판
CN101192001B (zh) * 2006-11-15 2012-01-11 太阳控股株式会社 阻焊膜形成方法和感光性组合物
JP5079310B2 (ja) * 2006-11-15 2012-11-21 太陽ホールディングス株式会社 ソルダーレジスト露光用フォトツール及びそれを用いて露光処理されるソルダーレジストパターンの形成方法
JP4616863B2 (ja) * 2007-06-04 2011-01-19 太陽ホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いて得られるフレキシブル配線板
KR100910672B1 (ko) * 2007-08-03 2009-08-04 도레이새한 주식회사 내열성 점착시트
CN100554335C (zh) * 2007-10-17 2009-10-28 太阳油墨(苏州)有限公司 用于印刷电路板的外观检查的树脂组合物
TWI383251B (zh) 2008-01-16 2013-01-21 Eternal Chemical Co Ltd 感光型聚醯亞胺
JP5632146B2 (ja) * 2009-09-02 2014-11-26 太陽ホールディングス株式会社 硬化性樹脂組成物
KR101361753B1 (ko) 2010-03-22 2014-02-12 주식회사 엘지화학 광경화성 및 열경화성을 갖는 수지 조성물과, 드라이 필름 솔더 레지스트
CN102186309B (zh) * 2011-03-22 2013-03-20 鞍山市正发电路有限公司 激光直接成像全印刷电路
JP6130693B2 (ja) * 2012-03-30 2017-05-17 太陽インキ製造株式会社 積層構造体、ドライフィルムおよび積層構造体の製造方法
CN107422604A (zh) * 2012-06-29 2017-12-01 太阳油墨(苏州)有限公司 碱显影型感光性树脂组合物、干膜、固化物以及印刷电路板
US9880467B2 (en) 2012-08-01 2018-01-30 Lg Chem, Ltd. Photo-curable and thermo-curable resin composition and dry film solder resist
KR101629942B1 (ko) * 2013-06-12 2016-06-13 주식회사 엘지화학 광경화성 및 열경화성을 갖는 수지 조성물, 및 드라이 필름 솔더 레지스트
TWI623814B (zh) * 2014-05-21 2018-05-11 Asahi Kasei E Mat Corporation 感光性樹脂組合物及電路圖案之形成方法
JP6704224B2 (ja) * 2015-04-15 2020-06-03 太陽インキ製造株式会社 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板
JP6986534B2 (ja) * 2019-09-11 2021-12-22 株式会社タムラ製作所 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物を有するドライフィルム及び感光性樹脂組成物の光硬化物を有するプリント配線板
CN113099624A (zh) * 2021-04-06 2021-07-09 浙江欣旺达电子有限公司 一种线路板阻焊层的制作方法
CN113980510A (zh) * 2021-10-28 2022-01-28 江西超洋科技有限公司 一种ldi高感阻焊哑黑油墨及其制备方法
EP4588953A1 (en) * 2024-01-17 2025-07-23 Siemens Gamesa Renewable Energy A/S Method of producing a wind turbine blade, a respectively produced wind turbine blade and a resin composition suitable for use in the production

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002090994A (ja) * 2000-09-20 2002-03-27 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2002296771A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Tamura Kaken Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2002293877A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60166306A (ja) * 1984-02-09 1985-08-29 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JP3953625B2 (ja) * 1998-03-02 2007-08-08 太陽インキ製造株式会社 感光性組成物
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
DE60017470T2 (de) * 2000-02-14 2005-12-29 Taiyo Ink Mfg. Co. Ltd. Phot0- oder wärmehärtende zusammensetzungen zur herstellung matter filme

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002090994A (ja) * 2000-09-20 2002-03-27 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2002296771A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Tamura Kaken Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2002293877A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006043638A1 (ja) * 2004-10-20 2006-04-27 Mitsubishi Chemical Corporation 感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
EP1887425A4 (en) * 2005-05-31 2010-09-22 Taiyo Ink Mfg Co Ltd LIGHT CURING / THERMAL CURING RESIN COMPOSITION, CURING / EXPERIMENTAL PRODUCT THEREFORE, AND CIRCUIT BOARD OBTAINED THEREFROM
CN101223478B (zh) * 2005-07-13 2011-10-12 太阳控股株式会社 黑色糊剂组合物及使用其的黑色矩阵图案的形成方法、以及该黑色矩阵图案
JP2012103703A (ja) * 2005-09-06 2012-05-31 Taiyo Holdings Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
JP2007100074A (ja) * 2005-09-06 2007-04-19 Taiyo Ink Mfg Ltd 樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
KR101395375B1 (ko) * 2006-03-29 2014-05-14 다이요 홀딩스 가부시키가이샤 광경화성ㆍ열경화성 수지 조성물 및 그의 경화물 및 그것을이용하여 얻어지는 인쇄 배선판
JP2009534718A (ja) * 2006-04-24 2009-09-24 コーロン インダストリーズ インク Ldi用ドライフィルムフォトレジスト樹脂組成物
JP2013539072A (ja) * 2010-09-16 2013-10-17 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物、ドライフィルムソルダーレジスト及び回路基板
WO2012043001A1 (ja) * 2010-09-29 2012-04-05 株式会社カネカ 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
US9081276B2 (en) 2010-09-29 2015-07-14 Kaneka Corporation Photosensitive resin composition production kit, and use thereof
JP5789612B2 (ja) * 2010-09-29 2015-10-07 株式会社カネカ 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2012098470A (ja) * 2010-11-01 2012-05-24 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物及びその利用
WO2013038624A1 (ja) * 2011-09-13 2013-03-21 凸版印刷株式会社 静電容量式タッチパネルセンサー基板の製造方法、静電容量式タッチパネルセンサー基板および表示装置
JP2013105069A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013105068A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013109164A (ja) * 2011-11-21 2013-06-06 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2013109165A (ja) * 2011-11-21 2013-06-06 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物作製キット及びその利用
JP2014191001A (ja) * 2013-03-26 2014-10-06 Tamura Seisakusho Co Ltd 感光性樹脂組成物
KR20190120361A (ko) 2017-06-06 2019-10-23 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 잉크젯용 경화성 조성물 세트, 경화물, 그의 제조 방법, 프린트 배선판 및 팬아웃형의 웨이퍼 레벨 패키지
JP2020140161A (ja) * 2019-03-01 2020-09-03 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物
WO2020179163A1 (ja) * 2019-03-01 2020-09-10 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物
KR20210135991A (ko) 2019-03-01 2021-11-16 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 알칼리 현상형 광경화성 열경화성 수지 조성물
JP7330719B2 (ja) 2019-03-01 2023-08-22 太陽ホールディングス株式会社 アルカリ現像型光硬化性熱硬化性樹脂組成物
TWI813829B (zh) * 2019-03-01 2023-09-01 日商太陽控股股份有限公司 鹼顯影型光硬化性熱硬化性樹脂組成物
WO2022050372A1 (ja) * 2020-09-04 2022-03-10 太陽インキ製造株式会社 光硬化性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物および当該硬化物を有する電子部品
JPWO2022050372A1 (ja) * 2020-09-04 2022-03-10
JP7781759B2 (ja) 2020-09-04 2025-12-08 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物および当該硬化物を有する電子部品
KR20220136130A (ko) 2021-03-31 2022-10-07 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 2액형 경화성 수지 조성물, 제품, 드라이 필름, 경화물, 및 프린트 배선판
US12043754B2 (en) 2021-03-31 2024-07-23 Taiyo Holdings Co., Ltd. Two-component type curable resin composition, product, dry film, cured product, and printed wiring board
WO2024204644A1 (ja) * 2023-03-31 2024-10-03 太陽ホールディングス株式会社 多液型硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および電子部品
KR20250159191A (ko) 2023-03-31 2025-11-10 다이요 홀딩스 가부시키가이샤 다액형 경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 전자부품

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Publication number Publication date
KR101009081B1 (ko) 2011-01-18
AU2003284475A1 (en) 2004-06-18
CN1717428A (zh) 2006-01-04
JPWO2004048434A1 (ja) 2006-03-23
CN1318474C (zh) 2007-05-30
EP1568723A1 (en) 2005-08-31
KR20050084003A (ko) 2005-08-26
EP1568723B1 (en) 2011-10-05
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