WO1992019540A1 - Organosol d'oxyde d'antimoine et composition de revetement le contenant - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to an antimony oxide sol using a photocurable resin monomer as a dispersion medium, and a coating composition containing the sol.
- antimony oxide is a flame-retardant substance
- antimony oxide having a pi-mouthed chlorite structure is a conductive substance (Journal of the Chemical Society of Japan, No. 4 (1989)). 3 years), p. 488).
- antimony oxide particles Conventionally, the use of antimony oxide particles has been focused on flame retardancy, and coating compositions containing antimony oxide particles have been applied to the surface of plastics, woven fabrics, and other articles. It has been put to practical use to form a flame-retardant film.
- a coating composition containing antimony oxide particles is used.
- the antimony oxide particles be prepared as a colloid solution, that is, as an antimony oxide sol.
- Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-251129 discloses the following formula of an amount corresponding to 0.5 to 25% by weight of antimony oxide. Dispersed in the organosilicon compound represented by A hydrosol having a pH of 2.5 to 12 in which the surface of a colloidal antimony oxide is modified is described.
- R does not contain an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group or a halogen atom ((to (: a hydrocarbon group of 8 ; R 1 and R 2 represent a hydrocarbon group of to C 4 ; And R 3 is ((-C 4 alkyl, alkoxy substituted alkyl or acetyl)
- the above-mentioned antimony oxide hydrosol is compatible with ordinary organic solvents such as alcohols and ketones, and is supposedly drip-proof. However, other organic compounds that are liquid at room temperature, such as light
- This hydrosol is compatible with the vinyl monomer or oligomer (hereinafter also referred to as photocurable monomer or oligomer) constituting the curable resin because of the dispersoid, antimony oxide. Only when the surface is modified with a relatively large amount of the above-mentioned organosilicon compound, antimony oxide having a relatively small amount of the organosilicon compound contributing to the surface modification is mixed with a vinyl monomer or oligomer. Then, there is an inconvenience of gelation.
- Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-95130 discloses that at least 80 mol% of the dispersion medium is occupied by a monomer which is cured by light energy such as ultraviolet rays, electron beams, 7 rays and X rays.
- An organosol in which the dispersoid is silica, alumina or iron oxide is described.
- the production method of the organosol taught by the above-mentioned publication is based on an organosol using a silica or alumina hydrosol or an alcohol as a dispersion medium as a starting material, mixing a photocurable monomer with the starting material, and then adding water or water under reduced pressure. It consists of removing the alcohol and replacing the dispersion medium of the sol with a photocurable monomer. Therefore, in order to prepare an organomonomer of antimony oxide using a photocurable monomer as a dispersion medium by using this method, a hydrosol or alcohol of antimony oxide as a starting material is used as a dispersion medium. An organosol must be prepared.
- organosols of antimony oxide that are homogeneously mixed with photocurable monomers have not yet been developed.
- hydrosol among the conventionally known antimony oxide mouth sols, the fact that it is homogeneously mixed with the photocurable monomer is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-25111 described above.
- Japanese Patent Publication No. 29 only a hydrosol in which the surface of antimony oxide has been modified with a large amount of an organosilicon compound that sacrifices the conductivity of antimony oxide remains. Therefore, in the prior art, a photocurable monomer is used as a dispersion medium, However, it is impossible to prepare an organosol containing an antimony oxide whose conductivity is not impaired as a dispersoid.
- One of the objects of the present invention is to use an organic solvent that is intimately mixed with a photocurable monomer or oligomer as a dispersion medium, and disperse antimony oxide in this state without substantially impairing its conductivity.
- Another object of the present invention is to provide an antimony oxide sol.
- Another object of the present invention is to provide an organoantimony oxide sol in which most of the dispersion medium of the sol is made of a photocurable monomer or oligomer, and the dispersoid is made of colloidal antimony oxide having conductivity. .
- Another object of the present invention is to provide a coating composition containing the above-mentioned antimony oxide sol.
- Still another object of the present invention is to provide a synthetic resin molded article provided with a coating film of the above-mentioned organoantimony oxide sol-containing coating composition.
- the organoantimony oxide sol according to the present invention comprises an antimony oxide sol having a colloidal antimony oxide particle having a pi-mouth structure as a dispersoid, and an organic solvent as a dispersion medium. Characterized by being treated with the organosilicon compound represented by the general formula (1).
- R 2 is hydrogen or (: ⁇ ⁇ -C 5 alkyl group
- R 8 is hydrogen or an alkyl group of ⁇ C
- R represents (: -C n alkylene group
- R is hydrogen or an alkyl group of -C 8,
- i is an integer from 1 to 3
- j is an integer from 0 to 2
- the dispersion medium is ordinary alcohol, ketone, aliphatic hydrocarbon, alicyclic hydrocarbon, or aromatic. It may be a common organic solvent exemplified by aromatic hydrocarbons, but is preferably a photocurable monomer.
- the colloidal antimony oxide particles which are dispersoids, do not necessarily have to be pure antimony oxide as long as the antimony oxide has a pyrochlore structure. Therefore, antimony oxide having a pyrochlore structure is mainly used, and different elements such as silicon, zinc, tin, indium, phosphorus, boron, titanium, zirconium, hafnium, selenium, iron, tellurium, and tungsten are used.
- the doped composite antimony oxide particles are included in the colloidal antimony oxide particles referred to in the present invention.
- An alkaline suspension of antimony trioxide is prepared by dispersing antimony trioxide and an alkaline substance in water in a molar ratio of 1: 2.0 to 2.5.
- the concentration of antimony trioxide in this suspension is preferably in the range of 3 to 15% by weight.
- the suspension is heated to a temperature of 50 ° C or higher, and a hydrogen peroxide solution having a concentration of 5 to 35% by weight is added to the suspension in an amount of 0.2 mol or less of hydrogen peroxide per mol of antimony trioxide in the suspension.
- the reaction is carried out dropwise at a speed.
- the resulting reaction mixture was passed through a cation-exchange resin to remove alkali ions, and then heated to form a zole, which was then treated with an ultrafiltration membrane to obtain an antimony oxide. Get a drosol (concentration 5-40% by weight).
- An organosilicon compound represented by the following general formula (2) and an organic solvent represented by a lower alcohol are added to a hydrosol of antimony oxide, and the mixture is stirred at a temperature of 30 to 70 ° C and a temperature of 0.5 to 5 ° C. By preserving the time, the pretreatment of the colloidal antimony oxide particles is completed.
- • is a hydrocarbon group of C chi -C, alkyl group, vinyl group, ⁇
- Examples include a lil group and an acetyl group.
- Examples of the organosilicon compound represented by the above general formula (2) include tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, trimethylmethoxysilane. Tetraethoxysilane, and methylethoxysilane.
- Alkoxysilanes such as riboxysilane, methyltriisopropoxysilane and phenyltriethoxysilane: In addition to vinylalkoxysilanes such as vinyltriethoxysilane, vinylsilanes can also be used.
- the addition amount of the organic silicon compound of the general formula (2) is a S i 0 9 terms, S b n 0 F 1 mole contained in human Dorozoru, 0.01 to 0.8 mol, good or properly in the range of 0.2 to 5 moles It is in. If the amount added is less than 0.01 mol, the stability of the finally obtained organoantimony oxide sol is poor, and if it exceeds 0.8 mol, the conductivity of the colloidal antimony oxide particles is impaired.
- organic solvent used in the step (ii) examples include alcohols such as methanol, ethanol, isoprononol, and n-butanol, and methylsolvent solvent, ethyl chloride solvent solvent, A water-soluble or water-miscible organic solvent such as acetate can be exemplified. Above all, the boiling point is 100. Organic solvents of C or less are preferred because they can be easily replaced with photocurable monomers.
- the organosilicon compound of the general formula (2) and the organic solvent can be added to the antimony oxide hydrosol at the same time.
- the organic solvent is added first, and then the organosilicon compound of the general formula (2) is added. Either adding the compound or pre-mixing the organic solvent with the organosilicon compound of the general formula (2) and adding the mixture to the hydrosol I prefer to do that.
- the amount of organic solvent added initially desirable to moderate such that the S b 2 0 5 concentration in the sol becomes 3-20 wt% arbitrariness.
- the sol pretreated in the above step (ii) is concentrated by a known means, for example, such as evaporation or ultrafiltration, and then diluted by adding the above-mentioned water-soluble or water-miscible organic solvent. Then, by repeating the operation of concentrating the water, the water contained in the dispersion medium of the sol is replaced with an organic solvent. In this case, the amount of water remaining in the sol, to implement the above operation until the 3 wt% or less, correct preferred to adjust the S b 2 0 5 concentration in the sol in the range of 20-40 wt% .
- the organosilicon compound represented by the above-mentioned formula (1) is added to the antimony oxide sol obtained in step (iii), and the mixture is reacted at a temperature of 40 to 90 for 0.5 to 5 hours with stirring. Thereby, the surface modification of the target colloidal antimony oxide is completed.
- organosilicon compound represented by the general formula (1) examples include 7-methacryloxypropyl trimethoxysilane, 7-methacryloxy lip mouth, prill triethoxysilane, and ⁇ -methacryloxypropyl methyl. Examples include dimethoxysilane, tris (-methacryloxyshethyl) propoxysilane, and acryloxyprovir triethoxysilane.
- reaction amount is less than 0.004 mol, gelling is likely to occur when the antimony oxide sol is mixed with a photocurable monomer, and if the reaction amount exceeds 0.12 mol, the antimony oxide will be used.
- the film forming property of the sol that is, the photocurability, is reduced.
- the organic solvent used in the step (ii) needs to be water-soluble or water-miscible. If is soluble in a water-soluble or water-miscible organic solvent, it can be used provided that it is used in combination with a water-soluble or water-miscible organic solvent. The same applies to the organic solvent used in the step (iii). Rather, in this step, the organic solvent is soluble in a water-soluble or water-miscible organic solvent and in a water-soluble or water-miscible organic solvent that is sparingly soluble in water.
- the dispersion medium of the organoantimony oxide sol can be made into a two-component system consisting of a water-soluble or water-miscible organic solvent and a poorly water-soluble organic solvent. It is possible to use a one-component system consisting of only a poorly water-soluble organic solvent.
- step (i) of preparing a hydrosol of antimony oxide Si, Zn, Sn, In, P, B, Ti, Zr were added to an alkali suspension of antimony trioxide. , Hf, Ce, Fe, Te, W, and other compounds containing different elements coexist to prepare a heterosol-doped antimony oxide hydrosol, which is used in step (i).
- a heterosol-doped antimony oxide hydrosol which is used in step (i).
- the organoantimony oxide sol of the present invention thus produced can be used for exactly the same purpose as the conventional antimony oxide sol and can be used for the same purpose. Therefore, various coating compositions can be prepared using the organoantimony sol of the present invention as it is. In this case, when the conventional antimony oxide sol is mixed with a monomer or oligomer which is a main component of the coating composition, gelation is not uncommon, but the organoantimony sol of the present invention has a colloidal oxide. Since antimony is surface-modified as described above, there is no concern about such gelling.
- the dispersing medium of the organosol is generally an organic solvent, not limited to the antimony oxide sol
- the organic solvent is first removed from the coating film. It is customary to evaporate off by heating. For this reason, it is preferable that the organosol to be combined with the coating composition for articles that do not want to be heated does not substantially contain an organic solvent.
- the antimony oxide sol of the present invention can easily replace most of the dispersion medium with a photocurable monomer.
- This dispersion medium replacement can be carried out in the same manner as in the step (iii) described above.
- the resultant is subjected to a photocurable monomer or oligomer. And then By repeating the operation of concentrating this by known means such as evaporation or ultrafiltration, the amount of the organic solvent remaining in the antimony oxide sol is reduced to 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less.
- S b 2 0 with 5 concentration is 1 0-70% by weight rollers can Rukoto give organo oxide antimony Nzoru to substantially photocurable monomers or cage Goma dispersant.
- the average particle size of antimony oxide dispersed in the organosol thus obtained is preferably in the range of 5 to 100 nanometers, and preferably in the range of 10 to 50 nanometers.
- photocurable monomers or oligomers examples include monomers such as aryl acrylate, benzyl acrylate, butoxyl acrylate, butyl acrylate, and butyl acrylate.
- the antimony oxide sol according to the present invention has a dispersoid acid Since the conductivity of the antimony fluoride particles is not impaired, if this is mixed with the photocurable resin composition, a coating composition for imparting conductivity to the substrate can be obtained.
- the photocurable resin composition refers to a composition containing a monomer or an oligomer that starts polymerization by light energy such as ultraviolet light, electron beam, or radiation. Usually, these polymerization reactions are carried out in the presence of a photopolymerization initiator under ultraviolet light having low light energy.
- a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator such as isopropylthioxanthone, benzophenone, 2-ethylanthraquinone and isobutylthioxanthone is preferable.
- the amount of the organoantimony oxide sol of the present invention in the photocurable resin composition is as follows:
- the above-mentioned coating composition of the present invention is applied to a base material such as a film or a sheet made of a synthetic resin such as a polycarbonate resin or an acrylic resin, and is coated with an antistatic coating. It is suitable for forming In particular, since the coating obtained from the coating composition of the present invention is excellent in transparency and has conductivity, the coating composition has a conductive property on the light-irradiated surface of the optical disc and on the surface of Z or the recording layer. Suitable for forming a functional film.
- the coating composition of the present invention provides antistatic properties to eyeglasses, clean room windows or curtains, automobile windows, etc., or packaging materials, furniture, musical instruments, etc. It can also be used when applying. And, just in case, we add that the present invention Antimony ganoate sol can, of course, be used as a flame retardant.
- This sol was collected in 5 liters of a separable flask equipped with a stirrer and a cooler, and a mixture of 84.4 g of tetraethoxysilane and 2000 g of methyl alcohol was further added thereto. The reaction was held at C for 60 minutes. Then cooled, an ultrafiltration membrane, and concentrated to a S b 2 0 5 concentration to 20 wt%. Then, methyla While adding alcohol, 30 wt% of water and methyl alcohol as substitution and S b 2 0 5 concentration in ultrafiltration membrane to obtain a dispersion sol in an organic solvent medium moisture 0.8 wt%.
- Example 1 An antimony oxide sol shown in Table 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that cointacryloxypropyltriethoxysilane was used in place of y-methacryloxyprovirtrimethoxysilane. did.
- Example 1 was repeated in the same manner as in Example 1 except that 2-hydroxybutyl acrylate (HBA) was used instead of 2-hydroxyl acrylate (HEA). Antimony oxide sols shown in Table 1 were prepared.
- HBA 2-hydroxybutyl acrylate
- HOA 2-hydroxyl acrylate
- An antimony oxide sol shown in Table 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that 76 g of vinyltriethoxysilane was used instead of 84.4 g of tetraethoxysilane.
- Example 5 An antimony oxide sol shown in Table 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that 76 g of vinyltriethoxysilane was used instead of 84.4 g of tetraethoxysilane.
- Example 2 The same operation as in Example 1 was carried out except that 18 g of tetratraethoxysilane was used instead of 84.4 g of tetratraethoxysilane.
- Example 1 and was added three 5 wt% oxide Anchimon obtained by dissolving S b ft O r liquid l OOO g to 5 wt3 ⁇ 4 S n 0 3 ⁇ 4 of tin oxide Li um solution 100 g in the same manner, then this After diluting the solution with 1500 g of pure water, the solution was passed through a cation exchange resin and deionized to prepare a composite antimony oxide sol containing tin oxide using water as a dispersion medium. This tin oxide-containing composite antimony had a pyrochlore structure. Using the composite antimony oxide sol, the same operation as in Example 1 was performed to prepare an antimony oxide sol shown in Table 1.
- Zr02 was changed to 50 g of a 5 wt% zirconyl ammonium carbonate solution, and instead of HEA as a monomer, 2- r Using hydroxypropyl acrylate (HPA), the same procedure was used to prepare the antimony oxide sol shown in Table 1.
- HPA hydroxypropyl acrylate
- Example 1 To the deionized solution of antimony oxide obtained in the same manner as in Example 1, After the T i O 2 and was supplemented with 1% titanium chloride solution 25 g and the liquid was heated for 10 hours at a temperature of 100 to remove chlorine by anion exchange resin. And concentrated in ultrafilter membrane 19% A composite sol of antimony oxide and titanium oxide was obtained. Using the composite antimony oxide sol, the same operation as in Example 1 was performed to prepare an antimony oxide sol shown in Table 1.
- Example 9 On the same operation as in Example 1 5 wt3 ⁇ 4 B 0 3 borate de Ion solution of oxidized Anchimon obtained in the same manner as the solution 100 g Example 9 was added, antimony oxide shown in Table 1 A sol was prepared.
- antimony oxide using this methyl alcohol as a dispersion medium is used.
- 20 g of 2-hydroxyhexyl acrylate (HEA) was added to 100 g of the mixture, and the mixture was distilled under reduced pressure on a bath at 40 ° C overnight to cause gelation.
- a coating composition was prepared using the antimony oxide sol using the monomers of Examples 1 to 11 and Comparative Example 2 as a dispersion medium, and the surface resistance of the coating obtained by coating was measured. 58.3 g of each of the antimony oxide sols of Examples 1 to 11 and Comparative Example 2 was mixed with 20 g of a UV-curable urethane resin (DH-700, manufactured by Daihachi Chemical Co., Ltd.). The following coating compositions were prepared. Next, using these paints, a spinner was applied to a polycarbonate plate at 2000 rpm and cured by UV irradiation of a high-pressure mercury tamper to form a coating. The surface resistance of the obtained coating was measured. Table 1 shows the results.
- a coating similar to that of Example 11 was prepared by mixing 58.3 g of the antimony oxide sol containing the monomer of Example 1 as a dispersion medium with 20 g of a urethane-based UV-curable resin (DH700, manufactured by Daihachi Chemical). A composition was prepared. This coating composition is applied to the light transmitting surface of a polycarbonate resin optical disk substrate by a spin coating method (2,500 rpm ⁇ 5 sec), and immediately cured by irradiation with ultraviolet light from a high-pressure mercury lamp. A conductive film was formed on the disk substrate surface. Table 2 shows the properties of the obtained optical disc substrate.
- the optical disc substrate of the present invention has excellent transparency and low surface resistance.
- Example 13 a conductive film was formed on the surface of the optical disc substrate in the same manner as in Example 13 except that an antimony oxide sol using the monomer of Example 3 as a dispersion medium and an acryl resin optical disc substrate were used. A functional film was formed. Table 2 shows the properties of the obtained optical disc substrate. Table 2
- Example 14 3 2 X 10 12 90 H 3 Water 1... Measured with Heyres evening (Mitsubishi Yuka Corporation). Water 2: Measured by Haze Computer 1 (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) Measured in accordance with JIS-K-5400. [Effect]
- the organoantimony oxide sol of the present invention can be directly blended into the photocurable resin composition without using a solvent.
- the coating composition obtained by applying the coating composition The film has conductivity.
- the coating composition in which the organoantimony oxide sol containing the photocurable resin monomer of the present invention as a dispersion medium is blended with the photocurable resin composition does not need to evaporate the organic solvent, so that the above facilities become unnecessary. It can also be applied to substrates that cannot be heated
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Description
ft
オルガノ酸化アンチモンゾル及びその
ゾルを含有する コ ーティ ング組成物
[技術分野]
本発明は光硬化性樹脂のモノマ—を分散媒とするオルガノ酸化 アンチモンゾルと、 そのゾルを含有するコ—ティ ング組成物に関 する。
[背景技術]
酸化アンチモン拉子は難燃性物質であることは周知であり、 ま たパイ口クロア構造を有する酸化アンチモンが導電性物質である ことも公知である (日本化学会誌、 第 4号 ( 1 9 8 3年発行) 、 第 488 頁参照) 。
従来、 酸化アンチモン粒子の用途と して、 その難燃性が専ら注 目され、 酸化アンチモン粒子を配合したコ ーティ ング組成物を、 プラスチッ ク、 織物、 その他の物品の表面に塗布して、 これに難 燃性被膜を形成させることが実用化されている。
酸化アンチモン個有の性質を利用して、 難燃性被膜を形成する 場合にあっても、 また、 導電性被膜を形成する場合にあっても、 酸化ァンチモン粒子が配合されたコ—ティ ング組成物を調製する に際しては、 酸化アンチモン粒子がコロイ ド液と して、 つま り、 酸化ァンチモンゾルと して用意されていることが好ま しい。
酸化アンチモンゾルを記載した公知文献のなかにあって、 特開 昭 6 0 — 2 5 1 1 2 9号公報には、 酸化アンチモンの 0 . 5 〜25重 量%に相当する量の、 下式で示される有機珪素化合物にて、 分散
質であるコロイダル酸化ァンチモンの表面を改質した p H 2. 5 〜 12のヒ ドロゾルが記載されている。
R 1
R - S i - R
0 3
(式中、 Rはァミ ノ基、 メルカプト基、 メ 夕ク リロキシ基又はハ ロゲン原子を含まない( 丄 〜(: 8 の炭化水素基、 R 1 及び R 2 は 〜 C 4 の炭化水素基、 R 3 は( 丄 〜 C 4 のアルキル基、 アル コキシ置換アルキル基又はァセチル基を示す)
上記した酸化アンチモンのヒ ドロゾルは、 アルコールゃケ ト ン 等の極普通の有機溶媒には、 一応滴足できる相溶性を備えている《 しかし、 これ以外の常温で液状の有機化合物、 例えば、 光硬化性 榭脂を構成するビニル系モノマ ー又はオリゴマー (以下これを光 硬化性モノマ —又はオリ ゴマ—と もいう) に、 このヒ ドロゾルが 相溶するのは、 分散質である酸化ァンチモンが比較的多量の上記 有機珪素化合物にて表面改質されている場合に限られ、 表面改質 に寄与している有機珪素化合物が比較的少ない酸化アンチモンゾ ルは、 これをビニル系モノマー又はオリ ゴマーに混合すると、 ゲ ル化してしまう不都合がある。 そして、 この不都合を解消するた めに、 上記の有機珪素化合物を比較的多量に使用して分散質の表 面改質を図った場合には、 酸化ァンチモン本来の導電性が損なわ れてしまう問題がある。
一方、 特開昭 6 2 - 9 5 1 3 0号公報には、 分散媒の 80モル% 以上が、 紫外線、 電子線、 7線、 X線等の光エネルギーにて硬化 するモノマーで占められ、 分散質がシリ カ、 アルミ ナ又は酸化鉄 であるオルガノ ゾルが記載されている。 しかし、 シリカ、 アルミ ナ又は酸化鉄に代えて、 酸化ァンチモンを分散質としたオルガノ ゾルは、 この公報に全く教示されておらず、 事実、 当該公報が教 える方法では、 光硬化性モノマーが分散媒であり、 酸化アンチモ ンが分散質であるオルガノゾルを調製することができない。
ちなみに、 上記の公報が教えるオルガノゾルの製法は、 シリ カ 又はアルミ ナのヒ ドロゾル又はアルコールを分散媒とするオルガ ノゾルを出発原料とし、 これに光硬化性モノマーを混合した後、 減圧下に水又はアルコ -ルを留去させてゾルの分散媒を光硬化性 モノマーに置換させることからなる。 従って、 この方法を利用し て光硬化性モノマ一を分散媒とする酸化ァンチモンのオルガノゾ ルを調製するためには、 出発原料となる酸化アンチモンのヒ ドロ ゾル又はアルコ一ル等を分散媒とするオルガノ ゾルを用意しなけ ればならない。 しかし、 光硬化性モノマーと均一に混和する酸化 アンチモンのオルガノ ゾルは、 未だ開発されていない。 そして、 ヒ ドロゾルについて言えば、 従来知られている酸化ァンチモンヒ ド口ゾルのなかにあって、 光硬化性モノマ―と均一に混和するの は、 既述した特開昭 6 0 - 2 5 1 1 2 9号公報に見られる如く 、 酸化アンチモンの導電性が犠牲になる程の多量の有機珪素化合物 で酸化アンチ乇ンの表面を改質したヒ ドロゾルしか現存しない。 従って、 従来技術では、 光硬化性モノマーを分散媒とし、 しか
も導電性が損なわれていない酸化ァンチモンを分散質とするオル ガノゾルを調製することができない。
[発明の開示]
本発明の目的の一つは、 光硬化性モノマー又はオリゴマーに親 密に混和する有機溶媒を分散媒とし、 これに酸化ァンチモンをそ の導電性が実質的に損なわれていない状態で分散させてなるオル ガノ酸化アンチモンゾルを提供することにある。
本発明の別の目的は、 ゾルの分散媒の大部分が光硬化性モノマ 一又はオリゴマーからなり、 分散質が導電性を保持したコロイダ ル酸化ァンチモンからなるオルガノ酸化ァンチモンゾルを提供す る とにある。
本発明の他の目的は、 上記したオルガノ酸化アンチモンゾルを 含有するコ -ティ ング組成物を提供することにある。
本発明のさらに別の目的は、 上記したオルガノ酸化ァンチモン ゾル含有コーティ ング組成物の被膜を、 備えた合成樹脂成型品を 提供することにある。
本発明に係るオルガノ酸化ァンチモンゾルは、 パイ口クロア構 造を有するコロイダル酸化アンチモン粒子を分散質とし、 有機溶 媒を分散媒とするオルガノ酸化アンチモンゾルに於いて、 前記の コロイダル酸化アンチモン粒子が、 下記の一般式(1 ) で示される 有機珪素化合物で処理されていることを特徵とする。
R
(R2 0) ; - S i - [R¾ - 0 - C - C = C H 2 ]」 4一 k (1)
R3 - 0
J
式中、 R2 は水素又は(:丄 〜C5 のアルキル基、
R 8 は水素又は 〜C のアルキル基、
R は(: 〜Cn のアルキレン基、
R は水素又は 〜C8 のアルキル基、
i は 1〜 3の整数、
j は 0〜 2の整数、
kは 1〜3の整数で、 i + j に等しい 本発明のオルガノ酸化ァンチモンゾルに於いて、 その分散媒は 通常のアルコ -ル、 ケ ト ン、 脂肪族炭化水素、 脂環族炭化水素、 芳香族炭化水素で例示される通常の有機溶媒であつて差し支えな いが、 光硬化性モノマ—であることが好ま しい。
また、 分散質であるコロイダル酸化アンチモン粒子は、 酸化ァ ンチモンがパイロクロア構造を有している限り、 純然たる酸化ァ ンチモンであることを必須と しない。 従って、 パイ ロクロア構造 を有する酸化アンチモンを主体と し、 これに珪素、 亜鉛、 錫、 ィ ンジゥム、 リ ン、 ボロン、 チタニウム、 ジルコニウム、 ハフニゥ ム、 セレン、 鉄、 テルル、 タ ンダステン等の異種元素を ドープさ せた複合酸化アンチモン粒子が、 本発明で言う コロイダル酸化ァ ンチモン粒子に包含される。
進んで、 本発明に係るオルガノ酸化ァンチモンゾルの製造法を その一例をもって説明すると、 次の通りである。
(0 酸化アンチモンのヒ ドロゾルの調製
三酸化ァンチモンとアルカ リ物質とを 1 : 2.0 〜2.5 のモル比 で水に分散させて、 三酸化ァンチモンのアルカリ性懸濁液を調製 する。 この懸濁液の三酸化アンチモン濃度は、 3〜15重量%の範 囲とすることが好ま しい。 この懸蜀液を 50°C以上の温度に加熱し、 これに濃度 5〜 35重量%の過酸化水素溶液を、 懸蜀液中の三酸化 アンチモン 1モル当り過酸化水素 0.2 モル Zhr以下の添加速度で、 滴下して反応させる。 得られた反応混合液物を陽ィォン交換樹脂 に通してアリカリイオンを除去した後、 加熱して反応混合物をゾ ル化し、 次いでこれを限外濾過膜で処理することにより、 酸化ァ ンチモンのヒ ドロゾル (濃度 5〜40重量%) を得る。
(ii)コロイダル酸化ァンチモン粒子の予備処理
酸化ァンチモンのヒ ドロゾルに、 下記の一般式(2) で示される 有機珪素化合物と、 低級アルコールを代表例とする有機溶媒とを 添加し、 攪拌しながら 30〜70°Cの温度で 0.5 〜5時間保持するこ とにより、 コロイダル酸化アンチモン粒子の予備処理は完了する。
Rn - S i - (0 R1 ) m …(2) 式中、 Rは 〜 C 6 の炭化水素基、 R1 は(:丄 〜 C。 のアル キル基、 nは 0〜3の整数、 mは 4一 nの整数を示す。
• C χ 〜C の炭化水素基と しては、 アルキル基、 ビニル基、 ァ
リ ル基、 ァセチル基などが挙げられる。 上記一般式(2) の有機珪 素化合物と しては、 テ トラメ トキシシラ ン、 メ チル ト リ メ トキシ シラ ン、 ジメ チルジメ トキシシラ ン、 ト リ メ チルメ トキシシラ ン. テ トラエ トキシシラ ン、 メ チル ト リ ブ トキシシラ ン、 メ チル ト リ イ ソプロボキシシラ ン、 フエニル ト リエ トキシシラ ン等のアルコ キシシラ ン : ビニル ト リエ トキシシラ ン等のビニルアルコキシシ ラ ンの外、 ビニルシラ ン等も使用可能である。
一般式(2) の有機珪素化合物の添加量は、 S i 09 換算で、 ヒ ドロゾルに含まれる S b n 0 F 1 モル当り、 0.01〜0.8 モル、 好 ま しく は 0.2 〜 5 モルの範囲にある。 添加量が 0.01モル未満で あると、 最終的に得られるオルガノ酸化ァンチモンゾルの安定性 が悪く、 また 0.8 モルを上回る場合は、 コロイダル酸化アンチモ ン粒子の導電性が損なわれる。
工程(ii)で使用される有機溶媒と しては、 メ タノ ール、 ェタノ —ル、 イ ソプロノ ノ —ル、 n —ブタノ ール等のアルコール類の外, メチルセ口ソルブ、 ェチルセ口ソルブ、 アセ ト ン等の水溶性又は 水混和性有機溶媒を例示することができる。 なかでも、 沸点 100 。C以下の有機溶媒は、 光硬化性モノマ一と置き換えが容易である ので好ま しい。
一般式(2) の有機珪素化合物と有機溶媒とは、 酸化アンチモン のヒ ドロゾルに同時に添加することもできるが、 好ま しく は、 ま ず有機溶媒を添加し、 次いで一般式(2) の有機珪素化合物を添加 するか、 あるいは有機溶媒と一般式(2) の有機珪素化合物とを予 め混合しておき、 その混合物をヒ ドロゾルに添加する手順を採用
することが好ま しい。 そして、 前者の手順を採用する場合には、 当初添加する有機溶媒の量を、 ゾル中の S b 2 0 5 濃度が 3〜 20 重量%になるよう加減することが望ま しい。
(i i i) ゾルの分散媒置換
上記の工程(i i)で予備処理されたゾルを公知の手段、 例えば、 蒸発、 限外濾過等の手段で濃縮した後、 これに上記した水溶性又 は水混和性有機溶媒を加えて希釈し、 次いでこれを濃縮する操作 を綠り返すことによって、 ゾルの分散媒に含まれる水を有機溶媒 に置換する。 この場合、 ゾルに残存する水の量が、 3重量%以下 になるまで上記の操作を実施して、 ゾルの S b 2 0 5 濃度を 20〜 40重量%の範囲に調整することが好ま しい。
(i v)コロイダル酸化ァンチモン粒子の表面改質
工程(i i i ) で得られたオルガノ酸化アンチモンゾルに、 前掲の —般式(1) で示される有機珪素化合物を添加し、 攪拌しながら 40 〜90での温度で 0. 5 〜 5時間反応させることにより、 目的とする コロイダル酸化ァンチモンの表面改質は完了する。
一般式(1) の有機珪素化合物を具体的に例示すると、 7—メ タ ク リ ロキシプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン、 7 —メ タク リ ロキシプ 口 ピル 卜 リエ トキシシラ ン、 ァ 一メ タク リ ロキシプロ ピルメチル ジメ トキシシラン、 ト リ ス ( —メ タク リ ロキシェチル) プロボ キシシラ ン、 ァ ーァク リ ロキシプロ ビル ト リエ トキシシラ ン等を 挙げることができる。
コロイダル酸化アンチモンに対する一般式(1) の有機珪素化合 物の反応量は、 オルガノ ゾルに含まれる S b 2 05 1モル当り、 S i 02 換算で、 0.004 〜0,12モル、 好ま しく は 0.03〜0.8 モル の範囲で選ばれる。 反応量が 0.004 モル未満であると、 当該オル ガノ酸化アンチモンゾルを光硬化性モノマ—と混合した際に、 ゲ ル化が生じ易く、 反応量が 0.12モルを越えた場合は、 オルガノ酸 化アンチモンゾルの分散媒を光硬化性モノマ一に置換させること で得られるゾルの成膜性、 すなわち光硬化性が低下する。
以上説明した工程(i) 〜(iv)に於いて、 工程(ii)で使用する有 機溶媒は、 水溶性又は水混和性であることを要するが、 水に難溶 な有機溶媒も、 そのものが水溶性又は水混和性有機溶媒に可溶な らば、 水溶性又は水混和性有機溶媒と併用することを条件と して. これを使用することができる。 工程(iii) の使用する有機溶媒も 同様であって、 むしろ、 この工程では、 水溶性又は水混和性有機 溶媒と、 水には難溶であるが、 水溶性又は水混和性有機溶媒に可 溶な有機溶媒を、 意図的に使用することにより、 オルガノ酸化ァ ンチモンゾルの分散媒を、 水溶性又は水混和性有機溶媒と水難溶 性有機溶媒との 2成分系にすることができ、 また実質的に水難溶 性有機溶媒だけからなる 1成分系にすることが可能である。
尚、 酸化アンチモンのヒ ドロゾルを調製する工程(i) に於いて, 三酸化アンチモンのアルカ リ懸濁液に、 S i , Z n , S n , I n , P , B , T i , Z r , H f , C e , F e , T e , W等の異種元素 を含有する化合物を共存させて異種元素が ドープした酸化アンチ モンのヒ ドロゾルを調製し、 これを用いて工程(i) を開始すれば,
異種元素がド―プした酸化アンチモンを分散質とするオルガノゾ ルを調製することができることは勿論である。
こう して製造される本発明のオルガノ酸化ァンチモンゾルは、 従来のオルガノ酸化アンチモンゾルと全く 同じ使用目的で、 同じ 用途に使用することができる。 従って、 本発明のオルガノ酸化ァ ンチモンゾルをそのまま使用して各種のコ一ティ ング組成物を調 合することができる。 この場合、 従来のオルガノ酸化アンチモン ゾルは、 これをコーティ ング組成物の主要成分であるモノマー又 はオリゴマーに配合すると、 ゲル化が生ずることが珍しく ないが、 本発明のオルガノ酸化ァンチモンゾルは、 コロイダル酸化ァンチ モンが上記した通り表面改質されているため、 そう したゲル化の 心配がない。
ところで、 オルガノ酸化アンチモンゾルに限らず、 一般にオル ガノゾルの分散媒が有機溶媒である場合、 そのオルガノゾルを配 合したコ—ティ ング組成物の被膜を形成させるに際しては、 塗膜 からまず有機溶媒を加熱によつて蒸発除去するのが通例である。 このため、 加熱を嫌う物品を対象とするコーティ ング組成物に配 合するオルガノ ゾルは、 有機溶媒を実質的に含んでいないことが 好ま しい。
然るに、 本発明のオルガノ酸化アンチモンゾルは、 その分散媒 の大部分を光硬化性モノマーに容易に置換させることができる。 この分散媒置換は、 先に述べた工程(i i i ) と同様な手法で行う こ とができ、 工程(i v)で得られたオルガノ酸化アンチモンゾルを濃 縮後、 これを光硬化性モノマー又はオリゴマーで希釈し、 次いで
蒸発又は限外濾過等の公知の手段でこれを濃縮する操作を繰り返 すことによって、 オルガノ酸化アンチモンゾルに残存する有機溶 媒の量が 20重量%以下、 好ま しく は 1 0重量%以下で、 S b 2 0 5 濃度が 1 0〜70重量%であると ころの、 実質的に光硬化性モノマー 又はオリ ゴマーを分散媒とするオルガノ酸化アンチモ ンゾルを得 ることができる。 尚、 こ う して得られるオルガノ ゾルに分散する 酸化アンチモンの平均粒子径は、 5〜 1 0 0 ナノ メ ー トル、 好ま し く は 1 0〜50ナノ メ ー トルの範囲にある ことが望ま しい。
上記の分散媒置換で使用可能な光硬化性モノマ -又はオリ ゴマ —を、 モノマーで例示すると、 ァ リ ルアタ リ レー ト、 ベンジルァ ク リ レー 卜、 ブ トキシェチルァク リ レ一 ト、 ブチルァク リ レー 卜 シク ロへキシルァク リ レー ト、 エポキシァク リ レー ト、 ェチルジ エチレンク リ コールァク リ レー ト、 グリセロールメ タァク リ レー ト、 1 , 6 —へキサンジォ一ルジァク リ レ一 ト、 2 — ヒ ドロキシ ェチルァク リ レー ト、 2— ヒ ドロキシプロ ピルアタ リ レー ト、 2 — ヒ ドロキシプロ ピルメ タァク リ レー ト、 イ ンデシルァク リ レー ト、 ラウ リルァク リ レー ト、 2—メ トキシェチルァク リ レー ト、 ポリ ブタジエンァク リ レー ト、 ポ リエチレングリ コールジァク リ レー ト、 ステア リルァク リ レー ト、 テ トラ ヒ ドロフロフ リ ノレアク リ レー ト、 ウ レタ ンァク リ レー ト及びこれらの混合物が挙げられ る外、 1 983年 1 2月 1 0日に㈱総合技術出版から発行された材料技術 研究協会編、 プラ スチ ッ クの塗装、 印刷便覧、 第 70〜8 3頁記載の 各種モノマーを挙げるこ とができる。
本発明のオルガノ酸化アンチモンゾルは、 その分散質である酸
化ァンチモン粒子の導電性が損なわれていないので、 これを光硬 化性樹脂組成物に配合すれば、 基材に導電性を付与するためのコ 一ティ ング組成物を得ることができる。 こ こで、 光硬化性榭脂組 成物とは、 紫外線、 電子線、 放射線等の光エネルギーによって重 合を開始するモノマー又はォリゴマーを含有する組成物を言う。 通常、 これらの重合反応は、 光エネルギーの低い紫外線などでは、 光重合開始剤の存在下に行なわれる。 本発明で使用する光重合開 始剤と しては、 イ ソプロ ピルチォキサン ト ン、 ベンゾフエノ ン、 2—ェチルアン トラキノ ン、 イソブチルチオォキサン ト ン等の水 素引き抜き型光重合開始剤が好ま しい。 光硬化性樹脂組成物に対 する本発明のオルガノ 酸化ァ ンチモ ン ゾルの配合量は、
S b 9 0 r に換算して 10〜60重量%、 好ま しく は 20〜50重量%の 範囲で選ばれる。
上記した本発明のコーティ ング組成物は、 ポリカーボネー ト樹 脂、 アク リル榭脂等の合成尉脂で製造されているフィ ルム、 シー ト等の基材に塗布し、 これに帯電防止性被膜を形成させるのに好 適である。 特に、 本発明のコ ーティ ング組成物から得られる被膜 は、 透明性に優れ、 導電性を備えているので、 このコ ーティ ング 組成物は光ディ スクの光照射面及び Z又は記録層面に導電性被膜 を形成させるのに適している。
このほか、 本発明のコーティ ング組成物は、 メガネ、 ク リ —ン ルームの窓又はカーテン、 自動車の窓等に帯電防止膜を施す場台、 あるいは、 包装材料、 家具、 楽器等に帯電防止を施す際にも使用 することができる。 そして、 念のため付言すれば、 本発明のオル
ガノ酸化アンチモンゾルは、 勿論、 難燃化剤と して使用すること ができる。
[発明を実施するための最良の形態]
実施例 1
純水 1800 gに可性カ リ (旭硝子製純度 85wt¾ ) 57gを溶解した 溶液中に 酸化アンチモン (日本精鉱製 A T 0 X— R純度 99wt¾) 111 gを懸濁させた。 この懸濁液を 100 でに加熱し、 次いで、 過 酸化水素 (林純薬製、 特級、 純度 35wt¾ ) 58.4gを純水 22ϋ gで 希釈した水溶液を 14時間で添加し (添加速度 0.06inole/hr ) 三酸 化ァンチ乇ンを溶解した。
冷却後、 得られた溶液から lOOOgを取り、 この溶液を純水 1500 gで希釈した後、 陽イオン交換樹脂 (三菱化成製 p K - 2 1 6 ) に通して脱ィォンを行つた。
脱イオンした溶液を温度 10ϋ で 10時間加熱した後、 限外膜で 濃縮して 19vtX の酸化アンチモンゾルを調製した。 そのゾルのコ ロイ ド粒子径を電子顕微鏡法で 100 個の粒子について測定した結 果、 平均粒子径は 15ηιηであった。 このゾルの一部を乾燥して X線 回折分析を行った結果、 酸化ァンチモンはパイロクロア構造を有 していた。
このゾルを撹拌機と冷却器付きセパラブルフラスコ 5 リ ッ トル に 2000 採取し、 この中にさらにテ トラエ トキシシラ ン 84.4 gと メチルアルコール 2000 gを混合したものを添加し 50。Cにて 60分間 保持 して反応させた。 次いで冷却 した後、 限外濾過膜で、 S b 2 05 濃度と して 20重量%まで濃縮した。 その後、 メチルァ
ルコールを添加しながら、 限外膜にて水とメチルアルコールを置 換し S b 2 0 5 濃度として 30重量%で、 水分 0. 8 重量%の有機溶 媒に分散したゾルを得た。
次にこのメチルアルコール分散ゾル 100 gに 7—メタク リ ロキ シプロ ピルト リ メ トキシシラ ン (信越化学製 K B M - 5 0 3 ) 3. 6 gを添加し、 80でにて 5分間保持して反応させた。 その後冷 却し、 このゾルに 2—ヒ ドロキシェチルァク リ レー ト ( H E A ) 20 gを添加 し、 40でのウ ォーターバス上にて減圧蒸留して、 S b 0 0 r 濃度 46重量%のモノマー分散ァンチモンゾルを調製し た。 酸化アンチモンゾルの性状を第 1表に示す。
実施例 2
実施例 1において、 y—メタク リ ロキシプロビルト リメ トキシ シランの代わりに、 ァーメ タク リ ロキシプロピルト リエ トキシシ ランを用いた以外は、 同様な操作をして第 1表に示す酸化アンチ モンゾルを調製した。
実施例 3
実施例 1において、 2—ヒ ドロキシェチルァク リ レー ト (H E A ) の代わりに 2—ヒ ドロキシブチルァク リ レー ト (H B A ) を 用いた以外は、 同様な操作をして、 第 1表に示す酸化アンチモン ゾルを調製した。
実施例 4
実施例 1において、 テトラエ トキシシラン 84.4 gの代わりにビ ニルト リエトキシシラン 76 gとした以外は同様な操作をして、 第 1表に示す酸化アンチモンゾルを調製した。
実施例 5
実施例 1 において、 テ トラエ トキシシラ ン 84. 4 gの代わり にテ トラエ トキシシラ ン 18 g と した以外は同様な操作をした。
実施例 6
実施例 1 と同様にして三酸化ァンチモンを溶解して得た 5 wt% S b ft O r 液 l OOO gに 5 wt¾ S n 0 ¾ のスズ酸カ リ ウム溶液 100 gを添加し、 次いでこの溶液を純水 1500 gで希釈した後、 陽ィォ ン交換樹脂に通して脱イオンを行って、 水を分散媒と し酸化スズ を含有する複合酸化アンチモンゾルを調製した。 なお、 この酸化 スズ含有複合酸化ァンチモンはパイロクロア構造を有していた。 この複合酸化アンチモンゾルを用いて、 実施例 1 と同様な操作を して第 1表に示す酸化アンチモンゾルを調製した。
実施例 7
実施例 6のスズ酸カリ ゥムの代わりに、 W 0 3 と して 5 wt% の タ ングステン酸ァンモニゥム溶液 50 gと した以外は同様な操作を して、 第 1表に示す酸化アンチモンゾルを調製した。
実施例 8
実施例 6のスズ酸力リ ゥムの代わりに、 Z r 0 2 と して 5 wt% の炭酸ジルコニルァンモニゥム溶液 50 g と した以外に、 モノマー と して H E Aの代わりに 2— ヒ ドロキシプロ ピルァク リ レー 卜 ( H P A ) を用い、 同様な操作をして第 1表に示す酸化アンチモ ンゾルを調製した。
実施例 9
実施例 1 と同様にして得た酸化ア ンチモ ンの脱イオ ン溶液に
T i O 2と して 1 %の塩化チタン溶液 25 gを添加した液を温度 100 でで 10時間加熱した後、 陰イオン交換樹脂にて塩素を除去し. 限外膜で濃縮して 19%の酸化ァンチモンと酸化チタンの複合ゾル を得た。 この複合酸化アンチモンゾルを用いて、 実施例 1 と同様 な操作をして第 1表に示す酸化アンチモンゾルを調製した。
実施例 1 0
実施例 1 と同様にして得た酸化アンチモンの脱ィォン溶液に 5 wtX P 2 O r のリ ン酸溶液 100 を添加して実施例 9と同様な操 作をして第 1表に示す酸化アンチモンゾルを調製した。 なお、 モ ノマ一は H E Aの代わりに H P Aを用いた。
実施例 1 1
実施例 1 と同様にして得た酸化ァンチモンの脱ィォン溶液に 5 wt¾ B 0 3 のホウ酸溶液 100 gを添加して実施例 9と同様な操 作をして、 第 1表に示す酸化アンチモンゾルを調製した。
比較例 1
実施例 1で調製した水を分散媒とする酸化アンチモンゾル 2000 gを撹拌機と冷却器の付いたセパラブルフラスコに入れ、 次いで この中に、 テ卜ラエ トキシシラン 84.4 gとメチルアルコール 2000 Sを混合したものを添加し、 50でにて 60分間保持して反応させた。 次いで冷却した後、 限外濾過膜で S b„ 0 5 濃度として 20w t % まで濃縮した。 その後、 メチルアルコールを添加しながら限外膜 にて水とメチルアルコールを置換し、 S b 2 0 5 濃度 30wt¾ の酸 化ァンチモンゾルを調製した。
次に、 このメチルアルコールを分散媒とする酸化ァンチモンゾ
ル 100 gに 2— ヒ ドロキシェチルァク リ レー ト (H E A ) 20 gを 添加し、 40でのゥォ一夕バス上にて減圧蒸留したところゲル化を 生じた。
比較例 2
実施例 1で調製した水を分散媒とする酸化ァンチモンゾル 2000 gを撹拌機と冷却器の付いたセパラブルフラスコに入れ、 次いで この中に、 テ トラエ トキシシラ ン 250 gとメチルアルコール 2000 gを混合したものを添加し、 50でにて 60分間保持して反応させた < 次いで冷却した後、 限外滹過膜で S b 2 0 5 濃度と して 20wt¾! ま で濃縮した。 その後、 メチルアルコールを添加しながら限外膜に て水とメチルアルコールを置換し、 S b 2 0 5 濃度 30wtX の酸化 アンチモンゾルを調製した。
次に、 このメチルアルコールを分散媒とする酸化ァンチモンゾ ル 100 gに 2— ヒ ドロキシェチルァク リ レー ト (H E A ) 20 gを 添加し、 40でのゥォ一夕バス上にて減圧蒸留して、 S b„ 0 P 濃 度 50wt¾ のモノマー分散アンチモンゾルを調製した。 酸化アンチ モンゾルの性状を第 1表に示す。
実施例 1 2
実施例 1〜 1 1及び比較例 2のモノマーを分散媒とする酸化ァ ンチモンゾルを使用して、 コーティ ング組成物を作成し、 塗布し て得られた被膜の表面抵抗値を測定した。 実施例 1〜 1 1及び比 較例 2のそれぞれの酸化ァンチモンゾル 58 . 3 gをゥ レタ ン系紫外 線硬化樹脂 (大八化学製 D H— 7 0 0 ) 20 gと混合して、 それぞ れのコ一ティ ング組成物を調製した。
次に、 これらの塗料を用いて、 ポリカーボネー ト板に 2000 rpm にてスピンナー塗布し、 高圧水銀タンプの紫外線照射にて硬化さ せて、 被膜を形成した。 得られた被膜の表面抵抗値を測定した。 その結果を第 1表に示す。
実施例 1 3
実施例 1のモノ マーを分散媒とする酸化ァンチモ ンゾル 58.3 g をウ レタ ン系紫外線硬化樹脂 (大八化学製 DH 7 00 ) 20 gと 混合して実施例 1 1と同様のコ一ティ ング組成物を調製した。
このコーティ ング組成物をポリカーボネー ト樹脂の光ディ スク 基板の光透過面にスビンコ一ト法 ( 2500rpm X 5 sec ) で塗布し た後、 直ちに高圧水銀ランプの紫外線照射して硬化させて、 光デ ィ スク基板表面に導電性被膜を形成した。 得られた光ディ スク基 板の性状を第 2表に示す。
本発明の光ディ スク基板は透明性に優れ、 表面抵抗も小さい。 実施例 14
実施例 1 3において、 実施例 3のモノマーを分散媒とする酸化 アンチモンゾルと、 アタ リル樹脂の光ディ スク基板を使用した以 外は実施例 1 3と同様にして光ディ スク基板表面に導電性被膜を 形成した。 得られた光ディ スク基板の性状を第 2表に示す。 第 2表
被膜の厚さ 表面抵抗値 全光線透過率
(u rn) (Ω/D) * (96)
硬鉛
実施例 13 3 I X 1012 90 度筆 H
実施例 14 3 2 X 1012 90 H 3 水 1…ハイレス夕 (三菱油化㈱製) で測定した。 水 2…ヘーズコンピュータ一 (スガ試験機㈱製) で測定した … J I S— K— 54 0 0に従って剁定した。 [効 果]
本発明のオルガノ酸化ァンチモンゾル、 待に光硬化性樹脂のモ ノマーを分散媒とするオルガノ酸化ァンチモンゾルは、 光硬化性 樹脂組成物に溶媒を用いずに直接配合することが可能であり、 ま た、 配合して得られるコ一ティ ング組成物を塗布して得られる被
膜は導電性を有する。
従来の有機溶媒を分散媒とする酸化ァンチモンゾルを、 光硬化 性樹脂組成物に配合したコーティ ング組成物は、 硬化させるに際 し、 紫外線などの光を照射するとともに加熱して有機溶媒を蒸発 させる必要があった。 そのため、 加熱、 排気、 防爆などの設備を 必要とする外、 加熱することの出来ない基材への塗布が不可能で あった 0
本発明の光硬化性樹脂モノマーを分散媒とするオルガノ酸化ァ ンチモンゾルを光硬化性樹脂組成物に配合したコ ーティ ング組成 物は、 有機溶媒を蒸発させる必要がないので、 上記の設備は不要 となり、 また、 加熱することが出来ない基材への塗布も可能であ る
Claims
請求の範囲 パイロクロア構造を有するコロイダル酸化ァンチモン粒子 と、 有機分散媒からなるオルガノ酸化ァンチモンゾルに於い て、 コロイダル酸化アンチモン粒子が下記の一般式(1) で示 される有機珪素化合物で表面改質されていることを特徴とす るオルガノ酸化ァンチモンゾル。
R5
( 0) 一 S i - [R4 - 0 - C - C = C H2 ] 4_', (1)
Rd , 0
J
式中、 は水素又は(:丄 〜C5 のアルキル基、
Rs は水素又は 〜C5 のアルキル基、
R4 は(:丄 〜C8 のアルキレン基、
R° は水素又は(:丄 〜C8 のアルキル基、
i は 1〜 3の整数、
j は 0〜 2の整数、
kは 1〜3の整数で、 i + j に等しい
有機分散媒が光硬化性モノマー又はォリゴマ —であること を特徴とする請求の範囲 1記載のオルガノ酸化ァンチモンゾ ル。
請求の範囲 1又は 2記載のオルガノ酸化ァンチモンゾルを 含有する光硬化性コーティ ング組成物。
請求の範囲 3記載のコ -ティ ング組成物を合成樹脂成形体 表面に塗布して得られる導電性被膜を有する合成樹脂成形体, 請求の範囲 3記載のコ —ティ ング組成物から得られる導電 性被膜を備えた光ディ スク。
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| US08/137,140 US5785892A (en) | 1991-04-24 | 1992-04-24 | Organo-antimony oxide sols and coating compositions thereof |
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| JP3/122303 | 1991-04-24 |
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