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TWI895616B - 脫模薄膜及成形品之製造方法 - Google Patents

脫模薄膜及成形品之製造方法

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TWI895616B
TWI895616B TW111121137A TW111121137A TWI895616B TW I895616 B TWI895616 B TW I895616B TW 111121137 A TW111121137 A TW 111121137A TW 111121137 A TW111121137 A TW 111121137A TW I895616 B TWI895616 B TW I895616B
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TW
Taiwan
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release film
release
layer
film
thermoplastic resin
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TW111121137A
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Inventor
橋本明徳
Original Assignee
日商住友電木股份有限公司
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Abstract

本發明的脫模薄膜10具有由第1熱塑性樹脂組成物構成之第1脫模層1及由第3熱塑性樹脂組成物構成之緩衝層3，脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數為1.00MPa以下。又，緩衝層3在150℃下的儲存彈性模數為9.0MPa以上為較佳。

Description

脫模薄膜及成形品之製造方法
本發明係有關一種脫模薄膜及成形品之製造方法。
近年來，經由覆蓋膜所具備之接著劑層，藉由加熱壓製將覆蓋膜接著於電路露出之撓性電路基板而形成撓性印刷電路基板亦即積層體時，通常使用脫模薄膜。
在使用了這樣的脫模薄膜之撓性印刷電路基板、換言之形成撓性電路基板與覆蓋膜的積層體時，對脫模薄膜要求具有2個特性、亦即填埋性與脫模性這兩者。
詳細而言，首先，藉由在撓性電路基板積層覆蓋膜，在撓性印刷電路基板形成凹部，但是要求脫模薄膜對該凹部發揮優異之填埋性。
更具體而言，經由覆蓋膜所具備之接著劑層，對撓性電路基板積層覆蓋膜。該積層時，要求脫模薄膜對凹部發揮優異之填埋性，抑制接著劑滲入凹部內。
又，如上所述般在撓性電路基板上積層覆蓋膜之後，要求從所形成之撓性印刷電路基板剝離具有優異之脫模性的脫模薄膜。
更具體而言，使脫模薄膜從所形成之撓性印刷電路基板剝離時，要求脫模薄膜對撓性印刷電路基板發揮優異之脫模性，抑制在撓性印刷電路基板中發生伸長及斷裂。
為了製成兼具如上所述的2個特性(填埋性及脫模性)之脫模薄膜，例如，在專利文獻1中，提出了具有作為脫模層的聚酯系彈性體層和作為緩衝層的聚酯層之脫模薄膜。
在該脫模薄膜中，在以脫模層與撓性印刷電路基板接觸的方式配置之狀態下，脫模薄膜填埋於凹部。藉此，對脫模薄膜賦予了填埋性，但是從抑制接著劑滲入凹部內之觀點考慮，實際上要求開發對凹部發揮更優異之填埋性之脫模薄膜。
又，針對這樣的問題，在如下情況等亦同樣地產生：藉由設為對由含有半固化狀態的熱固性樹脂之材料形成之對象物黏附了脫模薄膜之狀態，並在該狀態下使熱固性樹脂固化，使用對象物製造具備凹部之成形品。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2011-88351號公報
[發明所欲解決之課題]
本發明的目的在於提供一種能夠對凹部發揮優異之填埋性之脫模薄膜及使用該脫模薄膜之成形品之製造方法。 [解決課題之技術手段]
這樣的目的由下述(1)~(14)中所記載之本發明達成。 (1)一種脫模薄膜，其具有由第1熱塑性樹脂組成物構成之第1脫模層及由第3熱塑性樹脂組成物構成之緩衝層，其特徵為， 該脫模薄膜在80℃下的複數剪切彈性模數為1.00MPa以下。
(2)如上述(1)之脫模薄膜，其中， 前述緩衝層在150℃下的儲存彈性模數為9.0MPa以上。
(3)如上述(1)或(2)之脫模薄膜，其中， 該脫模薄膜在80℃下的儲存剪切彈性模數為1.00MPa以下。
(4)如上述(1)至(3)中任一項之脫模薄膜，其中， 該脫模薄膜在80℃下的損失剪切彈性模數為0.40MPa以下。
(5)如上述(1)至(4)中任一項之脫模薄膜，其中， 前述第1脫模層中，與前述緩衝層相反的一側的表面的10個點平均粗糙度(Rz)為0.5μm以上且3.6μm以下。
(6)如上述(1)至(5)中任一項之脫模薄膜，其中， 前述第1脫模層在150℃下的儲存彈性模數E’為100MPa以上。
(7)如上述(1)至(6)中任一項之脫模薄膜，其中， 前述第1熱塑性樹脂組成物含有聚酯系樹脂作為主材料。
(8)如上述(1)至(7)中任一項之脫模薄膜，其中， 前述緩衝層的平均厚度為60μm以上且200μm以下。
(9)如上述(1)至(8)中任一項之脫模薄膜，其中， 前述第1脫模層的平均厚度為5μm以上且30μm以下。
(10)如上述(1)至(9)中任一項之脫模薄膜，其中， 前述第3熱塑性樹脂組成物含有複數種熱塑性樹脂，前述熱塑性樹脂的熔點未達80℃。
(11)如上述(10)之脫模薄膜，其中， 前述第3熱塑性樹脂組成物含有聚酯系樹脂及聚烯烴系樹脂作為前述熱塑性樹脂。
(12)如上述(1)至(11)中任一項之脫模薄膜，其中， 該脫模薄膜具有在前述緩衝層的與前述第1脫模層相反的一側積層之由第2熱塑性樹脂組成物構成之第2脫模層。
(13)如上述(1)至(12)中任一項之脫模薄膜，其中， 該脫模薄膜用於形成電路。
(14)一種成形品之製造方法，其特徵為，包括以上述(1)至(13)中任一項之脫模薄膜的前述第1脫模層成為對象物側之方式在前述對象物上配置前述脫模薄膜之步驟及對配置有前述脫模薄膜之前述對象物進行加熱壓製之步驟，在配置前述脫模薄膜之前述步驟中，前述對象物的配置有前述脫模薄膜之一側的面由含有半固化狀態的熱固性樹脂之材料形成。 [發明之效果]
依據本發明，能夠製成對凹部發揮優異之填埋性之脫模薄膜。
因此，在將脫模薄膜用於例如使用撓性電路基板及覆蓋膜之撓性印刷電路基板的形成之情況下，能夠將具有優異之填埋性之脫模薄膜填埋於形成於撓性印刷電路基板之凹部。因此，在撓性印刷電路基板上形成凹部時，能夠確實地抑制或防止接著劑從覆蓋膜所具備之接著劑層滲入形成之凹部內。
以下，依據圖式所示之較佳實施形態，對本發明的脫模薄膜及成形品之製造方法詳細地進行說明。
再者，以下，以使用本發明的脫模薄膜將撓性印刷電路基板製造為多層之情況、亦即將本發明的脫模薄膜用於形成電路之情況為一例進行說明。又，在說明本發明的脫模薄膜及成形品之製造方法之前，首先，對將撓性印刷電路基板製造為多層之製造方法進行說明。
＜撓性印刷電路基板之製造方法＞ 圖1係用以說明在以多層積層之狀態下製造撓性印刷電路基板之製造方法的縱向剖面圖。圖2係表示在以多層積層之狀態下製造撓性印刷電路基板之製造方法中的各步驟之縱向剖面圖。圖3係表示本發明的脫模薄膜的實施形態之縱向剖面圖。圖4係局部放大圖3所示之脫模薄膜的A部而得之局部放大縱向剖面圖。再者，以下，為了便於說明，將圖1~圖4中的上側稱為“上”或“上方”，將下側稱為“下”或“下方”，將左側稱為“左”，將右側稱為“右”。
在本實施形態中，將撓性印刷電路基板200(以下，有時亦稱為“FPC200”)製造為多層之製造方法包括：第1步驟，成為將各自呈片狀之玻璃布300A、脫模薄膜10A、FPC200、脫模薄膜10B及玻璃布300B依序重合之狀態之積層體積層為多層；第2步驟，藉由對積層為多層之積層體分別進行加熱壓製，在FPC200中，將覆蓋膜220(以下，有時亦稱為“CL膜220”)與撓性電路基板210接合；及第3步驟，使脫模薄膜10(10A、10B)從FPC200離型，獲得在撓性電路基板210上接合有CL膜220之FPC200。再者，在該FPC200之製造方法中適用本發明的成形品之製造方法。
以下，對各步驟依序進行說明。 (第1步驟) 首先，成為將各自呈片狀之玻璃布300A、脫模薄膜10A、FPC200、脫模薄膜10B及玻璃布300B依序重合之狀態之積層體積層為多層(參閱圖1、圖2(a)。)。再者，以下，對將前述積層體積層為2層之情況進行說明。
(1-1)首先，準備3片呈平板狀之加熱壓接板521，配置成在該等的厚度方向上形成2個間隙。
(1-2)接著，在2個間隙中，將各自呈片狀(膜狀)之玻璃布300A、脫模薄膜10A、FPC200、脫模薄膜10B及玻璃布300B以從上側向下側依序重合之狀態配置。再者，在本步驟(1-2)中，配置於間隙之FPC200成為藉由使撓性電路基板210與CL膜220重合而積層之狀態，但是撓性電路基板210與CL膜220未經由CL膜220所具備之接著劑層222接合。
藉此，如圖1所示，在加熱壓接板521之間，成為將玻璃布300A、脫模薄膜10A、FPC200、脫模薄膜10B及玻璃布300B依序重合之狀態之積層體積層為2層。
再者，藉由本步驟(1-2)，構成本發明的成形品之製造方法中在對象物(FPC200)上配置脫模薄膜之步驟。
(第2步驟) 接著，藉由經過前述第1步驟，對積層為多層之積層體分別進行加熱壓製，藉此在FPC200中，將CL膜220與撓性電路基板210接合(參閱圖1、圖2(b)。)。
(2-1)首先，在玻璃布300(300A、300B)與加熱壓接板521接觸之狀態下，對加熱壓接板521進行加熱。
藉此，將玻璃布300A、脫模薄膜10A、FPC200、脫模薄膜10B及玻璃布300B重合之積層體藉由來自加熱壓接板521的熱傳遞而被加熱。
在本步驟(2-1)中，對積層體亦即FPC200進行加熱之溫度並無特別限定，但是例如較佳為100℃以上且250℃以下，更佳為150℃以上且200℃以下。
又，對前述積層體進行加熱之時間並無特別限定，但是較佳為40sec以上且5000sec以下，更佳為設定為200sec以上且4000sec以下。藉此，能夠對積層體中的玻璃布300A、脫模薄膜10A、FPC200、脫模薄膜10B及玻璃布300B幾乎均勻地進行加熱。
(2-2)又，幾乎在進行前述步驟(2-1)中的加熱壓接板521的加熱之同時，使位於上側之加熱壓接板521與位於下側之加熱壓接板521沿著該等的厚度方向接近(壓製成形法)。
其結果，在將形成於3片加熱壓接板521之間之2個空隙中分別配置之玻璃布300A、脫模薄膜10A、FPC200、脫模薄膜10B及玻璃布300B重合之積層體中，經由玻璃布300A、300B和脫模薄膜10A、10B，FPC200被加壓(參閱圖1、圖2(b))。
藉此，由於FPC200被加熱的同時被加壓，因此在FPC200中，重合之撓性電路基板210與CL膜220經由CL膜220所具備之接著劑層222接合。換言之，覆蓋層221與撓性電路基板210經由接著劑層222接合。又，對FPC200進行加熱/加壓時、亦即覆蓋層221與撓性電路基板210經由接著劑層222接合時，在形成於覆蓋層221之凹部223內埋入脫模薄膜10。因此，能夠抑制來自於接著劑層222之接著劑滲入凹部223內(參閱圖2(b))。
在本步驟(2-2)中，對FPC200進行加壓之壓力並無特別限定，但是較佳為0.1MPa以上且20.0MPa以下，更佳為設定為0.5MPa以上且15.0MPa以下。
又，對FPC200進行加壓之時間並無特別限定，但是較佳為20sec以上且5000sec以下，更佳為設定為100sec以上且4000sec以下。
藉由將對FPC200進行加壓之壓力及時間分別設定在前述範圍內，能夠將覆蓋層221與撓性電路基板210經由接著劑層222確實地接合。
再者，藉由本步驟(2-2)，構成本發明的成形品之製造方法中對配置有脫模薄膜10之對象物(FPC200)進行加熱壓製之步驟。又，在覆蓋層221由含有半固化狀態的熱固性樹脂之材料構成之情況下，覆蓋層221構成對象物(FPC200)的配置有脫模薄膜10之一側的面。而且，以後述之第1脫模層1側的表面與該覆蓋層221的表面接觸之方式重疊使用了脫模薄膜10，因此能夠藉由脫模薄膜10，維持形成有凹部223之覆蓋層221的形狀，而使熱固性樹脂固化，因此能夠在撓性電路基板210上以優異之精度成形覆蓋層221(成形品)。
又，在上述中，前述步驟(2-1)中的FPC200的加熱和本步驟(2-2)中的FPC200的加壓如上述幾乎同時實施為較佳，但是亦能夠以步驟(2-1)和步驟(2-2)的順序實施。但是，藉由幾乎同時實施步驟(2-1)和步驟(2-2)，能夠實現縮短第2步驟、進而縮短製造FPC200時所需的時間。
(第3步驟；步驟(3)) 接著，使脫模薄膜10(10A、10B)從FPC200離型，獲得在撓性電路基板210上接合有CL膜220之FPC200(參閱圖2(c)。)。
使脫模薄膜10從該FPC200離型之離型法並無特別限定，但是較佳地使用例如用手把持脫模薄膜的一端後，向90°以上且180°以下的方向剝離之方法。
再者，在脫模薄膜10從FPC200剝離時，在加熱壓接板521與脫模薄膜10之間顯示優異之脫模性之情況下，亦可以省略在加熱壓接板521與脫模薄膜10之間配置玻璃布300。
藉由如以上的步驟，構成使用脫模薄膜10之撓性印刷電路基板200之製造方法。
又，作為適用於該撓性印刷電路基板200的製造之脫模薄膜10，使用本發明的脫模薄膜。亦即，作為脫模薄膜10可以使用如下脫模薄膜：具有由第1熱塑性樹脂組成物構成之第1脫模層1、由第3熱塑性樹脂組成物構成之緩衝層3及由第2熱塑性樹脂組成物構成之第2脫模層2，依序積層第1脫模層1、緩衝層3及第2脫模層2，脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數為1.00MPa以下。
在此，如前所述，在使用脫模薄膜10之撓性印刷電路基板200之製造方法中，要求兼顧脫模薄膜10對凹部223的填埋性和從撓性印刷電路基板200的脫模性。
然而，尤其在考慮對於形成於撓性印刷電路基板200之凹部223之脫模薄膜10的填埋性之情況下，從抑制源自接著劑層222之接著劑滲入凹部223內之觀點考慮，實際上要求開發在前述步驟(2-2)中對凹部223發揮更優異之填埋性之脫模薄膜10。
與這樣的實際情況對應，在本發明中，作為脫模薄膜10，選擇其在80℃下的複數剪切彈性模數為1.00MPa以下之脫模薄膜。藉此，使脫模薄膜10發揮對於形成於撓性印刷電路基板200之凹部223之脫模薄膜10的更優異之填埋性，藉此抑制源自接著劑層222之接著劑滲入凹部223內。
以下，對適用了本發明的脫模薄膜之脫模薄膜10進行說明。 ＜脫模薄膜10＞ 如圖3所示，在本實施形態中，脫模薄膜10由依序積層有第1脫模層1、緩衝層3及第2脫模層2之積層體構成，且以第1脫模層1側的表面與FPC200所具備之CL膜220接觸之方式重疊使用。
作為該脫模薄膜10，如前述，在本發明中，選擇其在80℃下的複數剪切彈性模數為1.00MPa以下之脫模薄膜。藉此，能夠獲得具備更優異之追隨性之脫模薄膜10。
脫模薄膜10具備更優異之追隨性，藉此在前述之使用脫模薄膜10之撓性印刷電路基板200的前述步驟(2-2)中，經由接著劑層222接合重合之撓性電路基板210和CL膜220時，以第1脫模層1追隨由撓性電路基板210和CL膜220形成之凹部223的形狀之方式壓入該第1脫模層1之層，且發揮作為緩衝的作用。又，藉由脫模薄膜10具備緩衝層3，能夠藉由脫模薄膜10，以均勻的壓力將CL膜220緊壓於撓性電路基板210。
尤其，如上述，在幾乎同時實施前述步驟(2-1)中的FPC200的加熱和前述步驟(2-2)中的FPC200的加壓之情況下，前述步驟(2-1)中的FPC200的加熱與前述步驟(2-2)中的FPC200的加壓相比，其響應性較低。亦即，在幾乎同時實施FPC200的加熱和加壓之情況下，相對於對FPC200能夠相對較早地賦予作為目的之壓力，使FPC200到達作為目的之加熱溫度需要較長時間。
因此，FPC200在作為目的之加熱溫度下加熱之前，對FPC200賦予作為目的之壓力。因此，考慮前述步驟(2-1)中的FPC200的加熱溫度，例如即使規定了作為加熱溫度的較佳的溫度範圍之100℃以上且250℃以下的範圍內的脫模薄膜10的彈性模數，亦無法將具有優異之填埋性之脫模薄膜10填埋於凹部223，在以往無法充分抑制源自接著劑層222之接著劑滲入凹部223內。
相對於此，考慮在本發明中，對FPC200賦予作為目的之壓力之時點，FPC200的加熱溫度未達到作為目的之溫度，如前述，將80℃下的脫模薄膜10的複數剪切彈性模數設定在1.00MPa以下。因此，更確實地發揮作為脫模薄膜10的功能而能夠將具有優異之填埋性之脫模薄膜10填埋於凹部223。因此，能夠確實地抑制或防止源自接著劑層222之接著劑滲入凹部223內。
以下，對構成脫模薄膜10之各層進行說明。 ＜緩衝層3＞ 首先，對緩衝層3進行說明。該緩衝層3配置為第1脫模層1與第2脫模層2之間的中間層。
該緩衝層3由第3熱塑性樹脂組成物構成。以對脫模薄膜10賦予前述功能、亦即將80℃下的脫模薄膜10的複數剪切彈性模數設定在前述上限值以下為目的，在本發明中，該第3熱塑性樹脂組成物含有複數種熱塑性樹脂為較佳。
作為複數種熱塑性樹脂的組合，例如可舉出聚酯系樹脂與聚烯烴系樹脂的組合、聚烯烴系樹脂彼此的組合及聚醯胺系樹脂與聚烯烴系樹脂的組合等，其中，藉由選擇聚酯系樹脂與聚烯烴系樹脂的組合，能夠相對容易地將脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數設定在前述上限值以下。
作為聚酯系樹脂，並無特別限定，但是例如可舉出聚對酞酸乙二酯(PET)、聚環己烷對苯二甲酸酯(PCT)、聚對酞酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚環己烷對苯二甲酸酯、聚對苯二甲酸丙二醇酯等，能夠適用該等中的1種或組合2種以上使用。再者，在組合該等中的2種以上使用之情況下，該聚酯系樹脂可以為該等的混合體，亦可以為共聚物。該等中，聚酯系樹脂為聚對酞酸丁二酯為特佳。藉此，能夠對緩衝層3賦予對於凹部223之優異之追隨性。又，在構成第1脫模層1之第1熱塑性樹脂組成物中含有聚對酞酸丁二酯之情況下，緩衝層3對第1脫模層1發揮優異之密接性。
又，作為聚烯烴系樹脂，並無特別限定，例如可舉出如低密度聚乙烯、高密度聚乙烯之類的聚乙烯、具有聚丙烯等α-烯烴系聚合物、乙烯、丙烯、丁烯、戊烯、己烯、辛烯等作為聚合物成分之，乙烯與己烯的共聚物、乙烯與辛烯的共聚物、α-烯烴與(甲基)丙烯酸酯的共聚物、乙烯與乙酸乙烯酯的共聚物、乙烯與(甲基)丙烯酸的共聚物之類的α-烯烴系共聚物等，能夠使用該等中的1種或組合2種以上使用。該等中，乙烯與乙酸乙烯酯的共聚物(乙烯乙酸乙烯酯共聚物)及乙烯與(甲基)丙烯酸的共聚物(乙烯(甲基)丙烯酸共聚物)中的至少1種為較佳。藉此，能夠對緩衝層3賦予對於凹部223之優異之追隨性。
在設為聚酯系樹脂與聚烯烴系樹脂的組合之情況下，該第3熱塑性樹脂組成物中的聚酯系樹脂的含量為5重量%以上為較佳，8重量%以上且20重量%以下為更佳。藉此，能夠對脫模薄膜10賦予對於凹部223之優異之追隨性。
又，第3熱塑性樹脂組成物中所含有之熱塑性樹脂的熔點未達80℃為較佳，40℃以上且未達80℃為更佳。藉此，能夠相對容易地將脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數設定在前述上限值以下。
又，在構成緩衝層3之第3熱塑性樹脂組成物中，除了前述之樹脂材料以外，還可以包含晶核劑、抗氧化劑、滑劑(slip agent)、防黏結劑、防靜電劑、著色劑、穩定劑之類的添加劑。
該緩衝層3在150℃下的儲存彈性模數E’為9.0MPa以上為較佳，10MPa以上且50MPa以下為更佳，10MPa以上且25MPa以下為進一步較佳。如上述設定緩衝層3在150℃下的儲存彈性模數E’，藉此前述步驟(2-2)中的脫模薄膜10填埋於凹部223時，緩衝層3的一部分從脫模薄膜10的緣部露出，能夠確實地抑制或防止附著於FPC200。因此，能夠確實地抑制或防止FPC200的污染。又，能夠容易地進行前述步驟(3)中的夾持脫模薄膜10的緣部之脫模薄膜10的剝離。
再者，緩衝層3在150℃下的儲存彈性模數E’例如能夠藉由如下來獲得：依據JIS K7244-4，準備寬度4mm、長度20mm的緩衝層3，使用動態黏彈性測量裝置(日立高科技公司製、“DMA7100”)，以拉伸模式、頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘進行測量。
此外，該緩衝層3的平均厚度Tk為60μm以上且200μm以下為較佳，70μm以上且180μm以下為更佳。藉此，能夠更顯著地發揮藉由將脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數設定在前述上限值以下來獲得之效果。
＜第1脫模層1＞ 接著，對第1脫模層1進行說明。該第1脫模層1積層於緩衝層3的一面側。
第1脫模層1具備撓性，在前述之使用了脫模薄膜10之撓性印刷電路基板200之製造方法中，以該第1脫模層1與FPC200所具備之CL膜220接觸之方式重合脫模薄膜10。而且，在該製造方法的前述步驟(2-2)中，經由接著劑層222接合重合之撓性電路基板210和CL膜220時，追隨由撓性電路基板210和CL膜220形成之凹部223的形狀而被壓入之層且作為防止脫模薄膜10斷裂之保護(緩衝)材而發揮作用。此外，第1脫模層1具有作為用以在前述步驟(3)中發揮脫模薄膜10從CL膜220(FPC200)的優異之脫模性之接觸層的功能。
因此，在前述步驟(2-2)中，能夠確實地抑制或防止來自於接著劑層222之接著劑滲入形成於FPC200之凹部223中。又，在前述步驟(2-2)中的形成撓性電路基板210與CL膜220經由CL膜220所具備之接著劑層222接合之FPC200之後，在前述步驟(3)中，使脫模薄膜10從FPC200剝離時，能夠確實地抑制或防止在FPC200發生伸長及斷裂。又，在構成緩衝層3之第3熱塑性樹脂組成物中含有聚酯系樹脂之情況下，第1脫模層1能夠對緩衝層3發揮優異之密接性。
第1脫模層1由第1熱塑性樹脂組成物構成。又，該第1熱塑性樹脂組成物由能夠將第1脫模層1在150℃下的儲存彈性模數E’設定在100MPa以上之組成物構成為較佳，例如主要含有聚酯系樹脂為較佳。藉此，能夠相對輕易地將前述儲存彈性模數E’設定為100MPa以上，並且能夠對第1脫模層1確實地賦予前述之功能。此外，相對容易地對脫模薄膜10賦予前述功能，亦即能夠相對容易地將80℃下的脫模薄膜10的複數剪切彈性模數設定在前述上限值以下。
又，作為聚酯系樹脂，並無特別限定，但是例如能夠使用與在前述之第3熱塑性樹脂組成物中舉出者相同的樹脂，其中，特佳為聚對酞酸丁二酯(PBT)。藉此，能夠更顯著地發揮藉由使用聚酯系樹脂而獲得之效果。又，在構成緩衝層3之第3熱塑性樹脂組成物中含有聚對酞酸丁二酯之情況下，能夠製成對緩衝層3發揮優異之密接性之第1脫模層1。
再者，第1熱塑性樹脂組成物在主要由聚酯系樹脂構成之情況下，可以含有除了聚酯系樹脂以外的熱塑性樹脂，作為該熱塑性樹脂，例如可舉出聚乙烯、聚丙烯、聚4-甲基1-戊烯之類的聚烯烴系樹脂、間規聚苯乙烯之類的聚苯乙烯系樹脂等，能夠使用該等中的1種或組合2種以上使用。
又，第1熱塑性樹脂組成物除了前述之熱塑性樹脂以外，還可以含有無機粒子及有機粒子中的至少1種。
作為無機粒子，並無特別限定，但是例如可舉出氫氧化鋁、氫氧化鎂、碳酸鈣、碳酸鎂、矽酸鈣、矽酸鎂、氧化鈣、氧化鎂、氧化鋁、氮化鋁、硼酸鋁晶鬚、氮化硼、結晶性二氧化矽、非晶性二氧化矽、氧化銻、E玻璃、D玻璃、S玻璃等，能夠使用該等之中的1種或組合使用2種以上。
又，作為有機粒子，並無特別限定，但是例如可舉出聚苯乙烯粒子、丙烯酸粒子、聚醯亞胺粒子、聚酯粒子、聚矽氧粒子、聚丙烯粒子、聚乙烯粒子、氟樹脂粒子及核殼粒子等，能夠使用該等之中的1種或組合使用2種以上。
此外，無機粒子及有機粒子的平均粒徑較佳為3μm以上且20μm以下，更佳為5μm以上且20μm以下。藉此，在第1熱塑性樹脂組成物中含有無機粒子及有機粒子中的至少一者之情況下，能夠相對輕易地將第1脫模層1的與緩衝層3相反的一側的表面的表面粗糙度設定在後述之範圍內。
在第1脫模層1在其表面具有凹凸形狀之情況下，前述表面的10個點平均粗糙度(Rz)較佳為0.5μm以上且3.6μm以下，更佳為1.0μm以上且3.5μm以下。藉此，使脫模薄膜10從FPC200(撓性電路基板210)離型時，能夠以優異之脫模性實施該離型。再者，前述10個點平均粗糙度(Rz)能夠依照JIS B 0601-1994來測量。
形成該結構之第1脫模層1在150℃下的儲存彈性模數E’為100MPa以上為較佳，100MPa以上且1000MPa以下為更佳，100MPa以上且200MPa以下為特佳。藉此，能夠對第1脫模層1確實地賦予前述之功能。
再者，第1脫模層1在150℃下的儲存彈性模數E’能夠藉由如下來獲得：依照JIS K7244-4，準備寬度4mm、長度20mm的第1脫模層1，使用黏彈性測量裝置(日立高科技公司製，“DMA7100”)，以拉伸模式、頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘進行測量。
又，該第1脫模層1的平均厚度T1較佳為5μm以上且30μm以下，更佳為6μm以上且25μm以下。藉此，第1脫模層1的平均厚度設定在適當的範圍內，因此能夠更確實地對第1脫模層1賦予前述之功能。
再者，如上所述，關於第1脫模層1的厚度，在第1脫模層1的與緩衝層3相反的一側的表面具有凹凸形狀之情況下，在凸部中的包括凸部之位置且凹部中的包括凹部之位置分別測量該厚度。
又，在構成第1脫模層1之第1熱塑性樹脂組成物中，除了前述之樹脂材料、無機粒子、有機粒子以外，還可以包含與在前述第3熱塑性樹脂組成物中舉出者相同的添加劑。
＜第2脫模層2＞ 接著，對第2脫模層2進行說明。該第2脫模層2積層於緩衝層3的另一面側亦即緩衝層3的與第1脫模層1相反的一面側。
第2脫模層2具備撓性並且前述之使用脫模薄膜10之撓性印刷電路基板200之製造方法中，以第1脫模層1與FPC200所具備之CL膜220接觸之方式重疊脫模薄膜10，而且，該製造方法的前述步驟(2-2)中，經由接著劑層222來接合重疊之撓性電路基板210和CL膜220時，作為將來自加熱壓接板521的力傳遞到緩衝層3之層發揮作用。此外，第2脫模層2具有作為用以在前述步驟(3)中在玻璃布300與脫模薄膜10之間發揮優異之脫模性之接觸層的功能。
第2脫模層2由第2熱塑性樹脂組成物構成，該第2熱塑性樹脂組成物較佳選擇為能夠將第2脫模層2在150℃下的儲存彈性模數E’設定在100MPa以上之樹脂，具體而言，與前述第1熱塑性樹脂組成物同樣地，主要含有聚酯系樹脂為較佳。藉此，能夠相對輕易地將前述儲存彈性模數E’設定為100MPa以上，並且能夠對第2脫模層2確實地賦予前述之功能。此外，相對容易地對脫模薄膜10賦予前述功能，亦即能夠相對容易地將80℃下的脫模薄膜10的複數剪切彈性模數設定在前述上限值以下。
又，作為聚酯系樹脂，並無特別限定，但是例如能夠使用與在前述之第3熱塑性樹脂組成物中舉出者相同的樹脂，其中，特佳為聚對酞酸丁二酯(PBT)。藉此，能夠更顯著地發揮藉由使用聚酯系樹脂而獲得之效果。
再者，第2熱塑性樹脂組成物在主要由聚酯系樹脂構成之情況下，可以含有除了聚酯系樹脂以外的熱塑性樹脂，作為該熱塑性樹脂，能夠使用與在前述第1熱塑性樹脂組成物中舉出者相同的樹脂。
又，第2熱塑性樹脂組成物除了前述之熱塑性樹脂以外，還可以含有無機粒子及有機粒子中的至少1種。
作為無機粒子及有機粒子，並無特別限定，但是能夠使用與在前述第1熱塑性樹脂組成物中舉出者相同的粒子。
形成該結構之第2脫模層2在150℃下的儲存彈性模數E’為100MPa以上較佳，100MPa以上且1000MPa以下為更佳。藉此，能夠對第2脫模層2確實地賦予前述之功能。
又，該第2脫模層2的平均厚度T2較佳為5μm以上且30μm以下，更佳為6μm以上且25μm以下。藉此，能夠更確實地對第2脫模層2賦予前述之功能。
此外，在構成第2脫模層2之第2熱塑性樹脂組成物中，除了前述之樹脂材料、無機粒子、有機粒子以外，還可以包含與在前述第3熱塑性樹脂組成物中舉出者相同的添加劑。
又，在第1脫模層1和第2脫模層2中，第1熱塑性樹脂組成物與第2熱塑性樹脂組成物可以相同，亦可以不同，但是就具有代替性之觀點而言，較佳為相同或相同性質。此外，在第1脫模層1和第2脫模層2中，其平均厚度可以相同，亦可以不同。
在成為如以上的積層第1脫模層1、緩衝層3及第2脫模層2之結構之脫模薄膜10中，其平均厚度Tt較佳為90μm以上且250μm以下，更佳為100μm以上且220μm以下。藉此，能夠更確實地發揮藉由將前述脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數設定在前述上限值以下來獲得之效果。
在此，如前述，脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數為1.00MPa以下即可，0.65MPa以下為較佳。藉由如上述設定脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數，能夠更確實地抑制或防止源自接著劑層222之接著劑滲入凹部223內。
又，脫模薄膜10在80℃下的儲存剪切彈性模數為1.00MPa以下為較佳，0.60MPa以下為更佳。此外，脫模薄膜10在80℃下的損失剪切彈性模數為0.40MPa以下為較佳，0.25MPa以下為更佳。藉由如上述分別設定脫模薄膜10在80℃下的儲存剪切彈性模數及損失剪切彈性模數，能夠更確實地抑制或防止源自接著劑層222之接著劑滲入凹部223內。
脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數、儲存剪切彈性模數及損失剪切彈性模數能夠藉由如下來獲得：例如準備直徑8mm的整體形狀為圓盤狀亦即在俯視下形狀呈圓形狀之脫模薄膜10，使用黏彈性測量裝置(安東帕公司製、“MCR102”)，以頻率10Hz、應變0.1%、升溫速度4℃/分鐘進行測量。
再者，在本實施形態中，脫模薄膜10由依序積層第1脫模層1、緩衝層3及第2脫模層2之積層體構成，但是並不限定於該結構，例如，可以由具備配置於第1脫模層1與緩衝層3之間及第2脫模層2與緩衝層3之間中的至少一者之接著劑層之類的中間層之積層體構成。
又，若在前述步驟(3)中，脫模薄膜10能夠在玻璃布300與脫模薄膜10之間維持優異之脫模性，則可以省略與玻璃布300接觸之第2脫模層2。
以上，對本發明的脫模薄膜及成形品之製造方法進行了說明，但是本發明並不限定於該等。
例如，在前述實施形態中，對將本發明的脫模薄膜適用於將配置於加熱冷卻板之間之撓性印刷電路基板積層為2層而製造之壓製成形法之情況進行了說明，但是所積層之撓性印刷電路基板的數量並不限定於2層，可以為一層，亦可以為三層以上。
又，雖然將本發明的脫模薄膜適用於對配置於加熱冷卻板之間之撓性印刷電路基板使用壓製成形法進行加壓之情況，但是並不限定於此，對撓性印刷電路基板的加壓例如能夠使用輥對輥壓製機來實施，進而亦能夠使用真空壓空成形法來實施。 [實施例]
以下，依據實施例對本發明詳細的進行說明，但是本發明並不限定於此。
1.原材料的準備 作為用以製造脫模薄膜之原材料，分別準備了以下材料。
•熱塑性樹脂材料 低密度聚乙烯(LDPE，宇部丸善公司製，“R300”) 乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA，DOW-MITSUI POLYCHEMICALS 公司製，“P1403”) 乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA，DOW-MITSUI POLYCHEMICALS公司製，“EV360”) 乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA，DOW-MITSUI POLYCHEMICALS公司製，“V5274”) 乙烯甲基丙烯酸甲酯共聚物(EMMA，住友化學公司製，“WH102”) 乙烯丙烯酸甲酯共聚物(EMA，SK化學公司製，“29MA03”) 乙烯丙烯酸甲酯共聚物(EMA，日本聚乙烯公司製，“EB050S”) 聚對酞酸丁二酯(PBT，長春石油化學公司製，“1100-630S”) 共聚聚對酞酸丁二酯(PBT，三菱工程塑膠公司製，“5505S”) 聚丙烯(PP，住友化學公司製，“FH1016”) 接著性聚烯烴(AD，三菱化學公司製，“F515A”)
2.脫模薄膜的製造 ＜實施例1＞ 首先，作為第1熱塑性樹脂組成物及第2熱塑性樹脂組成物，分別準備了由聚對酞酸丁二酯(PBT、1100-630S)70重量份及共聚聚對酞酸丁二酯(PBT、5505S)30重量份構成之組成物。又，作為第3熱塑性樹脂組成物，準備了由乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA、EV360)40重量份、乙烯甲基丙烯酸甲酯共聚物(EMMA、WH102)35重量份、聚對酞酸丁二酯(PBT、1100-630S)10重量份及聚丙烯(PP、FH1016)15重量份構成之組成物。
接著，使用第1熱塑性樹脂組成物，藉由擠出T模法成膜，藉此獲得了第1脫模層1。
接著，對第1脫模層1依序實施使用第3熱塑性樹脂組成物及第2熱塑性樹脂組成物之擠出T模法分別成膜，藉此在第1脫模層1上形成將緩衝層3和第2脫模層2依序積層之積層體，從而獲得了實施例1的脫模薄膜10。
再者，在所獲得之脫模薄膜10中，第1脫模層1平均厚度T1為15μm，緩衝層3平均厚度Tk為80μm，第2脫模層2平均厚度T2為15μm。
又，對於脫模薄膜10，使用黏彈性測量裝置(安東帕公司製、“產品編號MCR102”)，以頻率10Hz、應變0.1%、升溫速度4℃/分鐘分別測量80℃下的複數剪切彈性模數、儲存剪切彈性模數及損失剪切彈性模數，其結果為0.63MPa、0.59MPa及0.21MPa。
此外，對於第1脫模層1及緩衝層3，使用動態黏彈性測量裝置(日立高科技公司製、“DMA7100”)，以拉伸模式、頻率1Hz、升溫速度5℃/分鐘分別測量150℃下的儲存彈性模數E’，其結果為180MPa及16MPa。
又，對於第1脫模層1，使用表面粗糙度測量裝置(三豐公司製，“SURFTST SJ-210”)測量在與緩衝層3相反的一側露出之表面的10個點平均粗糙度(Rz)，其結果為2.7μm。
＜實施例2、比較例1~4＞ 作為第1熱塑性樹脂組成物、第2熱塑性樹脂組成物及第3熱塑性樹脂組成物，使用表1所示之組成物，形成了平均厚度如表1所示之第1脫模層1、緩衝層3及第2脫模層2，除此以外，以與前述實施例1相同的方式，獲得了脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數成為表1所示之實施例2、比較例1~4的脫模薄膜10。
3.評價 對於各實施例及各比較例的脫模薄膜10，分別進行了以下評價。
3-1.脫模薄膜的填埋性 對於各實施例及各比較例的脫模薄膜10，分別設為寬度270mm。又，設為藉由在撓性電路基板210上黏附覆蓋膜220(有澤製造公司製，“CMA0525”)而將該覆蓋膜220所具備之接著劑層222作為撓性電路基板210側而形成之具備間距50μm、寬度50μm、高度18μm的凹凸之FPC200(積層體)之後，在180℃、3MPa、15分鐘的條件下將脫模薄膜10壓入如圖1所示那樣積層2層之FPC200。然後，在設為FPC200與脫模薄膜10的積層體之狀態下，將該積層體在厚度方向上裁斷(剪切)之後，把持脫模薄膜10的一端剝離脫模薄膜10。測量夾持脫模薄膜10的一端將其剝離時的FPC200的凹部的在俯視下的接著劑的最大滲入量，按照以下標準進行了評價。
[評價基準] A：最大滲入量未達55mm。 B：最大滲入量為55以上且未達65mm。 C：最大滲入量為65以上。
3-2.脫模薄膜的剝離性 對於各實施例及各比較例的脫模薄膜10，分別設為寬度270mm，並且設為藉由在撓性電路基板210上黏附覆蓋膜220(有澤製作公司製，“CMA0525”)而將該覆蓋膜220所具備之接著劑層222作為撓性電路基板210側而形成之具備間距50μm、寬度50μm、高度18μm的凹凸之FPC200(積層體)之後，在180℃、3MPa、15分鐘的條件下將脫模薄膜10壓入如圖1所示那樣積層2層之FPC200。之後，對於夾持脫模薄膜10的一端將其剝離時的脫模薄膜10的剝離容易性(脫模性)，按照以下標準進行了評價。
[評價基準] A：在剝離脫模薄膜時，能夠剝離。 B：在剝離脫模薄膜時，緩衝層彼此熔接而難以剝離。
3-3.總結 將前述3-1.脫模薄膜的填埋性及前述3-2.脫模薄膜的脫模性中獲得之評價結果示於表1。
[表1]
  實施例 比較例
1 2 1 2 3 4
脫模薄膜10 第1脫模層1 (第1)熱塑性樹脂組成物 聚對酞酸丁二酯(PBT 1100-630S)[重量%] 70 70 100 70 70 70
共聚聚對酞酸丁二酯(PBT 5505S)[重量%] 30 30   30 30 30
表面10個點平均粗糙度(Rz)(μm) 2.7 2.9 3.5 2.5 2.8 2.5
平均厚度T1(μm) 15 15 15 15 15 15
緩衝層3 (第3)熱塑性樹脂組成物 低密度聚乙烯(LDPE R300)[重量%]     50   35  
乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA P1403)[重量%]     20      
乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA EV360)[重量%] 40         100
乙烯甲基丙烯酸甲酯共聚物(EMMA WH102)[重量%] 35 35        
乙烯乙酸乙烯酯共聚物(EVA V5274)[重量%]       45    
乙烯丙烯酸甲酯共聚物(EMA 29MA03)[重量%]   40        
乙烯丙烯酸甲酯共聚物(EMA EB050S)[重量%]         40  
聚對酞酸丁二酯(PBT 1100-630S)[重量%] 10 10 15 15 10  
聚丙烯(PP FH1016)[重量%] 15 15   20 15  
接著性聚烯烴(AD F515A)[重量%]     15 20    
平均厚度Tk(μm) 80 80 80 80 80 80
第1脫模層2 (第2)熱塑性樹脂組成物 聚對酞酸丁二酯(PBT 1100-630S)[重量%] 70 70 100 70 70 70
共聚聚對酞酸丁二酯(PBT 5505S)[重量%] 30 30   30 30 30
平均厚度T2(μm) 15 15 15 15 15 15
脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數(MPa) 0.63 0.60 1.19 1.05 1.06 ＜0.1
脫模薄膜10在80℃下的儲存剪切彈性模數(MPa) 0.59 0.57 1.09 1.01 1.01 ＜0.1
脫模薄膜10在80℃下的損失剪切彈性模數(MPa) 0.21 0.19 0.49 0.29 0.33 ＜0.1
緩衝層3在150℃下的儲存彈性模數E’(MPa) 16 14 16 21 12 ＜0.1
第1脫模層1在150℃下的儲存彈性模數E’(MPa) 180 180 180 190 180 190
脫模薄膜10的平均厚度Tt(μm) 110 110 110 110 110 110
評價 脫模薄膜10的填埋性 A B C C C A
脫模薄膜10的脫模性 A A A A A B
如表1所示，示出了如下結果：在各實施例中，脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數設定為1.00MPa以下，其結果，可抑制接著劑滲入凹部223中。
相對於此，示出了如下結果：在各比較例中，無法將脫模薄膜10在80℃下的複數剪切彈性模數設定為1.00MPa以下，因此，明顯確認到接著劑滲入凹部223中。 [產業上之可利用性]
依據本發明，能夠製成對凹部發揮優異之填埋性之脫模薄膜。因此，在將脫模薄膜用於形成例如使用撓性電路基板及覆蓋膜而成之撓性印刷電路基板之情況下，能夠將具有優異之填埋性之脫模薄膜填埋於形成於撓性印刷電路基板之凹部。因此，在撓性印刷電路基板上形成凹部時，能夠確實地抑制或防止接著劑從覆蓋膜所具備之接著劑層滲入形成之凹部內。因此，本發明具有產業上之可利用性。
1:第1脫模層 2:第2脫模層 3:緩衝層 10:脫模薄膜 10A:脫模薄膜 10B:脫模薄膜 200:撓性印刷電路基板(FPC) 210:撓性電路基板 220:覆蓋膜(CL膜) 221:覆蓋層 222:接著劑層 223:凹部 300:玻璃布 300A:玻璃布 300B:玻璃布 521:加熱壓接板 T1:第1脫模層的平均厚度 T2:第2脫模層的平均厚度 Tk:緩衝層的平均厚度 Tt:脫模薄膜的平均厚度
[圖1]係用以說明在以多層積層之狀態下製造撓性印刷電路基板之製造方法的縱向剖面圖。 [圖2](a)~(c)係表示在以多層積層之狀態下製造撓性印刷電路基板之製造方法中的各步驟之縱向剖面圖。 [圖3]係表示本發明的脫模薄膜的實施形態之縱向剖面圖。 [圖4]係局部放大圖3所示之脫模薄膜的A部而得之局部放大縱向剖面圖。
1:第1脫模層
2:第2脫模層
3:緩衝層
T1:第1脫模層的平均厚度
T2:第2脫模層的平均厚度
Tk:緩衝層的平均厚度
Tt:脫模薄膜的平均厚度

Claims (12)

  1. 一種脫模薄膜，其具有由第1熱塑性樹脂組成物構成之第1脫模層及由第3熱塑性樹脂組成物構成之緩衝層，其特徵為，該脫模薄膜在80℃下的複數剪切彈性模數為1.00MPa以下，該第1脫模層在150℃下的儲存彈性模數E’為100MPa以上，該緩衝層在150℃下的儲存彈性模數為9.0MPa以上。
  2. 如請求項1之脫模薄膜，其中，該脫模薄膜在80℃下的儲存剪切彈性模數為1.00MPa以下。
  3. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該脫模薄膜在80℃下的損失剪切彈性模數為0.40MPa以下。
  4. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該第1脫模層中，與該緩衝層相反的一側的表面的10個點平均粗糙度Rz為0.5μm以上且3.6μm以下。
  5. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該第1熱塑性樹脂組成物含有聚酯系樹脂作為主材料。
  6. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該緩衝層的平均厚度為60μm以上且200μm以下。
  7. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該第1脫模層的平均厚度為5μm以上且30μm以下。
  8. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該第3熱塑性樹脂組成物含有複數種熱塑性樹脂，該複數種熱塑性樹脂中之一部分的該熱塑性樹脂的熔點未達80℃。
  9. 如請求項8之脫模薄膜，其中，該第3熱塑性樹脂組成物含有聚酯系樹脂及聚烯烴系樹脂作為該熱塑性樹脂。
  10. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該脫模薄膜具有在該緩衝層的與該第1脫模層相反的一側積層之由第2熱塑性樹脂組成物構成的第2脫模層。
  11. 如請求項1或2之脫模薄膜，其中，該脫模薄膜用於形成電路。
  12. 一種成形品之製造方法，其特徵為，包括以請求項1至11中任一項之脫模薄膜的該第1脫模層成為對象物側之方式在該對象物上配置該脫模薄膜之步驟及對配置有該脫模薄膜之該對象物進行加熱壓製之步驟，在配置該脫模薄膜之該步驟中，該對象物的配置有該脫模薄膜之一側的面由含有半固化狀態的熱固性樹脂之材料形成。
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