TWI738635B - 光學用黏著片 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種對於銀奈米線層之耐腐蝕性優異之光學用黏著片。

本發明之銀奈米線層用光學用黏著片之特徵在於：其係具有黏著劑層之黏著片，且藉由離子層析法而測定之利用純水於100℃、45分鐘之條件下自上述黏著劑層萃取之丙烯酸根離子之量相對於上述黏著劑層每1g為5μg/g以下。上述黏著劑層較佳為丙烯酸系黏著劑層。

Description

光學用黏著片

本發明係關於一種光學用黏著片。更具體而言，係關於一種銀奈米線層用光學用黏著片。

近年來，於各種領域廣泛使用液晶顯示器(LCD)等顯示裝置或與此種顯示裝置組合使用之觸控面板等輸入裝置。於該等顯示裝置或輸入裝置等中，針對於貼合光學構件之用途，使用具有黏著劑層之黏著片。例如於觸控面板與各種顯示構件或光學構件之貼合中，使用透明之黏著片(例如參照專利文獻1~3)。

上述顯示裝置或輸入裝置等所使用之光學構件有產生由紫外線所導致之劣化之顧慮。因此，對於上述黏著片，有要求紫外線吸收性(紫外線遮斷性、UV遮斷性)之情況。作為此種黏著片，提出有於黏著劑層中包含紫外線吸收劑之透明黏著片(參照專利文獻4)。

尤其是於靜電電容方式之觸控面板之製造等用途中，有將黏著片直接貼附於ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)膜等金屬薄膜或金屬氧化物薄膜(以下，有時將金屬薄膜與金屬氧化物薄膜總稱為「金屬薄膜」)而使用之情況。該用途中，對於黏著片進而要求不腐蝕上述金屬薄膜之所謂耐腐蝕性。

然而，於使用包含以含羧基之單體作為單體成分而構成之丙烯酸系聚合物等之黏著片作為如上所述之貼附於金屬薄膜而使用之黏著片的情形時，若於加濕條件下保存，則產生金屬薄膜之電阻值變化、 即腐蝕金屬薄膜之問題。

另一方面，已知一種黏著片，其係具有至少1層由如下黏著劑組合物形成之黏著劑層者，該黏著劑組合物包含相對於構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分，丙烯酸及甲基丙烯酸之合計含量為10重量%以下之丙烯酸系聚合物；且自該黏著片萃取之丙烯酸根離子及甲基丙烯酸根離子之含量相對於上述黏著劑層之每單位面積為20ng/cm²以下(參照專利文獻5)。根據該黏著片，其係包含以丙烯酸或甲基丙烯酸作為單體成分之丙烯酸系聚合物者，且對於ITO膜等金屬薄膜之耐腐蝕性優異。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2003-238915號公報

[專利文獻2]日本專利特開2003-342542號公報

[專利文獻3]日本專利特開2004-231723號公報

[專利文獻4]日本專利特開2013-75978號公報

[專利文獻5]日本專利特開2010-195942號公報

近年來，於靜電電容方式之觸控面板之製造等用途中，使用代替ITO膜而具有銀奈米線層(AgNW層)之膜作為金屬薄膜者逐漸增加。如上所述之自黏著片萃取之丙烯酸根離子及甲基丙烯酸根離子之含量相對於黏著劑層之每單位面積為20ng/cm²以下之黏著片雖然對於ITO膜之耐腐蝕性優異，但對於銀奈米線層之耐腐蝕性不充分。即，對於貼附於具有銀奈米線層之光學構件上之用途之黏著片，要求有較對於ITO膜之耐腐蝕性高之耐腐蝕性。可推測其原因在於銀奈米線層容易因黏著劑層中之丙烯酸根離子而使銀離子化。又，銀奈米線層尤其容 易因照射紫外線而促進腐蝕。因此，目前需要對於銀奈米線層之耐腐蝕性(尤其是照射紫外線之環境下之耐腐蝕性(有時稱為「耐UV性」))優異之黏著片。

因此，本發明之目的在於提供一種對於銀奈米線層之耐腐蝕性(尤其是耐UV性)優異之光學用黏著片。

本發明者等人為了達成上述目的而進行了潛心研究，結果發現藉由具有黏著劑層之銀奈米線層用光學用黏著片且將自黏著劑層萃取之丙烯酸根離子設為極少量，能夠獲得對於銀奈米線層之耐腐蝕性優異之黏著片，從而完成本發明。

即，本發明提供一種銀奈米線層用光學用黏著片，其特徵在於，其係具有黏著劑層之黏著片，且藉由離子層析法而測定之利用純水於100℃、45分鐘之條件下自上述黏著劑層萃取的丙烯酸根離子之量相對於上述黏著劑層每1g為5μg/g以下。

上述黏著劑層較佳為包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。

上述黏著劑層較佳為包含紫外線吸收劑。

上述紫外線吸收劑之以下述方式求出之吸光度A較佳為0.5以下。吸光度A：對於上述紫外線吸收劑之0.08%甲苯溶液照射波長400nm之光而測定之吸光度

上述紫外線吸收劑較佳為選自由苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑及羥基苯基三

系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑。

上述黏著劑層較佳為相對於上述黏著劑層中之基礎聚合物100重量份而包含上述紫外線吸收劑0.01~10重量份。

上述光學用黏著片較佳為用於膜感測器之光學用黏著片。

本發明之光學用黏著片對於銀奈米線層之耐腐蝕性優異。又，照射紫外線之環境下之耐腐蝕性尤其優異。因此，能夠較佳地用於貼附於具有銀奈米線層之光學構件尤其是形成有銀奈米線膜等銀奈米線層之透明導電性膜上之用途等。

1‧‧‧光學製品

11‧‧‧外罩

12‧‧‧本發明之光學用黏著片

13‧‧‧基材

14‧‧‧銀奈米線層

15‧‧‧保護層

30‧‧‧試片

31‧‧‧透明導電性膜(1)

32‧‧‧透明基材

33‧‧‧銀奈米線層

34‧‧‧保護層

35‧‧‧雙面黏著片

36‧‧‧玻璃板

圖1係表示使用本發明之光學用黏著片之光學製品的一例之概略剖面圖。

圖2係表示使用本發明之光學用黏著片之光學製品的另一例之概略剖面圖。

圖3係表示實施例及比較例中所製作之雙面黏著片之耐UV性之評價中所使用的試片之概略圖(上表面俯視圖)。

圖4係表示實施例及比較例中所製作之雙面黏著片之耐UV性之評價中所使用的試片之概略圖(圖3之A-A'線剖面圖)。

本發明之銀奈米線層用光學用黏著片至少具有如下黏著劑層：黏著劑層係藉由離子層析法而測定之利用純水於100℃、45分鐘之條件下萃取之丙烯酸根離子之量相對於黏著劑層每1g為5μg/g以下。再者，本說明書中，有時將上述黏著劑層稱為「本發明之黏著劑層」。又，本說明書中，有時將「本發明之銀奈米線層用光學用黏著片」僅稱為「本發明之光學用黏著片」。又，「黏著片」包含「黏著帶」之意義。即，本發明之光學用黏著片亦可為具有帶狀形態之黏著帶。

關於本發明之光學用黏著片，只要貼附於銀奈米線層側(例如光學製品內之存在銀奈米線層之側的光學構件)之黏著面為利用本發明之黏著劑層之黏著面(黏著劑層表面)，則其形態並無特別限定。例如可為僅單面為黏著面之單面黏著片，亦可為雙面為黏著面之雙面黏著 片。又，於本發明之光學用黏著片為雙面黏著片之情形時，本發明之光學用黏著片可具有以本發明之黏著劑層提供兩黏著面之形態，亦可具有以本發明之黏著劑層提供一黏著面而以除本發明之黏著劑層以外之黏著劑層(其他黏著劑層)提供另一黏著面之形態。再者，就使被黏著體彼此貼合之觀點而言，較佳為雙面黏著片。

本發明之光學用黏著片可為不具有基材(基材層)之所謂「無基材型」之黏著片，亦可為具有基材之類型之黏著片。再者，本說明書中，有時將「無基材型」之黏著片稱為「無基材之黏著片」，有時將具有基材之類型之黏著片稱為「附基材之黏著片」。作為上述無基材之黏著片，例如可列舉：僅包含本發明之黏著劑層之雙面黏著片或包含本發明之黏著劑層及其他黏著劑層(除本發明之黏著劑層以外的黏著劑層)之雙面黏著片等。又，作為上述附基材之黏著片，例如可列舉：於基材之單面側具有本發明之黏著劑層之單面黏著片或於基材之雙面側具有本發明之黏著劑層之雙面黏著片、或者於基材之一面側具有本發明之黏著劑層而於另一面側具有其他黏著劑層之雙面黏著片等。再者，所謂上述「基材(基材層)」，為支持體，係將本發明之光學用黏著片用(貼附)於被黏著體上時，與黏著劑層一起貼附於被黏著體上之部分。於上述基材上不包含黏著片之使用(貼附)時剝離之隔離膜(剝離襯墊)。

(本發明之黏著劑層)

本發明之黏著劑層中，藉由離子層析法而測定之利用純水於100℃、45分鐘之條件下自黏著劑層萃取之丙烯酸根離子量(有時稱為「萃取丙烯酸根離子量」)係於1g黏著劑層中為5μg/g以下(例如0~5μg/g)，較佳為4.5μg/g以下(例如0~4.5μg/g)，更佳為4μg/g以下(例如0~4μg/g)，進而較佳為3.2μg/g以下(例如0~3.2μg/g)，尤佳為3μg/g以下(例如0~3μg/g)，最佳為2.5μg/g以下(例如0~2.5μg/g)。上 述萃取丙烯酸根離子量表示將黏著片置於加濕環境下等之情形時之來自黏著劑層之丙烯酸根離子於水分中之易游離度。若上述萃取丙烯酸根離子量超過5μg/g，則於以將本發明之黏著劑層貼附於存在銀奈米線層之側的光學構件上之方式貼附黏著片，並於加濕條件下等水分之存在下保存時，因自黏著劑層游離之丙烯酸根離子之影響，而腐蝕銀奈米線層，電阻值上升，導電性容易降低。

上述「萃取丙烯酸根離子量」能夠藉由以下之方法而進行測定。

首先，將黏著劑層切割成適當之大小，將PET膜(厚度25~50μm)貼附於黏著劑層之一黏著面上，將僅使單側之黏著面露出者設為試片。再者，於本發明之光學用黏著片為附基材之單面黏著片之情形時，視需要亦可將使剝離襯墊剝離之狀態者設為試片。又，於本發明之光學用黏著片為包含1層黏著劑層之無基材型雙面黏著片之情形時，亦可使用在黏著劑層之一面設置有剝離襯墊之狀態者作為試片。試片之黏著面之露出面積較佳為100cm²。

繼而，將上述試片放入至溫度100℃之純水中，煮沸45分鐘並進行丙烯酸根離子之煮沸萃取。

接著，藉由離子層析法(Ion Chromatography)而測定上述中所獲得之萃取液中之丙烯酸根離子之量(單位：μg)，算出試片中之相對於黏著劑層每1g之丙烯酸根離子之量(單位：μg/g)。離子層析法(Ion Chromatography)之測定條件並無特別限定，例如能夠於下述條件下進行測定。

[離子層析法之測定條件]

分析裝置：Thermo Fisher Scientific公司製造、ICS-3000

分離管柱：Ion Pac AS18(4mm×250mm)

保護管柱：Ion Pac AG18(4mm×50mm)

去除系統：AERS-500(External Mode)

檢測器：導電度檢測器

溶離液：KOH水溶液

(使用溶離液產生器EGIII)

溶離液流量：1.0ml/分

試樣注入量：250μl

作為本發明之構成黏著劑層之黏著劑，並無特別限定，例如可列舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺基甲酸乙酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑等。其中，作為構成黏著劑層之黏著劑，就透明性、黏著性、耐候性、成本、黏著劑之設計之容易度之方面而言，較佳為丙烯酸系黏著劑。即，本發明之黏著劑層較佳為由丙烯酸系黏著劑所構成之丙烯酸系黏著劑層。上述黏著劑可單獨使用或組合2種以上使用。

上述丙烯酸系黏著劑層含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。上述丙烯酸系聚合物係包含丙烯酸系單體(於分子中具有(甲基)丙烯醯基之單體)作為構成聚合物之單體成分之聚合物。上述丙烯酸系聚合物較佳為包含(甲基)丙烯酸烷基酯作為構成聚合物之單體成分之聚合物。再者，丙烯酸系聚合物可單獨使用或組合2種以上使用。

形成本發明之黏著劑層之黏著劑組合物可為任一形態。例如黏著劑組合物可為乳液型、溶劑型(溶液型)、活性能量線硬化型、熱熔融型(熱熔型)等。其中，就生產性之方面、容易獲得光學特性或外觀性優異之黏著劑層之方面而言，較佳為溶劑型、活性能量線硬化型之黏著劑組合物。尤其是就能夠進一步減少黏著劑層中之丙烯酸根離子之量之觀點而言，較佳為溶劑型之黏著劑組合物。

即，本發明之黏著劑層較佳為含有丙烯酸系聚合物作為基礎聚 合物之丙烯酸系黏著劑層，藉由溶劑型丙烯酸系黏著劑組合物而形成。

作為上述活性能量線，例如可列舉α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射或紫外線等，尤佳為紫外線。即，上述活性能量線硬化型黏著劑組合物較佳為紫外線硬化型黏著劑組合物。

作為形成上述丙烯酸系黏著劑層之黏著劑組合物(丙烯酸系黏著劑組合物)，例如可列舉：以丙烯酸系聚合物作為必需成分之丙烯酸系黏著劑組合物或構成丙烯酸系聚合物之單體(Monomer)之混合物(有時稱為「單體混合物」)、或者以其部分聚合物作為必需成分之丙烯酸系黏著劑組合物等。作為前者，例如可列舉所謂溶劑型之丙烯酸系黏著劑組合物等。又，作為後者，例如可列舉所謂活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑組合物等。所謂上述「單體混合物」，係指包含構成聚合物之單體成分之混合物。又，所謂上述「部分聚合物」，亦有時稱為「預聚物」，係指上述單體混合物中之單體成分中之1種或2種以上之單體成分部分聚合之組合物。

上述丙烯酸系聚合物係以丙烯酸系單體作為必需之單體成分(Monomer component)而構成(形成)之聚合物。上述丙烯酸系聚合物較佳為以(甲基)丙烯酸烷基酯作為必需之單體成分而構成(形成)之聚合物。即，作為上述丙烯酸系聚合物較佳為包含(甲基)丙烯酸烷基酯作為結構單元。本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」，係指「丙烯酸」及/或「甲基丙烯酸」(「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」中之一者或兩者)，其他亦同樣。再者，上述丙烯酸系聚合物係藉由1種或2種以上之單體成分而構成。

作為必需之單體成分之上述(甲基)丙烯酸烷基酯可較佳地列舉具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或組合2種以上使用。

作為具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，並無特別限定，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基((甲基)丙烯酸硬脂酯)、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等具有碳數為1~20之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。其中，上述具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯較佳為具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯，更佳為丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)。又，上述具有直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或組合2種以上使用。

構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述(甲基)丙烯酸烷基酯之比率並無特別限定，較佳為50重量%以上(例如50~100重量%)，更佳為53~90重量%，進而較佳為55~85重量%。

上述丙烯酸系聚合物亦可與上述(甲基)丙烯酸烷基酯一起含有共聚合性單體作為構成聚合物之單體成分。即，上述丙烯酸系聚合物亦可含有共聚合性單體作為結構單元。再者，共聚合性單體可單獨使用或組合2種以上使用。

作為上述共聚合性單體，並無特別限定，就高濕環境下之白濁化之抑制及耐久性提昇、對於銀奈米線層或下述保護層之接著可靠 性、與紫外線吸收劑等各種添加劑之相溶性、透明性之方面而言，可較佳地適用於分子內具有氮原子之單體、於分子內具有羥基之單體。即，上述丙烯酸系聚合物較佳為含有於分子內具有氮原子之單體作為結構單元。又，上述丙烯酸系聚合物較佳為含有於分子內具有羥基之單體作為結構單元。

上述於分子內具有氮原子之單體係於分子內(1分子內)具有至少1個氮原子之單體(Monomer)。本說明書中，有時將上述「於分子內具有氮原子之單體」稱為「含氮原子之單體」。作為上述含氮原子之單體，並無特別限定，可較佳地列舉環狀含氮單體、(甲基)丙烯醯胺類等。再者，含氮原子之單體可單獨使用或組合2種以上使用。

上述環狀含氮單體只要具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等含不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有環狀氮結構者，則並無特別限定。上述環狀氮結構較佳為於環狀結構內具有氮原子者。

作為上述環狀含氮單體，例如可列舉：N-乙烯基環狀醯胺(內醯胺系乙烯基單體)、具有含氮雜環之乙烯系單體等。

作為上述N-乙烯基環狀醯胺，例如可列舉下述式(1)所表示之N-乙烯基環狀醯胺。

(式(1)中、R¹表示2價之有機基)

上述式(1)中之R¹為2價有機基，較佳為2價飽和烴基或不飽和烴基，更佳為2價飽和烴基(例如碳數3~5之伸烷基等)。

作為上述式(1)所表示之N-乙烯基環狀醯胺，例如可列舉：N-乙烯基-2-吡咯啶酮、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-乙烯基-3-

啉酮、N-乙烯基-2-己內醯胺、N-乙烯基-1,3-

-2-酮、N-乙烯基-3,5-

啉二酮 等。

作為上述具有含氮雜環之乙烯系單體，例如可列舉：

啉環、哌啶環、吡咯啶環、哌

環等具有含氮雜環之丙烯酸系單體等。

作為上述具有含氮雜環之乙烯系單體，並無特別限定，例如可列舉：(甲基)丙烯醯基

啉、N-乙烯基哌

、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基吡

、N-乙烯基

啉、N-乙烯基吡唑、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基

唑、乙烯基異

唑、乙烯基噻唑、乙烯基異噻唑、乙烯基嗒

、(甲基)丙烯醯基吡咯啶酮、(甲基)丙烯醯基吡咯啶、(甲基)丙烯醯基哌啶等。

作為上述具有含氮雜環之乙烯系單體，其中，較佳為具有含氮雜環之丙烯酸系單體，更佳為(甲基)丙烯醯基

啉、(甲基)丙烯醯基吡咯啶、(甲基)丙烯醯基哌啶。

作為上述(甲基)丙烯醯胺類，例如可列舉：(甲基)丙烯醯胺、N-烷基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺等。作為上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可列舉：N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-正丁基(甲基)丙烯醯胺、N-辛基(甲基)丙烯醯胺等。進而，於上述N-烷基(甲基)丙烯醯胺中，亦包含如二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、二乙基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺之具有胺基之(甲基)丙烯醯胺。作為上述N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可列舉：N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(正丁基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二(第三丁基)(甲基)丙烯醯胺等。

又，於上述(甲基)丙烯醯胺類中，例如亦包含各種N-羥烷基(甲基)丙烯醯胺。作為上述N-羥烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可列舉：N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥丙 基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-2-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等。

又，於上述(甲基)丙烯醯胺類中，例如亦包含各種N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺。作為上述N-烷氧基烷基(甲基)丙烯醯胺，例如可列舉：N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺等。

又，作為除上述環狀含氮單體、上述(甲基)丙烯醯胺類以外之含氮原子之單體，例如可列舉：含胺基之單體、含氰基之單體、含醯亞胺基之單體、含異氰酸酯基之單體等。作為上述含胺基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等。作為上述含氰基之單體，例如可列舉丙烯腈、甲基丙烯腈等。作為上述含醯亞胺基之單體，可列舉：馬來醯亞胺系單體(例如N-環己基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等)、衣康醯亞胺系單體(例如N-甲基衣康醯亞胺、N-乙基衣康醯亞胺、N-丁基衣康醯亞胺、N-辛基衣康醯亞胺、N-2-乙基己基衣康醯亞胺、N-月桂基衣康醯亞胺、N-環己基衣康醯亞胺等)、琥珀醯亞胺系單體(例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等)等。作為上述含異氰酸酯基之單體，例如可列舉2-(甲基)丙烯醯氧基乙基異氰酸酯等。

其中，作為上述含氮原子之單體，較佳為環狀含氮單體，更佳為N-乙烯基環狀醯胺。更具體而言，尤佳為N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)。

於上述丙烯酸系聚合物含有上述含氮原子之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中的上述含氮原子之單體之比率並無特別限定，較佳為1重量%以上，更佳為3重量%以上，進而較佳為5重量%以上。若上述比率為1重量%以上，則能夠減少於分子內具有羥基之單體之比率，故而有能夠進一步減少源自於分子內具有羥基之單體的丙烯酸根離子之量之傾向，因此較佳。進而，高濕環境下之白濁化之抑制及耐久性進一步提昇，能夠獲得對於銀奈米線層或下述保護層之更高之接著可靠性，因此較佳。又，關於上述含氮原子之單體之比率之上限，就獲得具有適度之柔軟性的黏著劑層之方面、獲得透明性優異之黏著劑層之方面而言，較佳為30重量%以下，更佳為25重量%以下，進而較佳為20重量%以下。

上述於分子內具有羥基之單體係於分子內(1分子內)具有至少1個羥基(Hydroxyl)之單體，可較佳地列舉具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等含不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羥基者。其中，上述於分子內具有羥基之單體中，不包含上述含氮原子之單體。即，本說明書中，於上述「含氮原子之單體」中包含分子內同時具有氮原子及羥基之單體。本說明書中，有時將上述「於分子內具有羥基之單體」稱為「含羥基之單體」。再者，含羥基之單體可單獨使用或組合2種以上使用。

作為上述含羥基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸羥基辛酯、(甲基)丙烯酸羥基癸酯、(甲基)丙烯酸羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯；乙烯醇；烯丙醇等。

其中，作為上述含羥基之單體，較佳為含羥基之(甲基)丙烯酸酯，更佳為丙烯酸2-羥乙酯(HEA)、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)。

於上述丙烯酸系聚合物含有上述含羥基之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中的上述含羥基之單體之比率並無特別限定，就高濕環境下之白濁化之抑制及耐久性提昇、獲得對於銀奈米線層或下述保護層之更高之接著可靠性之方面而言，較佳為0.5重量%以上，更佳為0.8重量%以上，進而較佳為1重量%以上。又，上述含羥基之單體之比率之上限較佳為30重量%以下，更佳為25重量%以下，進而較佳為15重量%以下。若上述比率為30重量%以下(尤其是25重量%以下)，則有能夠進一步減少源自含羥基之單體的丙烯酸根離子之量之傾向，因此較佳。再者，可推測源自含羥基之單體之丙烯酸根離子為於使用含羥基之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時必然混入者。可推測其原因在於，在製造含羥基之單體之過程中混入丙烯酸根離子，在市售品中作為雜質以一定比率存在丙烯酸根離子。又，於藉由活性能量線硬化型黏著劑組合物而形成本發明之黏著劑層之情形時，關於構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中的上述含羥基之單體之比率之上限，就進一步減少黏著劑層中之丙烯酸根離子量之觀點而言，較佳為10重量%以下，更佳為5重量%以下。

構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之上述含氮原子之單體及上述含羥基之單體的比率之合計並無特別限定，就高濕環境下之白濁化之抑制及耐久性提昇、獲得對於銀奈米線層或下述保護層之更高之接著可靠性之方面而言，較佳為5重量%以上，更佳為10重量%以上，進而較佳為15重量%以上。又，關於上述比率之合計之上限，就獲得具有適度之柔軟性之黏著劑層之方面、獲得透明性優異之黏著劑層之方面而言，較佳為50重量%以下，更佳為40重量%以下，進而較佳為35重量%以下。

作為除含氮原子之單體及含羥基之單體以外之共聚合性單體， 進而可列舉含脂環結構之單體。上述含脂環結構之單體只要為具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等含不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有脂環結構者，則並無特別限定。例如於上述含脂環結構之單體中包含具有環烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。再者，含脂環結構之單體可單獨使用或組合2種以上使用。

上述含脂環結構之單體中之脂環結構為環狀烴結構，較佳為碳數5以上，更佳為碳數6~24，進而較佳為碳數6~15，尤佳為碳數6~10。

作為上述含脂環結構之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸環丙酯、(甲基)丙烯酸環丁酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環庚酯、(甲基)丙烯酸環辛酯、(甲基)丙烯酸異

酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、下述式(2)所表示之HPMPA、下述式(3)所表示之TMA-2、下述式(4)所表示之HCPA等(甲基)丙烯酸系單體。再者，下述式(4)中，以線連接之環己基環與括弧內之結構式的鍵結位置並無特別限定。該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸異

酯。

[化3]

於上述丙烯酸系聚合物含有上述含脂環結構之單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中的上述含脂環結構之單體之比率並無特別限定，就耐久性提昇、獲得對於銀奈米線層或下述保護層之更高之接著可靠性之方面而言，較佳為10重量%以上。又，關於上述含脂環結構之單體之比率之上限，就獲得具有適度之柔軟性的黏著劑層之方面而言，較佳為50重量%以下，更佳為40重量%以下，進而較佳為30重量%以下。

進而，作為共聚合性單體，例如可列舉多官能性單體。作為上述多官能性單體，例如可列舉：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、丙烯酸環氧基酯、聚酯丙烯酸酯、胺基甲酸乙酯丙烯酸酯等。再者，多官能性單體可單獨使用或組合2種以上使用。

於上述丙烯酸系聚合物含有上述多官能性單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中的上述多官能性單體之比率並無特別限定，較佳為0.5重量%以下(例如超過0重量%且為0.5重量%以下)，更佳為0.2重量%以下(例如超過0重量%且為0.2重量%以下)。

又，作為上述共聚合性單體，可列舉(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯。作為上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯，並無特別限定，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等。其中，上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯較佳為丙烯酸烷氧基烷基酯，更佳為丙烯酸2-甲氧基乙酯(MEA)。再者，上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯可單獨使用或組合2種以上使用。

於上述丙烯酸系聚合物包含上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯作為構成聚合物之單體成分之情形時，上述(甲基)丙烯酸烷基酯與上述(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯之比率並無特別限定，以[前者：後者](重量比)計，較佳為超過100：0且為25：75以下，更佳為超過100：0且為50：50以下。

除此以外，作為上述共聚合性單體，例如亦可列舉：含羧基之單體、含環氧基之單體、含磺酸基之單體、含磷酸基之單體、具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯、乙烯基酯類、芳香族乙烯基化合物、烯烴類或二烯類、乙烯醚類、氯乙烯等。作為上述含羧基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯酸、異丁烯酸等，又，於上述含羧基之單體中，例如亦包含馬來酸酐、衣康酸酐等含酸酐基之單體。作為上述含環氧基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等。作為上述含磺 酸基之單體，例如可列舉乙烯基磺酸鈉等。作為上述具有芳香族烴基之(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。作為上述乙烯基酯類，例如可列舉乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等。作為上述芳香族乙烯化合物，例如可列舉苯乙烯、乙烯基甲苯等。作為上述烯烴類或二烯類，例如可列舉：乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯、異丁烯等。作為上述乙烯醚類，例如可列舉乙烯基烷醚等。

關於上述丙烯酸系聚合物，就獲得對銀奈米線層具有優異之耐腐蝕性之丙烯酸系黏著劑層之方面而言，較佳為作為構成聚合物之單體成分，不含有或實質上不含有含酸性基之單體，尤佳為不含有或實質上不含有含羧基之單體。作為含酸性基之單體，例如可列舉：含羧基之單體、含磺酸基之單體、含磷酸基之單體等。具體而言，可謂實質上不含有構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中之含酸性基之單體之比率為0.05重量%以下(較佳為0.01重量%以下)者。

上述丙烯酸系聚合物並無特別限定，較佳為作為構成聚合物之單體成分，包含形成均聚物時之玻璃轉移溫度(Tg)較高之單體(以下，有時稱為「高Tg單體」)。若使用高Tg單體作為上述單體成分，則含有該丙烯酸系聚合物之黏著劑變硬，本發明之光學用黏著片於高溫下對銀奈米線層或下述保護層之接著可靠性進一步提昇，因此較佳。

形成上述高Tg單體之均聚物時之玻璃轉移溫度並無特別限定，例如為20℃以上，較佳為30℃以上，更佳為90℃以上。藉由上述高Tg單體之Tg於上述範圍內，黏著劑層之凝集力提高。

上述高Tg單體可為作為構成丙烯酸系聚合物之單體成分中所含之單體而例示之上述單體，亦可為除此以外之單體。尤其是構成丙烯酸系聚合物之單體成分較佳為作為構成上述丙烯酸系聚合物之單體成 分而例示之單體，且包含作為高Tg單體之單體成分。上述高Tg單體可僅為1種，亦可為2種以上。

作為上述高Tg單體，並無特別限定，例如可列舉：甲基丙烯酸甲酯(Tg：105℃)、甲基丙烯酸乙酯(Tg：65℃)、甲基丙烯酸環己酯(Tg：83℃)、丙烯酸異

酯(Tg：94℃)、甲基丙烯酸異

酯(Tg：150℃)、甲基丙烯酸苄酯(Tg：54℃)、甲基丙烯酸縮水甘油酯(Tg：46℃)、甲基丙烯酸硬脂酯(Tg：38℃)、甲基丙烯酸3-羥丙酯(Tg：26℃)、甲基丙烯酸2-羥乙酯(Tg：55℃)、丙烯酸(Tg：106℃)、甲基丙烯酸(Tg：227℃)等。又，除上述以外，例如亦可列舉：乙酸乙烯酯(Tg：32℃)、丙烯腈(Tg：97℃)、甲基丙烯腈(Tg：120℃)、苯乙烯(Tg：80℃)、2-甲基苯乙烯(Tg：136℃)、丙烯醯胺(Tg：165℃)、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)(Tg：80℃)等。其中，較佳為甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸異

酯、NVP。

於上述丙烯酸系聚合物含有上述高Tg單體作為構成聚合物之單體成分之情形時，構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)中的上述高Tg單體之比率並無特別限定，較佳為1~50重量%，更佳為5~40重量%，進而較佳為10~30重量%。若高Tg單體之比率於上述範圍內，則本發明之光學用黏著片於高溫下對銀奈米線層或下述保護層之接著可靠性進一步提昇，因此較佳。再者，於構成聚合物之單體成分中包含2種以上之高Tg單體之情形時，上述「高Tg單體之比率」係上述2種以上之高Tg單體的比率之合計。

作為上述丙烯酸系聚合物，上述中，較佳為由包含具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%(較佳為55~85重量%)、選自由含氮原子之單體及含羥基之單體所組成之群中之1種以上之單體10~50重量%(較佳為15~40重量%)、含碳數為6~10之脂環結構之單體0~40重量%(較佳為0~30重量%)的單體混合 物所構成之丙烯酸系聚合物，更佳為由包含具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%(較佳為55~85重量%)、含氮原子之單體3~30重量%(較佳為5~25重量%)、含羥基之單體0.8~25重量%(較佳為1~15重量%)、含碳數為6~10之脂環結構之單體0~40重量%(較佳為0~30重量%)且含氮原子之單體及含羥基之單體之比率之合計為10~50重量%(較佳為15~40重量%)的單體混合物所構成之丙烯酸系聚合物。再者，上述比率(重量%)係相對於構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分(100重量%)之比率。

本發明之黏著劑層中之基礎聚合物(尤其是丙烯酸系聚合物)之含量並無特別限定，相對於本發明之黏著劑層之總重量100重量%，較佳為50重量%以上(例如50~100重量%)，更佳為80重量%以上(例如80~100重量%)，進而較佳為90重量%以上(例如90~100重量%)。

本發明之黏著劑層所含有之上述丙烯酸系聚合物等基礎聚合物係藉由使單體成分聚合而獲得。作為其聚合方法，並無特別限定，例如可列舉：溶液聚合方法、乳化聚合方法、塊狀聚合方法、利用活性能量線照射之聚合方法(活性能量線聚合方法)等。其中，就黏著劑層之透明性、成本等方面而言，較佳為溶液聚合方法、活性能量線聚合方法，就進一步減少黏著劑層中之丙烯酸根離子量之觀點而言，更佳為溶液聚合方法。

又，於上述單體成分之聚合時，亦可使用各種之通常之溶劑。作為上述溶劑，例如可列舉：乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯類；甲苯、苯等芳香族烴類；正己烷、正庚烷等脂肪族烴類；環己烷、甲基環己烷等脂環式烴類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等有機溶劑。再者，溶劑可單獨使用或組合2種以上使用。

於上述單體成分之聚合時，根據聚合反應之種類，亦可使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑(光起始劑)等聚合起始劑。再者，聚合起 始劑可單獨使用或組合2種以上使用。

作為上述熱聚合起始劑，並無特別限定，例如可列舉：偶氮系聚合起始劑、過氧化物系聚合起始劑(例如過氧化二苯甲醯、過氧化順丁烯二酸第三丁酯等)、氧化還原系聚合起始劑等。其中，較佳為日本專利特開2002-69411號公報中所揭示之偶氮系聚合起始劑。作為上述偶氮系聚合起始劑，可列舉：2,2'-偶氮二異丁腈(以下，有時稱為「AIBN」)、2,2'-偶氮雙-2-甲基丁腈(以下，有時稱為「AMBN」)、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮雙-4-氰基戊酸等。再者，熱聚合起始劑可單獨使用或組合2種以上使用。

於上述丙烯酸系聚合物之聚合時使用上述偶氮系聚合起始劑之情形時，上述偶氮系聚合起始劑之使用量並無特別限定，例如相對於構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為0.05重量份以上，更佳為0.1重量份以上，又，較佳為0.5重量份以下，更佳為0.3重量份以下。

作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，例如可列舉：安息香醚系光聚合起始劑、苯乙酮系光聚合起始劑、α-酮醇系光聚合起始劑、芳香族磺醯氯系光聚合起始劑、光活性肟系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、二苯基乙二酮系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、縮酮系光聚合起始劑、9-氧硫

系光聚合起始劑等。除此以外，亦可列舉：醯基氧化膦系光聚合起始劑、二茂鈦系光聚合起始劑。作為上述安息香醚系光聚合起始劑，例如可列舉：安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、大茴香醚甲醚等。作為上述苯乙酮系光聚合起始劑，例如可列舉：2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-(第三丁基)二氯苯乙酮等。作為上述α-酮醇系光聚合起始劑，例如可列 舉：2-甲基-2-羥基苯丙酮、1-[4-(2-羥乙基)苯基]-2-甲基丙烷-1-酮等。作為上述芳香族磺醯氯系光聚合起始劑，例如可列舉2-萘磺醯氯等。作為上述光活性肟系光聚合起始劑，例如可列舉：1-苯基-1,1-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)-肟等。作為上述安息香系光聚合起始劑，例如可列舉安息香等。作為上述二苯基乙二酮系光聚合起始劑，例如可列舉二苯基乙二酮等。作為上述二苯甲酮系光聚合起始劑，例如可列舉：二苯甲酮、苯甲醯基安息香酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羥基環己基苯基酮等。作為上述縮酮系光聚合起始劑，例如可列舉苄基二甲基縮酮等。作為上述9-氧硫

系光聚合起始劑，例如可列舉：9-氧硫

、2-氯9-氧硫

、2-甲基9-氧硫

、2,4-二甲基9-氧硫

、異丙基9-氧硫

、2,4-二異丙基9-氧硫

、十二烷基9-氧硫

等。作為上述醯基氧化膦系光聚合起始劑，例如可列舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等。作為上述二茂鈦系光聚合起始劑，例如可列舉：雙(η⁵-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。再者，光聚合起始劑可單獨使用或組合2種以上使用。

於上述丙烯酸系聚合物之聚合時使用上述光聚合起始劑之情形時，上述光聚合起始劑之使用量並無特別限定，例如相對於構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，較佳為0.01重量份以上，更佳為0.1重量份以上，又，較佳為3重量份以下，更佳為1.5重量份以下。

本發明之黏著劑層並無特別限定，較佳為含有紫外線吸收劑(UVA)。若本發明之黏著劑層包含紫外線吸收劑，則有能夠進一步減少萃取丙烯酸根離子量之傾向。尤其是於本發明之黏著劑層為由溶劑型黏著劑組合物所形成之丙烯酸系黏著劑層之情形時，較佳為包含紫外線吸收劑。再者，紫外線吸收劑可單獨使用或組合2種以上使用。

作為上述紫外線吸收劑，並無特別限定，例如可列舉：苯并三唑系紫外線吸收劑、羥基苯基三

系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑等。

作為苯并三唑系紫外線吸收劑(苯并三唑系化合物)，例如可列舉：2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(商品名「TINUVIN PS」、BASF公司製造)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(商品名「TINUVIN 384-2」、BASF公司製造)、辛基3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸酯及2-乙基己基-3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2基)苯基]丙酸酯之混合物(商品名「TINUVIN 109」、BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 900」、BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 928」、BASF製造)、甲基3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯/聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 1130」、BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-對甲酚(商品名「TINUVIN P」、BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 234」、BASF公司製造)、2-[5-氯-2H-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 326」、BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二-第三戊基苯酚(商品名「TINUVIN 328」、BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 329」、BASF公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚](商品名「TINUVIN 360」、BASF公司製造)、甲基3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯與聚乙二醇300之 反應產物(商品名「TINUVIN 213」、BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚(商品名「TINUVIN 571」、BASF公司製造)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(商品名「Sumisorb 250」、住友化學股份有限公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-第三辛基苯酚](商品名「Adekastab LA-31」、ADEKA股份有限公司製造)等。

作為羥基苯基三

系紫外線吸收劑(羥基苯基三

系化合物)，例如可列舉：2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三

-2-基)-5-羥基苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷氧基)甲基]環氧乙烷之反應產物(商品名「TINUVIN 400」、BASF公司製造)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三

-2-基]-5-[3-(十二烷氧基)-2-羥基丙氧基]苯酚)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三

與(2-乙基己基)-縮水甘油酸酯之反應產物(商品名「TINUVIN 405」、BASF公司製造)、2,4-雙(2-羥基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三

(商品名「TINUVIN 460」、BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三

-2-基)-5-[(己基)氧基]-苯酚(商品名「TINUVIN 1577」、BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三

-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]-苯酚(商品名「Adekastab LA-46」、ADEKA股份有限公司製造)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三

(商品名「TINUVIN 479」、BASF公司製造)等。除此以外，亦可列舉：下述式(5)所表示之化合物(商品名「TINUVIN 477」、BASF公司製造)。

[化5]

作為二苯甲酮系紫外線吸收劑(二苯甲酮系化合物)、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑(氧基二苯甲酮系化合物)，例如可列舉：2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸(無水及三水鹽)、2-羥基-4-辛氧基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羥基二苯甲酮、4-苄基氧基-2-羥基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮(商品名「KEMISORB 111」、Chemipro Kasei股份有限公司製造)、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮(商品名「SEESORB 106」、Shipro Kasei股份有限公司製造)、2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮等。

作為水楊酸酯系紫外線吸收劑(水楊酸酯系化合物)，例如可列舉：苯基2-丙烯醯氧基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-3-甲基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-4-甲基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-5-甲基苯甲酸酯、苯基2-丙烯醯氧基-3-甲氧基苯甲酸酯、苯基2-羥基苯甲酸酯、苯基2-羥基-3-甲基苯甲酸酯、苯基2-羥基-4-甲基苯甲酸酯、苯基2-羥基-5-甲基苯甲酸酯、苯基2-羥基-3-甲氧基苯甲酸酯、2,4-二-第三丁基苯基3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸酯(商品名「TINUVIN 120」、BASF公司製造)等。

作為氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑(氰基丙烯酸酯系化合物)，例如可列舉：烷基2-氰基丙烯酸酯、環烷基2-氰基丙烯酸酯、烷氧基烷 基2-氰基丙烯酸酯、烯基2-氰基丙烯酸酯、炔基2-氰基丙烯酸酯等。

作為上述紫外線吸收劑，就具有較高之紫外線吸收性並且進一步提高銀奈米線層之耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方面、獲得具有優異之光學特性、較高之透明性的黏著劑層之容易度之方面、具有優異之光穩定性之方面而言，較佳為選自由苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、及羥基苯基三

系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑，更佳為苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑。尤佳為具有碳數為6以上之基及羥基作為取代基之苯基鍵結於構成苯并三唑環之氮原子上之苯并三唑系紫外線吸收劑。

又，關於上述紫外線吸收劑，就獲得更高之紫外線吸收性、進一步提昇銀奈米線層之耐腐蝕性(尤其是耐UV性)之方面而言，較佳為以下述方式求出之吸光度A為0.5以下。

吸光度A：對於上述紫外線吸收劑之0.08%甲苯溶液照射波長400nm之光而測定之吸光度

於本發明之黏著劑層含有紫外線吸收劑之情形時，本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中之上述紫外線吸收劑之含量並無特別限定，就萃取丙烯酸根離子量之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.01重量份以上，更佳為0.05重量份以上，進而較佳為0.1重量份以上。又，關於上述紫外線吸收劑之含量之上限，就抑制伴隨於紫外線吸收劑之添加的黏著劑之黃色化現象之產生並獲得優異之光學特性、較高之透明性及優異之外觀特性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為10重量份以下，更佳為9重量份以下，進而較佳為8重量份以下。

本發明之黏著劑層亦可含有光穩定劑。於本發明之黏著劑層含有光穩定劑之情形時，尤佳為與上述紫外線吸收劑一起含有光穩定 劑。光穩定劑能夠捕捉以光氧化方式生成之自由基，因此能夠提昇黏著劑層對於光(尤其是紫外線)之耐性。再者，光穩定劑可單獨使用或組合2種以上使用。

作為上述光穩定劑，並無特別限定，例如可列舉：酚系光穩定劑(酚系化合物)、磷系光穩定劑(磷系化合物)、硫醚系光穩定劑(硫醚系化合物)、胺系光穩定劑(胺系化合物)(尤其是受阻胺系穩定劑(受阻胺系化合物))等。

作為上述酚系光穩定劑(酚系化合物)，例如可列舉：2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、4-羥基甲基-2,6-二-第三丁基苯酚、2,6-二-第三丁基-4-乙基苯酚、丁基化羥基大茴香醚、正十八烷基3-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯基)丙酸酯、二硬脂基(4-羥基-3-甲基-5-第三丁基)苄基丙二酸酯、生育酚、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-乙基-6-第三丁基苯酚)、4,4'-亞甲基雙(2,6-二-第三丁基苯酚)、4,4'-亞丁基雙(6-第三丁基-間甲酚)、4,4'-硫代雙(6-第三丁基-間甲酚)、苯乙烯化苯酚、N,N'-六亞甲基雙(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯丙醯胺、雙(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基膦酸乙酯)鈣、1,1,3-三(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)丁烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯、四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基甲基]甲烷、1,6-己二醇-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-環己基苯酚)、2,2'-亞甲基雙[6-(1-甲基環己基)-對甲酚]、1,3,5-三(4-第三丁基-3-羥基-2,6-二甲基苄基)異三聚氰酸、1,3,5-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)異三聚氰酸、三乙二醇-雙[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯]、2,2'-草醯胺雙[乙基3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、6-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯胺基)-2,4-二辛基硫-1,3,5-三

、雙[2-第三丁基-4-甲基-6-(2-羥基-3-第三丁基-5-甲基苄基)苯基]對苯二甲酸酯、3,9-雙{2-[3-(3-第三丁基-4- 羥基-5-甲基苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷、3,9-雙{2-[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷等。

作為磷系光穩定劑(磷系化合物)，例如可列舉：亞磷酸三(壬基苯酯)、亞磷酸三(2,4-二-第三丁基苯酯)、亞磷酸三[2-第三丁基-4-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基硫)-5-甲基苯酯]、亞磷酸十三烷基酯、亞磷酸辛基二苯酯、亞磷酸二(癸基)單苯酯、二(十三烷基)季戊四醇二亞磷酸酯、二硬脂基季戊四醇二亞磷酸酯、二(壬基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4-二-第三丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(2,4,6-三-第三丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯、四(十三烷基)亞異丙基二苯酚二亞磷酸酯、四(十三烷基)-4,4'-正亞丁基雙(2-第三丁基-5-甲基苯酚)二亞磷酸酯、六(十三烷基)-1,1,3-三(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)丁三亞磷酸酯、四(2,4-二-第三丁基苯基)伸聯苯基二亞磷酸酯、9,10-二氫-9-

-10-磷雜菲-10-氧化物、三(2-[(2,4,8,10-四-第三丁基二苯[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜環庚烯-6-基)氧基]乙基)胺等。

作為硫醚系光穩定劑(硫醚系化合物)，例如可列舉：硫代二丙酸二月桂酯、二肉豆蔻酯、二硬脂基等之硫代二丙酸二烷基酯化合物；四[亞甲基(3-十二烷基硫)丙酸酯]甲烷等多元醇之β-烷基巰基丙酸酯化合物等。

作為胺系光穩定劑(胺系化合物)，例如可列舉：琥珀酸二甲酯及4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物(商品名「TINUVIN 622」、BASF公司製造)、琥珀酸二甲酯及4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物與N,N',N",N'''-四-(4,6-雙-(丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)胺基)-三

-2-基)-4,7-二氮雜癸烷-1,10-二胺之1對1之反應產物(商品名「TINUVIN 119」、BASF公司製造)、二丁胺‧1,3-三

‧ N,N'-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-1,6-己二胺與N-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)丁胺之縮聚物(商品名「TINUVIN 2020」、BASF公司製造)、聚[{6-(1,1,3,3-四甲基丁基)胺基-1,3,5-三

-2-4-二基}{2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基}亞胺基]六亞甲基{(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺基}(商品名「TINUVIN 944」、BASF公司製造)、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯與甲基1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基癸二酸酯之混合物(商品名「TINUVIN 765」、BASF公司製造)、雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯(商品名「TINUVIN 770」、BASF公司製造)、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-1-(辛氧基)-4-哌啶基)酯、1,1-二甲基乙基氫過氧化物與辛烷之反應產物(商品名「TINUVIN 123」、BASF公司製造)、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)[[3,5-雙(1,1-二甲基乙基)-4-羥基苯基]甲基]丁基丙二酸酯(商品名「TINUVIN 144」、BASF公司製造)、環己烷及過氧化N-丁基2,2,6,6-四甲基-4-哌啶胺-2,4,6-三氯-1,3,5-三

之反應產物與2-胺基乙醇之反應產物(商品名「TINUVIN 152」、BASF公司製造)、雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯及甲基1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基癸二酸酯之混合物(商品名「TINUVIN 292」、BASF公司製造)、1,2,3,4-丁四羧酸與1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶醇及3,9-雙(2-羥基-1,1-二甲基乙基)-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷之混合酯化物(商品名「Adekastab LA-63P」、ADEKA股份有限公司製造)等。作為胺系穩定劑，尤佳為受阻胺系穩定劑。

於本發明之黏著劑層含有光穩定劑之情形時，本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中的光穩定劑之含量並無特別限定，就容易表現對於光之耐性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.1重量份以上，更佳為0.2重量份以上。又，關於上述含量之上限，就難以產生由光穩定劑自身所引起之著色並容易獲得較高之透明性之方面、光學特性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份， 較佳為5重量份以下，更佳為3重量份以下。

關於本發明之黏著劑層之形成，並無特別限定，亦可使用交聯劑。例如能夠使丙烯酸系黏著劑層中之丙烯酸系聚合物交聯而控制凝膠分率。再者，交聯劑可單獨使用或組合2種以上使用。

作為上述交聯劑，並無特別限定，例如可列舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑、脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、

唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、胺系交聯劑等。其中，較佳為異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑，更佳為異氰酸酯系交聯劑。

作為上述異氰酸酯系交聯劑(多官能異氰酸酯化合物)，例如可列舉：1,2-伸乙基二異氰酸酯、1,4-伸丁基二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯等脂環族聚異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯類等。又，作為上述異氰酸酯系交聯劑，例如亦可列舉：三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯加成物(商品名「Coronate L」、Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯加成物(商品名「Coronate HL」、Nippon Polyurethane Industry股份有限公司製造)、三羥甲基丙烷/苯二甲基二異氰酸酯加成物(商品名「Takenate D-110N」、三井化學股份有限公司製造)等市售品。

作為上述環氧系交聯劑(多官能環氧基化合物)，例如可列舉：N,N,N',N'-四縮水甘油基-間二甲苯二胺、二縮水甘油基苯胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷、1,6-己二醇二縮水甘油醚、新 戊二醇二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、山梨醇聚縮水甘油醚、甘油聚縮水甘油醚、季戊四醇聚縮水甘油醚、聚甘油聚縮水甘油醚、山梨醇酐聚縮水甘油醚、三羥甲基丙烷聚縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、三縮水甘油基-三(2-羥乙基)異氰脲酸酯、間苯二酚二縮水甘油醚、雙酚-S-二縮水甘油醚，除此以外，亦可列舉於分子內具有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。又，作為上述環氧系交聯劑，例如亦可列舉商品名「Tetrad C」(三菱瓦斯化學股份有限公司製造)等市售品。

於本發明之黏著劑層之形成中使用交聯劑之情形時，上述交聯劑之使用量並無特別限定，就獲得充分之接著可靠性之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為0.001重量份以上，更佳為0.01重量份以上。又，關於上述使用量之上限，就黏著劑層獲得適度之柔軟性而提昇黏著力之方面而言，相對於基礎聚合物100重量份，較佳為10重量份以下，更佳為5重量份以下。

關於本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)，就提昇加濕條件下之接著可靠性之方面、尤其是提昇對於玻璃之接著可靠性之方面而言，亦可含有矽烷偶合劑。再者，矽烷偶合劑可單獨使用或組合2種以上使用。若上述黏著劑層含有矽烷偶合劑，則能夠提昇加濕條件下之接著性、尤其是對於玻璃之接著性。

作為上述矽烷偶合劑，並無特別限定，例如可列舉：γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-苯基-胺基丙基三甲氧基矽烷等。進而，作為矽烷偶合劑，例如亦可列舉商品名「KBM-403」(信越化學工業股份有限公司製造)等市售品。其中，作為上述矽烷偶合劑，較佳為γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷。

於本發明之黏著劑層含有矽烷偶合劑之情形時，本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)中的上述矽烷偶合劑之含量並無特別限定，相對於上述基礎聚合物100重量份，較佳為0.01重量份以上，更佳為0.02重量份以上。又，關於上述矽烷偶合劑之含量之上限，相對於上述基礎聚合物100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.5重量份以下。

本發明之黏著劑層視需要亦可於不損害本發明之效果之範圍內進而含有交聯促進劑、黏著賦予樹脂(松脂衍生物、聚萜烯樹脂、石油樹脂、油溶性苯酚等)、抗老化劑、填充劑、著色劑(顏料或染料等)、抗氧化劑、鏈轉移劑、塑化劑、軟化劑、界面活性劑、抗靜電劑等添加劑。再者，上述添加劑可單獨使用或組合2種以上使用。

於自溶劑型丙烯酸系黏著劑組合物形成本發明之黏著劑層之情形(即，本發明之黏著劑層為溶劑型丙烯酸系黏著劑層之情形)時，關於本發明之黏著劑層，就將上述萃取丙烯酸根離子量設為相對於黏著劑層每1g為5μg/g以下之觀點而言，上述中，較佳為含有丙烯酸系聚合物及紫外線吸收劑，更佳為相對於黏著劑層之總重量100重量%含有丙烯酸系聚合物50重量%以上、相對於丙烯酸系聚合物100重量份含有紫外線吸收劑0.05~9重量份(較佳為0.1~8重量份)。進而，本發明之黏著劑層尤佳為相對於黏著劑層之總重量100重量%含有：由包含具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%(較佳為55~85重量%)、選自由含氮原子之單體及含羥基之單體所組成之群中之1種以上之單體10~50重量%(較佳為15~40重量%)、含碳數為6~10之脂環結構之單體0~40重量%(較佳為0~30重量%)的單體混合物所構成之丙烯酸系聚合物50重量%以上；相對於丙烯酸系聚合物100重量份含有紫外線吸收劑0.05~9重量份(較佳為0.1~8重量份)。

於自活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑組合物形成本發明之黏著劑層之情形(即，本發明之黏著劑層為活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑層之情形)時，關於本發明之黏著劑層，就將上述萃取丙烯酸根離子量設為相對於黏著劑層每1g為5μg/g以下之觀點而言，上述中，較佳為含有由具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%(較佳為55~85重量%)、選自由含氮原子之單體及含羥基之單體所組成之群中之1種以上之單體10~50重量%(較佳為15~40重量%)的單體混合物所構成之丙烯酸系聚合物，更佳為含有由具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%(較佳為55~85重量%)、選自由含氮原子之單體及含羥基之單體所組成之群中之1種以上之單體10~50重量%(較佳為15~40重量%)的單體混合物所構成之丙烯酸系聚合物50重量%以上。進而，本發明之黏著劑層尤佳為含有由包含具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%(較佳為55~85重量%)、含氮原子之單體3~30重量%(較佳為5~25重量%)、含羥基之單體0.8~25重量%(較佳為1~15重量%)、含碳數為6~10之脂環結構之單體0~40重量%(較佳為0~30重量%)且含氮原子之單體及含羥基之單體之比率之合計為10~50重量%(較佳為15~40重量%)的單體混合物所構成之丙烯酸系聚合物50重量%以上。

本發明之黏著劑層之霧度並無特別限定，就外觀特性、透明性、光學特性之方面而言，較佳為5%以下，更佳為3%以下，進而較佳為1%以下。再者，本說明書中，霧度例如能夠使用測霧計並依據JIS K 7136而進行測定。

本發明之黏著劑層之全光線透過率並無特別限定，就外觀特性、透明性、光學特性之方面而言，較佳為85%以上，更佳為90%以上，進而較佳為92%以上。再者，本說明書中，全光線透過率例如能 夠使用測霧計並依據JIS K 7361-1而進行測定。再者，上述全光線透過率係波長400~780nm之光(可見光)之透過率。

本發明之黏著劑層之a^*並無特別限定，就獲得優異之光學特性、優異之外觀特性之方面而言，較佳為-0.5以上，更佳為-0.3以上，進而較佳為-0.1以上。又，就獲得優異之光學特性、優異之外觀特性之方面而言，較佳為0.5以下，更佳為0.3以下，進而較佳為0.1以下。再者，本說明書中，a^*值係L^*a^*b^*表色系之a^*值，依據JIS Z 8781-4(2013年)並使用例如簡易型分光色差計(商品名「DOT-3C」、村上色彩技術研究所股份有限公司製造)而進行測定。

本發明之黏著劑層之b^*並無特別限定，較佳為0.7以下，更佳為0.5以下，進而較佳為0.4以下。若b^*為0.7以下，則光學特性優異，外觀特性優異。就使用本發明之光學用黏著片之光學製品(尤其是具有以LCD為代表之顯示面板之光學製品)而言，有不損害畫面之亮度、顏色之濃度、色調之優點。再者，本說明書中，b^*值為L^*a^*b^*表色系之b^*值，能夠依據JIS Z 8781-4(2013年)並使用例如簡易型分光色差計(商品名「DOT-3C」、村上色彩技術研究所股份有限公司製造)進行測定。

本發明之黏著劑層之厚度並無特別限定，就確保紫外線吸收性並且獲得對於銀奈米線層或下述保護層之充分之接著可靠性之方面而言，較佳為12μm以上，更佳為15μm以上，進而較佳為20μm以上，尤佳為70μm以上。若上述厚度為12μm以上，有進一步減少萃取丙烯酸根離子量之傾向，因此較佳。又，關於上述厚度，就光學特性之方面而言，較佳為500μm以下，較佳為300μm以下，進而較佳為200μm以下。

本發明之黏著劑層(尤其是丙烯酸系黏著劑層)之製作方法並無特別限定，例如可列舉：將上述黏著劑組合物塗佈(塗敷)於基材或剝離 襯墊上，使所獲得之黏著劑組合物層乾燥硬化；或者將上述黏著劑組合物塗佈(塗敷)於基材或剝離襯墊上，對所獲得之黏著劑組合物層照射活性能量線而使其硬化。又，視需要亦可進一步進行加熱乾燥。

作為上述活性能量線，例如可列舉α射線、β射線、γ射線、中子射線、電子束等游離輻射或紫外線等，尤佳為紫外線。又，活性能量線之照射能量、照射時間、照射方法等並無特別限定。

上述黏著劑組合物能夠藉由公知或慣用之方法而製作。例如溶劑型丙烯酸系黏著劑組合物能夠藉由於含有上述丙烯酸系聚合物之溶液中視需要混合添加劑(例如紫外線吸收劑等)而製作。例如活性能量線硬化型丙烯酸系黏著劑組合物能夠藉由於上述丙烯酸系單體之混合物或其部分聚合物中視需要混合添加劑(例如紫外線吸收劑等)而製作。

再者，上述黏著劑組合物之塗佈(塗敷)亦可使用公知之塗佈法。例如亦可使用凹版輥式塗佈機、逆輥塗佈機、接觸輥塗佈機、浸漬輥塗機、棒式塗佈機、刮刀塗佈機、噴塗機、缺角輪塗佈機、直接塗佈機等塗佈機。

尤其是於利用活性能量線硬化型黏著劑組合物形成黏著劑層之情形時，較佳為活性能量線硬化型之黏著劑組合物包含光聚合起始劑。再者，於活性能量線硬化型黏著劑組合物含有紫外線吸收劑之情形時，較佳為至少包含於較寬之波長範圍內具有吸光特性之光聚合起始劑作為光聚合起始劑。例如較佳為至少包含除紫外線光以外對可見光亦具有吸光特性之光聚合起始劑。其原因在於，有因紫外線吸收劑之作用而抑制利用活性能量線之硬化之顧慮，但若包含於較寬之波長範圍內具有吸光特性之光聚合起始劑，則黏著劑組合物容易獲得較高之光硬化性。

(基材)

作為本發明之光學用黏著片為附基材之黏著片之情形時的基材，並無特別限定，例如可列舉：塑膠膜、抗反射(AR)膜、偏光板、相位差板等各種光學膜。作為上述塑膠膜等之素材，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯、三乙醯纖維素(TAC)、聚碸、聚芳酯、聚醯亞胺、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、商品名「ARTON」(環狀烯烴系聚合物、JSR股份有限公司製造)、商品名「ZEONOR」(環狀烯烴系聚合物、日本ZEON股份有限公司製造)等環狀烯烴系聚合物等塑膠材料。再者，該等塑膠材料可單獨使用或組合2種以上使用。又，所謂上述「基材」，係指於將黏著片貼附於被黏著體(光學構件等)時，與黏著劑層一起貼附於被黏著體之部分。於黏著片之使用時(貼附時)剝離之剝離襯墊不包括於「基材」中。

上述基材較佳為透明。上述基材之可見光波長區域之全光線透過率(依據JIS K 7361-1)並無特別限定，較佳為85%以上，更佳為88%以上。又，上述基材之霧度(依據JIS K 7136)並無特別限定，較佳為1.5%以下，更佳為1.0%以下。

上述基材之厚度並無特別限定，例如較佳為12~75μm。再者，上述基材可具有單層及多層之任一形態。又，對於上述基材之表面，例如亦可適當實施電暈放電處理、電漿處理等物理處理、底塗處理等化學處理等公知慣用之表面處理。

(剝離襯墊)

本發明之光學用黏著片亦可直至使用時之前於黏著劑層之表面(黏著面)設置剝離襯墊(隔離膜)。再者，本發明之光學用黏著片為雙面黏著片之情形時之各黏著面可藉由2片剝離襯墊而分別保護，亦可利用雙面成為剝離面之1片剝離襯墊以捲繞成捲筒狀之形態(捲繞體) 被保護。剝離襯墊係用作黏著劑層之保護材，並於貼附於被黏著體時被剝離。又，於本發明之光學用黏著片為無基材之黏著片之情形時，剝離襯墊亦發揮作為黏著劑層之支持體之作用。再者，亦可不必設置剝離襯墊。

作為上述剝離襯墊，能夠使用慣用之剝離紙等，例如可列舉：具有剝離處理層之基材、包含氟聚合物之低接著性基材或包含無極性聚合物之低接著性基材等，但並無特別限定。作為上述具有剝離處理層之基材，例如可列舉：利用聚矽氧系、長鏈烷基系、氟系、硫化鉬等剝離處理劑進行過表面處理之塑膠膜或紙等。作為上述包含氟聚合物之低接著性基材中之氟系聚合物，例如可列舉：聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、氯氟乙烯-偏二氟乙烯共聚物等。又，作為上述無極性聚合物，例如可列舉烯烴系樹脂(例如聚乙烯、聚丙烯等)等。再者，剝離襯墊能夠藉由公知或慣用之方法形成。又，剝離襯墊之厚度亦無特別限定。

(本發明之光學用黏著片)

本發明之光學用黏著片之厚度並無特別限定，較佳為12μm以上，更佳為15μm以上，進而較佳為20μm以上，尤佳為50μm以上。又，關於上述厚度，就光學特性之方面而言，較佳為500μm以下，較佳為300μm以下，進而較佳為200μm以下。再者，本發明之光學用黏著片之厚度不包括上述剝離襯墊之厚度。

本發明之光學用黏著片之貼附於具有銀奈米線層之光學構件並照射100小時紫外線後之電阻值(有時稱為「經過100小時UV照射後之電阻值」)相對於剛貼附於具有銀奈米線層之光學構件後之電阻值(有時稱為「剛貼附後之電阻值」)的比率[(經過100小時UV照射後之電阻值)/(剛貼附後之電阻值)](倍)(有時稱為「電阻值上升率」)並無特別限定，較佳為3倍以下(例如0~3倍)，更佳為2倍以下(例如0~2倍)， 進而較佳為1.5倍以下(例如0~1.5倍)。

再者，上述「經過100小時UV照射後之電阻率」例如能夠測定對將光學用黏著片貼附於具有銀奈米線層之光學構件所得者於溫度：45℃、濕度：50%RH之環境下以照度65W/cm²照射100小時紫外線而成者之電阻值而獲得。又，上述「剛貼附後之電阻率」及上述「經過100小時UV照射後之電阻率」能夠使用公知或慣用之電阻值測定器進行測定，例如能夠使用商品名「EC-80」(Napson股份有限公司製造)進行測定。又，上述紫外線之照射能夠使用公知或慣用之紫外線照射器，例如能夠使用商品名「Super Xenon Weather Meter SX75」(Suga Test Instruments股份有限公司製造)。再者，於電阻率之測定中，將光學用黏著片貼附於具有銀奈米線層之光學構件之情形時，光學用黏著片較佳為貼附於可於表面設置有下述保護層之銀奈米線層。

本發明之光學用黏著片之霧度並無特別限定，就外觀特性、透明性、光學特性之方面而言，較佳為5%以下，更佳為3%以下，進而較佳為1%以下。

本發明之光學用黏著片之全光線透過率並無特別限定，就外觀特性、透明性、光學特性之方面而言，較佳為85%以上，更佳為90%以上，進而較佳為92%以上。

本發明之光學用黏著片之a^*並無特別限定，就獲得優異之光學特性、優異之外觀特性之方面而言，較佳為-0.5以上，更佳為-0.3以上，進而較佳為-0.1以上。又，就獲得優異之光學特性、優異之外觀特性之方面而言，較佳為0.5以下，更佳為0.3以下，進而較佳為0.1以下。

本發明之光學用黏著片之b^*並無特別限定，就獲得優異之光學特性、優異之外觀特性之方面而言，較佳為0.7以下，更佳為0.5以下，進而較佳為0.4以下。

本發明之光學用黏著片之本發明之黏著劑層側之黏著力並無特別限定，就對於銀奈米線層或下述保護層之接著可靠性之方面而言，較佳為6N/20mm以上，更佳為7N/20mm以上，進而較佳為10N/20mm以上。上述黏著力為180°剝離黏著力，能夠藉由依據JIS Z 0237，於拉伸速度300mm/min、拉伸角度180°(度)之條件下自被黏著體剝離而進行測定。

先前之光學用黏著片係藉由減少作為形成黏著劑層中之丙烯酸系聚合物之單體成分的(甲基)丙烯酸之使用量，而將自黏著片萃取之丙烯酸根離子及甲基丙烯酸根離子之含量設為相對於黏著劑層之每單位面積為20ng/cm²以下，提昇對於所貼附之金屬薄膜之耐腐蝕性。關於此種先前之光學用黏著片，若不使用(甲基)丙烯酸作為形成黏著劑層中之聚合物之單體成分，則能夠將丙烯酸根離子及甲基丙烯酸根離子之含量設為20ng/cm²以下。然而，此種先前之光學用黏著片雖然對於ITO層之耐腐蝕性充分，但存在對於銀奈米線層之耐腐蝕性不充分之情形。即，即便不使用(甲基)丙烯酸作為形成黏著劑層中之聚合物之單體成分，亦存在黏著片對於銀奈米線層之耐腐蝕性不充分之情形。與此相對，本發明之光學用黏著片係銀奈米線層用光學用黏著片，具有藉由離子層析法而測定之利用純水於100℃、45分鐘之條件下自黏著劑層萃取之丙烯酸根離子之量相對於黏著劑層每1g為5μg/g以下的黏著劑層，藉此，即便於以該黏著劑層成為存在銀奈米線層之光學構件側之方式(尤其是以直接貼附於銀奈米線層或貼附於保護銀奈米線層之層之方式)貼附本發明之光學用黏著片之情形時，亦能夠藉由抑制由丙烯酸根離子所引起之銀奈米線層中之銀之離子化而提昇耐腐蝕性(尤其是耐UV性)，抑制電阻值上升(尤其是照射紫外線時之電阻值上升)。

本發明之光學用黏著片較佳為根據公知或慣用之製造方法而製 造，但並無特別限定。例如於本發明之光學用黏著片為無基材之黏著片之情形時，可藉由利用上述方法將本發明之黏著劑層形成於剝離襯墊上而獲得。又，於本發明之光學用黏著片為附基材之黏著片之情形時，亦可藉由將本發明之黏著劑層直接形成於基材表面而獲得(直印法)，亦可藉由如下方式獲得：暫時於剝離襯墊上形成本發明之黏著劑層後，轉印(貼合)至基材，藉此於基材上設置本發明之黏著劑層(轉印法)。

本發明之光學用黏著片可用於光學用途。更具體而言，可用於貼附於可使用具有銀奈米線層之光學構件之製品(光學製品)中之該光學構件的用途(銀奈米線層用光學用途)。再者，於將本發明之光學用黏著片貼附於具有銀奈米線層之光學構件時，可以本發明之黏著劑層之黏著面接觸於銀奈米線層之方式貼附(直接貼附)，亦可貼附於除銀奈米線層以外之層(例如保護層、除銀奈米線層以外之下述光學構件等)。本發明之光學用黏著片尤其是較佳為用於直接貼附於銀奈米線層或貼附於保護銀奈米線層之層(下述保護層)之用途(銀奈米線層貼附用)。作為銀奈米線層，例如可列舉：將包含銀之金屬細線進行網版印刷所得之層、藉由包含銀之金屬細線(奈米線)而形成之膜(銀奈米線膜)等。

所謂上述光學構件，係指具有光學特性(例如偏光性、光折射性、光散射性、光反射性、光透過性、光吸收性、光繞射性、旋光性、視認性等)之構件。作為構成上述光學構件之基板，並無特別限定，例如可列舉：構成顯示裝置(圖像顯示裝置)、輸入裝置等機器(光學機器)之基板或用於該等機器之基板，例如可列舉：偏光板、波長板、相位差板、光學補償膜、亮度提昇膜、導光板、反射膜、抗反射膜、硬塗膜(PET膜等對塑膠膜之至少單面實施硬塗處理之膜)、透明導電膜、設計膜、裝飾膜、表面保護板、稜鏡、透鏡、彩色濾光片、 透明基板(玻璃感測器、玻璃製顯示面板(LCD等)、附有透明電極之玻璃板等玻璃基板等)或進而積層有該等之基板(有時將該等總稱為「功能性膜」)等。又，該等膜亦可具有印刷層、導電性高分子層等。再者，上述「板」及「膜」分別包含板狀、膜狀、片狀等形態，例如「偏光膜」包含「偏光板」及「偏光片」等。

作為上述光學構件，亦可列舉觸控感測器或膜感測器。更具體而言，可列舉：表面具有ITO(氧化銦錫)層之膜；表面具有氧化鋅(ZnO)層之膜；藉由於表面塗佈包含金屬奈米粒子之溶液而獲得之膜、藉由利用包含金屬奈米粒子之溶液對表面進行網版印刷而獲得之膜等使用金屬奈米粒子之膜；藉由於表面塗佈包含碳奈米管之分散液而獲得之膜、藉由利用包含碳奈米管之溶液對表面進行網版印刷而獲得之膜之類的使用碳奈米管之膜；於表面具有石墨烯層之膜之類的使用石墨烯之膜；於表面具有導電性高分子層之膜、藉由利用包含導電性高分子之溶液進行網版印刷而獲得之膜之類的使用導電性高分子之膜等透明導電膜。除此以外，亦可列舉：對膜施加網版狀金屬細線圖案之膜、具有金屬層之膜等使用金屬(尤其是銅)之膜。進而，可列舉銀奈米線膜。再者，上述光學構件中，貼附本發明之光學用黏著片者具有銀奈米線層。

作為上述顯示裝置，例如可列舉：液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示器面板)、電子紙等。又，作為上述輸入裝置，可列舉觸控面板等。

作為構成上述光學構件之基板，並無特別限定，例如可列舉：玻璃、丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、環烯烴聚合物、包含金屬薄膜等之基板(例如片狀或膜狀、板狀之基板等)等。再者，於本發明之「光學構件」中，如上所述般亦包含保持顯示裝置或輸入裝置之視認性並且發揮加飾或保護之作用之構件(設計膜、裝飾 膜或表面保護膜等)。

上述光學構件中，銀奈米線層亦可藉由保護層而加以保護。即，上述光學構件中，亦可於銀奈米線層上設置保護層(保護銀奈米線層之層)。

上述保護層較佳為含有樹脂作為必需成分。作為上述樹脂，可列舉公知或慣用之樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚乙烯基二甲苯等芳香族系樹脂；聚醯亞胺；聚醯胺；聚醯胺醯亞胺；聚胺基甲酸乙酯系樹脂；環氧系樹脂；聚烯烴系樹脂；丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)；纖維素系樹脂；聚矽氧系樹脂；聚氯乙烯；聚乙酸酯；聚降

烯；合成橡膠；氟系樹脂等。上述樹脂亦可為具有導電性之樹脂(導電性樹脂)，例如可列舉：聚(3,4-伸乙二氧基噻吩)(PEDOT)、聚苯胺、聚噻吩、聚二乙炔等導電性樹脂。其中，較佳為丙烯酸系樹脂。上述保護層中之樹脂(尤其是丙烯酸系樹脂)之比率並無特別限定，相對於保護層之總重量(100重量%)，較佳為50重量%以上(例如50~100重量%)，更佳為70重量%以上，進而較佳為95重量%以上。

作為上述丙烯酸系樹脂，例如可列舉：作為上述本發明之黏著劑層中所含之基礎聚合物而例示及說明之丙烯酸系聚合物等。其中，較佳為由上述多官能性單體所構成之硬化型樹脂(較佳為紫外線硬化型樹脂)，更佳為由季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、新戊二醇二丙烯酸酯(NPGDA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)等多官能丙烯酸酯所構成之硬化型樹脂(較佳為紫外線硬化型樹脂)。於上述丙烯酸系樹脂含有上述多官能性單體作為構成樹脂之單體成分之情形時，構成上述丙烯酸系樹脂之全部單體成分(100重量%)中的上述多官能性單體之比率並無特別限定，較佳為50重量%以上(例如50~100重量%)，更佳為70 重量%以上，進而較佳為90重量%以上，尤佳為95重量%以上。

於上述單體成分之聚合時，亦可使用光聚合起始劑(光起始劑)。作為上述光聚合起始劑，例如可列舉上述光聚合起始劑等。於使用光聚合起始劑之情形時，上述光聚合起始劑之使用量並無特別限定，例如相對於構成上述丙烯酸系樹脂之全部單體成分100重量份，較佳為0.01重量份以上，更佳為0.1重量份以上，又，較佳為10重量份以下，更佳為7重量份以下。

上述保護層之形成亦可進而使用上述交聯劑。又，上述保護層亦可視需要進而含有穩定劑、防腐蝕劑、抗老化劑、填充劑、著色劑(顏料或染料等)、抗氧化劑、塑化劑、軟化劑、界面活性劑、抗靜電劑等添加劑。

上述保護層可以覆蓋銀奈米線層之方式(埋藏銀奈米線層之方式)設置，亦可以銀奈米線層之一部分自保護層之表面露出之方式設置。

更具體而言，對將本發明之光學用黏著片用於光學用途中之銀奈米線層用途之態樣進行說明。圖1及圖2係將本發明之光學用黏著片用於光學用途中之銀奈米線層用途(尤其是銀奈米線層貼附用途)的態樣之一例。圖1及圖2亦相當於膜感測器中所使用之態樣。再者，將本發明之光學用黏著片用於光學用途中之銀奈米線層用途之態樣並不限定於圖1及圖2之態樣。又，圖1及圖2係表示使用本發明之光學用黏著片之光學製品的一例之概略剖面圖。又，圖1及圖2之光學製品具有經由本發明之光學用黏著片而貼合有光學構件之結構。圖1及圖2中，1為光學製品，11為外罩，12為本發明之光學用黏著片，13為基材，14為銀奈米線層，15為保護層。外罩11為外罩玻璃或外殼透鏡。基材13為載持銀奈米線層14之基材。

於圖1中，使用具有銀奈米線層之光學構件作為光學構件，於銀奈米線層14之一面側經由保護層15而積層有本發明之光學用黏著片 12。再者，保護層15係以覆蓋銀奈米線層14之方式(以埋藏銀奈米線層14之方式)設置。因此，本發明之光學用黏著片係用於銀奈米線層用途(尤其是銀奈米線層貼附用途)。

於圖2中，與圖1同樣，使用具有銀奈米線層之光學構件作為光學構件。再者，於圖2中所記載之光學製品1中，本發明之光學用黏著片12係以直接貼附於銀奈米線層14上之方式使用。又，保護層15係以使銀奈米線層14露出之方式設置。因此，本發明之光學用黏著片係用於銀奈米線層用途(尤其是銀奈米線層貼附用途)。

圖1及圖2之光學製品1係將本發明之光學用黏著片12貼附於具有銀奈米線層14之光學構件上。又，本發明之光學用黏著片12對於銀奈米線層之耐腐蝕性優異。因此，光學製品1有效地抑制由丙烯酸根離子所引起之銀奈米線層之腐蝕。如此，光學製品1由於使用本發明之光學用黏著片12，故而抑制銀奈米線層之腐蝕，亦抑制光學製品1之劣化。

(附有銀奈米線層用光學用黏著片之光學構件)

附有銀奈米線層用光學用黏著片之光學構件至少包含上述光學構件及本發明之光學用黏著片。

作為上述附有銀奈米線層用光學用黏著片之光學構件，例如可列舉：基材為設置有銀奈米線層之光學構件並具有附基材之黏著片之形態的本發明之光學用黏著片。更具體而言，可列舉：於銀奈米線層之至少單面側經由保護層及/或片狀或膜狀之上述光學構件而設置有本發明之黏著劑層的黏著片；或者於銀奈米線層之至少單面側直接設置有本發明之黏著劑層之黏著片等附有光學構件之黏著片等。

根據上述附有光學構件之黏著片，能夠經由本發明之光學用黏著片之黏著面而將具有銀奈米線層之光學構件固定或暫時固定於所需之位置上。又，本發明之光學用黏著片有效地抑制對於銀奈米線層之 腐蝕。因此，上述附有光學構件之黏著片難以抑制由銀奈米線層之腐蝕所引起之劣化。

(光學製品)

光學製品至少包含設置有銀奈米線層之光學構件及本發明之光學用黏著片。作為光學製品，並無特別限定，例如可列舉圖1或圖2所表示之光學製品(光學製品1)等。上述光學製品包含對於銀奈米線層之耐腐蝕性(尤其是耐UV性)優異之本發明之光學用黏著片，因此上述光學製品難以產生由銀奈米線層之腐蝕(尤其是因紫外線之照射而引起的銀奈米線之腐蝕)所導致之劣化。

[實施例]

以下，基於實施例而更詳細地說明本發明，本發明並不受該等實施例所限定。再者，調配份數(重量份)均表示所記載之各成分之調配份數。

(丙烯酸系聚合物之製備例1)

將甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA，Dicyclopentanyl methacrylate)：60重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA，Methyl methacrylate)：40重量份、作為鏈轉移劑之α-硫甘油：3.5重量份、及作為聚合溶劑之甲苯：100重量份投入至四口燒瓶中，於氮環境下並於70℃下將該等攪拌1小時。其次，將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈：0.2重量份投入至四口燒瓶中，於70℃下反應2小時，繼而，於80℃下反應2小時。其後，將反應液投入至130℃之溫度環境下，將甲苯、鏈轉移劑及未反應單體乾燥去除而獲得固形狀丙烯酸系聚合物(有時稱為「丙烯酸系聚合物(A)」)。再者，丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量為5100。

(實施例1)

於由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：67重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶 酮(NVP)：15重量份、丙烯酸2-羥乙酯(HEA)：18重量份所構成之單體混合物中調配光聚合起始劑(商品名「Irgacure 651」、BASF公司製造)：0.035重量份及光聚合起始劑(商品名「Irgacure 184」、BASF公司製造)：0.035重量份後，照射紫外線直至黏度(BH黏度計No.5轉子、10rpm、測定溫度30℃)成為ie約20Pa‧s為止，獲得上述單體成分之一部分聚合而成之預聚物組合物。

於上述預聚物組合物中添加並混合上述丙烯酸系聚合物(A)：5重量份、己二醇二丙烯酸酯(HDDA)：0.075重量份及矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製造)：0.3重量份而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。

將上述丙烯酸系黏著劑組合物塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系剝離襯墊(日東電工股份有限公司製、厚度：125μm)上而形成黏著劑組合物層。其次，於上述黏著劑組合物層上設置PET系剝離襯墊(日東電工股份有限公司製、厚度：125μm)，被覆上述黏著劑組合物層而遮斷氧。並且，獲得具有[剝離襯墊/黏著劑組合物層/剝離襯墊]之構成之積層體(積層體(I))。

其次，對於上述積層體(I)，利用黑光燈(東芝股份有限公司製造)自積層體(I)之上表面(剝離襯墊側)照射300秒照度3mW/cm²之紫外線。進而，利用90℃之乾燥機進行2分鐘乾燥處理而使剩餘單體揮發，製作具有[剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之以剝離襯墊保護兩側之黏著面的雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為50μm。

(實施例2)

除將黏著劑層之厚度設為100μm以外，以與實施例1相同之方式製作雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為100μm。

(實施例3)

於由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：40.5重量份、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)：40.5重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)：18重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)：1重量份所構成之單體混合物中調配光聚合起始劑(商品名「Irgacure 651」、BASF公司製造)：0.05重量份及光聚合起始劑(商品名「Irgacure 184」、BASF公司製造)：0.5重量份後，照射紫外線直至黏度(BH黏度計No.5轉子、10rpm、測定溫度30℃)成為約20Pa‧s為止，獲得上述單體成分之一部分聚合而成之預聚物組合物。

於上述預聚物組合物中添加並混合三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)：0.02重量份及矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製造)：0.3重量份而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。

使用上述丙烯酸系黏著劑組合物以與實施例1相同之方式製作具有[剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之以剝離襯墊保護兩側之黏著面的雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為50μm。

(實施例4)

除將黏著劑層之厚度設為100μm以外，以與實施例3相同之方式製作雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為100μm。

(實施例5)

於由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：40.5重量份、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)：40.5重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)：18重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)：1重量份所構成之單體混合物中調配光聚合起始劑(商品名「Irgacure 651」、BASF公司製造)：0.05重量份及光聚合起始劑(商品名「Irgacure 184」、BASF公司製造)：0.5重量份後，照射紫外線直至黏度(BH黏度計No.5轉子、10rpm、測定溫度30℃)成為約20 Pa‧s為止，獲得上述單體成分之一部分聚合而成之預聚物組合物。

於上述預聚物組合物中添加並混合三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)：0.15重量份、矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製造)：0.3重量份及作為鏈轉移劑之α-硫甘油：0.15重量份而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。

使用上述丙烯酸系黏著劑組合物以與實施例1相同之方式製作具有[剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之以剝離襯墊保護兩側之黏著面的雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為50μm。

(實施例6)

除將黏著劑層之厚度設為100μm以外，以與實施例5相同之方式製作雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為100μm。

(實施例7)

於由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：28.5重量份、丙烯酸異硬脂酯(ISTA)：28.5重量份、丙烯酸異

酯(IBXA)：22重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)：21重量份所構成之單體混合物中調配光聚合起始劑(商品名「Irgacure 651」、BASF公司製造)：0.05重量份及光聚合起始劑(商品名「Irgacure 184」、BASF公司製造)：0.5重量份後，照射紫外線直至黏度(BH黏度計No.5轉子、10rpm、測定溫度30℃)成為約20Pa‧s為止，獲得上述單體成分之一部分聚合而成之預聚物組合物。

於上述預聚物組合物中添加並混合1,6-己二醇二丙烯酸酯(商品名「NK ester A-HD-N」、新中村化學工業股份有限公司製造)：0.3重量份、矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製造)：0.3重量份、光聚合起始劑(商品名「Irgacure 651」、BASF公司製造)：0.05重量份及光聚合起始劑(商品名「Irgacure 819」、BASF公司 製造)：0.5重量份而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。

使用上述丙烯酸系黏著劑組合物以與實施例1相同之方式製作具有[剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之以剝離襯墊保護兩側之黏著面的雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為50μm。

(實施例8)

除將黏著劑層之厚度設為100μm以外，以與實施例7相同之方式製作雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為100μm。

(實施例9)

將作為單體成分之丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：63重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)：9重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)：15重量份、丙烯酸2-羥乙酯(HEA)：13重量份、及作為聚合溶劑之乙酸乙酯：175重量份投入至可分離式燒瓶中，一面導入氮氣一面攪拌1小時。以此種方式去除聚合系統內之氧後，添加作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈：0.2重量份，升溫至63℃並反應10小時。其後，添加乙酸乙酯而獲得固形分濃度36重量%之丙烯酸系聚合物溶液。再者，上述丙烯酸系聚合物溶液中之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為85萬。

於上述丙烯酸系聚合物溶液中添加並混合異氰酸酯系交聯劑(商品名「Takenate D-110N」、三井化學股份有限公司製造)：1.1重量份、矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製造)：0.15重量份及紫外線吸收劑(商品名「TINUVIN 384-2」、BASF公司製造)：1.5重量份而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。

將上述丙烯酸系黏著劑組合物塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系剝離襯墊(日東電工股份有限公司製、厚度：125μm)上而獲得黏著 劑組合物層。其次，於130℃下進行3分鐘加熱乾燥而形成黏著劑層。其次，於上述黏著劑層上設置PET系剝離襯墊(日東電工股份有限公司製、厚度：125μm)，於23℃下進行120小時熟化而製作具有[剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之以剝離襯墊保護兩側之黏著面的雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為50μm。

(實施例10)

除將黏著劑層之厚度設為100μm以外，以與實施例9相同之方式製作雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為100μm。

(實施例11)

將作為單體成分之丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：63重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)：9重量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)：15重量份、丙烯酸2-羥乙酯(HEA)：13重量份、及作為聚合溶劑之乙酸乙酯：175重量份投入至可分離式燒瓶中，一面導入氮氣一面攪拌1小時。以此種方式去除聚合系統內之氧後，添加作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈：0.2重量份，升溫至63℃並反應10小時。其後，添加乙酸乙酯而獲得固形分濃度36重量%之丙烯酸系聚合物溶液。再者，上述丙烯酸系聚合物溶液中之丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為85萬。

於上述丙烯酸系聚合物溶液中添加並混合異氰酸酯系交聯劑(商品名「Takenate D-110N」、三井化學股份有限公司製造)：1.1重量份、矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製造)：0.15重量份及紫外線吸收劑(商品名「KEMISORB 111」、Chemipro化成股份有限公司製造)：1重量份而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。

使用上述丙烯酸系黏著劑組合物以與實施例9相同之方式製作具有[剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之以剝離襯墊保護兩側之黏著面的雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為50μm。

(比較例1)

於由丙烯酸正丁酯(BA)：67重量份、丙烯酸環己酯(CHA)：17重量份、丙烯酸2-羥乙酯(HEA)：8重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)：27重量份所構成之單體混合物中調配光聚合起始劑(商品名「Irgacure 651」、BASF公司製造)：0.05重量份及光聚合起始劑(商品名「Irgacure 184」、BASF公司製造)：0.05重量份後，照射紫外線直至黏度(BH黏度計No.5轉子、10rpm、測定溫度30℃)成為約20Pa‧s為止，獲得上述單體成分之一部分聚合而成之預聚物組合物。

於上述預聚物組合物中添加並混合二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)：0.1重量份及矽烷偶合劑(商品名「KBM-403」、信越化學工業股份有限公司製造)：0.3重量份而獲得丙烯酸系黏著劑組合物。

使用上述丙烯酸系黏著劑組合物以與實施例1相同之方式製作具有[剝離襯墊/黏著劑層/剝離襯墊]之構成之以剝離襯墊保護兩側之黏著面的雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為50μm。

(比較例2)

除將黏著劑層之厚度設為100μm以外，以與比較例1相同之方式製作雙面黏著片(無基材之黏著片)。雙面黏著片之厚度(去除剝離襯墊之厚度)為100μm。

(評價)

對實施例及比較例中所獲得之雙面黏著片進行下述評價。將其結果示於表1。

(1)萃取丙烯酸根離子量

(試片之製作)

自實施例及比較例中所獲得之雙面黏著片切割尺寸：寬度10cm×長度10cm之片材。將剝離襯墊剝離，於一側之黏著面上貼附PET膜(東麗股份有限公司製「Lumirror S10」、厚度25μm)而製作僅使單側之黏著面露出之試片。再者，關於上述試片中之黏著劑層之質量，於黏著劑層之厚度為50μm之情形時，為0.5g，於厚度為100μm之情形時，為1g。再者，PET膜係使用進行加熱萃取(120℃×1小時)並進而利用純水洗淨者。再者，本說明書中，所謂「加熱萃取」，係指將加入至純水中者於加熱至特定溫度之狀態下放置特定時間而對任意之成分進行萃取。例如「加熱萃取(120℃×1小時)」係指將加入至純水中者於加熱至120℃之狀態下放置1小時而對任意之成分進行萃取。

(丙烯酸根離子之加熱萃取)

其次，將上述試片加入至純水(50ml)中，利用乾燥機進行加熱萃取(100℃×45分鐘)而獲得萃取液。

其次，利用離子層析法(Ion Chromatography)測定上述中所獲得之萃取液中之丙烯酸根離子之量(單位：μg)，算出試片中之相對於黏著劑層每1g之丙烯酸根離子量(萃取丙烯酸根離子量)(單位：μg/g)，將結果示於表1。

[離子層析法之測定條件]

分析裝置：Thermo Fisher Scientific公司製造、ICS-3000

分離管柱：Ion Pac AS18(4mm×250mm)

保護管柱：Ion Pac AG18(4mm×50mm)

去除系統：AERS-500(External Mode)

檢測器：導電度檢測器

溶離液：KOH水溶液

(使用溶離液產生器EGIII)

溶離液流量：1.0ml/分

試樣注入量：250μl

(2)耐UV性

(銀奈米線之合成及銀奈米線分散液之製備)

於具備攪拌裝置之反應容器中，在160℃下添加無水乙二醇：5ml、PtCl₂之無水乙二醇溶液(濃度：1.5×10^-4mol/l)：0.5ml。經過4分鐘後，於所獲得之溶液中歷經6分鐘同時滴加AgNO₃之無水乙二醇溶液(濃度：0.12mol/l)：2.5ml及聚乙烯基吡咯啶酮(Mw：55000)之無水乙二醇溶液(濃度：0.36mol/l)：5ml。該滴加後，加熱至160℃而歷經1小時以上進行反應直至使AgNO₃完全還原，生成粗銀奈米線。其次，於包含以上述方式獲得之粗銀奈米線之反應混合物中，添加丙酮直至該反應混合物之體積成為5倍為止後，對該反應混合物進行離心分離(2000rpm、20分鐘)而獲得銀奈米線。

所獲得之銀奈米線係短徑為30nm~40nm，長徑為30nm~50nm，長度為30μm~50μm。

相對於水100重量份而使該銀奈米線：0.2重量份及五乙二醇十二烷醚：0.1重量份分散於純水中，製備銀奈米線分散液。

(保護層形成用組合物之製備)

使用將異丙醇(和光純藥工業股份有限公司製造)、二丙酮醇(和光純藥工業股份有限公司製造)以重量比1：1混合而成者作為溶劑。於該溶劑中，相對於該溶劑100重量份而投入二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(新中村化學工業股份有限公司製、商品名「A-DPH」)：3.0重量份及光聚合起始劑(商品名「Irgacure 907」、BASF公司製造)：0.09重量份，製備保護層形成用組合物。

(透明導電性膜(1)之製作)

作為透明基材，使用降

烯-環己烷型環狀烯烴系膜(商品名「ZEONOR」、日本ZEON股份有限公司製、面內相位差Re：1.7nm、厚度方向之相位差Rth：1.8nm)。

於該透明基材上，利用棒式塗佈機(商品名「棒式塗佈機No.20」、第一理科股份有限公司製造)將上述銀奈米線分散液塗佈於整面，於120℃之送風乾燥機內進行2分鐘乾燥而形成銀奈米線層。其後，以Wet膜厚4μm利用狹縫式模具將上述保護層形成用組合物塗佈於上述銀奈米線層之整面，於120℃之送風乾燥機內乾燥2分鐘。其次，利用設為氧濃度100ppm之紫外線照射裝置(Fusion UV Systems公司製造)照射積算照度400mJ/cm²之紫外線光，使保護層形成用組合物硬化而形成保護層，獲得透明導電性膜(1)[透明基材/透明導電性層(包含銀奈米線層及保護層)]。

該透明導電性膜(1)之表面電阻值為50Ω/□，全光線透過率為91.4%，霧度為2.0%。

(電阻值之測定)

將剝離襯墊自實施例及比較例中所獲得之雙面黏著片剝離，於一側之黏著面上貼合透明導電性膜(1)之透明導電性層面(銀奈米線層形成面側)，於另一黏著面貼合玻璃板(商品名「MICRO SLIDE GLASS S200200」、松浪硝子工業股份有限公司製、尺寸：50mm×45mm、厚度：1.2~1.5mm)而獲得積層體。其次，對於該積層體，將自玻璃板之尺寸露出之部分之透明導電性膜(1)及雙面黏著片切除，獲得如圖3及圖4所示之試片(尺寸：50mm×45mm)。

上述試片之電阻值為50Ω/□，將其設為「剛貼附後之電阻值」。其次，於使用Super Xenon Weather Meter SX75(Suga Test Instruments股份有限公司製造)在溫度：45℃、濕度：50%RH之環境下以照度65W/m²自試片之玻璃板側照射紫外線之狀態下，將上述試片放置100小 時。測定上述100小時放置後之試片之電阻值，將其設為「經過100小時UV照射後之電阻值」。並且，測定「經過100小時UV照射後之電阻值」相對於「剛貼附後之電阻值」之比率[(經過100小時UV照射後之電阻值)/(剛貼附後之電阻值)]，將其設為電阻值上升率(倍)而示於表1。顯示電阻值上升率越低則耐UV性越良好。再者，「剛貼附後之電阻值」及「經過100小時UV照射後之電阻值」係使用Napson股份有限公司製「EC-80」進行測定。

作為以上之總結，以下作為備註而列舉本發明之構成及其變化。

(備註1)

一種銀奈米線層用光學用黏著片，其特徵在於，其係具有黏著劑層之黏著片，且藉由離子層析法而測定之利用純水於100℃、45分鐘之條件下自上述黏著劑層萃取的丙烯酸根離子之量相對於上述黏著劑層每1g為5μg/g以下。

(備註2)

如備註1之光學用黏著片，其中上述黏著劑層為包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層。

(備註3)

如備註1或2之光學用黏著片，其中上述黏著劑層包含紫外線吸收劑。

(備註4)

如備註3之光學用黏著片，其中上述紫外線吸收劑之以下述方式求出之吸光度A為0.5以下。

吸光度A：對上述紫外線吸收劑之0.08%甲苯溶液照射波長400nm之光而測定之吸光度

(備註5)

如備註3或4之光學用黏著片，其中上述紫外線吸收劑為選自由苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑及羥基苯基三

系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑。

(備註6)

如備註3至5中任一項之光學用黏著片，其中上述黏著劑層係相對於上述黏著劑層中之基礎聚合物100重量份而包含上述紫外線吸收劑0.01~10重量份。

(備註7)

如備註2至6中任一項之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物實質上不包含含酸性基之單體作為構成聚合物之單體成分。

(備註8)

如備註2至7中任一項之光學用黏著片，其中形成均聚物時之玻璃轉移溫度為20℃以上之單體於構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量%中的比率為1~50重量%。

(備註9)

如備註2至8中任一項之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物包含含氮原子之單體及含羥基之單體作為結構單元。

(備註10)

如備註2至9中任一項之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物由如下單體混合物所構成：該單體混合物包含具有碳數為4~18之 直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%、選自由含氮原子之單體及含羥基之單體所組成之群中之1種以上之單體10~50重量%、含碳數為6~10之脂環結構之單體0~40重量%。

(備註11)

如備註2至10中任一項之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物由如下單體混合物所構成：該單體混合物包含具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%、含氮原子之單體3~30重量%、含羥基之單體0.8~25重量%、含碳數為6~10之脂環結構之單體0~40重量%，且含氮原子之單體及含羥基之單體之比率之合計為10~50重量%。

(備註12)

如備註2至11中任一項之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系黏著劑層中之矽烷偶合劑之含量相對於丙烯酸系聚合物100重量份為0.01~1重量份。

(備註13)

如備註2至12中任一項之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系黏著劑層為溶劑型丙烯酸系黏著劑層，相對於黏著劑層之總重量100重量%含有丙烯酸系聚合物50重量%以上，相對於丙烯酸系聚合物100重量份含有紫外線吸收劑0.05~9重量份。

(備註14)

如備註1至13中任一項之光學用黏著片，其中上述黏著劑層之霧度為5%以下。

(備註15)

如備註1至14中任一項之光學用黏著片，其中上述黏著劑層之全光線透過率為85%以上。

(備註16)

如備註1至15中任一項之光學用黏著片，其中貼附於具有銀奈米線層之光學構件上並照射100小時紫外線後之電阻值相對於剛貼附於具有銀奈米線層之光學構件後之電阻值的比率為3倍以下。

(備註17)

如備註1至16中任一項之光學用黏著片，其係用於膜感測器。

1‧‧‧光學製品

11‧‧‧外罩

12‧‧‧本發明之光學用黏著片

13‧‧‧基材

14‧‧‧銀奈米線層

15‧‧‧保護層

Claims (19)

1. 一種銀奈米線層用光學用黏著片，其特徵在於：其係具有黏著劑層之黏著片，且藉由離子層析法而測定之利用純水於100℃、45分鐘之條件下自上述黏著劑層萃取之丙烯酸根離子之量相對於上述黏著劑層每1g為5μg/g以下，上述黏著劑層為包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑層，上述丙烯酸系聚合物包含(甲基)丙烯酸異硬脂酯、除(甲基)丙烯酸異硬脂酯以外之具有碳數為1~20之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯及含羥基之單體作為結構單元，且構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分中之(甲基)丙烯酸異硬脂酯及除(甲基)丙烯酸異硬脂酯以外之具有碳數為1~20之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之比率為50~90重量%，構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分中之含羥基之單體之比率為0.5~30重量%。
2. 如請求項1之光學用黏著片，其中上述黏著劑層包含紫外線吸收劑。
3. 如請求項2之光學用黏著片，其中上述紫外線吸收劑之以下述方式求出之吸光度A為0.5以下，吸光度A：對上述紫外線吸收劑之0.08%甲苯溶液照射波長400nm之光而測定之吸光度。
4. 如請求項2之光學用黏著片，其中上述紫外線吸收劑為選自由苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑及羥基苯基三

   

   系紫外線吸收劑所組成之群中之至少1種紫外線吸收劑。
5. 如請求項2之光學用黏著片，其中上述黏著劑層相對於上述黏著劑層中之基礎聚合物100重量份含有上述紫外線吸收劑0.01~10 重量份。
6. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物實質上不包含含酸性基之單體作為構成聚合物之單體成分。
7. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中構成上述丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量%中，形成均聚物時之玻璃轉移溫度為20℃以上之單體之比率為1~50重量%。
8. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物包含2種以上之除(甲基)丙烯酸異硬脂酯以外之(甲基)丙烯酸烷基酯作為結構單元，該除(甲基)丙烯酸異硬脂酯以外之(甲基)丙烯酸烷基酯具有碳數為1~20之直鏈或支鏈狀烷基。
9. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物進而包含含氮原子之單體作為結構單元，且構成丙烯酸系聚合物之全部單體成分中之含氮原子之單體之比率為1~30重量%。
10. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物進而包含含氮原子之單體作為結構單元。
11. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物由如下單體混合物所構成：該單體混合物包含(甲基)丙烯酸異硬脂酯及除(甲基)丙烯酸異硬脂酯以外之具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%、選自由含氮原子之單體及含羥基之單體所組成之群中之1種以上之單體10~50重量%、及含碳數為6~10之脂環結構之單體0~40重量%。
12. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系聚合物由如下單體混合物所構成：該單體混合物包含(甲基)丙烯酸異硬脂酯及除(甲基)丙烯酸異硬脂酯以外之具有碳數為4~18之直鏈或支鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯50~90重量%、含氮原子之單體3~30重量%、含羥基之單體0.8~25重量%、及含碳數為6~10之 脂環結構之單體0~40重量%，且含氮原子之單體及含羥基之單體之比率之合計為10~50重量%。
13. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系黏著劑層中之矽烷偶合劑之含量相對於丙烯酸系聚合物100重量份為0.01~1重量份。
14. 如請求項2之光學用黏著片，其中上述丙烯酸系黏著劑層為溶劑型丙烯酸系黏著劑層，相對於黏著劑層之總重量100重量%含有丙烯酸系聚合物50重量%以上，相對於丙烯酸系聚合物100重量份含有紫外線吸收劑0.05~9重量份。
15. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述黏著劑層之霧度為5%以下。
16. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中上述黏著劑層之全光線透過率為85%以上。
17. 如請求項1或2之光學用黏著片，其中貼附於具有銀奈米線層之光學構件並照射100小時紫外線後之電阻值相對於剛貼附於具有銀奈米線層之光學構件後之電阻值的比率為3倍以下。
18. 如請求項1或2之光學用黏著片，其係用於膜感測器。
19. 如請求項1或2之光學用黏著片，其係用於直接貼附於銀奈米線層之用途或貼附於保護銀奈米線層之層之用途。

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