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TWI521305B - 黑柱間隔件的製造方法、黑柱間隔件、及彩色濾光片 - Google Patents

黑柱間隔件的製造方法、黑柱間隔件、及彩色濾光片 Download PDF

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TWI521305B
TWI521305B TW103124068A TW103124068A TWI521305B TW I521305 B TWI521305 B TW I521305B TW 103124068 A TW103124068 A TW 103124068A TW 103124068 A TW103124068 A TW 103124068A TW I521305 B TWI521305 B TW I521305B
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金智惠
安暻源
李俊昊
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崔玄武
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第一毛織股份有限公司
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Description

黑柱間隔件的製造方法、黑柱間隔件、及彩色濾光片 【相關申請的引用】
本申請主張於2014年3月27日在韓國智慧財產局提交的韓國專利申請第10-2014-0036221號和2014年5月2日在韓國智慧財產局提交的韓國專利申請第10-2014-0053553號的優先權和權益，其各自的全部公開內容結合於本文中以供參考。
本公開內容涉及製造黑柱間隔件(black column spacer)的方法、通過所述方法製造的黑柱間隔件和包括所述黑柱間隔件的彩色濾光片。
光敏樹脂組成物是用於製造顯示元件(如彩色濾光片、液晶顯示材料、有機發光二極體、顯示面板材料等)所必需的。例如，彩色濾光片(如彩色液晶顯示器等)在著色層(如紅色、 綠色、藍色等)之間的邊界上都需要黑矩陣來增強顯示對比度或發色團(chromophore)效果。這種黑矩陣可以主要由光敏樹脂組成物形成。
最近，已經嘗試使用黑矩陣材料作為柱間隔件來支撐其間具有液晶層的兩個TFT和C/F基板，而這種柱間隔件稱為黑柱間隔件。
當圖案階差(pattern step difference)通過採用罩幕調節曝光劑量實現以及實現如壓縮位移、彈性回復率、斷裂強度等的基本特性時，黑柱間隔件可以正確發揮功能。另外，由於黑柱間隔件存在於最上部並且可能會產生液晶污染的問題，所以也可能會有可靠性和耐溶劑性(對溶劑的耐化學性)問題。
一個實施方式提供了製造具有改進的顯影裕度和耐溶劑性的黑柱間隔件的方法。
另一個實施方式提供了通過所述方法製造的黑柱間隔件。
又一個實施方式提供了包括所述黑柱間隔件的彩色濾光片。
一個實施方式提供了一種製造黑柱間隔件的方法，包括：製備基板；在所述基板上形成第一有機層；在所述第一有機層上形成第二有機層；使用半調式罩幕(half-tone mask)在其上 形成有所述第一有機層和所述第二有機層的基板上進行曝光；以及使所述基板顯影並固化生成物。
在所述製造方法中，在所述顯影和固化之後獲得的所述第一有機層可以具有比所述第二有機層高大於或等於約1.0的光學深度。
所述曝光可以通過使用單半調式罩幕(single half-tone mask)進行，而所述單半調式罩幕可以包括透過約100%的光的區域和透過小於約100%的光的另一個區域。
所述第一有機層可以通過塗覆和乾燥包含粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合引發劑、顏料和溶劑的第一組成物而在所述基板上形成。
所述第二有機層可以通過塗覆和乾燥包含粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合引發劑和溶劑的第二組成物而在所述基板上形成。所述第二組成物可以進一步包含顏料。
所述顏料可以包括黑色顏料，而所述黑色顏料可以是有機黑色顏料和/或無機黑色顏料。所述黑色顏料可以是內醯胺類黑(lactam-based black)、苯胺黑、二萘嵌苯黑(perylene black)、鈦黑(titanium black)、花青黑(cyanine black)、木素黑、內醯胺類有機黑(lactam-based organic black)、RGB黑、炭黑或它們的組合。
所述粘合劑樹脂可以是cardo類粘合劑樹脂、丙烯酸類粘合劑樹脂或它們的組合。
所述第一組成物和所述第二組成物可以獨立地包含約1wt%至約30wt%的粘合劑樹脂；約1wt%至約20wt%的反應性不飽和化合物；約0.05wt%至約5wt%的光聚合引發劑；約1wt%至約30wt%的顏料；和餘量的溶劑。所述第一組成物和所述第二組成物可以獨立地包含彼此不同的組分或具有彼此不同的量。
所述第二組成物可以包含約3wt%至約70wt%的粘合劑樹脂；約2wt%至約40wt%的反應性不飽和化合物；約0.1wt%至約5wt%的光聚合引發劑；和餘量的溶劑。
所述第一組成物和所述第二組成物可以獨立地進一步包含丙二酸；3-氨基-1,2-丙二醇；矽烷類偶聯劑；流平劑；氟類表面活性劑；自由基聚合引發劑；或它們的組合的添加劑。
第一和第二有機層可以分別通過在約70℃至約110℃的範圍內乾燥第一組成物和第二組成物而形成。
第一和第二有機層可以分別通過乾燥第一組成物和第二組成物約1分鐘至約10分鐘而形成。
固化可以在所述曝光之後在顯影和固化期間在約150℃至約250℃的溫度下進行約10分鐘至約60分鐘。
另一個實施方式提供了通過所述製造方法製造的黑柱間隔件。
又一個實施方式提供了包括所製造的黑柱間隔件的彩色濾光片。
本發明的其它實施方式包括於以下詳細描述中。
因此，所述方法可以提供具有優異的顯影裕度和耐溶劑性的黑柱間隔件，並具有簡化製程和降低成本的效果。
S1、S2、S3、S4‧‧‧步驟
圖1是示出製造傳統的黑柱間隔件的方法的示意圖。
圖2是示出根據實施例1的黑柱間隔件的掃描電子顯微鏡(SEM)照片。
圖3是示出根據實施例1的黑柱間隔件的橫截面的掃描電子顯微鏡(SEM)照片。
圖4是示意性地示出了根據一個實施方式的製造傳統的黑柱間隔件的方法的視圖。
圖5是示出根據實施例1和比較例1的黑柱間隔件的顯影裕度的曲線圖。
本下文中，將會詳細描述本發明的實施方式。然而，這些實施方式是示例性的，而本公開內容不限於此。
如在本文中所使用的，當沒有另外提供具體定義時，“烷基”是指C1至C20烷基，術語“烯基”是指C2至C20烯基，術語“環烯基”是指C3至C20環烯基，術語“雜環烯基”是指C3至C20雜環烯基，術語“芳基”是指C6至C20芳基，術語“芳烷基”是指C6至C20芳烷基，術語“伸烷基”是指C1至C20伸 烷基，術語“伸芳基”是指C6至C20伸芳基，術語“伸烷基芳基”是指C6至C20伸烷基芳基，術語“伸雜芳基”是指C3至C20伸雜芳基，以及術語“伸烷氧基”是指C1至C20伸烷氧基。
如在本文中所使用的，當沒有另外提供具體定義時，術語“經取代的”是指用選自下述的取代基取代，代替至少一個氫：鹵素(F、Cl、Br或I)、經基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亞氨基、疊氮基、脒基、肼基、亞肼基、羰基、胺基甲醯基、硫醇基、酯基、醚基、羧基或其鹽、磺酸基或其鹽、磷酸基或其鹽、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C20芳基、C3至C20環烷基、C3至C20環烯基、C3至C20環炔基、C2至C20雜環烷基、C2至C20雜環烯基、C2至C20雜環炔基、C3至C20雜芳基或它們的組合。
如在本文中所使用的，當沒有另外提供具體定義時，術語“雜”是指在化學式中包含選自N、O、S和P的至少一個雜原子。
如在本文中所使用的，當沒有另外提供具體定義時，“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和“甲基丙烯酸酯”兩者，而“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”和“甲基丙烯酸”。
如在本文中所使用的，當沒有另外提供具體定義時，術語“組合”是指混合或共聚。
如在本文中所使用的，當沒有另外提供具體定義時，不飽和鍵是指包含其他原子的鍵，如羰基鍵、偶氮鍵以及碳-碳原子 之間的多重鍵。
如在本文中所使用的，cardo類樹脂是指在骨架中包含選自以下化學式1-1至1-11中的至少一個官能團的樹脂。
如在本文中所使用的，當沒有另外提供具體定義時，“*”表示相同或不同原子或者化學式被連接的點。
一種製造黑柱間隔件的方法包括製備基板；在所述基板上形成第一有機層；在所述第一有機層上形成第二有機層；使用半調式罩幕在其上形成有所述第一有機層和所述第二有機層的基板的前表面上進行曝光；以及使所述基板顯影並固化生成物。
製造黑柱間隔件的傳統方法示出在圖1中。參照圖1，此方法包括製備基板(步驟S1)、在所述基板上塗覆黑柱間隔件組成物、通過使用半調式罩幕使所述黑柱間隔件組成物曝光(步驟S2)、使之顯影(步驟S3)和用後烘烤使其熱固化(步驟S4)。
換句話說，製造黑柱間隔件的傳統方法通過在基板上一次塗覆黑柱間隔件組成物並隨後曝光、顯影和固化塗覆的黑柱間隔件組成物而進行。所述黑柱間隔件組成物具有高光學深度(OD)，因此不易於固化，這是因為黑柱間隔件組成物在曝光(步驟S2)期間不能被光向下深入到達。因此，其中約一半的黑色間隔件在曝光期間被半調光實質上切掉的區域根本不固化，而形成階差，並隨後在後烘烤期間被熱固化並形成圖案。此處，由於形成黑柱間隔件的階差的裕度變得很窄，所以在基板的整個表面上維持具有均勻厚度的階差的製程難以實現。
此外，在圖案化之後，黑柱間隔件在對準感測器操作的近紅外線波長(約800nm至約1000nm)下需要大於或等於約20%的透光率，使得可以識別在面板基板上的對準鍵(align key)。因此，用於形成黑柱間隔件的有機黑色顏料可以在λ=約950nm下維持例如大於或等於約20%的透光率。然而，這種有機黑色顏料與炭黑、無機黑色顏料相比在間隔件圖案中具有被溶劑高度洗脫金屬離子和顏料的問題。因此，可能劣化接觸液晶的黑柱間隔件的可靠性。此外，黑柱間隔件的下層根本不發生光固化，而僅僅是熱固化，因此，沒有被高度固化並且不能確保必要的耐化學性。
根據一個實施方式，製造黑柱間隔件的方法通過下述進行：在基板上形成第一有機層以確保光學深度，另外在第一有機層上形成第二有機層以獲得間隔件和階差，並隨後以一個製程進行曝光、顯影和固化從而調節第一和第二有機層的敏感度和顯影度。因此，由於第一有機層的表面不僅可以在曝光期間在獲得黑色間隔件的階差中間通過透過能夠具有比第一有機層顯著更低的光學深度(OD)的第二有機層的光固化，而且顯影可以在顯影期間在所需的階差下停住，所以黑柱間隔件可以具有顯著改進的可靠性和顯影裕度。
在下文中，參照圖4，詳細地說明製造方法中的每個步驟。
(A)製備基板
製備用於形成黑柱間隔件的基板。所述基板可以是IZO 基板、玻璃基板等，但不限於此，而可以包括需要形成黑柱間隔件和能夠形成黑柱間隔件的任何材料。
(B)形成第一有機層
在基板上形成第一有機層可以包括在基板上塗覆用於第一有機層的第一組成物。在基板上採用傳統的方法(如旋塗或狹縫塗佈法、輥塗法、絲網印刷法、塗抹器法(applicator method)等)將所述組成物塗覆至具有期望的厚度，例如，約0.5μm至約25μm的厚度。塗覆的組成物可以乾燥以形成第一有機層。乾燥是除去第一組成物中所有或部分溶劑的製程，並且可以通過熱處理塗覆的組成物或將其放置於包括真空泵的室中進行。熱處理可以在約70℃至約110℃下進行約1分鐘至約10分鐘。另外，通過將塗覆的組成物置於包括真空泵的室中除去溶劑可以通過將第一組成物置於包括真空泵(約0.1托至約5托)的室中並使其靜置約10秒鐘至約1分鐘而進行。因此，可以除去第一組成物中的所有或部分溶劑，並形成第一有機層。
第一組成物可以包含粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合引發劑、顏料和溶劑。
第一有機層應該具有高光學深度，因此，顏料可以包括黑色顏料。黑色顏料包括無機黑色顏料、有機黑色顏料或它們的組合，例如，苯胺黑、二萘嵌苯黑、鈦黑、花青黑、木素黑、內醯胺類有機黑、RGB黑、炭黑或它們的組合。具體地，黑色顏料可以包括無機黑色顏料和有機黑色顏料，無機黑色顏料可以是炭 黑，而有機黑色顏料可以是由下列化學式A表示的內醯胺類有機黑。
RGB黑包含選自紅色顏料、綠色顏料、藍色顏料、紫色顏料、黃色顏料、洋紅顏料等中的至少大於或等於約兩種類型的彩色顏料並且表現出黑色。
當黑色顏料包含炭黑時，可以獲得優異的擋光性、表面平坦性、分散穩定性、與粘合劑樹脂的相容性等。另一方面，黑色顏料可以與顏色校準劑(color calibrator)(如蒽醌類顏料、二萘嵌苯類顏料、酞菁類顏料、偶氮類顏料等)一起使用。
此外，可以與其一起使用分散劑以分散顏料。具體地，顏料可以在表面上用分散劑進行預處理或與其一起加入以製備第一組成物。
分散劑可以是非離子型分散劑、陰離子型分散劑、陽離子型分散劑等。分散劑的具體實例可以是聚伸烷基二醇及其酯、聚氧伸烷基、多元醇酯伸烷基氧化物加成產物、醇伸烷基氧化物加成產物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺伸烷基氧化物加成產物、烷基胺等，並且這些可以單獨地或作為兩種或 更多種的混合物使用。
分散劑的可商購實例可以包括：由BYK Co.,Ltd.製造的DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001；由EFKA Chemicals Co.製造的EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450；由Zeneka Co.製造的Solsperse 5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse 20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000等；或者由Ajinomoto Inc.製造的PB711、PB821等。
基於第一組成物的總量可以以約0.1wt%至約15wt%的量包含分散劑。當分散劑包含在此範圍內時，第一組成物在黑柱間隔件製造期間由於改善的分散特性而具有優異的穩定性、可顯影性和圖案形成能力。
可以使用水溶性無機鹽和潤濕劑對顏料進行預處理。當對顏料進行預處理時，顏料的平均粒徑可以變得更細小。
可以通過用水溶性無機鹽和潤濕劑捏合顏料並且然後過濾和洗滌所捏合的顏料來進行預處理。
可以在從約40℃至約100℃的溫度下進行捏和，並且可 以在用水等洗去無機鹽之後通過過濾顏料而進行過濾和洗滌。
水溶性無機鹽的實例可以是氯化鈉、氯化鉀等，但不限於此。潤濕劑可以使顏料與水溶性無機鹽均勻混合並且被粉碎。潤濕劑的實例包括伸烷基二醇單烷基醚，如乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚等；以及醇類，如乙醇、異丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、甘油聚乙二醇等。這些可以單獨地或作為兩種或更多種的混合物使用。
基於第一組成物的總量可以以約1wt%至約30wt%(例如約2wt%至約20wt%)的量包含顏料。當顏料包括在所述範圍內時，會改善解析度和圖案線性度。
粘合劑樹脂可以包括cardo類粘合劑樹脂、丙烯酸類粘合劑樹脂(acrylic-based binder resin)或它們的組合。
粘合劑樹脂可以是cardo類粘合劑樹脂。當粘合劑樹脂是cardo類粘合劑樹脂時，包含cardo類粘合劑樹脂的第一組成物在光固化期間具有優異的顯影性和敏感性，因此具有精細的圖案形成能力。尤其是，當使用cardo類粘合劑樹脂時，可以確保黑柱間隔件的可靠性。
cardo類粘合劑樹脂可以包括由下列化學式1表示的重複單元。
[化學式1]
在以上化學式1中，R1和R2獨立地是氫或經取代或未經取代的(甲基)丙烯醯氧基烷基，R3和R4獨立地是氫、鹵素或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，以及Z1是單鍵、O、CO、SO2、CR7R8、SiR9R10(其中，R7至R10獨立地是氫或者經取代或未經取代的C1至C20烷基)或由以下化學式1-1至1-11中的一個表示的連接基團，
在以上化學式1-5中，Ra是氫、乙基、C2H4Cl、C2H4OH、CH2CH=CH2或苯基。
[化學式1-11]
Z2是酸二酐殘基(acid dianhydride residual group)，m1和m2獨立地是0至4範圍的整數。
cardo類粘合劑樹脂可以在至少一個末端處包括由以下化學式2表示的官能團。
在以上化學式2中，Z3由以下化學式2-1至2-7表示。
在以上化學式2-1中，Rb和Rc獨立地是氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基、酯基或醚基。
[化學式2-3]
在以上化學式2-5中，Rd是O、S、NH、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基。
cardo類樹脂可以例如通過混合下述中的至少兩種來製備：含芴化合物，如9,9-雙(4-環氧乙烷基甲氧基苯基)芴等；酸酐化合物，如苯四羧酸二酐、萘四羧酸二酐、聯苯基四羧酸二酐、 二苯甲酮四羧酸二酐、均苯四酸二酐、環丁烷四羧酸二酐、二萘嵌苯四羧酸二酐、四氫呋喃四羧酸二酐、四氫鄰苯二甲酸酐等；二醇化合物，如乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等；醇化合物，如甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、環己醇、苯甲醇等；基於溶劑的化合物，如丙二醇甲基乙基乙酸酯、N-甲基吡咯烷酮等；磷化合物，如三苯基膦等；以及胺或銨鹽化合物，如四甲基氯化銨、四乙基溴化銨、苄基二乙胺、三乙胺、三丁胺、苄基三乙基氯化銨等。
cardo類粘合劑樹脂可以具有約500g/mol至約50,000g/mol(例如約1,000g/mol至約30,000g/mol)的重量平均分子量。當cardo類粘合劑樹脂具有在此範圍內的重量平均分子量時，可以良好地形成圖案，而在製造黑柱間隔件期間沒有殘留物並且在顯影期間沒有膜厚度損失。
丙烯酸類粘合劑樹脂是第一烯鍵式不飽和單體和可與其共聚的第二烯鍵式不飽和單體的共聚物，並且是包含至少一種丙烯酸類重複單元的樹脂。
所述第一烯鍵式不飽和單體是包含至少一個羧基的烯鍵式不飽和單體。單體的實例包括丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸或它們的組合。
基於丙烯酸類樹脂的總量可以以約5wt%至約50wt%(例如約10wt%至約40wt%)的量包含第一烯鍵式不飽和單體。
第二烯鍵式不飽和單體可以是芳族乙烯基化合物，如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚等；不飽 和羧酸酯化合物，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯等；不飽和羧酸氨基烷基酯化合物，如(甲基)丙烯酸2-氨基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二甲基氨基乙酯等；羧酸乙烯酯化合物，如乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等；不飽和羧酸縮水甘油酯化合物，如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等；乙烯基氰化合物，如(甲基)丙烯腈等；不飽和醯胺化合物，如(甲基)丙烯醯胺等；等等。這些可以單獨或作為兩種或更多種的混合物使用。
丙烯酸類樹脂的具體實例可以是甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸2-羥乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥乙酯共聚物等，但不限於此。這些可以單獨或作為兩種或更多種的混合物使用。
丙烯酸類樹脂可以具有約3,000g/mol至約150,000g/mol(例如約5,000g/mol至約50,000g/mol或約7,000g/mol至約30,000g/mol)的重量平均分子量。當丙烯酸類樹脂具有在此範圍內的重量平均分子量時，第一組成物可以具有優異的物理和化學特性和合適的粘度，並且在製造黑柱間隔件期間表現出對基板優異的緊密接觸特性。
丙烯酸類樹脂可以具有約15mgKOH/g至約150mgKOH/g(例如約80mgKOH/g至約130mgKOH/g)的酸值。當 丙烯酸類樹脂具有在此範圍內的酸值時，畫素圖案可以具有優異的解析度。
當cardo類粘合劑樹脂與丙烯酸類粘合劑樹脂混合時，第一組成物中cardo類粘合劑樹脂和丙烯酸類粘合劑樹脂的(重量)比可以為約99：1至約50：50。
當以比cardo類粘合劑樹脂的量更多的量包括丙烯酸類粘合劑樹脂時，耐化學性和可靠性可能變差。
基於第一組成物的總量可以以約1wt%至約30wt%(例如約2wt%至約20wt%)的量包含粘合劑樹脂。具體地，基於第一組成物的總量可以以約1wt%至約20wt%的量包含cardo類粘合劑樹脂，而基於第一組成物的總量可以以約1wt%至約20wt%的量包含丙烯酸類粘合劑樹脂。當粘合劑樹脂包含在此範圍內時，可以獲得優異的敏感度、可顯影性、解析度和圖案線性度。
反應性不飽和化合物可以是單體或寡聚物，並可以是包含至少一個烯鍵式不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸的單官能或多官能酯。
反應性不飽和化合物具有烯鍵式不飽和雙鍵，因此可以在圖案形成製程中在曝光期間導致足夠的聚合，並形成具有優異耐熱性、耐光性和耐化學性的圖案。
反應性不飽和化合物可以是例如二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙 烯酸1,4-丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、二(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、雙酚A環氧(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、磷酸三(甲基)丙烯醯氧乙基酯、酚醛環氧(甲基)丙烯酸酯(novolac epoxy(meth)acrylate)或者它們的組合。
反應性不飽和化合物的可商購實例如下。單官能(甲基)丙烯酸酯可以包括Aronix M-101®、M-111®、M-114®(Toagosei Chemistry Industry Co.，Ltd.)；KAYARAD TC-110S®、TC-120S®(Nippon Kayaku Co.，Ltd.)；V-158®，V-2311®(Osaka Organic Chemical Ind.，Ltd.)等。雙官能(甲基)丙烯酸酯的實例可以包括Aronix M-210®、M-240®、M-6200®(Toagosei Chemistry Industry Co.，Ltd.)、KAYARAD HDDA®、HX-220®、R-604®(Nippon Kayaku Co.，Ltd.)、V-260®、V-312®、V-335 HP®(Osaka OrganicChemical Ind.，Ltd.)等。三官能(甲基)丙烯酸酯的實例可以包括Aronix M-309®、M-400®、M-405®、M-450®、M-7100®、M-8030®、M-8060®(Toagosei Chemistry Industry Co.，Ltd.)、KAYARAD TMPTA®、DPCA-20®、DPCA-30®、DPCA-60®、DPCA-120®(Nippon Kayaku Co.，Ltd.)、V-295®、V-300®、V-360®、V-GPT®、V-3PA®、V-400® (Osaka Yuki Kayaku Kogyo Co.Ltd.)等。這些可以單獨或作為兩種或更多種的混合物使用。
可以用酸酐處理反應性不飽和化合物，以改善可顯影性。
基於第一組成物的總量，可以以約1wt%至約20wt%(例如，約1wt%至約10wt%)的量包含反應性不飽和化合物。當在此範圍內包含反應性不飽和化合物時，在圖案形成過程中，在曝光期間，反應性不飽和化合物被充分固化並且具有優異的可靠性，並且因此可以形成具有優異的耐熱性、耐光性和耐化學性以及還有優異的解析度和緊密接觸特性的圖案。
在光敏樹脂組成物中，光聚合引發劑可以是通常使用的光聚合引發劑，例如苯乙酮類化合物、二苯甲酮類化合物、噻噸酮類化合物、苯偶姻類化合物、肟類化合物等。
苯乙酮類化合物的實例可以是2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對叔丁基三氯苯乙酮、對叔丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉代丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁-1-酮等。
二苯甲酮類化合物的實例可以是二苯甲酮、苯甲醯基苯甲酸酯、甲基苯甲醯基苯甲酸酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸酯化二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4'-二甲基氨基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮等。
噻噸酮類化合物的實例可以是噻噸酮、2-甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮等。
苯偶姻類化合物的實例可以是苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻異丁醚、苄基二甲基縮酮等。
三嗪類化合物的實例可以是2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘並-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘並1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-s-三嗪等。
肟類化合物的實例可以是O-醯基肟類化合物、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧基羰基-α-氧基氨基-1-苯基丙-1-酮等。O-醯基肟類化合物的具體實例可以是1,2-辛二酮、2-二甲氨基-2-(4-甲苄基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛-1-酮肟O-乙酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁-1-酮肟-O-乙酸酯等或它們的組合。
除了所述化合物之外，光聚合引發劑可以進一步包括咔唑類化合物、二酮類化合物、硼酸鋶類化合物、重氮類化合物、咪唑類化合物、聯咪唑類化合物等。
光聚合引發劑可以與能夠通過吸收光並且變得被激發而引起化學反應然後傳遞其能量的光敏劑一起使用。
光敏劑的實例可以是四乙二醇雙-3-巰基丙酸酯、季戊四醇四-3-巰基丙酸酯、二季戊四醇四-3-巰基丙酸酯等。
基於第一組成物的總量，以約0.05wt%至約5wt%(例如，約0.1wt%至約5wt%)的量包含光聚合引發劑。當在此範圍內包括光聚合引發劑時，由於在圖案形成過程中在曝光期間的充分固化，因此可以確保優異的可靠性，圖案可以具有優異的解析度和緊密接觸特性以及優異的耐熱性、耐光性以及耐化學性，並且由於非反應引發劑從而可以防止透光率劣化。
溶劑是與顏料、粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物和光聚合引發劑具有相容性而不與其反應的物質。
溶劑的實例可以包括醇類，如甲醇、乙醇等；醚類，如二氯乙醚、正丁基醚、二異戊醚、甲基苯基醚、四氫呋喃等；二醇醚類，如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等；溶纖劑乙酸酯類(cellosolve acetate)，如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯等；卡必醇類，如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯類， 如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；芳族烴類，如甲苯、二甲苯等；酮類，如甲乙酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基正丙基酮、甲基正丁基酮、甲基正戊基酮、2-庚酮等；飽和脂肪族單羧酸烷基酯類，如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯等；乳酸酯類，如乳酸甲酯、乳酸乙酯等；氧乙酸烷基酯類(oxy acetic acid alkyl ester)，如氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯等；烷氧基乙酸烷基酯類，如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等；3-氧丙酸烷基酯類，如3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等；3-烷氧基丙酸烷基酯類，如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等；2-氧丙酸烷基酯類，如2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等；2-烷氧基丙酸烷基酯類，如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等；2-氧基-2-甲基丙酸酯類，如2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯等；2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯的單氧基單羧酸烷基酯，如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等；酯類，如2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯等；酮酸酯類(ketonate ester)，如丙酮酸乙酯等。另外，還可以使用高沸點溶劑，如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亞碸、苄基乙醚、二己醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄 醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯等。
考慮到互溶性和反應性，可以優選使用二醇醚類，如乙二醇單乙醚等；乙二醇烷基醚乙酸酯類，如乙基溶纖劑乙酸酯等；酯類，如2-羥基丙酸乙酯等；卡必醇類，如二乙二醇單甲醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯類，如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等。
基於第一組成物的總量，以例如約40wt%至約90wt%)的餘量來使用溶劑。當在此範圍內包含溶劑時，第一組成物可以具有適當的粘度，從而產生黑柱間隔件的塗層特性的改善。
第一組成物可以進一步包括丙二酸；3-氨基-1,2-丙二醇；矽烷類偶聯劑；流平劑；氟類表面活性劑；自由基聚合引發劑；或它們的組合的添加劑。
矽烷類偶聯劑可以具有乙烯基、羧基、甲基丙烯醯氧基、異氰酸酯基、環氧基等的反應性取代基，以便改善與基板的緊密接觸特性。
矽烷類偶聯劑的實例可以包括三甲氧基甲矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等。這些可以單獨或以兩種或更多種的混合物使用。
基於100重量份的第一組成物可以以約0.01重量份至約 10重量份的量包含矽烷類偶聯劑。當矽烷類偶聯劑包括在此範圍內時，可以改善緊密接觸特性、儲存特性等。
另外，如果有必要，第一組成物可以進一步包含表面活性劑，例如氟類表面活性劑，以便改善塗覆特性並防止缺陷。
氟類表面活性劑的實例可以是可商購的氟類表面活性劑如BM-1000®和BM-1100®(BM Chemie Inc.)；MEGAFACE F 142D®、F 172®、F 173®和F 183®(Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.,Ltd.)；FULORAD FC-135®、FULORAD FC-170C®、FULORAD FC-430®和FULORAD FC-431®(Sumitomo 3M Co.,Ltd.)；SURFLON S-112®、SURFLON S-113®、SURFLON S-131®、SURFLON S-141®和SURFLON S-145®(Asahi Glass Co.、Ltd.)；和SH-28PA®、SH-190®，SH-193®，SZ-6032®和SF-8428®等(Toray Silicone Co.,Ltd.)。
基於100重量份的第一組成物可以以約0.001至約5重量份的量使用表面活性劑。當表面活性劑包括在此範圍內時，可以確保在IZO基板或玻璃基板上的優異的潤濕性以及塗層均勻性，不可能產生印跡(污點)。
另外，第一組成物可以以預定的量包含其它添加劑(如抗氧化劑、穩定劑等)，除非它們會劣化第一組成物的特性。
(C)形成第二有機層
可以通過在形成於基板上的第一有機層上塗覆第二組成物而形成第二有機層。第二組成物的塗佈可以與第一組成物的塗 佈相同。也就是說，使用旋塗或狹縫塗覆方法、輥塗法、絲網印刷法、塗抹器法等，在第一有機層上塗覆第二組成物以具有所期望的厚度，例如，約2μm至約25μm的厚度。隨後，塗覆的第二組成物可以乾燥以形成第二有機層。
乾燥過程可以與上述第一組成物的乾燥過程相同。換句話說，乾燥可以通過在約70℃至約110℃下熱處理第二組成物約1分鐘至約10分鐘或使之靜置在包括真空泵(約0.1托至約5托)的室中約10秒鐘至約1分鐘而進行。因此，可以除去第二組成物中部分或所有溶劑以形成第二有機層。
由於使用第二組成物以形成階差，因此沒有必要需要高光學深度(OD)，在第一組成物中包含的組分中的顏料可不必要包含在第二組成物中。換句話說，第二組成物可以包含粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合引發劑和溶劑，或者如果有必要，進一步包含顏料。此外，第二組成物可以進一步包含針對第一組成物所描述的其它添加劑。
第二組成物可以包含與第一組成物中所包含的那些組分相同的組分。然而，第一和第二組成物中的每種組分可以分別以不同的量被包括，因此，第一和第二組成物可以在固化後具有不同的光學深度(OD)。
因此，用於形成第二有機層的第二組成物的每種組分，粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合引發劑、顏料和溶劑與用於形成第一有機層的第一組成物中所描述的相同。
第二有機層可以具有比第一有機層更低的光學深度(OD)。本文中，由於要確保黑柱間隔件的可靠性，所以用於形成第二有機層的第二組成物可以幾乎不包含作為粘合劑樹脂的cardo類粘合劑樹脂而另外包含其它粘合劑樹脂，例如，丙烯酸類粘合劑樹脂等。當第二組成物包含除了cardo類樹脂以外的丙烯酸類粘合劑樹脂作為粘合劑樹脂時，可以進一步優化黑柱間隔件的特性，例如耐溶劑性、顯影裕度等。
基於第二組成物的總量，第二組成物中包含的粘合劑樹脂可以以約3wt%至約70wt%(例如，約3wt%至約60wt%)的量被包括。當粘合劑樹脂包含在此範圍內時，可以獲得圖案的優異的敏感度、可顯影性、解析度和線性度。
基於第二組成物的總量，第二組成物中包含的反應性不飽和化合物可以以約2wt%至約40wt%(例如，約3至約30wt%)的量被包括。當反應性不飽和化合物包括在此範圍內時，第二組成物可以在形成圖案過程中在曝光期間被充分固化並且實現圖案的優異的可靠性，優異的耐熱、光和化學性，優異的解析度和緊密接觸特性。
基於第二組成物的總量，第二組成物中包含的光聚合引發劑可以以約0.1wt%至約5wt%(例如，約0.2wt%至約5wt%)的量被包括。當光聚合引發劑包括在此範圍內時，第二組成物可以在形成圖案過程中在曝光期間被充分固化並且實現圖案的優異的可靠性，優異的耐熱、光和化學性，以及優異的解析度和緊密 接觸特性，並還可以防止由於未反應的引發劑所導致的透光率劣化。
基於第二組成物的總量，第二組成物中包含的溶劑可以以餘量或約40wt%至約90wt%的量被包括。當溶劑包括在此範圍內時，第二組成物可以具有合適的粘度並在製造黑柱間隔件時實現優異的可加工性。然而，由於在乾燥第一組成物之後塗覆第二組成物，所以第二組成物中的溶劑可以具有比第一組成物中的溶劑更低的溶解性。例如，用於第一組成物的溶劑可以包括PGMEA、PGME、EDM、3-MBA、EEP等，而用於第二組成物的溶劑可以包括PGMEA、3-MBA、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、乙酸正己酯等，但不限於此。
(D)曝光
在基板上形成第一和第二有機層之後，對具有第一和第二有機層的基板的前表面進行曝光。前曝光相對於後曝光，並且由此表示其上形成有第一和第二有機層的基板的前表面的曝光。換句話說，曝光可以僅僅表示基板的前表面的曝光。
前曝光可以通過使用單半調式罩幕以一個製程圖案化黑矩陣和柱間隔件。半調式罩幕可以包括完全透光的區域和部分透光的另一個區域。單半調式罩幕在曝光期間可以包括透過約100%的光的區域和透過小於約100%的光的另外的區域。在曝光期間透過小於約100%的光的區域，例如可以透光約20%至約70%，即，約21%至約70%、約22%至約70%、約23%至約70%、約24% 至約70%、約25%至約70%、約26%至約70%、約27%至約70%、約28%至約70%、約29%至約70%、約30%至約70%、約31%至約70%、約32%至約70%、約33%至約70%、約34%至約70%、約35%至約70%、約36%至約70%、約37%至約70%、約38%至約70%、約39%至約70%、約40%至約70%、約41%至約70%、42%至約70%、約43%至約70%、約44%至約70%、約45%至約70%、約46%至約70%、約47%至約70%、約48%至約70%、約49%至約70%、約50%至約70%、約51%至約70%、約52%至約70%、約53%至約70%、約54%至約70%、約55%至約70%、約56%至約70%、約57%至約70%、約58%至約70%、約59%至約70%、約60%至約70%、約61%至約70%、約62%至約70%、約63%至約70%、約64%至約70%、約65%至約70%、約66%至約70%、約67%至約70%、約68%至約70%、或者約69%至約70%。
(E)顯影和固化
在曝光之後，第一和第二有機層通過顯影和固化可以具有大於或等於約1.0的光學深度差。例如，第一有機層可以具有約1.0至約5.0的光學深度。
固化可以在約150℃至約250℃的溫度下進行約10分鐘至約60分鐘。以這種方式，熱處理完全固化未光固化的區域，並且具有提高可靠性和圖案穩定性的效果。
另一個實施方式提供了使用製造上述黑柱間隔件的方法 製造的黑柱間隔件。
又一個實施方式提供了包括此黑柱間隔件的彩色濾光片。
在下文中，將參照實施例更詳細地說明本發明。然而，這些實施例不以任何意義被解釋為限制本發明的範圍。
(實施例)
(製備第一(有機層)組成物和第二(有機層)組成物)
製備例1至3
根據製備例1至3的每種有機層組成物通過使用以下表1至3中提供的下列組成物中的下列組分進行製備。
具體地，光聚合引發劑溶解在溶劑中，在室溫下充分攪拌溶液大於或等於30分鐘，將粘合劑樹脂和反應性不飽和化合物順序加入其中，並且在室溫下攪拌混合物約1小時。隨後，將其它添加劑加入到攪拌的溶液中，攪拌混合物約10分鐘，然後，將顏料加入其中，並且在室溫下攪拌獲得的混合物大於或等於2小時。然後，對產物過濾3次以除去其中的雜質，獲得有機層組成物。
製備例1：製造第一有機層
在表1中，內醯胺類有機黑由以下化學式A表示。
製備例2：製造第二有機層
[表2]
製備例3：製造第二有機層
在表3中，內醯胺類有機黑由以下化學式A表示。
(製造黑柱間隔件)
實施例1
(1)塗覆第一(有機層)組成物並形成第一有機層
以旋塗或狹縫塗佈、輥塗、絲網印刷、使用塗抹器等的方法將根據製備例1的第一(有機層)組成物在預定的預處理的 IZO基板上塗覆至1.5μm厚，通過在70℃至100℃下加熱熱板1分鐘至10分鐘而乾燥以除去其中的溶劑，形成第一有機層。
(2)塗覆第二(有機層)組成物並形成第二有機層
以旋塗或狹縫塗佈、輥塗、絲網印刷、使用塗佈器等的方法將根據製備例2的第二(有機層)組成物在IZO基板上形成的第一有機層上塗覆至1.5μm厚，並通過在70℃至100℃下加熱熱板1分鐘至10分鐘而乾燥以除去其中的溶劑，形成第二有機層。
(3)曝光
第二有機層的前側通過放置具有用於形成黑矩陣圖案的半調區域(透過20%至70%的光)和用於形成柱間隔件圖案的全調區域(透過100%的光)的罩幕並用曝光器(Ushio Inc.，HB-50110AA)輻照200nm至500nm的光化射線進行曝光，以圖案化第一和第二有機層。至於輻照中的光源，可以使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、氬氣鐳射等，而如果有必要也可以使用X-射線、電子束等。當使用高壓汞燈(通過使用365nm感測器)時，曝光劑量可以根據組成物中的組分類型、混合量和乾燥期間的膜厚度而變化，但可以小於或等於500mJ/cm2。
(4)顯影
曝光的有機層採用0.2wt%的氫氧化鉀(KOH)水溶液通過使用顯影器(SVS Corp.，SSP-200)以溶解和去除不必要的區域並留下曝光的區域進行顯影，由此形成圖案。
(5)固化
對通過顯影獲得的圖像圖案進行後加熱，以獲得在耐熱性、耐光性、緊密接觸特性、耐開裂性、耐化學性、高強度和儲存穩定性等方面優異的圖案。具體地，將通過顯影獲得的圖像圖案在爐中在230℃下加熱30分鐘，製造黑柱間隔件樣品。
實施例2
根據與實施例1相同的方法製造黑柱間隔件，不同之處在於，使用根據製備例3的第二(有機層)組成物代替根據製備例2的第二(有機層)組成物。
比較例1
根據與實施例1相同的方法製造黑柱間隔件，不同之處在於，將根據製備例1的第一(有機層)組成物塗覆至3.0μm厚代替根據製備例2的第二(有機層)組成物。
評價1：光學深度(OD)
在10cm×10cm的IZO基板上用旋塗機(Mikasa Co.,Ltd.，Opticoat MS-A150)將根據製備例1至3的有機層組成物分別塗覆至1.5μm厚，在熱板上在80℃下軟烘烤(或預烘烤)150秒，並通過使用曝光器(Ushio Inc.，HB-50110AA)和光罩以50mJ曝光。隨後，將獲得的有機塗層(SVS Corp.，SSP-200)分別在0.2wt%的氫氧化鉀(KOH)水溶液中顯影150秒，並在爐中在230℃下硬烘烤(或後烘烤)30分鐘，獲得每個圖案化的樣品。測定樣品的光學深度並提供在以下表4中。
評價2：顯影裕度
通過使用接觸型厚度計(KLA-Tencor Corp.，α-分檔器(stepper))或非接觸型厚度計(3-D廓線儀)測定實施例1和2和比較例1中的黑柱間隔件樣品的厚度和階差以評價其顯影裕度，並且將結果提供在圖5中。
參照圖5，實施例1和2的黑柱間隔件樣品表明隨著顯影時間的推移厚度降低較小，因此，表現出優異的顯影裕度，同時比較例1的黑柱間隔件樣品顯示出隨著顯影時間的推移厚度降低較大(0.414μm/10s)，因此，表現出顯影裕度不足。
評價3：耐溶劑性
將實施例1和2和比較例1中黑柱間隔件樣品切成1cm×1cm的尺寸，放置於容納有5mL NMP的玻璃瓶中，使之靜置在100℃爐中15分鐘，如果出現其顏色就進行檢查，而並且將結果提供在以下表5中。
脫色測定顯示方法
X：當用裸眼檢查時無脫色
O：當用裸眼檢查時高度脫色
[表5]
參照表5，與比較例1相比，實施例1和2表現出優異的耐溶劑性而沒有脫色。
雖然已經結合目前被認為是實用的示例性實施方式對本發明進行了描述，但是應當理解到，本發明並不限於所公開的實施方式，而是相反，旨在涵蓋包括在所附申請專利範圍的精神和範圍內的各種修改和等同安排。因此，上述實施方式應該理解為是示例性的，但不以任何方式限制本發明。

Claims (18)

  1. 一種製造黑柱間隔件的方法，包括：製備基板；在所述基板上形成第一有機層；在所述第一有機層上形成第二有機層；使用半調式罩幕在其上形成有所述第一有機層和所述第二有機層的所述基板上進行曝光；以及使所述基板顯影並固化所述第一有機層和所述第二有機層以形成所述黑柱間隔件。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中在顯影和固化之後獲得的所述第一有機層具有比所述第二有機層高大於或等於1.0的光學深度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中通過使用單半調式罩幕進行曝光，且其中所述單半調式罩幕在曝光期間具有透過100%的光的區域和透過小於100%的光的另外的區域。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第一有機層的形成包括在所述基板上塗覆和乾燥包含粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合引發劑、顏料和溶劑的第一組成物。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第二有機層的形成包括塗覆和乾燥包含粘合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合引發劑和溶劑的第二組成物。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第二組成物進一步包含顏料。
  7. 如申請專利範圍第4項與第6項中任一項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述顏料包括黑色顏料。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述黑色顏料包括苯胺黑、二萘嵌苯黑、鈦黑、花青黑、木素黑、內醯胺類有機黑、RGB黑、炭黑或它們的組合。
  9. 如申請專利範圍第4項與第5項中任一項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述粘合劑樹脂包括cardo類粘合劑樹脂、丙烯酸類粘合劑樹脂或它們的組合。
  10. 如申請專利範圍第4項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第一組成物包含1wt%至30wt%的粘合劑樹脂；1wt%至20wt%的反應性不飽和化合物；0.05wt%至5wt%的光聚合引發劑；1wt%至30wt%的顏料；和餘量的溶劑。
  11. 如申請專利範圍第5項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第二組成物包含3wt%至70wt%的粘合劑樹脂；2wt%至40wt%的反應性不飽和化合物；0.1wt%至5wt%的光聚合引發劑；和餘量的溶劑。
  12. 如申請專利範圍第4項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第一組成物進一步包含丙二酸、3-氨基-1,2-丙二醇、矽烷類偶聯劑、流平劑、氟類表面活性劑、自由基聚合引發劑或它們的組合的添加劑。
  13. 如申請專利範圍第5項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第二組成物進一步包含丙二酸、3-氨基-1,2-丙二醇、矽烷類 偶聯劑、流平劑、氟類表面活性劑、自由基聚合引發劑或它們的組合的添加劑。
  14. 如申請專利範圍第6項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第二組成物進一步包含丙二酸、3-氨基-1,2-丙二醇、矽烷類偶聯劑、流平劑、氟類表面活性劑、自由基聚合引發劑或它們的組合的添加劑。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中所述第一有機層和所述第二有機層分別通過乾燥所述第一組成物和所述第二組成物1分鐘至10分鐘而形成。
  16. 如申請專利範圍第1項所述的製造黑柱間隔件的方法，其中在曝光之後在顯影和固化期間在150℃至250℃下進行固化10分鐘至60分鐘。
  17. 一種黑柱間隔件，通過如申請專利範圍第1項所述的製造黑柱間隔件的方法製造。
  18. 一種彩色濾光片，包括如申請專利範圍第17項所述的黑柱間隔件。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10048528B2 (en) 2014-11-19 2018-08-14 Samsung Sdi Co., Ltd. Liquid crystal display
KR101812579B1 (ko) * 2015-06-30 2017-12-27 삼성에스디아이 주식회사 감광성 이중층 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러필터
KR102540423B1 (ko) * 2015-12-24 2023-06-05 미쯔비시 케미컬 주식회사 감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서, 화상 표시 장치
KR102499044B1 (ko) * 2016-03-08 2023-02-13 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치
CN109154748B (zh) 2016-05-27 2021-07-16 昭和电工株式会社 黑色间隔柱形成用光敏树脂组合物、黑色间隔柱及图像显示装置
KR102590768B1 (ko) * 2016-05-31 2023-10-19 주식회사 이엔에프테크놀로지 블랙 컬럼 스페이서(bcs) 또는 블랙 매트릭스용 착색 감광성 조성물
TWI749019B (zh) 2016-06-14 2021-12-11 日商日產化學工業股份有限公司 Ｂｏａ基板或附有ｂｃｓ之基板塗布用液晶配向劑及液晶顯示元件
JP6985715B2 (ja) 2016-06-15 2021-12-22 山陽色素株式会社 黒色顔料組成物及びこれを含む黒色塗膜形成組成物
KR102142179B1 (ko) * 2016-10-10 2020-08-06 주식회사 엘지화학 잉크젯용 적외선 투과 잉크 조성물, 이를 이용한 베젤 패턴의 형성방법, 이에 따라 제조한 베젤 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
JP6451918B2 (ja) * 2016-12-02 2019-01-16 三菱ケミカル株式会社 着色感光性樹脂組成物、顔料分散液、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
WO2018151079A1 (ja) * 2017-02-15 2018-08-23 三菱ケミカル株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
KR20240027869A (ko) * 2017-09-01 2024-03-04 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 복합 입자, 복합 입자 분체 및 조광재
TWI779259B (zh) 2020-01-20 2022-10-01 新應材股份有限公司 樹脂組成物以及濾光元件
JP7520543B2 (ja) * 2020-03-25 2024-07-23 三菱製紙株式会社 感光性樹脂組成物
KR20220020678A (ko) * 2020-08-12 2022-02-21 동우 화인켐 주식회사 광변환 잉크용 격벽 조성물, 이를 이용하여 제조된 격벽 구조물 및 이를 포함하는 표시장치
JP7658565B2 (ja) 2021-06-23 2025-04-08 山陽色素株式会社 黒色顔料分散体

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3498020B2 (ja) * 1999-09-29 2004-02-16 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 アクティブマトリックス基板及びその製造方法
KR100488953B1 (ko) * 2001-12-31 2005-05-11 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치의 지주 스페이서 형성방법
JP3912663B2 (ja) * 2002-02-26 2007-05-09 富士フイルム株式会社 カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起
JP2004053706A (ja) 2002-07-17 2004-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
TW594232B (en) 2002-11-26 2004-06-21 Hannstar Display Corp A method of utilizing dual-layer photoresist to form black matrix and spacers on a control circuit substrate
JP4318954B2 (ja) 2003-05-09 2009-08-26 富士通株式会社 液晶パネル及びその製造方法
KR20050049985A (ko) 2003-11-24 2005-05-27 엘지.필립스 엘시디 주식회사 배면노광에 의해 형성된 컬러필터 기판을 이용한액정표시소자 제조방법
JP4235576B2 (ja) 2004-03-16 2009-03-11 シャープ株式会社 カラーフィルタ基板及びそれを用いた表示装置
KR101158872B1 (ko) * 2005-06-30 2012-06-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20070069829A (ko) 2005-12-28 2007-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
TWI276845B (en) * 2006-04-03 2007-03-21 Au Optronics Corp Color filter substrate and manufacturing method thereof
JP2009145800A (ja) * 2007-12-18 2009-07-02 Toray Ind Inc 液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法
JP5195092B2 (ja) 2008-07-02 2013-05-08 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
KR20100066197A (ko) 2008-12-09 2010-06-17 제일모직주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 차광층 및 칼럼 스페이서
US20100163811A1 (en) 2008-12-31 2010-07-01 Cheil Industries Inc. Organic Layer Photosensitive Resin Composition and Organic Layer Fabricated Using Same
KR20100125574A (ko) 2009-05-21 2010-12-01 엘지이노텍 주식회사 하프톤 마스크 및 그 제조방법
KR101581774B1 (ko) * 2009-06-18 2016-01-04 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN102116960B (zh) * 2009-12-30 2013-01-09 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制造方法
KR101333713B1 (ko) 2010-12-21 2013-11-28 제일모직주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 차광층 및 칼럼 스페이서
KR101547376B1 (ko) 2011-01-17 2015-08-25 주식회사 엘지화학 컬러 필터 기판, 이의 제조방법 및 상기 기판을 포함하는 표시장치
KR101809657B1 (ko) 2011-09-22 2017-12-18 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101688464B1 (ko) 2011-10-02 2016-12-22 코오롱인더스트리 주식회사 감광성 수지 조성물
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CN102707356B (zh) * 2011-11-01 2014-05-21 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片的制作方法、彩色滤光片以及显示装置
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KR102048588B1 (ko) 2012-04-06 2019-11-25 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 블랙 컬럼 스페이서용 감광성 수지 조성물, 블랙 컬럼 스페이서, 표시장치, 및 블랙 컬럼 스페이서의 형성 방법
CN102866532A (zh) 2012-09-29 2013-01-09 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光基板以及其相关制作方法
CN103472612B (zh) * 2013-09-13 2016-02-03 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板制备方法、阵列基板以及液晶显示装置

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