TWI610135B - 感光性樹脂組成物、使用其的感光性樹脂層以及顯示裝置 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 127
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 127
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 139
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 40
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 34
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 25
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 108010026466 polyproline Proteins 0.000 claims description 11
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims description 10
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 8
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000006832 (C1-C10) alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 claims description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 imino, azido, fluorenyl Chemical group 0.000 description 25
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 23
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 14
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 8
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 7
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 7
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 7
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 5
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 5
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KQIGMPWTAHJUMN-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropane-1,2-diol Chemical compound NCC(O)CO KQIGMPWTAHJUMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Substances CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- 229920000656 polylysine Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKOQFIGFHTRRW-UHFFFAOYSA-N (2-methoxy-3-methylphenyl)-(3-methylphenyl)methanone Chemical compound COC1=C(C)C=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 FJKOQFIGFHTRRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dimethylhydrazine Chemical compound CNNC DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZYGTVTZYSBCU-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 BUZYGTVTZYSBCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-phenylsulfanylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCC)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2-dichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)Cl)C=C1 VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2C=CC=CC=2)=N1 DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAXRSWGYLGOFQP-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1-(2-butoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCCCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCCCC AAXRSWGYLGOFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1-(2-ethoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCC MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFAMKDPMPDEXGH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCO SFAMKDPMPDEXGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAMWEWAFFUFOJV-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(C)O AAMWEWAFFUFOJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDVAGTPYBDSNLM-UHFFFAOYSA-N 2-piperidin-1-yl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(N2CCCCC2)=N1 SDVAGTPYBDSNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMPALQUHKFNPAB-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-indol-2-yl)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(C=2NC3=CC=CC=C3C=2)=C1 KMPALQUHKFNPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-fluoro-6-nitrophenol Chemical compound OC1=C(F)C=C(Br)C=C1[N+]([O-])=O ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYUVGYBAPZYKSA-UHFFFAOYSA-N 5-(3-hydroxybutan-2-yl)-4-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)C1=CC(O)=CC(O)=C1C ZYUVGYBAPZYKSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQLZINXFSUDMHM-UHFFFAOYSA-N Acetamidine Chemical compound CC(N)=N OQLZINXFSUDMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N Bis(2-chloroethyl)ether Chemical compound ClCCOCCCl ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N Diisoamyl ether Chemical compound CC(C)CCOCCC(C)C AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N Methyl benzoate Natural products COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001890 Novodur Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHKYBIBTIUZQSX-UHFFFAOYSA-N P(=O)(OCCOC)(O)O.CC(C=C)(C)C Chemical compound P(=O)(OCCOC)(O)O.CC(C=C)(C)C VHKYBIBTIUZQSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 108010039918 Polylysine Proteins 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910005965 SO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930182558 Sterol Natural products 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005055 alkyl alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- ZNRTVHASLDGVBC-UHFFFAOYSA-N benzhydryl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZNRTVHASLDGVBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1C(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHADDZMCASKINP-HTRCEHHLSA-N decarboxydihydrocitrinin Natural products C1=C(O)C(C)=C2[C@H](C)[C@@H](C)OCC2=C1O NHADDZMCASKINP-HTRCEHHLSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)OCC WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)OC WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFFHRPDTQNMQB-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-oxopropanoate Chemical compound CCOC(=O)CC=O SYFFHRPDTQNMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003903 lactic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002601 lanthanoid compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGADEVQOWQDDFX-UHFFFAOYSA-N methyl 3-oxopropanoate Chemical compound COC(=O)CC=O AGADEVQOWQDDFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CC1=CC=CC=C1 ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZYHMUONCNKCHE-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C21 MZYHMUONCNKCHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNPKAOCQMDJBIK-UHFFFAOYSA-N nitrocyanamide Chemical compound [O-][N+](=O)NC#N ZNPKAOCQMDJBIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- UFOIOXZLTXNHQH-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,3,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1OC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O UFOIOXZLTXNHQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004060 quinone imines Chemical group 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 235000003702 sterols Nutrition 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001392 ultraviolet--visible--near infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
本發明公開一種感光性樹脂組成物、使用其製造的感光性樹脂層以及包含所述感光性樹脂層的顯示裝置，所述感光性樹脂組成物包含：（A）黏合劑樹脂；（B）黑色著色劑；（C）光可聚合單體；（D）光聚合起始劑；以及（E）溶劑，其中所述黏合劑樹脂包含具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂以及具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂。
Description
[相關申請案之交叉參考] 本申請主張2016年7月13日在韓國智慧財產權局提出申請的韓國專利申請第10-2016-0088886號的優先權及權利，所述韓國專利申請的全部內容併入本案供參考
本發明有關一種感光性樹脂組成物、使用其的感光性樹脂層以及顯示裝置。
製造彩色濾光片、液晶顯示材料、例如有機發光二極體等顯示裝置、顯示裝置面板材料等必須使用感光性樹脂組成物。舉例來說，例如在彩色液晶顯示器等中的彩色濾光片需要位於例如紅色層、綠色層、藍色層等被著色層之間的邊界上的例如黑色圖元阻隔壁層（black pixel barrier rib layer）等感光性樹脂層，以增強顯示對比度或發色團效應（chromophore effect）。此種感光性樹脂層可主要由黑色感光性樹脂組成物形成。
具體來說，用作顯示裝置面板的材料的例如圖元阻隔壁層等感光性樹脂層應具有小的錐角以確保可加工性及裝置可靠性。此外，應使用在可見光（visible ray）區中吸收光的著色劑（例如顏料、染料等）來確保光阻擋特性。
然而，例如顏料、染料等著色劑具有在固化製程之後增大錐角的問題。
因此，為解決所述問題，正研究開發一種用於感光性樹脂層的感光性樹脂組成物。
一實施例提供一種具有改善的敏感性及錐形特徵的感光性樹脂組成物。
另一實施例提供一種使用所述感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層。
再一實施例提供一種包括所述感光性樹脂層的顯示裝置。
一實施例提供一種感光性樹脂組成物，包含：（A）黏合劑樹脂；（B）黑色著色劑；（C）光可聚合單體；（D）光聚合起始劑；以及（E）溶劑，其中所述黏合劑樹脂包含具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂以及具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂。
以100重量份的所述第二黏合劑樹脂計，可包含約1重量份至約900重量份的量的所述第一黏合劑樹脂。
以100重量份的所述第二黏合劑樹脂計，可包含約100重量份至約800重量份的量的所述第一黏合劑樹脂。
所述第一黏合劑樹脂可包括聚氨基甲酸酯系樹脂、卡多系樹脂、環氧系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、雙酚A系樹脂、矽氧烷系樹脂或其組合。
所述第二黏合劑樹脂可包括選自聚醯胺酸聚合物、聚醯胺酸酯聚合物、聚羥基醯胺聚合物、聚醯亞胺聚合物、聚苯並噁唑聚合物（polybenzoxazole polymer）及其共聚物的至少一者。
所述第二黏合劑樹脂可為聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物。
所述聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物可包含聚醯胺酸重複單元及聚醯亞胺重複單元，且可以約5:5至約9:1的莫耳比包含所述聚醯胺酸重複單元及所述聚醯亞胺重複單元。
所述聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物可具有約3,000 g/mol至約20,000 g/mol的重量平均分子量。
可以約55:45至約99:1的重量比包含所述黏合劑樹脂及所述光可聚合單體。
所述光可聚合單體可包含含有至少兩個由化學式1表示的官能基的化合物： [化學式1]
在化學式1中， R
7為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，且 L
9為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C10伸烷基。
包含至少兩個由化學式1表示的官能基的化合物可為由化學式2或化學式3表示的化合物： [化學式2]
[化學式3]
在化學式2及化學式3中， p、q、r及s獨立地為介於1至10範圍的整數。
所述黑色著色劑可為有機黑色顏料。
除所述有機黑色顏料外，所述黑色著色劑還可包含碳黑。
以100重量份的所述有機黑色顏料計，可包含約10重量份至約60重量份的量的所述碳黑。
以所述感光性樹脂組成物的總量計，所述感光性樹脂組成物可包含約1 wt%至約10 wt%的所述（A）黏合劑樹脂；約1 wt%至約20 wt%的所述（B）黑色著色劑；約0.3 wt%至約10 wt%的所述（C）光可聚合單體；約0.1 wt%至約5 wt%的所述（D）光聚合起始劑；以及餘量的所述（E）溶劑。
所述感光性樹脂組成物還可包含以下添加劑：丙二酸、3-氨基-1,2-丙二醇、矽烷系偶合劑、流平劑（leveling agent）、表面活性劑、自由基聚合起始劑、或其組合。
另一實施例提供一種使用所述感光性樹脂組成物製造的感光性樹脂層。
再一實施例提供一種包括所述感光性樹脂層的顯示裝置。
所述顯示裝置可為有機發光二極體（organic light emitting diode，OLED）。
本發明的其他實施例包含於以下詳細說明中。
根據一實施例的感光性樹脂組成物均包含具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的黏合劑樹脂以及具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的黏合劑樹脂，且因此可解決在固化製程之後增大錐角的問題並且確保優異的敏感性、顯影裕度（development margin）、光阻擋特性以及優異的可加工性及可靠性。
以下，詳細闡述本發明的實施例。然而，這些實施例為示例性的，而非限制本發明，且本發明由稍後將闡述的權利要求的範圍來限定。
當不另外提供具體定義時，本文所用的「烷基」指C1至C20烷基，用語「烯基」指C2至C20烯基，用語「環烯基」指C3至C20環烯基，用語「雜環烯基」指C3至C20雜環烯基，用語「芳基」指C6至C20芳基，用語「芳基烷基」指C6至C20芳基烷基，用語「伸烷基」指C1至C20伸烷基，用語「伸芳基」指C6至C20伸芳基，「烷基伸芳基」指C6至C20烷基伸芳基，用語「雜伸芳基」指C3至C20雜伸芳基，且用語「伸烷氧基」指C1至C20伸烷氧基。
當不另外提供具體定義時，本文所用的用語「經取代的」指用選自下列的取代基替代至少一個氫：鹵素原子（F、Cl、Br或I）、羥基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亞氨基、疊氮基、脒基、肼基、亞肼基、羰基、氨甲醯基、硫醇基（thiol group）、酯基、醚基、羧基或其鹽、磺酸基或其鹽、磷酸或其鹽、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C20芳基、C3至C20環烷基、C3至C20環烯基、C3至C20環炔基、C2至C20雜環烷基、C2至C20雜環烯基、C2至C20雜環炔基、C3至C20雜芳基、或其組合。
當不另外提供具體定義時，本文所用的「雜」指在化學式中包含選自N、O、S及P的至少一個雜原子。
當不另外提供具體定義時，本文所用的「(甲基)丙烯酸酯」指「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」，並且「(甲基)丙烯酸」指「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」。
當不另外提供具體定義時，本文所用的用語「組合」指混合或共聚合。此外，「共聚合」指嵌段共聚合至無規共聚合，且「共聚物」指嵌段共聚物至無規共聚物。
當不另外提供具體定義時，本文所用的不飽和鍵包括位於其他原子之間的鍵，例如羰基鍵或偶氮鍵以及位於碳碳原子之間的多鍵。
在本說明書的化學式中，除非另外提供具體定義，否則當化學鍵並未繪製在應給出處時，氫鍵結在所述位置處。
本文所用的卡多系樹脂指在其骨架中包含選自化學式5-1至化學式5-11的至少一個官能基的樹脂。
當不另外提供具體定義時，本文所用的「*」表示連接相同或不同的原子或化學式的點。
根據一實施例的感光性樹脂組成物包含（A）黏合劑樹脂；（B）黑色著色劑；（C）光可聚合單體；（D）光聚合起始劑；以及（E）溶劑，其中所述黏合劑樹脂包含具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂以及具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂。
用於例如有機發光二極體等顯示裝置的阻隔壁材料的傳統感光性樹脂層組成物應具有前錐形角（小於約90°的錐角）以填充陽極與阻隔壁之間的間隙來用於沉積電致發光（EL）裝置，但由傳統感光性樹脂組成物形成的感光性樹脂層為透明的或具有例如黃色、紅棕色等色彩，且因此具有不能很好地實現黑色的問題，因為當顯示裝置斷電時進入顯示裝置的入射光被金屬層反射且因此使外部可見性及亮度劣化。
然而，根據一實施例的感光性樹脂組成物以預定比率包含具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂以及具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂，且因此可大大提高感光性樹脂層的可加工性及可靠性，且還單獨使用有機黑色顏料或預定比率的有機黑色顏料與碳黑的混合物作為黑色著色劑，且因此可改善光阻擋特性。
以下，具體闡述每一組分。
（A）黏合劑樹脂
根據一實施例的感光性樹脂組成物中的黏合劑樹脂包含具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂以及具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂。因此，所述黏合劑樹脂可在使包含著色劑（例如顏料、染料等）的感光性樹脂組成物固化之後抑制錐角增大且在固化之後維持前錐角，且因此在很大程度上提高顯示裝置的沉澱可加工性及可靠性。
以100重量份的具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂計，可包含約1重量份至約400重量份的量的具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂。在本文中，錐角可在固化製程之後維持前錐角，例如小於或等於約80°。
舉例來說，以100重量份的具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂計，可包含約1重量份至約900重量份的量的具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂。在本文中，錐角可在固化製程之後變為進一步的前錐角。舉例來說，當以100重量份的第二黏合劑樹脂計包含約100重量份至約800重量份的量的第一黏合劑時，錐角可小於或等於約60°，例如小於或等於約55°。
第一黏合劑樹脂可包含聚氨基甲酸酯系樹脂、卡多系樹脂、環氧系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、雙酚A系樹脂、矽氧烷系樹脂或其組合。
舉例來說，第一黏合劑樹脂可包含聚氨基甲酸酯系樹脂、環氧系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、雙酚A系樹脂、矽烷系樹脂或其組合。在此種情形中，敏感性可進一步提高。
聚氨基甲酸酯系樹脂可包含由化學式4表示的重複單元，但並不僅限於此。 [化學式4]
在化學式4中， L
10為經取代或未經取代的C1至C30二價有機基。
舉例來說，L
10可為包含雜原子的經取代或未經取代的C1至C30二價有機基。
舉例來說，L
10可為無雜原子的經取代或未經取代的C1至C30二價有機基。
卡多系樹脂可由化學式5表示。 [化學式5]
在化學式5中， R
51及R
52獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的(甲基)丙烯醯氧基烷基， R
51及R
52獨立地為氫原子、鹵素原子或者經取代或未經取代的C1至C20烷基，且 Z
1為單鍵O、CO、SO
2、CR
55R
56、SiR
57R
58（其中R
55至R
58獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C20烷基）以及由化學式5-1至化學式5-11表示的連接基中的一者。 [化學式5-1]
[化學式5-2]
[化學式5-3]
[化學式5-4]
[化學式5-5]
在化學式5-5中， R
a為氫原子、乙基、C
2H
4Cl、C
2H
4OH、CH
2CH=CH
2或苯基。 [化學式5-6]
[化學式5-7]
[化學式5-8]
[化學式5-9]
[化學式5-10]
[化學式5-11]
Z
2為酸二酐殘基，且 n1及n2獨立地為介於0至4範圍的整數。
卡多系樹脂的重量平均分子量可為約500 g/mol至約50,000 g/mol，例如約1,000 g/mol至約30,000 g/mol。當卡多系黏合劑樹脂具有處於所述範圍內的重量平均分子量時，可在光阻擋層的製造期間很好地形成圖案而無殘餘物且在顯影期間無膜厚度損失。
卡多系黏合劑樹脂可在至少一個末端處包含由化學式6表示的官能基。 [化學式6]
在化學式6中, Z
3由化學式6-1至化學式6-7表示。 [化學式6-1]
在化學式6-1中，R
b及R
c獨立地為氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基、酯基或醚基。 [化學式6-2]
[化學式6-3]
[化學式6-4]
[化學式6-5]
在化學式6-5中，R
d為O、S、NH、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基或C2至C20烯丙基胺基。 [化學式6-6]
[化學式6-7]
卡多系樹脂可例如通過將由以下組成的群組中的至少兩者混合來製備：含芴化合物，例如9,9-雙(4-氧雜環丙基甲氧苯基)芴（9,9-bis(4-oxiranylmethoxyphenyl)fluorene）等；酸酐化合物，例如苯四甲酸二酐（benzene tetracarboxylic acid dianhydride）、萘四甲酸二酐（naphthalene tetracarboxylic acid dianhydride）、聯苯基四甲酸二酐（biphenyltetracarboxylic acid dianhydride）、二苯甲酮四甲酸二酐（benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride）、均苯四甲酸二酐（pyromellitic dianhydride）、環丁烷四甲酸二酐（cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride）、苝四甲酸二酐（perylenetetracarboxylic acid dianhydride）、四氫呋喃四甲酸二酐（tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dianhydride）、四氫鄰苯二甲酸酐（tetrahydrophthalic anhydride）等；二醇化合物，例如乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等；醇化合物，例如甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、環己醇、苯甲醇等；溶劑系化合物，例如丙二醇甲基乙酸乙酯、N-甲基吡咯烷酮等；磷化合物，例如三苯基膦等；以及胺或銨鹽化合物，例如氯化四甲基銨、溴化四乙基銨、苯甲基二乙基胺、三乙基胺、三丁基胺、氯化苯甲基三乙基銨等。
環氧系樹脂可由化學式7或化學式8表示，但並不僅限於此。 [化學式7]
[化學式8]
在化學式7及化學式8中， L
11為經取代或未經取代的C1至C30二價有機基， L
12為經取代或未經取代的C1至C20二價有機基，且 L
13為經取代或未經取代的C1至C10二價有機基。
舉例來說，L
11至L
13可獨立地包含或可不包含雜原子。
舉例來說，L
12可具有羥基作為取代基。
舉例來說，環氧系樹脂可由化學式7-1或化學式8-1表示，但並不僅限於此。 [化學式7-1]
[化學式8-1]
環氧系樹脂的重量平均分子量可為約1,000 g/mol至約50,000 g/mol，例如約2,000 g/mol至約30,000 g/mol。
苯乙烯系樹脂可包含由化學式9表示的重複單元，但並不僅限於此。 [化學式9]
在化學式9中， R
8為氫原子、羧基或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，且 a為介於0至5範圍的整數。
舉例來說，苯乙烯系樹脂可包含由化學式10及/或化學式11表示的重複單元，但並不僅限於此。 [化學式10]
[化學式11]
苯乙烯系樹脂的重量平均分子量可為約3,000 g/mol至約50,000 g/mol，例如約5,000 g/mol至約30,000 g/mol。
丙烯酸系樹脂可包含由化學式12表示的重複單元，但並不僅限於此。 [化學式12]
在化學式12中， R
9為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基。
舉例來說，丙烯酸系樹脂可包含由化學式12-1至化學式12-6表示的至少兩個重複單元，但並不僅限於此。
舉例來說，丙烯酸系樹脂可包含由化學式12-1至化學式12-6表示的所有重複單元，但並不僅限於此。 [化學式12-1]
[化學式12-2]
[化學式12-3]
[化學式12-4]
[化學式12-5]
[化學式12-6]
雙酚A系樹脂可包含由化學式13及/或化學式14表示的重複單元，但並不僅限於此。 [化學式13]
[化學式14]
在化學式13及化學式14中， L
14至L
16獨立地為經取代或未經取代的C1至C20伸烷基或者經取代或未經取代的C6至C20伸芳基。
舉例來說，雙酚A系樹脂可包含由化學式15表示的重複單元，但並不僅限於此。 [化學式15]
雙酚A系樹脂的重量平均分子量可為約1,000 g/mol至約50,000 g/mol，例如約2,000 g/mol至約30,000 g/mol。
矽氧烷系樹脂可由化學式16表示，但並不僅限於此。 [化學式16]
第二黏合劑樹脂可包含選自聚醯胺酸聚合物、聚醯胺酸酯聚合物、聚羥基醯胺聚合物、聚醯亞胺聚合物、聚苯並噁唑聚合物及其共聚物的至少一者。
舉例來說，第二黏合劑樹脂可為聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物。
根據一實施例的感光性樹脂組成物中所包含的黏合劑樹脂同時具有可溶解於有機溶劑中的聚醯亞胺單元以及具有聚醯亞胺前體結構的聚醯胺酸單元，且因此可提供具有高耐熱性且在傳統上尚未實現的黑色感光性樹脂層。
具有優異的耐熱性及圖案形成能力的黑色感光性樹脂層可通過以下方式來實現：將聚醯亞胺（聚合物的主結構）共聚合以防止聚醯胺酸（即聚醯亞胺前體）在鹼性水溶液中的過量溶解特徵並控制溶解度，以及因此在圖案形成期間獲得被曝光區與非曝光區之間的適當溶解度。
舉例來說，聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物包含聚醯胺酸重複單元及聚醯亞胺重複單元，可以約5:5至約9:1、例如約5:5至約8:2、例如約5:5至約7:3、例如約5:5至約6:4的莫耳比包含聚醯胺酸重複單元及聚醯亞胺重複單元。當以處於所述範圍內的莫耳比包含聚醯胺酸重複單元及聚醯亞胺重複單元時，可輕易地實現約1 μm的階躍（step），且可獲得具有優異的交聯特徵的共聚合樹脂。換句話說，當在共聚合樹脂中使用處於所述莫耳比範圍之外的聚醯亞胺重複單元及聚醯胺酸重複單元時，亦即，當包含比聚醯胺酸重複單元多的聚醯亞胺重複單元時，會使所述組成物的可顯影性劣化。
換句話說，關於共聚物，可調整在溶液狀態下已具有亞胺化結構的聚醯亞胺單元的莫耳比，以輕易地控制感光性樹脂本身在鹼性水溶液中的溶解度。以此種方式，由於感光性樹脂可通過控制聚醯亞胺前體的鹼可溶性醯亞胺結構與聚醯胺酸結構之間的共聚合比率而在鹼性水溶液中具有適當溶解度，因此可通過以下方式來獲得優異的耐熱性：通過在共聚合樹脂的末端（及/或鏈）處引入交聯官能基以在由光源照射處於紫外光區中的光時與被曝光區交聯並顯影非曝光區來形成精細圖案，以及然後在大於或等於約250℃的高溫下將所述圖案熱固化。
舉例來說，聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物可具有約3,000 g/mol至約20,000 g/mol、例如約4,000 g/mol至約10,000 g/mol的重量平均分子量。當共聚物具有處於所述範圍內的重量平均分子量時，可獲得優異的圖案形成能力，且可提供具有優異的機械熱特徵的薄膜。
共聚物可在共聚合樹脂的至少一個末端（例如兩個末端）處具有不飽和雙鍵。除共聚物的末端外，不飽和雙鍵可存在於共聚合樹脂的鏈的中間。末端處（及/或鏈的中間）的不飽和雙鍵可用作交聯官能基且因此改善共聚物的交聯特徵。換句話說，可通過以下方式來實現具有非常優異的對比度的感光性樹脂組成物：在主結構的末端處（及/或鏈的中間）引入由光聚合起始劑交聯的單體以通過曝光共聚物本身來應用交聯特徵，其中由光聚合起始劑交聯的單體可由選自化學式1至化學式4的一者表示。
舉例來說，不飽和雙鍵可衍生自選自化學式17至化學式20的化合物，但並不僅限於此。 [化學式17]
[化學式18]
[化學式19]
[化學式20]
在化學式17至化學式19中， R
1至R
5獨立地為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，且 L
1至L
5獨立地為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C10伸烷基。
舉例來說，共聚物可由化學式21表示，但並不僅限於此。 [化學式21]
在化學式21中， X
1及X
2獨立地為經取代或未經取代的四價脂環族有機基或者經取代或未經取代的四價芳香族有機基， L
6及L
7獨立地為單鍵、經取代或未經取代的C1至C10伸烷基、經取代或未經取代的C3至C10伸環烷基或者經取代或未經取代的C6至C20伸芳基， R
6為經取代或未經取代的丙烯酸基、經取代或未經取代的甲基丙烯酸基或者經取代或未經取代的降冰片烯基，且 m及n獨立地為介於1至100,000的範圍的整數。
舉例來說，四價芳香族有機基可由化學式22表示。 [化學式22]
C6至C20伸芳基可包含由化學式23表示的連接基。 [化學式23]
在化學式23中， L
8為經取代或未經取代的C1至C8伸烷基。
另一方面，可以約55:45至約99:1的重量比包含黏合劑樹脂及後面闡述的光可聚合單體。當以此重量比包含黏合劑樹脂及光可聚合單體時，可控制顯影速率且因此可提高顯影裕度。
以感光性樹脂組成物的總量計，可包含約1 wt%至約10 wt%、例如約1 wt%至約7 wt%的量的黏合劑樹脂。當包含處於此範圍內的黏合劑樹脂時，可獲得優異的敏感性、可顯影性、解析度及圖案線性度。
（B）黑色著色劑
根據一實施例的感光性樹脂組成物中的黑色著色劑可包含有機黑色顏料以改善光阻擋特性並輕易地實現黑色。
一般來說，僅使用碳黑作為黑色著色劑以改善光阻擋特性，但當單獨使用碳黑時，雖然可獲得優異的光學密度，但可使例如電特徵等其他特徵劣化。
根據一實施例，當使用有機黑色顏料作為黑色著色劑時，與僅使用碳黑時相比雖然光阻擋特性可相對更加劣化，但帶來足夠的光阻擋性能且同時進一步改善例如電特徵等其他特徵。
舉例來說，根據一實施例的感光性樹脂組成物中的黑色著色劑還可包含碳黑以及有機黑色顏料，且可進一步改善光阻擋特性。在本文中，以100重量份的有機黑色顏料計，可包含約10重量份至約60重量份、例如約20重量份至約60重量份的量的碳黑。當包含處於所述重量範圍內的碳黑時，可獲得優異的對近紅外區中的光的透射率以及光阻擋特性，且因此可改善可加工性。一般來說，當感光性樹脂組成物具有處於預定水準、例如大於或等於約12%的對近紅外線的透射率時，所述感光性樹脂組成物可通過經由對準輕易地執行曝光製程來經對準且圖案化，且因此，近紅外線透射率可為判斷所述感光性樹脂組成物是否可被圖案化的標準之一。
當使用有機黑色顏料或有機黑色顏料與作為無機黑色顏料的碳黑的混合物作為黑色著色劑時，可使用分散劑來分散所述顏料。具體來說，可用分散劑預處理顏料的表面，或將顏料與分散劑一起添加，以製備組成物。
分散劑可為非離子分散劑、陰離子分散劑、陽離子分散劑等。分散劑的具體實例可為聚伸烷基二醇（polyalkylene glycol）及其酯、聚氧化烯烴（polyoxyalkylene）、多元醇酯環氧烷加成產物（polyhydric alcohol ester alkylene oxide addition product）、醇環氧烷加成產物（alcohol alkylene oxide addition product）、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺環氧烷加成產物（alkyl amide alkylene oxide addition product）、烷基胺等，並且這些分散劑可單獨使用或作為兩者或更多者的混合物使用。
分散劑的市售實例可包括畢克化學股份有限公司（BYK Co., Ltd.）製造的迪斯帕畢克（DISPERBYK）-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、及DISPERBYK-2001；埃夫卡化學公司（EFKA Chemicals Co.）製造的埃夫卡（EFKA）-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450；捷利康（Zeneka）公司製造的索思帕（Solsperse）5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse 20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000等；或味之素公司（Ajinomoto Inc.）製造的PB711、PB821等。
以感光性樹脂組成物的總量計，可包含約0.1 wt%至約15 wt%的量的分散劑。當包含處於所述範圍內的分散劑時，組成物在製造黑色阻隔壁材料期間因為分散特性改善而具有優異的穩定性、可顯影性及圖案形成能力。
顏料可使用水溶性無機鹽及潤濕劑預處理。當顏料經過預處理後，顏料的平均粒徑可變得更細。
預處理可如下進行：用水溶性無機鹽及潤濕劑揉捏顏料，然後過濾並洗滌揉捏後的顏料。
揉捏可在約40℃至約100℃的溫度下執行，且可通過在用水等洗滌掉無機鹽後過濾顏料執行過濾及洗滌。
水溶性無機鹽的實例可為氯化鈉、氯化鉀等，但並不僅限於此。潤濕劑可使顏料與水溶性無機鹽均勻地混合並粉碎。潤濕劑的實例包括伸烷基二醇單烷基醚（alkylene glycol monoalkyl ether），例如乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚等；以及醇，例如乙醇、異丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、甘油聚乙二醇等。這些潤濕劑可單獨使用或作為兩者或更多者的混合物使用。
揉捏後的顏料可具有介於約5 nm至約200 nm、例如約5 nm至約150 nm範圍的平均粒徑。當顏料具有處於所述範圍內的平均粒徑時，顏料分散液的穩定性可提高，且不會使圖元解析度劣化。
具體來說，顏料可以包含分散劑及溶劑（稍後將進行闡述）的顏料分散液的形式使用，且顏料分散液可包含固體顏料、分散劑及溶劑。以顏料分散液的總量計，可包含約5 wt%至約40 wt%、例如約8 wt%至約30 wt%的量的固體顏料。
以感光性樹脂組成物的總量計，可包含約1 wt%至約20 wt%，例如約2 wt%至約15 wt%的量的黑色著色劑。當包含處於所述範圍內的黑色著色劑時，可改善著色效果及顯影性能。
（C）光可聚合單體
根據一實施例的感光性樹脂組成物中的光可聚合單體可為單一化合物或兩個或更多個不同種類的化合物的混合物。
當光可聚合單體為兩種或更多種化合物的混合物時，所述兩種化合物中的一者可為包含至少兩個由化學式1表示的官能基的化合物。 [化學式1]
在化學式1中， R
7為氫原子或者經取代或未經取代的C1至C10烷基，且 L
9為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C10伸烷基。
舉例來說，包含至少兩個由化學式1表示的官能基的化合物可包含2個至6個由化學式1表示的官能基。在此種情形中，在圖案形成過程的曝光期間引起足夠的聚合，且可形成具有改善的耐熱性、耐光性及耐化學性的圖案。
舉例來說，包含至少兩個由化學式1表示的官能基的化合物可為由化學式2或化學式3表示的化合物。 [化學式2]
[化學式3]
在化學式2及化學式3中， p、q、r及s獨立地為介於1至10範圍的整數。
當光可聚合單體為兩種或更多種化合物的混合物時，所述兩種化合物中的另一化合物可為具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸的單官能或多官能酯化合物。
具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸的單官能或多官能酯化合物可為例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧基(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單甲醚(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、磷酸三(甲基)丙烯醯氧基乙酯、酚醛環氧(甲基)丙烯酸酯或其組合。
具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸的單官能或多官能酯化合物的市售實例如下。單官能(甲基)丙烯酸酯的實例可包含亞羅尼斯（Aronix）M-101
®、M-111
®、M-114
®（東亞合成化工股份有限公司（Toagosei Chemistry Industry Co., Ltd.））；卡亞拉得（KAYARAD）TC-110S
®、TC-120S
®（日本化藥股份有限公司（Nippon Kayaku Co., Ltd.））；V-158
®、V-2311
®（大阪有機化工股份有限公司（Osaka Organic Chemical Ind., Ltd.））等。雙官能(甲基)丙烯酸酯的實例可包含亞羅尼斯（Aronix）M-210®、M-240
®、M-6200
®（東亞合成化工股份有限公司）；卡亞拉得（KAYARAD）HDDA
®、HX-220
®、R-604
®（日本化藥股份有限公司）；V-260
®、V-312
®、V-335 HP
®（大阪有機化工股份有限公司）等。三官能(甲基)丙烯酸酯的實例可包含亞羅尼斯（Aronix）M-309
®、M-400
®、M-405
®、M-450
®、M-7100
®、M-8030
®、M-8060
®（東亞合成化工股份有限公司）；卡亞拉得（KAYARAD）TMPTA
®、DPCA-20
®、DPCA-30
®、DPCA-60
®、DPCA-120
®（日本化藥股份有限公司）；V-295
®、V-300
®、V-360
®、V-GPT
®、V-3PA
®、V-400
®（大阪有機化工股份有限公司）等。所述產品可單獨使用或以兩者或更多者的混合物形式使用。
光可聚合單體可用酸酐進行處理以改善可顯影性。
以感光性樹脂組成物的總量計，可包含約0.3 wt%至約10 wt%、例如約0.5 wt%至約10 wt%、例如約0.5 wt%至約5 wt%的量的光可聚合單體。當包含處於所述範圍內的光可聚合單體時，反應性不飽和化合物在圖案形成過程的曝光期間充分固化，並具有優異的可靠性，且因此可形成具有優異的耐熱性、耐光性、及耐化學性以及優異的解析度及緊密接觸特性的圖案。
（D）光聚合起始劑
根據一實施例的感光性樹脂組成物包含光聚合起始劑。光聚合起始劑可包含苯乙酮系化合物、二苯甲酮系化合物、噻噸酮系化合物、安息香系化合物、三嗪系化合物、肟系化合物等。
苯乙酮系化合物的實例可為2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮（2-hydroxy-2-methylpropinophenone）、對叔丁基三氯苯乙酮、對叔丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等。
二苯甲酮系化合物的實例可為二苯甲酮、苯甲酸苯甲醯基酯、苯甲酸苯甲醯基甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4'-二甲基氨基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮等。
噻噸酮系化合物的實例可為噻噸酮、、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮等。
安息香系化合物的實例可為安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯甲基二甲基縮酮等。
三嗪系化合物的實例可為2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘酚1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酚1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-s-三嗪等。
肟系化合物的實例可為O-醯基肟系化合物、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧羰基-α-氧氨基-1苯基丙-1-酮等。O-醯基肟系化合物的實例可為1,2-辛二酮、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯硫基苯基)-丁-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-辛-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯硫基苯基)-辛-1-酮肟-O-乙酸酯、及1-(4-苯硫基苯基)-丁-1-酮肟-O-乙酸酯。
除所述化合物之外，光聚合起始劑還可包含咔唑系化合物、二酮系化合物、硼酸鋶系化合物、重氮系化合物、咪唑系化合物、聯咪唑系化合物等。
以感光性樹脂組成物的總量計，可包含約0.1 wt%至約5 wt%、例如約0.1 wt%至約3 wt%的量的光聚合起始劑。當包含處於所述範圍內的光聚合起始劑時，所述組成物當在用於製備彩色濾光片的圖案形成過程期間被曝光至光時可充分進行光聚合，以實現優異的敏感性並提高透射率。
（E）溶劑
溶劑是具有與黏合劑樹脂、黑色著色劑、光可聚合單體、以及光聚合起始劑的相容性但不與其反應的材料。
溶劑的實例可包含：醇，例如甲醇、乙醇等；醚，例如二氯乙醚、正丁醚、二異戊醚、甲基苯醚、四氫呋喃等；二醇醚，例如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇甲乙醚等；乙酸溶纖劑，例如乙酸甲基溶纖劑、乙酸乙基溶纖劑、乙酸二乙基溶纖劑等；卡必醇，例如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙醚、二乙二醇二乙醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；芳族烴，例如甲苯、二甲苯等；酮，例如甲基乙基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基-正丙酮、甲基-正丁酮、甲基-正戊基酮、2-庚酮等；飽和的脂肪族單羧酸烷基酯，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯等；乳酸酯，例如乳酸甲酯、乳酸乙酯等；氧乙酸烷基酯，例如氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯等；烷氧基乙酸烷基酯，例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等；3-氧丙酸烷基酯，例如3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等；3-烷氧基丙酸烷基酯，例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等；2-氧丙酸烷基酯，例如2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等；2-烷氧基丙酸烷基酯，例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等；2-氧-2-甲基丙酸酯，例如2-氧-2-甲基丙酸甲酯、2-氧-2-甲基丙酸乙酯等；2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯的單氧單羧酸烷基酯，例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等；酯，例如丙酸2-羥乙酯、丙酸2-羥基-2-甲基乙酯、乙酸羥乙酯、丁酸2-羥基-3-甲基甲酯等；酮酸酯，例如丙酮酸乙酯等。此外，也可使用高沸點溶劑，例如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亞碸、苯甲基乙基醚、二己基醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲基醇、乙酸苯甲酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、乙酸苯基溶纖劑等。
考慮到混溶性及反應性，可優選地使用二醇醚，例如乙二醇單乙醚、乙二醇二乙醚等；乙二醇烷基醚乙酸酯，例如乙酸乙基溶纖劑等；酯，例如2-羥基丙酸乙酯等；卡必醇，例如二乙二醇單甲醚、二乙二醇乙基甲醚、丙二醇單甲醚等；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯等。
以感光性樹脂組成物的總量計，使用餘量、例如約20 wt%至約95 wt%、例如約30 wt%至約85 wt%的溶劑。當包含處於所述範圍內的溶劑時，感光性樹脂組成物可具有適當黏度，從而改善黑色圖元隔壁層的塗覆特性。
（F）其他添加劑
感光性樹脂組成物還可包含以下添加劑：丙二酸；3-氨基-1,2-丙二醇；矽烷系偶合劑；流平劑；表面活性劑；自由基聚合起始劑；或其組合。
矽烷系偶合劑可具有以下反應性取代基：乙烯基、羧基、甲基丙烯醯氧基、異氰酸酯基（isocyanate group）、環氧基等，以改善與基板的緊密接觸特性。
矽烷系偶合劑的實例可包括三甲氧基甲矽烷基苯甲酸（trimethoxysilylbenzoic acid）、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷（γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane）、乙烯基三乙醯氧基矽烷（vinyltriacetoxysilane）、乙烯基三甲氧基矽烷（vinyltrimethoxysilane）、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷（γ-isocyanatepropyltriethoxysilane）、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷（γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane）、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等（β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane）。這些矽烷系偶合劑可單獨使用或以兩者或更多者的混合物形式使用。
以100重量份的感光性樹脂組成物計，可包含約0.01重量份至約10重量份的量的矽烷系偶合劑。當包含處於所述範圍內的矽烷系偶合劑時，可改善緊密接觸特性、存儲特性等。
感光性樹脂組成物還可包含表面活性劑、例如氟系表面活性劑及/或矽酮系表面活性劑，以在需要時改善塗覆特性並防止缺陷。
氟系表面活性劑的實例可為市售的氟系表面活性劑，例如BM-1000
®及BM-1100
®（BM化學有限公司（BM Chemie Inc.））； 美佳法（MEGAFACE）F 142D
®、F 172
®、F 173
®、F 183
®及F 554
®（大日本油墨化工股份有限公司（Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co., Ltd.））； 芙羅拉德（FULORAD）FC-135
®、FULORAD[FLUORAD] FC-170C
®、FULORAD FC-430
®及FULORAD FC-431
®（住友3M股份有限公司（Sumitomo 3M Co., Ltd.））；沙福隆（SURFLON）S-112
®、SURFLON S-113
®、SURFLON S-131
®、SURFLON S-141
®及SURFLON S-145
®（旭硝子玻璃股份有限公司（Asahi Glass Co., Ltd.））；以及SH-28PA
®、SH-190
®、SH-193
®、SZ-6032
®及SF-8428
®等（東麗矽酮股份有限公司（Toray Silicone Co., Ltd.））。
矽酮系表面活性劑可為畢克化學公司（BYK Chem）製作且市售的畢克（BYK）-307、BYK-333、BYK-361N、BYK-051、BYK-052、BYK-053、BYK-067A、BYK-077、BYK-301、BYK-322、BYK-325等。
以100重量份的感光性樹脂組成物計，可使用約0.001重量份至約5重量份的量的表面活性劑。當包含處於所述範圍內的表面活性劑時，可確保在氧化銦鋅（indium zinc oxide，IZO）基板或玻璃基板上具有優異的潤濕性以及塗覆均勻度，可不產生污點（stain）。
此外，感光性樹脂組成物可包含預定量的其他添加劑，例如抗氧化劑、穩定劑等，只要這些添加劑不會使感光性樹脂組成物的特性劣化。
根據一實施例的感光性樹脂組成物可為正型或負型，但應為負型，以完全移除其中在將具有光阻擋特性的組成物曝光及顯影之後將圖案曝光的區中的殘餘物。
另一實施例提供一種黑色感光性樹脂層，所述黑色感光性樹脂層通過將感光性樹脂組成物曝光、顯影及固化而製造。
製造黑色感光性樹脂層的方法如下。
（1）塗覆及成膜
在經過預定的預處理的例如玻璃基板或者IZO或氧化銦錫（indium tin oxide，ITO）基板上，使用旋轉或狹縫塗覆法、輥塗法、絲網印刷法、塗抹器法等，將感光性樹脂組成物塗覆至具有所需厚度，在減小的壓力（VCD）下在室溫（約15℃至約30℃）下乾燥。
然後在約70℃至約100℃下加熱生成物1分鐘至10分鐘以移除溶劑，從而形成感光性樹脂層。
（2）曝光
通過安置罩幕、然後照射介於約200 nm至約500 nm範圍的光化射線（actinic ray）而將感光性樹脂膜圖案化。所述照射是使用例如具有低壓、高壓或超高壓的汞燈、金屬鹵化物燈、氬氣鐳射等光源來執行。也可使用X射線、電子束等。
當使用高壓汞燈時，曝光製程使用例如約500 mJ/cm
2或500 mJ/cm
2以下（利用365 nm感測器）的光劑量。然而，光劑量可根據各組分的種類、其組合比率以及乾膜厚度而變化。
（3）顯影
在曝光製程後，使用鹼性水溶液通過溶解並移除曝光部分以外的不需要的部分來顯影被曝光膜，以形成圖案。
（4）後處理
可對經顯影圖像圖案進行後處理，以在耐熱性、耐光性、緊密接觸特性、抗裂性、耐化學性、高強度、存儲穩定性等方面實現優異的品質。舉例來說，在顯影之後，可在約250℃的對流烘箱中在氮氣氣氛下執行熱處理約1小時。
另一實施例提供一種包含黑色感光性樹脂層的顯示裝置。
所述顯示裝置可為有機發光二極體（organic light emitting diode，OLED）。
以下，參照實例更詳細地說明本發明。然而，這些實例不應在任何意義上被解釋為限制本發明的範圍。
（實例）
（第二黏合劑樹脂的合成）
合成例1
在使氮氣穿過配備有攪拌器、恒溫器、氮氣注射器及冷卻器的四頸燒瓶的同時將86.6 g N-甲基-2-吡咯烷酮（N-methyl-2-pyrrolidone，NMP）放入所述燒瓶中，且向其中添加12.3 g 4,4'-(六氟基亞異丙基)鄰苯二甲酸酐（4,4’-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride，6-FDA）並溶解於其中。當固體完全溶解時，向其中添加3.25 g 3-氨基苯基碸（3-aminophenyl sulfone，3-DAS），且在室溫下將所述混合物攪拌2小時。隨後，將生成物加熱至90℃，向其中添加5.6 g吡啶、2.05 g乙酸酐（acetic anhydride，A
2CO），且將所獲得的混合物攪拌3小時。將反應器內的溫度降至室溫，向其中添加1.6 g甲基丙烯酸 2-羥基乙酯（2-hydroethylmethacrylate，HEMA），且將所述混合物攪拌6小時。隨後，向其中添加3.25 g 3-氨基苯基碸（3-DAS），且使所述混合物反應6小時，從而完成所述反應。將所述反應混合物放入水中以產生沉澱物，且過濾所述沉澱物，用水充分清洗並在50℃下在真空條件下乾燥24小時以獲得聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物。共聚物的通過凝膠滲透層析（Gel Permeation Chromatography，GPC）而被換算成標準聚苯乙烯的重量平均分子量為7,500 g/mol ，共聚物的多分散性為1.75，且共聚物的玻璃化轉變溫度為200℃。（聚醯亞胺單元與聚醯胺酸單元的莫耳比=50:50）。
（感光性樹脂組成物的製備）
實例1至實例38以及比較例1至比較例3
將光聚合起始劑溶解於溶劑中而具有表1中所示的組成，且在室溫下攪拌所述溶液2小時。在本文中，向其中添加黏合劑樹脂及光可聚合單體，且在室溫下將所述混合物攪拌一個小時。然後，向其中添加氟系表面活性劑（其他添加劑）及黑色著色劑，在室溫下將所獲得的混合物攪拌1小時，且將自其獲得的溶液徹底地攪拌2小時。將所述溶液過濾三次以移除雜質並製備感光性樹脂組成物。 [表1] （單位：g）
<TABLE border="1" borderColor="#000000" width="85%"><TBODY><tr><td> </td><td> 黏合劑樹脂 </td><td> 黑色著色劑 </td><td> 光可聚合單體 </td><td> 光聚合起始劑 </td><td> 溶劑 </td></tr><tr><td> A-1 </td><td> A-2 </td><td> B-1 </td><td> B-2 </td><td> C-1 </td><td> C-2 </td><td> D-1 </td><td> D-2 </td><td> E-1 </td><td> E-2 </td></tr><tr><td> 實例1 </td><td> 0.2 （A-1-1） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例2 </td><td> 1.3 （A-1-1） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例3 </td><td> 3.5 （A-1-1） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例4 </td><td> 0.2 （A-1-2） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例5 </td><td> 1.3 （A-1-2） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例6 </td><td> 3.5 （A-1-2） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例7 </td><td> 0.2 （A-1-3） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例8 </td><td> 1.3 （A-1-3） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例9 </td><td> 3.5 （A-1-3） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例10 </td><td> 3.5 （A-1-4） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例11 </td><td> 3.5 （A-1-5） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例12 </td><td> 0.2 （A-1-6） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例13 </td><td> 1.3 （A-1-6） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例14 </td><td> 3.5 （A-1-6） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例15 </td><td> 0.2 （A-1-7） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例16 </td><td> 1.3 （A-1-7） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例17 </td><td> 3.5 （A-1-7） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例18 </td><td> 0.2 （A-1-8） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例19 </td><td> 1.3 （A-1-8） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例20 </td><td> 3.5 （A-1-8） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例21 </td><td> 0.2 （A-1-9） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例22 </td><td> 1.3 （A-1-9） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例23 </td><td> 3.5 （A-1-9） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例24 </td><td> 0.2 （A-1-10） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例25 </td><td> 1.3 （A-1-10） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例26 </td><td> 3.5 （A-1-10） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例27 </td><td> 0.2 （A-1-11） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例28 </td><td> 1.3 （A-1-11） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例29 </td><td> 3.5 （A-1-11） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例30 </td><td> 0.2 （A-1-12） </td><td> 4.2 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例31 </td><td> 1.3 （A-1-12） </td><td> 3.1 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例32 </td><td> 3.5 （A-1-12） </td><td> 0.9 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例33 </td><td> 0.2 （A-1-1） </td><td> 4.2 </td><td> 25 </td><td> 6.8 </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 38.2 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例34 </td><td> 1.3 （A-1-1） </td><td> 3.1 </td><td> 25 </td><td> 7.6 </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 37.4 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例35 </td><td> 3.5 （A-1-1） </td><td> 0.9 </td><td> 29 </td><td> 7.6 </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 33.4 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例36 </td><td> 0.2 （A-1-2） </td><td> 4.2 </td><td> 31 </td><td> 7.6 </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 31.4 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例37 </td><td> 1.3 （A-1-2） </td><td> 3.1 </td><td> 33 </td><td> 7.6 </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 29.4 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 實例38 </td><td> 3.5 （A-1-2） </td><td> 0.9 </td><td> 35 </td><td> 7.6 </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 27.4 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 比較例1 </td><td> - </td><td> 4.4 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 比較例2 </td><td> - </td><td> 4.4 </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr><tr><td> 比較例3 </td><td> 4.4 （A-1-1） </td><td> - </td><td> 40 </td><td> - </td><td> 0.7 </td><td> 0.7 </td><td> 0.4 </td><td> 0.4 </td><td> 30 </td><td> 24 </td></tr></TBODY></TABLE>
（A）黏合劑樹脂 （A-1）：第一黏合劑樹脂 （A-1-1）聚氨基甲酸酯系樹脂（1185A，巴斯夫公司（BASF Corp.），溫度（Tg）：-42℃） （A-1-2）聚氨基甲酸酯系樹脂（1164D，巴斯夫公司，Tg：-7℃） （A-1-3）聚氨基甲酸酯系樹脂（1180，可樂麗有限公司（KURARAY Inc.），Tg：-37℃） （A-1-4）聚氨基甲酸酯系樹脂（1190，可樂麗有限公司，Tg：-32℃） （A-1-5）聚氨基甲酸酯系樹脂（1195，可樂麗有限公司，Tg：-21℃） （A-1-6）卡多系樹脂（KBR-101，敬仁合成公司（Kyung-In Synthetic Corporation），Tg：40℃） （A-1-7）環氧系樹脂（JER1001，化學式7-1，日本環氧樹脂股份有限公司（Japan Epoxy Resins Co., Ltd.），Tg：65℃） （A-1-8）環氧系樹脂（EPPN-501H，化學式8-1，日本化藥公司，Tg：53℃） （A-1-9）苯乙烯系樹脂（包含由化學式10及化學式11表示的重複單元（自聚合），重量平均分子量：8,500 g/mol，自聚合，Tg：109℃） （A-1-10）丙烯酸系樹脂（紐扣特（Newcoat）UVA-101，新中村化學股份有限公司（Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.），Tg：0℃） （A-1-11）雙酚A系樹脂（PC，聚合物技術及服務公司（PolymerTechnology&Services），Tg：145℃） （A-1-12）矽氧烷系樹脂（SOG-B1，三洋公司（Samyang Corp.），Tg：-30℃） （A-2）：第二黏合劑樹脂（合成例1的聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物）
（B）黑色著色劑 （B-1）：有機黑色顏料分散液（CI-IM-126，阪田公司（SAKATA Corp.）；有機黑色顏料固體15 wt%） （B-2）：碳黑分散液（BK-6912，渡嘉敷有限公司（TOKUSIKI Co., Ltd.）；碳黑固體20 wt%）
（C）光可聚合單體 （C-1）：二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯（dipentaerythritol hexa(meth)acrylate，DPHA，日本化藥股份有限公司） （C-2）：由化學式A表示的化合物（LTM II，巴斯夫公司） [化學式A]
（在化學式A中，r及s獨立地為整數2）
（D）光聚合起始劑 （D-1）肟系起始劑（NCI-831，艾迪科公司（ADEKA Corp.）） （D-2）肟系起始劑（IRG-819，巴斯夫公司）
（E）溶劑 （E-1）丙二醇單甲醚乙酸酯（西格瑪-奧德里奇公司（Sigma-Aldrich Corp.）） （E-2）二乙二醇乙基甲醚（西格瑪-奧德里奇公司）
評估1：敏感性
將根據實例1至實例38以及比較例1至比較例3的感光性樹脂組成物分別塗覆於10 cm*10 cm ITO玻璃（電阻30 Ω）上，然後在100℃加熱板上進行代理型加熱（proxy type-heated）1分鐘且再進行接觸型加熱（contact type-heated）1分鐘以分別形成1.2 μm厚的感光性樹脂層。使用具有各種大小的圖案的罩幕並用UX-1200SM-AKS02（優志旺公司（Ushio Inc.））改變光劑量而將分別塗覆有感光性樹脂層的基板曝露至光，在室溫下在2.38 % 氫氧化四甲基銨（Tetramethylammonium Hydroxide，TMAH）溶液中顯影以溶解並移除被曝光區，且用純水清洗50秒以形成圖案。
通過以下方式來評估敏感性：相對於通過使用奧林巴斯公司（Olympus Corp.）制的MX51T-N633MU測量的20 μm方形圖案的大小，測量實現20 μm圖案的能量，且結果示於表2中。
評估2：錐角
在250℃下將評估1中使用的晶片固化1小時，通過使用由日立有限公司（Hitachi, Ltd.）製的S-4300 電場發射型-掃描式電子顯微鏡（Field Emission-Scanning Electron Microscope，FE-SEM）設備來測量其錐角，且結果示於表2中。
評估3：近紅外線（Near Infrared Ray，NIR）透射率（@880nm）
將根據實例1至實例38以及比較例1至比較例3的感光性樹脂組成物分別塗覆於10 cm * 10 cm ITO玻璃（30 Ω）上，然後在100℃加熱板上進行代理型加熱1分鐘且再進行接觸型加熱1分鐘，以分別形成1.2 μm厚的感光性樹脂層。通過使用由安捷倫技術公司（Agilent Technologies）制的卡裡（Cary）系列UV-Vis-NIR分光光度計來測量感光性樹脂層的在880 nm下的透射率，且結果示於表2中。
評估4：光學密度
將根據實例1至實例38以及比較例1至比較例3的感光性樹脂組成物分別塗覆於10 cm * 10 cm ITO玻璃（30 Ω）上，然後在100℃熱板上進行代理型加熱1分鐘且再進行接觸型加熱1分鐘，以分別形成1.2 μm厚的感光性樹脂層。在250℃下將感光性樹脂層固化1小時，用X-rite測量每μm的其光學密度，且結果示於表2中。 [表2]
<TABLE border="1" borderColor="#000000" width="85%"><TBODY><tr><td> </td><td> 敏感性 （mJ/cm<sup>2</sup>） </td><td> 錐角 （°） </td><td> 近紅外線透射率（@880nm） （%） </td><td> 光學密度 （/μm） </td></tr><tr><td> 實例1 </td><td> 80 </td><td> 68 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例2 </td><td> 80 </td><td> 45 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例3 </td><td> 80 </td><td> 38 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例4 </td><td> 80 </td><td> 70 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例5 </td><td> 80 </td><td> 50 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例6 </td><td> 80 </td><td> 40 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例7 </td><td> 80 </td><td> 71 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例8 </td><td> 80 </td><td> 52 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例9 </td><td> 80 </td><td> 42 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例10 </td><td> 80 </td><td> 42 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例11 </td><td> 80 </td><td> 43 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例12 </td><td> 70 </td><td> 68 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例13 </td><td> 65 </td><td> 45 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例14 </td><td> 65 </td><td> 40 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例15 </td><td> 80 </td><td> 69 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例16 </td><td> 80 </td><td> 49 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例17 </td><td> 80 </td><td> 41 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例18 </td><td> 80 </td><td> 71 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例19 </td><td> 80 </td><td> 55 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例20 </td><td> 80 </td><td> 48 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例21 </td><td> 80 </td><td> 77 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例22 </td><td> 80 </td><td> 54 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例23 </td><td> 80 </td><td> 45 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例24 </td><td> 80 </td><td> 72 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例25 </td><td> 80 </td><td> 51 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例26 </td><td> 80 </td><td> 42 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例27 </td><td> 80 </td><td> 80 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例28 </td><td> 80 </td><td> 75 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例29 </td><td> 80 </td><td> 60 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例30 </td><td> 80 </td><td> 71 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例31 </td><td> 80 </td><td> 55 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例32 </td><td> 80 </td><td> 48 </td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 實例33 </td><td> 80 </td><td> 65 </td><td> 35 </td><td> 1.4 </td></tr><tr><td> 實例34 </td><td> 80 </td><td> 48 </td><td> 32 </td><td> 1.5 </td></tr><tr><td> 實例35 </td><td> 80 </td><td> 42 </td><td> 32 </td><td> 1.5 </td></tr><tr><td> 實例36 </td><td> 80 </td><td> 68 </td><td> 32 </td><td> 1.6 </td></tr><tr><td> 實例37 </td><td> 80 </td><td> 50 </td><td> 33 </td><td> 1.7 </td></tr><tr><td> 實例38 </td><td> 80 </td><td> 45 </td><td> 33 </td><td> 1.8 </td></tr><tr><td> 比較例1 </td><td> 80 </td><td> T-頂部輪廓<sup>*</sup></td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 比較例2 </td><td> 80 </td><td> T-頂部輪廓<sup>*</sup></td><td> 92 </td><td> 1.3 </td></tr><tr><td> 比較例3 </td><td> 上升<sup>**</sup></td></tr></TBODY></TABLE>*T-頂部輪廓：T形圖案 **上升：在顯影之後未留下圖案而是被撕開
參照表2，根據一實施例的感光性樹脂組成物包含具有約-50℃至約150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂以及具有大於約150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂，且因此可改善敏感度及錐度特徵。此外，當有機黑色顏料與碳黑一起用作黑色著色劑時，可進一步改善光阻擋特性。
雖然已結合目前被認為是實用的示例性實施例對本發明進行了描述，但是應理解，本發明並不僅限於所揭示的實施例，而是相反地，本發明意欲涵蓋包含在隨附權利要求書的精神和範圍內的各種修改形式和等效佈置。因此，上述實施例應理解為示例性的，而非以任何方式限制本發明。
無。
無。
無。
Claims (17)
- 一種感光性樹脂組成物，包含：黏合劑樹脂；黑色著色劑；光可聚合單體；光聚合起始劑；以及溶劑，其中所述黏合劑樹脂包含具有-50℃至150℃的玻璃化轉變溫度的第一黏合劑樹脂以及具有大於150℃的玻璃化轉變溫度的第二黏合劑樹脂，其中所述第二黏合劑樹脂包括選自聚醯胺酸聚合物、聚醯胺酸酯聚合物、聚羥基醯胺聚合物、聚醯亞胺聚合物、聚苯並噁唑聚合物及其共聚物的至少一者。
- 如申請範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，以100重量份的所述第二黏合劑樹脂計，包含1重量份至900重量份的量的所述第一黏合劑樹脂。
- 如申請範圍第2項所述的感光性樹脂組成物，以100重量份的所述第二黏合劑樹脂計，包含100重量份至800重量份的量的所述第一黏合劑樹脂。
- 如申請範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，所述第一黏合劑樹脂包括聚氨基甲酸酯系樹脂、卡多系樹脂、環氧系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、雙酚A系樹脂、矽氧烷系樹脂或其組合。
- 如申請範圍第4項所述的感光性樹脂組成物，所述第二黏合劑樹脂為聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物。
- 如申請範圍第5項所述的感光性樹脂組成物，所述聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物包含聚醯胺酸重複單元及聚醯亞胺重複單元，且以5：5至9：1的莫耳比包含所述聚醯胺酸重複單元及所述聚醯亞胺重複單元。
- 如申請範圍第5項所述的感光性樹脂組成物，所述聚醯胺酸-聚醯亞胺共聚物具有3,000g/mol至20,000g/mol的重量平均分子量。
- 如申請範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，以55：45至99：1的重量比包含所述黏合劑樹脂及所述光可聚合單體。
- 如申請範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，所述光可聚合單體包含含有至少兩個由化學式1表示的官能基的化合物：
- 如申請範圍第9項所述的感光性樹脂組成物，所述含有至少兩個由化學式1表示的官能基的化合物為由化學式2或化學式3表示的化合物：
- 如申請範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，所述黑色著色劑包含有機黑色顏料。
- 如申請範圍第11項所述的感光性樹脂組成物，除所述有機黑色顏料外，所述黑色著色劑更包含碳黑。
- 如申請範圍第12項所述的感光性樹脂組成物，以100重量份的所述有機黑色顏料計，包含10重量份至60重量份的量的所述碳黑。
- 如申請範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，以所述感光性樹脂組成物的總量計，所述感光性樹脂組成物包含：1wt%至10wt%的所述黏合劑樹脂；1wt%至20wt%的所述黑色著色劑；0.3wt%至10wt%的所述光可聚合單體；0.1wt%至5wt%的所述光聚合起始劑；以及餘量的所述溶劑。
- 一種感光性樹脂層，使用如申請範圍第1項所述的感光性樹脂組成物來製造。
- 一種顯示裝置，包含如申請範圍第15項所述的感光性樹脂層。
- 如申請範圍第16項所述的顯示裝置，所述顯示裝置為有機發光二極體。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ??10-2016-0088886 | 2016-07-13 | ||
| KR1020160088886A KR101976660B1 (ko) | 2016-07-13 | 2016-07-13 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 디스플레이 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWI610135B true TWI610135B (zh) | 2018-01-01 |
| TW201809880A TW201809880A (zh) | 2018-03-16 |
Family
ID=60940553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW106101075A TWI610135B (zh) | 2016-07-13 | 2017-01-13 | 感光性樹脂組成物、使用其的感光性樹脂層以及顯示裝置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10303054B2 (zh) |
| KR (1) | KR101976660B1 (zh) |
| CN (1) | CN107621753B (zh) |
| TW (1) | TWI610135B (zh) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108027561B (zh) * | 2015-09-30 | 2021-10-08 | 东丽株式会社 | 负型感光性树脂组合物、固化膜、具备固化膜的元件及显示装置、以及其制造方法 |
| KR101991699B1 (ko) * | 2016-09-26 | 2019-06-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
| KR102134633B1 (ko) * | 2016-11-25 | 2020-07-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
| KR102121424B1 (ko) * | 2016-12-02 | 2020-06-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
| KR102064297B1 (ko) * | 2017-02-16 | 2020-01-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
| KR102230622B1 (ko) | 2017-11-24 | 2021-03-22 | 주식회사 엘지화학 | 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 필름 |
| WO2019103353A1 (ko) * | 2017-11-24 | 2019-05-31 | 주식회사 엘지화학 | 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 필름 |
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| KR102273159B1 (ko) * | 2018-05-23 | 2021-07-02 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 |
| KR102337564B1 (ko) * | 2018-09-28 | 2021-12-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 전자 소자 |
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| JP5021046B2 (ja) * | 2009-02-26 | 2012-09-05 | エルジー ケム． エルティーディ． | 感光性樹脂組成物 |
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| CN103319713B (zh) * | 2013-06-06 | 2015-11-25 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种固化树脂、黑色光阻剂、滤光片及它们的制备方法、显示器件 |
| KR102077126B1 (ko) * | 2013-12-19 | 2020-02-13 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
| KR101788092B1 (ko) | 2014-03-26 | 2017-10-19 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 차광층 및 이를 이용한 컬러필터 |
| JP6401545B2 (ja) * | 2014-08-19 | 2018-10-10 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物及びカーボンブラック並びに感光性樹脂組成物の製造方法 |
-
2016
- 2016-07-13 KR KR1020160088886A patent/KR101976660B1/ko active Active
-
2017
- 2017-01-13 TW TW106101075A patent/TWI610135B/zh active
- 2017-01-17 US US15/408,120 patent/US10303054B2/en active Active
- 2017-01-23 CN CN201710053294.8A patent/CN107621753B/zh active Active
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| TW201512778A (zh) * | 2013-09-06 | 2015-04-01 | Samsung Sdi Co Ltd | 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及使用其的彩色濾光片 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20180007616A (ko) | 2018-01-23 |
| US20180017866A1 (en) | 2018-01-18 |
| KR101976660B1 (ko) | 2019-05-09 |
| US10303054B2 (en) | 2019-05-28 |
| TW201809880A (zh) | 2018-03-16 |
| CN107621753A (zh) | 2018-01-23 |
| CN107621753B (zh) | 2021-06-18 |
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