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TWI472074B - Organic electroluminescent elements - Google Patents

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TWI472074B
TWI472074B TW98104351A TW98104351A TWI472074B TW I472074 B TWI472074 B TW I472074B TW 98104351 A TW98104351 A TW 98104351A TW 98104351 A TW98104351 A TW 98104351A TW I472074 B TWI472074 B TW I472074B
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electron transport
ring
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TW98104351A
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TW200950171A (en
Inventor
Takayuki Fukumatsu
Toshihiro Yamamoto
Katsuhide Noguchi
Ikumi Ichihashi
Original Assignee
Nippon Steel & Sumikin Chem Co
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Publication date
Application filed by Nippon Steel & Sumikin Chem Co filed Critical Nippon Steel & Sumikin Chem Co
Publication of TW200950171A publication Critical patent/TW200950171A/zh
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Description

有機電致發光元件
本發明為有關有機電致發光元件(以下,亦稱為有機EL元件)之發明,詳言之,為一種經由使用具有特定構造之化合物作為電子輸送層使用,其於低電壓下即可達成高效率且具有長壽命之有機EL元件之發明。
一般而言,有機EL元件,其最簡單之構造為由發光層及挾夾該層之一對的對向電極所構成。即,有機EL元件為利用於兩電極間施加電場時,經由陰極注入電子,由陽極注入電洞,使其於發光層中之再鍵結能量準位由傳導帶回復至價電子帶之際,使該能量以光線方式釋出之現象。
近年來,已開始進行使用有機薄膜之有機EL元件的開發。特別是為提高發光效率、提高電極注入載體之效率之目的,而對電極種類作最適當化之處理,經由開發由芳香族二胺所形成之電洞輸送層與由8-羥基喹啉鋁錯合物(以下,亦稱為Alq3)所形成之發光層兼電子輸送層作為設置於電極間之薄膜的元件之開發,相較於以往使用蒽等單結晶之元件時,則顯示出大幅之發光效率的改善效果,使得具有自我發光‧高速應答性之特徵的高性能平面面板實用化指日可待。
對於提高元件發光效率之試驗,目前已有不使用螢光發光材料而使用磷光發光材料之研究。由上述設有芳香族二胺所形成之電洞輸送層與Alq3所形成之發光層之元件開始,已有許多元件為利用螢光發光者,但是使用磷光發光者,即,利用三重態激動狀態所產生之發光,期待其相較於使用以往之螢光(一重態)的元件,可提高3~4倍左右之效率。為達此目的,已有使用薰草素衍生物或二苯甲酮衍生物作為發光層之研究,但僅得到極低亮度之結果。其後,對於利用三重態狀態之試驗,復有使用銪錯合物之研究,但其仍未產生高效率之發光。該利用磷光發光之研究中,磷光發光摻雜物多以專利文獻1所列舉之銥錯合物等之有機金屬錯合物為中心進行研究。
[專利文獻1] 特表2003-515897號公報
[專利文獻2] 特開平5-214333號公報
[專利文獻3] 特開平11-162650號公報
[專利文獻4] 特開平11-176578號公報
[專利文獻5] 特開2005-093425號公報
又,對於降低元件之驅動電壓而可達成高效率化、長壽命化等亦有進行研究。例如,專利文獻2中,揭示使用Alq3等之喹啉醇系金屬錯合物。但是,使用該些化合物之有機EL元件顯示出高驅動電壓、較短壽命,故目前仍尋求一種具有更低電壓化、高效率化、長壽命化之電子輸送材料。
又,專利文獻3及4揭示一種吲哚(indolo car bazole)咔唑化合物,該些化合物為吲哚咔唑骨架未連接芳香族雜環基之化合物。又,專利文獻3及4所揭示之吲哚咔唑化合物,被推薦作為電洞輸送材料使用,但其化合物之安定性受到質疑,故仍不被建議作為電子輸送材料使用。
又,專利文獻5中,揭示一種電子輸送層分為第一電子輸送層與第二電子輸送層,於各別之層使用特定之化合物,而企圖改善元件之特性之發明。其揭示第一電子輸送層之離子化電位(IP1 )與第二電子輸送層之離子化電位(IP2 )係於IP1 <IP2 之範圍内。
有機EL元件應用於平面面板顯示器等顯示元件時,必須於元件發光效率之改善的同時仍確可充分確保驅動時之安定性。本發明,鑑於上述現狀,而以提供一種於低電壓下仍具有高效率且具有高驅動安定性之實際上有用之有機EL元件為目的。
本發明為有關一種有機電致發光元件,其係於對向之陽極與陰極之間,至少含有發光層、電子輸送層之有機電致發光元件中,電子輸送層為由第一電子輸送層與第二電子輸送層之2層所形成,由發光層向陰極側係依第一電子輸送層、第二電子輸送層之順序層合,且第一電子輸送層為含有下述通式(1)所表示之化合物,
【化1】
其中,環a為,與2個鄰接環縮合之式(a1)或(a2)所表示之芳香環或雜環,環a'為,與3個鄰接環縮合之式(a1)所表示之芳香環或雜環,X1 為CH或N。環b為,與2個鄰接環縮合之式(b1)所表示之雜環。Ar1 ~Ar4 為獨立之取代或未取代之芳香族烴基,或取代或未取代之芳香族雜環基。R1 ~R3 為獨立之氫、烷基、芳烷基、烯基、炔基、氰基、二烷基胺基、二芳基胺基、二芳烷基胺基、胺基、硝基、醯基、烷氧羰基、羧基、烷氧基、烷基磺醯基、鹵烷基、羥基、醯胺基、取代或未取代之芳香族烴基,或取代或未取代之芳香族雜環基。X2 、X3 及X4 為獨立之CH或N,至少一個為N。
上述通式(1)所表示之化合物中,又以下述通式(2)所表示之化合物為佳。
【化2】
其中,環b、Ar2 ~Ar4 、R1 ~R3 、X2 ~X4 係與通式(1)之環b、Ar2 ~Ar4 、R1 ~R3 、X2 ~X4 具有相同之意義。
上述通式(1)或(2)中,X2 ~X4 為CH或N,但以滿足以下任一者為佳。
1)X2 ~X4 之中之一個為氮,2)X4 為氮,3)X2 ~X4 之中之二個為氮,4)X2 與X3 為氮,5)X2 ~X4 全部為氮。
上述通式(1)或(2)中,Ar1 ~Ar4 為獨立之取代或未取代之芳香族烴基、或取代或未取代之芳香族雜環基、取代或未取代之碳數5~10之芳香族烴基,或取代或未取代之碳數2~5之芳香族雜環基為佳。
通式(1)或(2)中,R1 ~R3 為獨立之氫、烷基、芳烷基、烯基、炔基、氰基、二烷基胺基、二芳基胺基、二芳烷基胺基、胺基、硝基、醯基、烷氧羰基、羧基、烷氧基、烷基磺醯基、鹵烷基、羥基、醯胺基、取代或未取代之芳香族烴基、或取代或未取代之芳香族雜環基,較佳為氫、取代或未取代之碳數5~18之芳香族烴基,或取代或未取代之碳數3~17之芳香族雜環基。
又,本發明為有關,第二電子輸送層為含有喹啉醇系金屬錯合物之層的上述有機電致發光元件。
本發明之有機電致發光元件為,於對向之陽極與陰極之間,至少含有發光層、電子輸送層,電子輸送層為由第一電子輸送層與第二電子輸送層之2層所形成,由發光層向陰極側係依第一電子輸送層、第二電子輸送層之順序層合,第一電子輸送層含有上述通式(1)所表示之化合物。以下,上述通式(1)或通式(2)所表示之化合物分別稱為通式(1)之化合物或通式(2)之化合物。
上述通式(1)為包含通式(2)所得之更上位之通式。因此,通式(1)與通式(2)中,通式(1)之環a為通式(2)中,X1 為CH,R為H之式(a1)所表示之芳香環。即,與通式(1)之環a為苯環之點為相異。又,通式(1)與通式(2)中,相同之符號具有相同之意義。因此,通式(1)與通式(2)共通之部分,可使用通式(1)為代表進行說明。化合物之說明亦為相同。
上述通式(1)中,環a為,與2個鄰接環縮合之式(a1)或(a2)所表示之芳香環或雜環。式(a2)中,環a'為與3個鄰接環縮合之式(a1)所表示之芳香環或雜環,式(a2)中之環a'以外的其他環並不與通式(1)中之其他環縮合。上述通式(1)及(2)中,環b為,與2個鄰接環縮合之式(b1)所表示之雜環。
上述通式(1)及(2)中,X1 、X2 、X3 及X4 為獨立之CH或N,X2 、X3 及X4 中至少一個為N。X2 、X3 及X4 中至少一個為N,又以一個、二個或三個為N之情形為佳。又,一個為N之情形中,以X4 為N為佳,二個為N之情形中,以X2 、X3 為N為佳。
Ar1 ~Ar4 表示芳香族烴基或芳香族雜環基。該芳香族烴基或芳香族雜環基,可被取代,或未取代皆可。
未取代之芳香族烴基之例如,苯、萘、蒽、菲等,較佳者為碳數5~10之芳香族烴基,更佳者為苯。
未取代之芳香族雜環基之例如,噻吩、呋喃、吡喃、吡咯、咪唑、吡唑、異噻唑、異唑、吡啶、吡、嘧啶、嗒、呋呫、噻唑、唑、三唑、咔唑等,較佳為,碳數2~5之芳香族雜環基,更佳為吡啶、嘧啶及三等之含氮六員環芳香族雜環基。
該些之芳香族烴基或芳香族雜環基具有取代基之情形,取代基例如烷基、芳烷基、烯基、炔基、氰基、二烷基胺基、二芳基胺基、二芳烷基胺基、胺基、硝基、醯基、烷氧羰基、羧基、烷氧基、烷基磺醯基、鹵烷基、羥基、醯胺基、芳香族烴基或芳香族雜環基等,較佳為,碳數1~10之烷基、碳數4~15之芳烷基、碳數1~15之烷氧基、胺基、碳數5~18之芳香族烴基與,碳數3~17之芳香族雜環基。又,本說明書中所稱之芳烷基,為包含雜芳烷基。又,芳香族烴基或芳香族雜環基,可再具有上述之取代基,該情形中,上述之碳數為包含於取代基之碳數中計算。又,上述取代基為烷基、芳基等碳數不具有上限之含碳基之情形時,以碳數為20以下者為佳。
通式(1)及(2)中,R1 ~R3 為氫、烷基、芳烷基、烯基、炔基、氰基、二烷基胺基、二芳基胺基、二芳烷基胺基、胺基、硝基、醯基、烷氧羰基、羧基、烷氧基、烷基磺醯基、鹵烷基、羥基、醯胺基、芳香族烴基或芳香族雜環基。較佳為,碳數1~10之烷基、碳數4~15之芳烷基、碳數1~15之烷氧基、胺基、碳數5~18之芳香族烴基或碳數4~17之芳香族雜環基,更佳為,碳數5~18之芳香族烴基或碳數3~17之芳香族雜環基。其中,上述芳香族烴基或芳香族雜環基,可具有取代基,該情形中,上述碳數為包含於取代基之碳數中計算。又,上述R1 ~R3 為烷基、芳基等碳數不具有上限之含碳基之情形時,以碳數為20以下者為佳。
第一電子輸送層,以由通式(1)之化合物,較佳為由通式(2)之化合物所選出之1個之化合物所構成者亦可,由2個以上之化合物的混合物所構成者亦可。
通式(1)及(2)所表示之化合物可由公知之方法容易製得。例如,可參考Tetrahedron,1991,Vol.47,No.37,p7739-7750或Archiv der Pharmazie(Weinheim,Germany),1987,320(3),p280-2所揭示之合成例,依以下反應式予以製造。
【化3】
【化4】
前述通式(1)及(2)所表示之化合物之較佳具體例如以下所示,但並非限定於該些內容。
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
【化14】
【化15】
【化16】
本發明之有機EL元件中,第二電子輸送層,以可順暢的由陰極注入電子之電子輸送性材料為佳,其可使用一般所使用之任意材料。較佳為,以Alq3(鋁-喹啉醇錯合物)或Liq(鋰-喹啉醇錯合物)所代表之取代或無取代之喹啉醇系金屬錯合物為佳。又,第一電子輸送層之離子化電位(IP1 )與第二電子輸送層之離子化電位(IP2 )之關係,並非必須滿足IP1 <IP2 ,但又以滿足IP2 <IP1 之關係之情形下,可得到良好之結果。
其次,將對本發明之有機EL元件之構造,於參考圖示下進行說明,但本發明之有機EL元件之並不受任何圖示所限定。
(1)有機EL元件之構成
圖1為表示本發明所使用之一般性有機EL元件之構造例模式的剖面圖,1為基板,2為陽極,3為電洞注入層,4為電洞輸送層,5為發光層,6-a為第一電子輸送層,6-b為第二電子輸送層,7為電子注入層,8為陰極。本發明之有機EL元件,具有陽極、發光層、電子輸送層及陰極作為必須之層,但必要時可再設置其他之層。其他之層,例如電洞注入輸送層或電子阻擋層及電洞阻擋層等,但並未限定於該些內容。又,電洞注入輸送層,係指電洞注入層與電洞輸送層之任一者或兩者之意。其中,發光層、第一電子輸送層及第二電子輸送層係依上述順序鄰接而層合。
(2)基板
基板1為作為有機電致發光元件之支撐體之物,其可使用石英或玻璃之板、金屬板或金屬箔、塑膠薄膜或薄片等。特別是玻璃板,或聚酯、聚甲基丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚碸等之平滑且透明之合成樹脂之板為佳。使用合成樹脂基板之情形時,必須注意其氣體阻隔性。基板之氣體阻隔性過小時,通過基板之外部氣體會造成有機電致發光元件之劣化,而為不佳。因此,合成樹脂基板之至少一側面上以設置緻密之矽氧化膜等以確保氣體阻隔性之方法為較佳之方法中的一個方法。
(3)陽極
基板1上設有陽極2,陽極為具有達成對電洞輸送層進行電洞注入之任務。該陽極,通常為由鋁、金、銀、鎳、鈀、白金等之金屬、銦及/或錫之氧化物、銦及/或鋅之氧化物等金屬氧化物、碘化銅等之鹵化金屬、碳黑,或,聚(3-甲基噻吩)、聚吡咯、聚苯胺等之導電性高分子等所構成。陽極之形成,通常多以濺鍍法、真空蒸鍍法等方式進行。又,為銀等之金屬微粒子、碘化銅等之微粒子、碳黑、導電性之金屬氧化物微粒子、導電性高分子微粉末等之情形中,可使其適當的分散於膠黏劑樹脂溶液中,再塗佈於基板上而形成陽極亦可。此外,於導電性高分子之情形,可使用電解聚合而直接於基板上形成薄膜,或於基板1上塗佈導電性高分子以形成陽極亦可(Appl‧Phys‧Lett‧,60卷,2711頁,1992年)。陽極可由相異之物質經層合而形成。陽極之厚度,依必要之透明性而有所不同。必須具有透明性時,可見光之透過率,通常以60%以上,較佳為80%以上為宜,該情形中,厚度通常為5~1000nm,較佳為10~500nm左右。可為不透明之情形時,陽極可與基板為相同者亦可。又,更可在上述之陽極上層合不同之導電材料亦可。
(4)電洞輸送層
陽極2之上設置有電洞輸送層4。兩者之間,可設置電洞注入層3。電洞輸送層之材料所要求之條件,必須為由陽極之電洞注入效率較高,且,對於注入之電洞可有效率的輸送之材料。因此,要求需具有低離子化電位,對於可見光之光線具有高透明性,此外,應具有較大之電洞移動度,與優良之安定性,製造或使用時不會發生會形成阱(trap)之雜物等。又,因鄰接發光層5,故必須為不會造成發光層之發光熄滅,與發光層之間形成激錯合物(exciplex)而造成效率降低等。上述一般性要求以外,於考慮行車顯示用等應用之情形時,則該元件被要求需具有耐熱性。因此,極期待為具有Tg為85℃以上之值的材料。
本發明所可使用之電洞輸送材料,可使用以往該層所使用之公知化合物。例如,含有2個以上之三級胺的2個以上之縮合芳香族環被氮原子所取代之芳香族二胺(特開平5-234681號公報)、4,4',4"-三(1-萘基苯基胺基)三苯基胺等之具有星狀聚合物構造之芳香族胺化合物(J. Lumin.,72-74卷、985頁、1997年)、三苯基胺之四量體所形成之芳香族胺化合物(Chem.Commun.,2175頁、1996年)、2,2',7,7'-四-(二苯基胺基)-9,9'-螺雙茀基等之螺化合物(Synth. Metals,91卷、209頁、1997年)等。該些化合物,可單獨使用亦可,必要時,可分別混合使用亦可。
又,上述之化合物以外,電洞輸送層之材料例如,聚乙烯基咔唑、聚乙烯基三苯基胺(特開平7-53953號公報)、含有四苯基聯苯胺之聚伸芳烴醚碸(Polym. Adv. Tech.,7卷、33頁、1996年)等之高分子材料等。
電洞輸送層以塗佈法形成之情形,可將1種或2種以上之電洞輸送材料,添加於必要時不會造成電洞阱之膠黏劑樹脂或塗佈性改良劑等之添加劑,使其溶解以製作塗佈溶液,旋轉塗佈法等之方法塗佈於陽極上,經乾燥後形成電洞輸送層。膠黏劑樹脂,例如聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯等。膠黏劑樹脂之添加量過多時,將會降低電洞移動度,故以較少者為佳,通常以50重量%以下為佳。
以真空蒸鍍法形成時,將電洞輸送材料放入設置於真空容器内之坩鍋中,於真空容器内使用適當之真空幫浦抽氣至10-4 Pa左右後,將坩鍋加熱,使電洞輸送材料蒸發,而於面向坩鍋放置之形成陽極之基板上形成電洞輸送層。電洞輸送層之膜厚,通常為1~300nm,較佳為5~100nm。因該形式之薄膜可以同一様式形成,故一般常使用真空蒸鍍法。
(5)電洞注入層
為使電洞注入之效率更為提升,且改善有機層全體對陽極之附著力等目的,可以於電洞輸送層4與陽極2之間插入電洞注入層3之方式進行。插入電洞注入層,除可降低初期元件之驅動電壓的同時,對於元件以定電流連續驅動時之也具有抑制電壓上昇之效果。電洞注入層所使用之材料所要求之條件為,與陽極之接觸可形成極均勻之薄膜,對於熱具有安定性,即,具有高熔點及玻璃移轉溫度,熔點,需為300℃以上,玻璃移轉溫度則要求100℃以上。此外,應具有較低陰離子化電位,容易由陽極進行電洞注入,較大電洞移動度等。
於此目的上,目前已有銅酞菁等之酞菁化合物(特開昭63-295695號公報)、聚苯胺(Appl. Phys. Lett., 64卷、1245頁,1994年)、聚噻吩(Optical Materials, 9卷、125頁、1998年)等之有機化合物,或,濺鍍‧碳膜(Synth. Met., 91卷、73頁、1997年)或,鈀氧化物、釕氧化物、鉬氧化物等之金屬氧化物(J.Phys. D,29卷、2750頁、1996年)、1,4,5,8-萘四碳酸二酐(NTCDA)或己腈六氮雜聯伸三苯(HAT)等之P型有機物(WO2005-109542號公報)之報告。該些化合物,可單獨使用亦可,必要時,亦可混合使用。電洞注入層之情形亦與電洞輸送層相同般可形成薄膜,為無機物之情形時,可使用濺鍍法或電子束蒸鍍法、電漿CVD法等。依以上方式所形成之電洞注入層之膜厚,通常為1~300nm,較佳為5~100nm。
(6)發光層
電洞輸送層4之上設置發光層5。發光層,可由單一之發光層所形成者亦可,由多數之發光層直接以連接方式層合而構成亦可。又,發光層,可由發光材料,或主體物材料與螢光性發光材料或磷光性發光材料所構成,其可使用以往形成該些層所使用之任意材料。
發光材料或主體物材料,可使用以往已知可作為發光體之蒽或芘等之縮合環衍生物、三(8-喹啉酯)鋁開始,至金屬螯合物化氧化物化合物、雙苯乙烯基蒽衍生物或二苯乙烯基苯衍生物等之雙苯乙烯基衍生物、四苯基丁二烯衍生物、薰草素衍生物、氧雜二唑衍生物、吡咯吡啶衍生物、苝酮衍生物、環戊二烯衍生物、氧雜二唑衍生物、噻二唑吡啶衍生物,聚合物系如,聚伸苯伸乙烯衍生物、聚對伸苯衍生物,又,亦可使用聚噻吩衍生物等,但並不僅限定於此。
添加於主體物材料之螢光性發光材料,例如可使用苝、紅烯等縮合環衍生物、喹吖酮衍生物、phenoxazone660、DCM1、苝酮、薰草素衍生物、pyrromethene(Diazaindacene)衍生物、花青色素等。
添加於主體物材料之磷光性發光材料,例如含有包含由釕、銠、鈀、銀、錸、鋨、銥、白金及金等所選出之金屬的有機金屬錯合物之材料即可,但並未限定於此。該有機金屬錯合物,揭示於前述專利文獻等公知文獻,可由該些內容中選擇使用。
較佳之磷光發光摻雜物,例如以Ir等貴金屬元素作為中心金屬之Ir(ppy)3等之錯合物類、Ir(bt)2‧acac3等之錯合物類、PtOEt3等之錯合物類等。該些錯合物類之具體例如以下所示,但並非限定於下述之化合物。
【化17】
【化18】
發光層之膜厚並未有特別限制,通常為1~300nm,較佳為5~100nm,其可與電洞輸送層相同之方法形成薄膜。
(7)電子輸送層
就使元件之發光效率更向上提升等目的,可於發光層5與陰極8之間,設置電子輸送層6。本發明中,分為鄰接於發光層之第一電子輸送層6-a及鄰接於第一電子輸送層之第二電子輸送層6-b。
第一電子輸送層6-a所使用之化合物,可由通式(1)之化合物,較佳為由通式(2)之化合物中選出,其可單獨使用亦可,必要時,可將2種類以上混合使用亦可。又,第一電子輸送層中,可含有通式(1)之化合物以外的化合物,但以50wt%以下為宜。
第二電子輸送層,以可使由陰極順暢的注入電子之電子輸送性材料為佳,其可使用一般所用之任意材料。滿除該些條件之電子輸送材料,例如Alq3等之金屬錯合物(JP 59-194393A)、10-羥基苯并[h]喹啉之金屬錯合物、氧雜二唑衍生物、二苯乙烯基聯苯基衍生物、矽咯衍生物、3-或5-羥基黃酮金屬錯合物、苯并唑金屬錯合物、苯并噻唑金屬錯合物、三苯并咪唑基苯(USP 5,645,948)、喹啉化合物(JP6-207169A)、菲繞啉衍生物(JP5-331459A)、2-t-丁基-9,10-N,N'-二氰基蒽醌二亞胺、n型氫化非晶質碳化矽、n型硫化鋅、n型硒化鋅等。
第二電子輸送層,可使用上述之物質,其中特別是以使用喹啉醇系金屬錯合物為佳。
喹啉醇系金屬錯合物之中心金屬,例如鋰、鈹、鎂、鋁、鎵、鋅等。配位子之喹啉醇可為無取代者亦可,或具有任意之取代基者亦可。第一及第二電子輸送層之膜厚,通常分別為1~300nm,較佳為5~100nm。第一電子輸送層,可與電洞輸送層相同般,以塗佈法或真空蒸鍍法層合於發光層上之方式形成。通常為使用真空蒸鍍法。第二電子輸送層,可同様的以層合於第一電子輸送層上之方式形成。
(8)陰極
陰極8,具有將電子注入發光層5之任務。作為陰極使用之材料,可使用與前述陽極2所使用之材料,就可有效率地進行電子注入,以使用功函數較低之金屬為佳,其可使用錫、鎂、銦、鈣、鋁、銀等適當之金屬或該些之合金。具體例如,鎂-銀合金、鎂-銦合金、鋁-鋰合金等低功函數合金電極等。
陰極之膜厚,通常與陽極為相同。因使用低功函數金屬保護陰極之目的為,於其上再層合具有高功函數且對大氣為安定性之金屬層時,可增加元件之安定性。於該目的上,為使用鋁、銀、銅、鎳、鉻、金、白金等之金屬。
此外,電子注入層7中,於陰極8與電子輸送層6之間插入LiF、MgF2 、Li2 O等之極薄絕緣膜(0.1~5nm),亦為提高元件效率之有效方法。
又,也可使用與圖1相反之構造,即,於基板1上依序層合陰極8、電子注入層7、第二電子輸送層6-b、第一電子輸送層6-a、發光層5、電洞輸送層4、電洞注入層3、陽極2者亦為可能,如前所述般,於至少一側為具有高度透明性之2片之基板之間設置本發明之有機EL元件亦為可能者。該情形中,必要時可追加層,或省略皆可。
本發明之有機EL元件,可為單一元件配置為陣列(array)狀之構造所形成之元件,或陽極與陰極配置為X-Y矩陣狀之構造中任一者皆可。本發明之有機EL元件,第一電子輸送層上可使用具有特定骨架之化合物,經由與該化合物以外之現有電子輸送層材料或與其為同等之材料的第二電子輸送層組合時,即可得到即使於低電壓下也可得到高發光效率,且也可以大幅改善驅動安定性之元件,對於應用於高彩或全彩之面板時,可發揮出優良之性能。
[實施例]
以下,本發明將以實施例作更詳細之說明,但本發明並不受該些實施例所限定,於未超越發明之要旨時,可以各種形態進行實施。
合成例1(吲哚[2,3-a]咔唑之合成)
於排氣以氮取代之2000ml三口燒瓶中,加入1,2-環己烷二酮33.3g(297.0mmol)、苯基肼鹽酸鹽86.0g(594.7mmol)、乙醇1000ml後攪拌。將濃硫酸3.0g(30.6mmol)以5分鐘時間滴入其中,滴入結束後,於65℃下攪拌4小時。冷卻至室溫,濾取所生成之紫茶色結晶後,濾取之結晶以乙醇(500ml)以二次再分散洗淨。經減壓乾燥餾除溶劑,得紫茶色粉末80.0g。
其次,將所得之紫茶色粉末72.0g(261.5mmol)加入1000ml三口燒瓶中,隨後加入乙酸720g、三氟乙酸72.0g(631mmol),於100℃下攪拌15小時。冷卻至室溫後,濾取所生成之結晶,將其使用乙酸200ml中和(rinse)洗淨,再使用己烷200ml中和洗淨。經減壓乾燥餾除溶劑,得白色粉末狀之吲哚[2,3-a]咔唑30.0g(117.1mmol、產率39.4%)。
合成例2(11-苯基吲哚[2,3-a]咔唑之合成)
於排氣以氮取代之1000ml三口燒瓶中,加入吲哚[2,3-a]咔唑26.0g(101.4mmol)、碘化苯122.7g(601.4mmol)、碘化銅54.7g(287.2mmol)、碳酸鉀66.7g(482.6mmol),及喹啉800ml,於190℃下攪拌72小時。冷卻至室溫後,加入水500ml、二氯甲烷500ml,濾取所生成之黃色結晶。將濾液分隔為有機層與水層後,有機層以水500ml洗淨3次。有機層以硫酸鎂脫水,將硫酸鎂濾除後,將溶劑減壓餾除。以矽凝膠管柱色層分析法精製結果,得白色粉末狀之11-苯基吲哚[2,3-a]咔唑13.7g(41.2mmol,產率40.6%)。
合成例3(吲哚[3,2-b]咔唑之合成)
於排氣以氮取代之2000ml三口燒瓶中,加入3,3’-伸甲基二吲哚50.69g(205.8mmol)、鄰甲酸三乙酯30.55g(206.1mmol),於其中加入甲醇640g後進行攪拌。將濃硫酸5.0g(51.5mmol)以3分鐘時間滴入其中後,進行1小時加熱迴流。冷卻至室溫後,濾取所生成之紅茶色結晶,所得之結晶以甲醇500ml以二次再分散洗淨。將溶劑減壓餾除,得紅茶色粉末狀之吲哚[3,2-b]咔唑36.8g(143.8mmol、產率69.9%)。
合成例4(例示化合物A-19之合成)
於排氣以氮取代之2000ml三口燒瓶中,加入55%氫化鈉2.18g(50.0mmol)、脫水DMF70ml,氮氣流下攪拌。將11-苯基吲哚[2,3-a]咔唑13.5g(40.6mmol)之脫水DMF(150ml)溶液以10分鐘時間滴入其中,滴入結束後,攪拌1小時。隨後,再將2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三10.4g(39.0mmol)之脫水DMF(150ml)溶液以1小時時間滴入。滴入結束後,繼續攪拌3小時,其後,加入水600g,濾取析出之結晶。濾取之結晶以水300g以二次再分散洗淨,再以甲醇300g再分散洗淨。將溶劑減壓餾除,得黃色結晶21.0g。將其使用THF及甲醇晶析精製後,將溶劑減壓餾除,得黃色固體(例示化合物A-19)12.7g(22.5mmol,產率55.4%)。
APCI-MS,m/z 564[M+1]+ 、m.p. 263℃、玻璃轉移點(Tg)131℃ 合成例5(例示化合物D-5之合成)
於排氣以氮取代之2000ml三口燒瓶中,加入55%氫化鈉4.36g(100.0mmol)、脫水DMF 70ml,於氮氣流下攪拌。將吲哚[3,2-b]咔唑10.4g(40.6mmol)之脫水DMF(150ml)溶液以10分鐘時間滴入其中,滴入結束後,攪拌1小時。其後,再將2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三20.9g(78.0mmol)之脫水DMF(300ml)溶液以1小時時間滴入。滴入結束後,繼續攪拌3小時,其後,加入水900g,濾取析出之結晶。濾取之結晶以水450g以二次再分散洗淨,再以甲醇450g再分散洗淨。將溶劑減壓餾除,得褐色結晶42.0g。將其以THF及甲醇晶析精製後,將溶劑減壓餾除,得淡褐色固體(例示化合物D-5)13.4g(18.6mmol,產率46%)。
APCI-MS,m/z 719[M+1]+ 、m.p. 498℃、未觀察出Tg 合成例6(例示化合物D-7之合成)
於排氣以氮取代之200ml三口燒瓶中,加入吲哚[3,2-b]咔唑1.3g(5.1mmol)、tert-丁氧化鈉1.4g(14.6mmol)、乙酸鈀8.2mg(0.037mmol)、2,6-二苯基-4-碘吡啶6.4g(17.9mmol)及二甲苯80ml,於室溫下攪拌1小時。將三-tert-丁基膦64.0mg(0.32mmol)加入其中,於120℃下加熱攪拌40小時。冷卻至室溫後,加入水70ml,濾取析出物。所得之固體依序使用甲醇、甲苯、氯仿,進行加熱再分散精製得淡褐色固體(例示化合物D-7)1.0g(1.4mmol,產率27.5%)。
APCI.MS,m/z 715[M+1]+ 、m.p. 426℃、未觀察出Tg 合成例7(例示化合物B-19之合成)
於排氣以氮取代之1000ml三口燒瓶中,加入55%氫化鈉2.2g(56.0mmol)、脫水DMF240ml,氮氣流下進行攪拌。將11-苯基吲哚[2,3-a]咔唑13.3g(40.0mmol)之脫水DMF(25ml)溶液以10分鐘時間滴入其中,滴入結束後,攪拌1小時。隨後,將2,4,6-三氯-1,3,5-三8.8g(48.0mmol)之脫水DMF(150ml)溶液以1小時時間滴入。滴入結束後,繼續攪拌3小時,其後,加入水500ml,濾取析出之結晶。濾取之結晶以水300g以二次再分散洗淨,再使用甲醇300g再分散洗淨。將溶劑減壓餾除,得單黃色結晶18.2g。所得之結晶未精製下,使用於隨後之反應。
其次,於2000ml三口燒瓶中,加入上述所得之單黃色結晶18.2g(38.0mmol)、苯基硼酸9.7g(80.0mmol)、四(三苯基膦)鈀1.8g(1.6mmol)、乙醇150ml、甲苯450ml後攪拌。其後,加入碳酸鈉29.8g(280.0mmol)之水(140ml)溶液,於85℃下攪拌4小時。冷卻至室溫後,加入水200ml、甲苯200ml,將有機層與水層區隔,有機層以200ml之水洗淨。有機層以硫酸鎂脫水,將硫酸鎂濾除後,將溶劑減壓餾除。將其以二氯甲烷及乙醇晶析精製後,將溶劑減壓餾除,得白色固體(例示化合物B-19)5.2g(9.2mmol、產率23%)。
APCI-MS,m/z 563[M+1]+ 、m.p. 252℃、Tg 127℃ 合成例8(例示化合物A-9之合成)
於排氣以氮取代之100ml三口燒瓶中,加入含有三tert-丁基膦0.76g(3.8mmol)之乙酸鈀(II)0.21g(0.94mmol)的二甲苯(20ml)溶液,於60℃下加熱攪拌30分鐘。將該溶液送至於氮氣流下加熱至60℃之含有吲哚[2,3-a]咔唑4.6g(18.0mmol)、3-咔唑基溴苯5.8g(18.0mmol)及tert-丁氧基鈉7.7g(80.0mmol)之二甲苯(180ml)溶液中。於其後升溫至130℃,同溫度下加熱攪拌5小時。冷卻至室溫後,加入水200ml。使油水分離,將有機層減壓濃縮,得粗產物。將其以二氯甲烷及乙醇晶析精製後,將溶劑減壓餾除,得11-(4-咔唑基苯基)吲哚[2,3-a]咔唑4.2g(8.4mmol、產率47%)。
其次,於排氣以氮取代之200ml三口燒瓶中,加入55%氫化鈉0.42g(9.6mmol)、脫水DMF 10ml,於氮氣流下進行攪拌。將上述11-(4-咔唑基苯基)吲哚[2,3-a]咔唑4.0g(8.0mmol)之脫水DMF(20ml)溶液,以10分鐘時間滴入。滴入結束後,攪拌1小時左右之後,將2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三2.1g(8.0mmol)之脫水DMF(20ml)溶液以1小時時間滴入其中。滴入結束後,攪拌3小時之後,加入水100g,濾取析出之結晶。濾取之結晶以水100g以二次再分散洗淨,再以甲醇100g再分散洗淨。將溶劑減壓餾除,得黃色結晶。將其使用THF/甲醇析出結晶精製,得黃色固體(例示化合物A-9)3.0g(4.1mmol、產率51%)。
APCI-MS,m/z 729[M+1]+ 、m.p. 319℃、Tg 168℃ 合成例9(例示化合物A-17之合成)
於排氣以氮取代之2000ml三口燒瓶中,加入55%氫化鈉4.8g(110.0mmol)、脫水DMF 70ml,於氮氣流下攪拌。將吲哚[2,3-a]咔唑13.5g(52.7mmol)之脫水DMF(150ml)溶液以10分鐘時間滴入其中。滴入結束後,攪拌1小時左右之後,將2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三29.4g(110.0mmol)之脫水DMF(150ml)溶液以1小時時間滴入其中。滴入結束後,攪拌3小時之後,加入水900g,濾取析出之結晶。濾取之結晶以水450g以二次再分散洗淨,再以甲醇450g再分散洗淨。將溶劑減壓餾除,得結晶35.0g。將其使用THF/甲醇析出結晶精製,得黃色固體(例示化合物A-17)24.0g(33.4mmol、產率63.4%)。
APCI-MS,m/z 719[M+1]+ 、m.p.426℃、未觀察出Tg 合成例10(例示化合物C-19之合成)
於排氣以氮取代之50ml三口燒瓶中,加入含有三tert-丁基膦0.32ml(1.3mmol)之乙酸鈀(II)0.071g(0.32mmol)之二甲苯(5ml)溶液,於60℃下加熱攪拌30分鐘。將該溶液於氮氣流下,送液至加熱至60℃之11-苯基吲哚[2,3-a]咔唑2.0g(6.0mmol)、2,6-二苯基-4-碘吡啶2.5g(6.9mmol)及tert-丁氧基鈉2.6g(26.7mmol)、之二甲苯(60ml)溶液中。其後升溫至130℃,於同溫度下加熱攪拌5小時。冷卻至室溫後,加入水70ml。使其油水分離,將有機層減壓濃縮,得4.85g之粗產物。將其以二氯甲烷及乙醇晶析精製後,將溶劑減壓餾除,得白色固體(例示化合物C-19)1.4g(2.5mmol、產率36%)。
APCI-MS,m/z 562[M+1]+ 、m.p. 277℃,287℃、Tg 130℃ 實施例1
圖1中,為於形成有膜厚110nm之由ITO所形成之陽極電極的玻璃基板上,將各薄膜以真空蒸鍍法,於真空度1.0×10-5 Pa下層合。首先,於ITO上形成厚度25nm之作為電洞注入層之CuPc(銅酞菁)。其次,以蒸鍍方式形成厚度55nm之作為電洞輸送層之NPB(4,4'-雙(N-(1-萘基)-N-苯基胺基)聯苯基)。其次,於電洞輸送層上,以不同之蒸鍍源對作為發光層之BAlq(p-苯基酚酯-雙(2-甲基-8-喹啉酯)鋁)與Ir(piq)3(三(1-苯基異喹啉)銥錯合物),以Ir(piq)3達4.0重量%之方式進行共蒸鍍,形成厚度45nm之層。其次,形成厚度10nm之作為第一電子輸送層之化合物A-19。其次,形成厚度20nm之作為第二電子輸送層之Alq3(三(8-喹啉酯)鋁錯合物)。此外,於電子輸送層上,形成0.5nm之作為電子注入層之LiF(氟化鋰)。最後,於電子注入層上形成厚度100nm之作為陰極電極之Al(鋁),而製得有機EL元件。
實施例2
除將第一電子輸送層及第二電子輸送層之膜厚度分別設定為20nm,及10nm以外,其他皆依實施例1相同方法製得有機EL元件。
比較例1
省卻第一電子輸送層,並使第二電子輸送層設定為30nm以外,其他皆依實施例1相同方法製得有機EL元件。
所得之有機EL元件連接外部電源,並施加直流電壓結果,確認其具有表1所示之發光特性。表1中,電壓及電力效率為200A/m2 ,半衰期為400A/m2 之值。又,元件發光圖譜之最大波長為620nm,得知得到Ir(piq)3所產生之發光。
如表1所示般,實施例1及2之元件,與比較例1之元件相比較時,可達成低電壓、高效率、長壽命之效果。
實施例3
圖1中,為於形成有膜厚110nm之由ITO所形成之陽極電極的玻璃基板上,將各薄膜以真空蒸鍍法,於真空度1.0×10-5 Pa下層合。首先,於ITO上形成厚度25nm之作為電洞注入層之CuPc。其次,形成厚度45nm之作為電洞輸送層之NPB。其次,於電洞輸送層上,形成厚度20nm之作為發光層之Alq3。其次,形成厚度10nm之作為第一電子輸送層之化合物A-19。其次,形成厚度30nm之作為第二電子輸送層之Alq3。此外,於電子輸送層上,形成0.5nm之作為電子注入層之LiF。最後,於電子注入層上形成厚度100nm之作為陰極電極之Al,而製得有機EL元件。
實施例4
除第一電子輸送層及第二電子輸送層之膜厚分別為30nm、10nm以外,其他依實施例3相同方法製得有機EL元件。
比較例2
省卻第一電子輸送層,第二電子輸送層設定為40nm以外,其他皆依實施例3相同方法製得有機EL元件。
所得之有機EL元件連接外部電源,施加直流電壓後,確認具有如表2所示般之發光特性。表2中,電壓及電力效率為200A/m2 ,半衰期為400A/m2 之值。又,元件發光圖譜之最大波長為520nm,得知得到Alq3所產生之發光。
如表2所示般,實施例3及4之元件,與比較例2之元件相比較時,得知達成低電壓、高效率、長壽命之效果。
本發明之有機EL元件,於將特定之化合物使用作為電子輸送層之一部份時,於低電壓下即可達成高效率且具有長壽命之效果。又,發光層使用磷光摻雜物之元件中,因封入磷光發光分子之最低激發三重態能量,故具有極高之最低激動三重態能量,使能量不會由發光層内流出,進而達成高效率與長壽命之效果。
本發明之有機EL元件,於發光特性、驅動壽命與耐久性中,可達滿足實用上之程度,對於平面面板顯示器(手機顯示元件、車輛顯示元件、OA電腦顯示元件或電視等)、作為平面發光體之特徴的光源(照明、影印機之光源、液晶顯示器或計測器類之背光光源)、顯示板或標示燈之應用中,具有極大之技術價值。
1...基板
2...陽極
3...電洞注入層
4...電洞輸送層
5...發光層
6...電子輸送層
7...電子注入層
8...陰極
[圖1]為本發明之有機EL元件之一例示之模式剖面圖。
1...基板
2...陽極
3...電洞注入層
4...電洞輸送層
5...發光層
6...電子輸送層
6-a...第一電子輸送層
6-b...第二電子輸送層
7...電子注入層
8...陰極

Claims (10)

  1. 一種有機電致發光元件,其係於對向之陽極與陰極之間,至少含有發光層、電子輸送層之有機電致發光元件中,其特徵為電子輸送層為由第一電子輸送層與第二電子輸送層之2層所形成,由發光層向陰極側係依第一電子輸送層、第二電子輸送層之順序層合而成,且第一電子輸送層為含有下述通式(1)所表示之化合物,【化1】 (其中,環a為,與2個鄰接環縮合之式(a1)或(a2)所表示之芳香環或雜環,環a'為,與3個鄰接環縮合之式(a1)所表示之芳香環或雜環,X1 為CH或N;環b為,與2個鄰接環縮合之式(b1)所表示之雜環;Ar1 ~Ar4 為獨立之取代或未取代之芳香族烴基,或取代或未取代之芳香族雜環基;R1 ~R3 為獨立之氫、烷基、芳烷基、烯基、炔基、氰基、二烷基胺基、二芳基胺基、二芳烷基胺基、胺基、硝基、醯基、烷氧羰基、羧基、烷氧基、烷基磺醯基、鹵烷基、羥基、醯胺基、取代或未取代之芳香族烴基,或取代或未取代之芳香族雜環基;X2 、X3 及X4 為獨立之CH或N,至少一個為N)。
  2. 如申請專利範圍第1項之有機電致發光元件,其中,通式(1)所表示之化合物為下述通式(2)所表示之化合物,【化2】 其中,環b、Ar2 ~Ar4 、R1 ~R3 、X2 ~X4 係與通式(1)之環b、Ar2 ~Ar4 、R1 ~R3 、X2 ~X4 具有相同之意義。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之有機電致發光元件,其中,通式(1)或(2)中,X2 ~X4 之中之一個為氮。
  4. 如申請專利範圍第3項之有機電致發光元件,其中,X4 為氮。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之有機電致發光元件,其中,通式(1)或(2)中,X2 ~X4 之中之二個為氮。
  6. 如申請專利範圍第5項之有機電致發光元件,其中,通式(1)或(2)中,X2 與X3 為氮。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之有機電致發光元件,其中,通式(1)或(2)中,X2 ~X4 全部為氮。
  8. 如申請專利範圍第1或2項之有機電致發光元件,其中,通式(1)或(2)中,Ar1 ~Ar4 為獨立之取代或未取代之碳數5~10之芳香族烴基,或取代或未取代之碳數2~5之芳香族雜環基。
  9. 如申請專利範圍第1或2項之有機電致發光元件,其中,通式(1)或(2)中,R1 ~R3 為獨立之氫、取代或未取代之碳數5~18之芳香族烴基,或取代或未取代之碳數3~17之芳香族雜環基。
  10. 如申請專利範圍第1或2項之有機電致發光元件,其中,第二電子輸送層為含有喹啉醇系金屬錯合物之層。
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