TWI335635B - Repair apparatus for substrate circuit of flat display panel - Google Patents

Description

1335635 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關用於平面顯示器面板之修復設備，且尤 係有關用於平面顯示器面板之基材電路的修復設備’其能 修復基材電路及同時檢驗該電路是否電路斷珞/短路。 【先前技術】

平面顯示器面板係分類為陰極射線管（CRT)、液晶顯 示器（LCD)等等》因為其消耗較少電力且其重量輕，故LCD 尤係具有優勢且吸引更多注意。 平面顯示器面板（例如LCD)係用一陣列基材、一基 材、及一液晶層構成。該陣列基材包括配置於矩陣形式中 之複數個像素電極，沿成列之複數像素電極配置的複數個 掃描線’及沿成行之複數像素電極配置的複數個信號線。

然而’該陣列基材在製造期間可能有缺陷。例如，電 氣信號線重疊（即短路）。當一陣列基材具有此一缺陷時， 影像無法適當地產生。因此，已重疊之信號線應加以切除， 以防止信號線中之重疊。此一製程係稱為「修復」。 第1圖顯示用於平面顯示器面板之習知修復設備1，包 括：一平台，其係用於支撐—欲修復之基材；一置於該平 台上之雷射顯微鏡3’其係用於取得基材之圖片及使用一雷 射束修復該基材之缺陷區；一光源5，其係用於將光供應給 雷射顯微鏡3;及一移動構件（未顯示），其係用於在χ軸及 5 1335635 Y軸方向上移動該平台。 以下描述一種藉由使用羽t ^ ^ I知修復設備1修復基村的方

法。基材係藉由轉移機器臂（未顯示）置於平台上。當接收 由外部檢驗裝置輸入之缺陷區資訊時，移動構件（未顯示） 基於輸入資訊來移動平台，使得缺陷區可置於雷射顯微鏡3 下。在此，在調整平台之位置的同時，當光源、5將光傳送至 缺陷區上時，該缺陷區透過雷射顯微鏡3監視器來監控。當 平台之位置在基材上決定時’缺陷區之某一部分係由一自 雷射顯微鏡3放射之雷射束切除，以修復該基材。在完成修 復製程後，轉移機器臂將基材轉移離開平台。之後，係施 行一檢驗製程以檢驗基材之一電路是否斷路/短路。 然而，習知修復設備具有以下缺點： 當檢驗裝置之一座標系統未與修復設備匹配時，修復 設備可能無法自檢驗裝置讀取基材之缺陷資訊，從而將有 缺陷基材轉移至下一平台。

因為一基材修復製程及一檢驗基材電路之斷路/短路 的檢驗製程係個別地施行，故製程時間拉長並X降低生產 率。 【發明内容】 因此，本發明已針對以上問題進行，且本發明之一目 的係提供一種用於平面顯示器面板之基材電路的修復設 備，其能同時施行一缺陷偵測製程、一修復製程、及一檢 6 1335635

用於檢查探針是 於檢驗閘極塾或 針以同時檢驗複 在水平及垂直方 較佳的係， 動構件，其係用 一探針單元；及 向上移動該多探 較佳的係， 驗製程’該設備包含一修復單元’其包括 雷射、及一檢驗單元，因此缩短處理時間 及減少設備體積。 依據本發明之一態樣，以上及其他 一種用於平面顯示器面扳之修復設備而達 含：一修復台；一平台，其上係置故一欲 X轴移動構件，其係在該修復台之X軸方# 二Y軸移動構件，各連接至各X軸移動構不 係在Y軸方向上彼此相間隔；及一修復單 二Y軸移動構件其中之一處，該修復單元 欲檢驗之基材的缺陷區之光學單元，一用 之雷射’及一用於檢驗該已修復基材電路 一檢驗單元。 該第一檢驗單元包含：一 否磨擦該基材；一單一揭 資料墊：及—多探針單元 數電極整；及—探針移禽 向上移動多探針單元及單 本發明之探針移動構件色 於在垂直方向上移動該多 —探針水平移動構件，其 針單元及該單一探針單元 該修復設備更包一 一先學單元、_ 、減少缺陷率、 目的可藉由提出 到，該設備包 檢驗之基材；-上彼此相間g . #之一上表面，其 元’其係安裴在 包栝一用於偵測 於修復該缺陷區 之斷路/短路的第 '相機單元，其係 針單元’其係用 ‘，其具有複數探 構件，其係用於 一移動單元。 ‘含一探針垂直移 探針單元及該單 係用於在水平方 〇 檢驗單元，其係 安裝在未安裝該修復單元之另一Y軸移動構件處。 【實施方式】 現將參考附圖詳述本發明之較佳具體實施例β 第2圖顯示根據本發明之平面顯示器面板的修復設備。 如第2圖中所示’修復設借1〇包括：一修復台6〇〇; _ 平台700’其係置於修復台_ 600上，且一欲修復之基材係置 於其上；一修復單元，其包括一光學單元3〇〇，用於偵測— 可能形成在基材上之缺陷區，一用於藉由將雷射束放射於 基材上以修復其上之缺陷區的雷射2〇〇,及一用於檢驗已修 復基材電路是否斷路/短路之第一檢驗單元1〇〇; 一 χ軸移動 構件400’其係用於在X軸方向上移動該修復單元；及一 γ 軸移動構件500，其係用於在γ軸方向上移動該修復單元。

修復台6 0 0較佳係配置成包括一振動控制構件（未顯 示）’其係用於移除外部或内部產生之振動。乂軸移動構件 400係安裝在600修復台的一上表面上之χ轴方向上。又轴移 動構件400配置之方法係：Χ軸支撐件41〇彼此隔開地安裝 在修復台600之X軸方向上；及_ χ軸執42〇，其係安裝在X 轴支撐件410之一上表面上，以使γ軸支撐件在父軸方向上 滑動，其將解釋於後。 同時，Υ軸移動構件500係在父軸支撐件41〇之垂直方向 上（即Υ軸方向上），置於χ軸支撐件41〇之一上表面上。各 個γ軸移動構件500包括··一 γ軸支撐件51〇,其二端連接至 X軸軌420以沿X軸軌420滑動；_γ軸軌52〇，其係在丫轴方 向上形成在Y軸支撐件510之一側面上；及一Y軸轨塊530’ 其係安裝在Υ轴軌520上以沿Υ軸轨520滑動，且其上安裝該 修復單元。 用於支撐該基材之平台700係置於修復台600之一内側 表面，其覆蓋X軸移動構件400及Υ轴移動構件500二者。 光學單元300係用於偵測一可能在平面顯示器面板之 基材上形成的缺陷區。光學單元300包括：一光源310、一 透鏡320、及一感測器（未顯示）。當光源31〇故射光至基材 上時，光係從該基材反射。從基材反射之光係透過透鏡320 轉移至感測器。感測器接著藉由讀取反射光量中之差異檢 驗缺陷的存在。 藉由使用本發明之光學單元3 00,可確定基材上是否已 產生任何缺陷’無須直接磨擦基材。因此，可保護基材防 止可能由磨擦產生的損害。同樣地’可藉由移除由於一檢 驗裝置及修復設備間之座標系統的不一致產生之誤差，因 而明顯地減少缺陷率。 雷射200係用於移除在平面顯示器面板之基材上的缺 陷雷射2〇〇包括一用於產生雷射束之雷射振盛器m 一 用於匯聚雷射束之匯聚器透鏡22Q，及—用於提供雷射束路 仏之雷射頭230。自雷射振盪器21〇產生之雷射束切除重疊 的信號線以修復有缺陷之基材。 第一撿驗單元1〇〇a係用於檢驗已修復基材之一電路是 否斷路/短路。第一檢 _ 弟檢驗早兀l〇0a包括：一相機單元，其係 用於檢查探針是否磨擦 令悬材，一早一探針單元，其係用於 檢驗閘極墊或資料墊；一多探針單元 驗若干電極塾；及一探針移動構件， 向上移動多探針單元及單—探針單元 單元100a的組件係顯示在第3及4圖中 的構造將詳述於下》

_如第2圖中顯示，光學單元300、雷射200及第一檢驗單 = l〇〇a組裝成一修復單元.該修復單元之配置方法係將其 安裝在Y軸支撐件510之¥轴轨塊53〇上（位於該平台之一 側）’以沿Y軸軌520移動。 在此’本發明之修復設備較佳係可配置成包括_第二 檢驗單元1 00b，其係安裝在未安裝該修復單元之一 γ軸移 動構件500處。

’其係配置以同時檢 其係在垂直及水平方 。本發明第之一檢驗 。第一檢驗單元l〇〇a 第二檢驗單元10〇b可安裝在未安裝一修.復單元之γ軸 支擇件510的Y軸軌塊530處，因此如同以上描述之修復單 疋的運動’係在X軸及γ轴方向上移動。在此，第二檢驗單 & 1〇〇b之構造係與安裝在修復單元處的第一檢驗單元l〇〇a 類似。在此情況下，基材之檢驗係如下：第一檢驗單元1 〇〇a 之夕探針單元磨擦對應於已修復部分的像素電極；第二檢 驗單几1 00b之單一探針單元磨擦一閘極墊或資料墊；且電 阻值係由二探針測量，因而檢驗基材電路之斷路/短路。因 此’當提供使用二檢驗單.元1 00 a及1 0 0b之修復設備時，檢 驗基材可更有效地施行。 第3圖係顯示根據本發明之檢驗單元的組件之分解 圖’且第4圖係顯示本發明之檢驗單元的組裝狀態的透視 10 巴栝 本發明之檢驗單」 於檢查探針是否磨擦基材；—單一 /機單兀110，其係用 檢驗閘極墊或資料墊；一多探針十單疋160’其係用於 檢驗若干電極墊之複數探針.①150’其具有用於同時 ’及―探針移動搆件140，装 用於在垂直及水平方向上移動 其係 探針早元150及單一探針 早兀160 。 1 相機單元110係用於檢查探 W及基材間之磨拆_ &能, 發明的相機單元110包括：―相她 磨擦狀I、。本 相機112 ’其係定位在單_ 針單元160及多探針單元15〇上，^ 你平探 上用於檢查探針及基材間之 磨擦狀態；及一相機轉移構侔，4门之 '、係用於在水平方向上較 動相機U2,以致相機112可拍 上移 辦咏針早兀150及160二者。 相機轉移構件較佳係包赵 ^ 括—相機轉移軌116;及一相施 連接塊1 1 4，其一側連接至^ 相機 相機H2且另一側連接至相機 移軌116，以沿相機轉移轨116滑動。 轉 探針移動構件14〇係連杻谷夕 單元160_ # 仔連接至多探針單元15〇及單一探針 単兀160 一者，以在水平及 町 1<Λ _ ^ 垂直方向上移動探針單元150及 160。探針移動構件14〇 12〇) 較佳係包括一探針垂直移動構件 其在垂直方向上移動探 孚銘叙棋批η 可早70150及丨60,及一探針水 十移動構件130，苴在皮伞士丄 ^ '、在水千方向上移動探針。 本發明之探針垂直孩叙 驅動裝置。 *移動構件“Ο可實施為—滾珠螺桿 本發明之探針水平移動 i* , » 傅件130可配置成包括一水平 軌132及—水平軌塊134。 因此，# 4 i 使本發明之二構件140(其可垂直及水平地移動探釺) 同時^③備能精確檢驗基材上所欲的部分。 資料塾或閉：：探針單元160係裝設單·'探針162，其磨擦 明之單一探針„从檢驗基材電路的斷路/短路。較佳係本發 -探針^連接早Λ160可更包括單一探針框架164,其將單 接至探針移動構件丨4 〇。 :5圖顯示多探針單元150之詳細構造。 複數:^針單元15G係用於同時測量規律配置在基材上之 152; 一 夕探針早凡150包括：複數探針 ，，151 ’其係在常態中容納複數探針152及當 =未時使探針152突出卜轴啟動器⑴，其定位在探 151之—上表面處，用於當偶而要求時使探針152突 H心155 ’其係、用於檢查探針是否磨擦基材。 另一方面，本發明之多探針單元15〇較佳係更包括一多

探針框架1 5 7，其#以F έΒ从ΛΚ , d U 、 牛彼此連接，且係附接至探針移 動構件“〇,以允許多探針單元15。能在水平及垂直方探向針上移

移動D 下文中將描述一種使用本發明之修復設備修復一基材 的方法》 首先，當將基材置於平台上時，一光學單元開始運轉。 修復單元接著移動以檢驗基材上是否發生任何缺陷。在其 上安裝修復單元之Y軸軌塊係沿γ軸軌移動，且具有γ軸軌 之Υ軸支撐件係沿X轴轨移動，因此致能檢驗基材上之每一 部分《= 12 1335635 之光透過透鏡入射至感測器上。 ，從基封反 π感測器藉由结 量中之差異檢驗缺陷的存在。+去伯 。取反射光 田禾偵測到任 祀 材被轉移至下一平台。 了缺陷時，基 然而，當偵測到任何缺陷時， 叮 移動修復I_ 射用於缺陷區上施行修復。之後， 711以定位雷 由射束在其 除重疊的信號線，從而施行該修復。 、上放射以切

在完成修復製程後，第一檢驗單元之多 已修復部分的像素電極墊，且第二檢驗單元單元磨擦 元磨擦一閘極墊或資料墊。由二探 疋之平—探針單 用來檢驗該基材電路是否斷路/短路。在此，。電阻值係 相機來檢查探針是否磨擦基材。可科 可用感挪器及 •用相機韓敕 來調整相機位置，直至其位於一想要 件 文懷觸的部分。 針移動構件可精密地移動探針單元。 探 需求部分施行檢驗。 了針對—確切 若未曾從該檢驗摘測出任何缺陷，則基材被轉 一平台β 如以上描述’本發明包括一修復單元，其具有—光學 單元、-雷射、及一檢驗單元，《同時施行一缺陷摘測； 程，一修復製程，及一檢驗製程。因此可缩短產品製造時 間’減少設備安裝空間及產品缺陷率，且增加生產力。

同樣地’本發明包括一移動構件，其允許該設備在X 轴及γ轴方向上移動，從而允許該設備檢驗在其任何部分 處之基材。 13 1335635 此外，本發明係配置以在一檢驗單元中包括一多探針 單元及一單一探針單元，以使基材電路之斷路/短路檢驗能 - 快速施行，使其可同時施行一個別電路之檢驗及鄰近像素 . 電極墊的檢驗。 再者，本發明係配置成包括一移動構件，其係用於移 動該修復單元；一探針移動構件，其係用於在垂直及水平 方向上移動探針；及一相機，因此允許在一精確需求位置 施行修復及檢驗。 ® 雖然本發明之較佳具體實施例已揭示用於示範目的， 但熟習此項技術人士將會瞭解在不脫離隨附申請專利範圍 中揭示之本發明範疇及精神下，各種修改、增加及替換均 屬可行。 【圖式簡單說明】 本發明之以上及其他目的、特徵及其他優點，將可自 以上結合附圖之說明中更清楚地瞭解’其中： 第1圖係顯示習知修復設備之示意圖； 第2圖係顯示根據本發明之修復設備的透視圖； 第3圖係顯示根據本發明之檢驗單元的分解透視圖； 第4圖係顯示根據本發明之檢驗單元的透視圖·，及 第5圖係顯示根據本發明之多探針單元的分解透視圖。 【主要元件符號說明】 習知修復設備 3 雷射顯微鏡 14 1335635

5 光 源 10 修 復 設 備 100 檢 驗 單 元 100a 第- 一 i 会驗單： 元 100b 第 二 i 兹單元 110 相 機 單 元 112 相 機 114 相 機 連 接 塊 116 相 機 轉 移 軌 120 探 針 垂 直 移 動構件 130 探 針 水 平 移 動構件 132 水 平 軌 134 水 平 軌 塊 140 探 針 移 動 構 件 150 多 探 針 單 元 15 1 探 針 組 件 152 複 數 探 針 153 軸 啟 動 器 155 感 測 器 157 探 針 框 架 160 單 — 探 針 單 元 162 單 — 探 針 164 單 .一 探 針 框 架 200 雷 射 210 雷 射 振 盪 器 220 匯 聚 器 透 鏡 230 雷 射 頭 300 光 學 單 元 3 10 光 源 320 透 鏡 400 X 軸 移 動 構 件 4 10 X 軸 支 撐 件 420 X 轴 軌 500 Y 轴 移 動 構 件 5 10 Y 支 撐 件 520 Y 轴 軌 530 Y 軸 轨 塊 600 修 復 台 700 平台 15

Claims (1)

1335635 十、申請專利範圍_· 1. 一種用於一平面顯示器面板之修復設備’其包含： 一修復台； 一平台，在其上置放一欲檢驗之基材； 二X軸移動構件，其係在該修復台之該X軸方向上 彼此相間隔， 二γ軸移動構件，各自連接至各個X抽移動構件之 一上表面’且在該γ軸方向上彼此相間隔；及

一修復單元，其係安裝在該二γ轴移動構件其中之 一處，該修復單元包括一光學單元’其係用於偵測該欲 檢驗之基材的一缺陷區；一雷射’其係用於修復該缺陷 區；及一第一檢驗單元，其係用於檢驗該已修復基材電 路之斷路/短路。 2 ·如申請專利範圍第1項所述之修復設備，更包含一第二 檢驗單元，其係安裝在未安裝該修復單元之另一 γ軸 移動構件上。 3.如申請專利範圍第1項所述之修復設備，其中該X軸 移動構件包含： 多個X軸支撐件，其係在該修復台之該X軸方向 上彼此相間隔；及 一 X軸軌，其係安裝在該等X抽支撐件之上表面 處。 16 1335635 4.如申請專利範圍第1項所述之修復設備’其中該y軸 移動構件包含： 一 Υ轴支撐件，其二端連接至該X轴軌’以沿該X 軸軌滑動； 一 γ軸軌，其係形成在該γ軸方向上之該γ軸支 樓件的一側面上；及

一 Υ軸軌塊，其係安裝在該γ軸轨處，以沿該Υ 軸軌滑動，且該修復單元係安裝在該γ軸軌塊處。 5 .如申請專利範圍第1項所述之修復設備’其中該第一檢 驗單元包含： 一相機單元，其係用於檢查多個探針是否磨擦該基 材， 一單一探針單元，其係用於檢驗多個閘極墊或多個 資料墊；及

一多探針單元，其具有複數個探針’以同時檢驗複 數個電極塾，及 一探針移動構件，其係用於在水平及垂直方向上移 動該多探針單元及該單一移動單元。 6.如申請專利範圍第5項所述之修復設備，其中該相機單 元包含： 一相機，其係用於檢查該等探針友該基材間之一磨 17 1335635 擦狀態； 一相機轉移構件，其係用於在該水平才向上移動該 相機。 7.如申請專利範圍第5項所述之修復設備’其中該探針移 動構件包含： 一探針垂直移動構件’其係用於在該垂直方向上移 動該多探針單元及該單一探針單元；及

一探針水平移動構件，其係用於在該水平方向上移 動該多探針單元及該單一探針單元。 8.如申請專利範圍第5項所述之修復設備，其中該多探針 單元包含’· 一探針組件，其係用於突出或容納該複數探針； 一軸致動器，其係定位在該探針組件之一上表面 處，用於突出該等探針；及

一感測器，其係用於檢查該複數探針是否已與該基 材接觸。 18