[go: up one dir, main page]

TWI334211B - Package substrate structure and manufacturing method thereof - Google Patents

Package substrate structure and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
TWI334211B
TWI334211B TW096123666A TW96123666A TWI334211B TW I334211 B TWI334211 B TW I334211B TW 096123666 A TW096123666 A TW 096123666A TW 96123666 A TW96123666 A TW 96123666A TW I334211 B TWI334211 B TW I334211B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
dielectric
area
dielectric layer
circuit
Prior art date
Application number
TW096123666A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200901420A (en
Inventor
Shih Ping Hsu
Original Assignee
Unimicron Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Unimicron Technology Corp filed Critical Unimicron Technology Corp
Priority to TW096123666A priority Critical patent/TWI334211B/zh
Priority to US12/163,579 priority patent/US8058566B2/en
Publication of TW200901420A publication Critical patent/TW200901420A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI334211B publication Critical patent/TWI334211B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • H05K1/116Lands, clearance holes or other lay-out details concerning the surrounding of a via
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/423Plated through-holes or plated via connections characterised by electroplating method
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0364Conductor shape
    • H05K2201/0373Conductors having a fine structure, e.g. providing a plurality of contact points with a structured tool
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09009Substrate related
    • H05K2201/09036Recesses or grooves in insulating substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/095Conductive through-holes or vias
    • H05K2201/09563Metal filled via
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/095Conductive through-holes or vias
    • H05K2201/096Vertically aligned vias, holes or stacked vias
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/421Blind plated via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/465Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits by applying an insulating layer having channels for the next circuit layer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base
    • Y10T29/49165Manufacturing circuit on or in base by forming conductive walled aperture in base

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

1334211 九、發明說明: .· 【發明所屬之技術之領域】 本發明係有關於一種封裝基板結構及其製法,尤指一 種線路層具有大面積導體區塊之封裝基板結構及其製法。 【先前技術】 在封裝基板製造業界,低成本、高可靠度及高佈線密 度一直是所追求之目標;為達目標,於是發展出一種多層 封裝基板’係在一核心基板(core substrate)表面上形成介電 馨層及線路層’並於該介電層巾形成導電盲孔(___ _ holes)以提供線路層之間的電性連接。 而在該多層封蓑基板中之線路層除了一般線路外,亦 包含有提供與電源連接或接地之 a W之用途的大面積導體區塊, 該夕層:裝基板之製法如第!八至1?圖所示。 如弟1A圖所示,俾描极 . 電性連接端102,1G2,之承载層H置複數線路1〇1及 板及多層封裝基板的介上二’:載層10係為核心 如第1B圖所示,接著,於哕 電性連接端陶⑽表面形成=層1G、線路】〇1及 形成藉备M . ;丨電層11,且該介電層11 沁成複數第一盲孔110,110, I电層11 之表面。 路該電性連接端1〇2,102, 如第1C圖所示,於該介電 如第圖所示,於該導電形成-導如3。 且於該阻層14中形成複數小9表㈣成1且層14’ 口區140·以分別顯露部 貝幵口區丨4〇及一大面積開 包層11及電性連接端102 102, 110279 5 表面之導電層13。 ' \ E圖所不,藉由該導電層13作為電鍍之電流傳 11_,巾’係包括形成於該些第一盲孔 區刚,ho,中之第-Γ1,151’,以及形成於阻層開口 — 、’、欠路152與大面積之導體區塊152,。 如第1F及1]7,園6匕- Q所不,移除該阻層14及導電層13以 顯路弟一線路152及導體區塊152,。 宓产;隹;:大面積導體區塊152,於電鍍形成時,因其電流 =厂'面積之第—線路152為*,以致 厚度不足,與第-線路152之間有— ^e,甚 ^ 陷1 53,如此卽;土士、分_ 在王座生凹 導致進弟一線路層15之整面厚度不均勻, 厚度分佈不均造成下描思。士亡 丫層 品質不佳及阻二:層時之盲孔加工困難’電性連接 f法因:避種具有大面積導體區塊之線路層之 4的大面積區電流密度分佈和小面積區 :机也度分佈之差異,所造成該線路層厚度不均勻或導二 失’實已成為目前業界亟待克服之難題。 【發明内容】 ==習知技術之缺點,本發明之一目 一種封裝基板結構及其製法,得避免造成線路 導體區塊厚度不足或中央凹陷,致該線路層厚度不== 缺失 。 本發明之又—目的為提供一種封裝基板結構及其製 110279 6 .=提供後續線路增層得以避免造成盲孔加 連接品質不佳及阻抗控制不良的情況。 難、性 法,:m目的’本發明提供—種封裝基板結構之制 凌知包括.提供一承载層,其表面 稱之衣 該圖素化鍊路層具有複數繞敌万A 圖木化線路層,
該承載層及圖孝化線路”面第一電性連接端;於 一八h 層表面形成-第-介電層,且P W电層中形成複數第一盲孔以顯露 且該弟 面;於第-介電層表面形成一第:介—二連,表 中形成複數小面積開口區及至少—大^:於”介電層 份第-介電層表面,且部份開口區係對』顯露部 該大面積開口區所顯露之f :—目孔’並於 凸於第二介電層表面:其;電材 -盲孔及第-盲孔所顯露之 ::-介電層之第 電層;於該導電層表面开電14連接^表面形成一導 以顯露部份之導電> ^ 阻層,且該阻層形成開口區 開。區心:以=開;:係對應第二介電層 形成於該些第一盲孔中並電心:=弟-導電盲孔, 一線路,係形成於小面積 / 一電性連接端,第 至少—導體區塊,係形第一!電!表面,以及 面,並使該些介電材凸枝 '開口區之弟一介電層表 移除阻層及其所覆蓋之導電層敢埋於該導體區塊中;以及 之其i2者該承载層係為核心板及多層封裝基板的介電層 復包括於第二介電層及第一線路層表面形成一線路增 110279 7 層結構,該線路增層結構 、: 第二線路層及複數第二導命亡^增層介電層、至少一 接該虺第-線J # 电目孔,第一導電盲孔係電性連 弟—線路層具有複數 、,包括於該線路增層結構表面形成:接:: I數顯露線路增層結構之第二電性連接二、形成 提供二载:提封裝基板結構之製法,係包括: 路層具有複數線路及複數第—電性連接:層於:圖案化線 圖案化線路層表面形成一第—介電層, 形成複數第-盲孔以顯露第一電性連接端電層中 面積開口區及至少一大面=於第二介電層中形成複數小 表面,且部份開口區係對應 亡 弟;丨电層 區所顧露之第入φβ·*' 目,並於该大面積開口 _介電面形成複數介電材凸柱;於該第 區中、第—介電層之第-盲孔及第 電性連接端表面形成-導電#.於义 電層表面電鍍形成-金屬層;以及移除該第二二二 面上之導電層及金屬層,以形技一"包層表 -導電盲孔,形成於該也第4二:係包括第 释麥而 如形成於小面積開口區之第一介電 ;二介二=少一導體區塊’係形成於大面積開口區之 區塊表面 且使該些介電材凸柱頂面顯露出該導體 110279 8 ⑴ 4211 之其^者該承载層係為核心板及.多層封農基板的介電層 復包括於第-公_ 路增層結構,該=表面表面形成一線 少一第二線路層及複數 增層介電層、至 性連接該些第二線路声, 一蛤電目孔係電 線路層,又最外面之/ 一接第二線路層與第〜 取外面之弟二線路層具有複數第 设包括於該線路增層处 連接糙。 複數開孔以顯露該線路::=形成一防烊層,並形成 一 i線料層結構n性連接端。 發明復提供-種封裝基板結構,係包括·· 其表面配置-圖案化線 載層’ 路及複數第—電性連接端.層有複數線 載層及第一電性連接端夺面、,'層,係配置於該承 芯Γ連接端表面;—第二介電層,係配置於第-二 二此:具有硬數小面積開口區及至少-大面積開口 ㈣顯露部份第一介電層表面,且部份開口區 、W第目孔,又該大面積開口區所顯露之第一介電芦 :具有複數介電材凸柱;以及-第-線路層,係包括; 導電盲孔’配置於該些第一盲孔中並 性連接端’第-線路,係配置於小面積開口區 :表面,以及-導體區塊,係配置於大面積開一 介電層表面。 弟 其中’該承載層係為核心板及多層封裝基板的介電芦 之其中一者。 曰 110279 9 =中,該些介電材凸柱頂面係後埋 顯露出該導體區塊表面之其中一者。 ¥紅ε塊中及 狀』:’該些介電材凸柱係呈陣列佈局’且其頂面之形 狀知為矩形、圓形及任意幾何形狀之其中—者。 復包括一線路增層結構,机。 路層表面’該線路增層結構包括至少二層介=第:, 一第二線路層及複數第二導電 曰 夕 連接該些第二線路層,以及^ έ 導電盲孔係電性 路層。 I路層u及電性連接第二線路層與第一線 且右—㈣層,係配置於料路增層結構表面,並 '有t ,錢露料增層結構之最外面第二線路層 之邛伤表面,以供做為電性連接端。 曰
本4月之大面積之第一線路層中具有介電材凸柱,而 :小,料大面積區電流密度分佈和小面積區電流密度分 佈之差異,以避免造成導體區塊厚度不足或中央凹陷,致 h線路層厚度不均句的缺失,以利於後續線路增層結構電 性連接第—線路料,得以避免造成盲孔加工困難,電性 連接品質不佳及阻抗控制不良的情況。 【實施方式】 以下係藉由特定的具體實施例說明本發明之實施方 式’所屬技術領域中具有通常知識者可由本說明書所揭示 之中容輕易地瞭解本發明之其他優點與功效。 [弟一製法貫施例] 请蒼閱第2A至2F圖,係為本發明之封裝基板結構的 110279 10 第一實施例製法。 · /第2A圖所示,提供一承载層,盆表面配置 尔化線路層,該圖案化線路 圖 οηο 虿歿數線路201及第一電 !·生連接為202,202,,且該承載層2〇 基板的介電層之其卜者,然後㈣板及,層封裳 電層21中形成複數第—盲孔21G / 21且該弟-介 端202,202,表面。 ,卩顯露第-電性連接 第2二圖所示’於第一介電層21表面形成-第二介 及5小一 士;姓 中形成後數小面積開口區220 至乂―大面關口區22〇,以顯露部 口區22咖,係對應第—盲^似。,彳 ;大面積開口區220,所顯露之$ — 數介電材凸柱22卜 以層21表面形成複 咖,=中2C=r於該第二介電層22表面及其開口區 孔所"電層21之第一盲孔210,210·及第-盲 第一電性連接端202,202,表面形成一導電層 3,接者於該導電層23表面报士 n 中形成開口區240,240,以顯露部份:^24,且該阻層24 開口區240,240,係分別對應苐層23 '且該阻層 々 一不一 "%層開口區220,220·。 如苐2D圖所示,雷*声报士 咕 M w 电鍍形成一弟-線路層25,係包括 電盲孔机阶’形成於該些第—盲孔训,21〇,中 =連接至第-電性連接# 2G2,2G2,,第—線路以, 场成於小面積開口區22〇之第一介電層Μ表面,以及導 】10279 1] 1334211
體區塊252,,係形成於大 · 221之第一介電層2】 貝幵°° 220’具有介電材凸柱 嵌埋於該導體區塊说中。’亚使該些介電材凸桎頂面22! 帛2E及2E圖所示,移除該阻層^及 ¥电層23,以顯露第—線路層25。 -斤覆I之 如第2F圖所示,於第二 表面形成-線路增層結構26,㈣線路層25 只从丫吟 由於線路增層結構製法為業 二1、 述。該線路增層結構26包括至少-妗声 二電層、疊置於該介電層上之第二線路層犯:二 ΐ形成於該介電層260中之複數第二導電盲孔26卜並中 弟-導電盲孔261係電性連接連接該些第二線路層加, 以及電性連接第二線路層262與第一線路層25,又最外面 之第^線路層262具有複數第二電性連接端263。 、,,復包括於該線路增層結構26表面形成一防烊層27, 亚形成複數開孔270以顯露線路增層結構26之第二電性 接端263。 由於第二介電層22之開口區22〇,中具有複數介電材 凸柱221 ’使該第一線路層25形成於該大面積開口區22〇, 中時,得以縮小電鍍時大面積區22〇,電流密度分佈和小面 積區220電流密度分佈之差異,以避免造成導體區塊25y 厚度不足或中央凹陷,使第一線路層25中大面積之導體區 塊252'具有平整表面’俾使該線路增層結構26中之第二導 電盲孔261電性連接至該導體區塊252·得以避免電性連接 不良的情況。 110279 12 [第一製法實施例] . 請參閲第3A至3D R· 第二實施例製法#明之封裝基板結構的 層及第二線路係為全加成=/不同處在於該第一線路 於該2二ΓΓΓ提供—係如第25圖所示之結構,係 具有複數绫敗ςΛι 圖本化線路層,該圖案化線路層 層%係為t ^ —電性連接端3G2,3G2,,㈣承載 後於哕承載Γ:及多層封裝基板的介電層之其中-者’然 一第二::層30及該圖案化線路層3〇1,3〇2,3〇2,表面形成 亡孔31 ’且於該第—介電層31中形成複數第一 =一八,31〇’以顯露第一電性連接端3〇2,302,表面,並於 弟-二電層3!表面形成一第二介電層32,於第二介電層 中形成複數小面積開吨32〇及至少一大面積開口區 〇以顯露部份第一介電層31纟面,且部份開口區 •’320係對應該第一盲孔31〇,31〇,,並於該大面積開口區 320所顯露之第一介電| 31纟面形成複數介電材凸柱 321’於該第二介電層32表面及其開口區320,320'中、第 一介電層31之第一盲孔310,310,及第一盲孔所顯露之第一 電性連接端302,302,表面形成一導電層33。 請參閱第3B圖’於該導電層33表面電鍍形成一金屬 層 35'。 ««月參閱弟3C及3C’圖,移除該第二介電層32表面上 之導電層33及金屬層35, ’以形成一第一線路層35,係包 括第一導電盲孔351,35Γ,形成於該些第一盲孔310,310, 110279 13 1334211 中並電性連接至第一電性連 〇 在π氺从, 丈佼鵠^2,302,第一線路352, 係形成於小面積開口區32〇 弟)丨私層31表面,以及導 主 係形成於大面積開口區320,之第一介電層31 '面’且使該些介電材凸柱321頂面顯露出導體也. 表面。 弟3D圖’於該第二介電層32及第-線路層35 ^所^ —線路增層結構36,由於線路增層結構製法為業 界所熟知’故不贅述1線路增層結構36包括 介電層剔、至少一第二線路層如及複數第二導電^ 36卜弟二導電盲孔361係電性連接該些第二線路層地, 以及電性連接第二線路層362與第一線路層%,又 之第=線路層362具有複數第二電性連接端363。 復包括於該線路增層結構36表面形成_防焊層p, 並形成複數開孔370以顯露線路增層結構36之第二: 接端363。 毛r王連 同理,於本發明的第二實施例中,由於第二介電芦 之開口區320’中具有複數介電材凸柱321,使該第—曰線路 層35形成於大面積開口區32〇,中時,得以縮小電铲時大 積區320’電流密度分佈和小面積區32〇電流密度=佈之 異,以避免造成導體區塊352,厚度不足或中央凹陷,使 一線路層35中大面積之導體區塊352,具有平整表面,
該線路增層結構36中之第二導電盲孔361電性連接至該曾 體區塊352’得以避免電性連接不良的情況。 X V
[結構實施例] 110279 14 1334211
. 本發明復提供一種封裝基板結構,請參閱第2E,3C 圖’係包括:-承載層2〇,3(),其表面配置—圖案化線路 層,該圖案化線路層具有複數線路2〇1,3〇1及複數第一電 .性連接端202,2〇2,,302,302,; 一第一介電層21,31,係配置 於該承載層20,30及第一電性連接端2〇2,2〇2,,3〇2,3〇2,表 一面’·並具有複數第一盲孔210,21〇,,31〇,31〇|以顯露第一電 性連接端202,202,,302,302,表面;一第二介電層22,32,係 配置於第-介電層21,31表面,並具有複數小面積開口區 220,320及至少一大面積開口區22〇,,32〇,,該些開口區 220’320,220',320’顯露部份第一介電層21,31表面,且部份 開口區 220,320,220’,32〇|係對應第一盲孔21〇,21〇,,31〇, ,又該大面積開口區220,,320'所顯露之第一介電層 21,31表面具有複數介電材凸柱221,321;以及一第一線^ 層25,35,係包括第-導電盲孔251,351,251,,351,,配置於 該些第一盲孔210,210,,310,310,中並電性連接至第一電性 籲連接端202,202’,302,302’,第一線路252,352,係配置於小 面積開口區220,320之第一介電層21,31表面,以及一導 體區塊252,,352·,係配置於大面積開口區22〇,,32〇,之第一 介電層21,31表面。 其中,該承載層20,30係為核心板及多層封裝基板的 介電層之其中一者。 其中’該些介電材凸柱頂面221,321係嵌埋於該導體 區塊252’中(第2Ε圖)及顯露出該導體區塊352,表面(第 圖)之其中一者。 110279 15 1334211 其中,該些介電材凸柱221,32〗係呈陣列佈局,且其 頂面之形狀係為矩形、圓形(圖未示)及任意幾何形狀_ 示)之其中一者。 °
—復包括一線路增層結構26,36 ’係位於該承載層2ι,3ι 及第一線路層25,35表面,該線路增層結構26,36包括至 少:增層介電層260,360、至少一第二線路層262,362及複 數第—導電盲孔261,361,第二導電盲孔261,361係電性連 接該些第二線路層262,362,以及電性連接第二線路層 262,362 與第一線路層 252,352。 復包括一防焊層27,37,係位於該線路增層結構26,36 表2,並具有複數開孔270,370,以顯露線路增層結構26,36 之取外面第二線路層262 362之部份表面,以供做為電性 連接端263,363。 惟以上所述之具體實施例,僅係用以例釋本發明之特 點及功效,而非用以限定本發明之可實施範疇,在未脫離 鲁本,明上揭之精神與技術範疇下,任何運用本發明所揭示 中各而7U成之等效改變及修飾,均仍應為下述之申請專利 範圍所涵蓋。 【圖式簡單說明】 第1Α至1F圖係為習知封裝基板之製法剖視示意圖; 第1F圖係為第1F圖之立體剖視示意圖; 第2A至2F圖係為本發明之第一製法實施例剖視示意 圖; 第2E’圖係為第2E圖之立體剖視示意圖; 16 110279

Claims (1)

  1. 4211 f、申請專利範圍: 1 · 一種封裝基板結構,係包括: 一承載層,其表面配置一圖案化線路層,該 線路層具有複數線路及複數第一電性連接端;乂、卞 -第-介電層’係配置於該承載層及第一電 裢表面,並具有複數第一盲孔以g 面; 4蕗弟—電性連接端表 -第二介電層,係配置於第—介電層表面, 设數小面積開口區及至少一大面積開口區,: 顯露部份第一介電戶表面, 二開 Q m… 開口區係對應第-盲 數介電材凸柱;以及 "電層表面具有複 ;第:線路層,係包括第一導電盲孔,配置於該此 L一J =電性連接至第一電性連接端,第-線路: 係配置於小面積開σ區之第—介電層表面,以及 區塊,係配置於大面積開口區之第一介電層表面。 2如祀圍第1項之結構’其中,該承載層係為核 〜板及^層封裝基板的介電層之其中一者。 3. 如申請專利範圍第μ之結構,其中,該些介電材凸柱 頂面係敗埋於該導體區塊中及顯露出該導體區塊表面 之其中一者。 又 4. 如^請專利範圍第μ之結構,其中,該些介電材凸柱 钰主陣列佈局’且其頂面之形狀係為矩形、圓形 幾何形狀之其中一者。 #心 Π 0279 18 1334211 專利範圍第1項之結構.,復包括-線路增層結 構,係配置於該承载層及第一 έ 弟線路層表面,該線路增層 ; 增層介電層、至少-第二線路層及複數 第一導笔目孔,第-導·雷亡了丨在+ 士 目絲電性連接該些第二線路 層,以及電性連接第二線路層與第一線路声。 6·如申請專利範圍第5項之結構,復包括-防焊層,係配 置於該線路增層处^ ^ 路…構::: 有複數開孔,以顯露線 曰…構之取外面弟二線路層之部份表面 電性連接端。 H文马 1'種封裝基板結構之製法,係包括: 其表面配置一圖案化線路層,該圖 *化線路層具有複數線路及複數第—電 於該承載層及圖案化線路層表面形 一’入· 層,且該第一介電層中形成複數 ^ 第一彳丨电 性連接端表面;4複㈣—盲孔以顯露第-電 於第一介電層表面形成一第二介電層 二形成複數小面積開口區及至少一大面積 孔、路:Ρ伤弟一介電層表面’且部份開口區係對應 ^亚於該大面積開σ區所顯露之第—介電 稷數介電材凸柱; 衣面幵y成 於第二介電層表面及其開口區中、第 -目孔及第-盲孔所顯露之第一電性 = 一導電層; 咬伐鴂表面形成 於該導電層表面形成一阻層,且該阻層形成開口區 110279 19 1334211 以顯露部份之導電層,且哕 . 阻層開口區係對應第二介電 層開口區; 電鍍形成m路層,係包 成於該些第一盲孔中並電性連 逑接至苐一電性連接端,第 一、表路’係形成於小面積開 s , 谓闹口區之第一介電層表面,以 及至少一導體區塊,係形 风於大面積開口區之第一介電 廣表面’並使該些介電材 φ, ,、,R 电材凸柱頂面嵌埋於該導體區塊 丫,以及 移除阻層及其所覆蓋之導電層。 8. 如申請專利範圍第7項之萝 之衣法,其中,該承載層係為核 〜板及多層封裝基板的介電層之其中一者。 9. 如申請專利範圍第7項之製法復包 第—蝻枚麻生 、弟一介電層及 包括=料面M-、祕增層結構,該料增層結構 導電電層、至少一第二線路層及複數第二 Ιίι 電盲孔係電性連接該些第二線路層, 包性連接第二線路層與第一線路層,又 二線路層具有複數第二電性連接端。 弟 1〇.如申凊專利範圍第9項之製法,復包括 構表©形劣„, 1匕括於该線路增層結 1^ ,並形成複數開孔㈣露線路增層 、⑺構之第二電性連接端。 曰層 11.種=裝基板結構之製法,係包括: 幸2供一承載層’其表面配置-圖案化線路層,該圖 -相層具有複數線路及複數第一電性連接端; 於該承載層及圖案化線路層纟面形成一第一介· Π0279 20 層’且該第一介電層中形成複數第_ 性連接端表面; 匕心肩露第一電 於第一介電層表面形成一第—八 層中形成複數小面積開口區及至二介電 顯路部份第一介電層表面,且部份開口區係:::區: 孔,亚於該大面積開σ區所顯露之第二第-盲 複數介電材凸柱; 丨电層表面形成 第-層表面及其開σ區中、第-介電層之 成一導電層;目孔所顯露之第—電性連接端表面形 ^導f層表面電錢形成一金屬層,·以及 移除該第二介電層表面上 成一第一線路層,係包括第—導電=及I屬層,以形 -盲孔中並電性連接至第一::成於該些第 形成於小面積開口區之第一介電線路’係 體區塊,係形成於女^ ^等 使該些介雷^ 區之第一介電層表面,且 12如申咬直〗頂面顯露出該導體區塊表面。 = = U項之製法’其中 核心板及Μ封裝基板的介電層之1卜者 13.如申請專利範圍第u 及第-線路層表面…t 復包括於第二介電層 層結構包括至少—增層線路增Μ構’該線路增 數第二導電盲孔曰二導::、至少-第二線路層及複 路層,以及電性連目孔係電性連接該些第二線 接弟一線路層與第一線路層,又最外 110279 21 丄丄 面之第二線路層具有複數第二連 _ 青專利範圍第U項之製法,復包:於 結構表面形成-防焊層,並形成有複數開切 路增層結構之第二電性連接端。
    110279 22
TW096123666A 2007-06-29 2007-06-29 Package substrate structure and manufacturing method thereof TWI334211B (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW096123666A TWI334211B (en) 2007-06-29 2007-06-29 Package substrate structure and manufacturing method thereof
US12/163,579 US8058566B2 (en) 2007-06-29 2008-06-27 Packaging substrate structure and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW096123666A TWI334211B (en) 2007-06-29 2007-06-29 Package substrate structure and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200901420A TW200901420A (en) 2009-01-01
TWI334211B true TWI334211B (en) 2010-12-01

Family

ID=40159011

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096123666A TWI334211B (en) 2007-06-29 2007-06-29 Package substrate structure and manufacturing method thereof

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8058566B2 (zh)
TW (1) TWI334211B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI405506B (zh) * 2009-09-23 2013-08-11 Unimicron Technology Crop 埋入式電路板結構及其製作方法
KR101086828B1 (ko) * 2009-11-30 2011-11-25 엘지이노텍 주식회사 매립형 인쇄회로기판, 다층 인쇄회로기판 및 이들의 제조방법
US9161454B2 (en) * 2012-12-24 2015-10-13 Unimicron Technology Corp. Electrical device package structure and method of fabricating the same
CN107424973B (zh) * 2016-05-23 2020-01-21 凤凰先驱股份有限公司 封装基板及其制法
TW202106129A (zh) * 2019-03-26 2021-02-01 日商三菱綜合材料股份有限公司 絕緣電路基板
US11315890B2 (en) * 2020-08-11 2022-04-26 Applied Materials, Inc. Methods of forming microvias with reduced diameter
TWI764317B (zh) * 2020-10-13 2022-05-11 旺宏電子股份有限公司 電路板與其製造方法
US11304310B1 (en) 2020-10-13 2022-04-12 Macronix International Co., Ltd. Method of fabricating circuit board

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5869880A (en) * 1995-12-29 1999-02-09 International Business Machines Corporation Structure and fabrication method for stackable, air-gap-containing low epsilon dielectric layers
US6562657B1 (en) * 2000-08-22 2003-05-13 Charles W. C. Lin Semiconductor chip assembly with simultaneously electrolessly plated contact terminal and connection joint
US20020189853A1 (en) * 2001-06-15 2002-12-19 Phoenix Precision Technology Corp. BGA substrate with direct heat dissipating structure
TWI286372B (en) * 2003-08-13 2007-09-01 Phoenix Prec Technology Corp Semiconductor package substrate with protective metal layer on pads formed thereon and method for fabricating the same
TWI251916B (en) * 2003-08-28 2006-03-21 Phoenix Prec Technology Corp Semiconductor assembled heat sink structure for embedding electronic components
TWI260079B (en) * 2004-09-01 2006-08-11 Phoenix Prec Technology Corp Micro-electronic package structure and method for fabricating the same
US7241395B2 (en) * 2004-09-21 2007-07-10 Molecular Imprints, Inc. Reverse tone patterning on surfaces having planarity perturbations
TWI315648B (en) * 2004-11-17 2009-10-01 Phoenix Prec Technology Corp Circuit board structure with embeded adjustable passive components and method for fabricating the same
TWI253714B (en) * 2004-12-21 2006-04-21 Phoenix Prec Technology Corp Method for fabricating a multi-layer circuit board with fine pitch
TWI269423B (en) * 2005-02-02 2006-12-21 Phoenix Prec Technology Corp Substrate assembly with direct electrical connection as a semiconductor package
US7291900B2 (en) * 2005-08-25 2007-11-06 Micron Technology, Inc. Lead frame-based semiconductor device packages incorporating at least one land grid array package
US7539022B2 (en) * 2005-10-04 2009-05-26 Phoenix Precision Technology Corporation Chip embedded packaging structure
TWI292684B (en) * 2006-02-09 2008-01-11 Phoenix Prec Technology Corp Method for fabricating circuit board with conductive structure
TWI294678B (en) * 2006-04-19 2008-03-11 Phoenix Prec Technology Corp A method for manufacturing a coreless package substrate
TWI314031B (en) * 2006-06-01 2009-08-21 Phoenix Prec Technology Corp Stack structure of circuit board with semiconductor component embedded therein
US20080185704A1 (en) * 2007-02-02 2008-08-07 Phoenix Precision Technology Corporation Carrier plate structure havign a chip embedded therein and the manufacturing method of the same

Also Published As

Publication number Publication date
US8058566B2 (en) 2011-11-15
TW200901420A (en) 2009-01-01
US20090000813A1 (en) 2009-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI334211B (en) Package substrate structure and manufacturing method thereof
CN100346678C (zh) 具有增强载流量的多层电路板
TW200913804A (en) Wiring substrate and the method of manufacturing the same
CN107039144A (zh) 电感器部件
TW201405672A (zh) 具有一體化階梯狀堆疊結構的多層電子結構
US10388451B2 (en) Inductor component and method for manufacturing inductor component
TWI283152B (en) Structure of circuit board and method for fabricating the same
TW200913842A (en) Multi-layer circuit substrate and method having improved transmission line integrity and increased routing density
JPH03270092A (ja) 多層配線基板の形成方法
TW200922413A (en) Circuit board and conductive through hole structure thereof
TWI335785B (en) Circuit board structure and fabrication method thereof
TW201010550A (en) Printed circuit board and fabrication method thereof
TW200832656A (en) Buried electronic device structure and methods for forming the same
TW201002166A (en) Printed circuit board and fabrication method thereof
TW200938021A (en) Circuit board and manufacturing method thereof
CN103188867B (zh) 具有新型传输线的多层电子结构
TWI331488B (en) Printed circuit board and fabrication method thereof
JP6804115B1 (ja) プリント基板
TW200945519A (en) Substrate structure having fine circuits and manufacturing method thereof
TW200539772A (en) Circuit board with multi circuit layers and method for fabricating the same
TW201241979A (en) Package substrate and fabrication method thereof
TWI357292B (en) Multilayer circuit board with embedded electronic
TW202406427A (zh) 線路板結構及其製作方法
KR101128584B1 (ko) 반도체 패키지용 코어리스 기판 제조 방법과 이를 이용한 코어리스 기판
WO2017199747A1 (ja) 多層基板及び多層基板の製造方法