TW516055B - Niobium-based capacitor anode - Google Patents
Niobium-based capacitor anode Download PDFInfo
- Publication number
- TW516055B TW516055B TW090120570A TW90120570A TW516055B TW 516055 B TW516055 B TW 516055B TW 090120570 A TW090120570 A TW 090120570A TW 90120570 A TW90120570 A TW 90120570A TW 516055 B TW516055 B TW 516055B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- anode
- niobium
- electrolyte
- layer
- barrier layer
- Prior art date
Links
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- 239000010955 niobium Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 14
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 25
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 11
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 6
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 5
- ZMTHGQJNXNDFKR-UHFFFAOYSA-N [Sm].[Nb] Chemical compound [Sm].[Nb] ZMTHGQJNXNDFKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 210000000952 spleen Anatomy 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 5
- 229940021013 electrolyte solution Drugs 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- -1 organic acid anion Chemical class 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 3
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- OSYUGTCJVMTNTO-UHFFFAOYSA-D oxalate;tantalum(5+) Chemical compound [Ta+5].[Ta+5].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O OSYUGTCJVMTNTO-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 244000025254 Cannabis sativa Species 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROSDCCJGGBNDNL-UHFFFAOYSA-N [Ta].[Pb] Chemical compound [Ta].[Pb] ROSDCCJGGBNDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- JQMVGTOAKFLMOU-UHFFFAOYSA-N pentaoxane Chemical compound C1OOOOO1 JQMVGTOAKFLMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- IQFNDONPIKTUQM-UHFFFAOYSA-N tantalum hydrate Chemical compound O.[Ta] IQFNDONPIKTUQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/0029—Processes of manufacture
- H01G9/0032—Processes of manufacture formation of the dielectric layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/042—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by the material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Secondary Cells (AREA)
Description
516055 A7 B7 五、發明說明(1 ) 10 15 本發明係關於用於電解電容器之铌基質電容器陽極, 且亦關於產生此種陽極之程序。 在文獻中,特別是土酸金屬銳及组被描述為產生此種 陽極及電容器之起始材料。陽極之產生係經由燒結精細分 割後的金屬粉以產生具有大表面面積之結構,氧化燒結體 的表面以產生非導電之絕緣層,以及施加一層二氧化錳或 導電聚合物形式的極板(eountereiectr〇(je)。 迄今祇有钽粉達到電容器生產之工業標準。 此種電容器之基本特定性質係由特定表面積,形成絕 緣層之氧化層厚度d及相對介電常數&所決定。電容c係 由下列計算而得: C = ε〇 εΓ ·今 α (I) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 其中 ε〇 = 0.885 · 10'nF/m (II) 訂---------. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 代表介電場常數,而A代表電容器表面。 電容器的絕緣氧化層,傳統上,係藉由將燒結之銳或 组結構(其形成電容器陽極)浸於電解質中並施加電場而電 解地產生(傳統的電解質為稀磷酸)(9氧化層的厚度與電解 電壓成正比,其係則刀始電流關施加,朗電ς電流降 90349a 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 91. 1. 2,〇〇〇 516055 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(2) 為止。傳統上’氧化層係在電容器之欲操作 1.5到4倍之電解電壓(形成電壓)產生。 之 傳統上,五氧倾之相對介電常數為27,而 之介電常數為41。在形成期間,對於组氧化層成長" 5約為形成電遷,而對於_37nm/v,^2 的較高相對介電常數被氧化層的較大厚度所抵匕 形成電壓而言)。 電容器係藉由使用較細的粉來產生燒結結構並減低燒 結溫度以增加特定表面積而達成小型化。 絕緣氧化層所需要的厚度限制了電容器小型化的程 度,即限制比電容之增加,這是因為電流傳導之足夠導電 相位及結果的歐姆熱限制,必然存在於氧化之燒結結 内。結果,氧化趨勢會隨著電容器愈來愈微小化而增加。 這特別出現在鈮電容器上,與鈕電容器比較下,其在相同 的形成電壓下形成較厚的絕緣氧化層。 現已發現,假使在形成期間,使用一電解質,其包含 多牙配位基(multidentate)有機酸陰離子(其與鈮形成穩定的 錯合物)’則電容器性質可被有利地改變。適當的用於形 成電解質之有機酸較佳如下列:草酸、乳酸、檸檬酸、酒 石酸、苯二曱酸,較佳的酸陰離子為草酸陰離子。 10 15 20 概述 本發明係關於具有銳基質阻擒層之陽極,包含(a)一规 金屬核心,(b) —導電的錕次氧化層,及(c)包含五氧化說 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) Γ 请先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 91. 1. 2,000 516055 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(3) 之介電阻擋層。本發明亦關於一製造電容器之陽極之程 序,包含燒結錕金屬粉及電解地產生一介電阻撞 : 體的表面’其中,阻標層係由包含陰離子之有機二: 電解質所產生。本發明之此等及其他特徵及益處可由下列 的說明及申請專利範圍而更易了解。 本發明係關於具有鈮基質阻擋層之陽極,包含(a)鈮金 屬核心’⑹導電銳次氧化層,及⑷包含五氧化銳之介電 10阻擔層。本發明亦關於一用於製造電容器陽極之程序’包 含燒結铌金屬粉及電解地在燒結體表面產生介電阻擔層, 其中阻擔層係由包含陰離子之有機豸溶液之電解質所產 生。 、 電解質可包含有機酸於溶液中。較佳是使用可溶於水 15之有機酸鹽。適用的陽離子為那些不會有害地影響氧化層 且其與對應酸陰離子之錯合物形成常數較具有該酸陰離子 之,者為低者,結果,銳離子可由對應金屬離子置換。較 佳是那些在#入氧化層時能有利地影響電容陳質之陽離 子。尤佳是鈕陽離子。 2〇 4寺佳的形成電解質係草酸钽之溶液。本發明使用草酸 组之範例描述於下。 ^根據本發明之形成程序,與傳統形成於稀釋磷酸者比 較下’達成電容增加約·之電容器^特定漏電流係低於 0.5 nA/pFV 〇 91· 1· 2,000 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 516055 A7 _________ B7 五、發明說明(4) 發現的是,電容增加效應愈大,則在形成期間之電解 質之導電率愈高。 電解質濃度較佳被調整,使得電解質之導電率約h5 至25 mS/cm,尤佳約5至20 mS/cm,特佳約g至18 5 mS/cm。在一實施例中,電解質之導電率約〇15至% mS/cm ° 在形成期間’較佳限制初始形成電流在至15〇 mA/m2(陽極面積)。關於此點,被限制到較低值之形成電 流較佳用在具有較低導電率之電解質中。在較高電解質導 10電率之情況下,形成電流可以設定在較高範圍。 根據本發明之電容增加效應係歸功於在形成期間自陽 極結構移除銳特定表面。在陽極結構之些許wt〇/❶區中之銳 成份係在形成後被發現在形成電解質中。典型地,在形成 期間之銳分解係陽極結構之3至5wt%,有時高達 15 lOwt%。明顯的是,表面移除係以一特定方式發生,使得 有效電容區域較在稀釋磷酸中形成者增加。在傳統的形成 於磷酸期間,洞孔被密封或堵住,這是因為氧化層之形成 而造成之體積增加,使得有效電容器表面積被減少。明顯 的是,有機酸陰離子精確地破壞該限制特別窄洞孔通道之 20 表面區域。 本發明之另一有利效應為氧化層以兩層形成:一外部 五氧化物層,其形成絕緣層,及一内部,導電次氧化物層, 位於五氧化物層及金屬核心之間。斷口(丘acture(j)之陽極之 斷口小面之SEM微影顯示非常厚之氧化物層,其對應5 nm/v -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 91. 1. 2,000 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) *tT<»J·11111111 516055 A7 B7 五、發明說明(5) 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 形成電壓之層厚度生長或更多,在某些情況下,祇有很小 的金屬核心被包圍。在光顯微鏡下面顏色差(紫/綠)顯示氧 化物層包含兩個相鄰的次層。次氧化物層作為阻擋氧擴散 出五氧化物層之阻擋層並因此使陽極長期穩定。 本發明之一益處為:電解質溶液之陽離子被小量沈 積在陽極表面,而且由於擴散動力學,遂以一穩定方式被 併入氧化物層,與在氧化期間擴散至陽極之氧及擴散至陽 極表面之紐爭。因此,科成敎:欠氧㈣之组係適用 於穩定五氧化物層。因為鈮較鈕具有較高之位置替換機率 (參見,例如,j· perriere,L Siejka,j Electr〇chem s〇c 1983,130(6),1260-1273),所以鈮在氧化期間能夠“跳 過表面沈積之鈕,結果,鈕並不在氧化物層生長過程中 向内移動。已在五氧化物層内累積並使其穩定。在根據本 發明形成之陽極中,鈕含量約為15〇〇至1〇〇〇〇ppm,主要 在3000至6000 ppm之間,相對於陽極,鈕係集中在五氧 化物層。本發明之一些電容增加效應係由於對五氧化物層 厚度生長之良好效應,且較佳是介電常數。 本發明亦關於用於鈮基質電容器之具有阻擋層之陽 極,包含金屬鈮核心,導電次氧化物鈮層及五氧化鈮之介 電阻播層。較佳疋,次氣化物銳層之厚度至少約為 30nm ’尤佳是至少約50nm。 根據本發明之陽極尤佳具有包含約15〇〇至5〇〇〇卯瓜 之鈕之五氧化物阻擋層(相對於陽極)。在一實施例中, 根據本發明之陽極在介電阻擋層中之鈕含量約為15〇〇至 -7- 私紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 91. 1. 2,000 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 516055 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(6) 12,000 ppm 〇 本發明將以下列範例進一步加以描述,其中各部份及 百分比皆為重量上的百分比,除非另有指示。 5 gM a)鈮粉之製造 鈮粉被使用,其係根據本申請人之已公開提議(DE 198 31 280 A1)而產生。該粉具有下列外物之含量(ppm):
Mg : 230 10 0 : 15425 Η ·· 405 Ν : 111 C : 31 Fe : 3 15 Cr : 2 Ni ·· 2 Ta : 78 再者,有下列之物理性質: BET 表面積 4.61 m2/g 20 FSSS粒子大小 4.2 μιη 整體密度 17.9 g/inch3 流動性 21 s 由Mastersizer決定之粒子大小散佈: D10 : 78.5 μιη 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 91. 1. 2,000 I--I--I I I I I - - - ----I ^ · I------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 516055 A7 __B7_五、發明說明(7 ) D50 · 178.4 μπι D90 : 288.8 μπι 及由下決定之初級粒子大小: SEM顯微照片約 550 nm 5 b) Nb陽極之製造 陽極之製造係自適當模中之粉,配合引入具有擠壓密度 2.9 g/cm3之钽引線,且在1125°C之溫度下燒結20分 鐘0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 9 *- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 91. 1. 2,000 516055 A7 __B7 五 、發明說明(Ο 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表1概述關於範例1-16之顯示資訊 形成電解質溶液 電容器性質 貫驗編號 電解質 Ta, wt% 〇2〇4Z* ,wt% 導電率 Ta content ppm CV/g, μ_ Ir/CV, ηΑ/μΡ V 1 0.1% H3P〇4 - 2.53 n.d. 80 K 0.23 2 0.25% H3P〇4丨 - 4.58 n.d. 87 K 0.44 3 水中乏' 草醵…‘ 0.10 2.86 n.d. 92 K 0.75 4 ’水中1 草酸 0.20 5.53 n.d. 97 K 0.83 5 永中之i 蕈酸钽 0.05 0.05 1.44 n.d. 87 K 0.26 6 水中之! 1草酸组 0.1 0.07 1.77 13500 89 K 0.5 7 (λ1%Η3Ρ〇4 中之草酸 0.1 0.07 3.83 6700 90 K 0.25 8 永中之: 草酸组‘ 0.3 ,0.21 4.86 9800 103 K 0.51 9 水中之〗 蕈酸钽 0.4 0.29 6.36 3400 88 K 0.64 10 水申之 草酸组 0.4 0.34 7.43 2800 94 K 0.48 11 水中之 龛酸钽 0.5 0.35 7.8 2700 108 K 0.43 12 水中之, 草酸钽 0.4 0.39 8.5 3100 92 K 0.57 13 永中之, 草酸鈕 0.75 0.51 10.22 4600 115K 0.30 14 水中之 拿酸钽 0.75 0.53 11.41 3300 123 K 0.48 15 永中之: 拿酸钽 1.25 0.84 16.63 5300 111 K 0.49 16 水中之# 箪酸組 1 1 22.8 4800 141 K 1.35 n.d.=未決定 -10- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .f 訂---------線一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 91. 1. 2,000 516055 A7 B7 五、發明説明(9 ) C)陽極化 為了在燒結後之陽極上產生絕緣氧化物層,燒結後之陽 極被浸入一電解質溶液,且在限制電流至1〇〇 mA/g陽 極重量的同時,在80°C溫度下陽極化至40V之電壓。 5 當4〇V之電壓被達到時,這個電壓再維持2小時,在 此過程中,電流位準降低至〇。 電解質溶液之組合如表丄所列,電導率亦示於其中。 10 15 d)電氣性質之測量 電今率在120 Hz,20 mV之交流電壓,及15 v之正 流電壓偏壓下’以—已知方式測量。漏電流由在28 v 之直流電壓下之電流測量決定。測量結果係列在表工 中0 雖然本發明係由較佳實施例詳細描述,但是亦可有其他 ㈣化。因此’所㈣請專利範圍之精神及 於以上所描述者。 不限 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} .# 訂: -線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 鮮(CNS)A4 規格(210 X 297公釐) 00
Claims (1)
- Μ 6055申請專利範圍 一種陽極,包含: 心 ίο 15 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 20 (b) 導電次氧化物銳層,及 (c) 包3五氧化銳之介電阻擋層 2.如申請專利範圍第1項之陽極,: 3 Γ申對於陽極約為咖至⑽叫脾。 .:了=:利乾圍第i項之陽極’其中次氧化物 至少約為50 nm。 X 4· -種麟製造電容器之陽極之程序,包含燒結銳金屬粉 且在燒結體之表面電解地產生介電阻擋層,其中,阻擒 層係由一電解質產生,此電解質包含含有陰離子之有: 酸之溶液。 5·如申請專利範圍第4項之程序,其中電解質包含草酸叙 溶液。 6·如申請專利範圍第4項之程序,其中電解質之導電率約 為 〇·15 至 25 mS/cm。 7·如申明專利範圍第6項之程序,其中電解質之導電率至 少約為5 mS/cm。 8. —種電容器,包含一陽極,此陽極包含⑷鈮金屬核 心,(b)導電次氧化物鈮層及(c)五氧化鈮之介電阻擋 層0 其中陽極於介電阻擒層 ---------------------訂---------$ 一^ f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} -12 90349b 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐 90· 11. 2,000
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10041901A DE10041901A1 (de) | 2000-08-25 | 2000-08-25 | Kondensatoranode auf Basis Niob |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW516055B true TW516055B (en) | 2003-01-01 |
Family
ID=7653831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW090120570A TW516055B (en) | 2000-08-25 | 2001-08-22 | Niobium-based capacitor anode |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6762927B2 (zh) |
| EP (1) | EP1314175B2 (zh) |
| JP (1) | JP2004507100A (zh) |
| KR (2) | KR100878065B1 (zh) |
| CN (1) | CN100354998C (zh) |
| AU (2) | AU9377201A (zh) |
| BR (1) | BR0113468A (zh) |
| CA (1) | CA2420249C (zh) |
| CZ (1) | CZ301766B6 (zh) |
| DE (2) | DE10041901A1 (zh) |
| IL (1) | IL154331A0 (zh) |
| MX (1) | MXPA03001602A (zh) |
| PT (1) | PT1314175E (zh) |
| RU (1) | RU2284069C2 (zh) |
| SV (1) | SV2002000614A (zh) |
| TW (1) | TW516055B (zh) |
| WO (1) | WO2002017338A1 (zh) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004143477A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Cabot Supermetal Kk | ニオブ粉末およびその製造方法、並びにそれを用いた固体電解コンデンサ |
| US7445679B2 (en) * | 2003-05-16 | 2008-11-04 | Cabot Corporation | Controlled oxygen addition for metal material |
| DE502004011120D1 (de) * | 2003-07-15 | 2010-06-17 | Starck H C Gmbh | Niobsuboxidpulver |
| DE10347702B4 (de) * | 2003-10-14 | 2007-03-29 | H.C. Starck Gmbh | Sinterkörper auf Basis Niobsuboxid |
| DE602006005483D1 (de) * | 2005-06-03 | 2009-04-16 | Starck H C Gmbh | Niobiumsuboxide |
| US7880283B2 (en) * | 2006-04-25 | 2011-02-01 | International Rectifier Corporation | High reliability power module |
| DE102008026304A1 (de) * | 2008-06-02 | 2009-12-03 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren mit niedrigem Leckstrom |
| DE102011109756A1 (de) * | 2011-08-09 | 2013-02-14 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren aus Ventilmetallpulvern |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3597664A (en) * | 1969-12-05 | 1971-08-03 | Norton Co | Niobium-zirconium-titanium capacitor electrode |
| US4805074A (en) * | 1987-03-20 | 1989-02-14 | Nitsuko Corporation | Solid electrolytic capacitor, and method of manufacturing same |
| JP3019326B2 (ja) * | 1989-06-30 | 2000-03-13 | 松下電器産業株式会社 | リチウム二次電池 |
| RU2033652C1 (ru) * | 1990-06-12 | 1995-04-20 | Производственное объединение "Оксид" | Способ изготовления оксидно-полупроводниковых конденсаторов |
| US5448447A (en) * | 1993-04-26 | 1995-09-05 | Cabot Corporation | Process for making an improved tantalum powder and high capacitance low leakage electrode made therefrom |
| JPH09260221A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-10-03 | Hitachi Aic Inc | 焼結型コンデンサの製造方法および陽極切断装置 |
| US6165623A (en) * | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Cabot Corporation | Niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
| JP3254163B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2002-02-04 | 昭和電工株式会社 | コンデンサ |
| US6051044A (en) * | 1998-05-04 | 2000-04-18 | Cabot Corporation | Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
| DE19831280A1 (de) | 1998-07-13 | 2000-01-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Verfahren zur Herstellung von Erdsäuremetallpulvern, insbesondere Niobpulvern |
| JP3196832B2 (ja) * | 1998-05-15 | 2001-08-06 | 日本電気株式会社 | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
| US6053134A (en) | 1998-08-28 | 2000-04-25 | Linebarger; Terry Glyn | Cam operating system |
| US6462934B2 (en) * | 1998-09-16 | 2002-10-08 | Cabot Corporation | Methods to partially reduce a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides |
| US6322912B1 (en) * | 1998-09-16 | 2001-11-27 | Cabot Corporation | Electrolytic capacitor anode of valve metal oxide |
| US6416730B1 (en) * | 1998-09-16 | 2002-07-09 | Cabot Corporation | Methods to partially reduce a niobium metal oxide oxygen reduced niobium oxides |
| DE19847012A1 (de) * | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung |
| JP2000195757A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Hitachi Aic Inc | 固体電解コンデンサおよびその焼結体の製造方法 |
| AU2002218511A1 (en) * | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Showa Denko K K | Niobium powder for capacitor, sintered body thereof and capacitor using the sintered body |
-
2000
- 2000-08-25 DE DE10041901A patent/DE10041901A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-08-14 IL IL15433101A patent/IL154331A0/xx not_active IP Right Cessation
- 2001-08-14 DE DE50113014T patent/DE50113014D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-14 EP EP01974185A patent/EP1314175B2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-14 AU AU9377201A patent/AU9377201A/xx active Pending
- 2001-08-14 MX MXPA03001602A patent/MXPA03001602A/es active IP Right Grant
- 2001-08-14 JP JP2002521315A patent/JP2004507100A/ja active Pending
- 2001-08-14 KR KR1020037002667A patent/KR100878065B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-14 RU RU2003108257/09A patent/RU2284069C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2001-08-14 PT PT01974185T patent/PT1314175E/pt unknown
- 2001-08-14 CZ CZ20030546A patent/CZ301766B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2001-08-14 CN CNB01817809XA patent/CN100354998C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-14 BR BR0113468-0A patent/BR0113468A/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-08-14 KR KR1020087021416A patent/KR20080083368A/ko not_active Ceased
- 2001-08-14 CA CA2420249A patent/CA2420249C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-14 AU AU2001293772A patent/AU2001293772B2/en not_active Ceased
- 2001-08-14 WO PCT/EP2001/009373 patent/WO2002017338A1/de not_active Ceased
- 2001-08-22 TW TW090120570A patent/TW516055B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-08-23 US US09/935,987 patent/US6762927B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-24 SV SV2001000614A patent/SV2002000614A/es unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2284069C2 (ru) | 2006-09-20 |
| CA2420249A1 (en) | 2003-02-21 |
| KR20030027075A (ko) | 2003-04-03 |
| US20020080552A1 (en) | 2002-06-27 |
| CZ301766B6 (cs) | 2010-06-16 |
| CN1471716A (zh) | 2004-01-28 |
| JP2004507100A (ja) | 2004-03-04 |
| EP1314175B1 (de) | 2007-09-12 |
| CZ2003546A3 (cs) | 2003-05-14 |
| BR0113468A (pt) | 2003-07-15 |
| CN100354998C (zh) | 2007-12-12 |
| US6762927B2 (en) | 2004-07-13 |
| PT1314175E (pt) | 2007-10-23 |
| AU9377201A (en) | 2002-03-04 |
| SV2002000614A (es) | 2002-10-24 |
| EP1314175B2 (de) | 2012-02-08 |
| CA2420249C (en) | 2011-06-21 |
| KR20080083368A (ko) | 2008-09-17 |
| MXPA03001602A (es) | 2003-09-10 |
| AU2001293772B2 (en) | 2006-08-17 |
| DE50113014D1 (de) | 2007-10-25 |
| DE10041901A1 (de) | 2002-03-07 |
| WO2002017338A1 (de) | 2002-02-28 |
| KR100878065B1 (ko) | 2009-01-13 |
| IL154331A0 (en) | 2003-09-17 |
| EP1314175A1 (de) | 2003-05-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4275187B2 (ja) | 電解コンデンサ | |
| US6430026B1 (en) | Electrode material for capacitors and capacitor using the same | |
| TW516055B (en) | Niobium-based capacitor anode | |
| JP2004349658A (ja) | 電解コンデンサ | |
| CN105632766A (zh) | 植入式医疗器械用湿式电解电容器 | |
| WO2003042425A1 (fr) | Film d'oxyde de titane composite, procede de production associe et condensateur electrolytique de titane | |
| JPWO2013186970A1 (ja) | コンデンサ素子およびその製造方法 | |
| TW201212073A (en) | Method for manufacturing electrode structure body, electrode structure body and capacitor | |
| JP4454526B2 (ja) | 固体電解コンデンサおよびその製造方法 | |
| US9704652B2 (en) | Method for manufacturing tungsten-based capacitor element | |
| WO2014199770A1 (ja) | コンデンサ用電極と該コンデンサ用電極の製造方法、及びコンデンサ素子 | |
| JPH079870B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法 | |
| JP6908503B2 (ja) | 電解コンデンサ | |
| KR101160907B1 (ko) | 음극전기도금과 양극산화에 의해 복합 산화물 유전체가 형성된 알루미늄 박막의 제조방법 | |
| JP5099831B2 (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JPWO2007004555A1 (ja) | 固体電解コンデンサ素子及びその製造方法 | |
| JP3218818B2 (ja) | 固体電解コンデンサおよびその製造方法 | |
| JP2008022041A (ja) | 電解コンデンサ | |
| JP2010174266A (ja) | 電解コンデンサ用陰極箔の製造方法および電解コンデンサ用陰極箔 | |
| JPH08134695A (ja) | 高誘電率複合酸化皮膜およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |