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TW201815909A - 低光澤之聚醯亞胺膜及其製造方法 - Google Patents

低光澤之聚醯亞胺膜及其製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明係提供一種低光澤之聚醯亞胺膜及其製造方法,其包括有提供一二胺單體與二酐單體進行聚合之聚醯胺酸及溶劑,以形成一聚醯亞胺前驅體溶液;將該聚醯亞胺前驅體溶液形成於一載體上,以形成一聚醯亞胺濕膜;將該聚醯亞胺濕膜在100℃以上,壓力1kg以上之壓花滾輪上輾壓,使其表面形成有規則之凹凸形狀;及將該聚醯亞胺濕膜進行高溫烘烤,以形成一聚醯亞胺膜。該聚醯亞胺膜包括於其表面形成規則之凹凸形狀;及一消光劑,其係添加於該聚醯亞胺膜內,使該聚醯亞胺膜具有小於60度之光澤值。

Description

低光澤之聚醯亞胺膜及其製造方法
本發明係關於一種低光澤之聚醯亞胺膜之製造方法,特別係指一種以壓花滾輪輾壓方式於聚醯亞胺濕膜上形成凹凸表面,再行加熱乾燥後成為低光澤之聚醯亞胺膜者。
可撓性銅箔積層板(Flexible copper clad laminate,FCCL)係廣泛應用於電子產業中作為電路基板(PCB),FCCL除了具有輕、薄及可撓的優點外,用聚醯亞胺膜還具有電性能及熱性能優良的特點外,其較低的介電常數(Dk)性,使得電信號得到快速的傳遞,良好的熱性能,可使組件易於降溫,較高的玻璃化溫度(Tg),可使組件在較高的溫度下良好運行。
然而,聚醯亞胺膜通常具有高表面平坦度,使得大多數的入射光線被反射而產生高光澤度。又,高光澤度的膜面可能會造成視覺上不舒適或長時間觀看時容易使得眼睛疲勞。尤其,具有顏色的高光澤度聚醯亞胺膜,例如:黑色、白色、藍色、紅色等聚醯亞胺薄膜,照射於其表面所產生的大量反射光在視覺上更為顯著。另外,低透光性及低光澤度PI膜常用於軟性電路板(flexible printed circuit boards)的基材及覆蓋層(coverlay)等,低透光性係用以遮蓋電路板上的電路設計,防止電路板上的線路被抄襲,此等軟性電路板廣泛應用於3C產品、光學鏡頭模組、LCD模組等。低 光澤度可使元件外觀更具有質感與美觀。
一種降低聚醯亞胺膜光澤度之方法,係添加聚醯亞胺有機粒子作為消光劑,有增加材料成本的問題之外,添加大量消光劑又會導致聚醯亞胺膜材本身性質易脆裂,為了減少成本、又不會降低聚醯亞胺膜材本身的機械強度實為業界思考的問題。
本發明係提供一種低光澤度之聚醯亞胺膜製造方法,其包括有提供一二胺單體與二酐單體進行聚合之聚醯胺酸及溶劑,以形成一聚醯亞胺前驅體溶液;將該聚醯亞胺前驅體溶液塗佈於一載體上,以形成一聚醯亞胺濕膜;將該聚醯亞胺濕膜在100℃以上,壓力1kg以上之壓花滾輪上輾壓,使其表面形成有凹凸形狀;及將該聚醯亞胺濕膜進行高溫烘烤,以形成一聚醯亞胺膜。該聚醯亞胺膜包括於表面形成有規則之凹凸形狀;及一消光劑,其係添加於該聚醯亞胺膜內,使該聚醯亞胺膜具有小於60度之光澤值。
10‧‧‧載體
12‧‧‧聚醯亞胺濕膜
14‧‧‧壓花滾輪
16‧‧‧凹凸形狀
18‧‧‧圖騰
20‧‧‧聚醯亞胺膜
第1圖係本發明低光擇之聚醯亞胺膜製造方法之步驟圖。
第2圖係本發明可離型之軟性基板製造方法的第一示意圖。
第3圖係本發明可離型之軟性基板製造方法的第二示意圖。
第4圖係本發明可離型之軟性基板製造方法的第三示意圖。
請參閱第1,本發明低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,其包括有下列步驟。
提供一二胺單體與二酐單體進行聚合之聚醯胺酸及溶劑溶液(S1),該溶劑含量為20-50%,於實施例中,該二胺單體可為4,4'-二胺基二苯醚(4,4'-oxydianiline(4,4'-ODA))、對苯二胺(phenylenediamine(p-PDA))、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺(2,2'-Bis(trifluoromethyl)benzidine(TFMB))、1,3-雙(4'-胺基苯氧基)苯(1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene(TPER))、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯(1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene(TPEQ))、4,4’-二胺基-2,2’-二甲基-1,1’-聯苯(2,2'-dimethyl[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamine(m-TB-HG))、1,3-雙(3-胺基苯氧基)苯(1,3’-Bis(3-aminophenoxy)benzene(APBN))、3,5-二胺基三氟甲苯(3,5-Diaminobenzotrifluoride(DABTF))、2,2'-雙[4-(4-胺基苯氧基苯基)]丙烷(2,2'-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane(BAPP))、6-胺基-2-(4-胺基苯基)-苯并噁唑(6-amino-2-(4-aminophenyl)benzoxazole(6PBOA))、5-胺基-2-(4-胺基苯基)-苯并噁唑(5-amino-2-(4-aminophenyl)benzoxazole(5PBOA))等,可單獨使用或組合使用。
於實施例中,該二酐單體可為3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酸酐(3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride(BPDA))、2,2-雙[4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酸酐(2,2-bis[4-(3,4dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride(BPADA))、均苯四甲酸二酸酐(pyromellitic dianhydride(PMDA))、4,4'-(六氟異丙烯)二酞酸酐(2,2'-Bis-(3,4-Dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride(6FDA))、二苯醚四甲酸二酸酐(4,4-Oxydiphthalic anhydride(ODPA))、苯酮四羧酸二酸酐(Benzophenonetetracarboxylic dianhydride(BTDA))、3,3',4,4'-二環己基四甲酸二酐(3,3',4,4'-dicyclohexyltetracarboxylic acid dianhydride(HBPDA)等,可單獨使用或組合使用。
聚醯亞胺前驅體溶液亦可添加無機消光劑,如氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、硫酸鋇、二氧化鈦等,或有機消光劑,如聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、環氧樹脂等,及黑色顏料,如碳黑、鈦黑、骨炭(bone black)、花青黑(cyanine black)、乙炔黑、燈黑、石墨、鐵黑、苯胺黑、花菁黑等,可單獨使用或組合使用。
請配合參閱第2-4圖,將該聚醯亞胺前驅體溶塗佈於一載體10上(S2),如鋼帶,以形成一聚醯亞胺濕膜12。
將聚醯亞胺濕膜12自載體10上剝離後,經過具有凹凸形狀及圖騰之壓花滾輪14輾壓(S3),使聚醯亞胺濕膜12表面形成有凹凸形狀16及圖騰18。
將該輾壓後之聚醯亞胺濕膜進行加熱烘烤(S4),以形成具有凹凸形狀16及圖騰18之聚醯亞胺膜20,如是,可有效降低聚醯亞胺膜20之光澤度,使聚醯亞胺膜20具有60度以下之光澤值。
以下實施例詳述本發明。
聚醯亞胺前驅體溶液製備
將二胺單體與二酐單體在溶劑下進行聚合,以形成聚醯胺酸,以形成聚醯亞胺前驅體溶液。
實施例1
將上述具有20%溶劑含量之聚醯亞胺前驅體溶液與6wt%含量之聚醯亞胺粉體之消光劑混合,將其塗佈於鋼帶上以形成聚醯亞胺濕膜,將聚醯亞胺濕膜自鋼帶上剝離後經過具有凹凸面之壓花滾輪輾壓,該壓花滾輪之溫度為100℃,壓花滾輪壓力為1KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為55GU。
<實施例2>
重複實施例1之步驟,溶劑含量20%,該壓花滾輪之溫度為140℃,壓花滾輪壓力為1KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為52GU。
<實施例3>
重複實施例1之步驟,溶劑含量20%,該壓花滾輪之溫度為180℃,壓花滾輪壓力為1KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為50GU。
<實施例4>
重複實施例1之步驟,溶劑含量20%,該壓花滾輪之溫度為250℃,壓花滾輪壓力為10KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為17GU。
<實施例5>
重複實施例1之步驟,溶劑含量50%,該壓花滾輪之溫度為100℃,壓花滾輪壓力為1KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為53GU。
<實施例6>
重複實施例1之步驟,溶劑含量50%,該壓花滾輪之溫度為140℃,壓花滾輪壓力為1KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為49GU。
<實施例7>
重複實施例1之步驟,溶劑含量50%,該壓花滾輪之溫度為180℃,壓花滾輪壓力為1KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為45GU。
<實施例8>
重複實施例1之步驟,溶劑含量50%,該壓花滾輪之溫度為250℃,壓花滾輪壓力為10KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為12GU。
比較例1
重複實施例1之步驟,溶劑含量20%,該壓花滾輪之溫度為90℃,壓花滾輪壓力為0.8KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為85GU。
比較例2
重複實施例1之步驟,溶劑含量50%,該壓花滾輪之溫度為180℃,壓花滾輪壓力為0.8KG,再經過加熱烘烤,所得之聚醯亞胺膜光澤度值為80GU。
如上述之實施例與比較例,本發明係在溫度160-190℃,壓力在4-8Kg為較佳操作條件。
60度光澤度值測試
以手持式光澤度計(型號為Micro Tri Gloss-BYK Gardner)進行檢測,取3個獨立測量值之平均值。
比較表
上述特定實施例之內容係為了詳細說明本發明,然而,該等實施例係僅用於說明,並非意欲限制本發明。熟習本領域之技藝者可理解,在不悖離後附申請專利範圍所界定之範疇下針對本發明所進行之各種變化或修改係落入本發明之一部分。

Claims (10)

  1. 一種低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,係包括:提供一二胺單體與二酐單體在溶劑下進行聚合,以形成一聚醯亞胺前驅體溶液;將該聚醯亞胺前驅體溶液形成於一載體上,以形成一聚醯亞胺濕膜;將該聚醯亞胺濕膜在溫度100℃以上,壓力1kg以上之壓花滾輪上輾壓,使其表面形成有凹凸形狀;及將該聚醯亞胺濕膜進行高溫烘烤,以形成一聚醯亞胺膜。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,其中,該聚醯胺酸係由選自4,4'-二胺基二苯醚(4,4'-ODA)、對苯二胺(p-PDA)、2,2’-雙(三氟甲基)聯苯胺(TFMB)所成群組之二胺及選自由均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐(BPDA)、2,2-雙[4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐(BPADA)所成群組之二酐反應而得。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,其中,該壓輪係在溫度160-190℃,壓力為4-8KG操作為較佳者。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,其中,其中,該聚醯亞胺前驅體溶液之溶劑含量為20-50%。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,其中,該聚醯亞胺前驅體溶液更包括有消光劑,使該聚醯亞胺膜具有60度以下之光澤值。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,其中,該 聚醯亞胺前驅體更包括有黑色顏料,如碳黑、鈦黑、骨炭(bone black)、花青黑(cyanine black)、乙炔黑、燈黑、石墨、鐵黑、苯胺黑、花菁黑等,可單獨使用或組合使用,使該聚醯亞胺膜具有60度以下之光澤值。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之低光澤之聚醯亞胺膜製造方法,其中,壓輪表面形成有凹凸形狀。
  8. 一種低光澤之聚醯亞胺膜,其包括有:一聚醯亞胺膜,其係由二胺單體及二酐單體聚合而得,其表面形成有規則之凹凸形狀;及一消光劑,其係添加於該聚醯亞胺膜內,使該聚醯亞胺膜具有小於60度之光澤值。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之低光澤之聚醯亞胺膜,其中更包括有黑色顏料,如碳黑、鈦黑、骨炭(bone black)、花青黑(cyanine black)、乙炔黑、燈黑、石墨、鐵黑、苯胺黑、花菁黑等,可單獨使用或組合使用。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之低光澤之聚醯亞胺膜,其中,該消光劑為聚醯亞胺粉體。
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