[go: up one dir, main page]

TW201339760A - 著色感放射線性組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、著色圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及影像顯示裝置 - Google Patents

著色感放射線性組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、著色圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及影像顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201339760A
TW201339760A TW102109559A TW102109559A TW201339760A TW 201339760 A TW201339760 A TW 201339760A TW 102109559 A TW102109559 A TW 102109559A TW 102109559 A TW102109559 A TW 102109559A TW 201339760 A TW201339760 A TW 201339760A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
pigment
compound
formula
dye
Prior art date
Application number
TW102109559A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI559087B (zh
Inventor
Hiroaki Idei
Yushi Kaneko
Seiichi Hitomi
Kazuya Oota
Yousuke Murakami
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW201339760A publication Critical patent/TW201339760A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI559087B publication Critical patent/TWI559087B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00634Production of filters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/101Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing an anthracene dye
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/103Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing a diaryl- or triarylmethane dye
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/105Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing a methine or polymethine dye
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/106Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing an azo dye
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/108Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing a phthalocyanine dye
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/109Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing other specific dyes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/23Photochromic filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

一種著色感放射線性組成物,其包括:(A)色素多聚體;(B)鹼可溶性樹脂,含有選自由以下述通式(b1)所表示的重複單元及以下述通式(b2)所表示的重複單元所組成的群組中的重複單元的至少1種;(C)聚合性化合物;以及(D)光聚合起始劑。式中,R1、R4分別獨立地表示氫原子、芳基或烷基,較佳為芳基。R2表示氫原子或甲基,R3表示碳數為2或3的伸烷基,m表示1~15的整數。□

Description

著色感放射線性組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、 著色圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及影像顯示裝置
本發明是有關於一種作為用於形成著色畫素的彩色抗蝕劑合適的著色感放射線性組成物、使用該著色感放射線性組成物的著色硬化膜、彩色濾光片、該些的製造方法、具備該彩色濾光片的固體攝影元件以及影像顯示裝置。
近年來,由於數位照相機、帶有照相機的行動電話等的普及,因此電荷耦合元件(Charge Coupled Device,CCD)影像感測器等固體攝影元件的需求大幅增加。作為該些的顯示器或光學元件的關鍵元件,使用彩色濾光片,且高靈敏度化.小型化的要求進一步提高。此種彩色濾光片通常具備紅(R)、緑(G)及藍(B)的3原色的著色圖案,發揮使透過光分解成3原色的作用。
對於彩色濾光片中所使用的著色劑,共同要求具有如下 的性質。即,需要如下等性質:於顏色再現性方面具有較佳的光吸收特性;無成為光散射或顏色不均.粗糙感的原因的光學濃度的不均一性等光學混亂;製造及所使用的環境條件下的牢固性,例如耐熱性、耐光性等良好;莫耳吸光係數大且可薄膜化。
製作上述彩色濾光片的方法之一可列舉顏料分散法。於顏料分散法中,藉由光微影法或噴墨法來製作彩色濾光片的方法因使用顏料,故對於光或熱穩定。但是,由於顏料本身為微粒子,因此會經常產生光散射或顏色不均.粗糙等問題。為了解決該些問題而進行顏料微細化,但微細的顏料存在分散穩定性不佳這一課題。
作為代替該些顏料分散法的彩色濾光片的製作方法,可列舉將染料用作色材的方法。染料是以溶解於組成物中的狀態存在,因此可抑制如顏料般的光散射或顏色不均.粗糙。與顏料相比,染料的課題是耐熱性或耐光性欠佳,近年來,以提昇牢固性、防止染料朝其他層的色移等為目的而嘗試了染料的改良(例如,參照專利文獻1、專利文獻2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-95732號公報
[專利文獻2]日本專利特開2000-162429號公報
然而,雖然可藉由將如上述專利文獻中所記載般的染料製成多聚體的方法來抑制色移或昇華,但於實用上,耐熱性的充 分提昇存在改良的餘地,另外,產生如下的新問題,即因將染料製成多聚體並進行高分子化而導致圖案形成性下降,而期望加以解決。
考慮上述課題而完成的本發明的目的在於提供一種著色感放射線性組成物,其即便於使用染料作為色素的情況下,亦形成牢固性、耐熱性優異的著色硬化膜,當形成著色圖案時,圖案的直線性良好,非圖案形成區域中的殘渣的產生得到抑制。
另外,本發明的進一步的目的在於提供一種使用此種著色感放射線性組成物而成的牢固性優異的著色硬化膜及具備該著色硬化膜的彩色濾光片、著色圖案以及彩色濾光片與其製造方法。
另外,本發明的第3目的在於提供一種可形成顏色特性優異的著色圖案的圖案形成方法及彩色濾光片的製造方法。
進而,本發明的第4目的在於提供一種具備顏色特性優異的彩色濾光片的固體攝影元件及影像顯示裝置(液晶顯示裝置或有機電致發光(Electroluminescence,EL)顯示裝置等)。
本發明者等人努力研究的結果,發現藉由使用染料多聚體及具有特定的部分結構的鹼可溶性樹脂,可解決上述課題,從而完成了本發明。
本發明的構成如下所述。
<1>一種著色感放射線性組成物,其包括:(A)色素多聚體;(B)鹼可溶性樹脂,含有選自由以下述通式(b1)所表 示的重複單元及以下述通式(b2)所表示的重複單元所組成的群組中的重複單元的至少1種;(C)聚合性化合物;以及(D)光聚合起始劑。
上述通式(b1)中,R1表示氫原子、芳基或烷基。
上述通式(b2)中,R2表示氫原子或甲基,R3表示碳數為2或3的伸烷基,R4表示氫原子、芳基或烷基,m表示1~15的整數。當m為2~15時,存在多個的R3彼此可相同,亦可不同。
<2>如<1>所述的著色感放射線性組成物,其中上述(B)鹼可溶性樹脂為含有選自由以下述通式(b1')所表示的重複單元及以下述通式(b2')所表示的重複單元所組成的群組中的至少1種重複單元的聚合物。
上述通式(b1')中,R1'表示芳基。
上述通式(b2')中,R2表示氫原子或甲基,R3表示碳數為2或3的伸烷基,R4'表示芳基,m表示1~15的整數。當m為2~15時,存在多個的R3彼此可相同,亦可不同。
<3>如<1>或<2>所述的著色感放射線性組成物,其中上述通式(b2)及上述通式(b2')中的m分別表示1~5的整數。
<4>如<1>至<3>中任一項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(B)鹼可溶性樹脂為含有以上述通式(b1)所表示的重複單元的至少1種及以上述通式(b2)所表示的重複單元的至少1種的共聚物。
<5>如<1>至<4>中任一項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(B)鹼可溶性樹脂的酸值為50 mgKOH/g~ 200 mgKOH/g。
<6>如<1>至<3>中任一項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(A)色素多聚體具有源自如下的色素的部分結構,上述色素選自二吡咯亞甲基(dipyrromethene)色素、偶氮(azo)色素、蒽醌(anthraquinone)色素、三苯基甲烷(Triphenylmethane)色素、二苯并哌喃(xanthene)色素、花青(cyanine)色素、方酸(squarylium)色素、喹酞酮(quinophthalone)色素、酞青素(phthalocyanine)色素及亞酞青素(subphthalocyanine)色素。
<7>如<1>至<6>中任一項所述的著色感放射線性組成物,其更包括(E)顏料。
<8>如<7>所述的著色感放射線性組成物,其中上述(E)顏料為選自蒽醌(anthraquinone)顏料、二酮吡咯并吡咯(diketo-pyrrolo-pyrrole)顏料、酞青素(phthalocyanine)顏料、喹酞酮(quinophthalone)顏料、異吲哚啉(isoindoline)顏料、甲亞胺(Azomethine)顏料及二噁嗪(dioxazine)顏料中的顏料。
<9>如<1>至<8>中任一項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(D)光聚合起始劑為肟(oxime)化合物。
<10>如<1>至<9>中任一項所述的著色感放射線性組成物,其用於形成彩色濾光片的著色層。
<11>一種著色硬化膜,其是使如<1>至<10>中任一項所述的著色感放射線性組成物硬化而獲得。
<12>一種彩色濾光片,其包括如<11>所述的著色硬化膜。
<13>一種著色圖案形成方法,其包括:著色感放射線性組成物層形成步驟,將如<1>至<9>中任一項所述的著色感放射線性組成物賦予至支撐體上而形成著色感放射線性組成物層;曝光步驟,將該著色感放射線性組成物層曝光成圖案狀;以及圖案形成步驟,將未曝光部顯影去除而形成著色圖案。
<14>一種彩色濾光片的製造方法,其包括:著色感放射線性組成物層形成步驟,將如<1>至<10>中任一項所述的著色感放射線性組成物賦予至支撐體上而形成著色感放射線性組成物層;曝光步驟,將該著色感放射線性組成物層曝光成圖案狀;以及圖案形成步驟,將未曝光部顯影去除而形成著色圖案。
<15>一種固體攝影元件,其包括:如<12>所述的彩色濾光片或藉由如<14>所述的彩色濾光片的製造方法所獲得的彩色濾光片。
<16>一種影像顯示裝置,其包括:如<12>所述的彩色濾光片或藉由如<14>所述的彩色濾光片的製造方法所製作的彩色濾光片。
根據本發明,可提供一種著色感放射線性組成物,其即便於使用染料作為色素的情況下,亦形成牢固性、耐熱性優異的著色硬化膜,當形成著色圖案時,圖案的直線性良好,且殘渣的 產生得到抑制。
另外,藉由使用本發明的著色感放射線性組成物,可提供一種牢固性優異的著色硬化膜、使用其的彩色濾光片、著色圖案以及彩色濾光片與其製造方法,另外,可提供一種使用此種彩色濾光片的高性能的固體攝影元件、影像顯示裝置。
以下,對本發明的著色感放射線性組成物、著色硬化膜、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及影像顯示裝置進行詳述。
以下所記載的本發明中的構成要素的說明有時基於本發明的具有代表性的實施方式來進行,但本發明並不限定於此種實施方式。
於本說明書中的基(原子團)的表述中,未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基(原子團),並且亦包含具有取代基的基(原子團)。例如,所謂「烷基」,不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基),亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。
另外,本說明書中的「光化射線」或「放射線」是指例如以水銀燈的明線光譜、準分子雷射為代表的遠紫外線、極紫外 線((Extreme Ultraviolet,EUV)光)、X射線、電子束等。另外,本發明中的光是指光化射線或放射線。只要事先無特別說明,則本說明書中的「曝光」不僅包含利用以水銀燈、準分子雷射為代表的遠紫外線、X射線、EUV光等的曝光,利用電子束、離子束等粒子束的描繪亦包含於曝光中。
於本說明書中,使用「xx~yy」所表示的數值範圍是指包含數值xx作為下限值、且包含數值yy作為上限值的範圍。
於本說明書中,所謂總固體成分是指自著色感放射線性組成物的總組成中去除溶劑後的成分的總質量。
另外,於本說明書中,「(甲基)丙烯酸酯((meth)acrylate)」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的兩者或任一者,「(甲基)丙烯酸((meth)acrylic)」表示丙烯酸及甲基丙烯酸的兩者或任一者,「(甲基)丙烯醯基((meth)acryloyl)」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基的兩者或任一者。
另外,本說明書中的單體被區分成寡聚物及聚合物,且是指重量平均分子量為2,000以下的化合物。於本說明書中,所謂聚合性化合物是指具有聚合性官能基的化合物,可為單體,亦可為聚合物。所謂聚合性官能基是指參與聚合反應的基。
於本說明書中,「步驟」這一用語不僅是指獨立的步驟,當無法與其他步驟明確地加以區分時,只要達成該步驟的預期的作用,則亦包含於本用語中。
[著色感放射線性組成物]
本發明的著色感放射線性組成物包括:(A)色素多聚體;(B)鹼可溶性樹脂(以下,適宜稱為「特定鹼可溶性樹脂」),含有選自由以下述通式(b1)所表示的重複單元及以下述通式(b2)所表示的重複單元所組成的群組中的重複單元的至少1種;(C)聚合性化合物;以及(D)光聚合起始劑;視需要亦可併用(E)顏料。
本發明的作用雖然不明確,但如以下般進行推斷。可認為藉由使用具有適度的親水性、且含有以通式(b1)所表示的重複單元及以通式(b2)所表示的重複單元的至少任一者的特定鹼可溶性樹脂,與使用一般的僅具有酸性基的鹼可溶性樹脂的情況相比,與共存的色素多聚體的親和性提昇,且藉由特定鹼可溶性樹脂本身所具有的優異的鹼可溶性,即便於形成微細的圖案的情況下,亦抑制著色圖案的缺陷的產生,而形成直線性優異的著色圖案。另外,可認為因色素多聚體穩定地存在於特定鹼可溶性樹脂中,故所形成的硬化膜的耐熱性提昇。於本發明的較佳的實施方式中,特定鹼可溶性樹脂於順丁烯二醯亞胺結構的末端或伸烷氧基的末端具有芳基,藉此與色素多聚體的親和性進一步提昇,本發明的效果得以良好地顯現。
以下,對本發明的著色感放射線性組成物中所使用的各成分進行說明。首先,對作為本發明的重要的構成成分的特定鹼可溶性樹脂進行說明。
(B)含有選自由以通式(b1)所表示的重複單元及以 通式(b2)所表示的重複單元所組成的群組中的重複單元的至少1種的鹼可溶性樹脂
本發明中的特定鹼可溶性樹脂對於顯影處理步驟中所使用的顯影液,特佳為鹼性顯影液具有可溶性,且為具有以下述通式(b1)所表示的重複單元與以下述通式(b2)所表示的重複單元的至少任一者的聚合物。再者,只要無損本發明的效果,則除特定鹼可溶性樹脂以外,本發明的感放射線性組成物亦可含有不具有以下述通式(b1)所表示的重複單元及以下述通式(b2)所表示的重複單元的任一者的其他鹼可溶性樹脂。
上述通式(b1)中,R1表示氫原子、芳基或烷基。
作為R1表示烷基時的烷基,可列舉碳數為1~10的直鏈狀烷基、碳數為3~10的具有支鏈的烷基、碳數為5~20的環狀烷基等,更具體而言,可列舉甲基、乙基、第三丁基、環己基等。
烷基可具有取代基,作為可導入至烷基中的取代基,可列舉苯基、羰基、烷氧基、羥基、胺基等。
作為R1表示芳基時的芳基,可列舉單環結構的芳基、 多環結構的芳基、縮環結構的芳基、含有雜原子的雜芳基等。更具體而言,可列舉苯基、萘基、聯苯基、苯并咪唑基、吡啶基、呋喃基等。
芳基可具有取代基,作為可導入至芳基中的取代基,可列舉甲基、乙基、第三丁基、環己基等烷基,甲氧基等烷氧基,羧基,羥基,胺基,硝基,氯基,溴基等。
其中,較佳為通式(b1)中的R1為芳基的形態,即作為以下述通式(b1')所表示的重複單元的形態。特佳為R1為不具有取代基的苯基的形態。
上述通式(b2)中,R2表示氫原子或甲基。R3為碳數為2或3的伸烷基,R4表示氫原子、芳基或烷基,m表示1~15的整數。
作為R4表示烷基時的烷基,可列舉碳數為1~20的直鏈狀烷基、碳數為1~20的具有支鏈的烷基、碳數為5~20的環狀烷基等,更具體而言,可列舉甲基、乙基、第三丁基、環己基、2-乙基己基等。
烷基可具有取代基,作為可導入至烷基中的取代基,可列舉苯基、羰基、烷氧基等。
作為R4表示芳基時的芳基,可列舉單環結構的芳基、多環結構的芳基、縮環結構的芳基、含有雜原子的雜芳基等。更具體而言,可列舉苯基、萘基、蒽基、聯苯基、苯并咪唑基、吲哚基、咪唑基、噁唑基、咔唑基、吡啶基、呋喃基等。
芳基可具有取代基,作為可導入至芳基中的取代基,可列舉壬基、甲基、乙基、第三丁基、環己基等烷基,甲氧基等烷氧基,羧基,羥基,胺基,硝基,氯基,溴基等。
其中,較佳為R4為芳基的形態,即作為以下述通式(b2')所表示的重複單元的形態。作為R4,特佳為苯基、4-羥基苯基、4-壬基苯基、枯基(cumyl)、4-異丙基苯基。
上述通式(b2)及通式(b2')中,m較佳為1~5,特 佳為1~2。
作為用於合成具有以上述通式(b1)所表示的重複單元及以上述通式(b2)所表示的重複單元的聚合物的聚合性不飽和單體,可列舉以下的聚合性不飽和單體。
作為聚合性不飽和單體之中,可形成以通式(b1)所表示的重複單元的N位-取代順丁烯二醯亞胺類,例如可列舉:N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-鄰甲基苯基順丁烯二醯亞胺、N-間甲基苯基順丁烯二醯亞胺、N-對甲基苯基順丁烯二醯亞胺、N-鄰甲氧基苯基順丁烯二醯亞胺、N-間甲氧基苯基順丁烯二醯亞胺、N-對甲氧基苯基順丁烯二醯亞胺、對硝基苯基順丁烯二醯亞胺、1,3,5-三氯苯基順丁烯二醯亞胺等N-(取代)芳基順丁烯二醯亞胺,N-甲基順丁烯二醯亞胺,N-乙基順丁烯二醯亞胺,N-第三丁基順丁烯二醯亞胺,N-苄基順丁烯二醯亞胺,N-環己基順丁烯二醯亞胺,3-順丁烯二醯亞胺丙酸等。
該些N位-取代順丁烯二醯亞胺類之中,特佳為N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺。
上述N位-取代順丁烯二醯亞胺類可單獨使用或將2種以上混合使用。
作為可形成由以上述通式(b2)所表示的重複單元的聚合性不飽和單體,可列舉:苯酚的環氧乙烷(Ethylene Oxide,EO)改質(甲基)丙烯酸酯、對枯基苯酚(p-cumylphenol)的EO或環氧丙烷(Propylene Oxide,PO)改質(甲基)丙烯酸酯、壬酚的EO改 質(甲基)丙烯酸酯、壬酚的PO改質(甲基)丙烯酸酯等。可形成以上述通式(b2)所表示的重複單元的聚合性不飽和單體並不限定於上述例示,另外,可單獨使用,亦可併用2種以上。
可形成以通式(b2)所表示的重複單元的聚合性不飽和單體之中,最佳為對枯基苯酚的EO或PO改質(甲基)丙烯酸酯。
作為市售品,例如可列舉:Aronix M102、M110、M117、M120(東亞合成股份有限公司製造)等。
本發明中的鹼可溶性樹脂較佳為可藉由弱鹼性水溶液來進行顯影者,因此較佳為包含以上述通式(b1)所表示的重複單元及以通式(b2)所表示的重複單元以外的具有酸基的重複單元(以下,適宜稱為其他鹼可溶性重複單元)作為共聚成分。
作為上述酸基,並無特別限制,例如可列舉羧基、酚性羥基、羧酸酐基等,特佳為羧基。該些酸基可僅為1種,亦可為2種以上。
作為含有羧基的聚合性不飽和單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸、巴豆酸、α-氯丙烯酸、桂皮酸等不飽和一元羧酸類;順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、衣康酸、衣康酸酐、檸康酸、檸康酸酐、中康酸等不飽和二羧酸或其酐類;三元以上的不飽和多元羧酸或其酐類;丁二酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯、鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯等二元以上的多元羧酸的單[(甲基)丙烯醯氧基烷基]酯類;ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等兩末端具有羧基與羥基的聚合物的單(甲基)丙烯酸酯 類等。
該些含有羧基的不飽和單體之中,特佳為(甲基)丙烯酸、丁二酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯等。上述含有羧基的不飽和單體可單獨使用或將2種以上混合使用。
作為本發明的特定鹼可溶性樹脂包含上述具有酸基的重複單元時的含量,只要選擇特定鹼可溶性樹脂的酸值變成以下所示的較佳的範圍的量來使用即可。
作為本發明的特定鹼可溶性樹脂,可較佳地列舉:(B1)含有以通式(b1)所表示的重複單元5質量%~40質量%及其他鹼可溶性重複單元10質量%~50質量%的樹脂,(B2)含有以通式(b2)所表示的重複單元5質量%~40質量%及其他鹼可溶性重複單元10質量%~50質量%的樹脂,(B3)含有以通式(b1)所表示的重複單元5質量%~20質量%、以通式(b2)所表示的重複單元5質量%~20質量%及其他鹼可溶性重複單元10質量%~50質量%的樹脂等。
本發明的特定鹼可溶性樹脂的酸值較佳為50 mgKOH/g~200 mgKOH/g,更佳為80 mgKOH/g~170 mgKOH/g。
另外,分子量(Mw)較佳為5000~100000,更佳為10000~50000。
為了控制物性等各種目的,除上述重複單元以外,本發明的特定鹼可溶性樹脂亦可進而含有源自其他共聚性不飽和單體的重複單元。
作為其他共聚性不飽和單體(以下,稱為「其他不飽和單體」),例如可列舉:聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸正丁酯、聚矽氧烷等聚合物分子鏈的末端具有單(甲基)丙烯醯基的巨分子單體(macromonomer)類(以下,簡稱為「巨分子單體類」):苯乙烯、α-甲基苯乙烯、鄰乙烯基甲苯、間乙烯基甲苯、對乙烯基甲苯、對氯苯乙烯、鄰甲氧基苯乙烯、間甲氧基苯乙烯、對甲氧基苯乙烯、鄰乙烯基苄基甲醚、間乙烯基苄基甲醚、對乙烯基苄基甲醚、鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、對乙烯基苄基縮水甘油醚等芳香族乙烯基化合物;茚、1-甲基茚等茚類;(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸二環戊二烯酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯等 不飽和羧酸酯類;(甲基)丙烯酸2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-胺基丙酯、丙烯酸2-二甲胺基丙酯、(甲基)丙烯酸3-胺基丙酯、(甲基)丙烯酸3-二甲胺基丙酯等不飽和羧酸胺基烷基酯類;(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等不飽和羧酸縮水甘油酯類;乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等羧酸乙烯酯類;乙烯基甲醚、乙烯基乙醚、烯丙基縮水甘油醚等不飽和醚類;(甲基)丙烯腈、α-氯丙烯腈、二氰亞乙烯(vinylidene cyanide)等氰乙烯(vinyl cyanide)化合物;(甲基)丙烯醯胺、α-氯丙烯醯胺、N-2-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等不飽和醯胺類;1,3-丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等脂肪族共軛二烯等類等。
該些其他不飽和單體之中,較佳為巨分子單體類、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、甘油(甲基)丙烯酸酯。另外,巨分子單體類之中,特佳為聚苯乙烯巨分子單體、聚(甲基)丙烯酸甲酯巨分子單體。
上述其他不飽和單體可單獨使用或將2種以上混合使用。
另外,為了提昇交聯效率,特定鹼可溶性樹脂亦可於側鏈上具有聚合性基,例如,於側鏈上含有烯丙基、(甲基)丙烯醯基、烯丙氧基烷基等的聚合物等亦有用。
另外,作為特定鹼可溶性樹脂,較佳是側鏈具有環氧基。當要將環氧基導入至特定鹼可溶性樹脂中時,例如只要將具有環氧基的單體(以下,有時亦稱為「用以導入環氧基的單體」)作為單體成分進行聚合即可。作為上述具有環氧基的單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、鄰(或間、或對)乙烯基苄基縮水甘油醚等。該些用以導入環氧基的單體可僅為1種,亦可為2種以上。當獲得特定鹼可溶性樹脂時的單體成分亦包含上述用以導入環氧基的單體時,其含有比例並無特別限制,但於所有單體成分中為5質量%~50質量%,較佳為10質量%~30質量%的範圍。
以下列舉本發明的(B)特定鹼可溶性樹脂的具體例(例示化合物),但只要不超出本發明的主旨,則本發明不受以下的化合物限制。再者,各重複單元中所附加的數字表示該重複單元的相對於共聚成分的質量基準的含有率。
本發明的(B)特定鹼可溶性樹脂可藉由以下的方法來合成。
含有以通式(b1)所表示的重複單元的鹼可溶性樹脂可按照日本專利4752649號的段落號[0108]中所記載的方法來合成。另外,含有以通式(b2)所表示的重複單元的鹼可溶性樹脂可按照日本專利特開2009-282114的段落號[0144]~段落號[0148]中所記載的方法來合成。
相對於著色感放射線性組成物中的固體成分,(B)特定鹼可溶性樹脂於該著色感放射線性組成物中的含量較佳為0.1質量%~50質量%,更佳為0.1質量%~30質量%,特佳為1質量%~7質量%。
[(A)色素多聚體]
本發明的著色感放射線性組成物含有至少1種色素多聚體(以下,有時簡稱為「色素多聚體(A)」)。
更具體而言,色素多聚體(A)為於其分子結構中具有如下的部分結構的多聚體,上述部分結構具有最大吸收波長處於400 nm~780 nm的範圍內的色素骨架,其包含二聚體、三聚體及聚合物等的結構,其中,較佳為包含如下重複單元的聚合物,上 述重複單元含有具有色素骨架的部分結構。於本發明的著色感放射線性組成物中,色素多聚體(A)例如作為著色劑而發揮功能。
再者,於本發明中,較佳為包含如下重複單元(構成單元)的至少一種而成的色素多聚體,上述重複單元(構成單元)如由以下將詳述的通式(A)、通式(B)及通式(C)所表示般,且具有色素部分結構。
以下,對色素多聚體(A)中的源自色素的部分結構、色素多聚體(A)的較佳的結構、色素多聚體(A)可具有的官能基(後述的取代基群A)、色素多聚體(A)的較佳的物性進行詳細記述。
此處所述的「源自色素的部分結構」是指如下的結構:自可形成後述的色素結構的具體的色素(以下,亦稱為色素化合物)中去除了氫原子、且可與色素多聚體連結部(聚合物鏈或樹枝狀聚合物(dendrimer)的核等)連結的結構。
(源自色素的部分結構)
作為色素多聚體(A)中的源自色素的部分結構(以下,亦稱為「色素結構」),並無特別限制,可應用含有公知的色素結構的各種結構。作為公知的色素結構,例如可列舉源自如下色素的色素結構等,上述色素選自偶氮色素、甲亞胺色素(靛苯胺(indoaniline)色素、靛酚(indophenol)色素等)、二吡咯亞甲基色素、醌色素(苯醌色素、萘醌色素、蒽醌色素、蒽吡啶酮色素等)、碳鎓(carbonium)色素(二苯基甲烷色素、三苯基甲烷色素、 二苯并哌喃色素、吖啶(acridine)色素等)、醌亞胺色素(噁嗪(oxazine)色素、噻嗪(thiazine)色素等)、吖嗪(azine)色素、聚次甲基色素(氧雜菁色素、部花青色素、亞芳基(arylidene)色素、苯乙烯基色素、花青色素、方酸色素、克酮鎓(croconium)色素等)、喹酞酮色素、酞青素色素、亞酞青素色素、紫環酮(perinone)色素、靛藍色素、硫靛青(thioindigo)色素、喹啉色素、硝基色素、亞硝基色素及該些的金屬錯合物色素。
該些色素結構之中,就顏色特性的觀點而言,較佳為具有源自如下的色素的部分結構的色素多聚體,上述色素選自二吡咯亞甲基色素、偶氮色素、蒽醌色素、三苯基甲烷色素、二苯并哌喃色素、花青色素、方酸色素、喹酞酮色素、酞青素色素及亞酞青素色素。
關於可形成色素結構的具體的色素化合物,於「新版染料便覽」(有機合成化學協會編;丸善,1970)、「染料索引(Colour Index)」(The Society of Dyers and colourists(英國染料師和顏料師協會))、「色素手冊」(大河原等編;講談社,1986)等中有記載。
本發明的色素多聚體(A)亦可利用選自下述取代基群A中的取代基來取代上述色素結構中的氫原子。
<取代基群A>
作為色素多聚體可具有的取代基,可列舉:鹵素原子、烷基、環烷基、多環系烷基、烯基、環烯基、多環系烯基、炔基、 芳基、雜環基、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、矽氧基、雜環氧基、醯氧基、胺甲醯氧基、胺基(包含烷基胺基、苯胺基)、醯基胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、胺磺醯基、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基、醯基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、胺甲醯基、芳基偶氮基或雜環偶氮基、醯亞胺基、膦基、次膦基、次膦氧基、次膦胺基、矽烷基等。以下進行詳細記述。
可列舉:鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子);直鏈或分支的烷基(直鏈或分支的經取代或未經取代的烷基,較佳為碳數為1~30的烷基,例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、正辛基、2-氯乙基、2-氰基乙基、2-乙基己基);、環烷基(較佳為碳數為3~30的經取代或未經取代的環烷基,例如環己基、環戊基);多環系烷基,例如可列舉雙環烷基(較佳為碳數為5~30的經取代或未經取代的雙環烷基,例如雙環[1,2,2]庚烷-2-基、雙環[2,2,2]辛烷-3-基)或三環烷基等多環結構的基。較佳為單環的環烷基、雙環烷基,特佳為單環的環烷基;直鏈或分支的烯基(直鏈或分支的經取代或未經取代的烯基,較佳為碳數為2~30的烯基,例如乙烯基、烯丙基、異戊二烯基、香葉(geranyl)基、油烯(oleyl)基);環烯基(較佳為碳數為3~30的經取代或未經取代的環烯基,例如2-環戊烯-1- 基、2-環己烯-1-基);多環系烯基例如雙環烯基(較佳為碳數為5~30的經取代或未經取代的雙環烯基,例如雙環[2,2,1]庚-2-烯-1-基、雙環[2,2,2]辛-2-烯-4-基)或三環烯基,特佳為單環的環烯基;炔基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的炔基,例如乙炔基、炔丙基、三甲基矽烷基乙炔基);芳基(較佳為碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基,例如苯基、對甲苯基、萘基、間氯苯基、鄰十六醯基胺基苯基);雜環基(較佳為5員~7員的經取代或未經取代、飽和或不飽和、芳香族或非芳香族、單環或縮環的雜環基,更佳為環構成原子選自碳原子、氮原子及硫原子,且具有至少一個氮原子、氧原子及硫原子的任一種雜原子的雜環基,進而更佳為碳數為3~30的5員或6員的芳香族的雜環基。例如2-呋喃基、2-噻吩基、2-吡啶基、4-吡啶基、2-嘧啶基、2-苯并噻唑基);氰基;羥基;硝基;羧基;烷氧基(較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的烷氧基,例如甲氧基、乙氧基、異丙氧基、第三丁氧基、正辛氧基、2-甲氧基乙氧基);芳氧基(較佳為碳數為6~30的經取代或未經取代的芳氧基,例如苯氧基、2-甲基苯氧基、2,4-二-第三戊基苯氧基、4-第三丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-十四醯基胺基苯氧基(2-tetradecanoylaminophenoxy));矽氧基(較佳為碳數為3~20的矽氧基,例如三甲基矽氧基、第三丁基二甲基矽氧基);雜環氧基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的雜環氧基,雜環 部較佳為上述雜環基中所說明的雜環部,例如1-苯基四唑-5-氧基、2-四氫吡喃氧基);醯氧基(較佳為甲醯氧基、碳數為2~30的經取代或未經取代的烷基羰氧基、碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基羰氧基,例如甲醯氧基、乙醯氧基、三甲基乙醯氧基(pivaloyloxy)、硬脂醯氧基、苯甲醯氧基、對甲氧基苯基羰氧基);胺甲醯氧基(較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的胺甲醯氧基,例如N,N-二甲基胺甲醯氧基、N,N-二乙基胺甲醯氧基、嗎啉基羰氧基、N,N-二-正辛胺基羰氧基、N-正辛基胺甲醯氧基);烷氧基羰氧基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰氧基,例如甲氧基羰氧基、乙氧基羰氧基、第三丁氧基羰氧基、正辛基羰氧基);芳氧基羰氧基(較佳為碳數為7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰氧基,例如苯氧基羰氧基、對甲氧基苯氧基羰氧基、對正十六烷氧基苯氧基羰氧基);胺基(較佳為胺基、碳數為1~30的經取代或未經取代的烷基胺基、碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基胺基、碳數為0~30的雜環胺基,例如胺基、甲胺基、二甲胺基、苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯胺基、N-1,3,5-三嗪-2-基胺基);醯基胺基(較佳為甲醯基胺基、碳數為1~30的經取代或未經取代的烷基羰基胺基、碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基羰基胺基,例如甲醯基胺基、乙醯基胺基、三甲基乙醯基胺基、月桂醯基胺基、苯甲醯基胺基、3,4,5-三-正辛氧基苯基羰基胺基);胺基羰基胺基 (較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的胺基羰基胺基,例如胺甲醯基胺基、N,N-二甲胺基羰基胺基、N,N-二乙胺基羰基胺基、嗎啉基羰基胺基);烷氧基羰基胺基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰基胺基,例如甲氧基羰基胺基、乙氧基羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基、正十八烷氧基羰基胺基、N-甲基-甲氧基羰基胺基);芳氧基羰基胺基(較佳為碳數為7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基胺基,例如苯氧基羰基胺基、對氯苯氧基羰基胺基、間正辛氧基苯氧基羰基胺基);胺磺醯基胺基(較佳為碳數為0~30的經取代或未經取代的胺磺醯基胺基,例如胺磺醯基胺基、N,N-二甲胺基磺醯基胺基、N-正辛胺基磺醯基胺基);烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基(較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基胺基、碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基磺醯基胺基,例如甲基磺醯基胺基、丁基磺醯基胺基、苯基磺醯基胺基、2,3,5-三氯苯基磺醯基胺基、對甲基苯基磺醯基胺基);巰基;烷硫基(較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的烷硫基,例如甲硫基、乙硫基、正十六烷硫基);芳硫基(較佳為碳數為6~30的經取代或未經取代的芳硫基,例如苯硫基、對氯苯硫基、間甲氧基苯硫基);雜環硫基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的雜環硫基,雜環部較佳為上述雜環基中所說明的雜環部,例如2-苯并噻唑硫基、1-苯基四唑-5-硫基);胺磺醯 (sulfamyl)基(較佳為碳數為0~30的經取代或未經取代的胺磺醯基,例如N-乙基胺磺醯基、N-(3-十二烷氧基丙基)胺磺醯基、N,N-二甲基胺磺醯基、N-乙醯基胺磺醯基、N-苯甲醯基胺磺醯基、N-(N'-苯基胺甲醯基)胺磺醯基);磺基;烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基(較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的烷基亞磺醯基,碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基亞磺醯基,例如甲基亞磺醯基、乙基亞磺醯基、苯基亞磺醯基、對甲基苯基亞磺醯基);烷基磺醯基或芳基磺醯基(較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基,碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基磺醯基,例如甲基磺醯基、乙基磺醯基、苯基磺醯基、對甲基苯基磺醯基);醯基(較佳為甲醯基、碳數為2~30的經取代或未經取代的烷基羰基、碳數為7~30的經取代或未經取代的芳基羰基,例如乙醯基、三甲基乙醯基、2-氯乙醯基、硬脂醯基、苯甲醯基、對正辛氧基苯基羰基);芳氧基羰基(較佳為碳數為7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基,例如苯氧基羰基、鄰氯苯氧基羰基、間硝基苯氧基羰基、對第三丁基苯氧基羰基);烷氧基羰基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰基,例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、第三丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基);胺甲醯基(較佳為碳數為1~30的經取代或未經取代的胺甲醯基,例如胺甲醯基、N-甲基胺甲醯基、N,N-二甲基胺甲醯基、N,N-二-正辛基胺甲醯基、N-(甲基磺醯基)胺甲醯 基);芳基偶氮基或雜環偶氮基(較佳為碳數為6~30的經取代或未經取代的芳基偶氮基、碳數為3~30的經取代或未經取代的雜環偶氮基(雜環部較佳為上述雜環基中所說明的雜環部),例如苯基偶氮基、對氯苯基偶氮基、5-乙硫基-1,3,4-噻二唑-2-偶氮基);醯亞胺基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的醯亞胺基,例如N-琥珀醯亞胺、N-鄰苯二甲醯亞胺);膦基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的膦基,例如二甲基膦基、二苯基膦基、甲基苯氧基膦基);次膦基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的次膦基,例如次膦基、二辛氧基次膦基、二乙氧基次膦基);次膦氧基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的次膦氧基,例如二苯氧基次膦氧基、二辛氧基次膦氧基);次膦胺基(較佳為碳數為2~30的經取代或未經取代的次膦胺基,例如二甲氧基次膦胺基、二甲胺基次膦胺基);矽烷基(較佳為碳數為3~30的經取代或未經取代的矽烷基,例如三甲基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、苯基二甲基矽烷基)。
上述官能基之中,具有氫原子的官能基可藉由上述任一種基來取代官能基中的氫原子的部分。可作為取代基導入的官能基的例子可列舉烷基羰基胺基磺醯基、芳基羰基胺基磺醯基、烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基,具體而言,可列舉甲基磺醯基胺基羰基、對甲基苯基磺醯基胺基羰基、乙醯基胺基磺醯基、苯甲醯基胺基磺醯基。
對可形成色素多聚體(A)中,源自色素的部分結構的 特佳的色素(色素化合物)進行詳細記述。
(二吡咯亞甲基色素)
本發明的色素多聚體(A)的形態之一為如下的色素多聚體,其具有源自下述所示的二吡咯亞甲基色素的部分結構作為色素部位的部分結構。
作為本發明中的二吡咯亞甲基色素,較佳為二吡咯亞甲基化合物及自二吡咯亞甲基化合物與金屬或金屬化合物所獲得的二吡咯亞甲基金屬錯化合物。
再者,於本發明中,將含有二吡咯亞甲基結構的化合物稱為二吡咯亞甲基化合物,將金屬或金屬化合物配位於含有二吡咯亞甲基結構的化合物上而成的錯合物稱為二吡咯亞甲基金屬錯化合物。
作為二吡咯亞甲基金屬錯化合物,較佳為自由下述通式(M)所表示的二吡咯亞甲基化合物與金屬或金屬化合物所獲得的二吡咯亞甲基金屬錯化合物及其互變異構物,其中,作為較佳的形態,可列舉由下述通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物或由下述通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物,最佳為由通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物。
<<自由通式(M)所表示的二吡咯亞甲基化合物與金屬或金屬化合物所獲得的二吡咯亞甲基金屬錯化合物及其互變異構物>>
色素多聚體(A)中的色素結構的較佳的形態之一為如 下的色素結構,其包含由下述通式(M)所表示的化合物(二吡咯亞甲基化合物)或其互變異構物配位於金屬或金屬化合物上而成的錯合物(以下,適宜稱為「特定錯合物」)作為色素部位。
通式(M)中,R4~R10分別獨立地表示氫原子或一價的取代基。但是,R4與R9不會相互鍵結而形成環。
將由通式(M)所表示的化合物導入至由後述的通式(A)~通式(C)所表示的結構單元或由通式(D)所表示的多聚體中時的導入部位並無特別限制,但就合成適合性的觀點而言,較佳為於R4~R9的任一個的部位上導入,更佳為於R4、R6、R7及R9的任一個上導入,進而更佳為於R4及R9的任一個上導入。
作為通式(M)中的R4~R9表示一價的取代基時的一價的取代基,可列舉上述取代基群A的項中所列舉的取代基。
當通式(M)中的由R4~R9所表示的一價的取代基為可進一步取代的基時,可進一步具有R4~R9中所說明的取代基,當具有2個以上的取代基時,該些取代基可相同,亦可不同。
通式(M)中的R4與R5、R5與R6、R7與R8、及R8與 R9可分別獨立地相互鍵結來形成5員、6員或7員的飽和環,或者不飽和環。但是,R4與R9不會相互鍵結而形成環。當所形成的5員、6員及7員的環為可進一步取代的基時,亦可由上述R4~R9中所說明的取代基取代,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
當通式(M)中的R4與R5、R5與R6、R7與R8、及R8與R9分別獨立地相互鍵結來形成不具有取代基的5員、6員或7員的飽和環,或者不飽和環時,作為不具有取代基的5員、6員或7員的飽和環,或者不飽和環,例如可列舉吡咯環、呋喃環、噻吩環、吡唑環、咪唑環、三唑環、噁唑環、噻唑環、吡咯啶環、哌啶環、環戊烯環、環己烯環、苯環、吡啶環、吡嗪環及噠嗪環,較佳為可列舉苯環或吡啶環。
通式(M)中的R10較佳為表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。該鹵素原子、烷基、芳基及雜環基的含義分別與上述取代基群A的項中所說明的鹵素原子、烷基、芳基及雜環基相同,其較佳的範圍亦相同。
當R10表示烷基、芳基或雜環基時的烷基、芳基及雜環基為可進一步取代的基時,亦可由取代基群A的項中所說明的取代基取代,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
~金屬或金屬化合物~
本發明中的特定錯合物是已述的由通式(M)所表示的 二吡咯亞甲基化合物或其互變異構物配位於金屬或金屬化合物上而成的錯合物。
此處,作為金屬或金屬化合物,只要是可形成錯合物的金屬或金屬化合物,則可為任何金屬或金屬化合物,包括二價的金屬原子、二價的金屬氧化物、二價的金屬氫氧化物及二價的金屬氯化物。作為金屬或金屬化合物,例如除Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等金屬以外,亦包括AlCl、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2、GeCl2等金屬氯化物,TiO、VO等金屬氧化物,Si(OH)2等金屬氫氧化物。
該些之中,就錯合物的穩定性、分光特性、耐熱性、耐光性及製造適應性等的觀點而言,較佳為Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO或VO,更佳為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co或VO,最佳為Zn。
其次,對由通式(M)所表示的化合物於本發明中的特定錯合物的更佳的範圍進行說明。
本發明中的特定錯合物的較佳的範圍是如下的範圍:於通式(M)中,R4及R9分別獨立為氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、矽烷基、羥基、氰基、烷氧基、芳氧基、雜環氧基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、胺基、苯胺基、雜環胺基、苯甲醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基或膦醯基胺基;R5及R8分別獨立為氫原子、鹵素原子、 烷基、烯基、芳基、雜環基、羥基、氰基、硝基、烷氧基、芳氧基、雜環氧基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基或胺磺醯基;R6及R7分別獨立為氫原子、鹵素原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、矽烷基、羥基、氰基、烷氧基、芳氧基、雜環氧基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、苯胺基、苯甲醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、胺磺醯基或膦醯基胺基;R10為氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基;金屬或金屬化合物為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO或V=O。
本發明中的特定錯合物的更佳的範圍是如下的範圍:於通式(M)中,R4及R9分別獨立為氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、胺基、雜環胺基、苯甲醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷基磺醯基、芳基磺醯基或膦醯基胺基;R5及R8分別獨立為烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、硝基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、醯亞胺基、烷基磺醯基、芳基磺醯基或胺磺醯基;R6及R7分別獨立為氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、苯甲醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基或胺磺醯基; R10為氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基;金屬或金屬化合物為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co或V=O。
本發明中的特定錯合物的特佳的範圍是如下的範圍:於通式(M)中,R4及R9分別獨立為氫原子、烷基、芳基、雜環基、胺基、雜環胺基、苯甲醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷基磺醯基、芳基磺醯基或膦醯基胺基(phosphinoylamino);R5及R8分別獨立為烷基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基;R6及R7分別獨立為氫原子、烷基、芳基或雜環基;R10為氫原子、烷基、芳基或雜環基;金屬或金屬化合物為Zn、Cu、Co或V=O。
進而,以下將詳述的由通式(7)或通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物亦為二吡咯亞甲基色素的特佳的形態。
<<由通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物>>
色素多聚體(A)中的色素結構的適宜的形態之一為源自由下述通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物的色素結構。
通式(7)中,R4~R9分別獨立地表示氫原子或一價的取代基,R10表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。Ma表示金屬原子或金屬化合物。X1表示可鍵結於Ma上的基,X2表示中和Ma的電荷的基,X1與X2可相互鍵結而與Ma一同形成5員、6員或7員的環。但是,R4與R9不會相互鍵結而形成環。
再者,由通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物包括互變異構物。
將由通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物導入至由後述的通式(A)~通式(C)所表示的結構單元、由通式(D)所表示的多聚體中時的導入部位並無特別限制,但就合成適合性的觀點而言,較佳為於R4~R9的任一個的部位上導入,更佳為於R4、R6、R7及R9的任一個上導入,進而更佳為於R4及R9的任一個上導入。
當色素多聚體(A)具有鹼可溶性基時,作為導入該鹼可溶性基的方法,可使用使上述通式(7)中的R4~R10、X1、X2的任一個或兩個以上的取代基具有鹼可溶性基的方法。該些取代基之中,較佳為R4~R9及X1的任一個,更佳為R4、R6、R7及R9 的任一個,進而更佳為R4及R9的任一個。
只要無損本發明的效果,則由通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物亦可具有鹼可溶性基以外的官能基。
通式(7)中的R4~R9的含義與上述通式(M)中的R4~R9相同,較佳的形態亦相同。
通式(7)中,Ma表示金屬原子或金屬化合物。作為金屬原子或金屬化合物,只要是可形成錯合物的金屬原子或金屬化合物,則可為任何金屬原子或金屬化合物,包括二價的金屬原子、二價的金屬氧化物、二價的金屬氫氧化物或二價的金屬氯化物。
例如,包括Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等,以及AlCl、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2、GeCl2等金屬氯化物,TiO、V=O等金屬氧化物,Si(OH)2等金屬氫氧化物。
該些之中,就錯合物的穩定性、分光特性、耐熱性、耐光性及製造適應性等的觀點而言,作為金屬原子或金屬化合物,較佳為Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO及V=O,更佳為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co及V=O,特佳為Zn、Co、V=O及Cu,最佳為Zn。
另外,通式(7)中,R10表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基,較佳為氫原子。
通式(7)中,X1只要是可鍵結於Ma上的基,則可為任意者,具體而言,可列舉水、醇類(例如甲醇、乙醇、丙醇) 等,進而可列舉「金屬螯合物」([1]阪口武一.上野景平著(1995年南江堂)、[2](1996年)、[3](1997年)等)中所記載的化合物。其中,就製造的觀點而言,較佳為水、羧酸化合物、醇類,更佳為水、羧酸化合物。
通式(7)中,作為由X2所表示的「中和Ma的電荷的基」,例如可列舉鹵素原子、羥基、羧酸基、磷酸基、磺酸基等,其中,就製造的觀點而言,較佳為鹵素原子、羥基、羧酸基、磺酸基,更佳為羥基、羧酸基。
通式(7)中,X1與X2可相互鍵結而與Ma一同形成5員、6員或7員的環。所形成的5員、6員及7員的環可為飽和環,亦可為不飽和環。另外,5員、6員及7員的環可僅包含碳原子,亦可形成具有至少1個選自氮原子、氧原子、或/及硫原子中的原子的雜環。
由通式(7)所表示的化合物的較佳的形態如下:R4~R9分別獨立為R4~R9的說明中所記載的較佳的形態,R10為R10的說明中所記載的較佳的形態,Ma為Zn、Cu、Co或V=O,X1為水或羧酸化合物,X2為羥基或羧酸基,X1與X2可相互鍵結而形成5員或6員環。
<<由通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物>>
色素多聚體(A)中的色素結構的適宜的形態之一為源自由下述的通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物的色素 結構。
通式(8)中,R11及R16分別獨立地表示烷基、烯基、芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷基胺基、芳基胺基或雜環胺基。R12~R15分別獨立地表示氫原子或取代基。R17表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。Ma表示金屬原子或金屬化合物。X2及X3分別獨立地表示NR(R表示氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基)、氮原子、氧原子或硫原子。Y1及Y2分別獨立地表示NRc(Rc表示氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基)、氮原子或碳原子。R11與Y1可相互鍵結而形成5員、6員或7員的環,R16與Y2可相互鍵結而形成5員、6員或7員的環。X1表示可與Ma鍵結的基,a表示0、1或2。
再者,由通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物包括互變異構物。
只要無損本發明的效果,則將由通式(8)所表示的二 吡咯亞甲基金屬錯化合物導入至由後述的通式(A)~通式(C)所表示的結構單元、由通式(D)所表示的多聚體中的部位並無特別限制,但較佳為R11~R17、X1、Y1~Y2的任一個。該些之中,就合成適合性的觀點而言,較佳為於R11~R16及X1的任一個上導入,更佳為於R11、R13、R14及R16的任一個上插入的形態,進而更佳為於R11及R16的任一個上插入的形態。
當色素多聚體(A)具有鹼可溶性基時,作為導入該鹼可溶性基的方法,於使用具有鹼可溶性基的色素單體或結構單元的情況下,可使用使上述通式(8)中的R11~R17、X1、Y1~Y2的任一個或兩個以上的取代基具有鹼可溶性基的方法。該些取代基之中,較佳為R11~R16及X1的任一個,更佳為R11、R13、R14及R16的任一個,進而更佳為R11及R16的任一個。
只要無損本發明的效果,則由通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物亦可具有鹼可溶性基以外的官能基。
於通式(8)中,R12~R15的含義與上述通式(M)中的R5~R8相同,較佳的形態亦相同。R17的含義與上述通式(M)中的R10相同,較佳的形態亦相同。Ma的含義與上述通式(7)中的Ma相同,較佳的範圍亦相同。
更詳細而言,上述通式(8)中的R12~R15之中,作為上述R12及R15,較佳為烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、腈基、醯亞胺基或胺甲醯基磺醯基,更佳為烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基、腈基、 醯亞胺基、胺甲醯基磺醯基,進而更佳為烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、腈基、醯亞胺基、胺甲醯基磺醯基,特佳為烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基。
作為上述R13及R14,較佳為經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基、經取代或未經取代的雜環基,更佳為經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基。此處,更佳的烷基、芳基及雜環基的具體例可同様地列舉通式(M)的上述R6及R7中所列舉的具體例。
通式(8)中,R11及R16表示烷基(較佳為碳數為1~36的直鏈、支鏈或環狀的烷基,更佳為碳數為1~12的直鏈、支鏈或環狀的烷基,例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十二基、環丙基、環戊基、環己基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數為2~24的烯基,更佳為碳數為2~12的烯基,例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數為6~36的芳基,更佳為碳數為6~18的芳基,例如苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數為1~24的雜環基,更佳為碳數為1~12的雜環基,例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、2-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、烷氧基(較佳為碳數為1~36的烷氧基,更佳為碳數為1~18的烷氧基,例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己氧基、2-乙基己氧基、十二烷氧基、環己氧基)、芳氧基(較佳為碳數為6~24的芳氧基,更佳為碳數為1~18的芳氧基,例如苯 氧基、萘氧基)、烷基胺基(較佳為碳數為1~36的烷基胺基,更佳為碳數為1~18的烷基胺基,例如甲胺基、乙胺基、丙胺基、丁胺基、己胺基、2-乙基己胺基、異丙胺基、第三丁胺基、第三辛胺基、環己胺基、N,N-二乙胺基、N,N-二丙胺基、N,N-二丁胺基、N-甲基-N-乙胺基)、芳基胺基(較佳為碳數為6~36的芳基胺基,更佳為碳數為6~18的芳基胺基,例如苯胺基、萘胺基、N,N-二苯胺基、N-乙基-N-苯胺基)或雜環胺基(較佳為碳數為1~24的雜環胺基,更佳為碳數為1~12的雜環胺基,例如2-胺基吡咯基、3-胺基吡唑基、2-胺基吡啶基、3-胺基吡啶基)。
作為R11及R16,上述之中,較佳為烷基、烯基、芳基、雜環基、烷基胺基、芳基胺基、雜環胺基,更佳為烷基、烯基、芳基、雜環基,進而更佳為烷基、烯基、芳基,特佳為烷基。
通式(8)中,當由R11及R16所表示的烷基、烯基、芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷基胺基、芳基胺基或雜環胺基為可進一步取代的基時,亦可由上述取代基群A的項中所說明的取代基取代,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
通式(8)中,X2及X3分別獨立地表示NR、氮原子、氧原子或硫原子。此處,R表示氫原子、烷基(較佳為碳數為1~36的直鏈、支鏈或環狀的烷基,更佳為碳數為1~12的直鏈、支鏈或環狀的烷基,例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十二基、環丙基、環戊基、 環己基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數為2~24的烯基,更佳為碳數為2~12的烯基,例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數為6~36的芳基,更佳為碳數為6~18的芳基,例如苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數為1~24的雜環基,更佳為碳數為1~12的雜環基,例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、醯基(較佳為碳數為1~24的醯基,更佳為碳數為2~18的醯基,例如乙醯基、三甲基乙醯基、2-乙基己基、苯甲醯基、環己醯基)、烷基磺醯基(較佳為碳數為1~24的烷基磺醯基,更佳為碳數為1~18的烷基磺醯基,例如甲基磺醯基、乙基磺醯基、異丙基磺醯基、環己基磺醯基)、芳基磺醯基(較佳為碳數為6~24的芳基磺醯基,更佳為碳數為6~18的芳基磺醯基,例如苯基磺醯基、萘基磺醯基)。
通式(8)中,Y1及Y2分別獨立地表示NRC、氮原子或碳原子,RC的含義與上述X2及X3的R相同,較佳的形態亦相同。
通式(8)中,R11與Y1可相互鍵結而與碳原子一同形成5員環(例如環戊烷環、吡咯啶環、四氫呋喃環、二氧雜環戊烷環、四氫噻吩環、吡咯環、呋喃環、噻吩環、吲哚環、苯并呋喃環、苯并噻吩環)、6員環(例如環己烷環、哌啶環、哌嗪環、嗎啉環、四氫吡喃環、二噁烷環、硫化環戊烷環、二噻烷環、苯環、哌啶環、哌嗪環、噠嗪環、喹啉環、喹唑啉環)或7員環(例如環庚烷環、六亞甲基亞胺環)。
上述通式(8)中,R16與Y2可相互鍵結而與碳原子一同形成5員環(例如環戊烷環、吡咯啶環、四氫呋喃環、二氧雜環戊烷環、四氫噻吩環、吡咯環、呋喃環、噻吩環、吲哚環、苯并呋喃環、苯并噻吩環)、6員環(例如環己烷環、哌啶環、哌嗪環、嗎啉環、四氫吡喃環、二噁烷環、硫化環戊烷環、二噻烷環、苯環、哌啶環、哌嗪環、噠嗪環、喹啉環、喹唑啉環)或7員環(例如環庚烷環、六亞甲基亞胺環)。
通式(8)中,當R11與Y1、及R16與Y2鍵結而形成的5員、6員及7員的環為可取代的環時,亦可由上述取代基群A的項中所說明的取代基取代,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
通式(8)中,較佳為R11及R16分別獨立為作為立體參數的-Es值為1.5以上的一價的取代基,更佳為-Es值為2.0以上的一價的取代基,進而更佳為-Es值為3.5以上的一價的取代基,特佳為-Es值為5.0以上的一價的取代基。
此處,立體參數-Es值是表示取代基的立體的體積大小的參數,使用文獻(J.A.Macphee等人,Tetrahedron(四面體),Vol.34,pp3553~3562,藤田稔夫編化學增刊107結構活性相關與藥物設計,1986年2月20日發行(化學同人))中所示的-Es'值。
通式(8)中,X1表示可與Ma鍵結的基,具體而言,可列舉與上述通式(7)中的X1相同的基,較佳的形態亦相同。a 表示0、1或2。
由通式(8)所表示的化合物的較佳的形態如下:R12~R15分別獨立為上述通式(M)中的R5~R8的說明中所記載的較佳的形態,R17為上述通式(M)中的R10的說明中所記載的較佳的形態,Ma為Zn、Cu、Co或V=O,X2為NR(R為氫原子、烷基)、氮原子、或氧原子,X3為NR(R為氫原子、烷基)或氧原子,Y1為NRC(RC為氫原子、烷基)、氮原子或碳原子,Y2為氮原子或碳原子,R11及R16分別獨立為烷基、芳基、雜環基、烷氧基或烷基胺基,X1為經由氧原子而鍵結的基,a為0或1。R11與Y1可相互鍵結而形成5員環或6員環,或者R16與Y2可相互鍵結而形成5員環、6員環。
由通式(8)所表示的化合物的更佳的形態如下:R12~R15分別獨立為由通式(M)所表示的化合物中的R5~R8的說明中所記載的較佳的形態,R17為上述通式(M)中的R10的說明中所記載的較佳的形態,Ma為Zn,X2及X3為氧原子,Y1為NH,Y2為氮原子,R11及R16分別獨立為烷基、芳基、雜環基、烷氧基或烷基胺基,X1為經由氧原子而鍵結的基,a為0或1。R11與Y1可相互鍵結而形成5員環或6員環,或者R16與Y2可相互鍵結而形成5員環、6員環。
由上述通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物的莫耳吸光係數就著色力的觀點而言,較佳為儘可能高。另外,最大吸收波長λmax就提昇色純度的觀點而言,較佳為 520 nm~580 nm,更佳為530 nm~570 nm。藉由處於該範圍中,可使用本發明的著色感放射線性組成物製作顏色再現性良好的彩色濾光片。
進而,具有源自二吡咯亞甲基色素的色素結構的色素多聚體(A)較佳為相對於450 nm下的吸光度,最大吸收波長(λmax)的吸光度為1,000倍以上,更佳為10,000倍以上,進而更佳為100,000倍以上。藉由該比率處於該範圍內,尤其當使用本發明的著色感放射線性組成物製作藍色彩色濾光片時,可形成透過率更高的彩色濾光片。再者,最大吸收波長及莫耳吸光係數是藉由分光光度計cary5(瓦里安(Varian)公司製造)來測定。
由上述通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物的熔點就溶解性的觀點而言,較佳為不過高。
由上述通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯化合物可藉由美國專利第4,774,339號說明書、美國專利第5,433,896號說明書、日本專利特開2001-240761號公報、日本專利特開2002-155052號公報、日本專利第3614586號公報、Aust.J.Chem(澳大利亞化學學報),1965,11,1835-1845、J.H.Boger等人,Heteroatom Chemistry(雜原子化學),Vol.1,No.5,389(1990)等中所記載的方法來合成。具體而言,可應用日本專利特開2008-292970號公報的段落0131~段落0157中所記載的方法。
以下表示二吡咯亞甲基色素的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為(PM-8)及(PM-18)。
(偶氮色素)
本發明的色素多聚體(A)的形態之一為如下的色素多聚體,其具有源自偶氮色素(偶氮化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,偶氮化合物是分子內具有包含N=N基的色素部位的化合物的總稱。
作為偶氮色素,可自公知的偶氮色素(例如經取代的偶氮苯(具體例為後述的(AZ-4)~(AZ-6)等))中適宜選擇來應用。
作為偶氮色素,可應用作為洋紅色素及黃色色素而為人所知的偶氮色素,該些之中,特佳為由下述通式(d)、通式(e)、通式(g)、通式(I-1)、通式(I-2)及通式(V)所表示的偶氮色素。
<<洋紅色素>>
作為偶氮色素,可適宜地列舉作為洋紅色素的由下述通式(d)所表示的偶氮色素。
通式(d)中,R1~R4分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基,A表示芳基或芳香族雜環基,Z1~Z3分別獨立地表示-C(R5)=、或-N=,R5表示氫原子或取代基。
對通式(d)中的各取代基進行詳細說明。
通式(d)中,R1~R4分別獨立地表示氫原子、烷基(較 佳為碳數為1~36的直鏈、支鏈或環狀的烷基,更佳為碳數為1~12的直鏈、支鏈或環狀的烷基,例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十二基、環丙基、環戊基、環己基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數為2~24的烯基,更佳為碳數為2~12的烯基,例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數為6~36的芳基,更佳為碳數為6~18的芳基,例如苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數為1~24的雜環基,更佳為碳數為1~12的雜環基,例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、醯基(較佳為碳數為1~24的醯基,更佳為碳數為2~18的醯基,例如乙醯基、三甲基乙醯基、2-乙基己基、苯甲醯基、環己醯基)、烷氧基羰基(較佳為碳數為1~10的烷氧基羰基,更佳為碳數為1~6的烷氧基羰基,例如甲氧基羰基、乙氧基羰基)、芳氧基羰基(較佳為碳數為6~15的芳氧基羰基,更佳為碳數為6~10的芳氧基羰基,例如苯氧基羰基)、胺甲醯基(較佳為碳數為1~8的胺甲醯基,更佳為碳數為2~6的胺甲醯基,例如二甲基胺甲醯基)、烷基磺醯基(較佳為碳數為1~24的烷基磺醯基,更佳為碳數為1~18的烷基磺醯基,例如甲基磺醯基、乙基磺醯基、異丙基磺醯基、環己基磺醯基)或芳基磺醯基(較佳為碳數為6~24的芳基磺醯基,更佳為碳數為6~18的芳基磺醯基,例如苯基磺醯基、萘基磺醯基)。
R1及R3較佳為分別獨立為烷基、烯基、芳基、雜環基。 R2及R4較佳為分別獨立為氫原子、烷基。
當R1~R4為可取代的基時,亦可由例如上述取代基群A的項中所說明的取代基取代,當具有2個以上的取代基時,該些取代基可相同,亦可不同。
R1與R2、R1與R5(Z1或Z2為-C(R5)=時)、R3與R4、R3與R5(Z1為-C(R5)=時)可相互鍵結而形成5員或6員的環。
Z1~Z3分別獨立地表示-C(R5)=或-N=,R5表示氫原子或取代基。作為R5的取代基,例如可列舉上述取代基的項中所說明的取代基。當R5的取代基為可進一步取代的基時,亦可由例如上述取代基群A的項中所說明的取代基取代,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
作為Z1~Z3,較佳為Z1為-N=,Z2為-C(R5)=或-N=,Z3為-C(R5)=。更佳為Z1為-N=,Z2及Z3為-C(R5)=。
A表示芳基或芳香族雜環基。A的芳基及芳香族雜環基可進一步具有例如上述取代基的項中所說明的取代基,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
A較佳為芳香族雜環基。更佳為可列舉咪唑環、吡唑環、三唑環、噻唑環、噁唑環、1,2,4-噻二唑環、1,3,4-噻二唑環、吡啶環、嘧啶環、吡嗪環、苯并吡唑環、苯并噻唑環等。
於通式(d)中,導入參與多聚體化(色素多聚體(A)的形成)的聚合性基的部位並無特別限制,但就合成適合性的觀點而言,較佳為導入至R1、R2及A的任一個或兩個以上,更佳為 R1及/或A。
由通式(d)所表示的偶氮色素更佳為由下述通式(d')所表示的偶氮色素。
通式(d')中,R1~R4的含義與上述通式(d)中的R1~R4相同,較佳的範圍亦相同。Ra表示哈米特(Hammett)的取代基常數σp值為0.2以上的吸電子基,Rb表示氫原子或一價的取代基。Rc表示烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基。
作為由Rb所表示的取代基,例如可列舉上述取代基群A的項中所說明的取代基。
作為偶氮色素,亦可適宜地列舉作為洋紅色素的由下述通式(e)所表示的偶氮色素。
通式(e)中,R11~R16分別獨立地表示氫原子或一價的取代基。R11與R12、及R15與R16可分別獨立地相互鍵結而形成環。
對通式(e)中的各取代基進行詳細說明。
R11~R16分別獨立地表示氫原子或一價的取代基。作為一價的取代基,例如可列舉鹵素原子、碳數為1~30的烷基(此處是指含有環烷基、雙環烷基的飽和脂肪族基)、碳數為2~30的烯基(此處是指含有環烯基、雙環烯基的具有雙鍵的不飽和脂肪族基)、碳數為2~30的炔基、碳數為6~30的芳基、碳數為3~30的雜環基、氰基、碳數為1~30的脂肪族氧基、碳數為6~30的芳氧基、碳數為2~30的醯氧基、碳數為1~30的胺甲醯氧基、碳數為2~30的脂肪族氧基羰氧基、碳數為7~30的芳氧基羰氧基、碳數為0~30的胺基(包含烷基胺基、苯胺基及雜環胺基)、碳數為2~30的醯基胺基、碳數為1~30的胺基羰基胺基、碳數為2~30的脂肪族氧基羰基胺基、碳數為7~30的芳氧基羰基胺基、碳數為0~30的胺磺醯基胺基、碳數為1~30的烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基、碳數為1~30的烷硫基、碳數為6~30的芳硫基、碳數為0~30的胺磺醯基、碳數為1~30的烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基、碳數為1~30的烷基磺醯基或芳基磺醯基、 碳數為2~30的醯基、碳數為6~30的芳氧基羰基、碳數為2~30的脂肪族氧基羰基、碳數為1~30的胺甲醯基、碳數為3~30的芳基或雜環偶氮基、醯亞胺基,各個基可進一步具有取代基。
R11及R12較佳為分別獨立為氫原子、雜環基、氰基,更佳為氰基。
R13及R14較佳為分別獨立為氫原子、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基,更佳為經取代或未經取代的烷基。
R15及R16較佳為分別獨立為氫原子、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基,更佳為經取代或未經取代的烷基。
於通式(e)中,導入參與多聚體化(色素多聚體(A)的形成)的聚合性基的部位並無特別限制,但就合成適合性的觀點而言,較佳為導入至R13、R15及R16的任一個或兩個以上,更佳為R13及/或R15,進而更佳為R13
上述偶氮色素之中,更佳為作為洋紅色素的由通式(e)所表示的偶氮色素。
-黃色色素-
作為偶氮色素,可適宜地列舉作為黃色色素的由下述通式(I-1)、通式(I-2)及通式(V)所表示的偶氮色素(亦包括該些的互變異構物)。
通式(I-1)及通式(I-2)中,Ri1、Ri2及Ri3分別獨立地表示一價的取代基。a表示0~5的整數。當a為2以上時,可由鄰接的2個Ri1連結而形成縮環。b及c分別獨立地表示0~4的整數。當b及c為1以上時,可由鄰接的2個Ri1連結而形成縮環。A32表示下述通式(IA)、通式(IB)或通式(IC)。
通式(IA)中,R42表示氫原子、烷基或芳基。R43表示一價的取代基。R44表示氫原子、烷基或芳基。
通式(IB)
通式(IB)中,R44及R45分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。T表示氧原子或硫原子。
通式(IC)中,R46表示氫原子、烷基或芳基。R47表示一價的取代基。
作為通式(I-1)及通式(I-2)中的Ri1、Ri2及Ri3所表示的一價的取代基,可列舉上述取代基群A的項中所列舉的取代基。作為該一價的取代基,更具體而言,可列舉烷基(較佳為碳數為1~10的直鏈、支鏈或環狀的烷基,更佳為碳數為1~5的直鏈、支鏈或環狀的烷基,例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十二基、環丙基、環戊基、環己基、1-金剛烷基)、芳基(較佳為碳數為6~36的芳基,更佳為碳數為6~18的芳基,例如苯基、萘基、磺醯胺基)、烯基(碳數為1~10的直鏈、支鏈或環狀的烯基,更佳為碳數為1~5的直鏈、支鏈或環狀的烯基,例如乙烯基、烯丙基、異戊二烯基、 香葉基、油烯基)、磺基、胺磺醯基(較佳為碳數為1~10的烷基胺磺醯基),特佳為碳數為1~5的烷基及碳數為1~10的烷基胺磺醯基。a較佳為1~3。b及c較佳為1~3。
通式(IA)中,R42表示氫原子、烷基或芳基,特佳為碳數為1~5的烷基及苯基。作為由R43所表示的一價的取代基,可列舉上述取代基群A的項中所列舉的取代基,特佳為氰基、胺甲醯基。R44表示氫原子、烷基或芳基,特佳為碳數為1~5的烷基及苯基。
通式(IB)中,T表示氧原子或硫原子,較佳為氧原子。R44及R45分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基,特佳為碳數為1~5的烷基及苯基。
通式(IC)中,R46表示氫原子、烷基或芳基,特佳為碳數為1~5的烷基及苯基。作為R47所表示的一價的取代基,可列舉上述取代基群A的項中所列舉的取代基,較佳為氫原子、烷基及芳基,特佳為碳數為1~5的烷基及苯基。
通式(V)中,Mv表示Cr或Co。Rv1表示氧原子或-COO-。Rv2及Rv3分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。v表示0~4的整數。Rv4表示一價的取代基。當v為2以上時,鄰接的Rv4彼此可相互連結而形成環。
作為Rv2及Rv3,特佳為碳數為1~5的烷基或苯基。作為Rv4所表示的一價的取代基,可列舉上述取代基群A的項中所列舉的取代基,特佳為烷基、芳基、硝基、胺磺醯基及磺基,最佳為碳數為1~5的烷基、苯基、硝基。
上述偶氮色素之中,較佳為作為黃色色素的由通式(I-1)、通式(I-2)及通式(V)所表示的偶氮色素。
以下表示偶氮色素的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為(AZ-7)~(AZ-8)、(2-1)、(2-2)、(2-4)、(3-1)~(3-5)、(3-12)~(3-15)。
(蒽醌色素)
本發明的色素多聚體(A)的形態之一為具有源自蒽醌色素(蒽醌化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚 體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(AQ-1)~通式(AQ-3)所表示的化合物(蒽醌化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,蒽醌化合物是分子內具有包含蒽醌骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(AQ-1)中,A及B分別獨立地表示胺基、羥基、烷氧基或氫原子。Xqa表示ORqa1或NRqa2Rqa3。Rqa1~Rqa3分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。Rq1~Rq4表示取代基。Rq1~Rq4可採用的取代基與上述取代基群A的項中所列舉的取代基相同。Ra及Rb分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。
通式(AQ-2)中,C及D的含義與通式(AQ-1)中的A及B相同。Xqb表示ORqb1或NRqb2Rqb3。Rqb1~Rqb3分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。Rq5~Rq8表示取代基。Rq5~Rq8的含義與通式(AQ-1)中的Rq1~Rq4相同。Rc的含義與通式(AQ-1)中的Ra或Rb相同。
通式(AQ-3)中,E及F的含義與通式(AQ-1)中的A及B相同。Xqc表示ORqc1或NRqc2Rqc3。Rqc1~Rqc3分別獨立 地表示氫原子、烷基或芳基。Rq9~Rq12的含義與通式(AQ-1)中的Rq1~Rq4相同。Rd的含義與通式(AQ-1)中的Ra或Rb相同。
通式(AQ-1)中,A及B較佳為氫原子。Xqa較佳為ORqa1(Rqa1為氫原子、碳數為1~5的烷基或苯基)、NRqa2Raq3(Rqa2為氫原子,Rqa3為碳數為1~5的烷基或苯基)。Rq1~Rq4較佳為氫原子、鹵素原子或烷氧基。Ra較佳為氫原子。Rb較佳為氫原子、碳數為1~5的烷基或苯基。
通式(AQ-2)中,C及D較佳為氫原子。Xqb較佳為ORqb1(Rqb1為氫原子、碳數為1~5的烷基或苯基)、NRqb2Rbq3(Rqb2為氫原子,Rqb3為碳數為1~5的烷基或苯基)。Rq5~Rq8較佳為氫原子、鹵素原子或烷氧基。Rc較佳為氫原子、碳數為1~5的烷基、苯基。
通式(AQ-3)中,E及F較佳為氫原子。Xqc較佳為ORqc1(Rqc1為氫原子、碳數為1~5的烷基或苯基)、NRqc2Rcq3(Rqc2為氫原子,Rqc3為碳數為1~5的烷基或苯基)。Rq9~Rq12較佳為氫原子、鹵素原子或烷氧基。Rd較佳為氫原子、碳數為1~5的烷基或苯基。
以下表示蒽醌色素的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為(aq-1)~(aq-4)、(aq-13)及(aq-14)。
(三苯基甲烷色素)
本發明的色素多聚體的形態之一為具有源自三苯基甲烷色素(三苯基甲烷化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(TP)所表示的化合物(三苯基甲烷化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,三苯基甲烷化合物是分子內具有包含三苯基甲烷骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(TP)中,Rtp1~Rtp4分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。Rtp5表示氫原子、烷基、芳基或NRtp9Rtp10(Rtp9及Rtp10表示氫原子、烷基或芳基)。Rtp6、Rtp7及Rtp8表示取代基。a、b及c表示0~4的整數。當a、b及c為2以上時,Rtp6、Rtp7及Rtp8可彼此連結而形成環。X-表示陰離子。
作為Rtp1~Rtp6,較佳為氫原子、碳數為1~5的直鏈或分支的烷基及苯基。Rtp5較佳為氫原子或NRtp9Rtp10,最佳為NRtp9Rtp10。Rtp9及Rtp10較佳為氫原子、碳數為1~5的直鏈或分支的烷基或苯基。Rtp6、Rtp7及Rtp8所表示的取代基可使用上述取代基群A的項中所列舉的取代基,尤其,較佳為碳數為1~5的直鏈或分支的烷基、碳數為1~5的烯基、碳數為6~15的芳基、羧基或磺基,更佳為碳數為1~5的直鏈或分支的烷基、碳數為1~5的烯基、苯基或羧基。尤其,Rtp6、Rtp8較佳為碳數為1~5的烷基,Rtp7較佳為烯基(特佳為鄰接的2個烯基連結而成的苯基)、苯基或羧基。
a、b或c分別獨立地表示0~4的整數。尤其,a及b 較佳為0~1,c較佳為0~2。
X-表示陰離子。作為X-,具體而言,可列舉:氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、硫氰酸陰離子、六氟化磷陰離子、六氟化銻陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子,乙酸陰離子、苯甲酸陰離子等羧酸陰離子,苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、三氟甲磺酸陰離子等有機磺酸陰離子,辛基磷酸陰離子、十二基磷酸陰離子、十八基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子等有機磷酸陰離子等。X-可與色素骨架連結,或者亦可與色素多聚體的一部分(高分子鏈等)連結。
X-較佳為氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、羧酸陰離子,最佳為過氯酸陰離子、羧酸陰離子。
下述表示由通式(TP)所表示的化合物的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為(tp-4)、(tp-5)、(tp-6)及(tp-8)。
(二苯并哌喃色素)
本發明中的色素多聚體的較佳的形態為具有源自二苯并哌喃色素(二苯并哌喃化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(J)所表示的二苯并哌喃化合物的部分結構作為色素部位的部分結構。
通式(J)中,R81、R82、R83及R84分別獨立地表示氫原子或一價的取代基,R85分別獨立地表示一價的取代基,m表示0~5的整數。X-表示陰離子。
通式(J)中的R81~R84及R85可採用的取代基與上述取代基群A的項中所列舉的取代基相同。
通式(J)中的R81與R82、R83與R84、及m為2以上時的R85彼此可分別獨立地相互鍵結而形成5員、6員或7員的飽和環,或者5員、6員或7員的不飽和環。當所形成的5員、6員或7員的環為可進一步取代的基時,亦可由上述R81~R85中所說明的取代基取代,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
當上述通式(J)中的R81與R82、R83與R84、及m為2以上時的R85彼此分別獨立地相互鍵結而形成不具有取代基的5員、6員及7員的飽和環,或者5員、6員及7員的不飽和環時,作為不具有取代基的5員、6員及7員的飽和環,或者5員、6員及7員的不飽和環,例如可列舉吡咯環、呋喃環、噻吩環、吡唑環、咪唑環、三唑環、噁唑環、噻唑環、吡咯啶環、哌啶環、環 戊烯環、環己烯環、苯環、吡啶環、吡嗪環、噠嗪環,較佳為可列舉苯環、吡啶環。
尤其,較佳為R82及R83為氫原子,R81及R84為經取代或未經取代的苯基。另外,較佳為R85為鹵素原子、碳數為1~5的直鏈或分支的烷基、磺基、磺醯胺基、羧基。R81及R84的苯基所具有的取代基最佳為氫原子、鹵素原子、碳數為1~5的直鏈或分支的烷基、磺基、磺醯胺基、羧基。
X-表示陰離子。作為X-,具體而言,可列舉:氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、硫氰酸陰離子、六氟化磷陰離子、六氟化銻陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子,乙酸陰離子、苯甲酸陰離子等羧酸陰離子,苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、三氟甲磺酸陰離子等有機磺酸陰離子,辛基磷酸陰離子、十二基磷酸陰離子、十八基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子等有機磷酸陰離子等。X-可與色素骨架連結,或者亦可與色素多聚體的一部分(高分子鏈等)連結。
X-較佳為氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、羧酸陰離子,最佳為過氯酸陰離子、羧酸陰離子。
由通式(J)所表示的具有二苯并哌喃骨架的化合物可藉由文獻中記載的方法來合成。具體而言,可應用Tetrahedron Letters(四面體通訊),2003年,vol.44,No.23,第4355頁~第4360頁;Tetrahedron(四面體),2005年,vol.61,No.12,第3097頁~第3106頁等中所記載的方法。
以下表示二苯并哌喃化合物的具體例,但本發明並不限定於此。
式(1a)~式(1f)中,Rb及Rc分別獨立地表示氫原子、-SO3-、-CO2H或-SO2NHRa。Rd、Re及Rf分別獨立地表示-SO3-、-SO3Na或-SO2NHRa
Rg、Rh及Ri分別獨立地表示氫原子、-SO3、-SO3H或-SO2NHRa
Ra表示碳數為1~10的烷基,較佳為表示2-乙基己基。X及a表示與上述相同的含義。
由式(1b)所表示的化合物是由式(1b-1)所表示的化合物的互變異構物。
其中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為式(1e)及式(1f)。
(花青色素)
本發明的色素多聚體的形態之一為具有源自花青色素(花青化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(PM)所表示的化合物(花青化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,花青化合物是分子內具有包含花青骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(PM)中,環Z1及環Z2分別獨立地表示可具有取代基的雜環。1表示0以上、3以下的整數。X-表示陰離子。
環Z1及環Z2分別獨立,可列舉噁唑、苯并噁唑、噁唑啉、噻唑、噻唑啉、苯并噻唑、假吲哚(indolenine)、苯并假吲哚(benzoindolenine)、1,3-噻二嗪等。
環Z1及環Z2可採用的取代基與上述取代基群A的項中所列舉的取代基相同。X-可列舉氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、硫氰酸陰離子、六氟化磷陰離子、六氟化銻陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子,乙酸陰離子、苯甲酸陰離子等羧酸陰離子,苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、三氟甲磺酸陰離子等有機磺酸陰離子,辛基磷酸陰離子、十二基磷酸陰離子、十八基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子等有機磷酸陰離子等。X-可與色素骨架連結,或者亦可與色素多聚體的一部分(高分子鏈等)連結。
由通式(PM)所表示的化合物較佳為由下述通式(PM-2)所表示的化合物。
通式(PM-2)中,環Z5及環Z6分別獨立地表示可具有取代基的苯環或可具有取代基的萘環。
Y-表示Cl-、Br-、I-、ClO4 -、OH-、一價的有機羧酸陰離子、一價的有機磺酸陰離子、一價的硼陰離子或一價的有機金屬 錯合物陰離子。Y-可與色素骨架連結,或者亦可與色素多聚體的一部分(高分子鏈等)連結。
n表示0以上、3以下的整數。
A1及A2分別獨立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碳原子或氮原子。
R1及R2分別獨立地表示可具有取代基的一價的碳數為1~20的脂肪族烴基。
R3及R4分別獨立地表示氫原子或一價的碳數為1~6的脂肪族烴基,或者表示1個R3與1個R4連結而形成的二價的碳數為2~6的脂肪族烴基。
a及b分別獨立地表示0以上、2以下的整數。
通式(PM-2)中,Y-較佳為氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、羧酸陰離子,最佳為氯陰離子、過氯酸陰離子、羧酸陰離子。n較佳為1。A1及A2較佳為分別獨立為氧原子、硫原子或碳原子,最佳為兩者為碳原子。
以下表示花青化合物的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,較佳為由(pm-1)~(pm-6)、(pm-9)及(pm-10)所表示的結構,其中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為由(pm-1)、(pm-2)及(pm-10)所表示的色素結構。
(方酸色素)
本發明的色素多聚體的形態之一為具有源自方酸色素(方酸化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(K)所 表示的化合物(方酸化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,方酸化合物是分子內具有包含方酸骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(K)中,A及B分別獨立地表示芳基或雜環基。作為芳基,較佳為碳數為6~48的芳基,更佳為碳數為6~24的芳基,例如可列舉苯基、萘基等。作為雜環基,較佳為五員環或六員環的雜環基,例如可列舉:吡咯基、咪唑基、吡唑基、噻吩基、吡啶基、嘧啶基、噠嗪基、三唑-1-基、呋喃基、噻二唑基等。
作為由通式(K)所表示的化合物,特佳為由下述通式(K-1)、通式(K-2)、通式(K-3)或通式(K-4)所表示的化合物。
通式(K-1)中,R91、R92、R94、R95、R96及R98分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、直鏈或分支的烷基、環烷基、直鏈或分支的烯基、環烯基、炔基、芳基、雜環基、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、矽氧基、雜環氧基、醯氧基、胺甲醯氧基、胺基(包含烷基胺基、苯胺基)、醯基胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、胺磺醯基、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基、醯基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、胺甲醯基、芳基偶氮基或雜環偶氮基、醯亞胺基、膦基、次膦基、次膦氧基、次膦胺基或矽烷基。
R93及R97分別獨立地表示氫原子、直鏈或分支的烷基、環烷基、環烯基、炔基、芳基或雜環基。
R91與R92、及R95與R96可分別相互連結而形成環。
通式(K-1)中的R91、R92、R94、R95、R96、R98可採用的取代基與上述取代基群A的項中所列舉的取代基相同。
較佳為R91~R98分別獨立為氫原子、烷基、羥基、胺基、芳基或雜環基,更佳為R93、R94、R97及R98為烷基,且R91與R92、及R95與R96相互連結而形成芳基環,最佳為R93、R94、R97及R98為碳數為1~20的烷基,且R91與R92、及R95與R96相互連結而形成苯環。
通式(K-2)中,R101、R103、R104、R105、R107及R108的含義分別與上述通式(K-1)中的R91、R93、R94、R95、R97及R98相同。R103及R107的含義與上述通式(K-1)中的R93及R97相同。
通式(K-2)中,較佳為R101、R103、R104、R105、R107及R108為氫原子、烷基、羥基、胺基、芳基或雜環基,更佳為R101、R103、R105及R107為烷基或芳基,且R104及R108為羥基或胺基,進而更佳為R101、R103、R105及R107為碳數為1~20的烷基,且R104及R108為羥基。R103及R107較佳為氫原子、直鏈或分支的烷基及芳基,更佳為碳數為1~5的烷基及苯基。
通式(K-3)中,R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115、R118及R119的含義與上述通式(K-3)中的R91、R93、R94、R95、R97及R98相同。R116及R117的含義與上述通式(K-1)中的R93及R97相同。
通式(K-3)中,較佳為R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115、R118及R119為氫原子、鹵素原子、直鏈或分支的烷基、羥基、烷氧基。尤其,最佳為R109、R113、R115、R118及R119為氫原子,R110、R111及R112為氫原子或烷氧基,R114為氫原子、鹵素原子、羥基、碳數為1~5的烷基或碳數為1~5的烷氧基。
通式(K-4)中,R120表示鹵素原子、烷基、烷氧基或烯基。m表示1~4的整數。n表示0~4的整數。
R120特佳為碳數為1~5的烷基或碳數為1~5的烷氧基。m較佳為1~3,m最佳為3。n較佳為0~3,最較佳為0或1。
作為可形成本發明中的色素結構的色素化合物,就色調的觀點而言,較佳為由上述通式(K-1)所表示的方酸化合物。
由上述通式(K-1)~通式(K-4)所表示的方酸化合物可應用J.Chem.Soc.,Perkin Trans(英國化學會誌:普爾金會刊).1,2000,p.599.中所記載的方法來合成。
下述表示由通式(K-1)~通式(K-4)所表示的方酸化合物的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,較佳為(sq-1)、(sq-2)、(sq-3)、(sq-7)、(sq-8)、(sq-9)、(sq-10)、(sq-11)及(sq-12)。
(喹酞酮色素)
本發明的色素多聚體的形態之一為具有源自喹酞酮色素(喹酞酮化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(QP)所表示的化合物(喹酞酮化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,喹酞酮化合物是分子內具有包含喹酞酮骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(QP)中,Rqp1~Rqp6分別獨立地表示氫原子或取代基。當Rqp1~Rqp6的至少2個處於鄰接位時,可相互鍵結而形成環,該環可進一步具有取代基。
Rqp1~Rqp6所表示的取代基表示上述取代基群A的項中所列舉的取代基。作為Rqp1~Rqp6所表示的取代基,較佳為鹵素原子、烷基、烯基及芳基。尤其,較佳為Rqp1與Rqp2、及Rqp5 與Rqp6相互連結而形成經取代或未經取代的苯基。Rqp3及Rqp4較佳為氫原子或氯原子、溴原子。
作為Rqp1與Rqp2、及Rqp5與Rqp6相互連結而形成的苯基可具有的取代基,可列舉上述取代基的項中所列舉的取代基,較佳為鹵素原子、胺甲醯基、胺基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基及烷氧基羰基。
以下表示由通式(QP)所表示的化合物的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,較佳為(QP-1)~(QP-5)。
(酞青素色素)
本發明的色素多聚體的形態之一為具有源自酞青素色素(酞青素化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(F)所表示的化合物(酞青素化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,酞青素化合物是分子內具有包含酞青素骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(F)中,M1表示金屬類,Z1、Z2、Z3及Z4分別獨立地表示為了形成包含選自氫原子、碳原子及氮原子的原子而構成的6員環所需的原子群。
對通式(F)進行詳細說明。
通式(F)中,作為由M1所表示的金屬類,例如包括Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co及Fe等金屬原子,AlCl、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2、GeCl2 等金屬氯化物,TiO、VO等金屬氧化物,以及Si(OH)2等金屬氫氧化物,特佳為Cu、Zn。
通式(F)中,Z1、Z2、Z3及Z4分別獨立地表示為了形成包含選自氫原子、碳原子及氮原子的原子而構成的6員環所需的原子群。該6員環可為飽和環,亦可為不飽和環,可未經取代,亦可具有取代基。作為取代基,可列舉上述取代基群A的項中所列舉的取代基。另外,當該6員環具有2個以上的取代基時,該些取代基可相同,亦可不同。進而,該6員環亦可與其他5員或6員的環進行縮合。
6員環包括苯環、環己烷環等。
由通式(F)所表示的酞青素色素殘基之中,特佳為源自由下述通式(F-1)所表示的酞青素色素的殘基。
通式(F-1)中,M2的含義與上述通式(F)中的M1相 同,該通式(F-1)中,M2的含義與上述通式(F)中的M1相同,其較佳的形態亦相同。
上述通式(F-1)中,R101~R116分別獨立地表示氫原子或取代基,當由R101~R116所表示的取代基為可進一步取代的基時,亦可由上述取代基群A的項中所說明的基取代,當由2個以上的取代基取代時,該些取代基可相同,亦可不同。
由R101~R116所表示的取代基較佳為上述取代基中的氫原子、SO2NR117R118(R117及R118為氫原子、直鏈或分支的碳數為3~20的可具有取代基的烷基)、SR119(R119為直鏈或分支的碳數為3~20的可具有取代基的烷基)。
以下表示由通式(F)所表示的化合物的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為(Ph-1)~(Ph-3)。
(亞酞青素化合物)
本發明的色素多聚體的形態之一為具有源自亞酞青素色素(亞酞青素化合物)的部分結構的色素多聚體。作為該色素多聚體(A),包括如下的色素多聚體,其具有源自由下述通式(SP)所表示的化合物(亞酞青素化合物)的部分結構作為色素部位的部分結構。於本發明中,亞酞青素化合物是分子內具有包含亞酞 青素骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(SP)中,Z1~Z12分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、羥基、巰基、胺基、烷氧基、芳氧基、硫醚基。X表示陰離子。
對通式(SP)進行詳細說明。
通式(SP)中的Z1~Z12可具有的烷基表示直鏈或分支的經取代或未經取代的烷基。作為Z1~Z12,尤其較佳為碳數為1~20,更佳為碳數為1~10。作為Z1~Z12可具有的取代基,可列舉上述取代基群A的項中所列舉的取代基,特佳為氟原子、羥基及巰基。
通式(SP)中的X表示陰離子。作為X,具體而言,可列舉:氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、硫氰酸陰離子、六氟化磷陰離子、六氟化銻陰離子、四氟化硼陰離子等無機系陰離子,乙酸陰離子、苯甲酸陰離子等羧酸陰 離子,苯磺酸陰離子、甲苯磺酸陰離子、三氟甲磺酸陰離子等有機磺酸陰離子,辛基磷酸陰離子、十二基磷酸陰離子、十八基磷酸陰離子、苯基磷酸陰離子、壬基苯基磷酸陰離子等有機磷酸陰離子等。X可與色素骨架連結,或者亦可與色素多聚體的一部分(高分子鏈等)連結。
X較佳為氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、過氯酸陰離子、羧酸陰離子、磷酸陰離子,最佳為過氯酸陰離子、羧酸陰離子。
以下表示亞酞青素化合物的具體例,但本發明並不限定於此。
上述具體例之中,就顏色特性及耐熱性的觀點而言,特佳為(SP-2)、(SP-3)、(SP-4)、(SP-5)、(SP-6)及(SP-7)。
(本發明的著色感放射線性組成物中所使用的色素多聚體的結構)
作為本發明的著色感放射線性組成物中所使用的色素多聚體(A),較佳為包含由下述通式(A)、通式(B)及通式(C)所表示的構成單元的至少一個而成的色素多聚體,或者由通式(D)所表示的色素多聚體。其中,更佳為包含如由下述通式(A)、通 式(B)及通式(C)所表示的具有色素結構的構成單元(重複單元)的至少1種的色素多聚體。
對該些依次進行說明。
<由通式(A)所表示的構成單元>
通式(A)中,X1表示藉由聚合而形成的連結基,L1表示單鍵或二價的連結基。Dye I表示色素結構。
以下,對通式(A)進行詳細說明。
通式(A)中,X1表示藉由聚合而形成的連結基。即,其是指形成相當於藉由聚合反應而形成的主鏈的重複單元的部分。再者,由2個*所表示的部位成為重複單元。作為X1,只要是由公知的可進行聚合的單體形成的連結基,則並無特別限制,特佳為由下述(XX-1)~下述(X-24)所表示的連結基,最佳為由(XX-1)及(XX-2)所表示的(甲基)丙烯酸系連結鏈、由(XX-10)~(XX-17)所表示的苯乙烯系連結鏈、以及由(XX-24)所表示的乙烯系連結鏈。(XX-1)~(X-24)中,表示在由*所示的部位 與L1連結。Me表示甲基。另外,(XX-18)及(XX-19)中的R表示氫原子、碳數為1~5的烷基或苯基。
通式(A)中,L1表示單鍵或二價的連結基。作為L1表示二價的連結基時的該二價的連結基,表示碳數為1~30的經 取代或未經取代的伸烷基(例如亞甲基、伸乙基、三亞甲基、伸丙基、伸丁基等)、碳數為6~30的經取代或未經取代的伸芳基(例如伸苯基、伸萘基等)、經取代或未經取代的雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-C(=O)-、-CO2-、-NR-、-CONR-、-O2C-、-SO-、-SO2-、以及將該些基的2個以上加以連結而形成的連結基。此處,R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基。
通式(A)中,Dye I表示源自上述色素化合物的色素結構。
具有由通式(A)所表示的構成單元的色素多聚體可藉由如下方法來合成:(1)藉由加成聚合來合成具有色素殘基的單體的方法;(2)藉由使具有異氰酸酯基、酸酐基或環氧基等高反應性官能基的聚合物、與具有可與高反應性基進行反應的官能基(羥基、一級胺基或二級胺基、羧基等)的色素進行反應的方法。
加成聚合可應用公知的加成聚合(自由基聚合、陰離子聚合、離子聚合),其中,藉由自由基聚合來合成因可使反應條件溫和化,且不使色素結構分解,故特佳。於自由基聚合中,可應用公知的反應條件。
其中,本發明中的具有由通式(A)所表示的構成單元的色素多聚體就耐熱性的觀點而言,較佳為使用具有乙烯性不飽和鍵的色素單體進行自由基聚合所獲得的自由基聚合物。
以下表示由通式(A)所表示的構成單元的具體例,但本發明並不限定於此。
<由通式(B)所表示的構成單元>
其次,對由通式(B)所表示的構成單元進行詳細說明。
通式(B)中,X2的含義與上述通式(A)中的X2相同。 L2的含義與上述通式(A)中的L1相同。Y2表示可與Dye II進行離子鍵結或配位鍵結的基。Dye II表示色素結構。以下進行詳細說明。
通式(B)中,X2的含義與上述通式(A)中的X1相同,較佳的範圍亦相同。L2的含義與上述通式(A)中的L1相同,較佳的範圍亦相同。Y2只要是可與Dye II進行離子鍵結或配位鍵結的基即可,可為陰離子性基或陽離子性基的任一種。作為陰離子性基,可列舉COO-、PO3H-、SO3 -、-SO3NH-、-SO3N-CO-等,較佳為COO-、PO3H-、SO3 -
作為陽離子性基,可列舉經取代或未經取代的鎓陽離子(例如銨、吡啶鎓、咪唑鎓及鏻等),特佳為銨陽離子。
Y2可與Dye II所具有的陰離子部(COO-、SO3 -、O-等)或陽離子部(上述鎓陽離子或金屬陽離子等)進行鍵結。
本發明中的具有由通式(B)所表示的構成單元的色素多聚體可與上述具有由通式(A)所表示的構成單元的色素多聚體同樣地合成。
其中,具有由通式(B)所表示的構成單元的色素多聚體就耐熱性的觀點而言,較佳為使用具有乙烯性不飽和鍵的色素單體進行自由基聚合所獲得的自由基聚合物。
以下表示由通式(B)所表示的構成單元具體例,但本發明並不限定於此。
<由通式(C)所表示的構成單元>
通式(C)中,L3表示單鍵或二價的連結基。Dye III表 示色素部分結構。m表示0或1。以下,進行詳細說明。
上述通式(C)中,作為由L3所表示的二價的連結基,可適宜地列舉:碳數為1~30的經取代或未經取代的直鏈、分支或環狀伸烷基(例如亞甲基、伸乙基、三亞甲基、伸丙基、伸丁基等)、碳數為6~30的經取代或未經取代的伸芳基(例如伸苯基、伸萘基等)、經取代或未經取代的雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-NR-(R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基)、-C(=O)-、-SO-、-SO2-、以及將該些基的2個以上加以連結而形成的連結基。m表示0或1,較佳為1。
以下記載適合用作由通式(C)中的L3所表示的二價的連結基的具體例,但本發明的L3並不限定於該些具體例。
具有由通式(C)所表示的構成單元的色素多聚體是藉由逐步聚合來合成。所謂逐步聚合,可列舉聚加成(例如二異氰酸基化合物與二醇的反應、二環氧化合物與二羧酸的反應、四羧酸二酐與二醇的反應等)及聚縮合(例如二羧酸與二醇的反應、二羧酸與二胺的反應等)。其中,藉由聚加成反應來合成因可使反應條件溫和化,且不使色素結構分解,故特佳。於逐步聚合中,可應用公知的反應條件。
以下表示由通式(C)所表示的構成單元的具體例,但 本發明並不限定於此。
<由通式(D)所表示的色素多聚體>
其次,對由通式(D)所表示的色素多聚體進行詳細說明。
通式(D)中,L4表示n價的連結基。n表示2~20的 整數。當n為2以上時,Dye IV的結構可相同,亦可不同。Dye IV表示色素結構。
通式(D)中,n較佳為3~15,特佳為3~6。
通式(D)中,當n為2時,作為由L4所表示的二價的連結基,可適宜地列舉:碳數為1~30的經取代或未經取代的伸烷基(例如亞甲基、伸乙基、三亞甲基、伸丙基、伸丁基等)、碳數為6~30的經取代或未經取代的伸芳基(例如伸苯基、伸萘基等)、經取代或未經取代的雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-NR-(R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基)、-C(=O)-、-SO-、-SO2-、以及將該些基的2個以上加以連結而形成的連結基。
n為3以上的n價的連結基可列舉如下的連結基:將經取代或未經取代的伸芳基(1,3,5-伸苯基、1,2,4-伸苯基、1,4,5,8-伸萘基等)、雜環連結基(例如1,3,5-三嗪基等)、伸烷基連結基等作為中心母核,且取代有上述二價的連結基而形成的連結基。
以下表示通式(D)中的L4的具體例,但本發明並不限定於此。
以下表示通式(D)中的Dye IV的具體例,但本發明並不限定於此。
具有由通式(A)、通式(B)及/或通式(C)所表示的構成單元的色素多聚體,及由通式(D)所表示的色素多聚體之中,具有由通式(A)及通式(C)所表示的構成單元的色素多聚體、及由通式(D)所表示的色素多聚體因源自色素的部分結構於分子結構中藉由共價鍵而連結,故含有該色素多聚體的著色感放射線性組成物的耐熱性優異。因此,當將該著色感放射線性組成物應用於具有高溫製程的圖案形成時,對於抑制朝鄰接的其他著色圖 案的色移有效,故較佳。另外,尤其由通式(A)所表示的化合物容易控制色素多聚體的分子量而較佳。
(色素多聚體(A)所具有的聚合性基)
本發明中的色素多聚體(A)較佳為具有聚合性基。
作為聚合性基,可使用能夠藉由自由基、酸或熱而進行交聯的公知的聚合性基,例如可列舉含有乙烯性不飽和鍵的基、環狀醚基(環氧基、氧環丁烷(oxetane)基)、羥甲基等,尤其,較佳為含有乙烯性不飽和鍵的基,更佳為(甲基)丙烯醯基,最佳為源自(甲基)丙烯酸縮水甘油酯(glycidyl(meth)acrylate)及(甲基)丙烯酸3,4-環氧基-環己基甲酯(3,4-epoxy-cyclohexylmethyl(meth)acrylate)的(甲基)丙烯醯基。
作為聚合性基的導入方法,有(1)利用含有聚合性基的化合物對色素多聚體進行改質後導入的方法、(2)將色素單體與含有聚合性基的化合物共聚後導入的方法等。以下,進行詳細描述。
-(1)利用含有聚合性基的化合物對色素多聚體進行改質後導入的方法-
作為利用含有聚合性基的化合物對色素多聚體進行改質後導入的方法,可無特別限制地使用公知的方法。就製造方面的觀點而言,較佳為例如(a)使色素多聚體所具有的羧酸與含有不飽和鍵的環氧化合物進行反應的方法、(b)使色素多聚體所具有的羥基或胺基與含有不飽和鍵的異氰酸酯化合物進行反應的方 法、(c)使色素多聚體所具有的環氧化合物與含有不飽和鍵的羧酸化合物進行反應的方法。
作為上述(a)使色素多聚體所具有的羧酸與含有不飽和鍵的環氧化合物進行反應的方法中的含有不飽和鍵的環氧化合物,可列舉甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚、丙烯酸3,4-環氧基-環己基甲酯、甲基丙烯酸3,4-環氧基-環己基甲酯等,尤其甲基丙烯酸縮水甘油酯及甲基丙烯酸3,4-環氧基-環己基甲酯的交聯性及保存穩定性優異,而較佳。反應條件可使用公知的條件。
作為上述(b)使色素多聚體所具有的羥基或胺基與含有不飽和鍵的異氰酸酯化合物進行反應的方法中的含有不飽和鍵的異氰酸酯化合物,可列舉甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯、丙烯酸2-異氰酸基乙酯、異氰酸1,1-雙(丙烯醯氧基甲基)乙酯等,但甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯的交聯性及保存穩定性優異,而較佳。反應條件可使用公知的條件。
作為上述(c)使色素多聚體所具有的環氧化合物與含有不飽和鍵的羧酸化合物進行反應的方法中的含有不飽和鍵的羧酸化合物,只要是公知的具有(甲基)丙烯醯氧基的羧酸化合物,則可無特別限制地使用,但較佳為甲基丙烯酸及丙烯酸,尤其甲基丙烯酸的交聯性及保存穩定性優異而較佳。反應條件可使用公知的條件。
<(2)將色素單體與含有聚合性基的化合物共聚後導 入的方法> -(2)將色素單體與含有聚合性基的化合物共聚後導入的方法-
作為(2)將色素單體與含有聚合性基的化合物共聚後導入的方法,可無特別限制地使用公知的方法,但較佳為(d)將可進行自由基聚合的色素單體與可進行自由基聚合的含有聚合性基的化合物共聚的方法、(e)將可進行聚加成的色素單體與可進行聚加成的含有聚合性基的化合物共聚的方法。
作為(d)將可進行自由基聚合的色素單體與可進行自由基聚合的含有聚合性基的化合物共聚的方法中的可進行自由基聚合的含有聚合性基的化合物,尤其可列舉含有烯丙基的化合物(例如(甲基)丙烯酸烯丙酯等)、含有環氧基的化合物(例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基-環己基甲酯等)、含有氧環丁烷基的化合物(例如(甲基)丙烯酸3-甲基-3-氧環丁基甲酯(3-methyl-3-oxetanyl(meth)acrylate)等)、含有羥甲基的化合物(例如N-(羥甲基)丙烯醯胺等),特佳為環氧化合物、氧環丁烷化合物。反應條件可使用公知的條件。
作為(e)將可進行聚加成的色素單體與可進行聚加成的含有聚合性基的化合物共聚的方法中的可進行聚加成的含有聚合性基的化合物,可列舉含有不飽和鍵的二醇化合物(例如(甲基)丙烯酸2,3-二羥基丙酯等)。反應條件可使用公知的條件。
作為聚合性基的導入方法,最佳為使色素多聚體所具有 的羧酸與含有不飽和鍵的環氧化合物進行反應的方法。
相對於色素多聚體(A)1 g,色素多聚體(A)所具有的聚合性基量較佳為0.1 mmol~2.0 mmol,更佳為0.2 mmol~1.5 mmol,最佳為0.3 mmol~1.0 mmol。
作為上述聚合性基的導入方法,最佳為使色素多聚體所具有的羧酸與色素多聚體所具有的羧酸與含有不飽和鍵的環氧化合物進行反應的方法。
相對於色素多聚體(A)1 g,色素多聚體(A)所具有的聚合性基量較佳為0.1 mmol~2.0 mmol,更佳為0.2 mmol~1.5 mmol,最佳為0.3 mmol~1.0 mmol。
作為具有上述聚合性基的構成單元,可列舉如下的具體例。但是,本發明並不限定於該些具體例。
上述具體例之中,就基板密接性及表面粗糙度的觀點而言,較佳為具有乙烯性不飽和鍵的色素單體,其中,較佳為甲基丙烯醯基、丙烯醯基、苯乙烯基或乙烯氧基,最佳為甲基丙烯醯基。
(色素多聚體(A)所具有的其他官能基)
本發明中的色素多聚體(A)亦可具有其他官能基。作為其他官能基,較佳為具有羧酸基、磺酸基、磷酸基及酚性羥基等鹼可溶性基。作為鹼可溶性基,最佳為羧酸基。
作為向色素多聚體中導入鹼可溶性基的導入方法,可列舉事先向色素單體中導入鹼可溶性基的方法、以及將具有鹼可溶性基的色素單體以外的單體((甲基)丙烯酸、丙烯酸的己內酯(caprolactone)改質物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的丁二酸酐改質物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的鄰苯二甲酸酐改質物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的1,2-環己烷二羧酸酐改質物、苯乙烯羧酸、衣康酸、順丁烯二酸、降莰烯羧酸(norbornene carboxylic acid)等 含有羧酸的單體,甲基丙烯酸酸性膦醯氧基乙酯、乙烯基膦酸等含有磷酸的單體,乙烯基磺酸、2-丙烯醯胺-2-甲基磺酸等含有磺酸的單體)共聚的方法,最佳為使用上述兩種方法。
相對於色素多聚體(A)1 g,色素多聚體(A)所具有的鹼可溶性基量(酸值)較佳為0.3 mmol~2.0 mmol,更佳為0.4 mmol~1.5 mmol,最佳為0.5 mmol~1.0 mmol。
於本發明中,色素多聚體的酸值例如可根據色素多聚體中的酸基的平均含量來算出。另外,藉由使含有構成色素多聚體的酸基的單體單元的含量變化,可獲得具有所期望的酸值的樹脂。
作為色素多聚體(A)所具有的其他官能基,可列舉內酯、酸酐、醯胺、-COCH2CO-、氰基等顯影促進基,長鏈及環狀烷基、芳烷基、芳基、聚環氧烷基、羥基、順丁烯二醯亞胺基、胺基等親疏水性調整基等,可適宜導入。
作為導入方法,可列舉事先向色素單體中導入的方法及將具有上述官能基的單體共聚的方法。
表示色素多聚體(A)所具有的包含其他官能基的重複單元的具體例,但本發明並不限定於此。
色素多聚體(A)的重量平均分子量較佳為2,000~20,000,更佳為3,000~15,000,最佳為4,000~10,000。
於本說明書中,重量平均分子量及數量平均分子量使用藉由凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography,GPC)並利用苯乙烯換算所測定的值。於測定時,例如可使用HLC-8120(東曹(Tosoh)(股份)製造),並將TSK gel Multipore HXL-M(東曹(股份)製造,7.8 mmID×30.0 cm)用作管柱,將四氫呋喃(Tetrahydrofuran,THF)用作溶離液。
另外,色素多聚體(A)的重量平均分子量(Mw)與數 量平均分子量(Mn)的比[(Mw)/(Mn)]較佳為1.0~3.0,更佳為1.6~2.5,最佳為1.6~2.0。
本發明的色素多聚體(A)的Tg較佳為50℃以上,更佳為100℃以上。另外,利用熱重量分析((Thermogravimetric Analysis,TGA)測定)所得的5%重量減少溫度較佳為120℃以上,更佳為150℃以上,進而更佳為200℃以上。藉由處於該範圍中,當將本發明的著色感放射線性組成物應用於彩色濾光片等的製作時,可減少由加熱製程所引起的濃度變化。
另外,本發明的色素多聚體的每單位重量的吸光係數(以下記作ε'。ε'=ε/平均分子量,單位:L/g.cm)較佳為30以上,更佳為60以上,進而更佳為100以上。藉由處於該範圍內,當應用本發明的著色感放射線性組成物來製作彩色濾光片時,可製作顏色再現性良好的彩色濾光片。
就著色力的觀點而言,本發明的著色感放射線性組成物中所使用的色素多聚體(A)的莫耳吸光係數較佳為儘可能高。
本發明的色素多聚體(A)較佳為溶解於以下的有機溶劑中的化合物。
作為有機溶劑,可列舉酯類(例如3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯等)、醚類(例如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等)、酮類(甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等)、芳香族烴類(例如甲苯、二甲苯等),較佳為相 對於該些溶劑,溶解1質量%以上、50質量%以下,更佳為5質量%以上、40質量%以下,進而更佳為10質量%以上、30質量%以下。藉由處於該範圍中,當將本發明的著色感放射線性組成物應用於彩色濾光片等的製作時,可形成合適的塗佈面狀態、或可減少由塗佈其他顏色後的溶出所引起的濃度下降。
於本發明的著色感放射線性組成物中,可單獨使用1種上述色素多聚體(A),亦可併用2種以上。
本發明的著色感放射線性組成物中的色素多聚體(A)的含量是考慮例如與後述的視需要而併用的(E)顏料的含有比率、或者與上述(B)特定鹼可溶性樹脂的含有比率後而設定。
另外,當進而併用後述的(E)顏料作為著色劑時,作為色素多聚體對於顏料的質量比(色素多聚體(A)/顏料(E)),較佳為0.1/1~5/1,更佳為0.2/1~2/1,進而更佳為0.3/1~1/1。
另外,作為與(B)特定鹼可溶性樹脂的含有比率,以質量比(色素多聚體(A)/特定鹼可溶性樹脂(B))計較佳為1/1~15/1,更佳為1/1~10/1,進而更佳為1.5/1~5/1。
本發明的著色感放射線性組成物中的色素多聚體(A)與上述(B)特定鹼可溶性樹脂較佳為以下述的組合來使用。
即,較佳為作為(A)色素多聚體的吡咯亞甲基色素多聚體或偶氮色素多聚體與含有以通式(b1)所表示的重複單元的鹼可溶性樹脂的組合,以及作為(A)色素多聚體的三芳基甲烷色素多聚體、蒽醌色素多聚體或二苯并哌喃色素多聚體與含有以通 式(b2)所表示的重複單元的鹼可溶性樹脂的組合。
[(C)聚合性化合物]
本發明的著色感放射線性組成物含有聚合性化合物。
可使用能夠藉由自由基、酸、熱而進行交聯的公知的聚合性化合物,例如可列舉含有乙烯性不飽和鍵、環狀醚(環氧基、氧環丁烷)、羥甲基等的聚合性化合物。就靈敏度的觀點而言,聚合性化合物可自具有至少1個,較佳為2個以上的末端乙烯性不飽和鍵的化合物中適宜選擇。其中,較佳為四官能以上的多官能聚合性化合物,更佳為五官能以上的多官能聚合性化合物。
此種化合物群於該產業領域中廣為人知,本發明中可無特別限定地使用該些化合物。該些化合物例如可為單體,預聚物,即二聚體、三聚體及寡聚物,或該些的混合物以及該些的多聚體等化學形態的任一種。本發明中的聚合性化合物可單獨使用一種,亦可併用2種以上。
更具體而言,作為單體及其預聚物的例子,可列舉不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等)或其酯類、醯胺類、以及該些的多聚體。較佳為不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類、以及該些的多聚體。另外,亦可適宜地使用具有羥基或胺基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類、與單官能或多官能異氰酸酯類或環氧類的加成反應物,或者與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應物等。另外,具有異氰 酸酯基或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的加成反應物,進而,具有鹵基或甲苯磺醯氧基等脫離性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的取代反應物亦合適。另外,作為其他例,亦可使用替換成不飽和膦酸、苯乙烯等乙烯基苯衍生物、乙烯基醚、烯丙醚等的化合物群來代替上述不飽和羧酸。
作為該些的具體的化合物,於本發明中,亦可適宜使用日本專利特開2009-288705號公報的段落號[0095]~段落號[0108]中所記載的化合物。
另外,作為上述聚合性化合物,具有至少1個可進行加成聚合的伸乙基、且於常壓下具有100℃以上的沸點的含有乙烯性不飽和基的化合物亦較佳。作為該化合物的例子,可列舉:聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、甘油或三羥甲基乙烷等在多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而成者,如日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特公昭 50-6034號公報、日本專利特開昭51-37193號公報中所記載的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類,日本專利特開昭48-64183號公報、日本專利特公昭49-43191號公報、日本專利特公昭52-30490號公報中所記載的聚酯丙烯酸酯類,作為環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧丙烯酸酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、以及該些的混合物。
亦可列舉使多官能羧酸與(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環狀醚基與乙烯性不飽和基的化合物進行反應而獲得的多官能(甲基)丙烯酸酯等。
另外,作為其他較佳的聚合性化合物,亦可使用日本專利特開2010-160418號公報、日本專利特開2010-129825號公報、日本專利第4364216號說明書等中所記載的具有茀環、且具有二官能以上的乙烯性不飽和基的化合物,卡多樹脂(cardo resin)。
另外,作為於常壓下具有100℃以上的沸點、且具有至少1個可進行加成聚合的乙烯性不飽和基的化合物,日本專利特開2008-292970號公報的段落號[0254]~段落號[0257]中所記載的化合物亦合適。
除上述以外,亦可適宜地使用由下述通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的自由基聚合性單體。再者,式中,當T為氧基伸烷基時,碳原子側的末端與R鍵結。
於上述通式中,n為0~14,m為1~8。一分子內存在多個的R、T彼此可相同,亦可不同。
於由上述通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的各聚合性化合物中,存在多個的R的至少1個表示由-OC(=O)CH=CH2或-OC(=O)C(CH3)=CH2所表示的基。
作為由上述通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的聚合性化合物的具體例,可列舉日本專利特開2007-269779號公報的段落號0248~段落號0251中所記載的化合物。
另外,於日本專利特開平10-62986號公報中作為通式(1)及通式(2)且與其具體例一同記載的如下化合物亦可用作聚合性化合物,該化合物是上述於多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物。
其中,作為聚合性化合物,較佳為二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為KAYARAD D-330;日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為KAYARAD D-320;日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為KAYARAD D-310;日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為KAYARAD DPHA;日本化藥股份有限公司製造)、以及該些的(甲基)丙烯醯基介於乙二醇、丙二醇殘基之間的結構。亦可使用該些的寡聚物型。以下表示較佳的聚合性化合物的形態。
作為聚合性化合物,亦可為多官能單體,且具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。如上所述,若乙烯性化合物為如混合物的情況般具有未反應的羧基的化合物,則可直接利用該乙烯性化 合物,於必要時,亦可使上述乙烯性化合物的羥基與非芳香族羧酸酐進行反應來導入酸基。於此情況下,作為所使用的非芳香族羧酸酐的具體例,可列舉四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)、烷基化四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、烷基化六氫鄰苯二甲酸酐、丁二酸酐、順丁烯二酸酐。
於本發明中,具有酸基的單體為脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸的酯,較佳為使脂肪族聚羥基化合物的未反應的羥基與非芳香族羧酸酐進行反應而具有酸基的多官能單體,特佳為於該酯中,脂肪族聚羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇者。作為市售品,例如可列舉作為東亞合成股份有限公司製造的多元酸改質丙烯酸寡聚物的M-510、M-520等。
該些單體可單獨使用1種,但因於製造方面難以使用單一的化合物,故亦可將2種以上混合使用。另外,視需要,亦可併用不具有酸基的多官能單體與具有酸基的多官能單體作為單體。
具有酸基的多官能單體的較佳的酸值為0.1 mgKOH/g~40 mgKOH/g,特佳為5 mgKOH/g~30 mgKOH/g。若多官能單體的酸值過低,則組成物的顯影溶解特性下降,若過高,則組成物的製造或處理變得困難且光聚合性能下降,畫素的表面平滑性等硬化性欠佳。因此,當併用2種以上酸基不同的多官能單體時或者當併用不具有酸基的多官能單體時,較佳為以使所有多官能單體的酸基進入至上述範圍內的方式進行調整。
另外,作為聚合性單體,包含具有己內酯結構的多官能性單體亦為較佳的形態。
作為具有己內酯結構的多官能性單體,只要其分子內具有己內酯結構,則並無特別限定,例如可列舉藉由將三羥甲基乙烷(trimethylolethane)、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二甘油、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與(甲基)丙烯酸及ε-己內酯加以酯化而獲得的ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯。其中,較佳為由下述通式(Z-1)所表示的具有己內酯結構的多官能性單體。
通式(Z-1)中,6個R均為由下述通式(Z-2)所表示的基,或者6個R中的1個~5個為由下述通式(Z-2)所表示的基,剩餘為由下述通式(Z-3)所表示的基。
通式(Z-2)中,R1表示氫原子或甲基,m表示1或2整數,「*」表示鍵結鍵。
通式(Z-3)中,R1表示氫原子或甲基,「*」表示鍵結鍵。
此種具有己內酯結構的多官能性單體例如可列舉:作為KAYARAD DPCA系列而由日本化藥(股份)所銷售的DPCA-20(上述式(1)~式(3)中,m=1、由式(2)所表示的基的數量=2、R1均為氫原子的化合物)、DPCA-30(上述式(1)~式(3)中,m=1、由式(2)所表示的基的數量=3、R1均為氫原子的化合物)、DPCA-60(上述式(1)~式(3)中,m=1、由式(2)所表示的基的數量=6、R1均為氫原子的化合物)、DPCA-120(上述式(1)~式(3)中,m=2、由式(2)所表示的基的數量=6、R1均為氫原子的化合物)等。
於本發明中,具有己內酯結構的多官能性單體可單獨使用或者將2種以上混合使用。
另外,作為本發明中的特定單體,選自由下述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物的群組中的至少1種亦較佳。
上述通式(Z-4)及通式(Z-5)中,E分別獨立地表示-((CH2)yCH2O)-或-((CH2)yCH(CH3)O)-,y分別獨立地表示0~10的整數,X分別獨立地表示丙烯醯基、甲基丙烯醯基、氫原子或羧基。
上述通式(Z-4)中,丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計為3個或4個,m分別獨立地表示0~10的整數,各m的合計為0~40的整數。其中,當各m的合計為0時,X中的任一個為羧基。
上述通式(Z-5)中,丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計為5個或6個,n分別獨立地表示0~10的整數,各n的合計為0~60的整數。其中,當各n的合計為0時,X中的任一個為羧基。
上述通式(Z-4)中,m較佳為0~6的整數,更佳為0~4的整數。
另外,各m的合計較佳為2~40的整數,更佳為2~16的整數,特佳為4~8的整數。
上述通式(Z-5)中,n較佳為0~6的整數,更佳為0 ~4的整數。
另外,各n的合計較佳為3~60的整數,更佳為3~24的整數,特佳為6~12的整數。
另外,通式(Z-4)或通式(Z-5)中的-((CH2)yCH2O)-或-((CH2)yCH(CH3)O)-較佳為氧原子側的末端與X鍵結的形態。
由上述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可單獨使用1種,亦可併用2種以上。尤其,較佳為於通式(ii)中,6個X均為丙烯醯基的形態。
另外,作為由通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物於聚合性化合物中的總含量,較佳為20質量%以上,更佳為50質量%以上。
由上述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可由作為先前公知的步驟的如下步驟來合成:藉由使季戊四醇(pentaerythritol)或二季戊四醇(dipentaerythritol)與環氧乙烷或環氧丙烷進行開環加成反應來使開環骨架鍵結的步驟、以及使開環骨架的末端羥基與例如(甲基)丙烯醯氯進行反應來導入(甲基)丙烯醯基的步驟。各步驟是廣為人知的步驟,本領域從業人員可容易地合成由通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物。
由上述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物之中,更佳為季戊四醇衍生物及/或二季戊四醇衍生物。
具體而言,可列舉由下述式(a)~式(f)所表示的化合物(以下,亦稱為「例示化合物(a)~例示化合物(f)」),其 中,較佳為例示化合物(a)、例示化合物(b)、例示化合物(e)、例示化合物(f)。
作為由通式(Z-4)、通式(Z-5)所表示的聚合性化合物的市售品,例如可列舉:沙多瑪(Sartomer)公司製造的作為具有4個伸乙氧基鏈的四官能丙烯酸酯的SR-494、日本化藥股份有限公司製造的作為具有6個伸戊氧基鏈的六官能丙烯酸酯的DPCA-60、作為具有3個異伸丁氧基鏈的三官能丙烯酸酯的TPA-330等。
另外,作為聚合性化合物,如日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中所記載的丙烯酸胺基甲酸酯類,或日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本 專利特公昭62-39418號公報中記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類亦合適。進而,藉由使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中所記載的分子內具有胺基結構或硫化物結構的加成聚合性化合物類作為聚合性化合物,可獲得感光速度非常優異的硬化性組成物。
作為聚合性化合物的市售品,可列舉:胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(山陽國策紙漿(Sanyo Kokusaku Pulp)公司製造),UA-7200(新中村化學公司製造),DPHA-40H(日本化藥公司製造),UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社製造)、M-460(東亞合成公司製造)等。
該些聚合性化合物的結構、單獨使用或併用、添加量等使用方法的詳細情況可結合著色感放射線性組成物的最終的性能設計而任意地設定。例如,就靈敏度的觀點而言,較佳為每1分子的不飽和基含量多的結構,於多數情況下,較佳為二官能以上。另外,就提高藉由著色感放射線性組成物所形成的硬化膜的強度的觀點而言,較佳為三官能以上的聚合性化合物,進而,藉由併用不同的官能基數.不同的聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯基醚系化合物)的聚合性化合物,而調節靈敏度與強度兩者的方法亦有效。進而,併用三官能以上且環氧乙烷鏈長不同的聚合性化合物可調節著色感放射線性組成物的顯影性,就可獲得優異的圖案形成能力這一觀點而言較佳。
另外,對於與著色感放射線性組成物中所含有的其他成分(例如光聚合起始劑、被分散體、鹼可溶性樹脂等)的相容性、分散性而言,聚合性化合物的選擇、使用法亦是重要的因素。例如,有時可使用低純度化合物或併用2種以上來提昇相容性。另外,就提昇與支撐體等的硬質表面的密接性的觀點而言,亦可能選擇特定的結構。
相對於著色感放射線性組成物中的總固體成分,本發明的著色感放射線性組成物中的聚合性化合物的含量較佳為0.1質量%~90質量%,更佳為1.0質量%~50質量%,特佳為2.0質量%~30質量%。
[(D)光聚合起始劑]
就進一步提昇靈敏度的觀點而言,本發明的著色感放射線性組成物必須含有光聚合起始劑。
作為上述光聚合起始劑,只要具有使上述聚合性化合物的聚合開始的功能,則並無特別限制,可自公知的光聚合起始劑中適宜選擇。例如,較佳為對於紫外線區域至可見光線具有感光性者。另外,可為與經光激發的增感劑產生某種作用,而生成活性自由基的活性劑,亦可為如對應於單體的種類而使陽離子聚合開始的起始劑。
另外,上述光聚合起始劑較佳為含有至少1種如下的化合物,該化合物於約300 nm~800 nm(更佳為330 nm~500 nm)的範圍內至少具有約50的分子吸光係數。
作為上述光聚合起始劑,例如可列舉:鹵化烴衍生物(例如具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架者等)、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。
另外,就曝光靈敏度的觀點而言,較佳為選自由三鹵甲基三嗪化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚體、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯基酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物所組成的群組中的化合物。
更佳為三鹵甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚體、鎓化合物、二苯基酮化合物、苯乙酮化合物,最佳為選自由三鹵甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚體、二苯基酮化合物所組成的群組中的至少一種化合物。
尤其,當將本發明的著色感放射線性組成物用於固體攝影元件的彩色濾光片的製作時,因需要以尖銳的形狀形成微細的圖案,故重要的是硬化性優異且無殘渣地對未曝光部進行顯影。就此種觀點而言,特佳為使用肟化合物作為聚合起始劑。尤其,當於固體攝影元件中形成微細的圖案時,將步進式曝光機用於硬 化用曝光,但存在該曝光機因鹵素而受損的情況,必須將聚合起始劑的添加量亦抑制得低,因此若考慮該些方面,則於形成如固體攝影元件般的微細圖案時,作為(D)光聚合起始劑,最佳為使用肟化合物。
作為上述具有三嗪骨架的鹵化烴化合物,例如可列舉:若林等著,Bull.Chem.Soc.Japan(日本化學會通報),42,2924(1969)中記載的化合物,英國專利第1388492號說明書中記載的化合物,日本專利特開昭53-133428號公報中記載的化合物,德國專利第3337024號說明書中記載的化合物,F.C.Schaefer等的J.Org.Chem(有機化學期刊).;29,1527(1964)中記載的化合物,日本專利特開昭62-58241號公報中記載的化合物,日本專利特開平5-281728號公報中記載的化合物,日本專利特開平5-34920號公報中記載的化合物,美國專利第4212976號說明書中所記載的化合物等。
作為上述美國專利第4212976號說明書中所記載的化合物,例如可列舉具有噁二唑骨架的化合物(具體而言,2-三氯甲基-5-苯基-1,3,4-噁二唑,2-三氯甲基-5-(4-氯苯基)-1,3,4-噁二唑,2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1,3,4-噁二唑,2-三氯甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑,2-三溴甲基-5-苯基-1,3,4-噁二唑,2-三溴甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑;2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑,2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑,2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑,2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1,3,4-噁二唑,2-三氯甲 基-5-(4-正丁氧基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑,2-三溴甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑等)等。
另外,作為上述以外的光聚合起始劑,可列舉:吖啶衍生物(具體而言,9-苯基吖啶、1,7-雙(9,9'-吖啶基)庚烷等)、N-苯基甘胺酸等、聚鹵素化合物(例如四溴化碳、苯基三溴甲基碸、苯基三氯甲基酮等)、香豆素(coumarin)類(具體而言,3-(2-苯并呋喃醯基)-7-二乙胺基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲醯基)-7-(1-吡咯啶基)香豆素、3-苯甲醯基-7-二乙胺基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲醯基)-7-二乙胺基香豆素、3-(4-二甲胺基苯甲醯基)-7-二乙胺基香豆素、3,3'-羰基雙(5,7-二-正丙氧基香豆素)、3,3'-羰基雙(7-二乙胺基香豆素)、3-苯甲醯基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲醯基)-7-二乙胺基香豆素、3-(4-二乙胺基桂皮醯基)-7-二乙胺基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲醯基-5,7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素,另外,日本專利特開平5-19475號公報、日本專利特開平7-271028號公報、日本專利特開2002-363206號公報、日本專利特開2002-363207號公報、日本專利特開2002-363208號公報、日本專利特開2002-363209號公報等中所記載的香豆素化合物等)、醯基氧化膦類(例如雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基-戊基苯基氧化膦、Lucirin TPO等)、茂金屬類(例如雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦、η5-環戊二烯基-η6-枯烯基(cumenyl)-鐵(1+)-六氟磷酸酯(1-)等)、日本專利特開昭 53-133428號公報、日本專利特公昭57-1819號公報、日本專利特公昭57-6096號公報及美國專利第3615455號說明書中所記載的化合物等。
作為上述酮化合物,例如可列舉:二苯基酮、2-甲基二苯基酮、3-甲基二苯基酮、4-甲基二苯基酮、4-甲氧基二苯基酮、2-氯二苯基酮、4-氯二苯基酮、4-溴二苯基酮、2-羧基二苯基酮、2-乙氧基羰基二苯基酮、二苯基酮四羧酸或其四甲酯、4,4'-雙(二烷基胺基)二苯基酮類(例如4,4'-雙(二甲胺基)二苯基酮、4,4'-雙(二環己胺基)二苯基酮、4,4'-雙(二乙胺基)二苯基酮、4,4'-雙(二羥基乙胺基)二苯基酮、4-甲氧基-4'-二甲胺基二苯基酮、4,4'-二甲氧基二苯基酮、4-二甲胺基二苯基酮、4-二甲胺基苯乙酮、苯偶醯、蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、菲醌、氧雜蒽酮、硫雜蒽酮、2-氯-硫雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、茀酮、2-苄基-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮、2-羥基-2-甲基-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙醇寡聚物、安息香、安息香醚類(例如安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丙醚、安息香苯醚、苄基二甲基縮酮)、吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等。
作為光聚合起始劑,亦可適宜地使用羥基苯乙酮(hydroxy acetophenone)化合物、胺基苯乙酮化合物及醯基膦化合物。更具體而言,例如亦可使用日本專利特開平10-291969號公報中所記載的胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號公 報中所記載的醯基氧化膦系起始劑。
作為羥基苯乙酮系起始劑,可使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(商品名:均為巴斯夫(BASF)公司製造)。作為胺基苯乙酮系起始劑,可使用作為市售品的IRGACURE-907、IRGACURE-369及IRGACURE-379(商品名:均為BASF公司製造)。作為胺基苯乙酮系起始劑,亦可使用吸收波長與365 nm或405 nm等的長波光源匹配的日本專利特開2009-191179號公報中所記載的化合物。另外,作為醯基膦系起始劑,可使用作為市售品的IRGACURE-819或DAROCUR-TPO(商品名:均為BASF公司製造)。
作為光聚合起始劑,更佳為可列舉肟化合物。作為肟化合物的具體例,可使用日本專利特開2001-233842號公報中記載的化合物、日本專利特開2000-80068號公報中記載的化合物、日本專利特開2006-342166號公報中記載的化合物。
作為可適宜用作本發明中的光聚合起始劑的肟(oxime)衍生物等肟化合物,例如可列舉:3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺基丁烷-2-酮、以及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。
作為肟化合物,可列舉:J.C.S.Perkin II(英國化學會誌, 普爾金會刊II)(1979年)pp.1653-1660、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(光聚合物科學與技術雜誌)(1995年)pp.202-232、日本專利特開2000-66385號公報中記載的化合物、日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特表2004-534797號公報、日本專利特開2006-342166號公報的各公報中所記載的化合物等。
市售品亦可適宜使用IRGACURE-OXE01(BASF公司製造)、IRGACURE-OXE02(BASF公司製造)。
另外,作為上述記載以外的肟化合物,亦可使用咔唑的N位上連結有肟的日本專利特表2009-519904號公報中所記載的化合物、二苯基酮部位上導入有雜取代基的美國專利第7626957號公報中所記載的化合物、色素部位上導入有硝基的日本專利特開2010-15025號公報及美國專利公開2009-292039號中記載的化合物、國際公開專利2009-131189號公報中所記載的酮肟系化合物、同一分子內含有三嗪骨架與肟骨架的美國專利7556910號公報中所記載的化合物、於405 nm下具有吸收最大值且對於g射線光源具有良好的靈敏度的日本專利特開2009-221114號公報中記載的化合物等。
進而,亦可適宜地使用日本專利特開2007-231000號公報及日本專利特開2007-322744號公報中所記載的環狀肟化合物。環狀肟化合物之中,尤其日本專利特開2010-32985號公報、日本專利特開2010-185072號公報中所記載的於咔唑色素中縮環 而成的環狀肟化合物具有高光吸收性,且可謀求高靈敏度化,故較佳。
另外,於肟化合物的特定部位具有不飽和鍵的日本專利特開2009-242469號公報中所記載的化合物藉由使活性自由基自聚合惰性自由基中再生而可達成高靈敏度化,故亦可適宜地使用。
最佳為可列舉日本專利特開2007-269779號公報中所示的具有特定取代基的肟化合物,或日本專利特開2009-191061號公報中所示的具有硫代芳基的肟化合物。
具體而言,作為光聚合起始劑的肟化合物較佳為由下述通式(OX-1)所表示的化合物。再者,肟的N-O鍵可為(E)體的肟化合物,亦可為(Z)體的肟化合物,亦可為(E)體與(Z)體的混合物。
通式(OX-1)中,R及B分別獨立地表示一價的取代基,A表示二價的有機基,Ar表示芳基。
通式(OX-1)中,作為由R所表示的一價的取代基,較佳為一價的非金屬原子團。
作為上述一價的非金屬原子團,可列舉:烷基、芳基、 醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。另外,該些基亦可具有1個以上的取代基。另外,上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。
作為取代基,可列舉:鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、醯氧基、醯基、烷基、芳基等。
作為烷基,較佳為碳數為1~30的烷基,具體而言,可例示:甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二基、十八基、異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基、1-乙基戊基、環戊基、環己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲醯甲基、1-萘甲醯基甲基、2-萘甲醯基甲基、4-甲基磺醯基苯甲醯甲基、4-苯基磺醯基苯甲醯甲基、4-二甲胺基苯甲醯甲基、4-氰基苯甲醯甲基、4-甲基苯甲醯甲基、2-甲基苯甲醯甲基、3-氟苯甲醯甲基、3-三氟甲基苯甲醯甲基及3-硝基苯甲醯甲基。
作為芳基,較佳為碳數為6~30的芳基,具體而言,可例示:苯基、聯苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基、9-菲基、1-芘基、5-稠四苯基、1-茚基、2-薁(azulene)基、9-茀基、聯三苯基、聯四苯基、鄰甲苯基、間甲苯基、對甲苯基、二甲苯基、鄰枯烯基、間枯烯基及對枯烯基、2,4,6-三甲苯基、並環戊二烯基、聯萘基、聯三萘基、聯四萘基、並環庚三烯基、伸聯苯基、二環戊二烯並苯基、丙[二]烯合茀基、苊基、乙烯合蒽基、丙烯合萘基、茀基、蒽基、聯蒽基、聯三蒽基、聯四蒽基、蒽醌基、菲基、三亞苯基、芘基(perylenyl group)、基(chrysenyl group)、稠四苯基 (naphthacenyl group)、七曜烯基(pleiadenyl group)、苉基(picenyl group)、苝基(perylenyl group)、五苯基(pentaphenyl group)、稠五苯基(pentacenyl group)、聯四苯基(tetraphenylenyl group)、六苯基(hexaphenyl group)、稠六苯基(hexacenyl group)、茹基(rubicenyl group)、蔻基(coronenyl group)、聯伸三萘基(trinaphthylenyl group)、七苯基(heptaphenyl group)、稠七苯基(heptacenyl group)、芘蒽基(pyranthrenyl group)、以及莪基(ovalenyl group)。
作為醯基,較佳為碳數為2~20的醯基,具體而言,可例示:乙醯基、丙醯基、丁醯基、三氟乙醯基、戊醯基、苯甲醯基、1-萘甲醯基、2-萘甲醯基、4-甲基磺醯基苯甲醯基、4-苯基磺醯基苯甲醯基、4-二甲胺基苯甲醯基、4-二乙胺基苯甲醯基、2-氯苯甲醯基、2-甲基苯甲醯基、2-甲氧基苯甲醯基、2-丁氧基苯甲醯基、3-氯苯甲醯基、3-三氟甲基苯甲醯基、3-氰基苯甲醯基、3-硝基苯甲醯基、4-氟苯甲醯基、4-氰基苯甲醯基、以及4-甲氧基苯甲醯基。
作為烷氧基羰基,較佳為碳數為2~20的烷氧基羰基,具體而言,可例示:甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基、己氧基羰基、辛氧基羰基、癸氧基羰基、十八烷氧基羰基、以及三氟甲氧基羰基。
作為芳氧基羰基,具體而言,可例示:苯氧基羰基、1-萘氧基羰基、2-萘氧基羰基、4-甲基磺醯基苯氧基羰基、4-苯基磺 醯基苯氧基羰基、4-二甲胺基苯氧基羰基、4-二乙胺基苯氧基羰基、2-氯苯氧基羰基、2-甲基苯氧基羰基、2-甲氧基苯氧基羰基、2-丁氧基苯氧基羰基、3-氯苯氧基羰基、3-三氟甲基苯氧基羰基、3-氰基苯氧基羰基、3-硝基苯氧基羰基、4-氟苯氧基羰基、4-氰基苯氧基羰基、以及4-甲氧基苯氧基羰基。
作為雜環基,較佳為含有氮原子、氧原子、硫原子或磷原子的芳香族或脂肪族的雜環。
具體而言,可例示:噻吩基(thienyl group)、苯并[b]噻吩基(benzo[b]thienyl group)、萘并[2,3-b]噻吩基(naphtho[2,3-b]thienyl group)、噻嗯基(thianthrenyl group)、呋喃基(furyl group)、吡喃基(pyranyl group)、異苯并呋喃基(isobenzofuranyl group)、苯并哌喃基(chromenyl group)、基(xanthenyl group)、啡噁噻基(phenoxathiinyl group)、2H-吡咯基(2H-pyrrolyl group)、吡咯基(pyrrolyl group)、咪唑基(imidazolyl group)、吡唑基(pyrazolyl group)、吡啶基(pyridyl group)、吡嗪基(pyrazinyl group)、嘧啶基(pyrimidinyl group)、噠嗪基(pyridazinyl group)、吲嗪基(indolizinyl group)、異吲哚基(isoindolyl group)、3H-吲哚基(3H-indolyl group)、吲哚基(indolyl group)、1H-吲唑基(1H-indazolyl group)、嘌呤基(purinyl group)、4H-喹嗪基(4H-quinolizinyl group)、異喹啉基(isoquinolyl group)、喹啉基(quinolyl group)、呔嗪基(phthalazinyl group)、啶基(naphthyridinyl group)、喹噁啉基(quinoxanilyl group)、 喹唑啉基(quinazolinyl group)、啉基(cinnolinyl group)、喋啶基(pteridinyl group)、4aH-咔唑基(4aH-carbazolyl group)、咔唑基(carbazolyl group)、β-咔啉基(β-carbolinyl group)、啡啶基(phenanthridinyl group)、吖啶基(acridinyl group)、啶基(perimidinyl group)、啡啉基(phenanthrolinyl group)、啡嗪基(phenazinyl group)、啡呻嗪基(phenarsazinyl group)、異噻唑基(isothiazolyl group)、啡噻嗪基(phenothiazinyl group)、異噁唑基(isoxazolyl group)、呋吖基(furazanyl group)、啡噁嗪基(phenoxazinyl group)、異基(isochromanyl group)、基(chromanyl group)、吡咯啶基(pyrrolidinyl group)、吡咯啉基(pyrrolinyl group)、咪唑啶基(imidazolidinyl group)、咪唑啉基(imidazolinyl group)、吡唑啶基(pyrazolidinyl group)、吡唑啉基(pyrazolinyl group)、哌啶基(piperidyl group)、哌嗪基(piperazinyl group)、吲哚啉基(indolinyl group)、異吲哚啉基(isoindolinyl group)、啶基(quinuclidinyl group)、嗎啉基(morpholinyl group)、以及氧雜蒽酮基(thioxantholyl group)。
作為烷硫基羰基,具體而言,可例示:甲硫基羰基、丙硫基羰基、丁硫基羰基、己硫基羰基、辛硫基羰基、癸硫基羰基、十八烷硫基羰基以及三氟甲硫基羰基。
作為芳硫基羰基,具體而言,可列舉:1-萘硫基羰基、2-萘硫基羰基、4-甲基磺醯基苯硫基羰基、4-苯基磺醯基苯硫基羰基、4-二甲胺基苯硫基羰基、4-二乙胺基苯硫基羰基、2-氯苯硫基 羰基、2-甲基苯硫基羰基、2-甲氧基苯硫基羰基、2-丁氧基苯硫基羰基、3-氯苯硫基羰基、3-三氟甲基苯硫基羰基、3-氰基苯硫基羰基、3-硝基苯硫基羰基、4-氟苯硫基羰基、4-氰基苯硫基羰基以及4-甲氧基苯硫基羰基。
通式(OX-1)中,作為由B所表示的一價的取代基,表示芳基、雜環基、芳基羰基或雜環羰基。另外,該些基亦可具有1個以上的取代基。作為取代基,可例示上述取代基。另外,上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。
其中,特佳為以下所示的結構。
下述的結構中,Y、X及n的含義分別與後述的通式(OX-2)中的Y、X及n相同,較佳例亦相同。
上述式(OX-1)中,作為由A所表示的二價的有機基,可列舉碳數為1~12的伸烷基、伸環烷基、伸炔基。另外,該些基亦可具有1個以上的取代基。作為取代基,可例示上述取代基。另外,上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。
其中,作為式(OX-1)中的A,就提高靈敏度、抑制由加熱經時所引起的著色的觀點而言,較佳為未經取代的伸烷基、 經烷基(例如甲基、乙基、第三丁基、十二基)取代的伸烷基、經烯基(例如乙烯基、烯丙基)取代的伸烷基、經芳基(例如苯基、對甲苯基、二甲苯基、枯烯基、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基)取代的伸烷基。
上述式(OX-1)中,作為由Ar所表示的芳基,較佳為碳數為6~30的芳基,另外,亦可具有取代基。作為取代基,可例示與導入至先前作為可具有取代基的芳基的具體例所列舉的經取代的芳基中的取代基相同者。
其中,就提高靈敏度、抑制由加熱時間經過所引起的著色的觀點而言,較佳為經取代或未經取代的苯基。
於式(OX-1)中,就靈敏度的觀點而言,較佳為由上述式(OX-1)中的Ar與鄰接於Ar的S所形成的「SAr」的結構為以下所示的結構。再者,Me表示甲基,Et表示乙基。
肟化合物較佳為由下述通式(OX-2)所表示的化合物。
通式(OX-2)中,R及X分別獨立地表示一價的取代基,A及Y分別獨立地表示二價的有機基,Ar表示芳基,n為0~5的整數。通式(OX-2)中的R、A及Ar的含義與通式(OX-1)中的R、A及Ar相同,較佳例亦相同。
通式(OX-2)中,作為由X所表示的一價的取代基,可列舉:烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、醯氧基、醯基、烷氧基羰基、胺基、雜環基、鹵素原子。另外,該些基亦可具有1個以上的取代基。作為取代基,可例示上述取代基。另外,上述取代基亦可由其他取代基進一步取代。
該些之中,作為通式(OX-2)中的X,就提昇溶劑溶解性與長波長區域的吸收效率的觀點而言,較佳為烷基。
另外,式(2)中的n表示0~5的整數,較佳為0~2的整數。
通式(OX-2)中,作為由Y所表示的二價的有機基,可列舉以下所示的結構。再者,以下所示的基中,「*」表示上述式(OX-2)中,Y與鄰接的碳原子的鍵結位置。
其中,就高靈敏度化的觀點而言,較佳為下述所示的結構。
進而,肟化合物較佳為由下述通式(OX-3)或通式(OX-4)所表示的化合物。
通式(OX-3)或通式(OX-4)中,R及X分別獨立地表示一價的取代基,A表示二價的有機基,Ar表示芳基,n為0~5的整數。
式(OX-3)中的R、X、A、Ar及n的含義分別與上述 通式(OX-2)中的R、X、A、Ar及n相同,較佳例亦相同。
以下表示可適宜地使用的肟化合物的具體例(C-4)~具體例(C-13),但本發明並不限定於該些具體例。
肟化合物是於350 nm~500 nm的波長區域中具有極大吸收波長者,較佳為於360 nm~480 nm的波長區域中具有吸收波 長者,特佳為365 nm及455 nm的吸光度高的肟化合物。
就靈敏度的觀點而言,肟化合物於365 nm或405 nm下的莫耳吸光係數較佳為1,000~300,000,更佳為2,000~300,000,特佳為5,000~200,000。
化合物的莫耳吸光係數可使用公知的方法來測定,具體而言,例如,較佳為藉由紫外可見分光光度計(Varian公司製造的Carry-5 spectrophotometer),並利用乙酸乙酯溶劑,以0.01 g/L的濃度進行測定。
本發明中所使用的光聚合起始劑視需要可將2種以上組合使用。
相對於著色感放射線性組成物的總固體成分,本發明的著色感放射線性組成物中所含有的(D)光聚合起始劑的含量較佳為0.1質量%以上、50質量%以下,更佳為0.5質量%以上、30質量%以下,進而更佳為1質量%以上、20質量%以下。於該範圍內,可獲得更良好的靈敏度與圖案形成性。
[(E)顏料]
除上述(a)色素多聚體以外,本發明的著色感放射線性組成物可進而含有顏料作為著色劑。
作為本發明中所使用的顏料,可使用先前公知的各種無機顏料或有機顏料。作為該顏料,較佳為高透過率。
作為無機顏料,可列舉由金屬氧化物、金屬錯鹽等所表示的金屬化合物,具體而言,可列舉鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、 鈦、鎂、鉻、鋅、銻等的金屬氧化物,及上述金屬的複合氧化物。
作為有機顏料,例如可列舉如下顏料等:C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃31、C.I.顏料黃53、C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃93、C.I.顏料黃99、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃147、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃155、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃185、C.I.顏料黃199;C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙38、C.I.顏料橙43、C.I.顏料橙71;C.I.顏料紅81、C.I.顏料紅105、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅176、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅220、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264、C.I.顏料紅270;C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫39;C.I.顏料藍1、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍15、C.I.顏料藍15:1、C.I.顏料藍15:3、C.I.顏料藍15:6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍66;C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37、C.I.顏料綠58; C.I.顏料棕25、C.I.顏料棕28;C.I.顏料黑1、C.I.顏料黑7。
作為可較佳地用於本發明中的顏料,可列舉以下的顏料。但是,本發明並不限定於該些顏料。
C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃185;C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙71;C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264;C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫32;C.I.顏料藍15:1、C.I.顏料藍15:3、C.I.顏料藍15:6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍66;C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37、C.I.顏料綠58;C.I.顏料黑1、C.I.顏料黑7。
該些有機顏料可單獨使用,或者為了分光的調整或提昇色純度而將各種有機顏料組合使用。以下表示上述組合的具體例。例如,作為紅色顏料,可單獨使用蒽醌系顏料、苝(perylene)系顏料、二酮吡咯并吡咯(diketonepyrrolopyrrole)系顏料,或者 可使用該些顏料的至少一種與雙偶氮系黃色顏料、異吲哚啉(isoindoline)系黃色顏料、喹酞酮系黃色顏料或苝系紅色顏料的混合等。例如,作為蒽醌系顏料,可列舉C.I.顏料紅177,作為苝系顏料,可列舉C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅224,作為二酮吡咯并吡咯系顏料,可列舉C.I.顏料紅254,就分色性的觀點而言,較佳為與C.I.顏料黃139的混合。另外,紅色顏料與黃色顏料的質量比較佳為100:5~100:50。若為100:4以下,則難以抑制400 nm~500 nm的透光率,另外,若為100:51以上,則存在主波長偏向短波長,無法提昇顏色解析度的情況。尤其,作為上述質量比,最合適的是100:10~100:30的範圍。再者,於紅色顏料彼此的組合的情況下,可結合要求出的分光進行調整。
另外,作為綠色顏料,可單獨使用鹵化酞青素系顏料,或者可使用其與雙偶氮系黃色顏料、喹酞酮系黃色顏料、甲亞胺(azomethine)系黃色顏料或異吲哚啉系黃色顏料的混合。例如,作為此種例,較佳為C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37與C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃180或C.I.顏料黃185的混合。綠色顏料與黃色顏料的質量比較佳為100:5~100:150。作為上述質量比,特佳為100:30~100:120的範圍。
作為藍色顏料,可單獨使用酞青素系顏料、或者可使用其與二噁嗪系紫色顏料的混合。例如,較佳為C.I.顏料藍15:6與C.I.顏料紫23的混合。藍色顏料與紫色顏料的質量比較佳為 100:0~100:100,更佳為100:10以下。
另外,作為黑色矩陣用的顏料,可單獨或混合使用碳、鈦黑、氧化鐵、氧化鈦,較佳為碳與鈦黑的組合。另外,碳與鈦黑的質量比較佳為100:0~100:60的範圍。
關於顏料的一次粒徑,於用作彩色濾光片用途的情況下,就顏色不均或對比度的觀點而言,平均一次粒徑較佳為100 nm以下,另外,就分散穩定性的觀點而言,較佳為5 nm以上。顏料的平均一次粒徑更佳為5 nm~75 nm,進而更佳為5 nm~55 nm,特佳為5 nm~35 nm。在與具有5 nm~35 nm的範圍的平均一次粒徑的顏料的組合中,本發明的特定分散樹脂可發揮特別良好的效果。
顏料的平均一次粒徑可藉由電子顯微鏡等公知的方法來測定。例如可藉由動態光散射法,並利用Microtrac Nanotrac UPA-EX150(日機裝公司製造)等測定裝置來測定。
作為視需要而併用的顏料,較佳為選自蒽醌顏料、二酮吡咯并吡咯顏料、酞青素顏料、喹酞酮顏料、異吲哚啉顏料、甲亞胺顏料及二噁嗪顏料中的顏料。尤其,最佳為C.I.顏料紅177(蒽醌顏料)、C.I.顏料紅254(二酮吡咯并吡咯顏料),C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠58,C.I.顏料藍15:6(酞青素顏料),C.I.顏料黃138(喹酞酮顏料),C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃185(異吲哚啉顏料),C.I.顏料黃150(甲亞胺顏料),C.I.顏料紫23(二噁嗪顏料)。
相對於著色感放射線性組成物總量,併用顏料時的含量較佳為5質量%~70質量%,更佳為10質量%~60質量%,進而更佳為20質量%~60質量%。
當於本發明的著色感放射線性組成物中使用(E)顏料時,較佳為以藉由後述的(E2)顏料分散劑而使其分散的狀態來使用。
[(E2)分散樹脂]
當本發明的著色感放射線性組成物視需要而進一步使用(E)顏料時,亦可併用顏料分散劑。
作為可用於本發明的顏料分散劑,可列舉:高分子分散劑(例如聚醯胺胺(polyamide amine)與其鹽、聚羧酸與其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸甲醛縮合物),及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺等界面活性劑,以及顏料衍生物等。
高分子分散劑根據其結構而可進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
作為具有針對顏料表面的固定部位的末端改質型高分子,例如可列舉:日本專利特開平3-112992號公報、日本專利特表2003-533455號公報等中所記載的於末端具有磷酸基的高分子,日本專利特開2002-273191號公報等中所記載的於末端具有磺酸基的高分子,日本專利特開平9-77994號公報等中所記載的 具有有機色素的部分骨架或雜環的高分子等。另外,日本專利特開2007-277514號公報中所記載的於高分子末端導入有2個以上針對顏料表面的固定部位(酸基、鹼性基、有機色素的部分骨架或雜環等)的高分子的分散穩定性亦優異,而較佳。
作為具有針對顏料表面的固定部位的接枝型高分子,例如可列舉聚酯系分散劑等,具體而言,可列舉:日本專利特開昭54-37082號公報、日本專利特表平8-507960號公報、日本專利特開2009-258668號公報等中所記載的聚(低級伸烷基亞胺)與聚酯的反應產物,日本專利特開平9-169821號公報等中所記載的聚烯丙基胺與聚酯的反應產物,日本專利特開平10-339949號公報、日本專利特開2004-37986號公報、國際公開手冊WO2010/110491等中所記載的巨分子單體與氮原子單體的共聚物,日本專利特開2003-238837號公報、日本專利特開2008-9426號公報、日本專利特開2008-81732號公報等中所記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的接枝型高分子,日本專利特開2010-106268號公報等中所記載的巨分子單體與含有酸基的單體的共聚物等。尤其,就顏料的分散性、分散穩定性及使用顏料的著色感放射線性組成物所顯示的顯影性的觀點而言,特佳為日本專利特開2009-203462號公報中所記載的具有鹼性基與酸性基的兩性分散樹脂。
作為藉由自由基聚合來製造具有針對顏料表面的固定部位的接枝型高分子時所使用的巨分子單體,可使用公知的巨分子單體,可列舉:東亞合成(股份)製造的巨分子單體AA-6(末 端基為甲基丙烯醯基的聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為甲基丙烯醯基的苯乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚丙烯酸丁酯),大賽璐(Daicel)化學工業(股份)製造的Placcel FM5(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯5莫耳當量加成物)、FA10L(丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯10莫耳當量加成物),以及日本專利特開平2-272009號公報中所記載的聚酯系巨分子單體等。該些之中,尤其就顏料分散性、分散穩定性及使用顏料的著色感放射線性組成物所顯示的顯影性的觀點而言,特佳為柔軟性且親溶劑性尤其優異的聚酯系巨分子單體,進而,最佳為由日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨分子單體所表示的聚酯系巨分子單體。
作為具有針對顏料表面的固定部位的嵌段型高分子,較佳為日本專利特開2003-49110號公報、日本專利特開2009-52010號公報等中所記載的嵌段型高分子。
可用於本發明的其他顏料分散劑亦可作為市售品而獲得,作為此種具體例,可列舉:楠木化成股份有限公司製造的「DA-7301」,畢克化學(BYK Chemie)公司製造的「Disperbyk-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、107(羧酸酯)、110(含有酸基的共聚物)、130(聚醯胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)、BYK-P104、P105(高分子量不飽和聚羧酸)」, EFKA公司製造的「EFKA4047、4050~4010~4165(聚胺基甲酸酯系)、EFKA4330~4340(嵌段共聚物)、4400~4402(改質聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醯胺)、5765(高分子量聚羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞青素衍生物)、6750(偶氮顏料衍生物)」,味之素發殷科技(Ajinomoto Fine-Techno)公司製造的「Ajisper PB821、PB822、PB880、PB881」,共榮社化學公司製造的「Florene TG-710(胺基甲酸酯寡聚物),Polyflow No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)」,楠本化成公司製造的「Disparlon KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」,花王公司製造的「Demol RN、N(萘磺酸甲醛聚縮合物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸甲醛聚縮合物),Homogenol L-18(高分子聚羧酸),Emalgen920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯醚),Acetamin86(硬脂基胺乙酸酯)」,日本路博潤(Lubrizol)(股份)製造的「Solsperse5000(酞青素衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)」,日光化學(Nikko Chemicals)公司製造的「Nikol T106(聚氧乙烯去水山梨醇單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯單硬脂酸 酯)」,川研精化(Kawaken Fine Chemicals)(股份)製造的「Hinoact T-8000E」等,信越化學工業(股份)製造的「有機矽氧烷聚合物KP341」,裕商(股份)製造的「W001:陽離子系界面活性劑」、「聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油醚、聚氧乙烯辛基苯醚、聚氧乙烯壬基苯醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、去水山梨醇脂肪酸酯」等非離子系界面活性劑、「W004、W005、W017」等陰離子系界面活性劑,森下產業(股份)製造的「EFKA-46、EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA Polymer100、EFKA Polymer400、EFKA Polymer401、EFKA Polymer450」,聖諾普科(Sannopco)(股份)製造的「Disperse Aid6、Disperse Aid8、Disperse Aid15、Disperse Aid9100」等高分子分散劑,艾迪科(ADEKA)(股份)製造的「Adeka Pluronic L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123」,以及三洋化成(股份)製造的「Ionet(商品名)S-20」等。
該些顏料分散劑可單獨使用,亦可將2種以上組合使用。於本發明中,特佳為將顏料衍生物與高分子分散劑組合使用。 另外,顏料分散劑亦可將上述具有針對顏料表面的固定部位的末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子與鹼可溶性樹脂併用來使用。作為鹼可溶性樹脂,可列舉(甲基)丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化順丁烯二酸共聚物等、以及側鏈上具有羧酸的酸性纖維素衍生物、於具有羥基的聚合物中對酸酐進行改質而成的樹脂,特佳為(甲基)丙烯酸共聚物。另外,日本專利特開平10-300922號公報中所記載的N位取代順丁烯二醯亞胺單體共聚物、日本專利特開2004-300204號公報中所記載的醚二聚體共聚物、日本專利特開平7-319161號公報中所記載的含有聚合性基的鹼可溶性樹脂亦較佳。
於著色感放射線性組成物中,作為顏料分散劑的含量,相對於顏料100質量份,較佳為1質量份~80質量份,更佳為5質量份~70質量份,進而更佳為10質量份~60質量份。
具體而言,若為使用高分子分散劑的情況,則其使用量相對於顏料100質量份,以質量換算計較佳為5份~100份的範圍,更佳為10份~80份的範圍。
另外,當併用顏料衍生物時,作為顏料衍生物的使用量,相對於顏料100質量份,以質量換算計較佳為處於1份~30份的範圍內,更佳為處於3份~20份的範圍內,特佳為處於5份~15份的範圍內。
於著色感放射線性組成物中,當使用作為著色劑的顏 料,並且進而使用顏料分散劑時,就硬化靈敏度、色濃度的觀點而言,相對於構成著色感放射線性組成物的總固體成分,著色劑及分散劑成分(包含特定分散樹脂及其他顏料分散劑)的含量的總和較佳為50質量%以上、90質量%以下,更佳為55質量%以上、85質量%以下,進而更佳為60質量%以上、80質量%以下。
[(B2)其他鹼可溶性樹脂]
本發明的著色感放射線性組成物含有上述(B)特定鹼可溶性樹脂作為必需成分,但亦可進而含有如下的鹼可溶性樹脂(以下,有時稱為(B2)其他鹼可溶性樹脂),該鹼可溶性樹脂不含由上述通式(b1)及通式(b2)所表示的重複單元,即不包含於(B)特定鹼可溶性樹脂中。再者,於此處所述的鹼可溶性樹脂中不含如下的樹脂成分,該樹脂成分作為有助於視需要而併用的(E)顏料的分散的高分子分散劑等分散劑成分而包含於本發明的著色感放射線性組成物中。
作為(B2)其他鹼可溶性樹脂,可自分子(較佳為將丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈的分子)中具有至少1個促進鹼可溶性的基、且為線狀有機高分子聚合物的鹼可溶性樹脂中適宜選擇。就耐熱性的觀點而言,較佳為聚羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂;就控制顯影性的觀點而言,較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。
作為促進鹼可溶性的基(以下,亦稱為酸基),例如可 列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等,較佳為可溶於有機溶劑且可藉由弱鹼性水溶液進行顯影的基,作為特佳者,可列舉(甲基)丙烯酸。該些酸基可僅為1種,亦可為2種以上。
作為於上述聚合後可賦予酸基的單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯等具有羥基的單體、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環氧基的單體、(甲基)丙烯酸2-異氰酸基乙酯等具有異氰酸酯基的單體等。該些用以導入酸基的單體可僅為1種,亦可為2種以上。於向鹼可溶性樹脂中導入酸基時,例如只要將具有酸基的單體及/或於聚合後可賦予酸基的單體(以下,有時亦稱為「用以導入酸基的單體」)作為單體成分進行聚合即可。
再者,當將於聚合後可賦予酸基的單體作為單體成分來導入酸基時,於聚合後需要例如後述般的用以賦予酸基的處理。
於製造鹼可溶性樹脂時,可應用例如利用公知的自由基聚合法的方法。利用自由基聚合法製造鹼可溶性樹脂時的溫度、壓力、自由基起始劑的種類及其量、溶劑的種類等聚合條件可由本領域從業人員容易地設定,亦可實驗性地規定條件。
作為(B2)其他鹼可溶性樹脂,含有如下的聚合物(a)亦較佳,該聚合物(a)是使將由下述通式(ED)所表示的化合物(以下,有時亦稱為「醚二聚體」)作為必需成分的單體成分進行聚合而成。
通式(ED)中,R1及R2分別獨立地表示氫原子或可具有取代基的碳數為1~25的烴基。
藉此,本發明的著色感放射線性組成物可形成耐熱性極其優異、且透明性亦極其優異的硬化塗膜。表示上述醚二聚體的上述通式(ED)中,作為由R1及R2所表示的可具有取代基的碳數為1~25的烴基,並無特別限制,例如可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基;苯基等芳基;環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異莰基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基;1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等經烷氧基取代的烷基;苄基等經芳基取代的烷基等。該些之中,就耐熱性的觀點而言,特佳為如甲基、乙基、環己基、苄基等的不易因酸或熱而脫離的一級碳或二級碳的取代基。
作為上述醚二聚體的具體例,例如可列舉:二甲基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丙基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丙基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丁 基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丁基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三戊基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(硬脂基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(月桂基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-乙基己基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-甲氧基乙基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-乙氧基乙基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基環己基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(二環戊二烯基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(三環癸基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異莰基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二金剛烷基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-甲基-2-金剛烷基)-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯等。該些之中,特佳為二甲基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧代雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯。該些醚二聚體可僅為1種,亦可為2種以上。源自由上述通式(ED)所表示的化合物的結構體亦可與其他單體進行共聚。
另外,為了提昇本發明中的著色感放射線性組成物的交聯效率,亦可使用具有聚合性基的(B2)其他鹼可溶性樹脂。作 為具有聚合性基的鹼可溶性樹脂,側鏈上含有烯丙基、(甲基)丙烯醯基、烯丙氧基烷基等的鹼可溶性樹脂等有用。作為含有上述聚合性基的聚合物的例子,可列舉:Dianal NR系列(三菱麗陽股份有限公司製造)、Photomer6173(含有COOH的丙烯酸聚胺基甲酸酯寡聚物(polyurethane acrylic oligomer),鑽石三葉草有限公司(Diamond Shamrock Co.,Ltd.)製造)、Viscoat R-264、KS Resist106(均為大阪有機化學工業股份有限公司製造)、Cyclomer P系列、Placcel CF200系列(均為Daicel化學工業股份有限公司製造)、Ebecryl3800(Daicel-UCB股份有限公司製造)等。作為該些含有聚合性基的鹼可溶性樹脂,較佳為如下的樹脂:經胺基甲酸酯改質的含有聚合性雙鍵的丙烯酸樹脂,其藉由事先使異氰酸酯基與OH基進行反應、殘留1個未反應的異氰酸酯基、且含有(甲基)丙烯醯基的化合物與含有羧基的丙烯酸樹脂的反應而獲得;藉由含有羧基的丙烯酸樹脂與分子內同時具有環氧基及聚合性雙鍵的化合物的反應所獲得的含有不飽和基的丙烯酸樹脂;酸側基型環氧丙烯酸酯樹脂;使含有OH基的丙烯酸樹脂與具有聚合性雙鍵的二元酸酐進行反應而成的含有聚合性雙鍵的丙烯酸樹脂;使含有OH基的丙烯酸樹脂與異氰酸酯及具有聚合性基的化合物進行反應而成的樹脂;藉由對日本專利特開2002-229207號公報及日本專利特開2003-335814號公報中所記載的α位或β位上具有鹵素原子或磺酸酯基等脫離基、且側鏈上具有酯基的樹脂進行鹼性處理而獲得的樹脂等。
作為(B2)其他鹼可溶性樹脂的酸值,較佳為30 mgKOH/g~200 mgKOH/g,更佳為50 mgKOH/g~150 mgKOH/g,最佳為70 mgKOH/g~120 mgKOH/g。
另外,作為鹼可溶性樹脂的重量平均分子量(Mw),較佳為2,000~50,000,更佳為5,000~30,000,最佳為7,000~20,000。
當含有(B2)其他鹼可溶性樹脂時,作為其於著色感放射線性組成物中的含量,相對於著色感放射線性組成物的總固體成分,較佳為1質量%~15質量%,更佳為2質量%~12質量%,特佳為3質量%~10質量%。
另外,相對於上述(B)特定鹼可溶性樹脂100質量份,所併用的(B2)其他鹼可溶性樹脂的含有率較佳為100質量份以下。
[其他成分]
除上述各成分以外,本發明的著色感放射線性組成物亦可於無損本發明的效果的範圍內,進而包含有機溶劑、交聯劑等其他成分。
(有機溶劑)
本發明的著色感放射線性組成物亦可含有有機溶劑。
有機溶劑只要滿足各成分的溶解性或著色感放射線性組成物的塗佈性,則基本上無特別限制,但特佳為考慮紫外線吸收劑、鹼可溶性樹脂或分散劑等的溶解性、塗佈性、安全性來選擇。另外,當製備本發明中的著色感放射線性組成物時,較佳為 含有至少2種有機溶劑。
作為有機溶劑,作為酯類,例如可適宜地列舉乙酸乙酯、乙酸-正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、羥乙酸烷基酯(例如:羥乙酸甲酯、羥乙酸乙酯、羥乙酸丁酯(具體而言,甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-羥丙酸烷基酯類(具體而言,3-羥丙酸甲酯、3-羥丙酸乙酯等(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-羥丙酸烷基酯類(具體而言,2-羥丙酸甲酯、2-羥丙酸乙酯、2-羥丙酸丙酯等(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(具體而言,2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等,作為醚類,例如可適宜地列舉二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等,另外,作為酮類,例如可適宜地列舉甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等,作為芳香族烴類,例如可適宜地列舉甲苯、二 甲苯等。
該些有機溶劑就紫外線吸收劑及鹼可溶性樹脂的溶解性、塗佈面狀態的改良等的觀點而言,將2種以上的有機溶劑混合亦較佳。於此情況下,特佳為如下的混合溶液,其包含選自上述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚及丙二醇甲醚乙酸酯中的2種以上。
就塗佈性的觀點而言,有機溶劑於著色感放射線性組成物中的含量較佳為設為組成物的總固體成分濃度變成5質量%~80質量%的量,更佳為組成物的總固體成分濃度變成5質量%~60質量%的量,特佳為組成物的總固體成分濃度變成10質量%~50質量%的量。
(交聯劑)
亦可於本發明的著色感放射線性組成物中補充性地使用交聯劑,而進一步提高使著色感放射線性組成物硬化而成的著色硬化膜的硬度。
作為交聯劑,只要是可藉由交聯反應而進行膜硬化者,則並無特別限定,例如可列舉:(a)環氧樹脂;(b)由選自羥甲基、烷氧基甲基及醯氧基甲基中的至少1種取代基取代的三聚氰胺化合物、胍胺化合物、甘脲化合物或脲化合物;(c)由選自羥甲基、烷氧基甲基及醯氧基甲基中的至少1種取代基取代的苯酚 化合物、萘酚化合物或羥基蒽化合物。其中,較佳為多官能環氧樹脂。
關於交聯劑的具體例等的詳細情況,可參照日本專利特開2004-295116號公報的段落0134~段落0147的記載。
(聚合抑制劑)
於本發明中的著色感放射線性組成物中,為了在該著色感放射線性組成物的製造過程中或保存過程中,阻止聚合性化合物的不需要的熱聚合,理想的是添加少量的聚合抑制劑。
作為可用於本發明的聚合抑制劑,可列舉:對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、五倍子酚(pyrogallol)、第三丁基兒茶酚、苯醌、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺三價鈰鹽等。
聚合抑制劑的添加量相對於整個組成物的質量,較佳為約0.01質量%~約5質量%。
(界面活性劑)
於本發明的著色感放射線性組成物中,就進一步提昇塗佈性的觀點而言,亦可添加各種界面活性劑。作為界面活性劑,可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。
尤其,本發明的著色感放射線性組成物藉由含有氟系界 面活性劑,作為塗佈液來製備時的液體特性(特別是流動性)進一步提昇,因此可進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。
即,當使用應用了含有氟系界面活性劑的著色感放射線性組成物的塗佈液來形成膜時,使被塗佈面與塗佈液的界面張力下降,藉此對於被塗佈面的潤濕性得到改善,且對於被塗佈面的塗佈性提昇。因此,即便於以少量的液量形成幾μm左右的薄膜的情況下,就可更適宜地進行厚度不均小的厚度均勻的膜形成的觀點而言亦有效。
氟系界面活性劑中的氟含有率合適的是3質量%~40質量%,更佳為5質量%~30質量%,特佳為7質量%~25質量%。氟含有率為該範圍內的氟系界面活性劑就塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的觀點而言有效,於著色感放射線性組成物中的溶解性亦良好。
作為氟系界面活性劑,例如可列舉:Megafac F171、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F176、Megafac F177、Megafac F141、Megafac F142、Megafac F143、Megafac F144、Megafac R30、Megafac F437、Megafac F475、Megafac F479、Megafac F482、Megafac F554、Megafac F780、Megafac F781(以上,迪愛生(DIC)(股份)製造),Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171(以上,住友3M(Sumitomo 3M)(股份)製造),Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S393、Surflon KH-40(以上,旭硝子(股份)製造,PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(歐諾法(OMNOVA)公司製造))等。
作為非離子系界面活性劑,具體而言,可列舉:甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及該些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油醚、聚氧乙烯辛基苯醚、聚氧乙烯壬基苯醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、去水山梨醇脂肪酸酯(BASF公司製造的Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2,Tetronic304、701、704、901、904、150R1),日本路博潤(股份)的Solsperse20000等。
作為陽離子系界面活性劑,具體而言,可列舉:酞青素衍生物(商品名:EFKA-745,森下產業(股份)製造),有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業(股份)製造),(甲基)丙烯酸系(共)聚合物Polyflow No.75、No.90、No.95(共榮社化學(股份)製造),W001(裕商(股份)製造)等。
作為陰離子系界面活性劑,具體而言,可列舉:W004、W005、W017(裕商(股份)公司製造)等。
作為矽酮系界面活性劑,例如可列舉:東麗.道康寧(股份)製造的「Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400」,邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公 司製造的「TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452」,信越矽利光(Shinetsu silicone)股份有限公司製造的「KP341、KF6001、KF6002」,畢克化學公司製造的「BYK307、BYK323、BYK330」等。
界面活性劑可僅使用1種,亦可組合2種以上。
相對於著色感放射線性組成物的總質量,界面活性劑的添加量較佳為0.001質量%~2.0質量%,更佳為0.005質量%~1.0質量%。
(其他添加物)
於著色感放射線性組成物中,視需要可調配各種添加物,例如填充劑、密接促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗凝聚劑等。作為該些添加物,可列舉日本專利特開2004-295116號公報的段落0155~段落0156中所記載的添加物。
於本發明的著色感放射線性組成物中,可含有日本專利特開2004-295116號公報的段落0078中所記載的增感劑或光穩定劑、該公報的段落0081中所記載的熱聚合防止劑。
(有機羧酸、有機羧酸酐)
本發明的著色感放射線性組成物亦可含有分子量為1000以下的有機羧酸、及/或有機羧酸酐。
作為有機羧酸化合物,具體而言,可列舉脂肪族羧酸或芳香族羧酸。作為脂肪族羧酸,例如可列舉:甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、三甲基乙酸、己酸、乙醇酸、丙烯酸、甲基丙烯酸 等一元羧酸,草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、環己烷二羧酸、環己烯二羧酸、衣康酸、檸康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸等二羧酸,1,2,3-丙三甲酸、鳥頭酸等三羧酸等。另外,作為芳香族羧酸,例如可列舉:苯甲酸、鄰苯二甲酸等羧基直接鍵結於苯基而成的羧酸,以及自苯基經由碳鍵而鍵結有羧基的羧酸類。該些之中,特佳為分子量為600以下,尤其分子量為50~500者,具體而言,例如較佳為順丁烯二酸、丙二酸、丁二酸、衣康酸。
作為有機羧酸酐,例如可列舉脂肪族羧酸酐、芳香族羧酸酐,具體而言,例如可列舉:乙酸酐、三氯乙酸酐、三氟乙酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、丁二酸酐、順丁烯二酸酐、檸康酸酐、衣康酸酐、戊二酸酐、1,2-環己烯二羧酸酐、正十八基丁二酸酐、5-降莰烯-2,3-二羧酸酐等脂肪族羧酸酐。作為芳香族羧酸酐,例如可列舉:鄰苯二甲酸酐、偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、萘二甲酸酐等。該些之中,特佳為分子量為600以下,尤其分子量為50~500者,具體而言,例如較佳為順丁烯二酸酐、丁二酸酐、檸康酸酐、衣康酸酐。
於總固體成分中,該些有機羧酸及/或有機羧酸酐的添加量通常為0.01質量%~10質量%,較佳為0.03質量%~5質量%,更佳為0.05質量%~3質量%的範圍。
藉由添加該些分子量為1000以下的有機羧酸、及/或有機羧酸酐,可一面保持高圖案密接性,一面進一步減少著色感放 射線性組成物的未溶解物的殘存。
[著色感放射線性組成物的製備方法]
本發明的著色感放射線性組成物是藉由將上述成分混合來製備。
再者,當製備著色感放射線性組成物時,可一次性調配構成著色感放射線性組成物的各成分,亦可將各成分溶解.分散於溶劑中後依次調配。另外,進行調配時的投入順序或作業條件並無特別限制。例如,可將所有成分同時溶解.分散於溶劑中來製備組成物,視需要,亦可先將各成分適宜製成2種以上的溶液.分散液,於使用時(塗佈時)將該些溶液.分散液混合來作為組成物製備。
以上述方式製備的著色感放射線性組成物可利用較佳為孔徑為0.01 μm~3.0 μm,更佳為孔徑為0.05 μm~0.5 μm左右的過濾器等進行過濾後,供於使用。
本發明的著色感放射線性組成物因可形成耐熱性及顏色特性優異的著色硬化膜,故可適宜地用於形成彩色濾光片的著色圖案(著色層)。另外,本發明的著色感放射線性組成物可適宜地用於形成固體攝影元件(例如CCD、互補金氧半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)等)或液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display,LCD)等影像顯示裝置中所使用的彩色濾光片等的著色圖案。進而,亦可適宜地用於印刷墨水、噴墨墨水及塗料等的製作用途。其中,可適宜地用於CCD及 CMOS等固體攝影元件用的彩色濾光片的製作用途。
<著色硬化膜、圖案形成方法、彩色濾光片及彩色濾光片的製造方法>
其次,針對本發明中的著色硬化膜、圖案形成方法及彩色濾光片,經由其製造方法而進行詳述。
本發明的圖案形成方法的特徵在於包括:著色感放射線性組成物層形成步驟,將本發明的著色感放射線性組成物賦予至支撐體上而形成著色感放射線性組成物層;曝光步驟,將該著色感放射線性組成物層曝光成圖案狀;以及圖案形成步驟,將未曝光部顯影去除而形成著色圖案。
本發明的圖案形成方法可適宜地應用於彩色濾光片所具有的著色圖案(畫素)的形成。
作為藉由本發明的圖案形成方法來形成圖案的支撐體,除基板等板狀物以外,只要是可應用於圖案形成的支撐體,則並無特別限定。
以下,針對本發明的圖案形成方法中的各步驟,經由固體攝影元件用彩色濾光片的製造方法而進行詳細說明,但本發明並不限定於該方法。
本發明的彩色濾光片的製造方法是應用本發明的圖案形成方法的製造方法,其包括使用本發明的圖案形成方法,於支撐體上形成著色圖案的步驟。
即,本發明的彩色濾光片的製造方法是應用本發明的圖 案形成方法的製造方法,其特徵在於包括:著色感放射線性組成物層形成步驟,將本發明的著色感放射線性組成物賦予至支撐體上而形成著色感放射線性組成物層;曝光步驟,將該著色感放射線性組成物層曝光成圖案狀;以及圖案形成步驟,將未曝光部顯影去除而形成著色圖案。進而,視需要亦可設置對著色感放射線性組成物層進行烘烤的步驟(預烤步驟)及對經顯影的著色圖案進行烘烤的步驟(後烘烤步驟)。以下,有時該些步驟總稱為圖案形成步驟。
本發明的彩色濾光片可藉由上述製造方法而適宜地獲得。
以下,有時將固體攝影元件用彩色濾光片簡稱為「彩色濾光片」。
以下,針對本發明的圖案形成方法中的各步驟,經由本發明的彩色濾光片的製造方法而進行詳述。
本發明的彩色濾光片的製造方法是應用本發明的圖案形成方法的製造方法,其包括使用本發明的圖案形成方法,於基板上形成著色圖案。
[著色感放射線性組成物層形成步驟]
於著色感放射線性組成物層形成步驟中,將本發明的著色感放射線性組成物賦予至支撐體上而形成著色感放射線性組成物層。
作為可用於本步驟的支撐體,例如可使用在基板(例如 矽烷基板)上設置有CCD(Charge Coupled Device)或CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)等攝影元件(受光元件)的固體攝影元件用基板。
本發明中的著色圖案可形成於固體攝影元件用基板的攝影元件形成面側(表面),亦可形成於非攝影元件形成面側(背面)。
亦可於固體攝影元件中的著色圖案之間或固體攝影元件用基板的背面設置遮光膜。
另外,為了改良與上部的層的密接、防止物質的擴散,或者為了基板表面的平坦化,視需要亦可於支撐體上設置底塗層。
作為朝支撐體上賦予本發明的著色感放射線性組成物的賦予方法,可應用狹縫塗佈、噴墨法、旋轉塗佈、流延塗佈、輥塗、網版印刷法等各種塗佈方法。
塗佈於支撐體上的著色感放射線性組成物層的乾燥(預烤)可藉由加熱板、烘箱等,於50℃~140℃的溫度下進行10秒~300秒。
[曝光步驟]
於曝光步驟中,例如使用步進機等曝光裝置,經由具有規定的遮罩圖案的遮罩對著色感放射線性組成物層形成步驟中所形成的著色感放射線性組成物層進行圖案曝光。藉此,可獲得著色硬化膜。
作為可於曝光時使用的放射線(光),尤其可較佳地使 用g射線、i射線等紫外線(特佳為i射線)。照射量(曝光量)較佳為30 mJ/cm2~1500 mJ/cm2,更佳為50 mJ/cm2~1000 mJ/cm2,最佳為80 mJ/cm2~500 mJ/cm2
著色硬化膜的膜厚較佳為1.0 μm以下,更佳為0.1 μm~0.9 μm,進而更佳為0.2 μm~0.8 μm。
藉由將膜厚設為1.0 μm以下,可獲得高解析性、高密接性,故較佳。
[圖案形成步驟]
繼而,進行鹼顯影處理,藉此曝光步驟中的光未照射部分的著色感放射線性組成物層溶出至鹼性水溶液中,而僅殘留經光硬化的部分。
作為顯影液,理想的是不對基底的攝影元件或電路等造成損害的有機鹼性顯影液。顯影溫度通常為20℃~30℃,顯影時間為20秒~90秒。為了進一步去除殘渣,亦可實施120秒~180秒。進而,為了進一步提昇殘渣去除性,有時亦將如下的步驟重複多次:每隔60秒抖落顯影液,進而重新供給顯影液。
作為顯影液中所使用的鹼劑,例如可列舉氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雙環-[5,4,0]-7-十一烯等有機鹼性化合物,作為顯影液,較佳為使用以濃度變成0.001質量%~10質量%,較佳為變成0.01質量%~1質量%的方式,利用純水對該些鹼劑進行稀釋而成的鹼性水溶液。
再者,於顯影液中亦可使用無機鹼,作為無機鹼,較佳為例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等。
再者,當使用了包含此種鹼性水溶液的顯影液時,通常於顯影後,利用純水進行清洗(淋洗)。
繼而,較佳為於實施乾燥後進行加熱處理(後烘烤)。若形成多種顏色的著色圖案,則可針對各種顏色依次重複上述步驟來製造硬化皮膜。藉此,可獲得彩色濾光片。
後烘烤是用以實現完全硬化的顯影後的加熱處理,通常進行100℃~240℃,較佳為200℃~240℃的熱硬化處理。
可使用加熱板或對流烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱機等加熱裝置,以成為上述條件的方式,藉由連續式或分批式來對顯影後的塗佈膜進行該後烘烤處理。
再者,本發明的製造方法視需要亦可具有作為固體攝影元件用彩色濾光片的製造方法所公知的步驟來作為上述以外的步驟。例如,於進行上述著色感放射線性組成物層形成步驟、曝光步驟及圖案形成步驟後,視需要亦可包括藉由加熱及/或曝光來使所形成的著色圖案硬化的硬化步驟。
另外,當使用本發明的著色感放射線性組成物時,例如存在如下的情況,即產生塗佈裝置噴出部的噴嘴或配管部的堵塞、或者由著色感放射線性組成物或顏料於塗佈機內的附著.沈澱.乾燥所引起的污染等。因此,為了高效地清洗由本發明的著色感 放射線性組成物所造成的污染,較佳為將上述與本組成物相關的溶劑用作清洗液。另外,日本專利特開平7-128867號公報、日本專利特開平7-146562號公報、日本專利特開平8-278637號公報、日本專利特開2000-273370號公報、日本專利特開2006-85140號公報、日本專利特開2006-291191號公報、日本專利特開2007-2101號公報、日本專利特開2007-2102號公報、日本專利特開2007-281523號公報等中所記載的清洗液亦可適宜地用於本發明的著色感放射線性組成物的清洗去除。
上述之中,較佳為烷二醇單烷基醚羧酸酯及烷二醇單烷基醚。
該些溶劑可單獨使用,亦可將2種以上混合使用。當將2種以上混合時,較佳為將具有羥基的溶劑與不具有羥基的溶劑混合。具有羥基的溶劑與不具有羥基的溶劑的質量比為1/99~99/1,較佳為10/90~90/10,更佳為20/80~80/20。特佳為丙二醇單甲醚乙酸酯(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate,PGMEA)與丙二醇單甲醚(Propylene Glycol Monomethyl Ether,PGME)的混合溶劑,且其比率為60/40。再者,為了提昇清洗液對於污染物的滲透性,亦可向清洗液中添加上述與本組成物相關的界面活性劑。
本發明的彩色濾光片因使用本發明的著色感放射線性組成物,故可進行曝光範圍優異的曝光,並且所形成的著色圖案(著色畫素)的牢固性、耐熱性優異,圖案的直線性良好,顯影部中的殘渣的產生得到抑制,因此成為顏色特性及耐熱性優異 者。另外,當形成多種顏色的著色圖案時,即便於經過後加熱等加熱製程的情況下,亦有效地抑制朝鄰接的圖案的色移,因此本發明的彩色濾光片成為顏色特性優異的彩色濾光片。
本發明的彩色濾光片可適宜地用於CCD、CMOS等固體攝影元件,特別適合如超過100萬畫素的高解析度的CCD或CMOS等。本發明的固體攝影元件用彩色濾光片可用作例如配置在構成CCD或CMOS的各畫素的受光部、與用於聚光的微透鏡之間的彩色濾光片。
再者,作為本發明的彩色濾光片中的著色圖案(著色畫素)的膜厚,較佳為2.0 μm以下,更佳為1.0 μm以下。
另外,作為著色圖案(著色畫素)的尺寸(圖案寬度),較佳為2.5 μm以下,更佳為2.0 μm以下,特佳為1.7 μm以下。
<固體攝影元件>
本發明中的固體攝影元件具備已述的本發明的彩色濾光片。作為本發明的固體攝影元件的構成,只要是具備本發明中的彩色濾光片、且作為固體攝影元件發揮功能的構成,則並無特別限定,例如可列舉如下的構成。
即,固體攝影元件以如下方式構成:於支撐體上具有構成固體攝影元件(CCD影像感測器、CMOS影像感測器等)的受光區域的多個光二極體、及包含多晶矽等的轉移電極,於上述光二極體及上述轉移電極上具有僅對光二極體的受光部開口的包含鎢等的遮光膜,於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜的整個面、及光二 極體受光部的方式形成的包含氮化矽等的元件保護膜,於上述元件保護膜上具有本發明的固體攝影元件用彩色濾光片。
進而,亦可為如下的構成等:於上述元件保護層上、且於彩色濾光片下(靠近支撐體之側)具有聚光裝置(例如微透鏡等。以下相同)的構成,或者於彩色濾光片上具有聚光裝置的構成。
<影像顯示裝置>
本發明的彩色濾光片不僅可用於上述固體攝影元件,而且可用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等影像顯示裝置,特別適合液晶顯示裝置的用途。
當用於液晶顯示裝置時,即便使用染料作為著色劑,分光特性及耐熱性亦良好,所形成的畫素的直線性優異,非畫素形成部無殘渣,顯示影像的色澤良好且顯示特性優異。
因此,具備本發明的彩色濾光片的液晶顯示裝置可長時間顯示高畫質影像,該高畫質影像的顯示影像的色澤良好且顯示特性優異。
關於顯示裝置的定義或各顯示裝置的詳細情況,於例如「電子顯示裝置(佐佐木 昭夫著,工業調查會(Kogyo Chosakai Publishing)(股份)1990年發行)」、「顯示裝置(伊吹 順章著,產業圖書(Sangyo Tosho)(股份)1989年發行)」等中有記載。另外,關於液晶顯示裝置,於例如「下一代液晶顯示技術(內田 龍男編輯,工業調查會(股份)1994年發行)」中有記載。可應用本 發明的液晶顯示裝置並無特別限制,例如可應用於上述「下一代液晶顯示技術」中所記載的各種方式的液晶顯示裝置。
本發明的彩色濾光片亦可用於彩色薄膜電晶體(Thin Film Transistor,TFT)方式的液晶顯示裝置。關於彩色TFT方式的液晶顯示裝置,於例如「彩色TFT液晶顯示器(共立出版(股份)1996年發行)」中有記載。進而,本發明亦可應用於橫向電場切換(In-Plane Switching,IPS)等橫向電場驅動方式、多象限垂直配向(Multi-Domain Vertical Alignment,MVA)等畫素分割方式等的視角被擴大的液晶顯示裝置,或者超扭轉向列(Super Twisted Nematic,STN)、扭轉向列(Twisted Nematic,TN)、垂直配向(Vertical Alignment,VA)、光路交換(Optical Circuit Switching,OCS)、邊緣電場切換(Fringe Field Switching,FFS)、以及反射光學自補償彎曲(Reflective Optically Compensated Bend,R-OCB)等。
另外,本發明中的彩色濾光片亦可供於明亮且高精細的彩色濾光片陣列(Color-filter On Array,COA)方式。於COA方式的液晶顯示裝置中,對於彩色濾光片層的要求特性除如上所述的通常的要求特性以外,有時需要對於層間絕緣膜的要求特性,即低介電常數及剝離液耐受性。於本發明的彩色濾光片中,因使用色調優異的染料,故色純度、透光性等良好且著色圖案(畫素)的色澤優異,因此可提供解析度高且長期耐久性優異的COA方式的液晶顯示裝置。再者,為了滿足低介電常數的要求特性,亦可 於彩色濾光片層上設置樹脂被膜。
關於該些影像顯示方式,於例如「EL、PDP、LCD顯示器-技術與市場的最新動向-(東麗研究中心(Toray Research Center)調査研究部門2001年發行)」的第43頁等中有記載。
具備本發明中的彩色濾光片的液晶顯示裝置除本發明中的彩色濾光片以外,亦包含電極基板、偏光膜、相位差膜、背光源、間隔片、視角保障膜等各種構件。本發明的彩色濾光片可應用於包含該些公知的構件的液晶顯示裝置。關於該些構件,於例如「'94液晶顯示器周邊材料.化學品的市場(島 健太郎CMC(股份)1994年發行)」、「2003液晶相關市場的現狀與未來展望(下卷)(表良吉 富士凱美萊總研(Fuji Chimera Research Institute(股份)),2003年發行)」中有記載。
關於背光源,於資訊顯示學會會議摘要(SID meeting Digest)1380(2005)(A.Konno等人)或Monthly Display(顯示器月刊)2005年12月號的第18頁~第24頁(島 康裕)、Monthly Display 2005年12月號的第25頁~第30頁(八木隆明)等中有記載。
若將本發明中的彩色濾光片用於液晶顯示裝置,則當與先前公知的冷陰極管的三波長管組合時可實現高對比度,進而,藉由將紅、綠、藍的發光二極體(Light Emitting Diode,LED)光源(RGB-LED)作為背光源,可提供亮度高、色純度高且顏色再現性良好的液晶顯示裝置。
[實施例]
以下,藉由實施例來更具體地說明本發明,但本發明只要不超出其主旨,則並不限定於以下的實施例。再者,只要事先無特別說明,則「%」及「份」為質量基準。
(合成例1)
依據日本專利特開2010-85758號公報的段落號[0186]~段落號[0213]中所記載的方法,獲得下述流程中所記載的染料a(色素單體M1)。具體而言,如下所述。
(中間體2的合成)
向藉由美國專利申請公開第2008/0076044號說明書中所記載的方法所獲得的10 g(42.7毫莫耳)的中間體1中添加乙腈40 ml,並於冰浴冷卻下進行攪拌。向該溶液中滴加使2,2-二乙基5-氯戊醯氯10.81 g(51.2毫莫耳)溶解於乙腈10 ml中而成的溶液。其後,向其中滴加吡啶5.11 g(64.7毫莫耳),並於室溫下 攪拌一小時,對所獲得的結晶進行過濾,利用乙腈進行清洗後,加以乾燥。如此,獲得19.5 g的中間體2(產率:83%)。
(中間體3的合成)
將中間體2(18.0 g,32.7毫莫耳)、硫代蘋果酸(7.9 g,52.6毫莫耳)添加至二甲基乙醯胺70 mL中並於室溫下進行攪拌,一面將其保持為30℃以下一面歷時30分鐘滴加二氮雜雙環十一烯(26.8 g)。於冰浴下,歷時30分鐘將在室溫下攪拌12小時而獲得的反應溶液滴加至0.5N HClaq 400 mL中。對所析出的固體進行過濾、水洗後,再次於400 mL的水中進行攪拌,並進行過濾。對所獲得的固體進行真空乾燥(45℃,12小時),藉此獲得中間體3(18.4 g,27.7毫莫耳,產率為85%)。
(中間體4的合成)
將中間體2(22.0 g,39.9毫莫耳)、甲基丙烯酸(6.9 g,80.1毫莫耳)、碘化鉀(6.6 g)、對甲氧基苯酚(11.5 mg)添加至二甲基乙醯胺50 mL中並於室溫下進行攪拌。添加三乙胺(10.1 g)後,將內溫加熱至變成85℃為止,於該溫度下攪拌4小時。反應結束後,添加乙酸乙酯75 mL,利用1N Hclaq、水、飽和碳酸氫鈉水各50 mL進行清洗後,進行減壓濃縮。利用乙腈100 mL對所獲得的固體進行再結晶,藉此獲得中間體4(16.5 g,27.5毫莫耳,產率為69%)。
(中間體5的合成)
於5℃下,一面於乙腈25 mL中對N-甲基甲醯苯胺(4.3 g,31.8毫莫耳)進行攪拌,一面滴加氧氯化磷(4.9 g,32.0毫莫耳),攪拌1小時後,添加中間體4(16.0 g,26.6毫莫耳)、乙腈10 mL並於室溫下攪拌30分鐘後,於40℃下攪拌5小時。向300 mL的水中注入所獲得的反應液,並攪拌1小時。取出所析出的固體,利用丙酮進行再結晶,藉此獲得中間體5(10.3 g,16.8毫莫耳,產率為63%)。
(中間體6的合成)
於室溫下對中間體3(10.7 g,16.1毫莫耳)、中間體5(10.1 g,16.1毫莫耳)及乙酸酐100 ml進行攪拌,滴加三氟乙酸8.6 g,並於室溫下攪拌4小時而獲得反應液。向於室溫下對水700 mL、碳酸氫鈉170 g進行攪拌而獲得的水溶液中,緩慢地注入上述反應液來進行中和。攪拌1小時後,對所析出的結晶進行過濾,然後利用水300 mL進行沖洗。使所獲得的固體再次溶解於四氫呋喃50 mL中,添加水50 mL及三乙胺(10.5 g),形成均勻系統後,於室溫下攪拌10分鐘。向反應溶液中添加乙酸乙酯400 mL,利用1N HClaq 400 mL、水400 mL分別清洗2次,然後進行減壓濃縮。於40℃下,對所獲得的固體進行12小時吹風乾燥,藉此獲得中間體6(19.5 g,15.3毫莫耳,產率為95%)。
(色素單體M1的合成)
於室溫下,將中間體6(19.0 g,14.9毫莫耳)在四氫呋喃(THF)90 ml中攪拌溶解後,添加甲醇90 mL。歷時10分鐘向其中滴加使乙酸鋅二水合物(3.3 g)溶解於甲醇90 mL中而成的 溶液,並攪拌1小時。其後,利用蒸發器以30℃、1000 Torr進行10分鐘減壓,藉此自反應溶液中餾去溶劑90 mL。將殘留的溶液滴加至水500 ml中,對所析出的結晶進行過濾,並加以乾燥,藉此獲得染料a(色素單體M1)(19.0 g,14.2毫莫耳,產率為95%)。
(合成例2)
製備染料a 35 g、甲基丙烯酸3.27 g、十二硫醇1.30 g、聚合起始劑(V-601、和光純藥製造)2.95 g及丙二醇甲醚乙酸酯86.4 g的混合溶液。另外,向反應容器中添加丙二醇甲醚乙酸酯129.6 g,然後流入氮氣,並保持為85℃來進行攪拌。歷時3小時向其中滴加所製備的混合溶液,攪拌1小時後,添加聚合起始劑(V-601,和光純藥製造)0.88 g,進而反應2小時後停止。冷卻至室溫為止後,歷時20分鐘向乙腈4150 mL中滴加將所獲得的反應溶液、丙二醇甲醚乙酸酯778 mL及甲醇1038 mL混合而成的溶液,並攪拌10分鐘。對所獲得的析出物進行過濾,繼而加以乾燥,而獲得作為色素多聚體的染料c 17 g。
(合成例3)
將染料c 14 g、甲基丙烯酸縮水甘油酯1.31 g、溴化四丁基銨0.239 g、對甲氧基苯酚0.0153 g添加至丙二醇甲醚乙酸酯86.53 g中,並於100℃下加熱攪拌8小時。將所獲得的染料溶液滴加至乙腈1021 mL中,進行過濾、乾燥,而獲得作為色素多聚體的染料e 13 g。
以下,表示染料a的結構(色素單體M1)、染料c的結 構(式(101))、染料e的結構(式(102))。
(染料f的合成)
使用作為三苯基甲烷色素的色素單體M2來作為色素,合成作為由下述式(103)所表示的結構的色素多聚體的染料f。以下,對詳細的操作進行說明。
將藉由日本專利特開2000-162429中所記載的方法所合成的色素單體M2(15 g)、2-丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸(6.5 g)、甲基丙烯酸羥基乙酯(23 g)、甲基丙烯酸(5.5 g)、28質量%氨水(2g)及偶氮雙異丁腈(5 g)添加至N-乙基吡咯啶酮(70 g)中,並於室溫下攪拌30分鐘而使其溶解(滴加用聚合溶液)。
另外,使色素單體M2(15 g)、2-丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸(6.5 g)、甲基丙烯酸羥基乙酯(23 g)、甲基丙烯酸(5.5 g)及28質量%氨水(2 g)溶解於N-乙基吡咯啶酮(70 g)中,並於95℃下進行攪拌。歷時3小時向其中滴加所製備的滴加用聚合溶液,繼續攪拌1小時後,添加偶氮雙異丁腈(2.5 g),所得到的溶 液進一步進攪拌2小時後,冷卻至室溫,接著將溶劑餾去獲得共聚物(染料f)。共聚物(染料f)的重量平均分子量(Mw)為28000,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為190 mgKOH/g。
(染料i的合成)
使用作為蒽醌色素的色素單體M3來作為色素,以如下方式合成由式(104)所表示的結構的染料i。
向100 mL三口燒瓶中添加色素單體M3(8.21 g)、甲基丙烯酸(1.08 g)、十二基硫醇(0.25 g)及丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯(PGMEA)(23.3 g),並於氮氣環境下加熱至80℃。歷時2小時向該溶液中滴加色素單體M3(8.21 g)、甲基丙烯酸(1.08 g)、十二基硫醇(0.25 g)、2,2'-偶氮雙(異丁酸)二甲酯(0.58 g)及PGMEA(23.3 g)的混合溶液(本混合溶液的濁度於室溫下為8 ppm)。將所獲得的反應溶液攪拌3小時後,昇溫至90℃,並加熱 攪拌2小時。繼而,放置冷卻而獲得(MD-1)的PGMEA溶液。繼而,向該(MD-1)的PGMEA溶液中添加甲基丙烯酸縮水甘油酯(1.42 g)、溴化四丁基銨(80 mg)及對甲氧基苯酚(20 mg),於空氣環境下,以100℃加熱15小時,並確認甲基丙烯酸縮水甘油酯消失。冷卻後,將所獲得的反應溶液滴加至甲醇/離子交換水=100 mL/10 mL的混合溶劑中進行再沈澱,從而獲得作為色素多聚體的染料i 17.6 g。藉由GPC測定,重量平均分子量(Mw)為6,000,重量平均分子量/數量平均分子量(Mw/Mn)的比為1.9。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為42 mgKOH/g。藉由核磁共振(Nuclear Magnetic Resonance,NMR)測定,相對於作為色素多聚體的染料i(1 g),色素多聚體所含有的聚合性基量為22 mg/g。
(染料j~染料u的合成)
除將色素單體的種類變成如下述表1所示般以外,以與染料i的合成相同的方式合成染料j~染料u。
於下述表1中,色素單體M4~色素單體M15及式(105)~式(116)如下所述。
此處,色素單體M4及色素單體M5為蒽醌色素,色素單體M6為方酸色素,色素單體M7為花青色素,色素單體M8為酞青素色素,色素單體M9為亞酞青素色素,色素單體M10為喹酞酮色素,色素單體M11為二苯并哌喃色素,色素單體M12~色素單體M15為偶氮色素。
於下述表1中,記載作為色素多聚體的染料c~染料u中所含有的可形成色素結構的色素單體的種類(M1~M15)、色素多聚體的結構[式(101)~式(116)]及所獲得的色素多聚體的酸值、重量平均分子量(Mw)。
[(B)特定鹼可溶性樹脂J1~特定鹼可溶性樹脂J4的合成]
鹼可溶性樹脂J1~鹼可溶性樹脂J4為具有由上述通式(b1)所表示的含有順丁烯二醯亞胺結構的重複單元的鹼可溶性樹脂。
依據日本專利4752649號的段落號[0108]中所記載的方法,獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂J1~特定鹼可溶性樹脂J4。具體而言,如下所述。
(合成例B-1)
向具備冷卻管、攪拌機的500 mL三口燒瓶中添加2,2'- 偶氮雙戊腈(5 g)及丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),繼而加入甲基丙烯酸(20 g)、丁二酸單(2-甲基丙烯醯氧基乙基)酯(10 g)、N-苯基順丁烯二醯亞胺(31.2 g)、甲基丙烯酸苄酯(20 g)、苯乙烯(18.8 g)及α-甲基苯乙烯二聚體(7 g),進行氮氣置換後,緩慢地進行攪拌,並將反應溶液昇溫至70℃,保持該溫度並進行2小時聚合。其後,追加2,2'-偶氮雙戊腈(2 g),進而繼續進行2小時聚合,藉此獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J1)(固體成分濃度=32.8質量%)。該樹脂的Mw=12,000,(Mw/Mn)=3.0。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為150 mgKOH/g。
(合成例B-2)
向具備冷卻管、攪拌機的500 mL三口燒瓶中添加2,2'-偶氮雙戊腈(3.5 g)及丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),繼而加入甲基丙烯酸(30 g)、N-苯基順丁烯二醯亞胺(31.2 g)、甲基丙烯酸苄酯(20 g)、苯乙烯(18.8 g)及α-甲基苯乙烯二聚體(4.9 g),進行氮氣置換後,緩慢地進行攪拌,並將反應溶液昇溫至70℃, 保持該溫度並進行2小時聚合。其後,向反應溶液中追加2,2'-偶氮雙戊腈(1.4 g),進而繼續進行2小時聚合,藉此獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J2)(固體成分濃度=32.8質量%)。該樹脂的Mw=25,000,(Mw/Mn)=2.3。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為195 mgKOH/g。
(合成例B-3)
向具備冷卻管、攪拌機的500 mL三口燒瓶中添加2,2'-偶氮雙戊腈(3.5 g)及丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),繼而加入甲基丙烯酸(15 g)、N-苯基順丁烯二醯亞胺(25 g)、甲基丙烯酸苄酯(35 g)、甘油單甲基丙烯酸酯(10 g)、苯乙烯(15 g)及α-甲基苯乙烯二聚體(4.9 g),進行氮氣置換後,緩慢地進行攪拌,並將反應溶液昇溫至70℃,保持該溫度並進行2小時聚合。其後,向反應溶液中追加2,2'-偶氮雙戊腈(1.4 g),進而繼續進行2小時聚合,藉此獲得含有順丁烯二醯亞胺的鹼可溶性樹脂溶液(J3)(固體成分濃度=32.8質量%)。該樹脂的Mw=30,000,(Mw/Mn)=3。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為95 mgKOH/g。
(合成例B-4)
向具備冷卻管、攪拌機的500 mL三口燒瓶中添加2,2'-偶氮雙戊腈(5 g)及丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),繼而加入甲基丙烯酸(20 g)、丁二酸單(2-甲基丙烯醯氧基乙基)酯(10 g)、N-苯基順丁烯二醯亞胺(31.2 g)、甲基丙烯酸烯丙酯(20 g)、苯乙烯(18.8 g)及α-甲基苯乙烯二聚體(7 g),進行氮氣置換後,緩慢地進行攪拌,並將反應溶液昇溫至70℃,保持該溫度並進行2小時聚合。其後,向反應溶液中追加2,2'-偶氮雙戊腈(2 g),進而繼續進行2小時聚合,藉此獲得含有順丁烯二醯亞胺的鹼可溶性樹脂溶液(J4)(固體成分濃度=32.8質量%)。該樹脂的Mw=12,000,(Mw/Mn)=2.8。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為150 mgKOH/g。
(鹼可溶性樹脂J5~鹼可溶性樹脂J8的合成)
依據日本專利特開2009-282114的段落號[0144]~段落號[0148]中所記載的方法,獲得下述鹼可溶性樹脂J5~鹼可溶性樹脂J9。具體而言,如下所述。
鹼可溶性樹脂J5~鹼可溶性樹脂J8為具有由上述通式(b2)所表示的重複單元的鹼可溶性樹脂,J10為含有由上述通式(b1)所表示的重複單元及由上述通式(b2)所表示的重複單元兩者的特定鹼可溶性樹脂。
(合成例B-5)
向反應容器中添加丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),一面向容器中注入氮氣一面加熱至80℃,然後於相同溫度下歷時1小時滴加甲基丙烯酸(20 g)、甲基丙烯酸甲酯(30 g)、作為單體(b2)的對枯基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯(東亞合成股份有限公司製造的「Aronix M110」)(20 g)、甘油單甲基丙烯酸酯(30 g)及2,2'-偶氮雙異丁腈4.0份的混合物來進行聚合反應。滴加結束後,進而於80℃下進行3小時反應後,向所獲得的反應溶液中添加使偶氮雙異丁腈1.0份溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯(33 g)中而成的混合溶液,進而於80℃下繼續反應1小時,藉此獲得下述結構的特定 鹼可溶性樹脂溶液(J5)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=20,000,(Mw/Mn)=3.1。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-6)
向反應容器中添加丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),一面向容器中注入氮氣一面加熱至80℃,然後於相同溫度下歷時1小時滴加2-甲基丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸(新中村化學公司製造的「NK ESTER CB-1」)(50 g)、作為單體(b2)的對枯基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯(東亞合成股份有限公司製造的「Aronix M110」)(30 g)、甲基丙烯酸苄酯(20 g)及2,2'-偶氮雙異丁腈4.0份的混合物來進行聚合反應。滴加結束後,進而於80℃下進行3小時反應。其後,向所獲得的反應溶液中添加使偶氮雙異丁腈1.0份溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯(33 g)中而成的混合溶液,進而於80℃下繼續反應1小時,藉此獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J6)(固體成分濃度=30.3質量%)。該樹脂的Mw=22,000,(Mw/Mn)=3.0。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為95 mgKOH/g。
(合成例B-7)
除將對枯基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯變成苯酚EO改質丙烯酸酯(東亞合成公司製造的「Aronix M102」)以外,以與J5相同的方法進行合成,而獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J7)(固體成分濃度=30.3質量%)。該樹脂的Mw=20,000,(Mw/Mn)=2.8。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-8)
除將對枯基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯變成壬酚PO改質丙烯酸酯(東亞合成公司製造的「Aronix M117」)以外,以與J5相同的方法進行合成,而獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶 液(J8)(固體成分濃度=30.2質量%)。該樹脂的Mw=19,000,(Mw/Mn)=2.8。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-9)
除將對枯基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯變成2-乙基己基EO改質丙烯酸酯(東亞合成公司製造「Aronix M120」)以外,以與J5相同的方法進行合成,而獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J9)(固體成分濃度=30.3質量%)。該樹脂的Mw=21,000,(Mw/Mn)=2.8。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-10)
向反應容器中添加丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),一面向容器中注入氮氣一面加熱至80℃,然後於相同溫度下歷時1小時滴加甲基丙烯酸(20 g)、甲基丙烯酸甲酯(30 g)、作為單體(b2)的對枯基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯(東亞合成股份有限公司製造的「Aronix M110」)(10 g)、作為單體(b1)的N-苯基順丁烯二醯亞胺(10 g)、甘油單甲基丙烯酸酯(30 g)及2,2'-偶氮雙異丁腈4.0份的混合物來進行聚合反應。滴加結束後,進而於80℃下進行3小時反應後,向所獲得的反應溶液中添加使偶氮雙異丁腈1.0份溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯(33 g)中而成的混合溶液,進而於80℃下繼續反應1小時,藉此獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J10)(固體成分濃度=30.2質量%)。該樹脂的Mw=20,000,(Mw/Mn)=3.2。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-11)
作為單體(b2),使用以下所記載的結構的環氧乙烷改質丙烯酸酯而非對枯基苯酚環氧乙烷改質丙烯酸酯(東亞合成股份有限公司製造的「Aronix M110」),除此以外,進行與上述合成 例B-5相同的操作,而獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J11)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=21,000,(Mw/Mn)=3.3。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-12)
向具備冷卻管、攪拌機的500 mL三口燒瓶中添加2,2'-偶氮雙戊腈(5 g)及丙二醇單甲醚乙酸酯(200 g),繼而加入丁二酸單(2-甲基丙烯醯氧基乙基)酯(30 g)、N-苯基順丁烯二醯亞胺(20 g)、甲基丙烯酸苄酯(50 g)及α-甲基苯乙烯二聚體(4.9 g),進行氮氣置換後,緩慢地進行攪拌,並將反應溶液昇溫至70℃,保持該溫度並進行2小時聚合。其後,向所獲得的反應溶 液中追加2,2'-偶氮雙戊腈(2 g),進而繼續進行2小時聚合,藉此獲得包含具有順丁烯二醯亞胺結構的重複單元的特定鹼可溶性樹脂溶液(J12)(固體成分濃度=31.8質量%)。該樹脂的Mw=24,000,(Mw/Mn)=2.8。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為75 mgKOH/g。
(合成例B-13)
將2,2'-偶氮雙戊腈的量變更為2 g,將α-甲基苯乙烯二聚體的量變更為2 g,除此以外,進行與B-12相同的操作,而獲得特定鹼可溶性樹脂溶液(J13)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=100,000,(Mw/Mn)=3.0。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為75 mgKOH/g。
(合成例B-14)
將2,2'-偶氮雙戊腈的量變更為3 g,將α-甲基苯乙烯二聚體的量變更為3 g,除此以外,進行與B-12相同的操作,而獲得特定鹼可溶性樹脂溶液(J14)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=60,000,(Mw/Mn)=3.0。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為75 mgKOH/g。
(合成例B-15)
將2,2'-偶氮雙戊腈的量變更為10 g,將α-甲基苯乙烯二聚體的量變更為10 g,除此以外,進行與B-12相同的操作,而獲得特定鹼可溶性樹脂溶液(J15)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=5,000,(Mw/Mn)=3.5。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為75 mgKOH/g。
(合成例B-16)
作為單體(b1),使用環己基順丁烯二醯亞胺而非苯基順丁烯二醯亞胺,除此以外,進行與B-12相同的操作,而獲得下述結構的特定鹼可溶性樹脂溶液(J16)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=25,000,(Mw/Mn)=3.0。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為75 mgKOH/g。
(J17~J22的合成)
除將單體的添加重量變更為下表2中記載的添加重量以外,進行與合成例B-12相同的操作,而獲得具有下述表2中所記載的組成比與物性的特定鹼可溶性樹脂溶液(J17~J22)。
[表2]
(合成例B-23)
將滴加液中的2,2'-偶氮雙異丁腈的量變更為0.5 g,將滴加後追加添加的2,2'-偶氮雙異丁腈的量變更為0.125 g,除此以外,進行與B-5相同的操作,而獲得特定鹼可溶性樹脂溶液(J23)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=92,000,(Mw/Mn)=3.0。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-24)
將滴加液中的2,2'-偶氮雙異丁腈的量變更為1 g,將滴加後追加添加的2,2'-偶氮雙異丁腈的量變更為0.25 g,除此以外,進行與B-5相同的操作,而獲得特定鹼可溶性樹脂溶液(J24)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=55,000,(Mw/Mn)=3.1。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(合成例B-25)
將滴加液中的2,2'-偶氮雙異丁腈的量變更為12 g,將滴加後追加添加的2,2'-偶氮雙異丁腈的量變更為3 g,除此以外,進行與B-5相同的操作,而獲得特定鹼可溶性樹脂溶液(J25)(固體成分濃度=30.4質量%)。該樹脂的Mw=6,300,(Mw/Mn)=3.4。另外,藉由使用0.1 N氫氧化鈉水溶液的滴定,酸值為130 mgKOH/g。
(J26~J32的合成)
除將單體的添加重量變更為下表3中記載的添加重量以外,進行與合成例B-5相同的操作,而獲得具有下述表3中所記載的組成物比與物性的特定鹼可溶性樹脂溶液(J26~J32)。
[實施例1] <著色組成物的製備> (顏料分散液(C.I.顏料藍15:6分散液)的製備)
以如下方式製備顏料分散液(C.I.顏料藍15:6分散液)。
即,利用珠磨機(beads mill)(氧化鋯珠,直徑為0.3 mm),將包含C.I.顏料藍15:6(藍色顏料;以下,亦稱為「PB15:6」)11.8質量份(平均一次粒徑為55 nm)及顏料分散劑BY-161(BYK公司製造)5.9質量份、PGMEA 82.3質量份的混合液混合3小時,而使PB15:6分散。其後,進而使用帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(美粒(Beryu)(股份)製造),於2000 kg/cm3的壓力下以500 g/min的流量進行分散處理。將該分散處理重複10次,而獲得C.I.顏料藍15:6分散液作為顏料分散液。針 對所獲得的C.I.顏料藍15:6分散液,利用動態光散射法(Microtrac Nanotrac UPA-EX150(日機裝公司(Nikkiso Co.,Ltd.)製造))測定顏料的平均一次粒徑,結果為24 nm。
(著色組成物的製備)
將下述的各成分混合後分散、溶解,而獲得著色組成物(著色感放射線性組成物)。
~著色組成物的成分~
<帶有底塗層的矽基板的製作> (底塗層用抗蝕液的製備)
將下述組成的成分混合並溶解,製備底塗層用抗蝕液。
~底塗層用抗蝕液的組成~
(帶有底塗層的矽基板的製作)
於烘箱中以200℃對6 inch矽晶圓進行30分鐘加熱處理。繼而,將上述底塗層用抗蝕液以乾燥膜厚變成1.5 μm的方式 塗佈於該矽晶圓上,進而於220℃的烘箱中進行1小時加熱乾燥而形成底塗層,從而獲得帶有底塗層的矽晶圓基板。
<彩色濾光片(著色圖案)的製作>
將上述所製備的著色組成物塗佈於上述所製作的帶有底塗層的矽晶圓的底塗層上,而形成著色層(塗佈膜)。然後,使用100℃的加熱板,以該塗佈膜的乾燥膜厚變成1 μm的方式進行120秒加熱處理(預烤)。
繼而,使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股份)製造),於365 nm的波長下,透過圖案為各邊1.2 μm的正方形的島(Island)圖案遮罩,以50 mJ/cm2~1200 mJ/cm2的各種曝光量進行曝光。
其後,將形成有經照射的塗佈膜的矽晶圓基板載置於旋轉.噴淋顯影機(DW-30型,Chemitronics(股份)製造)的水平旋轉台上,使用CD-2000(富士軟片電子材料(Fujifilm Electronic Materials)(股份)製造)於23℃下進行60秒浸置式顯影,而於帶有底塗層的矽晶圓的底塗層上形成著色圖案。
藉由真空夾盤方式來將形成有著色圖案的矽晶圓固定於上述水平旋轉台上,利用旋轉裝置以50 r.p.m.的轉速使該矽晶圓旋轉,並自其旋轉中心的上方,自噴出噴嘴呈噴淋狀地供給純水來進行淋洗處理,其後進行噴霧乾燥。
藉由以上方式,獲得於帶有底塗層的矽晶圓的底塗層上設置有著色圖案(彩色濾光片)的構成的帶有著色圖案的矽晶圓。
其後,使用測長SEM「S-9260A」(日立先端科技(Hitachi High-Technologies)(股份)製造),測定著色圖案的尺寸。
使用圖案尺寸變成1.2 μm的曝光量的著色圖案,進行圖案直線性、缺陷的評價。
<性能評價> .殘渣
利用掃描型電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope,SEM)(倍率為10000倍)對上述著色圖案的形成區域外(未曝光部)進行觀察,並根據下述評價基準評價顯影殘渣.缺口.圖案直線性。
~顯影殘渣的評價基準~
AA:於著色圖案的形成區域外(未曝光部),完全未確認到殘渣
A:於著色圖案的形成區域外(未曝光部),極其略微地確認到殘渣,但為於實用上無問題的程度
B:於著色圖案的形成區域外(未曝光部),略微確認到殘渣,但為於實用上無問題的程度
D:於著色圖案的形成區域外(未曝光部),顯著確認到殘渣。
~缺口的評價基準~
AA:於著色圖案的邊緣,完全未確認到缺口
A:於著色圖案的邊緣,極其略微地確認到缺口,但為於實用上無問題的程度
B:於著色圖案的邊緣,略微確認到缺口,但為於實用上無問題的 程度
D:於著色圖案的邊緣,顯著確認到缺口。
~圖案直線性的評價基準~
AA:直線性良好地形成有線寬為1.2 μm的圖案。
A:於線寬為1.2 μm的圖案中極其略微地確認到凹凸,但為於實用上無問題的程度
B:於線寬為1.2 μm的圖案中略微確認到凹凸,但為於實用上無問題的程度
D:雖然可形成線寬為1.2 μm的圖案,但存在未顯影部分且直線性差。
[耐熱性]
將塗佈有如上述般獲得的著色感放射線性組成物的玻璃基板以利用該基板面來接觸的方式載置於200℃的加熱板上,進行1小時加熱後,利用分光光度計cary5(Varian公司製造),測定加熱前後的最大吸收波長下的吸光度的變化,且利用色度計MCPD-1000(大塚電子(股份)製造),測定加熱前後的色差(△E*ab值),並將該些作為評價耐熱性的指標來進行評價。
再者,△E*ab值為根據利用CIE1976(L*,a*,b*)空間表色系統的以下的色差公式所求出的值(日本色彩學會編新編色彩科學手冊(1985年)p.266)。
△E*ab={(△L*)2+(△a*)2+(△b*)2}1/2
~耐熱性的評價基準~
A:加熱前後的吸光度的變化及色差幾乎不存在。
B:確認到加熱前後的吸光度的變化及色差,但為於實用上無問題的程度
C:加熱前後的吸光度的變化及色差顯著,且為於實用上有問題的程度。
將評價結果示於表4~表6。
[實施例2~實施例63、比較例1~比較例2]
於實施例1中,將用於著色組成物的製備的色素f變更為下述表4~表6所示的色素,將顏料分散液變更為下述表4~表6所示的顏料的分散液,將特定鹼可溶性樹脂J1變更為下述表4~表6所示的特定鹼可溶性樹脂或比較鹼可溶性樹脂,且變更聚合起始劑,除此以外,以與實施例1相同的方式製備著色組成物。使用所獲得的著色組成物,以與實施例1相同的方式製作帶有著色圖案的矽晶圓,並進行評價。
將評價結果示於下述表4~表6。
下述表4~表6所示的顏料的分散液使用下述的顏料來代替實施例1中的「C.I.顏料藍15:6分散液的製備」中用作藍色顏料的C.I.顏料藍15:6,除此以外,以與實施例1中的「C.I.顏料藍15:6分散液的製備」相同的方式製備。
於表4~表6中,該些分散液如下述( )內所記載的(PR254)般,以簡稱來記載。
.紅色用顏料A(分散液於表中記載為「PR254」)
C.I.顏料紅254(PR254)(平均一次粒徑為26 nm)
.紅色用顏料B(分散液於表中記載為「PR177」)
C.I.顏料紅177(PR177)(平均一次粒徑為28 nm)
.綠色用顏料A
C.I.顏料綠36(PG36)(平均一次粒徑為25 nm)
.綠色用顏料B
C.I.顏料綠58(PG58)(平均一次粒徑為30 nm)
.黃色用顏料A
C.I.顏料黃139(PY139)(平均一次粒徑為27 nm)
.黃色用顏料B
C.I.顏料黃150(PY150)(平均一次粒徑為26 nm)
另外,表4~表6所示的光聚合起始劑(I-1)~光聚合起始劑(I-8)及比較鹼可溶性樹脂(JC-1)、比較鹼可溶性樹脂(JC-2)如下所示。
如於表4~表6中所明確般,可知使用本發明的著色感放射線性組成物所獲得的彩色濾光片儘管含有相同的色素多聚體,與使用特定鹼可溶性樹脂以外的其他鹼可溶性樹脂的比較例1及比較例2相比,亦形成耐熱性優異、無缺口的直線性良好的圖案,且未曝光部的殘渣的產生得到抑制。
[實施例64] -固體攝影元件用的全彩的彩色濾光片的製作-
使用實施例50中所製備的綠色用著色感放射線性組成物,以1.0×1.0 μm的島貝爾(island bayer)狀圖案形成綠色畫素,繼而,使用實施例23中所製備的紅色用著色感放射線性組成物,以1.0×1.0 μm的島(island)狀圖案形成紅色畫素,進而於剩餘的格子中,使用實施例5中所製備的藍色用著色感放射線性組成物,形成1.0×1.0 μm的島狀圖案的藍色畫素,從而製成遮光部固體攝影元件用的彩色濾光片。
-評價-
將所獲得的固體攝影元件用的全彩的彩色濾光片組裝入固體攝影元件中,結果確認該固體攝影元件的解析度高、且分色性優異。
-液晶顯示裝置用彩色濾光片的製作-
使用實施例51中所製備的紅色用著色感放射線性組成物,於黑色矩陣上形成80 μm×80 μm的紅色(R)的著色圖案。進而,以相同方式,依序使用實施例22中所製備的綠色用著色感放射線性組成物形成綠色(G)的著色圖案,且使用實施例5中所製備的藍色用著色感放射線性組成物形成藍色(B)的著色圖案,從而製成液晶顯示裝置用彩色濾光片。
-評價-
對全彩的彩色濾光片實施ITO透明電極、配向膜等的加工,而設置液晶顯示裝置。已確認因本發明的著色感放射線性組 成物的塗佈面均勻性良好、且所形成的彩色濾光片具有良好的圖案形狀,故具備該彩色濾光片的液晶顯示裝置無顯示不均、且畫質良好。

Claims (17)

  1. 一種著色感放射線性組成物,其包括:(A)色素多聚體;(B)鹼可溶性樹脂,含有選自由以下述通式(b1)所表示的重複單元及以下述通式(b2)所表示的重複單元所組成的群組中的重複單元的至少1種;(C)聚合性化合物;以及(D)光聚合起始劑; 上述通式(b1)中,R1表示氫原子、芳基或烷基; 上述通式(b2)中,R2表示氫原子或甲基,R3表示碳數為2或3的伸烷基,R4表示氫原子、芳基或烷基,m表示1~15的整數;當m為2~15時,存在多個的R3彼此可相同,亦可不同。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(B)鹼可溶性樹脂為含有選自由以下述通式(b1')所表示的重複單元及以下述通式(b2')所表示的重複單元所組成的群 組中的重複單元的至少1種的聚合物; 上述通式(b1')中,R1'表示芳基; 上述通式(b2')中,R2表示氫原子或甲基,R3表示碳數為2或3的伸烷基,R4'表示芳基,m表示1~15的整數;當m為2~15時,存在多個的R3彼此可相同,亦可不同。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物,其中上述通式(b2)中的m表示1~5的整數。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的著色感放射線性組成物,其中上述通式(b2')中的m表示1~5的整數。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(B)鹼可溶性樹脂為含有以上述通式(b1)所表示的重複單元的至少1種及以上述通式(b2)所表示的重複單元的至少1種的共聚物。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(B)鹼可溶性樹脂的酸值為50 mgKOH/g~200 mgKOH/g。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(A)色素多聚體具有源自色素的部分結構,上述色素選自二吡咯亞甲基色素、偶氮色素、蒽醌色素、三苯基甲烷色素、二苯并哌喃色素、花青色素、方酸(squarylium)色素、喹酞酮色素、酞青素色素及亞酞青素色素。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物,其更包括(E)顏料。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(E)顏料為選自蒽醌顏料、二酮吡咯并吡咯顏料、酞青素顏料、喹酞酮顏料、異吲哚啉顏料、甲亞胺顏料及二噁嗪顏料中的至少1種。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物,其中上述(D)光聚合起始劑為肟化合物。
  11. 如申請專利範圍第1項或第10項所述的著色感放射線性組成物,其用於形成彩色濾光片的著色層。
  12. 一種著色硬化膜,其是使如申請專利範圍第1項或第10項所述的著色感放射線性組成物硬化而獲得。
  13. 一種彩色濾光片,其包括如申請專利範圍第12項所述的著色硬化膜。
  14. 一種著色圖案形成方法,其包括:著色感放射線性組成物層形成步驟,將如申請專利範圍第1項所述的著色感放射線性組成物賦予至支撐體上而形成著色感放 射線性組成物層;曝光步驟,將上述著色感放射線性組成物層曝光成圖案狀;以及圖案形成步驟,將未曝光部顯影去除而形成著色圖案。
  15. 一種彩色濾光片的製造方法,其包括:著色感放射線性組成物層形成步驟,將如申請專利範圍第10項或第11項所述的著色感放射線性組成物賦予至支撐體上來形成著色感放射線性組成物層;曝光步驟,將上述著色感放射線性組成物層曝光成圖案狀;以及圖案形成步驟,將未曝光部顯影去除而形成著色圖案。
  16. 一種固體攝影元件,其包括:如申請專利範圍第13項所述的彩色濾光片或藉由如申請專利範圍第15項所述的彩色濾光片的製造方法所獲得的彩色濾光片。
  17. 一種影像顯示裝置,其包括:如申請專利範圍第13項所述的彩色濾光片或藉由如申請專利範圍第15項所述的彩色濾光片的製造方法所製作的彩色濾光片。
TW102109559A 2012-03-19 2013-03-18 著色感放射線性組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、著色圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及影像顯示裝置 TWI559087B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012062847 2012-03-19
JP2013027767A JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2013-02-15 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201339760A true TW201339760A (zh) 2013-10-01
TWI559087B TWI559087B (zh) 2016-11-21

Family

ID=49222615

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102109559A TWI559087B (zh) 2012-03-19 2013-03-18 著色感放射線性組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、著色圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及影像顯示裝置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9268063B2 (zh)
EP (1) EP2829916A1 (zh)
JP (1) JP5934664B2 (zh)
KR (1) KR101736259B1 (zh)
CN (1) CN104185815B (zh)
TW (1) TWI559087B (zh)
WO (1) WO2013141156A1 (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9291743B2 (en) 2014-01-14 2016-03-22 Samsung Sdi Co., Ltd. Photosensitive resin composition and color filter using the same
CN105467754A (zh) * 2014-09-25 2016-04-06 三星Sdi株式会社 感光性树脂组合物和使用其的彩色滤光片
CN105940057A (zh) * 2014-01-31 2016-09-14 富士胶片株式会社 着色组合物、及使用该着色组合物的固化膜、彩色滤光片、图案形成方法、彩色滤光片的制造方法、固体成像元件及图像显示装置
TWI570510B (zh) * 2014-01-14 2017-02-11 三星Sdi股份有限公司 感光性樹脂組成物及使用其的彩色濾光片
TWI577750B (zh) * 2013-08-01 2017-04-11 富士軟片股份有限公司 著色組成物、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法及圖像顯示裝置的製造方法
TWI636329B (zh) * 2013-10-28 2018-09-21 日立化成股份有限公司 感光性樹脂組成物、感光性元件及抗蝕劑圖案的形成方法
TWI720100B (zh) * 2016-01-14 2021-03-01 日商富士軟片股份有限公司 感放射線性組成物、膜、彩色濾光片、遮光膜及固體攝像元件
TWI739735B (zh) * 2015-02-27 2021-09-21 日商富士軟片股份有限公司 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及聚合物

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6147181B2 (ja) * 2013-09-30 2017-06-14 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および液晶表示装置
JP2015103735A (ja) * 2013-11-27 2015-06-04 ソニー株式会社 固体撮像素子および電子機器
KR102207172B1 (ko) * 2013-11-27 2021-01-26 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 네거티브형 감광성 수지 조성물
JP6166711B2 (ja) * 2013-12-25 2017-07-19 富士フイルム株式会社 着色組成物、およびこれを用いた硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
JP6166683B2 (ja) * 2014-03-28 2017-07-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
JP6764636B2 (ja) * 2014-10-08 2020-10-07 東京応化工業株式会社 感放射線性樹脂組成物、パターン製造方法、透明絶縁膜、及び表示装置
KR102213643B1 (ko) * 2014-11-28 2021-02-08 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물
US20170315443A1 (en) * 2014-12-10 2017-11-02 Goo Chemical Co., Ltd. Liquid solder resist composition and covered-printed wiring board
KR20160097445A (ko) * 2015-02-06 2016-08-18 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 표시 패널
KR102279575B1 (ko) * 2015-03-26 2021-07-20 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 화상 표시 장치
TWI862103B (zh) * 2015-03-30 2024-11-11 日商富士軟片股份有限公司 著色感光性組成物、硬化膜、圖案形成方法、帶遮光膜的紅外線截止濾光片、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外感測器
JP6473370B2 (ja) * 2015-04-13 2019-02-20 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、着色剤および着色剤の製造方法
JP6686657B2 (ja) * 2015-04-22 2020-04-22 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、表示素子及び固体撮像素子
TWI707922B (zh) * 2015-11-16 2020-10-21 日商富士軟片股份有限公司 著色組成物、彩色濾光片、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及色素多量體
TWI766759B (zh) * 2016-09-02 2022-06-01 日商住友化學股份有限公司 著色組成物及化合物
CN106977980A (zh) * 2017-05-24 2017-07-25 上海贝通色彩科技有限公司 一种耐碱性分散染料组合物
KR102219158B1 (ko) * 2017-09-25 2021-02-23 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 막, 적외선 투과 필터, 고체 촬상 소자 및 광 센서
KR102366344B1 (ko) * 2017-12-18 2022-02-23 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 중합체, 경화성 수지 조성물, 및 그 용도
JP2021179451A (ja) * 2018-07-23 2021-11-18 Jsr株式会社 カラーフィルタ、液晶表示素子およびカラーフィルタの製造方法
WO2020022248A1 (ja) * 2018-07-26 2020-01-30 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
CN110407970A (zh) * 2019-07-19 2019-11-05 深圳市华星光电技术有限公司 罗丹明类染料单体低聚合物的制备方法、纯色材料及液晶显示装置
WO2021039409A1 (ja) 2019-08-27 2021-03-04 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2021131928A1 (ja) * 2019-12-25 2021-07-01 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および表示装置
JP2021064015A (ja) * 2021-01-28 2021-04-22 株式会社Dnpファインケミカル カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示装置
WO2022210175A1 (ja) * 2021-03-29 2022-10-06 富士フイルム株式会社 黒色感光性組成物、黒色感光性組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、ヘッドライトユニット

Family Cites Families (121)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1248036A (en) 1968-01-12 1971-09-29 Agfa Gevaert Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds
DE2033769B2 (de) 1969-07-11 1980-02-21 Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren
JPS4841708B1 (zh) 1970-01-13 1973-12-07
JPS506034B1 (zh) 1970-08-11 1975-03-10
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US3987037A (en) 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
JPS5324989B2 (zh) 1971-12-09 1978-07-24
JPS5230490B2 (zh) 1972-03-21 1977-08-09
US4212976A (en) 1973-06-15 1980-07-15 Merck & Co., Inc. 3,4α-Di-O-derivatives of mercaptomethylpyridine and pyridylmethyldisulfide
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS5311314B2 (zh) 1974-09-25 1978-04-20
JPS5219053A (en) 1975-08-04 1977-01-14 Oki Electric Ind Co Ltd Phase synchronization circuit
DE2718259C2 (de) 1977-04-25 1982-11-25 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliches Gemisch
US4224212A (en) 1977-07-15 1980-09-23 Imperial Chemical Industries Limited Dispersing agents, dispersions containing these agents and paints and inks made from the dispersions
JPS5474728A (en) 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JPH0766185B2 (ja) 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3710279A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3710282A1 (de) 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710281A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US4774339A (en) 1987-08-10 1988-09-27 Molecular Probes, Inc. Chemically reactive dipyrrometheneboron difluoride dyes
DE3930687A1 (de) 1989-09-14 1991-04-11 Byk Chemie Gmbh Phosphorsaeureester, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als dispergiermittel
US5433896A (en) 1994-05-20 1995-07-18 Molecular Probes, Inc. Dibenzopyrrometheneboron difluoride dyes
JPH0519475A (ja) 1991-07-12 1993-01-29 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2706859B2 (ja) 1991-07-30 1998-01-28 富士写真フイルム株式会社 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター
JPH05281728A (ja) 1992-04-01 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
GB9306222D0 (en) 1993-03-25 1993-05-19 Zeneca Ltd Dispersants
JP3248781B2 (ja) 1993-06-28 2002-01-21 東京応化工業株式会社 レジスト洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法
JP3248780B2 (ja) 1993-06-28 2002-01-21 東京応化工業株式会社 レジスト洗浄除去用溶剤及びこの溶剤を用いた電子部品製造用基材の製造方法
JP3446909B2 (ja) 1993-09-28 2003-09-16 日立化成工業株式会社 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法
JP3421428B2 (ja) 1994-05-27 2003-06-30 日立化成工業株式会社 着色画像形成材料を含む感光液、これを用いた感光性エレメント及びカラーフィルターの製造法
JP3525309B2 (ja) 1995-04-05 2004-05-10 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. 洗浄液及び洗浄方法
JPH0977994A (ja) 1995-09-18 1997-03-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 非水系用顔料分散剤、およびそれを含有する顔料組成物、ならびに非水系顔料分散体
JP3718915B2 (ja) 1995-10-16 2005-11-24 味の素株式会社 顔料分散剤
JPH1062986A (ja) 1996-08-21 1998-03-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感放射線性着色組成物
JP3614586B2 (ja) 1996-11-27 2005-01-26 三井化学株式会社 ジピロメテン金属キレート化合物及びこれを用いた光記録媒体
TW452575B (en) 1996-12-06 2001-09-01 Ciba Sc Holding Ag New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators
JP3946309B2 (ja) 1997-04-10 2007-07-18 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物
JP3867177B2 (ja) 1997-04-30 2007-01-10 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物
US6359090B1 (en) 1998-06-09 2002-03-19 Kerr Corporation Polymerizable dispersant
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
DK199901098A (da) 1998-08-18 2000-02-19 Ciba Sc Holding Ag Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
JP3736221B2 (ja) * 1998-08-28 2006-01-18 凸版印刷株式会社 カラーフィルターおよびこれを備えた液晶表示装置
JP2000273370A (ja) 1999-03-25 2000-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 着色組成物用洗浄液
NL1016815C2 (nl) 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
JP2001240761A (ja) 2000-02-28 2001-09-04 Mitsubishi Chemicals Corp ピロメテン系色素の製造方法
JP4199426B2 (ja) 2001-02-06 2008-12-17 富士フイルム株式会社 ヒートモード対応ネガ型画像記録材料、及び平版印刷版原版
JP2002155052A (ja) 2000-11-17 2002-05-28 Mitsui Chemicals Inc ジピロメテン化合物の製造方法
JP2002273191A (ja) 2001-03-21 2002-09-24 Dainippon Printing Co Ltd 顔料分散剤および感光性着色組成物
US6849679B2 (en) 2001-05-21 2005-02-01 Ciba Specialty Chemicals Corporation Pigment compositions with modified block copolymer dispersants
JP2002363209A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363208A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363206A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
JP2002363207A (ja) 2001-06-07 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料
ATE446322T1 (de) 2001-06-11 2009-11-15 Basf Se Oxim ester photoinitiatoren mit kombinierter struktur
WO2003019295A1 (en) 2001-08-21 2003-03-06 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Bathochromic mono- and bis-acylphosphine oxides and sulfides and their use as photoinitiators
JP4064681B2 (ja) 2002-02-14 2008-03-19 富士フイルム株式会社 顔料分散剤、それを含む顔料分散組成物及び着色感光性組成物
JP4057933B2 (ja) 2002-03-11 2008-03-05 富士フイルム株式会社 高分子化合物の製造方法
JP4092245B2 (ja) * 2002-03-29 2008-05-28 大日本印刷株式会社 顔料分散組成物、感光性着色組成物、カラーフィルター及び液晶表示装置
JP4428911B2 (ja) 2002-07-05 2010-03-10 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP4401196B2 (ja) 2003-03-10 2010-01-20 富士フイルム株式会社 染料含有硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP4142973B2 (ja) 2003-03-28 2008-09-03 株式会社日本触媒 硬化性樹脂組成物およびその用途
KR100524069B1 (ko) 2003-04-04 2005-10-26 삼성전자주식회사 홈 에이전트 관리장치 및 관리방법
JP4463841B2 (ja) 2004-08-20 2010-05-19 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤
JP4005092B2 (ja) 2004-08-20 2007-11-07 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤
JP4940716B2 (ja) 2005-03-18 2012-05-30 大日本印刷株式会社 感光性着色組成物用洗浄液
US7288345B2 (en) 2005-03-31 2007-10-30 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Photosensitive colored composition and color filter
JP2007002102A (ja) 2005-06-23 2007-01-11 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 洗浄剤、及びそれを用いた樹脂組成物の除去方法
JP2007002101A (ja) 2005-06-23 2007-01-11 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 洗浄剤
JP2007147784A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 Fujifilm Corp 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
KR100814232B1 (ko) 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
ATE496027T1 (de) 2005-12-01 2011-02-15 Basf Se Oximester-fotoinitiatoren
KR100655045B1 (ko) 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스
JP5312743B2 (ja) 2006-02-01 2013-10-09 富士フイルム株式会社 オキシム化合物及びそれを含む感光性組成物
JP5354863B2 (ja) 2006-02-24 2013-11-27 富士フイルム株式会社 オキシム誘導体、光重合性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP2007322744A (ja) 2006-05-31 2007-12-13 Fujifilm Corp 着色感光性樹脂組成物、及び感光性樹脂転写材料、並びに、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
JP5219408B2 (ja) 2006-06-02 2013-06-26 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、光硬化性組成物、それを用いたカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP2008003299A (ja) * 2006-06-22 2008-01-10 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
KR101398503B1 (ko) * 2006-06-23 2014-05-27 후지필름 가부시키가이샤 화합물, 감광성 조성물, 경화성 조성물, 컬러 필터용 경화성 조성물, 컬러 필터, 및 그 제조 방법
JP4752649B2 (ja) 2006-07-12 2011-08-17 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP2008031248A (ja) * 2006-07-27 2008-02-14 Daicel Chem Ind Ltd 硬化性樹脂組成物及び硬化塗膜の形成方法
JP5191181B2 (ja) 2006-09-01 2013-04-24 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5085256B2 (ja) 2006-09-27 2012-11-28 富士フイルム株式会社 化合物及びその互変異性体、金属錯体化合物、感光性着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
EP2072500B1 (en) 2006-12-27 2012-09-26 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the compound
JP4902369B2 (ja) * 2007-01-25 2012-03-21 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5114979B2 (ja) * 2007-03-13 2013-01-09 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP5298653B2 (ja) * 2007-07-06 2013-09-25 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP5496482B2 (ja) 2007-08-27 2014-05-21 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2008032754A (ja) 2007-10-25 2008-02-14 Toshiba It & Control Systems Corp X線透視検査装置
WO2009084373A1 (ja) * 2007-12-28 2009-07-09 Sumitomo Chemical Company, Limited 含フッ素化合物、含フッ素重合体、並びに該重合体を含む組成物および膜
JP5371449B2 (ja) 2008-01-31 2013-12-18 富士フイルム株式会社 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009191179A (ja) 2008-02-15 2009-08-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法。
JP2009221114A (ja) 2008-03-13 2009-10-01 Fujifilm Corp 重合開始機能を有する化合物、重合開始剤、重合性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、ならびに固体撮像素子
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5507054B2 (ja) 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
CN102015633B (zh) 2008-04-25 2014-08-06 三菱化学株式会社 酮肟酯类化合物及其应用
JP5047057B2 (ja) 2008-05-20 2012-10-10 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ
JP5538688B2 (ja) 2008-05-30 2014-07-02 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び、固体撮像素子
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2010015025A (ja) 2008-07-04 2010-01-21 Adeka Corp 特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物
JP5583334B2 (ja) * 2008-09-18 2014-09-03 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP2010085758A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Fujifilm Corp ジピロメテン系化合物及びその互変異性体、着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
JP2010152290A (ja) * 2008-11-28 2010-07-08 Seiko Epson Corp カラーフィルター用インク、カラーフィルター用インクの製造方法、カラーフィルター用インクセット、カラーフィルター、画像表示装置、および、電子機器
JP5293120B2 (ja) 2008-11-28 2013-09-18 住友化学株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JP5618118B2 (ja) 2009-01-09 2014-11-05 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物,並びにこれを用いた感光性エレメント,ソルダーレジスト及びプリント配線板
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5602448B2 (ja) 2009-03-26 2014-10-08 富士フイルム株式会社 顔料分散液、着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP2011022237A (ja) * 2009-07-14 2011-02-03 Toppan Printing Co Ltd 青色感光性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ並びにカラー表示装置
JP5381533B2 (ja) * 2009-09-14 2014-01-08 東洋インキScホールディングス株式会社 着色組成物、カラーフィルタ用感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP5680359B2 (ja) 2009-09-30 2015-03-04 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーレジスト、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法、並びにカラーフィルタを備えた固体撮像素子及び画像表示デバイス
WO2011040628A1 (en) * 2009-09-29 2011-04-07 Fujifilm Corporation Colorant multimer, colored curable composition, color filter and method for producing the same, and solid-state image sensor, image display device, liquid crystal display device and organic el display with the color filter
JP2011157478A (ja) * 2010-02-01 2011-08-18 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 着色組成物、カラーフィルタ用感光性着色組成物、カラーフィルタおよびカラー表示装置
JP5791874B2 (ja) * 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
JP5715380B2 (ja) * 2010-06-30 2015-05-07 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、および色素多量体
JP5853731B2 (ja) * 2011-02-04 2016-02-09 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ
JP2012208474A (ja) * 2011-03-14 2012-10-25 Jsr Corp カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI577750B (zh) * 2013-08-01 2017-04-11 富士軟片股份有限公司 著色組成物、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法及圖像顯示裝置的製造方法
TWI636329B (zh) * 2013-10-28 2018-09-21 日立化成股份有限公司 感光性樹脂組成物、感光性元件及抗蝕劑圖案的形成方法
US9291743B2 (en) 2014-01-14 2016-03-22 Samsung Sdi Co., Ltd. Photosensitive resin composition and color filter using the same
TWI570510B (zh) * 2014-01-14 2017-02-11 三星Sdi股份有限公司 感光性樹脂組成物及使用其的彩色濾光片
CN105940057A (zh) * 2014-01-31 2016-09-14 富士胶片株式会社 着色组合物、及使用该着色组合物的固化膜、彩色滤光片、图案形成方法、彩色滤光片的制造方法、固体成像元件及图像显示装置
CN105467754A (zh) * 2014-09-25 2016-04-06 三星Sdi株式会社 感光性树脂组合物和使用其的彩色滤光片
TWI610131B (zh) * 2014-09-25 2018-01-01 三星Sdi 股份有限公司 感光性樹脂組合物和使用其的彩色濾光片
US9994728B2 (en) 2014-09-25 2018-06-12 Samsung Sdi Co., Ltd. Photosensitive resin composition and color filter using the same
CN105467754B (zh) * 2014-09-25 2019-11-19 三星Sdi株式会社 感光性树脂组合物和使用其的彩色滤光片
TWI739735B (zh) * 2015-02-27 2021-09-21 日商富士軟片股份有限公司 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及聚合物
TWI720100B (zh) * 2016-01-14 2021-03-01 日商富士軟片股份有限公司 感放射線性組成物、膜、彩色濾光片、遮光膜及固體攝像元件

Also Published As

Publication number Publication date
JP5934664B2 (ja) 2016-06-15
US20150010856A1 (en) 2015-01-08
TWI559087B (zh) 2016-11-21
CN104185815B (zh) 2018-03-23
KR20140111697A (ko) 2014-09-19
US9268063B2 (en) 2016-02-23
EP2829916A1 (en) 2015-01-28
KR101736259B1 (ko) 2017-05-16
CN104185815A (zh) 2014-12-03
JP2013225112A (ja) 2013-10-31
WO2013141156A1 (ja) 2013-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI559087B (zh) 著色感放射線性組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、著色圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及影像顯示裝置
TWI541603B (zh) 著色感放射線性組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及影像顯示裝置
TWI581059B (zh) 著色組成物、著色圖案、彩色濾光片及其製造方法、圖案形成方法、固體攝像元件及影像顯示裝置
TWI570512B (zh) 著色組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、其製造方法及固體攝像元件
TWI623593B (zh) 著色組成物、著色硬化膜、彩色濾光片、固體攝像元件及圖像顯示裝置
TWI572979B (zh) 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
JP6152074B2 (ja) 色素多量体、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
TWI631190B (zh) 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置
JP5551124B2 (ja) 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、体撮像素子、及び画像表示装置
TWI615673B (zh) 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
JP6133387B2 (ja) 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775623B2 (ja) 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、体撮像素子、及び画像表示装置
JP6122911B2 (ja) 着色組成物、着色パターン、カラーフィルタ、その製造方法、パターン形成方法、固体撮像素子、及び画像表示装置