[go: up one dir, main page]

TW201300236A - 光學積層體 - Google Patents

光學積層體 Download PDF

Info

Publication number
TW201300236A
TW201300236A TW101114322A TW101114322A TW201300236A TW 201300236 A TW201300236 A TW 201300236A TW 101114322 A TW101114322 A TW 101114322A TW 101114322 A TW101114322 A TW 101114322A TW 201300236 A TW201300236 A TW 201300236A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
meth
hard coat
coat layer
layer
acrylic resin
Prior art date
Application number
TW101114322A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI592303B (zh
Inventor
Shusaku Shibata
Katsunori Takada
Hiroyuki Takemoto
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Publication of TW201300236A publication Critical patent/TW201300236A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI592303B publication Critical patent/TWI592303B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/28—Adhesive materials or arrangements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

本發明提供一種低透濕性之(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。本發明之光學積層體包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜之基材層、將硬塗層形成用組合物塗敷於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成之硬塗層、及於該基材層與該硬塗層之間使該硬塗層形成用組合物滲透至該(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成之滲透層；並且該滲透層之厚度為1.2 μm以上。

Description

光學積層體
本發明係關於一種光學積層體。
液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)、陰極射線管顯示裝置(CRT，Cathode Ray Tube)、電漿顯示器(PDP，Plasma Display Panel)、電致發光顯示器(ELD，Electroluminescence Display)等圖像顯示裝置中，若由於源自外部之接觸而使其表面受到損傷，則有顯示圖像之視認性下降之情形。因此，為了保護圖像顯示裝置之表面，使用包含基材膜與硬塗層之光學積層體。業者代表性地使用三乙醯纖維素(TAC，Triacetyl cellulose)作為光學積層體之基材膜。然而，包含TAC之基材膜之透濕度較高。因此，於將包含此種基材膜之光學積層體使用於LCD中之情形時，產生於高溫高濕下水分滲透該光學積層體而使偏光元件之光學特性劣化之問題。近年來，除於屋內使用以外，汽車導航系統、個人數位助理之類的於屋外使用之設備中亦較多地使用LCD，而要求即便於高溫高濕等嚴酷之條件下亦不會產生上述問題之可靠性較高的LCD。
為了解決上述問題，提出於低透濕性之環烯烴基材膜上塗敷硬塗層形成用組合物而成之光學積層體(專利文獻1)。然而，此種環烯烴基材膜有與硬塗層之密著性較差之問題。又，有由於基材膜與硬塗層之折射率差，而產生干涉斑之問題。進而，上述環烯烴基材膜不具有充分之紫外線 吸收能，從而有使用該等基材膜之光學積層體由於外部光等產生光學特性劣化之問題。如此，雖使用低透濕性、且紫外線吸收能較高之基材膜，但滿足基材膜與硬塗層之充分之密著性且干涉斑較小的光學積層體尚未實際應用。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2006-110875號公報
本發明係用以解決上述先前之課題而成者，其目的在於提供一種低透濕性、且具有紫外線吸收能之(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)與硬塗層之密著性優異，並且抑制干涉斑之光學積層體。
本發明之光學積層體包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜之基材層、將硬塗層形成用組合物塗敷於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成之硬塗層、及於該基材層與該硬塗層之間使該硬塗層形成用組合物滲透至該(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成之滲透層；並且該滲透層之厚度為1.2 μm以上。
於較佳之實施形態中，於上述滲透層中，形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自硬塗層側向基材層側連續地升高。
於較佳之實施形態中，於500 nm~600 nm之波長區域中之硬塗層之反射光譜的振幅為0.5%以下。
於較佳之實施形態中，上述基材層之折射率與硬塗層之折射率之差的絕對值為0.01~0.15。
於較佳之實施形態中，上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜於波長380 nm中之光之穿透率為15%以下。
於較佳之實施形態中，形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂具有表現正的雙折射之結構單元與表現負的雙折射的結構單元。
於較佳之實施形態中，形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂於側鏈上具有芳香環。
於較佳之實施形態中，上述硬塗層形成用組合物包含具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物。
於較佳之實施形態中，上述硬塗層形成用組合物進而包含單官能單體。
於較佳之實施形態中，上述單官能單體之重量平均分子量為500以下。
於較佳之實施形態中，上述單官能單體具有羥基。
於較佳之實施形態中，上述單官能單體為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯及/或N-(2-羥基烷基)(甲基)丙烯醯胺。
於較佳之實施形態中，上述硬塗層形成用組合物包含(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及/或(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物。
於一種實施形態中，上述硬塗層形成用組合物包含具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物。
於一種實施形態中，上述硬塗層形成用組合物不含溶 劑。
於較佳之實施形態中，上述硬塗層之與上述滲透層相反之側的表面具有凹凸構造。
於較佳之實施形態中，本發明之光學積層體於上述硬塗層之與上述滲透層相反之側上進而包含抗反射層。
根據本發明之另一態樣，提供一種偏光膜。該偏光膜包含上述光學積層體。
根據本發明之進而另一態樣，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置包含上述光學積層體。
根據本發明之進而另一態樣，提供一種光學積層體之製造方法。該光學積層體之製造方法包括如下步驟：將硬塗層形成用組合物塗佈於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成塗佈層，並於80℃~140℃下加熱該塗佈層。
根據本發明，藉由包含將硬塗層形成用組合物塗敷於(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)上而形成之基材層及硬塗層、以及使硬塗層形成用組合物滲透至(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成之滲透層，而提供一種雖使用低透濕性之(甲基)丙烯酸系樹脂膜作為基材膜，但基材膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。本發明之光學積層體無需設置增黏層，又，無需對(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)進行物理性處理，而可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜(基材膜)與硬塗層之優異之密著性。又，根據本發明，可以對於除低透濕性以外具有紫外線吸收能之(甲基) 丙烯酸系樹脂膜(基材膜)亦優異之密著性而形成硬塗層。
以下，對本發明之較佳之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
A.光學積層體之整體構成
圖1(a)係本發明之較佳之實施形態之光學積層體的概略剖面圖，圖1(b)係先前之具有通常之硬塗層之光學積層體的概略剖面圖。圖1(a)所示之光學積層體100依序包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜之基材層10、滲透層20及硬塗層30。硬塗層30係將硬塗層形成用組合物塗敷於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成。滲透層20係使硬塗層形成用組合物滲透至(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成。基材層10係於如此使硬塗層形成用組合物滲透至(甲基)丙烯酸系樹脂膜時，於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上硬塗層形成用組合物未到達(滲透)之部分。另一方面，圖1(b)所示之光學積層體200未形成滲透層。圖1(a)及(b)所示之邊界A係根據(甲基)丙烯酸系樹脂膜之硬塗層形成用組合物塗敷面而規定的邊界。因此，邊界A於光學積層體100中係滲透層20與硬塗層30之邊界，於未形成滲透層之光學積層體200中係基材層10'(即(甲基)丙烯酸系樹脂膜)與硬塗層30'之邊界。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
如上所述，於光學積層體100中，滲透層20係使硬塗層形成用組合物滲透至(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成。即， 所謂滲透層20，係指於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上存在硬塗層成分之部分。滲透層20之厚度為1.2 μm以上。再者，所謂滲透層20之厚度，係指於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜上存在硬塗層成分之部分之厚度，具體而言，係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上存在硬塗層成分之部分(滲透層)與不存在硬塗層成分之部分(基材層)之邊界B與邊界A的距離。
本發明之光學積層體視需要亦可於硬塗層30之外側上配置任意之適當的其他層(未圖式)。其他層代表性地係經由黏著劑層(未圖式)而加以配置。
形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂於硬塗層形成用組合物中溶出，亦可於硬塗層中存在該(甲基)丙烯酸系樹脂。
圖2係本發明之另一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。光學積層體300於硬塗層30之與滲透層20相反之側上進而包含阻擋層40。阻擋層40係藉由形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂於硬塗層形成用組合物中溶出，且硬塗層形成用組合物與該(甲基)丙烯酸系樹脂引起相分離而產生。包含阻擋層40之光學積層體的耐磨性優異。
本發明之光學積層體於500 nm~600 nm之波長區域中的硬塗層之反射光譜之振幅較佳為0.5%以下，更佳為0.3%以下，進而較佳為0.1%以下。根據本發明，可獲得反射光譜之振幅較小即干涉斑較小之光學積層體。
由於本發明之光學積層體包含特定厚度之滲透層，故而 即便選擇折射率差較大之材料作為(甲基)丙烯酸系樹脂膜及硬塗層之形成材料，亦可防止干涉斑之產生。本發明之光學積層體中，例如可將基材層之折射率與硬塗層之折射率之差的絕對值設為0.01~0.15。當然，亦可將該折射率之差之絕對值設定為未達0.01。
本發明之光學積層體例如應用於偏光膜(亦稱為偏光板)。具體而言，於偏光膜中，將本發明之光學積層體設置於偏光元件之單面或雙面上，而可較佳地用作偏光元件之保護材料。
B.基材層
上述基材層包含(甲基)丙烯酸系樹脂膜。更詳細而言，如上所述般，於將硬塗層形成用組合物塗敷於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上時，基材層係於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上該硬塗層形成用組合物未到達(滲透)之部分。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜包含(甲基)丙烯酸系樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂膜例如可對包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂成分之成形材料進行擠出成形而獲得。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之透濕度較佳為200 g/m2/24小時以下，更佳為80 g/m2/24小時以下。根據本發明，即便如此使用透濕度較高之(甲基)丙烯酸系樹脂膜，亦可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、且抑制干涉斑之光學積層體。再者，透濕度例如可藉由基於JIS Z 0208之方法，於40℃、相對濕度92%之試驗條件下進行測 定。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜於波長380 nm中之光之穿透率為較佳為15%以下，更佳為12%以下，進而較佳為9%以下。若波長380 nm之光之穿透率於上述範圍，則由於表現出優異之紫外線吸收能，故而可防止由光學積層體之外部光等引起之紫外線劣化。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之面內相位差Re較佳為10 nm以下，更佳為7 nm以下，進而較佳為5 nm以下，尤佳為3 nm以下，最佳為1 nm以下。(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度方向相位差Rth較佳為15 nm以下，更佳為10 nm以下，進而較佳為5 nm以下，尤佳為3 nm以下，最佳為1 nm以下。若面內相位差及厚度方向相位差於上述範圍，則可明顯地抑制由相位差引起之對圖像顯示裝置之顯示特性的不良影響。更具體而言，可明顯地抑制干涉斑或於用於3D(Three Dimensions，三維)顯示器用液晶顯示裝置中之情形時之3D影像的失真。面內相位差及厚度方向相位差於上述範圍之(甲基)丙烯酸系樹脂膜例如可使用下述具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而獲得。再者，面內相位差Re及厚度方向相位差Rth可分別根據下述式求出：Re=(nx-ny)×d
Rth=(nx-nz)×d此處，nx為(甲基)丙烯酸系樹脂膜之遲相軸方向之折射率，ny為(甲基)丙烯酸系樹脂膜之進相軸方向之折射率，nz為(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度方向之折射率，d(nm)為 (甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度。遲相軸係指膜面內之折射率成為最大之方向，進相軸係指於面內垂直於遲相軸之方向。Re及Rth係代表性地使用波長590 nm之光而進行測定。
可採用任意之適當之(甲基)丙烯酸系樹脂作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂。例如，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS(Methyl Methacrylate-Styrene)樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較佳為可列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更佳為可列舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(為50~100重量%，較佳為70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂之重量平均分子量較佳為10000~500000。若重量平均分子量過小，則有製成膜時之機械強度不足的傾向。若重量平均分子量過大，則有熔融擠出時之黏度較高，成形加工性下降，成形品之生產性下降之傾向。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度較佳為110℃以上，更佳為120℃以上。若玻璃轉移溫度於上述範圍，則可獲得耐久性及耐熱性優異之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。玻 璃轉移溫度之上限並無特別限定，但就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂較佳為具有表現正的雙折射之結構單元與表現負的雙折射之結構單元。若含有該等結構單元，則可調整其存在比，而控制(甲基)丙烯酸系樹脂膜之相位差，並可獲得低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。作為表現正的雙折射之結構單元，例如，可列舉：構成內酯環、聚碳酸酯、聚乙烯醇、乙酸纖維素、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴等之結構單元、及下述通式(1)所示之結構單元。作為表現負的雙折射之結構單元，例如，可列舉：源自苯乙烯系單體、馬來醯亞胺系單體等之結構單元、聚甲基丙烯酸甲酯之結構單元、及下述通式(3)所示之結構單元等。於本說明書中，所謂表現正的雙折射之結構單元，係指於僅具有該結構單元之樹脂顯示正的雙折射特性之情形時(即，於樹脂之延伸方向顯現遲相軸之情形時)的結構單元。又，所謂表現負的雙折射之結構單元，係指於僅具有該結構單元之樹脂顯示負的雙折射特性之情形時(即，於與樹脂之延伸方向垂直之方向顯現遲相軸的情形時)的結構單元。
可較佳地使用具有內酯環結構或戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂。具有內酯環結構或戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之耐熱性優異。更佳為具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。若使用具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂， 則如上所述般，可獲得低透濕、且相位差及紫外線穿透率較小之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(以下，亦稱為戊二醯亞胺樹脂)例如記載於日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328329號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報、日本專利特開2007-009182號公報、及日本專利特開2009-161744號公報中。於本說明書中引用該等記載作為參考。
上述戊二醯亞胺樹脂較佳為包含下述通式(1)所示之結構單元(以下，亦稱為戊二醯亞胺單元)、及下述通式(2)所示之結構單元(以下，亦稱為(甲基)丙烯酸酯單元)。
於式(1)中，R1及R2分別獨立為氫或碳數1~8之烷基，R3為氫、碳數1~18之烷基、碳數3~12之環烷基、或包含碳數5~15之芳香環之取代基。於式(2)中，R4及R5分別獨立為氫或碳數1~8之烷基，R6為氫、碳數1~18之烷基、碳數3~12之環烷基、或包含碳數5~15之芳香環之取代基。
戊二醯亞胺樹脂視需要亦可進而含有下述通式(3)所示之結構單元(以下，亦稱為芳香族乙烯基單元)。
於式(3)中，R7為氫或碳數1~8之烷基，R8為碳數6~10之芳基。
於上述通式(1)中，較佳為R1及R2分別獨立為氫或甲基，R3為氫、甲基、丁基或環己基，進而較佳為R1為甲基，R2為氫，R3為甲基。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為戊二醯亞胺單元，可僅含有單一之種類，亦可含有上述通式(1)中之R1、R2及R3不同之複數種。
藉由將上述通式(2)所示之(甲基)丙烯酸酯單元醯亞胺化，可形成戊二醯亞胺單元。又，戊二醯亞胺單元亦可藉由將順丁烯二酸酐等酸酐、或此種酸酐與碳數1~20之直鏈或側鏈之醇的半酯；丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、衣康酸、衣康酸酐、丁烯酸、反丁烯二 酸、檸康酸等α,β-乙烯性不飽和羧酸等醯亞胺化而形成。
於上述通式(2)中，較佳為R4及R5分別獨立為氫或甲基，R6為氫或甲基，進而較佳為R4為氫，R5為甲基，R6為甲基。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為(甲基)丙烯酸酯單元，可僅含有單一之種類，亦可含有上述通式(2)中之R4、R5及R6不同之複數種。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為上述通式(3)所示之芳香族乙烯基單元，較佳為包含苯乙烯、α-甲基苯乙烯等，進而較佳為包含苯乙烯。藉由具有此種芳香族乙烯基單元，可降低戊二醯亞胺結構之正的雙折射性，而獲得更低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
上述戊二醯亞胺樹脂中，作為芳香族乙烯基單元，可僅含有單一之種類，亦可含有R7及R8不同之複數種。
上述戊二醯亞胺樹脂中之上述戊二醯亞胺單元之含量較佳為例如取決於R3的結構等而產生變化。戊二醯亞胺單元之含量以戊二醯亞胺樹脂之總結構單元為基準，較佳為1重量%~80重量%，更佳為1重量%~70重量%，進而較佳為1重量%~60重量%，尤佳為1重量%~50重量%。若戊二醯亞胺單元之含量於上述範圍，則可獲得耐熱性優異之低相位差之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
上述戊二醯亞胺樹脂中之上述芳香族乙烯基單元之含量視目的或所需的特性可適當地進行設定。根據用途之不同，芳香族乙烯基單元之含量亦可為0。於含有芳香族乙 烯基單元之情形時，其含量以戊二醯亞胺樹脂之戊二醯亞胺單元為基準，較佳為10重量%~80重量%，更佳為20重量%~80重量%，進而較佳為20重量%~60重量%，尤佳為20重量%~50重量%。若芳香族乙烯基單元之含量於上述範圍，則可獲得低相位差、且耐熱性及機械強度優異之(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
亦可於上述戊二醯亞胺樹脂中視需要進而使戊二醯亞胺單元、(甲基)丙烯酸酯單元、及芳香族乙烯基單元以外之其他結構單元共聚合。作為其他結構單元，例如，可列舉包含丙烯腈或甲基丙烯腈等腈系單體，及馬來醯亞胺、N-甲基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體之結構單元。於上述戊二醯亞胺樹脂中，該等其他結構單元可直接共聚合，亦可接枝共聚合。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜包含紫外線吸收劑。只要可獲得上述所需之特性，則可採用任意之適當之紫外線吸收劑作為紫外線吸收劑。作為上述紫外線吸收劑之代表例，可列舉：三系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、苯并系紫外線吸收劑及二唑系紫外線吸收劑。該等紫外線吸收劑可單獨使用，亦可組合複數種使用。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份，上述紫外線吸收劑之含量較佳為0.1重量份~5重量份，更佳為0.2重量份 ~3重量份。若紫外線吸收劑之含量於上述範圍，則可有效地吸收紫外線，並且不會降低膜成形時之膜之透明性。於紫外線吸收劑之含量少於0.1重量份之情形時，有紫外線之阻斷效果變得不充分之傾向。於紫外線吸收劑之含量多於5重量份之情形時，有著色增多或成形後之膜之霧值變高，而使透明性惡化之傾向。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜視目的可含有任意之適當之添加劑。作為添加劑，例如，可列舉：受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑；玻璃纖維、碳纖維等補強材料；近紅外線吸收劑；三(二溴丙基)磷酸酯、三芳基磷酸酯、氧化銻等阻燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系之界面活性劑等防靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改質劑；有機填充劑或無機填充劑；可塑劑；潤滑劑；防靜電劑；阻燃劑；相位差降低劑等。所含之添加劑之種類、組合、含量等視目的或所需之特性可適當地進行設定。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之製造方法，並無特別限定，例如，可藉由任意之適當之混合方法，將(甲基)丙烯酸系樹脂、紫外線吸收劑、及視需要之其他聚合物或添加劑等充分地混合，而預先製成熱塑性樹脂組合物，其後使其進行膜成形。或者亦可於將(甲基)丙烯酸系樹脂、紫外線吸收劑、及視需要之其他聚合物或添加劑等分別製成不同之溶液後，加以混合而製成均勻之混合液，其後進行 膜成形。
為了製造上述熱塑性樹脂組合物，例如可於利用混合均質儀等任意之適當之混合機將上述膜原料預摻後，對所獲得之混合物進行擠出混練。於該情形時，擠出混練中所使用之混合機並無特別限定，例如，可使用單軸擠出機、二軸擠出機等擠出機或加壓捏合機等任意之適當之混合機。
作為上述膜成形之方法，例如，可列舉溶液澆鑄法(溶液鑄膜法)、熔融擠出法、壓光法、壓縮成形法等任意之適當之膜成形法。較佳為熔融擠出法。由於熔融擠出法不使用溶劑，故而可降低製造成本或由溶劑引起之對地球環境或作業環境之負荷。
作為上述熔融擠出法，例如可列舉T模法、膨脹法等。成形溫度較佳為150~350℃，更佳為200~300℃。
於藉由上述T模法進行膜成形之情形時，可於公知之單軸擠出機或二軸擠出機之前端部安裝T鑄模，並捲取擠出成膜狀之膜，而獲得輥狀之膜。此時，亦可藉由適當地調整捲取輥之溫度，於擠出方向加以拉伸，而進行單軸延伸。又，亦可藉由在與擠出方向垂直之方向拉伸膜，而進行同時雙軸延伸、逐次雙軸延伸等。
只要可獲得上述所需之相位差，則上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜可為未延伸膜或延伸膜之任一種。於為延伸膜之情形時，可為單軸延伸膜或雙軸延伸膜之任一種。於為雙軸延伸膜之情形時，可為同時雙軸延伸膜或逐次雙軸延伸膜之任一種。
上述延伸溫度較佳為膜原料之熱塑性樹脂組合物之玻璃轉移溫度附近，具體而言，較佳為處於(玻璃轉移溫度-30℃)~(玻璃轉移溫度+30℃)、更佳為處於(玻璃轉移溫度-20℃)~(玻璃轉移溫度+20℃)之範圍內。若延伸溫度未達(玻璃轉移溫度-30℃)，則有所獲得之膜之霧值增大、或者膜破裂或破損而無法獲得特定之延伸倍率之虞。反之，若延伸溫度超過(玻璃轉移溫度+30℃)，則有所獲得之膜之厚度不均增大，或無法充分地改善延伸率、撕裂傳播強度及耐揉疲勞等力學性質之傾向。進而，有變得容易產生膜黏著於輥上之故障之傾向。
上述延伸倍率較佳為1.1~3倍，更佳為1.3~2.5倍。若延伸倍率於上述範圍，則可大幅地改善膜之延伸率、撕裂傳播強度及耐揉疲勞等力學性質。作為結果，可製造厚度不均較小、雙折射實質上為零(因此，相位差較小)、進而霧值較小之膜。
為了使上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之光學等向性或機械特性穩定化，可於延伸處理後進行熱處理(退火)等。熱處理之條件可採用任意之適當的條件。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度較佳為10 μm~200 μm，更佳為20 μm~100 μm。若厚度未達10 μm，則有強度下降之虞。若厚度超過200 μm，則有透明性下降之虞。
上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之表面之潤濕張力較佳為40 mN/m以上，更佳為50 mN/m以上，進而較佳為55 mN/m以上。若表面之潤濕張力為至少40 mN/m以上，則進一步提 昇(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性。為了調整表面之潤濕張力，可實施任意之適當表面處理。作為表面處理，例如，可列舉：電暈放電處理、電漿處理、臭氧噴附、紫外線照射、火焰處理、化學品處理。該等之中，較佳為電暈放電處理、電漿處理。
C.滲透層
如上所述，上述滲透層係藉由使硬塗層形成用組合物滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成。換言之，滲透層可對應於形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂與形成硬塗層之成分之相溶區域的一部分。
於上述滲透層中，較佳為形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自硬塗層側向基材層側連續地升高。其原因為：由於使(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度連續地變化、即未形成(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度變化引起的界面，故而可抑制界面反射，並可獲得干涉斑較小之光學積層體。
上述滲透層之厚度之下限為1.2 μm，較佳為1.5 μm，更佳為2.5 μm，進而較佳為3 μm。滲透層之厚度之上限較佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×70%)μm，更佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×40%)μm，進而較佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜之厚度×30%)μm，尤佳為((甲基)丙烯酸系樹脂膜×20%)μm。若滲透層之厚度於上述範圍，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。再者，滲透層之厚度可藉由硬塗 層之反射光譜或利用SEM(Scanning Electron Microscope，掃描式電子顯微鏡)、TEM(Transmission Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡)等電子顯微鏡的觀察而進行測定。利用反射光譜之滲透層之厚度的測定方法之細節係以實施例中之評價方法於後進行闡述。
D.硬塗層
如上所述，硬塗層係將硬塗層形成用組合物塗敷於上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成。硬塗層形成用組合物包含例如可利用熱、光(紫外線等)或電子束等進行硬化之硬化性化合物。硬塗層形成用組合物較佳為包含光硬化型之硬化性化合物。硬化性化合物亦可為單體、低聚物及預聚物之任一種。
上述硬塗層形成用組合物較佳為包含具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物。該具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物中所含之(甲基)丙烯醯基的個數之上限較佳為100個。由於具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物與(甲基)丙烯酸系樹脂的相溶性優異，故而於塗敷時，易於在(甲基)丙烯酸系樹脂膜上滲透及擴散。再者，於本說明書中，「(甲基)丙烯醯基」係指甲基丙烯醯基及/或丙烯醯基。
作為上述具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物，例如，可列舉：三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、四丙 烯酸二羥甲基丙烷酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、乙氧化甘油三丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯及該等之低聚物或預聚物等。具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物可單獨使用，亦可組合複數種使用。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸酯」，係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
上述具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物較佳為具有羥基。若上述硬塗層形成用組合物含有此種硬化性化合物，則可將硬塗層形成時之加熱溫度設定為更低，將加熱時間設定為更短，並可效率良好地生產對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。又，可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異之光學積層體。作為具有羥基及2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物，例如，可列舉季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯等。
相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，上述具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物的含有比例較佳為30重量%~100重量%，更佳為40重量%~95重量%，尤佳為50重量%~95重量%。若於上述範圍，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。又，可有效地防止硬 塗層之硬化收縮。
上述硬塗層形成用組合物中，作為硬化性化合物，亦可含有單官能單體。由於單官能單體易於滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜，故而若含有單官能單體，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。又，若硬塗層形成用組合物含有單官能單體，則可將硬塗層形成時之加熱溫度設定為更低，將加熱時間設定為更短，並可效率良好地生產對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。於上述硬塗層形成用組合物包含單官能單體之情形時，相對於硬塗層形成用組合物中之全硬化性化合物，單官能單體之含有比例較佳為40重量%以下，更佳為30重量%以下，尤佳為20重量%以下。於單官能單體之含有比例多於40重量%之情形時，有無法獲得所需之硬度及耐磨性之虞。
上述單官能單體之重量平均分子量較佳為500以下。若為此種單官能單體，則容易於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上滲透及擴散。作為此種單官能單體，例如，可列舉：乙氧化鄰苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸異硬脂基酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異基酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基酯、丙烯醯啉、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、二甲胺基丙基丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺等。
上述單官能單體較佳為具有羥基。若為此種單官能單體，則可將硬塗層形成時之加熱溫度設定為更低，將加熱時間設定為更短，並可效率良好地生產對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。又，若上述硬塗層形成用組合物包含具有羥基之單官能單體，則可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異之光學積層體。作為此種單官能單體，例如，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基酯、1,4-環己烷甲醇單丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等N-(2-羥基烷基)(甲基)丙烯醯胺等。其中，較佳為丙烯酸4-羥基丁酯、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺。
上述單官能單體之沸點較佳為高於硬塗層形成時之塗佈層的加熱溫度(後述)。上述單官能單體之沸點例如較佳為150℃以上，更佳為180℃以上，尤佳為200℃以上。若於上述範圍，則可藉由硬塗層形成時之加熱而防止單官能單體揮發，並可使單官能單體充分地滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜。
硬塗層形成用組合物中，較佳為作為硬化性化合物，包含(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及/或(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物。若硬塗層形成用組合物包含(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及/或(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物，則可形成柔軟性及對於(甲基)丙烯酸系樹脂膜之密著性優異之硬塗 層。上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯例如可藉由使自(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸酯及多元醇獲得之(甲基)丙烯酸羥基酯與二異氰酸酯發生反應而獲得。(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物可單獨使用，亦可組合複數種使用。
作為上述(甲基)丙烯酸酯，例如，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯等。
作為上述多元醇，例如，可列舉：乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羥基新戊酸新戊二醇酯、三環癸烷二甲醇、1,4-環己二醇、螺二醇、氫化雙酚A、環氧乙烷加成雙酚A、環氧丙烷加成雙酚A、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、甘油、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、葡萄糖類等。
作為上述二異氰酸酯，例如可使用芳香族、脂肪族或脂環族之各種二異氰酸酯類。作為上述二異氰酸酯之具體例，可列舉：二異氰酸四亞甲基酯、二異氰酸六亞甲基酯、異佛爾酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4-二苯基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、3,3-二甲基-4,4-二苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二異氰酸三甲基六亞甲基酯、4,4-二苯基甲烷二異氰酸酯、及該等之氫化物 等。
相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，上述(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物之合計含有比例較佳為5重量%~70重量%，進而較佳為5重量%~50重量%，尤佳為5重量%~30重量%。若於上述範圍，則可形成硬度、柔軟性及密著性之平衡優異之硬塗層。
上述硬塗層形成用組合物亦可包含具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物。若硬塗層形成用組合物包含具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物，則可減少硬化收縮，並且可於硬塗層中形成阻擋層，而形成耐磨性優異之硬塗層。又，由於該(甲基)丙烯酸系預聚物具有羥基，故而可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異之光學積層體。具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物較佳為由具有碳原子數1~10之直鏈狀或側鏈狀烷基之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯進行聚合的聚合物。作為具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物，例如，可列舉由選自由(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-丙烯醯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-丙烯醯氧基-3-羥基丙酯所組成之群中之至少一種單體進行聚合的聚合物。具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物可單獨使用，亦可組合複數種使用。
相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，上述具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物之含有 比例較佳為5重量%~50重量%，更佳為10重量%~30重量%。若於上述範圍，則可獲得塗敷性優異之硬塗層形成用組合物。又，可有效地防止所形成之硬塗層之硬化收縮。
上述硬塗層形成用組合物較佳為包含任意之適當之光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，例如，可列舉：2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧雜蒽酮、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二甲氧基二苯甲酮、安息香丙醚、苄基二甲基縮酮、N,N,N',N'-四甲基-4,4'-二胺基二苯甲酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、9-氧硫系化合物等。
於一種實施形態中，於硬塗層之與基材層相反之側的表面具有凹凸構造。若硬塗層之表面為凹凸構造，則可對光學積層體賦予防眩性。作為形成此種凹凸構造之方法，例如，可列舉使硬塗層形成用組合物中含有微粒子之方法。微粒子可為無機微粒子，亦可為有機微粒子。作為無機微粒子，例如，可列舉：二氧化矽微粒子、氧化鈦微粒子、氧化鋁微粒子、氧化鋅微粒子、氧化錫微粒子、碳酸鈣微粒子、硫酸鋇微粒子、滑石微粒子、高嶺土微粒子、硫酸鈣微粒子等。作為有機微粒子，例如，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA(Polymethyl Methacrylate)微粒子)、聚矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯并胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末等。 該等微粒子可單獨使用，亦可組合複數種使用。
上述微粒子之形狀可採用任意之適當的形狀。較佳為大致球形，更佳為縱橫比為1.5以下之大致球形。微粒子之重量平均粒徑較佳為1 μm~30 μm，更佳為2 μm~20 μm。微粒子之重量平均粒徑例如可藉由庫爾特計數(Coulter counter)法進行測定。
於上述硬塗層形成用組合物包含上述微粒子之情形時，相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，上述微粒子之含有比例較佳為1重量%~60重量%，更佳為2重量%~50重量%。
上述硬塗層形成用組合物進而可包含任意之適當之添加劑。作為添加劑，例如，可列舉：調平劑、抗結塊劑、分散穩定劑、揺變劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、增黏劑、分散劑、界面活性劑、觸媒、填料、潤滑劑、防靜電劑等。
作為上述調平劑，例如，可列舉氟系或聚矽氧系之調平劑，較佳為聚矽氧系調平劑。作為上述聚矽氧系調平劑，例如，可列舉：反應性聚矽酮、聚二甲基矽氧烷、聚醚改性聚二甲基矽氧烷、聚甲基烷基矽氧烷等。其中，較佳為反應性聚矽酮。若添加反應性聚矽酮，則對硬塗層表面賦予滑動性，且耐磨性可長期持續。相對於硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及預聚物之合計量，上述調平劑之含有比例較佳為5重量%以下，更佳為0.01重量%~5重量%。
上述硬塗層形成用組合物可含有溶劑，亦可不含。作為溶劑，例如，可列舉：二丁醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、環氧丙烷、1,4-二烷、1,3-二氧雜環戊烷、1,3,5-三烷、四氫呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK，Methyl Ethyl Ketone)、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、環戊酮(CPN，Cyclopentanone)、環己酮、甲基環己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、乙酸正戊酯、乙醯丙酮、二丙酮醇、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇、2-甲基-2-丁醇、環己醇、異丙醇(IPA，Iso-Propyl Alcohol)、乙酸異丁酯、甲基異丁基酮(MIBK，Methyl Isobutyl Ketone)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-庚酮、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚等。該等可單獨使用，亦可組合複數種使用。
根據本發明，即便使用不含溶劑之硬塗層形成用組合物、或者作為溶劑僅包含(甲基)丙烯酸系樹脂膜形成材料之不良溶劑之硬塗層形成用組合物，亦可使硬塗形成用組合物滲透(甲基)丙烯酸系樹脂膜，而形成具有所需之厚度之滲透層。
上述硬塗層之厚度較佳為1 μm~20 μm，更佳為3 μm~10 μm。
如上所述，形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸 系樹脂於硬塗層形成用組合物中溶出，亦可於硬塗層中存在該(甲基)丙烯酸系樹脂。於在硬塗層中存在形成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之情形時，於一種實施形態中，該(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自滲透層之基材層側向硬塗層連續地下降。於此種實施形態中，由於使(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度連續地變化、即未形成由(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度變化引起的界面，故而可抑制界面反射，並可獲得干涉斑較小之光學積層體。於另一實施形態中，該(甲基)丙烯酸系樹脂與硬塗層形成用組合物產生相分離，而於硬塗層之與滲透層相反之側上形成阻擋層。於此種實施形態中，較佳亦為該(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自滲透層之基材層側向除阻擋層以外的硬塗層連續地下降。
阻擋層之厚度較佳為1 μm~10 μm，進而較佳為2 μm~5 μm。
再者，阻擋層之厚度可藉由硬塗層之反射光譜或利用SEM、TEM等電子顯微鏡的觀察而進行測定。
E.其他層
本發明之光學積層體中，視需要可於硬塗層之外側上配置任意之適當的其他層。作為代表例，可列舉抗反射層及防眩層。可採用於本業界中通常使用之抗反射層及防眩層作為抗反射層及防眩層。
F.光學積層體之製造方法
本發明之光學積層體之製造方法包括將硬塗層形成用組 合物塗佈於(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成塗佈層，並對該塗佈層進行加熱之步驟。硬塗層較佳為對加熱後之塗佈層進行硬化處理而形成。
可採用任意之適當之方法作為硬塗層形成用組合物的塗佈方法。例如，可列舉：棒式塗佈法、輥式塗佈法、凹板印刷式塗佈法、桿式塗佈法、孔縫式塗佈法、淋幕式塗佈法、噴注式刮刀塗佈法、刮刀式塗佈法。
上述塗佈層之加熱溫度可視硬塗層形成用組合物之組成而設定為適當的溫度，較佳為設定為(甲基)丙烯酸系樹脂膜中所含之樹脂之玻璃轉移溫度以下。若於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中所含之樹脂之玻璃轉移溫度以下的溫度下進行加熱，則可獲得對由加熱引起之變形進行抑制之光學積層體。上述塗佈層之加熱溫度例如為80℃~140℃。若以上述範圍之溫度進行加熱，則硬塗層形成用組合物中之單體、低聚物及/或預聚物於(甲基)丙烯酸系樹脂膜中良好地滲透及擴散。利用經由該加熱及其後之硬化處理而進行滲透之硬塗層形成用組合物及(甲基)丙烯酸系樹脂膜的形成材料，形成上述C項中所說明之滲透層。其結果，可獲得(甲基)丙烯酸系樹脂膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。再者，於硬塗層形成用組合物包含溶劑之情形時，藉由該加熱，可對所塗佈之硬塗層形成用組合物進行乾燥。
於一種實施形態中，上述加熱溫度可視上述具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物及上述單官能單體的 含有比例而加以設定。硬塗層形成用組合物中所含之具有2個以上之(甲基)丙烯醯基的硬化性化合物及/或單官能單體越多，越可於低溫之加熱溫度(例如為80℃~100℃)下獲得密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體，並可形成環境負荷較小且效率較佳之製造步驟。
可採用任意之適當之硬化處理作為上述硬化處理。硬化處理代表性地係藉由紫外線照射而進行。紫外線照射之累積光量較佳為200 mJ~400 mJ。
實施例
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。實施例中之評價方法如下所述。又，於實施例中，只要無明確記載，則「份」及「%」為重量基準。
(1)折射率
基材層及硬塗層之折射率係使用Atago公司製造之阿貝折射率計(商品名：DR-M2/1550)，並選擇單溴代萘作為中間液而進行測定。
(2)滲透層之厚度
於在實施例及比較例中獲得之光學積層體之基材層側上，經由厚度20 μm之丙烯酸系黏著劑貼合黑色丙烯酸板(三菱麗陽公司製造，厚度2 mm)。繼而，使用多頻分光光譜儀(Multi Channel Photo Detector)系統(大塚電子公司製造，商品名：MCPD3700)，於如下條件下測定硬塗層之反射光譜，並由FFT(Fast Fourier Transform，快速傅里葉變 換)光譜之波峰位置評價(硬塗層+滲透層)之厚度。再者，折射率係使用上述(1)中所測定之值。
‧ 反射光譜測定條件
參考：鏡面反射
演算法：FFT法
計算波長：450 nm~850 nm
‧ 檢測條件
曝光時間：20 ms
指示燈增益：正常
累積次數：10次
‧ FFT法
膜厚值之範圍：2 μm~15 μm
膜厚解析度：24 nm
又，實施例1~6、8、9及比較例1~6之硬塗層之厚度係藉由與下述積層體(R1)相關的上述反射光譜測定而進行評價。實施例7之硬塗層之厚度係藉由與下述積層體(R2)相關的上述反射光譜測定而進行評價。
‧積層體(R1)：使用PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二醇酯)基材(Toray公司製造，商品名：U48-3，折射率：1.60)作為基材膜，並將塗佈層之加熱溫度設為60℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得。
‧積層體(R2)：使用PET基材(Toray公司製造，商品名：U48-3，折射率：1.60)作為基材膜，並將塗佈層之加熱溫度設為60℃，除此以外，以與實施例7同樣之方式獲得。
再者，由於硬塗層形成用組合物不滲透該等積層體中所使用之PET基材，故而由自積層體(R1)及積層體(R2)獲得之FFT光譜之波峰位置僅測定硬塗層的厚度。該評價之結果，實施例1~6、8、9及比較例1~6之硬塗層之厚度為5.3 μm，實施例7之硬塗層之厚度為4.4 μm。將積層體(R1)之FFT光譜示於圖3中。
將由((硬塗層+滲透層)之厚度)-((硬塗層)之厚度)算出的正值作為滲透層之厚度。再者，根據FFT光譜，於滲透層之厚度成為0 μm之情形時(比較例1及4)，利用SEM觀察光學積層體之剖面，而實際確認到未形成滲透層。
(3)硬塗層之密著性
基於JIS K-5400之棋盤格剝離試驗(棋盤格數：100格)，評價硬塗層對於基材膜之密著性。
(4)干涉斑1
於在實施例及比較例中獲得之光學積層體之基材層側上，經由丙烯酸系黏著劑貼合黑色丙烯酸板(三菱麗陽公司製造，厚度2 mm)，其後於3波長蛍光燈下目測觀察干涉斑，並根據以下基準加以評價。
4：未產生干涉斑
3：發現產生一些干涉斑，但無實用上之問題
2：發現產生較多之干涉斑
1：發現產生明顯之干涉斑
(5)干涉斑2
對於在實施例及比較例中獲得之光學積層體，由根據上 述(2)之評價測定之硬塗層的反射光譜於500 nm~600 nm之波長區域中之振幅評價干涉斑。
<製造例1>基材膜A之製作
利用雙軸混練機，於220℃下將日本專利特開2010-284840號公報之製造例1中所記載之醯亞胺化MS樹脂100重量份、及三系紫外線吸收劑(ADEKA公司製造，商品名：T-712)0.62重量份加以混合，而製作樹脂顆粒物。於100.5 kPa、100℃之條件下將所獲得之樹脂顆粒物乾燥12小時，並利用單軸之擠出機，於鑄模溫度270℃下自T鑄模中擠出而使其成形為膜狀(厚度160 μm)。進而於其搬送方向於150℃之環境下對該膜(厚度80 μm)進行拉伸，繼而於與膜搬送方向正交之方向於150℃之環境下進行拉伸，而獲得厚度40 μm之基材膜A((甲基)丙烯酸系樹脂膜)。所獲得之基材膜A之波長380 nm之光的穿透率為8.5%，面內相位差Re為0.4 nm，厚度方向相位差Rth為0.78 nm。又，所獲得之基材膜A之透濕度為61 g/m2/24小時。再者，透光率係使用日立高新技術股份有限公司製造之分光光度計(裝置名稱：U-4100)，並於波長區域200 nm~800 nm之條件下測定穿透率光譜，而讀取波長380 nm時之穿透率。又，相位差值係使用王子計測設備股份有限公司製造之商品名「KOBRA21-ADH」，並於波長590 nm、23℃之條件下進行測定。透濕度係藉由依據JIS K 0208之方法，於溫度40℃、相對濕度92%之條件下進行測定。
<實施例1>
將包含異三聚氰酸三丙烯酸酯13份、季戊四醇三丙烯酸酯16份、二季戊四醇六丙烯酸酯62份、及異佛爾酮二異氰酸酯聚胺基甲酸酯9份之紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806，固形物成分：80%，溶劑：乙酸丁酯)100份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋，而製備硬塗層形成用組合物。
將所獲得之硬塗層形成用組合物塗佈於製造例1中獲得之基材膜A上而形成塗佈層，並於110℃下將該塗佈層加熱1分鐘。利用高壓水銀燈對加熱後之塗佈層照射累積光量300 mJ/cm2之紫外線，使塗佈層硬化，並形成基材層、硬塗層及滲透層，而獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。又，將上述(2)之評價中獲得之實際的反射光譜示於圖4A中，並將FFT光譜示於圖4B中。
<實施例2>
將塗佈層之加熱溫度設為120℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例3>
將包含由季戊四醇系丙烯酸酯與氫化二甲苯二異氰酸酯獲得之丙烯酸胺基甲酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊 四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、具有2-羥基乙基及2,3-二羥基丙基之(甲基)丙烯酸聚合物、及光反應起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 184；BASF公司製造，商品名：Lucirin TPO)之紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：PC1070，固形物成分：66%，溶劑：乙酸乙酯、乙酸丁酯)100份、及調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋，而製備硬塗層形成用組合物。再者，上述紫外線硬化型樹脂(PC1070)之組成如下所述。
由季戊四醇系丙烯酸酯與氫化二甲苯二異氰酸酯獲得之丙烯酸胺基甲酸酯 100份、二季戊四醇六丙烯酸酯 49份、季戊四醇四丙烯酸酯 41份、季戊四醇三丙烯酸酯 24份、具有2-羥基乙基及2,3-二羥基丙基之(甲基)丙烯酸聚合物 58份
將所獲得之硬塗層形成用組合物塗佈於製造例1中獲得之基材膜上而形成塗佈層，將該塗佈層於120℃下加熱1分鐘。利用高壓水銀燈對加熱後之塗佈層照射累積光量300 mJ/cm2之紫外線，使塗佈層硬化，並形成基材層、硬塗層及滲透層，而獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例4>
將上述紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：PC1070，固形物成分：66%，溶劑：乙酸乙酯、乙酸丁酯)100份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA，Pentaerythritol Triacrylate)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat #300)40份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光反應起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)1.2份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋，而製備硬塗層形成用組合物。
將所獲得之硬塗層形成用組合物塗佈於製造例1中獲得之基材膜上而形成塗佈層，將該塗佈層於100℃下加熱1分鐘。利用高壓水銀燈對加熱後之塗佈層照射累積光量300 mJ/cm2之紫外線，使塗佈層硬化，並形成基材層、硬塗層及滲透層，而獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例5>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC17-806)，使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat #300)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例6>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名： UNIDIC 17-806)，使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat #300)，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例7>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806)100份，使用胺基甲酸酯丙烯酸酯低聚物60份、季戊四醇四丙烯酸酯30份、及季戊四醇三丙烯酸酯10份之混合物(日本合成公司製造，商品名：UV-7600-B)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例8>
代替甲基異丁基酮，利用異丙醇進行稀釋而製備硬塗層形成用組合物，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例9>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806)100份，使用二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA，Dipentaerythritol Hexaacrylate)(新中村化學公司製造，商品名：A-DPH)30份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat #300)55份、及丙烯醯啉(ACMO，Acryloylmorpholine)(興人公司製造)15份之混合物，且不使用溶劑而製備硬塗層形成用組合物，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例10>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806)100份，使用二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(新中村化學公司製造，商品名：A-DPH)30份、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat #300)55份、及丙烯醯啉(ACMO)(興人公司製造)15份之混合物，且不使用溶劑而製備硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為95℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例11>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806)100份，使用UNIDIC 17-806(100份)與季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat #300)40份之混合樹脂，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例12>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806)100份，使用UNIDIC 17-806(100份)與丙烯醯啉(ACMO)(興人公司製造)20份之混合樹脂，並將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例13>
代替紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806)100份，使用UNIDIC 17-806(100份)與丙烯醯啉(ACMO)(興人公司製造)20份之混合樹脂，並將塗佈層之加熱溫度設為95℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例14>
使用將紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806，固形物成分：80%，溶劑：乙酸丁酯)100份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA,4-Hydroxybutyl Acrylate)(大阪有機化學工業公司製造)20份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方 式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例15>
使用將紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806，固形物成分：80%，溶劑：乙酸丁酯)100份、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺(HEAA,N-(2-Hydroxyethyl)acrylamide)(興人公司製造)20份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例16>
使用將上述日本合成公司製造之「UV-7600-B」80份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)20份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例17>
使用將上述日本合成公司製造之「UV-7600-B」80份、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺(HEAA)(興人公司製造)20份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例18>
使用將紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806，固形物成分：80%，溶劑：乙酸丁酯)106份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例19>
使用將紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名： UNIDIC 17-806，固形物成分：80%，溶劑：乙酸丁酯)106份、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺(HEAA)(興人公司製造)15份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例20>
使用將紫外線硬化型樹脂(DIC公司製造，商品名：UNIDIC 17-806，固形物成分：80%，溶劑：乙酸丁酯)88份、丙烯酸4-羥基丁酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)30份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<實施例21>
使用將季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(大阪有機化學工業公司製造，商品名：Viscoat #300)80份、丙烯酸4-羥基丁 酯(4-HBA)(大阪有機化學工業公司製造)20份、調平劑(DIC公司製造，商品名：GRANDIC PC-4100)5份、及光聚合起始劑(Ciba Japan公司製造，商品名：Irgacure 907)3份加以混合，以使固形物成分濃度成為50%之方式，利用甲基異丁基酮進行稀釋而製備之硬塗層形成用組合物，並將塗佈層之加熱溫度設為90℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<比較例1>
代替製造例1中獲得之基材膜A，使用環烯烴系基材(日本ZEON公司製造，商品名：Zeonor ZF14)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<比較例2>
代替製造例1中獲得之基材膜A，使用三乙醯纖維素(TAC)基材(富士膠片公司製造，商品名：TD80UL)，並將塗佈層之加熱溫度設為60℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<比較例3>
代替製造例1中獲得之基材膜A，使用三乙醯纖維素(TAC)基材(富士膠片公司製造，商品名：TD80UL)，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表 1中。又，將上述(2)之評價中獲得之實際的反射光譜示於圖5A中，並將FFT光譜示於圖5B中。
<比較例4>
將塗佈層之加熱溫度設為60℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<比較例5>
將塗佈層之加熱溫度設為80℃，除此以外，以與實施例l同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
<比較例6>
將塗佈層之加熱溫度設為100℃，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得光學積層體。將該光學積層體提供至上述(2)~(5)之評價中。將結果示於下述表1中。
由表1亦表明：由於本發明之光學積層體包含特定厚度之滲透層，故而基材膜((甲基)丙烯酸系樹脂膜)與硬塗層之密著性優異，並且抑制干涉斑。又，根據本發明，即便使用不含溶劑之硬塗層形成用組合物(實施例9及10)、或者作為溶劑僅包含膜基材形成材料之不良溶劑之硬塗層形成用組合物(實施例8)，亦可獲得包含特定厚度之滲透層之光學積層體。
又，實施例中所使用之基材膜A((甲基)丙烯酸系樹脂膜)之透濕度較低。具體而言，如上所述，基材膜A之透濕度為61 g/m2/24小時，低於例如厚度相同之TAC基材(Konica Minolta公司製造，商品名：KC4UY，透濕度：800 g/m2/24小時)之透濕度。根據本發明，即便使用如此低透濕性之(甲基)丙烯酸系樹脂膜作為基材膜，亦可獲得基材膜與硬塗層之密著性優異、並且抑制干涉斑之光學積層體。
產業上之可利用性
本發明之光學積層體可較佳地使用於圖像顯示裝置中。本發明之光學積層體可較佳地用作圖像顯示裝置之前面板或偏光元件的保護材料，尤其是可較佳地用作液晶顯示裝置(其中為三維液晶顯示裝置)之前面板。
10、10'‧‧‧基材層
20‧‧‧滲透層
30、30'‧‧‧硬塗層
40‧‧‧阻擋層
100、200、300‧‧‧光學積層體
A、B‧‧‧邊界
圖1(a)係本發明之較佳之實施形態之光學積層體的概略剖面圖，圖1(b)係先前之具有通常之硬塗層之光學積層體的概略剖面圖之一例。
圖2係本發明之另一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。
圖3係實施例之評價中所使用之積層體(R1)之硬塗層表面的高速傅里葉變換(FFT)光譜。
圖4A係實施例1之光學積層體之硬塗層表面的反射光譜。
圖4B係實施例1之光學積層體之硬塗層表面的FFT光譜。
圖5A係比較例3之光學積層體之硬塗層表面的反射光譜。
圖5B係比較例3之光學積層體之硬塗層表面的FFT光譜。
10、10'‧‧‧基材層
20‧‧‧滲透層
30、30'‧‧‧硬塗層
100、200‧‧‧光學積層體
A、B‧‧‧邊界

Claims (19)

  1. 一種光學積層體，其包含含有(甲基)丙烯酸系樹脂膜之基材層、將硬塗層形成用組合物塗敷於該(甲基)丙烯酸系樹脂膜上而形成之硬塗層、及於該基材層與該硬塗層之間使該硬塗層形成用組合物滲透至該(甲基)丙烯酸系樹脂膜而形成之滲透層；並且該滲透層之厚度為1.2 μm以上。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中於上述滲透層中，形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之濃度自上述硬塗層側向上述基材層側連續地升高。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中於500 nm~600 nm之波長區域中之上述硬塗層之反射光譜的振幅為0.5%以下。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中上述基材層之折射率與上述硬塗層之折射率之差的絕對值為0.01~0.15。
  5. 如請求項1之光學積層體，其中上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜於波長380 nm中之光之穿透率為15%以下。
  6. 如請求項1之光學積層體，其中形成上述(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂具有表現正的雙折射之結構單元與表現負的雙折射的結構單元。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物包含具有2個以上之(甲基)丙烯醯基之硬化性化合物。
  8. 如請求項7之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物進而包含單官能單體。
  9. 如請求項8之光學積層體，其中上述單官能單體之重量平均分子量為500以下。
  10. 如請求項8之光學積層體，其中上述單官能單體具有羥基。
  11. 如請求項10之光學積層體，其中上述單官能單體為(甲基)丙烯酸羥基烷基酯及/或N-(2-羥基烷基)(甲基)丙烯醯胺。
  12. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物包含(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯及/或(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之低聚物。
  13. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物包含具有羥基之(甲基)丙烯酸系預聚物。
  14. 如請求項1之光學積層體，其中上述硬塗層形成用組合物不含溶劑。
  15. 如請求項1之光學積層體，其中於上述硬塗層之與上述滲透層相反之側的表面具有凹凸構造。
  16. 如請求項1之光學積層體，其中於上述硬塗層之與上述滲透層相反之側上進而包含抗反射層。
  17. 一種偏光膜，其包含如請求項1至16中任一項之光學積層體。
  18. 一種圖像顯示裝置，其包含如請求項1至16中任一項之光學積層體。
  19. 一種如請求項1至16中任一項之光學積層體之製造方法，其包括如下步驟：將硬塗層形成用組合物塗佈於(甲 基)丙烯酸系樹脂膜上而形成塗佈層，並於80℃~140℃下加熱該塗佈層。
TW101114322A 2011-04-22 2012-04-20 Optical laminate TWI592303B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011095721 2011-04-22
JP2012093002A JP6128576B2 (ja) 2011-04-22 2012-04-16 光学積層体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201300236A true TW201300236A (zh) 2013-01-01
TWI592303B TWI592303B (zh) 2017-07-21

Family

ID=47041614

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101114322A TWI592303B (zh) 2011-04-22 2012-04-20 Optical laminate

Country Status (6)

Country Link
US (2) US9720134B2 (zh)
JP (1) JP6128576B2 (zh)
KR (1) KR101931400B1 (zh)
CN (1) CN103492913B (zh)
TW (1) TWI592303B (zh)
WO (1) WO2012144508A1 (zh)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104155707A (zh) * 2013-05-13 2014-11-19 日东电工株式会社 硬涂膜、偏振片和图像显示装置
US10596739B2 (en) 2015-03-18 2020-03-24 Riken Technos Corporation Molded body
US10780685B2 (en) 2015-03-18 2020-09-22 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
US10809418B2 (en) 2015-03-18 2020-10-20 Riken Technos Corporation Anti-glare hard coat laminated film
US10816700B2 (en) 2015-12-08 2020-10-27 Riken Technos Corporation Hard coat layered film
US11065851B2 (en) 2015-03-18 2021-07-20 Riken Technos Corporation Multilayer hard coating film
US11065852B2 (en) 2015-03-18 2021-07-20 Riken Technos Corporation Adhesive film
US11241866B2 (en) 2015-11-25 2022-02-08 Riken Technos Corporation Door body
TWI766004B (zh) * 2017-04-10 2022-06-01 日商日東電工股份有限公司 光學積層體、偏光板、及圖像顯示裝置
US11352473B2 (en) 2015-03-18 2022-06-07 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film and method for producing same
TWI771403B (zh) * 2017-04-10 2022-07-21 日商日東電工股份有限公司 光學積層體、偏光板、及圖像顯示裝置
US11407870B2 (en) 2016-09-14 2022-08-09 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
US11433651B2 (en) 2015-03-18 2022-09-06 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
US11639428B2 (en) 2016-11-25 2023-05-02 Riken Technos Corporation Hardcoat multilayer film
US11774166B2 (en) 2015-11-25 2023-10-03 Riken Technos Corporation Door body

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0780600B2 (ja) 1987-08-18 1995-08-30 石川島播磨重工業株式会社 ウェブ巻取装置
JP6128576B2 (ja) * 2011-04-22 2017-05-17 日東電工株式会社 光学積層体
JP2014095731A (ja) * 2012-10-12 2014-05-22 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板ならびに液晶表示装置
JPWO2015025835A1 (ja) * 2013-08-23 2017-03-02 Dic株式会社 積層フィルム、光学素子、偏光板及び画像表示装置
CN109536046B (zh) * 2013-08-30 2021-06-11 日东电工株式会社 偏振膜用固化型胶粘剂、偏振膜、光学膜和图像显示装置
KR101697403B1 (ko) * 2013-09-30 2017-01-17 주식회사 엘지화학 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치
KR101697404B1 (ko) * 2013-09-30 2017-01-17 주식회사 엘지화학 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치
JP6235287B2 (ja) 2013-09-30 2017-11-22 日東電工株式会社 光学積層体
JP6238684B2 (ja) * 2013-11-07 2017-11-29 日東電工株式会社 光学積層体
CN107428971B (zh) 2014-09-26 2020-08-25 日本制纸株式会社 硬涂膜及其制造方法
JP6689031B2 (ja) * 2015-03-27 2020-04-28 日東電工株式会社 光学積層体
WO2017086141A1 (ja) * 2015-11-16 2017-05-26 富士フイルム株式会社 光学フィルム、画像表示装置、および光学フィルムの製造方法
JP2017097322A (ja) * 2015-11-16 2017-06-01 富士フイルム株式会社 光学フィルム、画像表示装置、および光学フィルムの製造方法
JP6599789B2 (ja) * 2015-11-25 2019-10-30 リケンテクノス株式会社 ハードコート積層フィルム
JP6719919B2 (ja) * 2015-11-25 2020-07-08 リケンテクノス株式会社 ハードコート積層フィルム
JP6728854B2 (ja) * 2016-03-25 2020-07-22 三菱ケミカル株式会社 樹脂積層体及びその製造方法
US11073638B2 (en) * 2016-09-07 2021-07-27 Largan Precision Co., Ltd. Optical image lens assembly and plastic material thereof, image capturing apparatus and electronic device
WO2018056688A1 (en) * 2016-09-21 2018-03-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical member, polarization member, and display device employing polymer film
JP6937115B2 (ja) * 2016-12-13 2021-09-22 日東電工株式会社 光学積層体
KR102090810B1 (ko) 2016-12-16 2020-03-18 주식회사 엘지화학 광학 필름 형성용 조성물, 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판
JP6825363B2 (ja) * 2016-12-28 2021-02-03 三菱ケミカル株式会社 樹脂積層体及びその製造方法並びにディスプレー前面板及び移動体用グレージング
WO2019031786A1 (en) * 2017-08-08 2019-02-14 Samsung Electronics Co., Ltd. OPTICAL ELEMENT, POLARIZING ELEMENT, AND DISPLAY DEVICE
JP7341157B2 (ja) 2018-03-22 2023-09-08 日東電工株式会社 光学デバイス
CN109192879B (zh) * 2018-08-31 2021-01-29 京东方科技集团股份有限公司 柔性显示用盖板及其制备方法和柔性显示装置
KR102363874B1 (ko) * 2018-10-18 2022-02-15 주식회사 엘지화학 편광판, 액정 패널 및 디스플레이 장치
KR102721488B1 (ko) * 2019-04-12 2024-10-25 후지필름 가부시키가이샤 하드 코트 필름 및 그 제조 방법, 하드 코트 필름을 구비한 물품, 및 화상 표시 장치
JP2022039928A (ja) 2020-08-27 2022-03-10 日東電工株式会社 ハードコート層付偏光板および該ハードコート層付偏光板を含む画像表示装置
US20230341608A1 (en) 2020-09-29 2023-10-26 Nitto Denko Corporation Optical member, manufacturing method therefor, and light distribution element
CN112778929A (zh) * 2021-01-28 2021-05-11 深圳市康成泰实业有限公司 复合光固化保护膜及其贴膜方法和应用
KR20240019772A (ko) 2021-06-14 2024-02-14 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 방현성 적층체, 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치
JP7315122B1 (ja) * 2021-10-20 2023-07-26 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 ハードコートフィルムおよびその製造方法

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06184267A (ja) 1992-12-17 1994-07-05 Mitsui Toatsu Chem Inc 密着性に優れた光硬化型樹脂組成物
JP2002036436A (ja) 2000-07-19 2002-02-05 Fuji Photo Film Co Ltd ハードコートフイルム及び機能性薄膜付きハードコートフイルム
TW200307733A (en) 2002-02-01 2003-12-16 Natoco Co Ltd Composition curable with actinic energy ray and use thereof
JP3953829B2 (ja) 2002-02-20 2007-08-08 大日本印刷株式会社 表面が強化された反射防止層、反射防止材、および反射防止体
JP3982377B2 (ja) 2002-10-08 2007-09-26 Ｊｓｒ株式会社 光硬化性樹脂組成物及び光学部材
JP4475016B2 (ja) * 2003-06-30 2010-06-09 東レ株式会社 ハードコートフィルム、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2005097371A (ja) * 2003-09-22 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd フッ素含有樹脂組成物及び光学物品、並びにそれを用いた画像表示装置
JP2005133026A (ja) 2003-10-31 2005-05-26 Lintec Corp コーティング用組成物、ハードコートフィルムおよび光ディスク
JP2007519037A (ja) 2003-12-18 2007-07-12 エーエフジー インダストリーズ，インコーポレイテッド 腐食及び傷耐性を向上させた光学コーティングのため保護層
JP4479260B2 (ja) 2004-02-04 2010-06-09 コニカミノルタオプト株式会社 光学フィルムの製造方法
WO2005105918A1 (ja) 2004-04-28 2005-11-10 Toray Industries, Inc. アクリル樹脂フィルムおよび製造方法
WO2006016592A1 (en) * 2004-08-12 2006-02-16 Fujifilm Corporation Anti-reflection film
JP4895160B2 (ja) * 2004-09-30 2012-03-14 大日本印刷株式会社 光学積層体
US7585560B2 (en) 2004-09-30 2009-09-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate
JP2006110875A (ja) 2004-10-15 2006-04-27 Toppan Printing Co Ltd ハードコートフィルムおよび表示媒体
JP4746863B2 (ja) * 2004-11-11 2011-08-10 リンテック株式会社 防眩性ハードコート層形成用材料及び防眩性ハードコートフィルム
US7622194B2 (en) * 2004-12-28 2009-11-24 Fujifilm Corporation Optical film, anti-reflection film, polarizing plate, and image display device
JP2006205545A (ja) 2005-01-28 2006-08-10 Toray Ind Inc ハードコートフィルム
JP2006274119A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Mitsui Chemicals Inc 熱可塑性エラストマー組成物及びその積層成形品
CN101156089B (zh) 2005-03-30 2010-05-19 大日本印刷株式会社 防眩性光学叠层体
CN101228198B (zh) 2005-08-04 2011-06-22 株式会社日本触媒 低双折射共聚物
JP2007090656A (ja) * 2005-09-28 2007-04-12 Dainippon Printing Co Ltd 透光性物品
JP5045052B2 (ja) * 2005-11-10 2012-10-10 Ｊｓｒ株式会社 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜
JP5015462B2 (ja) 2006-01-11 2012-08-29 株式会社ダイセル 防眩性フィルム及びその製造方法
CN101410247B (zh) * 2006-03-31 2012-10-17 大日本印刷株式会社 光学层积体和光学层积体的制造方法
US7700255B2 (en) 2006-04-28 2010-04-20 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Intermediate transfer material, image forming method and image forming apparatus
JP2008012675A (ja) 2006-06-30 2008-01-24 Dainippon Printing Co Ltd 光学積層体、及びその製造方法
KR20090057219A (ko) 2006-09-15 2009-06-04 도레이 카부시키가이샤 플라즈마 디스플레이용 필터
JP2008165205A (ja) 2006-12-05 2008-07-17 Fujifilm Corp 光学フィルム、反射防止フィルム、それを用いた偏光板およびディスプレイ装置
JP2008181078A (ja) * 2006-12-27 2008-08-07 Nitto Denko Corp 偏光子保護フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP5103902B2 (ja) * 2006-12-28 2012-12-19 大日本印刷株式会社 ハードコートフィルム、及びその製造方法
JP5125118B2 (ja) * 2007-01-29 2013-01-23 大日本印刷株式会社 コーティング組成物、硬化膜、光学積層体及びその製造方法
JP5063141B2 (ja) * 2007-02-28 2012-10-31 リンテック株式会社 防眩性ハードコートフィルムの製造方法
US20080284950A1 (en) * 2007-04-02 2008-11-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Composition, single layer, member or laminate for realizing an antistatic (and hardcoat) features
JP4958609B2 (ja) * 2007-04-06 2012-06-20 リンテック株式会社 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP5186834B2 (ja) 2007-08-10 2013-04-24 大日本印刷株式会社 ハードコートフィルム
US8597780B2 (en) 2007-08-10 2013-12-03 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Hard coat film
JP5078520B2 (ja) * 2007-09-19 2012-11-21 リンテック株式会社 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP5568832B2 (ja) 2007-09-28 2014-08-13 大日本印刷株式会社 硬化性樹脂組成物及びハードコートフィルム
JP5504605B2 (ja) 2007-10-30 2014-05-28 大日本印刷株式会社 ハードコート層用硬化性樹脂組成物、及びハードコートフィルム
JP5291919B2 (ja) 2007-11-20 2013-09-18 富士フイルム株式会社 ディスプレイ表面に用いる偏光板用保護フィルム又は画像表示装置前面板用フィルム
JP2009161609A (ja) 2007-12-28 2009-07-23 Three M Innovative Properties Co ハードコートフィルム及び印刷体
EP2237086A4 (en) 2007-12-28 2010-12-15 Nippon Catalytic Chem Ind OPTICAL FILM AND IMAGE FORMING APPARATUS HAVING THE SAME
JP2009185282A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Nitto Denko Corp ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、光学素子および画像表示装置
JP2009262148A (ja) 2008-03-31 2009-11-12 Dainippon Printing Co Ltd 多層塗工膜の製造方法
JP2010039418A (ja) 2008-08-08 2010-02-18 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置
JP5235557B2 (ja) 2008-08-11 2013-07-10 名阪真空工業株式会社 ディスプレイ面板用透明多層シート
JP5300385B2 (ja) * 2008-09-10 2013-09-25 株式会社日本触媒 熱可塑性樹脂組成物とそれを用いたフィルム
JP2010082564A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Dainippon Printing Co Ltd 微小気泡を利用した多層塗工膜の製造方法
JP5262609B2 (ja) 2008-11-17 2013-08-14 大日本印刷株式会社 光学シートの製造方法
JP5633149B2 (ja) 2009-03-09 2014-12-03 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム及びその製造方法、偏光板、透過型液晶ディスプレイ
WO2010122912A1 (ja) * 2009-04-20 2010-10-28 株式会社トクヤマ コーティング組成物
JP5476843B2 (ja) 2009-08-04 2014-04-23 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP6128629B2 (ja) * 2011-04-22 2017-05-17 日東電工株式会社 光学積層体
JP6128576B2 (ja) * 2011-04-22 2017-05-17 日東電工株式会社 光学積層体
JP2012234164A (ja) * 2011-04-22 2012-11-29 Nitto Denko Corp 光学積層体

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI717850B (zh) * 2013-05-13 2021-02-01 日商日東電工股份有限公司 硬塗膜、偏光板及圖像顯示裝置
US9904098B2 (en) 2013-05-13 2018-02-27 Nitto Denko Corporation Hard coat film, polarizing plate, and image display apparatus
CN104155707A (zh) * 2013-05-13 2014-11-19 日东电工株式会社 硬涂膜、偏振片和图像显示装置
US11065851B2 (en) 2015-03-18 2021-07-20 Riken Technos Corporation Multilayer hard coating film
US11352473B2 (en) 2015-03-18 2022-06-07 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film and method for producing same
US10809418B2 (en) 2015-03-18 2020-10-20 Riken Technos Corporation Anti-glare hard coat laminated film
US11512176B2 (en) 2015-03-18 2022-11-29 Riken Technos Corporation Anti-glare hard coat laminated film
US10780685B2 (en) 2015-03-18 2020-09-22 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
US10596739B2 (en) 2015-03-18 2020-03-24 Riken Technos Corporation Molded body
US11065852B2 (en) 2015-03-18 2021-07-20 Riken Technos Corporation Adhesive film
TWI705900B (zh) * 2015-03-18 2020-10-01 日商理研科技股份有限公司 硬化塗佈層積薄膜
US11433651B2 (en) 2015-03-18 2022-09-06 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
US11241866B2 (en) 2015-11-25 2022-02-08 Riken Technos Corporation Door body
US11774166B2 (en) 2015-11-25 2023-10-03 Riken Technos Corporation Door body
US10816700B2 (en) 2015-12-08 2020-10-27 Riken Technos Corporation Hard coat layered film
US11407870B2 (en) 2016-09-14 2022-08-09 Riken Technos Corporation Hard coat laminated film
US11639428B2 (en) 2016-11-25 2023-05-02 Riken Technos Corporation Hardcoat multilayer film
TWI771403B (zh) * 2017-04-10 2022-07-21 日商日東電工股份有限公司 光學積層體、偏光板、及圖像顯示裝置
TWI766004B (zh) * 2017-04-10 2022-06-01 日商日東電工股份有限公司 光學積層體、偏光板、及圖像顯示裝置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012234163A (ja) 2012-11-29
WO2012144508A1 (ja) 2012-10-26
CN103492913B (zh) 2017-03-15
KR101931400B1 (ko) 2018-12-20
CN103492913A (zh) 2014-01-01
US20140227482A1 (en) 2014-08-14
US10203430B2 (en) 2019-02-12
KR20140037093A (ko) 2014-03-26
TWI592303B (zh) 2017-07-21
US9720134B2 (en) 2017-08-01
US20170329050A1 (en) 2017-11-16
JP6128576B2 (ja) 2017-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI592303B (zh) Optical laminate
TWI531600B (zh) Optical continuum
TWI550001B (zh) Optical continuum
TWI542468B (zh) Optical continuum
TWI551881B (zh) Optical continuum
TWI564153B (zh) Optical continuum
TWI746730B (zh) 光學積層體
JP2017058693A (ja) 光学積層体
JP2017072846A (ja) 光学積層体