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TW200936001A - Process for manufacturing an insulating layer on a SMT device and its structure - Google Patents

Process for manufacturing an insulating layer on a SMT device and its structure Download PDF

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TW200936001A
TW200936001A TW97105349A TW97105349A TW200936001A TW 200936001 A TW200936001 A TW 200936001A TW 97105349 A TW97105349 A TW 97105349A TW 97105349 A TW97105349 A TW 97105349A TW 200936001 A TW200936001 A TW 200936001A
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Taiwan
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adhesive
electrode
wafer
insulating
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Cheng-Xuan Peng
De-Sheng Zeng
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Online Technologies Ltd
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Description

200936001 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種晶片式表面黏著型元件絕緣製 .程及其結構,尤指一種製作具有良好絕緣與保護功能之絕 緣製程結構之製程。 【先前技術】 表面黏著型元件已經極為普遍地應用於各種電子線 ® 路設計,所採用的材料更具有多樣性並依據製程條件的不 同而加以調整。表面黏著型元件之使用場合在於線路機板 組裝後,必須藉由銲接製程完成此一組裝要求,而易於銲 接使用的端電極特性自然是要求重點之一。一般來說,在 表面黏著型元件之端電極製程後通常利用電鍍製程成型 一銲接介面層於端電極的外側,並利用該鋒接介面層與外 部線路機板進行焊接組裝之步驟。 ^ 對於本體材料絕緣性較差之表面黏著型元件,於製造 銲接介面層的電鍍製程時,因為本體材料絕緣性較差的狀 ' 況下會使電鍍製成變得複雜、困難。部份元件材料可藉由 * 特殊的電鍍條件設定加以完成;但部份元件材料即使調整 電鍍條件亦無法以電鍍製程完成電極銲接介面結構,而必 須使用昂貴且特殊的端電極材料使端電極本身直接具有 銲接特性;即使如此,此種端電極之銲接性與可靠性仍很 難達成電鍍銲接介面結構相同要求的品質與水準。 而習知技術中,可利用特殊的材料與製程來提高本體 200936001 材料之絕緣性,例如本體上完整被覆一層以玻璃成分為主 的保護絕緣層,然後利用製作端電極結構之高溫燒結製 程,藉由端電極導體的燒入完成與功能主結構内電極之連 . 接;但由於玻璃材料經由被覆、燒結等製程後,除了耐鹼 - 性能力較差之外,該玻璃之絕緣效果會因成型的結構厚度 與玻璃密度不均勻而導致絕緣性不佳的問題。 又例如,可採用保護絕緣材料如環氧樹脂將元件被覆 之後,再製作端電極;此一製程的問題在於,保護絕緣材 ❹ 料的披覆作業溫度低,因此後製程的端電極材料必須使用 低溫型,但低溫製程之端電極卻造成元件特性上的不利影 響;再者,由於表面黏著型元件外觀一般為長方體結構, 為解決邊角被覆問題,此製程方式必須將元件以一個接一 個的方式進行,使整體產能無法進一步提昇。 另外,對於繞線式電感元件,其結構係為線圈導體直 接外露於本體基材之上,加上元件整體結構的特殊,使得 保護絕緣層之製作非常困難;此外,一些功能應用較為特 殊的元件如積層表面黏著型壓敏變阻器以及積層表面黏 • 著型高壓電容元件,兩者在線路機板實際使用時必須額外 • 考慮元件本體表面對於雜質、溼度的吸附問題,否則將會 產生過南的漏電流而致使元件失效。 緣是,本發明人有感上述缺失之可改善,提出一種設 計合理且有效改善上述缺失之本發明。 【發明内容】 200936001 本發明之主要目的,在於提供一種晶片式表面黏著型 元件絕緣製程及其結構,該絕緣製程係利用一單端浸入製 程以批次的方式製作保護絕緣結構,進而提高製程效率與 . 產能。 本發明之再一目的,在於提供一種晶片式表面黏著型 元件絕緣製程及其結構,使該晶片式表面黏著型元件上披 覆一抗酸鹼且耐濕性佳的絕緣結構。 為了達成上述之目的,本發明係提供一種晶片式表面 ❹ 黏著型元件絕緣製程,步驟如下:步驟一:提供至少一個 晶片式表面黏著型元件,其中該至少一晶片式表面黏著型 元件具有一本體部、一位於該本體部一端之第一侧部以及 一位於該本體部另一端之第二侧部,且該第一侧部與該第 二側部上分別蓋設有一第一導電端電極與一第二導電端 電極;步驟二:提供一未固化之絕緣材料;步驟三:提供 一單端浸泡步驟,以將該至少一晶片式表面黏著型元件浸 入該未固化之絕緣材料一預定時間;以及步驟四:去除批 覆於該第二導電端電極上之絕緣材料。 • 本發明亦提供一種依上述絕緣製程所製得之絕緣結 ' 構,包括:一本體部,其中該本體部一端設有一第一側部 以及該本體部另一端設有一第二側部;一蓋設於該第一側 部之第一導電端電極;一蓋設於該第二侧部之第二導電端 電極;以及一包覆該本體部之絕緣層,其中該絕緣層成型 於該第一導電端電極與該第二導電端電極之間且具有一 預定厚度。 200936001 程,下有益的效果:本發明提出之絕緣f 構,且該絕緣結構具有厚度與密 乍、邑、·彖結 所製:之絕緣結構能使元件更具二r::之r明 特徵及技術内容,請參 供參考與==與圖’然而所附圏式僅提 "n 亚非用來對本發明加以限制者。 【實施方式】 元件圖,本發明係提供—種晶片式表面黏著划 絕緣絕緣製程可製作—高絕緣性、抗酸驗: 型ΐ二::;面:f?元叙表面,例如表面黏著 Ο :::、=),但本發明不以上述為限= 例===發明所提出之絕緣製程之第一實施 ” U)··提供至少一個晶片式表面黏著型元件,盆 型電著型電容元件1 ’其中該至少一表面黏著 有—本體部11、—位於該本體部11 一 二側ίίΤ12以及一位於該本體部11另-端之第 ::一1 ’且該第一側部1 2與該第二側部1 3上分別 ;'!;弟一導電端電極2 〇與一第二導電端電極2 广表面黏著型電容元件i内部設有内電極丄丄。,而 該第-導電端電極2 〇與該第二導電端電極2丄係盥該 200936001 内電極1 1 Q達成電性連接。 端電^ 先將該第—導電端電極2 Q與該第二導電 ==㈣表面黏著型電容元件1上,再利= 電端ΐ*· Ο.象製製作一絕緣層結構;藉此’該第一導 電端電極20以及兮坌—道币 ♦ 1 〇的連接可廊、用:一 一導電端電極2 1與該内電極1 上、;+、由兩 心、用#乂间溫的製程,以提高元件之特性。而 e ❹ 電:電Si 1 〇與該第—導電端電極2 0及該第二導 二電之連接技術以及該第一導電端電極2〇與 之技術,故不在此詳加說^技⑭為本領域者所熟知 ::提供一未固化之絕緣材料3(請參閱 態光阻,但不以上述2 ==::態::或液 緣材料3係置放於一槽體6中:=二』化之絕 目士 且該未固化之絕緣材料3 ;有—預定黏度以及-預定組成濃度,以利下—步驟之進 以將::提供一單端浸泡步驟(請參考第四A圖), ㈣μ 表面黏著型電容元件1浸人該未固化之π 2料3 1定時間。本發明細批线覆財式進行本 ,哺供具有高®程效率的單端披覆餘。 =示,係將該至少-表面黏著型電容元件^ Α = 定裝置5 ’且以直立的方式將每 $、《者3^ $谷το件1浸人該未固化之絕緣材料3 /又入的冰度可隨著晶片式表面黏著型元件種類之不同而 200936001 加以調整;以本實施例來 件1之該第二導雷,山φ 將母—表面黏著型電容元 導電铋電極2 1與該本體部2 固化之絕緣材料3 0 +月立口丨i 1次入該彳 而由於在本步驟中,僅 電極2 1 )浸入該未固化之 ^ (W二導電端 覆(或單端浸入)步驟。而在之為單端被 本體部11浸入H門2 —電端電極21與該 件1取出該未固化之絕緣材料3, 未疋 β材料具有一預定黏度3.,該 k絕緣 於該第二導雷邑騎科3即可附著 T 电極2 1與該本體部1 未固化之絕緣層3 〇 .哕茸日 、而形成 U,。亥寸日日片式表面黏著型元侔、、考入致 木固化之絕緣材料3之預定時 Ρ μ 求而加以調整。 I冓之厚度需 步驟(c):去除批覆於該第二導電端電極 固化之絕緣層3 〇。在此步歟中, 之禾 第-導雷#9 Ί 用,谷詡將批覆於該 ❿弟一¥病電極2工上之未固化之絕緣層3 q去除。 劑的使用需與步驟(b)中之絕緣材料相配合,例如若牛 驟⑴中使用光阻劑進行披覆,則本步驟中則可以使^ 相對應的光阻清洗劑將批覆於該第二導電端電極 絕緣材料(光阻劑)加以去除。而藉 m 此步驟,該絕緣 材枓僅披覆於該等表面黏著型電容元件丄之本體部工 i二裸=出位於該本體部11兩側之第-導電端i極2 ◦與罘二導電端電極21。 而在去除批覆於該第二導電端電極2丄上之未固化 11 200936001 之絕緣層3 0之後,更提供一固化步驟,y將批覆於該本 體部1 1上之未固化之絕緣層3 〇加以固化且成型為— 具有預疋厚度W之絕緣層3 0,。該預定厚度W可隨著不 同類型的晶片式表面黏著型元件加以變化,例如一般元件 的絕緣厚度在3-5/zm ;而高壓元件之厚度需求約在2〇一5〇
❹ #m。另外,本步驟並不限定固化該絕緣材料之方法,例 如了使用加熱或疋紫外光照射的方式以使上述絕緣材料 固化。而該固化後所形成的絕緣層3 〇,.即為本發明中具 有耐酸鹼度、高絕緣性以及耐濕性優良之絕緣結構,而^ 解,因元件本體表面對於雜質、溼度的吸附問題而產生的 過尚漏電流問題。再者,本發明所提出之絕緣製程所製作 緣層3 Q ’具有表面光滑的優點,且其4膜的厚度' '丄度均勻’尤其可滿足高壓電容在使用上的要求。 另外,在步驟(c)之後更進一步包括一成型步驟, :如電鍍製程以分別成型一第一銲接介面層4 〇與一 第接介面層4 1於該第一導電端電極2 〇與該第二 2电端電極2 1上。本發明即是利料端浸泡的製程形成 1有優良耐酸驗度、高絕緣性以及耐濕性之絕緣結構於 =曰片式表面黏著型元件之本體部丄1,使該具有絕緣層 f作二ίΐ式表面黏著型元件可利用後續之成型步驟 作麵接所需要的銲接介面層。 h參考第三圖至第 D 圖 , 一 ‘叫口矛㈡固汉弟记 I明之第二實施例則將該絕緣製程應一 著塑薄膜繞綠式電感元件;L,。與第_實_不同^ 12 200936001 Π該式電感元件1,具有-本體部 寬之第-側部i 2以及一第= = 1為 2與該第二側部丄3 J ,且遠第-側部1 〇與-第二導電端電極= 包覆有-線圈導體14圈二,!本體部
翔著:!二成型有螺旋狀紋路,以形成-表面 部占者型溥胺繞線式電感元件丄,。 同t地’將複數個表面黏著型薄膜繞線式電感元件 著刑泡的方式製作絕緣結構;亦即將該等表面黏 感树Γ之—端(例如第—導電端電 固定於一固定裝置5,且以直立的方式將每-表 ::者型薄膜繞線式電感元件1’浸入該未固化之絕緣 厂3 ’再將批覆於該第二導電端電極2 1上之未固化之 絕緣層3 G純去除。之後再雜覆於財丄上之 未固化之絕緣層3 Q固化形成—絕緣層3 0,。而在此實 施例中’由於該線圈導體14具有-第-厚度^,故在固 化步驟之後,該絕緣層3 ◦,的第二厚度W2必須大於該 第—厚度W1以提供良好的絕緣功能。 、本發明亦提供一種依上述絕緣製程形成一絕緣結構 於一晶片式表面黏著型元件,其包括:一本體部i丄,其 中該本體部1 1 —端設有-第-側部1 2以及該本體部 1 1另一端設有一第二侧部i 3 ; 一蓋設於該第一侧部丄 2之第一導電端電極20 ; —蓋設於該第二側部1 3之第 13 200936001 二導電端電極2 1 ;以及一包覆該本體部1 1之絕緣層3 0’ ,其中該絕緣層3 0’成型於該第一導電端電極2 0 與該第二導電端電極21之間且具有一預定厚度W。 . 綜上所述,本發明具有下列諸優點: 1、 由於本發明係在端電極之製作完成之後才進行絕 緣結構之製程,故後端的低溫絕緣結構製程並不會限制前 端電極製作溫度的範圍;亦即可利用較高溫的製程製作端 電極或連接端電極與内電極,使應用本發明製程之晶片式 ® 表面黏著型元件在功能上更具有耐突波電流之特性。 2、 另一方面,本製程可利用批次的方式進行單端坡 覆的步驟,可大幅提昇絕緣結構製作的整體效率,進而提 高晶片式表面黏著型元件的產能。 3、 本發明利用絕緣效果佳及用途廣之絕緣材料製作 上述之絕緣結構,以提供高絕緣性、耐酸鹼性以及耐濕性 佳的保護絕緣結構。 φ 惟以上所述僅為本發明之較佳實施例,非意欲侷限本 發明之專利保護範圍,故舉凡運用本發明說明書及圖式内 容所為之等效變化,均同理皆包含於本發明之權利保護範 圍内,合予陳明。 【圖式簡單說明】 第一圖係本發明之晶片式表面黏著型元件絕緣製程之流 程方塊圖。 第二圖係本發明之表面黏著型電容元件之示意圖。 14 200936001 第一 A圖係本發明之晶月式表面黏著型元件絕緣製 第一實施例之流程示意圖。 衣王之 弟二B圖係第二A圖之A部分之放大圖。 不 第二圖係本發明之表面黏著型薄膜繞線式電感元 意圖。 - ,三A圖係本發明之晶片式表面黏著型元件^ 弟二實施例之流程示意圖。 裏各之 鲁 第二β圖係第三A圖之B部分之放大圖。 ㈣之晶片式表面黏著型元件抵次進行絕緣 第四A圖係本發明之單端浸泡步驟之示意圖。 【主要元件符號說明】 1 表面黏著型電容元件
14 2 0 3 本體部 第一侧部 線圈導體 狀况深武電感元件 11〇 内電極 13 第二惻部 3 04 056 第一導電端電極 2ι 未固化之絕緣材料 未固化之絕緣層 30 第一銲接介面層 4i 固定裝置 槽體 第二導電端電極 絕緣層 第二銲接介面層 15 200936001 w Wl W2 預定厚度 第一厚度 第二厚度

Claims (1)

  1. 200936001 、申請專利範圍: 、-種晶片式表面黏著型元件絕緣製程,包括· 步:提供至少一個晶片式表面黏著型元件,其中 =至厂日日日片式表面黏著型元件具有—本體部、、— 部另—端之t __伽# 、]°卩以及一位於該本體 端之弟一側部,且該第一侧部與該第二側部 Ο φ 步驟. ••提供一單端浸泡步驟,以將該至少 極^別設有一第-導電端電極與一第二導電端電 步驟二:提供一未固化之絕緣材料; 表面黏著型元件浸入該未固化之^ 時間;以及 叶預^ 步^四:去除批覆於該第二導電端電極上之絕㈣ 2專利範圍第1項所述之晶片式表面雜元科 :緣=,其中該未固化之絕緣材料係為液態環氧: 月曰、液態矽膠或液態光阻。 乳树 3、如申請專鄕圍第2項所叙 絕絃口 - . χ 占考型7〇件 度。“、中該未固化之絕緣材料具有一預定黏 4第1項所述之晶片式表面黏著型元件 '、彖衣耘,其中該單端浸泡步驟係將每一曰 黏著型元件之該第一導電端電 “曰:、面 署 俚固疋於一固定萝 ’且以直立的方式將每-晶片式表㈣著型元件浸 17 200936001 ❹ 入該未固化之絕緣材料。 、如申請專利範圍第4 絕緣製程,其中該單=曰曰片式表面黏著型元科 黏著型元件之該第驟係將每一晶片式表面 未固化之_材1—導電端魏與財體部浸入該、如申謗專利制第5項所述之s m ^ 絕緣製程,其中在步驟四中係;轉型元件 二導電端電極上之絕緣材二=用_將批覆於該第 如申凊專利範圍第6項诚 絕緣製程,月式表面黏著型元件 體部上之m2 之後更包括一將批覆於該本 版口丨上之%緣材料固化之步驟。 、如申請專利範圍第7項 絕緣製程,其中卿於;面黎著型元件 化形成本體部上之絕緣材料係固 >形成一具有預定厚度之絕緣層。 如申明專利範圍第6項所述 絕緣製程,其中在㈣四之後者型元二 一銲接介面層盥一第_銲接人 刀1 '型第 電極”第二 _面層於該第-導電端 興該第—導電端電極之成型步驟。 請專利範圍第9項所述之晶片式表面黏著型元 、^緣製程,其中該成型步驟係為-電鍍製程。 ^一種晶片式表面黏著型元件絕緣結構,包括. 一 其中該本體部一端設有-第-側部以及該 本奴邛另一端設有一第二側部; 一设於該第一側部之第一導電端電極; 5 6 7 8 18 200936001 -設於該第,部n -包覆該本!t部之絕緣層,其心:及 -導電端電極與該第二導電端;:之==第 預定厚度。間且具有— 1 2、如中請專利範園第2 }項所述之晶 二 f牛絕緣結構,其中該第—導電端電_該第 := 分別成型有-第,一與-: 3元專利範圍第11項所欽^式表轉_ 牛 彖、〜構,其中該本體部與該絕緣層之間更進— V具有一線圈導體。 申°月兮4'lj现圍第1 3項所述之晶片式表面黏著型 =絕緣結構,其㈣絕緣層之該預定厚度大於該i 圈導體之厚度。 19
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