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TW200305582A - Incorporable photoinitiator - Google Patents

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Publication number
TW200305582A
TW200305582A TW092109781A TW92109781A TW200305582A TW 200305582 A TW200305582 A TW 200305582A TW 092109781 A TW092109781 A TW 092109781A TW 92109781 A TW92109781 A TW 92109781A TW 200305582 A TW200305582 A TW 200305582A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
patent application
alkyl
page
scope
phenyl
Prior art date
Application number
TW092109781A
Other languages
English (en)
Inventor
Jean-Pierre Wolf
Rinaldo Husler
Wolfgang Peter
Reinhard Sommerlade
Souad Boulmaaz
Original Assignee
Ciba Sc Holding Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Sc Holding Ag filed Critical Ciba Sc Holding Ag
Publication of TW200305582A publication Critical patent/TW200305582A/zh

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

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Description

200305582 玖、發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明) L發明戶斤屬之技術領域3 本發明係有關於苯基乙醛酸型之光起始劑,其藉由其 特殊取代基能被併納於欲被聚合之組成物内。 I:先前技術3 5 苯基乙醛酸已知作為光起始劑,且係描述於,例如, US 4 038 164、US 4 475 999 及 US 4 024 297。於一分子内 具有二苯基乙醛酸酯官能性之化合物可由,例如,US 6 048 660及WO 00/56822得知。提供丙烯酸酯基之苯基乙 醛酸衍生物係揭示於US 3 930 868、US 4 308 394及US 4 10 279 718。 於此技藝需要低揮發性之反應性光起始劑,其除優異 之起始劑性質及與其混合之配方物之良好暗儲存(dark-storage)安 定性外 ,另提供亦用 於複合 組成物之配方 物之廣 泛範圍,諸如,可以熱及以光化學固化之組份之混合物, 15 其對於此等光起始劑或其光解產物亦可以快速泳移方式被 結合於此等配方物内,現已發現某些苯基乙醛酸酯係特別 適於作為低揮發性之光起始劑。此等酯係於聚合反應期間 變成堅固地結合於塗覆物内之化合物,起始劑之泳移被避 免。 20 【發明内容】 因此,本發明係有關於化學式I之可併納之光起始劑 化合物 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 6 200305582 玖、發明說明 ac γΟ-Υ-Κ
II ⑴,其中 〇 Y係CVC^2伸烷基、伸丁烯基、伸丁炔基,或以非連續之 0-或-NR2·中斷一或多次之cVCi2伸烷基,或Y係伸笨基 、伸環己基、
5 Ri 係選自 0H、SH、NR3R4、-(CO)-OH、-(CO)-NH2、S03H 、-C(R5)=CR6R7、環氧乙烷基、-〇-(c〇)-NH-R8-NCO 及 (CO)-R9-(CO)-X 之反應基; 係氫、烷基或c2-c4羥基烷基; R3及R4每一者個別係氫,CVC4烷基或c2-c4羥基烷基; 10 r5,r6及r7每一者個別係氫或甲基; r8係線性或分支狀之c4-c12伸烷基,伸苯基,曱基-伸苯基, 環己烷二基,異佛爾酮二基, ~〇-ch^O~ , -〇-chhQ-,
15 ^ch2)6~n-c-n-c-n-(ch2)6-n=c=o : (ch2)6 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 200305582 玖、發明說明
ίϊ N
ίϊ N ^CH2)6~N~C-N-C-N--(CH2)rN-C-(OCH2CH2)jO-C-C-··^^ (ch2)6 Ο卜/(ch2)6— —(CH2)rN >=0 tN、 0 (CH2)rN=C=0
Vn/CH2)6_ -(CH2)g-N ^=0 ii
O 或 0 (CH2)rN—C—(OCH2CH2)2〇-C-C- o
X •(CWrN^N—(CH2)r
If o R9係線性或分支狀之CVCidt烧基,-CH=C:Il· _〇Ή=(:Ιί» CH2_,cv伸環烷基,伸苯基,伸萘基,降冰片稀-5,6_二基, 介 CO-X, co-x, ~CH—C一 或 CH, 一CHr-C— ·且 2 II ’ & CH2 X,Xi 及 X2 每一者個別係 OH,ci,och3 或 〇c2H5。 10 化學式I之化合物之特性係其内之R!基係反應性基。 ”反應性基”於此内容中需瞭解係能與欲被聚合之配方物反 應且因而穩固於此配方物内之基。光起始劑之泳移因而被 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 200305582 玖、發明說明 降低。 crc:4烷基係線性或分支狀,且係甲基、乙基、丙基、 異丙基、正丁基、第二丁基或第三丁基。 C2_C4羥基烷基係以一或多個〇H基取代之c2_C4烷基 ,烷基係如上定義且具相對應之碳原子數。例子係羥基乙 基、二羥基丙基、羥基丙基及二羥基乙基,特別是羥基乙 基0 10
CrCi2伸烷基係線性或分支狀之伸烷基,例如,伸丙 基、伸異丙基、伸正丁基、伸第二丁基、伸第三丁基、伸 苯基、伸己基、伸庚基、伸辛基、伸壬基、伸癸基、 伸十二烷基 —CH 一 I 5 0”Η23 —〒H-CH2-, —-CH-(CH2)2- 5 ch3 ch3 一〒h-(ch2)3-,_(:((:Ιί3)2-(:ΙΙ2-或 ch3 c2h5 -CH—C-CH2-ch3 o 以非連續之-〇-或-NR^間斷一或多次之C4_C12伸烷基 產生諸如-CH2CH2-0-CH2CH2-,-[CH2CH20]y-(其中 y = 2_9), 15 -(CH2CH2〇)5CH2CH2-, ~^^2^CH(C}i3)-〇-Cli2-C}i(C¥L3)-. CH2CH2-(NR2)-CH2CH2-之結構單元。 Ο 環氧乙烧基係—c—ch2 Η 0 c6-伸環烷基係一或一。 較佳之化學式I之化合物係其中 13續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 9 200305582 玖、發明說明 Y 係-CH2-CH(CH3K 伸正丙基,-CH2C(CH3)2CH2-,伸 己基,-(:Η2(:Η2-0_(:Η2(:Η2_,-(ch2ch2-o)2ch2ch2-,
.叶或
其中心係OH之化學式I之化合物係特別愛好。 特別愛好者係其中h係OH且Y係_CH2CH2-0-CH2CH2-之化合物。 亦愛好(更特別)之化學式I之可併納之光起始劑係其中 Y係以非連續之-〇-間斷一或多次之C4-C12伸烧基;
Ri係OH,環氧乙烷基及-〇-(c〇)-NH-R8-NCO之反應性 10 基;且 r8 係
^οη2)6~ν·~〇·ν-ο-ν--(〇η2)γν=ο=ο (9Η2)β
(CH2)-N=c=0 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 10 200305582 玖、發明說明
Vn/CH2)6~ 或 —(CH2)rN\ )=〇 (CH2)rN—c—(〇CH2CH2)j〇-C-C- ο 〇 •(〇Η2)ΓΝγΝ - (CH2)6- 〇 I·本發明之化學式丨之化合物可,例如,藉由於催化劑 存在中使二元醇(藉此,其中R1=0H之化學式!之化合物 被獲得)或官能化之0H_Y_Ri(A)與苯基乙醛酸單酯(B)(例如 ,相對應之甲基酯)反應而製得: 〇- 0 0 • I II c-c-o-ch3 + HO-Y-Rt 催化劑 -► Δ 真空 Ο- (B) (A) 0 0 Μ Μ C-C-0-Y-R, 0) 其中’ Ri係如上所定義。 可使用作為催化劑係,例如,熟習此項技藝者所熟悉 10 之用於轉酯化反應之催化劑,例如,二丁基錫氧化物或對-曱苯磺酸。某些催化劑雖然適於完成此反應,但造成產物 變色或係有毐,或係難以自反應混合物移除。 適當催化劑包含乙酸鈉、乙酸鉀、乙酸鎂、乙酸鋇、 乙酸鋅、乙酸鎘、乙酸銅(II)、乙酸鈷(II)、乙酸鋁、氧化 15 鈣、甲醇鋰、甲醇鈉、四異丙醇鈦、三異丙醇鋁、第三丁 醇鋰、4·(二曱基胺基)吡啶及二乙酸二丁酯(=Fascat 4200)[ 所列乙酸酯之催化作用係與結晶化作用之水含量無關]。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 11 200305582 玖、發明說明 特別適合係,例如,各種裡鹽,例如,異丙醇鐘、乙 酸鋰、碳酸鋰。乙酸鋰及氧化鈣係較佳。乙酸鋰係特別適 於在製備其中R1=〇H之化學式I之化合物作為催化劑。 催化劑含量係,例如,0.1至20莫耳%(以乙醛酸酯組 5 份(B)為基準計),但即使更大之含量於無不利影響反應過 程下可被使用。較佳地,4莫耳%之催化劑被使用。
有利地,過量之醇(A)被添加,且反應期間形成之甲醇 藉由施用減壓(約5至300托耳)而蒸餾掉。此反應可於一 般壓力或真空完成,形成之特殊醇於每一情況係被蒸餾掉 10 。適當壓力係0.001毫巴至1000亳巴,較佳係5至10毫 巴。所用之二甘醇含量可為,例如,1當量至100當量, 其係以苯基乙醛酸甲基酯(1當量)為基準計;較佳地,10 當量被使用。此反應之溫度可為20°c至180°c。反應較佳 係於40至120°C(特別係50至60°C)完成。例如,任何較 15 低之酯可被作為乙醛酸組份(B)(甲基、乙基、正丙基、異 丙基、正丁基、異丁基或第二丁基之酯等)。反應時間一般 係2至80小時,較佳係10至20小時。作為轉酯化反應之 溶劑可被使用,例如,芳香族溶劑,諸如,苯、甲苯、枯 烯、鄰-、間-或對-二甲苯或其等之異構混合物,但亦可使 20 用醚類,諸如,二乙基醚、二異丙基醚、丁基甲基醚、第 三丁基曱基醚、1,4-二噁烷、四氫呋喃等,亦可為具有高 於70°C沸點之烴。較佳地,反應係於未添加溶劑下完成。 完工(working up)係,例如,藉由以水清洗反應混合物 而完成(移除催化劑及未反應之二甘醇);乾燥係藉由,例 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 12 200305582 玖、發明說明 如,添加與水形成共沸混合物之溶劑(例如,甲苯)及藉由 共沸蒸餾而完成。反應中形成之任何二甘醇二酯係藉由使 用自苯、甲苯、枯烯、鄰-、間·或對-二甲苯或其等之異構 物及/或二乙基醚、二異丙基醚、丁基甲基醚、第三丁基曱 5 基醚、1,4-二噁烷等系列之適當有機溶劑之萃取作用而移 除。 再者,完工亦可藉由,例如,柱式色譜分析術完成(移 除非所欲之副產物)。用於洗提之較佳洗提液混合物係乙酸 乙酯/己烷或其它烴(庚烷、石油醚等)。乙酸乙酯對烴之比 10 例可為90:10至30:70,且較佳係50:50。 II.獲得本發明化合物之進一步可能方法包含苯基乙醛 酸鹵化物(C)(較佳係苯基乙醛酸氣化物)與醇(A)之鹼催化反 應· ^^-C-C-CI + HO-Y-ft, C-C-0-Y-R, (C) ㈧ ⑴ 15 用於此等反應之鹼係熟習此項技藝者所熟悉。水性鹼 未被使用。適當鹼之例子包含碳酸鹽、三級胺鹼,例如, 三乙基胺,及吡啶。。 IIb.獲得本發明化合物之進一步可能方法包含苯基乙醛 酸(S)與醇之催化反應及二環己基碳二醯亞胺(DCC)之加成 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 13 200305582 玫、發明說明 DCC S化劑’
00 C-C-OH + HO — Y-R, ㈧ (S) III.再者,本發明之化合物可,例如,藉由於催化劑存 在中使醇(A)與相對應苯基乙酸酯(D)反應及其後之氧化反 應而獲得: Ο O-S- C-〇GH3 + HO-Y-Ri Ή2 催化劑 Y-R, (D) (A) 5 ό
0 1 OMC OMC 可作為催化劑係,例如,於i所述者。 氧化步驟可以,例如,/· CTzem· C7^m· C^mm (7外杉,3以或合成及應⑷"PPW, P/5中所述者完 成。 IV.被考量作為製造本發明化學式I之化合物之進一步 方法係,例如,相對應之經羥基取代之乙酸苯酯(E)與醇 (A)反應及其後之氧化反應:
ΟΗ Ο •C —S-ο - CH3 +OH-Y-RJ OH 〇 Y_Ri (Ε) (A) [〇] 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 14 15 200305582 玖、發明說明
0 0 II II C-C~〇~Y-R1 (1)〇 5 免化反應可,例如,依據J· Chem· Soc· Chem· Comm· (1994),1807所遂方法i氚。 V·製造本發明之化學式i之化合物之進一步可能方法 包含苯基羧酸氰化物(F)與醇(A)之酸催化反應:
+ ho-y-Rj h2o^
Or 0 0 II II C-C-〇-Y-R1 (F) (A) (I) 〇 VI·本發明之化學式I之化合物亦可,例如,藉由於 氯化鋁存在中之苯基與二聚之氧基羧酸氣化物(H)之傅列德 爾-克拉夫茨(Friedel-Crafts)反應而獲得: 0 0 0 Μ μ Al^, _ Ο Ο + ci — c-c-o-y-r, AIC丨3, /Π\. Η " 1 ^ ^^-c-c-0-γ-^ (Η) (I)。 15 可使用之催化劑係於傅列德爾-克拉夫茨反應中慣用之 熟習此項技藝者熟悉者,例如,氣化錫、氣化鋅、氯化鋁 、乳化鈦或酸土類(acid earth)。 反應I、lib、III及IV —般可於未使用溶劑藉由使一 反應物(其係液體,例如,醇)作為溶劑而完成。但是,亦 20可使此等反應於惰性溶劑中完成。適當溶劑包含,例如, (發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 15 200305582 玖、發明說明 脂族及芳香族之烴,例如,烷類及烷類混合物、環己烷、 苯、甲苯及二甲苯。當然,此等溶劑之沸點有利地需高於 反應期間形成之醇。 如上列示之其它剩餘合成係於惰性溶劑中有利地完成 5 ;例如,如上例示之溶劑係適合的。
於反應I、III及IV有利係確保反應期間形成之醇自反 應混合物移除。此可藉由,例如,於I所述之蒸餾作用而 完成,若適當,係藉由施用真空而完成。 反應係依據所用之溶劑及起始材料而定於各種不同溫 10 度完成。對於所討探之反應所需之溫度及其它反應條件一 般係已知,且係熟習此項技藝者所熟悉。 反應產物可依據一般慣用之方法(例如,藉由結晶化、 蒸餾、萃取或色譜分析術)分離及純化。
用於合成本發明之化學式I之化合物所需之起始材料 15 之製造一般係已知,且係熟習此項技藝者所熟悉。起始材 料(B)、(C)、(D)及(F)之某些衍生物甚至係,例如,可購得 例如,苯基乙醛酸酯(B)係藉由自苯基及適當氧基羧酸 甲基酯氯化物之傅列德爾-克拉夫茨反應或藉由苯基乙醛酸 20 氯化物(C)與醇之酯化反應而獲得。苯基乙醛酸氣化物(C) 可,例如,藉由適當酸之氣化反應(例如,以S0C12)而獲得 。苯基羧酸氰化物(F)可,例如,藉由適當之酸氯化物與 CuCN之反應而獲得。可,例如,藉由苯基_CH2-CN與甲 醇之酸催化反應製造苯基乙酸甲基酯(D)。此反應係描述於 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 16 200305582 玖、發明說明 ,例如,CW/·篇/滞,270。相對應之苯基-CH2-氰化物可自,例如,相對應氣化物且使用NaCN獲得,例 如,Org. Syn. Coll·第 I 冊,107 及 Org. Syn· Coll·第 IV 冊 ,576所揭示。苯基乙酸乙基酯之合成係描述於,例如, 5 Chem· Soc· Chem· Comm (1969), 515,於此方法,相繁處之 苯基溴化物係於鋰/二乙基醚存在中與N2CH2COOC2H5反應 。另一方法(苯基溴化物與乙酸乙酯及NaH反應)係描述於 ,例如,J. Am. Chem. Soc· (1959)紅,1627。J· Org· Chem· (1968) 21,1675描述苯基溴化物與BrCH2COOC2H5之格里 10 那(Grignard)反應以形成苯基乙酸乙基酯(D)。 醇(A)之製造係熟習此項技藝者所熟悉,且係廣泛描述 於文獻。許多此等化合物係可購得。 其中心係羥基之化學式I之化合物係特別特別愛好。 此等化合物亦可被作為製造化學式I之化合物之起始物料 15 ,其於心係以其它方式官能化。 因此,本發明亦係有關於一種製造如上所界定之化學 式I之化合物(其中,K係OH)之方法,其係藉由化學式ϋ 之苯基乙醛酸單酯 Ο 0 —C—Ο—R (II),其中 20 R係CrC4烷基,特別是甲基或乙基, 與化學式ΙΠ之二元醇反應 HO-Y-OH (III),其中 Y係如上所定義, 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 17 200305582 玖、發明說明 其中,作為催化劑係乙酸裡、乙酸納、乙酸鉀、乙酸鎮、 乙酸鋇、乙酸鋅、乙酸鎘、乙酸銅(II)、乙酸鈷(II)、乙酸 鋁、氧化鈣、甲醇鋰、甲醇鈉、四異丙醇鈦、三異丙醇鋁 、第三丁醇鋰、4-(二甲基胺基)吡啶或二乙酸二丁基錫。 5 有關此反應條件之進一步細節係如上於I所示者。愛 好者係一種其中乙酸鋰作為催化劑之方法,亦係一種其中 反應係於20°C至180°C之溫度完成之方法。較佳地,催化 劑量係0.1至20莫耳%(以化學式(II)之乙醛酸酯為基準計) 〇 10 其中心係OH之化學式I之化合物係可以其本身併納 之光起始劑,但其亦可被用於其它可併納光起始劑之製造 。自化學式1(其中K係OH,其後稱為化學式la)之化合物 衍生之依據本發明之可併納之光起始劑係,例如,自異氰 酸酯及化學式la之化合物衍生之胺基甲酸酯;自氨基甲醯 15 基氣化物及化學式la之化合物衍生之胺基甲酸酯;自硫基 異氰酸酯及化學式la之化合物衍生之硫基胺基曱酸酯;自 酸、酸氣化物、酸酯、酸酐或酞酸酐及化學式la之化合物 衍生之酸酯;自氯曱酸酯及化學式la之化合物衍生之碳酸 酯;自表氣醇及化學式la之化合物衍生之縮水甘油醚及甘 20 油二醚。當化學式la之化合物係少於化學計量之量使用時 ,化學式la之化合物之多價反應同伴物產生本身仍具有可 併納之自由未反應官能性之產物。
有關於此,於製備R!内被官能化(非以OH)之化學式I 之化合物中使用 C6H5-(C0HC0)-0-CH2-CH2-0-CH2-CH2- 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 18 200305582 玖、發明說明 OH作為起始物料係特別愛好。 下列係於製備其它可併納光起始劑中使用化學式之 化合物作為中間物之例子: 〇τΥ、γ, 〇=C=N—RrN=C=〇
ο
Cl·
Cl ο η σ ο ιι C、
ΟΥ、,
α
其中,RS,R9及Υ係如上所界定Q 10
因此,本發明亦係有關使用化學式I(其中心係0H)之 化合物作為製造可併納之光起始劑(其中,&係SH,NR3R -(CO)-OH, -(c〇)-nh2, so3h, -c(r5)=cr6r7, 4, 〇-(c〇)-nh-r8-nco ^-〇-(c〇)-r9.(c〇).x;x R3j R4> R5j
r7,r8,r9a X基係如上所界定)中之起始物料。 15 本發明亦係有關—種製造化學式I之可併納之光起始 劑之方法,其中,化學式K其中心係OH)之化合物與異氟 酸醋、氨基甲醯基氣化物、硫基異氰酸醋、酸氣化物、酸 酯、酸酐、氣甲酸酯或表氣醇反應。 作為自其中Rl係、0H之化學式I之化合物起始製綠 併納之光起始狀反應,物,料別適合者係二異第 醋及寡聚異氰酸S旨,例如,包含六伸甲基二異氛酸醋 嗎次頁(翻麵頁不敷使卿,請註記雌用續頁) 19 ^ 20 200305582 玖、發明說明 1,6-二異氰酸根合己烷、伸甲苯基_2,‘二異氰酸酯、夂甲基 -間-伸苯基二異氰酸酯、2,4-二異氰酸根合-i_甲基_環己烷 、1,3-雙異氰酸根合甲基苯、間-二甲苯二異氰酸酯、— 雙異氰酸根合甲基-環己烷、異佛爾酮二異氰酸酯、5_異氰 5酸根合-1-異氰酸根合甲基-1,1,3-三甲基環己烷、3-異氰酸 根合甲基-3,3,5-三甲基環己基異氰酸醋、二苯基甲烧4,4,_ 二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、雙(4-異氰酸根 合苯基)甲烷、4,4-氧基雙(苯基異氰酸酯)、4,4,_二異氰酸 根合-3,3’_二甲基二苯基曱烷、雙(4-異氰酸根合-3-甲基苯 10基)甲烧、二環己基甲烷4,4、二異氰酸酯、ι,3,5-三(6-異氰 酸根合己基)-[1,3,5]三嘻烧-2,4,6-三酮、1,3,5-三(6-異氰酸 根合己基)縮二脲、N,N,,2-三(6-異氰酸根合己基)亞氨基二 叛酸二醯胺、1,3-雙(6-異氰酸根合己基)_[1,2]二氮雜環丁烧 -2,4-二酮、2,5-2,6-外Λ雙異氰酸根合曱基_降冰片烷、it 15二異氰酸根合_2,2,4-三甲基己烷之技術混合物。相對應之 商業產品係Bayer AG之以,’Desmodur”為名出售。若以異 氰酸酯改質之化學式I之化合物被用於如上所述之可光固 化之組成物’其例如亦有利係使用相對應異氰酸酯樹脂作 為可固化組份。以此方式,光起始劑與欲被固化之配方物 20 之可相容性被增加。 依據本發明’化學式I之化合物可作為乙稀不飽和化 合物或包含此化合物之混合物之光聚合反應之光起始劑。 其使用亦可與不同之光起始劑及/或其它添加劑混合。 因此’本發明亦係有關於可光聚合之組成物,其包含 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 20 200305582 玖、發明說明 (a) 至少一乙烯不飽和之可光聚合之化合物,及 (b) 作為光起始劑之至少一化學式I之化合物, 對此組成物,除組份(b)外,亦可另含有其它光起始劑 5 (c)及/或其它添加劑(d)。 不飽和化合物可含有一或多個烯烴雙鍵。其可為低分 子(單體)或較高分子量(寡聚物)。具有一雙鍵之單體之例子 係烷基及羥基烷基之丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯,例如,曱 基、乙基、丁基、2-乙基己基及2-羥基乙基之丙烯酸酯、 10 丙烯酸異冰片酯及甲基與乙基之甲基丙烯酸酯。亦愛好者 係以矽或氟改質之樹脂,例如,矽酮丙烯酸酯。進一步例 子包含丙烯腈、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-取代之(甲 基)丙烯醯胺、乙烯基酯(諸如,乙酸乙烯酯)、乙烯基醚(諸 如,異丁基乙烯基醚)、苯乙烯、烷基-及鹵基-苯乙烯、N-15 乙烯基吡咯烷酮、氣乙烯及偏氣乙烯。 具有數個雙鍵之單體之例子係乙二醇二丙烯酸酯、丙 二烯二丙烯酸酯、新戊基二醇二丙烯酸酯、六伸甲基二醇 二丙烯酸酯及雙酚A二丙烯酸酯、4,4’-雙(2-丙烯醯基氧基 乙氧基)二苯基丙烷、三甲基醇丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇 20 三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯、丙烯酸乙烯酯、二乙 烯基苯、琥珀酸二乙烯酯、酞酸二烯丙酯、磷酸三烯丙酯 、異氰脲酸三烯丙酯及三(2-丙烯醯基乙基)異氰脲酸酯。 較高分子量(寡聚物)聚不飽和化合物之例子係丙烯酸 酯化之環氧樹脂、丙烯酸酯化或含乙烯基-醚或環氧基之聚 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 21 200305582 玖、發明說明
酯、聚胺基甲酸酯及聚醚。不飽和寡聚物之進一步例子係 不飽和之聚酯樹脂,其一般係自馬來酸、酞酸及一或多者 之二元醇製得,且具有約500至3000之分子量。此外,亦 可使用乙烯基醚之單體及寡聚物,及具有聚酯、聚胺基甲 5 酸酯、聚醚、聚乙烯基醚及環氧化物主鏈之以馬來酸酯封 端之寡聚物。承載著乙烯基醚基之寡聚物及聚合物之組合 物(如WO 90/01512所述)係特別適合,但以馬來酸及乙烯 基醚官能化之單體之共聚物亦被考量。適當之不飽和寡聚 物亦稱為預聚物。 10 特別適合係,例如,乙烯不飽和羧酸及多元醇或聚環
氧化物之酯,及於鏈中或於側基中具有乙烯不飽和基之聚 合物,例如,不飽和之聚酯、聚醯胺及聚胺基甲酸酯及其 共聚物、醇酸樹脂、聚丁二烯及丁二烯共聚物、聚異戊間 二烯及異戊間二烯共聚物、於側鏈中具有(甲基)丙烯基之 15 聚合物及共聚物,及一或多種此等聚合物之混合物。 不飽和羧酸之例子係丙烯酸、曱基丙烯酸、巴豆酸、 衣康酸、桂皮酸及不飽和脂肪酸,諸如,亞麻酸或油酸。 丙烯酸及甲基丙烯酸係較佳。 適當之多元醇係芳香族,且特別係脂族及環脂族之多 20 元醇。芳香族多元醇之例子係氫醌、4,4’-二羥基聯苯、 2,2-二(4-羥基苯基)-丙烷及諾沃拉克樹脂及甲階酚醛樹脂。 聚環氧化物之例子係以該等多元醇(特別係芳香族多元醇及 表氯醇)為主者。亦適於作為多元醇係於聚合物鏈或側基内 含有羥基之聚合物及共聚物,例如,聚乙烯基醇及其共聚 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 22 200305582 玖、發明說明 物或聚甲基丙烯酸羥基烷基酯或其共聚物。進一步適合之 多元醇係具有羥基端基之募聚酯。 脂族及環脂族之多元醇之例子包含具有較佳係2至 12個碳原子之伸烷基二醇,諸如,乙二醇、丨,2-或丨%丙 5烧二醇、H、丨,3·或込4-丁烷二醇、戊烷二醇、己烷二醇 、辛烷二醇、十二烷二醇、二甘醇、三伸乙基二醇、具有 較佳係200至1500分子量之聚乙二醇、丨,3_環戊烷二醇、 1,2-、1,3-或1,4-環己烧二醇、1,4-二經基甲基環己烧、甘 油、三(石-羥基乙基)胺、三甲基醇乙烷、三甲基醇丙烷、 10 季戊四醇、二季戊四醇及山梨糖醇。 多元醇可以一或不同之不飽和羧酸部份或完全地酯化 ,於部份酯中之自由羥基可被改質,例如,醚化,或以其 它羧酸酯化。 酯之例子係: 15 二甲基醇丙烧三丙稀酸酯、三甲基醇乙烧三丙稀酸酯 、二甲基醇丙烧三甲基丙稀酸酯、三甲基醇乙烧三曱基丙 烯酸醋、四伸曱基二醇二甲基丙烯酸酯、三伸乙基二醇二 甲基丙烯酸酯、四伸乙基二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙 烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二 2〇 季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四 醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙 烯酸酿、三季戊四醇八丙烯酸酯、季戊四醇二曱基丙烯酸 醋、季戊四醇三甲基丙嫦酸g旨、二季戊四醇二甲基丙婦酸 酯、二季戊四醇四曱基丙烯酸酯、三季戊四醇八曱基丙烯 0續額(翻麵頁不驗騰,雛記並麵續頁) 200305582 玖、發明說明 酸醋、季細醇二衣康酸自旨、二季戊四醇三衣康酸醋、二 季戊四醇五衣康酸醋、二季戊四醇六衣康酸醋、乙二醇二 丙稀酸醋、u-丁院二醇二丙烯酸醋、以丁院二醇二甲基 丙稀酸醋、Μ· 丁烧二醇二衣康酸醋、山梨糖醇三丙婦酸 5醋、山梨糖醇四丙稀酸醋、季戊四醇改質之三丙稀酸醋、 山梨糖醇四甲基丙烯酸醋、山梨糖醇五丙婦酸醋、山梨糖 醇六丙烯酸酯、寡聚酯丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯、甘油之 二丙烯酸醋及三丙烯酸醋、Μ環己烧二丙烯酸醋、具2〇〇 至1500分子量之聚乙二醇之雙丙烯酸酯及雙甲基丙烯酸酯 10 ,或其等之混合物。 亦適於作為組份(a)者係相同或不同之不飽和羧酸與較 佳具有2至6(特別是2至4)胺基之芳香族、環脂族及脂族 之1胺所成之酿胺。此等聚胺之例子係乙二胺、1,2_或1,3_ 丙二胺、1,2-、1,3-或 1,4-丁二胺、1,5-戊二胺、己二胺 15 、辛二胺、十二碳二胺、1,4-二胺基環己烷、異佛爾酮二 胺、苯二胺、雙伸苯基二胺、二-胺基乙基醚、二伸乙 基三胺、三伸乙基四胺、二(点-胺基乙氧基)·或二(石_胺基 丙氧基)乙烷。進一步適合之聚胺係於侧鏈具有額外胺基之 聚合物及共聚物及具胺基端基之寡聚醯胺。此等不飽和醯 20 胺之例子係:伸曱基雙丙烯醯胺、1,6-六伸曱基雙丙烯醯 胺、二伸乙基三胺三甲基丙烯醯胺、雙(甲基丙烯醯胺基丙 氧基)乙烷、点-曱基丙烯醯胺基乙基甲基丙烯酸酯及N[(冷 -羥基乙氧基)乙基]丙烯醯胺。 適當不飽和聚酯及聚醯胺係衍生自,例如,馬來酸及 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 200305582 玖、發明說明 二元醇或二胺。馬來酸可以其它二羧酸部份替代。其可與 乙烯不飽和共單體(例如,苯乙烯)一起使用。聚酯及聚醯 胺亦可衍生自二羧酸及乙烯不飽和二元醇或二胺,特別是 衍生自具例如6至20個碳原子之較長鏈者。聚胺基曱酸酯 5 之例子係由飽和二異氰酸酯及不飽和二元醇或不飽和二異 氰酸酯及飽和二元醇組成者。 聚丁二烯及聚異戊間二烯及其共聚物係已知。適當之 共單體包含,例如,烯基,諸如’乙烯、丙烯、丁烯及己 烯、(甲基)丙烯酸酯、丙烯蹌、笨乙烯及氯乙烯。於侧鏈 10 具有(甲基)丙烯酸酯基之聚合物同樣係已知。例子係以諾 沃拉克樹脂為主之環氧樹脂與(甲基)丙烯酸之反應產物; 已以(甲基)丙烯酸酯酯化之乙烯基醇或其羥基烷基衍生物 之同聚合物或共聚物;及已以羥基烷基(甲基)丙烯酸酯酯 化之(甲基)丙烯酸酯之同聚物及共聚物。 15 適合之組份(a)亦包含已藉由與一級或二級胺改質之丙
烯酸酯,例如,US 3 844 916, EP 280 222, US 5 482 649 或 US 5 734 002所述。此等以胺改質之丙烯酸酯亦稱為胺基 丙烯酸酯。胺基丙烯酸酯可以,例如,UCB Chemicals之 商品名 rtmEBECRYL 80、rtmEBECRYL 81、RTMEBECRYL 20 83、rtmEBECRYL 7100,BASF 之商品名 RTMLaromer PO 83F、RTMLaromer PO 84F、RTMLaromer PO 94F,Cognis 之 商品名 rtmPHOTOMER 4775 F、rtmPHOTOMER 4967 F 或 Cray Valley 之商品名 RTMCN501、RTMCN503、RTMCN550 獲 得。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 25 200305582 玖、發明說明 可光聚合之化合物亦可以其本身或以任何所欲混合物 而使用。較佳地,多元醇(甲基)丙烯酸酯之混合物被使用 Ο 黏合劑亦可被添加至依據本發明之組成物,此於可光 5聚合之化合物係液體或黏稠性物質時特別有利。黏合劑之 量可為,例如,5至95重量%,較佳係1〇至9〇重量%且 特別是40至90重量%,其係以總固體重量為基準計。黏 合劑之選擇係依據使用領域及其所需性質而為之,諸如, 於水性及有機溶劑系統内之可發展性、對基材之黏著性及 10 對氧之敏感性。 適當黏合劑係,例如,具有約5〇〇〇至2〇〇〇〇〇〇(較佳係 1〇〇〇〇至1〇〇〇〇〇〇)之分子量之聚合物。例子係:丙稀酸醋 及甲基丙烯酸酯之同聚物及共聚物,例如,甲基丙烯酸甲 酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸之共聚物、聚(曱基丙烯酸烷基 15酯)、聚(丙烯酸烷基酯);纖維素酯及醚,諸如,纖維素乙 酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯、甲基纖維素、乙基纖維素; 聚乙烯丁縮醛、聚乙烯基甲縮醛、環化橡膠、聚醚,諸如 ,聚環氧乙烷、聚環氧丙烷、聚四氫呋喃;聚苯乙烯、聚 碳酸S曰、聚胺基甲酸g旨、氣化之聚稀烴、聚氣乙婦、氣乙 20烯/偏氯乙烯之共聚物、偏氣乙烯與丙烯腈、甲基丙烯酸甲 酯及乙酸乙烯酯之共聚物、聚乙酸乙烯酯、共聚(乙烯/乙 酸乙烯酯)。諸如聚己内醯胺及聚(六伸甲基己二醯胺)之聚 合物、諸如聚(乙二醇對苯二甲酸酯)及聚(六伸甲基二醇琥 珀酸酯)之聚合物。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 26 200305582 玖、發明說明 不飽和化合物亦可與非可光聚合之形成膜之組份混合 使用。此等可為,例如,物理乾燥之聚合物或其於有機溶 劑内之溶液,例如,硝基纖維素或纖維素乙醯基丁酯,但 其亦可為化學或熱可固化之樹脂,例如,聚異氰酸酯、聚 5 環氧化物或蜜胺樹脂。熱可固化樹脂之伴隨使用對於用於 所謂之混合式系統係重要,其於第一步驟係被光聚合,且 於第二步驟係藉由熱後處理交聯。 依據本發明之光起始劑亦適於作為固化系統之起始劑 ,其係氧化式乾燥,諸如,Lehrbuch der Lacke und 10 Beschichtungen 第 III 冊,296-328,Verlag W.A· Colomb in der Heenemann GmbH,Berlin-Oberschwandorf (1976)所述0 依據本發明之化合物(例如,其中心係OH之化學式I 之化合物)亦係特別適於作為混合式黏合劑系統之光起始劑 。此等系統一般包含至少一熱固化組份及一光化學固化組 15 份。熱固化組份一般係二組份或多組份之反應性樹脂,較 佳係多元醇/聚異氰酸酯。考量作為光化學固化組份者係對 此目的慣用之所有單體、寡聚或聚合之不飽和化合物及其 混合物,其聚合反應或交聯反應係藉由高能輻射及藉由光 起始劑輔助而產生。此等化合物係於上詳細描述。適當例 20 子亦包含如上所述’’Desmodur系列”之異氰酸酯。熱/光化 學之混合式系統可藉由使所有組份混合在一起而獲得,異 氰酸酯組份有利地係於使用前不久時添加,如形成聚胺基 甲酸酯之反應樹脂所慣用般,以避免熱聚合組份過早完全 固化。為了以此等混合式系統製得之塗覆物完全固化,塗 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 27 200305582 玖、發明說明 覆物係首先以可輻射固化之系統所慣用之方式照射,其間 層狀物之快速表面乾燥及起始固化被達成。最後固化狀態 係於熱反應(其亦可藉由加熱而加速)完成時達成。但是, 亦可使固化作用先以加熱及後以紫外線而完成。與以純醉 5熱反應性樹脂為主之緩慢乾燥系統相比,此等系統之優點 係相當節省時間及能量;亦可使經塗覆之物件立即被堆疊 或更快速地進一步加工處理。 於混合式黏合劑系統中使用依據本發明之光起始劑之 優點係不同於傳統光起始劑之情況,於最後完全固化之聚 10合物材料中係實質上無檢測出光起始劑殘質或其光分解產 物。因此,聚合物產物展現更大之最後硬度;藉由起始劑 造成之不利作用之影響(諸如,臭味或變黃)係較少。由於 OH基,依據本發明之光起始劑之共價併納於聚合物材料 内係藉由與混合式黏合劑系統内之熱固化組份之等量異氰 15 酸酯而產生。 因此’本發明亦係有關於如上所述之組成物,其除包 含光化學固化組份及組份(b)與,若適當的話,(c)及(句外 ,亦包含可熱固化之組份。 其中R!係OH之化學式I之化合物可於完全之可輻射 20固化之系統及於混合式系統中藉由與含羧酸基之組份酯化 而共 <貝地固疋。此等組份之例子包含,例如,對苯二甲酸 、均苯四酸及其酐,及自此等化合物衍生且仍含有至少一 自油之羧酸官能性之其募聚物或聚合物。 可光聚合之混合物除光起始劑外亦可含有各種添加劑 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 28 200305582 玖、發明說明 (d)。其例子係熱抑制劑,其係用以避免過早之聚合反應, 例如,氫醌、氫醌衍生物、對-曱氧基酚、点―萘酚或位阻 紛’例如’ 2,6-二(第三丁基>對_甲酚。為增加暗儲存安定 性,可使用,例如,銅化合物(諸如,銅之環烷酸鹽、硬脂 5酸鹽或辛酸鹽)、璘化合物(例如,三苯基膦、三丁基膦、 二乙基亞磷酸鹽、三苯基亞磷酸鹽或三苯曱基亞磷酸鹽)、 四級銨化合物(例如,四甲基銨氣化物或三甲基苯曱基銨氯 化物)或羥基胺衍生物(例如,二乙基羥基胺)。為排除聚 合反應期間之大氣氧,可添加石蠛或相似之蠟狀物質,其 10係不溶於聚合物,於聚合反應開始時泳移至表面且形成避 免空氣進入之透明表面層。相等可能係塗敷不透氧之層狀 物。作為光安定劑,可添加紫外線吸收劑,例如,羥基苯 基苯并三唑、羥基苯基苯醯苯、草酸醯胺或羥基苯基_s_三 嗉型式者。此等化合物可以其本身或以混合物型式(使用或 未使用位阻胺(HALS))使用。 下列係此等紫外線吸收劑及光安定劑之例子·· 基苯基)-苯并三碎,例如,2-(2,-羥基-5,-甲基苯 基)苯并三唑、2·(3,,5,-二-第三丁基_2,_羥基苯基)苯并三唑 、2-(5’-第三丁基-2,-羥基苯基)苯并三唑、2_(2、羥基_5,_ 20 (m3-四甲基丁基)苯基)苯并三唾、2_(3,,5,_二_第^:丁美 -2’-羥基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3,-第三丁基_2、羥基巧,· 甲基苯基)·5-氯苯并三唑、2-(3,-第二丁基_5,_第三丁基_2,_ 羥基苯基)苯并三唑、2-(2,-羥基·4,_辛基氧苯基)苯并三唑 、2-(3’,5’-二-第三戊基-2’-羥基苯基)苯并三唑、2_(3,,5,_ _次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 29 / 200305582 玖、發明說明 雙(α,α-二甲基苯甲基)-2’-羥基苯基)苯并三唑、第 三丁基-2,-羥基-5,-(2-辛基氧羰基乙基)苯基氣苯并三 峻、2_(3’_第三丁基-5’-[2-(2-乙基己氧基)_羰基乙基]_2,遍 基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3,-第三丁基_2,_羥基-5,-(2-甲 5氧基羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、2(3,·第三丁基-2、經 基-5’-(2-曱氧基幾基乙基)苯基)-苯并三σ坐、2-(3,-第三丁 基·2 -經基-5 -(2 -辛氧基幾基乙基)苯基)_苯并三咬、2-(3,_ 第三丁基-5’-[2-(2-乙基己氧基)-羰基乙基]_2,_羥基笨基)_ 苯并三唑、2-(3’-十二烷基-2,-羥基-5,-甲基苯基)-苯并三 10唑及2-(3’-第三丁基-2,-羥基-5,-(2-異辛基氧羰基乙基)苯 基苯并三唑之混合物、2,2,-伸甲基-雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁 基)-6-苯并三唑-2-基·酚];2-[3,-第三丁基-5,-(2-甲氧基羰 基乙基)-2’-羥基-苯基]•苯并三唑與聚乙二醇3〇〇之轉酯化 產物;[R-CH2CH2-COO(CH2)3]2-其中 R=3,-第三丁基-4,-經 15 基-5’-2H-苯并三唑-2-基-苯基。 I· 2-經基苯醢苯’諸如,4_經基、4-甲氧基、4-辛氧基、 4-癸氧基、4-十二烷氧基、4-苯甲氧基、4,2,,4,-三羥基及 2’-羥基-4,4’-二甲氧基之衍生物。 未被取代或經取代之笨甲醢之酷,諸如,4-第三丁基-20苯基水楊酸酯、苯基水揚酸酯、辛基苯基水揚酸酯、二苯 曱醯基間苯二酚、雙(4-第三丁基苯甲醯基)間苯二酚、苯 甲醯基間苯二酚、3,5·二第三丁基_4_羥基苯甲酸2,4-二-第二丁基本基醋、二·第三丁基-4-經基苯甲酸十六基醋 、3,5-二-第三丁基-4-羥基苯曱酸十八烷基酯及3,5_二-第 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 30 200305582 玖、發明說明 二丁基-4-羥基苯甲酸2-甲基_4,6-二-第三丁基苯基酯。 L丙烯酸J1,諸如,氰基-点,万-二苯基丙烯酸之乙基 酯或異辛基酯、α _甲氧基-羰基桂皮酸甲基酯、“ _氰基_ 石-甲基-對-曱氧基桂皮酸之曱基酯或丁基酯、α_甲氧基 5羧基-對-曱氧基桂皮酸甲基酯及Ν-(/3-甲氧基_羰基-沒-氰 基乙烯基)-2·曱基·弓丨嘌滿。 位阻胺-,例如,雙(2,2,6,6·四甲基哌啶基)癸二酸酯、雙 (2,2,6,6-四甲基哌啶基)琥珀酸酯、雙…,^^卜五甲基哌 啶基)癸二酸酯、正丁基_3,5_二_第三丁基_4•羥基苯甲基_ 10丙二酸雙(1,2,2,6,6_五甲基哌啶基)酯、1_羥基乙基_2,2,6,6· 四甲基-4-羥基π底咬及號珀酸之縮合產物、Ν,Ν,·雙(2,2,6,6· 四甲基-4-哌啶基)六伸甲基二胺與4·第三辛基胺基·2,6-二 氣-l,3,5-s-三嗪之縮合產物、三(2,2,6,6_四甲基_4_哌啶基) 氮川二乙酸酯、四(2,2,6,6-四甲基)-4-哌啶基)-i,2,3,4-丁烷 15四®曰、I,1 -(L2-乙烧二基)-雙(3,3,5,5-四甲基-派嘻酮)、4_ 苯甲醯基-2,2,6,6·四甲基哌啶、4-硬脂氧基_2,2,6,6-四甲基 旅咬、雙(1,2,2,6,6-五甲基旅咬基)-2-正丁基_2-(2-經基· 3,5-一-第二丁基苯甲基)丙二酸酉旨、3_正辛基_7,7,9,9_四甲 基-1,3,8_三氮雜螺旋[4,5]癸烷_2,4-二酮、雙(1-辛氧基_ 20 2,2,6,6-四甲基哌啶基)癸二酸酯、雙(1-辛氧基_2,2,6,6-四 甲基哌啶基)琥珀酸酯、Ν,Ν’-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基) 六伸甲基二胺與4-嗎啉代-2,6-二氣-1,3,5-三嗪之縮合產物 、2•氯·4,6-二(4_正丁基胺基_2,2,6,6_四甲基哌啶基)_l,3,5-三嘻與l,2-雙(3-胺基丙基胺基)乙烷之縮合產物、2_氣- |3續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 31 200305582 玖、發明說明 4,6-二⑷正丁基胺基-1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-i,3,5-三嗪 與1,2-雙(3-胺基丙基胺基)乙烷之縮合產物、8-乙醯基_3_ 十二烧基-7,7,9,9_四甲基_1,3,8_三氮雜螺旋[4.5]癸烷-2,4· 一 SH 3-十一烧基-1-(2,2,6,6-四甲基-4-旅唆基户比嘻烧嗣- 5 2,5-一_、3-十二烧基-1-(1,2,2,6,6-五甲基-4-旅淀基)』比洛 烧_2,5_二_、2,4-雙[N-(l-環己基氧-2,2,6,6·四甲基哌啶-4-基)-Ν-丁基胺基]_6_(2_經基乙基)胺基_ι,3,5_三嗔、2,4-雙 [N-(l-環己基氧-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)丁基胺基]-6-氣-s-三嗪及Ν,Ν,-雙(3-胺基丙基)乙二胺之縮合產物。 10 6.草酸二酿脸,例如,4,4’-二辛氧基-草醯替苯胺、2,2,- 二乙氧基-草醯替苯胺、2,2,-二辛氧基-5,5,-二-第三丁基草 醯替苯胺、2,2,-二(十二烷氧基)-5,5,-二-第三丁基草醯替 苯胺、2_乙氧基-2’-乙基-草醯替苯胺、ν,Ν,-雙(3-二甲基 胺基丙基)草醯胺、2-乙氧基-5-第三丁基-2,-乙基草醯替苯 15胺及其與2-乙氧基-2’-乙基-5,4’-二-第三丁基草醯替苯胺 之混合物及鄰-及對-甲氧基-與鄰-及對-乙氧基_二取代之草 醯替苯胺之混合物。 7· 2-(2-經基苯基)-1,3,5-三嗓,諸如,2,4,6-三(2-經基-4-辛 氧基苯基-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-辛氧基苯基)_4,6_雙 20 (2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗓、2·(2,4-二經基苯基)_4,6-雙 (2,4-二曱基苯基)-1,3,5-三嘻、2,4-雙(2-羥基-4-丙氧基-笨 基)·6·(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-經基·4·辛氧基苯 基)·4,6-雙(4-甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基·4·十二燒氧 基苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗓、2_[2-經基·4_ 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 32 200305582 玖、發明說明 (2-經基-3-丁氧基_丙氧基)苯基]_4,6_雙(2,4-二甲基苯基)_ 1,3,5_三嗪、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3-辛氧基-丙氧基)苯基]_ 4,6-雙(2,4-二甲基苯基)三嗪及2_[4-十二烷氧基/十 二烧氧基-(2-經基丙基)氧_2_經基-苯基]-4,6-雙(2,4-二曱基 5 苯基)-1,3,5-三嗪。 亞磷酸鹽及亞膦酸鹽,諸如,三苯基亞磷酸鹽、二苯基 烷基亞磷酸鹽、苯基二烷基亞磷酸鹽、三(壬基苯基)亞磷 酸鹽、三月桂基亞磷酸鹽、三(十八烷基)亞磷酸鹽、二硬 脂基·季戊四醇二亞磷酸鹽、三-(2,4-二-第三丁基苯基)亞磷 10 酸鹽、二異癸基季戊四醇二亞磷酸鹽、雙-(2,4-二-第三丁 基苯基)季戊四醇二亞磷酸鹽、雙-(2,6-二-第三丁基甲基 苯基)季戊四醇二亞磷酸鹽、雙-異癸基氧-季戊四醇二亞磷 酸鹽、雙(2,4-二-第三丁基-6-甲基苯基)季戊四醇二亞磷酸 鹽、雙-(2,4,6-三-第三丁基苯基)-季戊四醇二亞磷酸鹽、三 15 硬脂基山梨糖醇三亞磷酸鹽、四(2,4-二-第三丁基苯基)-4,4’-雙伸苯基二亞膦酸鹽、異辛氧基_2,4,8,1〇-四-第三丁 基-12H-二苯并[d,g]-l,3,2-: °惡罐雜環(dioxaphosphocine)、 6-氟-2,4,8,10-四-第三丁基-12_ 曱基-二苯并[d,g]-l,3,2-二噁 磷雜環、雙(2,4-二-第三丁基-6-曱基苯基)甲基亞磷酸鹽及 20 雙(2,4-二-第三丁基-6·甲基苯基)乙基亞磷酸鹽。 適於作為組份(d)之紫外線吸收劑及光安定劑之進一步 例子係”Krypto-UVA”,例如於EP 180 548所述。亦可使用 潛紫外線吸收劑,例如,Hida等人於RadTech Asia 97, 1997,於212頁所述。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 33 200305582 玖、發明說明 此外,此技藝慣用之添加劑(例如,抗靜電劑、流動改 質劑及黏著促進劑)可被使用。
大量的胺可作為進一步添加劑(d)以加速光聚合反應, 例如,三乙醇胺、N-甲基-二乙醇胺、對-二甲基胺基苯甲 5 酸乙基酯或Michler酮。胺之作用可藉由添加,例如,苯 醯苯型之芳香族酮而促進。適於作為氧補獲劑之胺係,例 如,經取代之N,N-二烷基苯胺,如EP 339 841所述。進一 步之加速劑、共起始劑及自動氧化劑係硫醇、硫醚、二硫 化物及膦,例如,EP 438 123及GB 2 180 358所述。亦可 10 添加至依據本發明之組成物係此項技藝慣用之鏈增長劑。 例子包含硫醇、胺及苯并噻唑。再者,光聚合反應可藉由 添加作為進一步添加劑(d)之光敏劑(其使光譜感應性位移或 加寬)而加速。此等係特別包含芳香族羰基化合物,例如, 苯醯苯衍生物、噻噸酮衍生物(亦特別係異丙基噻噸酮)、 15 蒽醌衍生物及3-醯基香豆素衍生物、聯三苯、苯乙烯基酮 及3-(芳醯基伸曱基)-噻唑啉、樟腦醌及曙紅、若丹明及赤 蘚紅鈉鹽染料。 亦可考量作為光敏劑係,例如,上述之胺。 此等光敏劑之進一步例子係 20 1.噻噸酮 11 塞11镇酮、2-異丙基嗔嘲酮、3-異丙基17塞頓酮、2_氯嗟 噸酮、2_十二烷基噻噸酮、1-氣-4-丙氧基噻噸酮、2,4-二 乙基噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、1_甲氧基羰基噻噸酮、 2-乙氧基羰基噻噸酮、3-(2-甲氧基乙氧基羰基)-噻噸酮、 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 34 200305582 玖、發明說明 ‘丁氧基羰基噻噸酮、弘丁氧基羰基-7_甲基噻噸酮、^氰 基氣噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-氣噻噸酮、1-乙氧基羰基 -3-乙氧基噻噸_、丨_乙氧基羰基_3-胺基噻噸酮、丨_乙氧基 罗炭基笨基硫醯基噻噸酮、3,4-二-[2-(2-甲氧基乙氧基)乙 5氧基羰基]_噻噸_、1·乙氧基羰基-3-(1-甲基-1-嗎啉基乙基 >噻噸酮、2_曱基-6-二甲氧基甲基-噻噸酮、2-甲基-6-(l,l-一甲氧基苯甲基)·嗟嘲酮、2-嗎琳代甲基噻噸酮、2·甲基-6_嗎啉代甲基噻噸酮' N-烯丙基噻噸酮-3,4-二羧醯亞胺、 N-辛基嘍噸__3,4-二羧醯亞胺、四甲基丁基)_ 10噻噸酮二羧醯亞胺、1-苯氧基噻噸酮、6-乙氧基羰基_ 2-甲氧基噻噸酮、6_乙氧基羰基甲基噻噸酮、噻噸酮_2_ 聚乙二醇酯、2-羥基-3-(3,4-二甲基-9-氧代-9H-噻噸酮-2-基氧)-N,N,N_三甲基-1-丙烧銨氣化物。 2·笨醯苯 15 苯酿苯、4_苯基苯醯苯、4-甲氧基苯醯苯、4,4,-二甲 氧基笨醢苯、4,4’-二甲基苯醯苯、4,4,-二氣苯醯苯、4,4,_ 二甲基胺基苯醯苯、4,4,-二乙基胺基苯醯苯、扣甲基苯醯 苯、3-甲基-4’-苯基苯醯苯、2,4,6-三甲基苯醯苯、2,4,6_ 三甲基-4’-苯醯苯、4-(4_曱基硫代苯基)_苯醯苯、3,3、二 20甲基-4-甲氧基苯醯苯、曱基_2_苯曱醯基苯甲酸酯、4·(2_ 羥基乙基硫基)-苯醯苯、4-(4-甲苯基硫基)-苯醯苯、4-苯 甲醯基-N,N,N-三曱基苯甲烷銨氣化物、2_羥基_3-(苯曱醯 基本氧基)-N,N,N-二甲基-1 ·丙烧錄氯化物單水合物、‘ (13-丙烯醯基-1,4,7,10,13-五噁十三烷基)_苯醯苯、4-苯曱 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 35 200305582 玖、發明說明 醯基N,N —曱基也[2-(1-氣代1丙婦基)氧]乙基_苯甲烧 銨氣化物; 3. 3-醯基香豆素 3-苯甲醯基香旦素、3_笨甲醯基·?_甲氧基香豆素、弘 5苯甲酿基_5,7-二(丙氧基)香豆素、3-苯甲酿基-M-二氯香 豆素、3-苯曱酿基+氣香豆素、3,3,-幾基-雙[5,7_二(丙氧 基)-香丑素]、3,3、幾基雙(7·甲氧基香豆素)、3,3、幾基_ 雙(7-二乙基胺基-香豆素)、3_異丁醯基香豆素、弘苯甲醯 基-5,7-二甲氧基香豆素、笨甲酿基_5,7·二乙氧基香豆素 10 、3_苯甲醯基_5,7-二丁氧基香豆素、3·苯甲醯基-5,7_二(甲 氧基乙氧基)-香豆素、3-苯甲醯基-5,7_二(烯丙基氧)香豆 素、3-苯甲醯基-7-二甲基胺基香豆素、弘苯甲醯基_、二乙 基胺基香豆素、3-異丁醯基_7_二甲基胺基香豆素、5,7-二 甲氧基-3-(1-萘醯基)-香豆素、5,7-二乙氧基-3·(1-萘醯基)一 15香豆素、笨甲醯基苯并[f]香豆素、7-二乙基胺基-3-喧嗯 醯基香豆素、3-(4-氰基苯甲醯基)_5,7_二曱氧基香豆素; 4· 3-(芳醯基伸甲基嚷ϋ坐p林 3-甲基-2-苯甲醯基伸甲基-萘噻唑啉、弘甲基苯 甲醯基伸甲基-苯并噻唑琳、3-乙基-2-丙醢基伸甲基-萘 20 噻唑啉; 5.其它羰基化合物 乙醢苯、3-甲氧基乙醯苯、4-苯基乙醯苯、苯偶醯、2-乙醯基萘、2-萘膝、9,10-蒽酷、9-芴酮、二苯并環庚酮、 咕噸酮、2,5-雙(4-二乙基胺基苯叉基)環戊酮、α_(對-二 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 36 200305582 玖、發明說明 甲基胺基苯叉基)酮,諸如,二甲基胺基苯又基節滿 小酮、3-(4-二甲基胺基苯基節滿·5备丙稀_、3-苯 基硫代酜酸亞胺、Ν-甲基-3,5·二(乙基硫基)-g太酿亞胺。 固化方法,特別是於經著色之組成物(例如,以二氧 5化鈦著色之組成物),村藉由添加作為額外添加劑⑷之 於熱條件下形成自由基之組份而輔助,例如,偶氣化合物 ,諸如,2,2’-偶氮雙(4-甲氧基_2,4_二?基戊腈)、三嗪烯 、重氮硫化物、五嗪烯或過氧化合物,例如,過氧化氮或 過氧碳酸酯,例如,第三丁基過氧化氫,例如,Ep 10 245639號案所述。 依據本發明之組成物可包含作為進一步添加劑(G)之 可光還原之染料,例如,咕噸、苯并咕噸、苯并噻咕噸、 噻嗪、哌若寧、紫菜鹼或丫啶染料,及/或可輻射裂解之 二鹵甲基化合物。相似材料僚描述於,例如,Ep 445 624 15 〇 進一步之額外添加劑(d)(依所欲用途而定)係螢光增白 劑、填料、色料(白色及經上色之色料)、著色劑、抗靜電 劑、濕化劑或流動改質劑。添加玻璃微球或粉碎玻璃纖維 (例如,US 5 0137 68所述)對於厚且經著色之塗覆物之固 2〇 化係適合。 配方物亦可含有著色劑及/或白色或經著色之色料。 依所欲用途而定,無機及有機之色料可被使用。此等添加 劑對熟習此項技藝者係已知;某些例子係二氧化鈦色料( 例如,金紅石或銳鈦礦型)、碳黑、氧化鋅(諸如,鋅白)、 0續次頁(翻酬頁不敷使騰,麵己鎌臓頁) 200305582 玖、發明說明 氧化鐵(諸如,氧化鐵黃、氧化鐵紅)、鉻黃、鉻綠、鎳鈦 黃、群青、鈷藍、飢酸祕、錄黃及鎘紅。有機色料之例子 係單-或雙-偶氤色料及其金屬錯合物、酞菁色料、多環色 料,例如,二萘嵌苯、蒽醌、硫靛、醌丫啶酮或三苯基甲 5烷色料及二酮-吡咯並-呲咯、異吲嘌滿酮,例如,四氣異 吲嘌滿酮、異吲嘌滿、二噁嗪、苯并咪唑酮及醌酞酮色料 。色料可以其本身或以混合物用於配方物内。依所欲目的 而定,色料係以此項技藝慣用之量添加至配方物,例如, 0.1至60重量%,〇·ι至30重量%或1〇至3〇重量❶/❶之量 10 ,以總質量為基準計。 配方物亦可包含,例如,非常廣泛不同種類之有機著 色劑。例子係偶氮染料、次曱基染料、蒽醌染料及金屬錯 合物染料。慣用濃度係,例如,〇1至2〇%,特別是i至 5%,其係以總質量為基準計。 15 依所用配方物而定,亦可使用用以中和酸之安定劑化 合物’特別是胺。適當系統係描述於,例如,jp_A u_ 199610。例子係吡啶及其衍生物。N-烷基_或N,N-二烷基· 苯胺、σ比嗪衍生物、σ比Ϊ7各衍生物等。 添加劑選擇係由所探討之使用領域及此領域所欲性質 20而定。上述添加劑(d)係此項技藝所慣用,因此係以此項技 藝慣用之量使用。依據本發明之配方物内之額外添加劑之 比例係,例如,0.01至1〇重量%,例如,〇 〇5至5重量〇/〇 ,特別是0.1至5重量%。 本發明亦係有關包含作為組份(a)之至少一被溶解或乳 0續次頁(翻說頸不_騎,雛記並麵續頁) 38 200305582 玖、發明說明
化或分散於水令之乙烯不飽和可光聚合化合物之組成物。 可輻射固化之水性預聚物分散液可以許多不同者購得,且 被暸解係由作為連續相之水及至少一分散於其内之預聚物 所組成之分散液。可輻射固化之預聚物或預聚物混合物係 5 以20至95重量%(特別是30至70重量%)之濃度分散於 水中。於此等組成物中,對於水及預聚物或預聚物混合物 所述之百分率總和於每一情況係100,助劑及添加劑(例如 ,乳化劑)(其係依所欲用途以不同含量存在)係另外。可輻 射固化之水性預聚物分散液係已知聚合物系統,其包含具 10 有至少400(特別是500至100000)之平均分子量Μη(克/莫 耳)之單-或多-官能性乙烯不飽和預聚物。但是,具有較高 分子量之預聚物亦適合,其係依所欲用途而定。使用,例 如,具有10之最大酸數之可聚合之含有C-C雙鍵之聚酯 、可聚合之含有C-C雙鍵之聚醚、每分子含有至少二環氧 15 基之聚環氧化物與至少一 α,/3 -乙烯不飽和羧酸之含羥基 反應產物、聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯,及含有α,/5-乙烯不飽和丙烯酸基之丙烯共聚物,如ΕΡ 12 339所述。 此等預聚物之混合物亦可被使用。亦適合係ΕΡ 33 896所 述之可聚合之預聚物,其係具有至少600之平均分子量 20 Μη(克/莫耳)之硫醚加成物,其同樣地含有可聚合之C-C 雙鍵。以特殊(曱基)丙烯酸烷基酯聚合反應產物為主之進 一步適合之水性聚合物分散液係描述於ΕΡ 41 125。 可輻射固化之水性預聚物分散液亦可包含作為進一步 添加劑之如上所述之額外添加劑(d),例如,分散助劑、乳 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 39 200305582 玖、發明說明 化劑、抗氧化劑、光安定劑、著色劑、色料、填料,例如 ,滑石、石膏、石夕酸'金紅石、碳黑、氧化辞、氧化鐵、 反應加速劑、流動劑、助滑劑、濕潤劑、增稠劑、消光劑 、消泡劑及於表面塗覆技術慣用之其它佐劑。適當之分散 5助劑包含具有極性基之水可溶之高分子量有機化合物,例 如,聚乙婦基醇、聚乙稀基町b略燒_及纖維素_。可使用 之乳化劑係非離子性,且適當的話,亦係離子性乳化劑。 依據本發明化學式I之光起始劑亦可分散於水性溶液 ’且以分散形式添加至欲被固化之混合物。當與適當之非 10離子性,或(若適當)離子性之乳化劑摻合,依據本發明化 學式I之化合物可藉由混合及’例如,研磨而被併納於水 内。適當之乳化液被獲得,其可藉此作為光起始劑,特別 是用於如上所述之水性可光固化之混合物。 於某些情況,有利的是使用二或更多之依據本發明之 15 光起始劑。當然亦可使用與已知光起始劑所成之混合物, 例子係下述而成之混合物:樟腦醌、苯醯苯、苯醯苯衍生 物、乙醯苯、乙醯苯衍生物,例如,α -羥基環烷基苯基 _或2-經基-2-曱基-1-苯基丙酮、二烧氧基乙醯苯、α-經 基-或胺基-乙醯苯,例如,(4-曱基硫代苯甲醯基)-ΐ_曱 20 基-1-嗎啉代乙烷、(4-嗎啉代苯甲醯基)-1-苯曱基-1-二甲基 胺基丙烷,4-芳醯基-1,3-二噁茂烷、安息香烷基醚及苯偶 醯縮酮,例如,苯偶醯二甲基縮酮、進一步之苯基乙醛酸 酯及其衍生物、二聚物苯基乙醛酸酯、二乙醯基過酯,例 如,EP 126541所述之苯醯苯四羧酸過酯,單醯基膦氧化 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 40 200305582 玖、發明說明 物,例如,(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙醯基 膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯曱醯基)-(2,4,4-三甲基戊-1-基)膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物或 雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)(2,4-二戊基氧苯基)_膦氧化物、 5 二醯基膦氧化物、鹵基甲基三σ秦,例如,2-[2·(4-甲氧基 苯基)-乙烯基]-4,6-雙三氯甲基-[1,3,5]三嗪、2-(4-曱氧基-苯基)-4,6-雙三氣甲基-[1,3,5]三嗪、2-(3,4-二甲氧基苯基)· 4,6-雙二氣甲基-[ι,3,5]三嘻、2-甲基-4,6-雙三氣甲基· [1,3,5]三嘻、六芳基雙咪唑/共起始劑系統,例如,與2_疏 1〇基苯并噻唑結合之鄰-氯六苯基雙咪唑;二茂鐵陽離子化 合物或二茂鈦,例如,二(環戊二烯基雙(2,6-二氟吡咯 基笨基)鈦;或0-醯基肟酯化合物,例如,GB 2 339 571 中所述者。再者,可使用硼酸鹽化合物作為共起始劑。若 本發明之光起始劑被用於混合式系統(於此内容中係指可 15以自由基及陽離子固化之系統之混合物),除依據本發明 之自由基固化劑外,另可使用陽離子光起始劑,諸如,過 氧化苯醯(其它適合之過氧化物係描述於US 4 950 581,第 19攔第17_25行),芳香族銃-、鱗-或碘鏘鹽,如us 4 950 581,第18攔第60行至第19攔第10行所述,或環戊 20二烯基芳烴鐵(II)錯合物鹽,例如,(77、異丙基苯)(π 環戊二烯基)鐵(II)六氟鱗酸鹽或以防為主之光潛酸,如 GB 2 348 644, US 4 450 598, US 4 136 055, WO 00/10972, WO 00/26219 所述。 本發明亦係有關於其中額外之光起始劑(c)係化學式 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 41 (VIII), 200305582 玖、發明說明 VIII,IX,X,XI或/及XII之化合物之組成物:
(IX), 0 0 II II R34 - Y - C ~R35 R33 ^36 R39~ |'~κ37 ^38 (X) , (XI) ,
(XN), 其中 R25係氫,Cj-Cis烧基,Ci_C18^氧基,-〇CH2CH2-OR29,嗎 啉代,SCH3或 ?\ ?26 1 c一〒-r27基 ^28 Γ ?H3 η係2至10; G1及G2每一者個別係聚合物單元之端基,特別是係氣或 CH3 ; R26係羥基、CpCi6烧氧基、嗎琳代、二甲美胺美 15 或-0(CH2CH20)m-(VC16 烷基; R27及尺28每一者個別係氫、CrC6烷基、笨基、笨甲美、 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 42 200305582 玖、發明說明 烯丙基、C「Cl6烷氧基或七(CH2CH20)m-CrC16烷基,或 R27及R28與和其結合之碳原子_起形成環己基環; m係1至20之數; 其中R26,R27及ρ、28非同時皆係CrCi6烷氧基 5 或-〇(CH2CH2〇)nrCVCl6 烷基;且 N 〇 ch3 R29係氫,—C—ch::CH2 或一C—c=ch2 · R3〇及R32每一者個別係氫或甲基;
Rn係氮、甲基、2-經基乙基硫基或苯基硫基,苯基硫基 之笨基環係未經取代或於4-、2-、2,4-或2,4,6-位置以C!-10 C4烷基取代; R33及每一者係個別為Ci-(:2G烷基、環己基、環戊基 、苯基、萘基或聯笨基,此等基係未經取代或以鹵素、
CrCu烷基或/及以CrCi2烷氧基取代,或r33係含s•或 N-之5-或6-員之雜環或 Ο
II 15 —。- R35 R35係環己基、環戊基、苯基、萘基或聯苯基,此等基係未 經取代或以一或更多之鹵素、c「c4烷基或/及CrC4烷氧基 取代基取代,或R35係含S-或N-之5-或6-員之雜環;
Rm及Rn每一者係個別為環戊二烯基,其係未經取代或以 20 Ci-Cu烷基、CrC18烷氧基、環戊基、環己基或以鹵素單_ 、二-或三-取代;且 反38及R39每一者係個別為苯基,其於鈦-碳鍵之鄰位之二位 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 43 200305582 玖、發明說明 置之至少一者係以氟原子或cf3取代,且其可含有作為芳 香私環上之進一步取代基之吡咯啉基或聚噁烷基,每一者 係未經取代或以一或二Ci-Ci2烷基、二(CrCi2烷基)胺基 曱基、嗎啉代甲基、C2-C4烯基、曱氧基甲基、乙氧基甲基 5 、三曱基曱烷基、甲醯基、曱氧基或苯基取代,
^40 或 R38 及 R39 係 一\〉一R41 或
>=N R42 R40、R41及R42每一者係個別為氫、鹵素、C2-C12烯基、 CrCu烷氧基、以一至四個氧原子中斷之c2_Ci2烧氧基、 環己基氧基、環戊基氧基、苯氧基、苯甲基氧基、未經取 10代或以CrC4烷氧基-、鹵基-、苯基硫基_或基硫基 -取代之苯基或聯苯基, 其中r40及r42非皆同時係氫,且於 R40
N
r41 基 N 至少一 R4〇或R42基係CrC12烷氧基、以一至四個氧原子中 15 斷之C2-C12烷氧基、環己基氧基、環戊基氧基、苯氧基或 苯甲基氧基; E!係 Ο、S 或 NR43 ; R43係C 1 -C8院基、本基或壤己基;且
Yi係c3-c12伸烷基、伸丁烯基、伸丁炔基,或以非連續- 0續次頁(發明說明頁不敷使用時’請註記並使用續頁) 44 200305582 玖、發明說明 0-或-NR44-間斷一或多次之C4-C12伸烷基,或係伸苯基 、伸環己基、
r44係氫、c「c4烷基或c2-c4羥基烷基。 5 較佳組成物係於化學式VIII、IX、X、XI及XII之化 合物中,其中 R25 係氫、-〇CH2CH2-OR29、嗎啉代、SCH3 或 - ?H31 G1--CH2~C--G2 基; r26係羥基、crc16烷氧基、嗎啉代或二甲基胺基; 10 r27及r28每一者個別係氫、crc4烷基、烯丙基、苯基、 苯甲基或crc16烷氧基,或R27及R28與和其結合之碳原子 一起形成環己基環; 〇
II _C—CH=CH。 R30、R31 及 R32 係氫; 15 R33係CrC12烷基、未經取代之苯基或以CrC12烷基或/及 以crc12烷氧基取代之苯基; 〇 _丨丨一 R34係—心;且 R35係苯基,其係以一或更多之Crc4烷基或/及Crq烷氧 基取代基取代。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 200305582 玖、發明說明 較佳之化學式VIII、IX、X、XI及XII之化合物係 羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮、苯基乙醛 酸甲基酯、苯基-(C0)(C0)-0CH2CH20CH2CH20-(C0)(C0)-苯基、(心甲基硫基苯甲醯基)-1-甲基嗎琳代乙烧、(4-嗎 5琳代本甲酿基苯甲基-1-二曱基胺基丙烧、(3,4-二甲氧 基苯甲醯基)-1-苯甲基-1-二甲基胺基丙烷、(4_嗎啉代苯甲 醯基)-1-(4-甲基-苯甲基)-1-二甲基胺基丙烧、苯偶醯二甲 基縮酮、(2,4,6-三曱基苯曱醯基)苯基膦氧化物、雙(2,6_二 甲氧基苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基戊-1-基)膦氧化物、雙 10 (2,4,6-三甲基苯曱醯基)苯基膦氧化物或雙(2,4,6-三甲基苯 甲醯基)-(2,4-二-苯基氧苯基)膦氧化物及二環戊二烯基-雙 (2,6-二氟-3-吡咯并)鈦。 再者,較佳之組成物係其中於化學式VIII中R27及r28 母一者係個別為C「C6烧基或與和其結合之碳原子一起形 15 成環己基環且R26係經基。 與化學式VIII,IX,X,XI及/或XI之化合物ι(=光起始 劑組份(c))混合之混合物中之化學式丨之化合物(=光起始劑 組份(b))之比例係5至99%,例如,20至80%,較佳係25 至 75% 〇 20 特別愛好者係如上所述之組成物,其包含化學式j VIII,IX,X,XI及/或Xu之光起始劑混合物,且於室溫係 液態。 化學式VIII,IX,X,XI及XII之化合物之製造一般係 熟習此項技藝者已知,且某些此等化合物係可購得。化學 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 46 200305582 玖、發明說明 式VIII之寡聚化合物之製造係描述於,例如,Ep 161 463 。化學式IX化合物之製造之描述可於,例如,Ep 2〇9 831 發現。化學式X之化合物之製造係揭示於,例如,EP 7 508, EP 184 095及BG 2 259 704。化學式ΧΙ之化合物之製 5 造係描述於,例如,EP 318 894, EP 318 893 及 EP 565 488 。化學式XII之化合物之製造係描述於,例如,us 6 〇48 660 〇 可光聚合之組成物有利地含有〇·〇5至20重量%(例如 ,〇·〇5至15重量%,較佳係〇」至5重量%,以組成物為 10基準計)之含量之光起始劑。當混合物被使用時,所示之光 起始劑含量係添加之所有光起始劑總含量有關,即,光起 始劑(b)及光起始劑(b)+(c)。 可光聚合之組成物可用於各種不同目的,例如,作為 印刷用墨,例如,篩網印刷用墨、橡膠版輪轉印刷用墨或 15膠版印刷用墨,作為透明塗覆物,作為彩色塗覆物,作為 白塗覆物,例如,用於木材或金屬,作為粉未塗覆物,作 為用於紙張、木材、金屬或塑膠之塗料等,作為結構物及 馬路之標記用之日光可固化之塗料,用於照像複製方法, 用於王息攝影δ己錄材料,用於影像記錄方法或可使用有機 20溶劑或使用水性鹼介質顯影之印刷板之製造,製造用於篩 網印刷之遮罩,齒科填充化合物,作為黏著劑,作為壓敏 f生·^著*彳’作為層合樹脂,作為光阻物,例如,電鑄光阻 物,蝕刻光阻物或耐久性光阻物,液體及乾燥膜形式,作 為可光結構化之介電質,及作為用於電子電路之焊料遮罩 續次頁(翻麵不雖麟,纖並麵顯) 200305582 玖、發明說明 ,作為製造用於任何型式之顯示器螢幕之濾色器或於製造 電漿顯示器及電致變色顯示器期間形成結構物之光阻物, 用於製造光學開關、光柵(干擾柵),以本體固化(透明模具 内之紫外線固化)或依據立體平版術方法(例如,US 4 575 5 330所述)製造三維物件,製造複合材料(例如,苯乙烯聚酯 ,其可包含玻璃纖及/或其它纖維及其它佐劑)及其它厚層 組成物,塗覆或密封電子組件或作為光纖之塗覆物。再者 ,組成物係適於製造光學鏡片,例如,隱形眼鏡或Fresnel 鏡片,及用於製造醫學裝置、輔助物或植入物。再者,組 10 成物係適於製造具有熱互變性質之凝膠。此等凝膠係描述 於,例如,DE 197 00 064及EP 678 534。組成物可另外被 用於乾燥膜塗料,例如,塗料及塗覆物工業(Paint & Coatings Industry),1997 年 4 月或塑膠世界(Plastics World) ,第54冊,編號7,第48(5)頁所述。 15 依據本發明之化合物亦可作為乳化聚合反應、珠粒聚 合反應或懸浮聚合反應之起始劑,或作為固定液晶單體及 寡聚物之位向態之聚合反應之起始劑,或作為使染料固定 於有機材料上之起始劑。 於表面塗覆物,一般係使用預聚物與聚不飽和單體之 20 混合物,其另外含有單一不飽和單體。於此情況之預聚物 特別決定表面塗覆膜之性質,且對於熟習此項技藝者可藉 由其變體影響固化膜之性質。多不飽和單體作為交聯劑, 其使表面塗覆膜呈不可溶性。單一不飽和單體作為反應性 稀釋劑,藉此黏度於無需使用溶劑下被降低。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 48 200305582 玖、發明說明 不飽和聚酯樹脂一般係與單一不飽和單體(較佳係苯乙 烯)一起用於二組份系統。對於光阻物,特殊之一組份系統 一般被使用,例如,聚馬來醯亞胺、聚芳基丙烯醯芳烴或 聚醯亞胺,如DE 2 308 830所述。 5 再者,依據本發明之化合物及其混合物可作為輻射可 固化之粉末塗覆物之自由基光起始劑或光起始系統。粉末 塗覆物可以固體樹脂及含有反應性雙鍵之單體為主,例如 ,馬來酸酯、乙稀基醚、丙稀酸酯、丙稀醢胺及其等之混 合物。自由基紫外線可固化之粉末塗覆物可藉由使不飽和 10 聚酯樹脂與固體丙烯醯胺(例如,甲基丙烯基醯胺基二醇鹽 甲基酯)及依據本發明之自由基光起始劑混合而配製,例如 ,M· Wittig 及 Th· Gohmann 之於 1993 年 Conference Proceedings,Radtech Europe之”粉末塗覆物之輻射固化,,發 表内容所述。相似地,自由基紫外線可固化之粉末塗覆物 15 可藉由使不飽和聚酯樹脂與固態之丙烯酸酯、甲基丙烯酸 酯或乙烯基酯及依據本發明之光起始劑(或光起始劑混合物 )混合而配置。粉末塗覆物亦可包含黏合劑,例如於DE 4 228 514及EP 636 669所述。紫外線可固化之粉末塗覆物 亦可包含白色或經著色之色料。例如,特別地,金紅石/二 20氧化鈦可以最高達約50重量%之濃度使用,以獲得具有良 好遮蓋力之固化粉末塗覆物。此處理方法一般包含以靜電 式或摩擦靜電式使粉末噴灑於基材(例如,金屬或木材)上 ,藉由加熱使粉末熔融,及於形成平滑膜後,以紫外線及/ 或可見光’例如,使用中度壓力之汞燈、金屬鹵化物燈或 0續次頁(翻翻頁不驗臟,謙雛麵顧) 49 200305582 玖、發明說明 氣燈使塗覆物輻射固化。輻射可固化之粉末塗覆物優於相 對應之熱可固化塗覆物之特殊優點係粉末顆粒已熔融後之 流動時間可依所欲延長,以便確保平滑高光澤塗覆物形成 。不同於熱可固化系統,輻射可固化粉末塗覆物亦可被配 5製’其於相對較低之溫度熔融而無其可使用期被縮短之非 所欲作用。因此,亦適於作為熱敏性基材(諸如,木材或塑 膠)之塗覆物。 除包含依據本發明之光起始劑外,粉末塗覆物配方物 亦可包含紫外線吸收劑。適當例子係如前於丨至點所列示 10 〇 本發明之可光固化之組成物係適於,例如,作為所有 種類之基材之塗覆材料,例如,木材、織物、紙、陶瓷、 玻璃、塑膠,諸如,聚酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚烯烴 或纖維素乙酸酯,特別是膜形式,及金屬,例如,Ai,Cu, 15 Ni,Fe,Zn,Mg 或 Co 及 GaAs,Si 或 Si02,保護層或(例如 ,藉由影像式曝光)影像亦可被塗敷。 基材可藉由塗敷液體組成物、溶液或懸浮液至基材而 塗覆。溶劑之選擇及濃度主要係藉由組成物之性質及藉由 塗覆方法而主導。溶劑需為惰性,即,需不會進入與組份 20之化學反應,且需能於塗覆操作後於乾燥時再次被移除。 適當溶劑包含,例如,酮、醚及酯,諸如,f基乙基酮、 異丁基甲基酮、環戊酮、環己_、N-甲基。比P各院酮、二σ惡 燒、四氫吱喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、卜甲氧基_ 2-丙醇、1,2-二甲氧基乙院、乙酸乙酯、乙酸正丁酯及3- 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 50 200305582 玖、發明說明 乙氧基丙酸乙酯。此配方物可藉由已知塗覆方法均勻地塗 敷至基材,例如,旋轉塗覆、浸漬、刮刀塗覆、簾幕塗覆 、粉刷、噴灑(特別是藉由靜電喷灑)及逆輥塗覆,亦可藉 由電泳沈積。亦可將此感光層塗敷至暫時性之可撓性撐體 5 ,然後藉由經層合作用轉移此層而塗覆至最後基材(例如, 以銅電鍍之電路板)。 塗敷$(層厚度)及基材(層基材)性質係依所欲應用領域 而定。热習此項技藝者會瞭解適於探討應用領域(例如,光 阻物領域、印刷用墨領域或漆料領域)之層厚度。層厚度範 10圍一般包含約Ο.1"111至多於1〇mm之值,其係依應用領域 而定。 依據本發明之輻射敏感性組成物亦被使用,例如,作 為負光阻物,其具有非常高度之光敏性且可於水性鹼介質 中無膨脹地顯影。其適於作為用於電子學(諸如,電阻劑、 15蝕刻阻劑)之光阻物,於液態及乾燥之膜,作為焊料阻劑, 作為製備用於任何型式之顯示器螢幕之濾色器之阻劑,或 於製造電漿顯示器及電致變色顯示器期間形成結構物,於 製造印刷板(例如,膠版印刷板),於製造用於凸版印刷之 印刷塊,用於平版印刷,用於凹紋印刷,橡膠版輪轉印刷 20或篩網印刷塊,製造凸紋複製物,例如,製造點字,製造 模具,用於蝕刻或模製物或作為製造積體電路之微阻物。 此組成物亦可作為可光結構化之介電質,用於材料之包覆 或作為‘ ie電腦晶片之絕緣體塗覆物,印刷電路及其它之 電或電子組件。可能之層撐體及用於處理經塗覆之基材之 0續次頁(翻晒頁不敷麵時,註記並舰續頁) 51 200305582 玖、發明說明 條件係相對應變化。 依據本發明之化合物亦可用於製造用於單色或多色之 影像記錄或影像複製(影印、#製影像)之單—_或多-層材料 。此等材料另外亦可用於測試系統。於此技術,料使用 5包含微膠囊之配方物,及對於影像產生,曝光步驟之後係 加熱步驟。此等系統及技術與其應用係描述於例如,⑽ 5 376 459 〇 用於照相資訊記錄,其使用,例#,聚^旨箱、纖維素 乙酸酯或以塑膠塗覆之紙;用於膠版印刷塊,例如,特殊 10處理之鋁,用於印刷電路之製造,例如,銅鍍之層合物, 且用於在石夕晶圓上製造積體電路。用於照相材料及膠版印 刷塊之一般層厚度一般係約〇.5/^111至1〇/Zm,且對於印刷 電路係 1.0/im 至 l〇〇ern。 於基材已被塗覆後,溶劑一般係藉由乾燥回收,形成 15 於撐體上之光阻塗覆物。 “影像式”曝光一辭係包含使用具有預定圖案(例如,透 明)之光罩曝光,使用於經塗覆基材表面上移動(例如,於 電腦控制下)且以此方式產生影像之雷射光束曝光,及以電 腦控制之電子束照射。亦可使用液晶遮罩,其可依像素 20 (pixel by pixel)控制以產生數位影像,例如,A Bert%h J.Y· Jezequel,J.C· Andre於光化學及光生物學期刊A ··化學 1997, 107,第 275-281 頁及 K.-P Nicolay 於膠版印刷 1997, 6第34-37頁所述。 共軛聚合物(例如,聚苯胺)可藉由以質子摻雜而自半 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 52 200305582 玖、發明說明 導態轉化成導電態。依據本發明之光起始劑亦可用於包含 此等聚合物之可聚合組成物之影像式曝光,以形成導電結 構(於經照射區域),其可被包埋於絕緣材料(未經曝光之區 域)。此等材料可作為’例如,製造電或電子零件之線路組 5 份或連接組份。 於此材料之影像式曝光後及於顯影前,有利地可使熱 處理進行相對較短時間。於熱處理期間,僅經曝光之區域 被熱固化。所用溫度一般係50至150°C,較佳係80至130 °C ;熱處理期間一般係〇·25至1〇分鐘。 1〇 可光固化之組成物亦可用於製造印刷塊或光阻物之方 法,例如,DE 4 013 358。於此方法中,於影像式照射之 前、同時或其後,此組成物被短暫地無遮罩地曝露於至少 400 nm波長之可見光。曝光及選擇性之熱處理後,光敏性 塗覆物之未經曝光區域使用顯影劑以本身已知之方式移除 15 。如已述者,依據本發明之組成物可於水性鹼介質中顯影 。適當之水性鹼顯影劑溶劑係特別為四烷基銨氫氧化物或 鹼金屬之矽酸鹽、磷酸鹽、氫氧化物或碳酸鹽之水性溶液 。若要的話,另外,相對較小含量之濕潤劑及/或有機溶劑 可被添加至此溶液。可以小含量添加至顯影劑流體之典型 20有機溶劑係,例如,環己酮、2-乙氧基乙醇、甲苯、丙酮 及此等溶劑之混合物。 光固化對於印刷用墨係重要的,因為黏合劑之乾燥時 間係圖像產品生產速率之決定因子,且需於秒之分數之等 級。紫外線可固化之墨對於篩網印刷、橡膠版輪轉印刷及 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 53 200305582 玖、發明說明 膠版印刷係特別重要。 如已述者,依據本發明之混合物亦非常適於製造印刷 板。對於此應用可使用,例如,可溶性線性聚醯胺或苯乙 烯/丁二烯或苯乙烯/異戊間二烯橡膠、聚丙烯酸酯或具羧 5基之聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯基醇或胺基甲酸酯丙烯酸 酯與可光聚合單體,例如,丙烯或甲基丙婦之醯胺或丙烯 或甲基丙烯之酯及光起始劑之混合物。自此等系統(濕或乾 燥)製付之膜及板係經由原始之負(或正)曝光,未經曝光部 份其後以適當溶劑洗提。 光固化之另一使用領域係金屬塗覆物,例如,塗敷面 層至片材及管件、罐子或瓶子閉封物,及塑膠塗覆物(例如 ,以PVC為主之地板或牆覆蓋物)上之光固化。紙塗覆物 之光固化例子包含塗敷無色面層至標籤、唱片套或書套。 亦愛好者係於由複合材料製得之模製物件之固化中使 15用本發明化合物。此複合材料係由獨立式基質材料(例如, 機織玻璃纖維,或另外,植物纖維)所組成[見H Mieck, Τ· Reussmann in Kunststoffe 85 (1995),366-370],其係以光 固化配方物浸潰。由使用依據本發明之化合物製得之複合 材料製成之模製物件具有高度之機械安定性及耐性。依據 20 本發明之化合物亦可作為模製、浸潰及塗覆材料之光固化 劑’例如,EP 7086所述。此等材料係,例如,薄層樹脂( 高度要求固化活性及耐變黃性),及纖維強化模製材料(諸 如,平面狀或縱向或橫向波狀光板)。製造此等模製材料之 方法(諸如,手工鋪層方法、纖維喷灑、紡絲或繞捲方法) 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 54 200305582 玖、發明說明 係描述於 Ρ·Η· Selden 之”Glasfaservertarkte Kunststoffe’’, 第 610 頁,Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York 1967。可依據此方法製造之物件係船形物、硬紙板或三夾 板(其二側上係以玻璃纖維強化塑膠塗覆)、管件、運動設 5 備、屋頂覆蓋物、容器等。模製、浸潰及塗覆材料之進一 步例子係含玻璃纖維之模製材料(GRP)之UP樹脂薄層,例 如,波狀板及紙層合物。紙層合物可以尿素或蜜胺樹脂為 主。薄層係於製造層合物前於撐體(例如,膜)上製得。依 據本發明之可光固化組成物亦可用於鑄製樹脂或用於物件 10 封裝(例如,電子組件等)。此外,亦可用於孔穴及管件之 襯裡。對於固化作用,中度壓力之汞燈可被使用,如紫外 線固化中所慣用,但強度較低之燈,例如,TL 40W/03或 TL40W/05型,亦係特別愛好。此等燈之強度粗略地相對 應於日光之強度。直接之日光亦可用於固化。進一步優點 15 係複合材料可以部份固化之塑膠態自光源移除,且接受成 形作用,其後產生完全固化。 依據本發明之光起始劑亦適用於作為光纖維之塗覆物 之組成物。一般,光纖維係於其製造後直接以保護性塗覆 物塗覆。玻璃纖維被拉伸,其後一或更多之塗覆物被塗敷 20 於玻璃纖維。一般,一、二或三個塗覆物被塗敷,面塗覆 物,例如,係被上色(“墨水層或墨水塗覆物”)。再者,數 個經塗覆之光纖維可被置放在一起成一束,且一起被塗覆 ,即,纖維纜線。依據本發明之組成物一般係適於任何此 等塗覆物,其需於廣泛之溫度範圍展現良好之柔軟性,良 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 55 200305582 玖、發明說明 好之抗張強度及韌性與快速之紫外線固化特性。 每一塗覆物,内主要(一般係軟性塗覆物)、外一級及 二級(一般係比内塗覆物更硬之塗覆物)、三級或纜繫之塗 覆物,可包含至少一輻射可固化之寡聚物、至少一輻射可 5固化之單體稀釋劑、至少一光起始劑,及添加劑。 一般,所有輻射可固化之募聚物係適合。較佳係具有 至少 500(例如,500-10000 , 700-10000 , 1000-8000 或 1000-7000)之分子量之寡聚物,特別是胺基甲酸酯寡聚物 ,其含有至少一不飽和基。較佳地,輻射可固化寡聚物具 10有二封端官能基。塗覆物不僅可含有一特殊寡聚物,亦可 含有不同募聚物之混合物。適當寡聚物之製造係熟習此項 技藝者已知,例如,於US 6,136,880所發表,其在此被併 入以供參考之用。募聚物係,例如,藉由使寡聚物二元醇( 較佳係具有2-10個聚噁伸烷基之二元醇)與二異氰酸酯或 15 聚異氰酸酯及經基官能基乙稀不飽和單體(例如,經基烧基 (甲基)丙烯酸酯)反應而製得。上述組份之每一者之特殊例 子及此等組份之適當比例係如US 6,136,880所示,其在此 被併入以供參考之用。 輻射可固化單體可以控制塗覆配方物黏度之方式使用 20 。因此,具有至少一能光起始聚合反應之官能基之低黏度 單體被使用。含量係,例如,被選擇以使黏度調整於1〇〇〇 至10000 mPa之範圍,即,一般,例如,10-90或1〇-8〇重 量%被使用。單體稀釋劑之官能基較佳係與募聚物組份者 相同種類’例如,丙婦酸g旨或乙稀基鱗官能性及較高烧基 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 200305582 玖、發明說明 或聚醚部份。適合用於光纖維之塗覆組成物之單體稀釋劑 之例子係於US 6,136,880,第12欄第11££行中發表,其在 此被併入以供參考之用。 於主要塗覆物,較佳地,具有丙烯酸酯或乙烯基醚官 5 能性及4至20個碳原子之聚醚部份之單體被使用。特殊例 子係於被併入以供參考之用及如上所引述美國專利中示之 〇 組成物亦可包含如US 5,595,820所述之聚(矽氧烷)以 改良配方物於光纖維玻璃基材上之黏著性質。塗覆組成物 10 —般亦包含進一步之添加劑,例如,抗氧化劑、光安定劑 、紫外線吸收劑,諸如,如上所列示者,特別是 RTMIRGANOX 1035, 1010,1076,1222, R™TINUVINP,234, 320, 326, 327, 328, 329, 213, 292,144, 622LD (所有皆由 Ciba Specialty Chemicals 提供),RTMANTIGENEP,3C,FR, 15 GA-80,rtmSUMISORB TM.061 (由 Sumitomo Chemical
Industries Co·提供),RTMSEESORB 102,103,501,202,712, 704 (由 Sypro Chemical Co” Ltd.提供),RTMSANOLLS770 ( 由 Sankyo Co· Ltd。提供)rtmIRGANOX 1035,1010,1076, 1222, RTMTINUVIN P,234, 320, 326, 327, 328, 329, 213, 292, 20 144,622LD (所有皆由 Ciba Specialty Chemicals 提供), R™ANTIGENE P, 3C, FR5 GA-80, r™SUMISORB TM-061 ( 由 Sumitomo Chemical Industries Co.提供), RTMSEESORB 102,103,501,202,712,704 (由 Sypro
Chemical Co·,Ltd·提供),RTMSANOLLS770 (由 Sankyo Co· 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 57 200305582 玖、發明說明.
Ltd.提供),以避免塗覆物著色,特別係於加工處理期間, 及改良經固化塗覆物之安定劑。特別愛好者係位阻式哌啶 衍生物(HALS)及位阻式紛化合物之安定劑混合物,例如, IRGANOX 1035 及 TINUVIN 292,例如,1:1 之比例之混 5 合物。再者,添加劑係,例如,濕、淵劑及對塗覆物之流變 性質具功效之其它添加劑。再者,胺(例如,二乙基胺)可 被添加。 作為光纖維之塗覆物之組成物之添加劑之其它例子係 矽烷偶合劑,例如,T -胺基丙基三乙氧基矽烷、T -巯基 ίο 丙基三甲氧基矽烷、r-曱基丙烯氧基丙基-三甲氧基矽烷 ' SH6062 ' SH6030(Toray-Dow Corning Silicone Co., Ltd. 提供)、KBE 903、KBE 603、KBE 403(Shin-Etsu Chemical Co·,Ltd.提供)。為避免塗覆物著色,此組成物亦可包含螢 光添加劑或光學增豔劑,例如,rtmUVITEX OB(Ciba 15 Specialty Chemicals 提供。 用於光纖維之塗覆組成物中之依據本申請案之光起始 劑可與一或更多之其它已知光起始劑混合。特別是單-或雙 醯基膦氧化物,例如,二苯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基膦氧 化物、雙(2,4,6-三曱基苯甲醯基)-苯基膦氧化物 20 (®IRGACURE819)、雙(2,6-二曱氧基苯曱醯基)-2,4,4-三甲 基苯基膦氧化物;α-羥基酮,例如,1-羥基環己基苯基酮 (®IRGACURE 184)、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙酮 (®DAROCUR 1173)、2-羥基-l-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2- 曱基-1-丙酮(®IRGACURE 2959) ; α-胺基酮,例如,2-甲 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 58 200305582 玖、發明說明 基-1 - [4-(甲基硫基)苯基]-2-(4-嗎琳基)-1-丙剩(⑧IRGACURE 907)、2-苯曱基-2-(二甲基胺基)-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁 g同(®IRGACURE 369)、2-(4-甲基苯曱基-2-(二甲基胺基)小 [4-(4-嗎啉基)笨基]-1-丁酮、2-苯曱基-2-(二曱基胺基)小 5 [3,4- 一甲氧基苯基]-1-丁酮;苯醯苯,例如,苯醯苯、 2,4,6-三甲基苯醯苯、4-甲基苯醯苯、2-甲基苯醯苯、2-甲 氧基羰基苯醯苯、4,4’-雙(氣曱基)苯醯苯、4-氯苯醯笨、4-苯基苯醯苯、4,4、雙(二甲基胺基)苯醯苯、4,4,-雙(二乙基 胺基)苯醯苯、甲基2-苯甲醯基苯甲酸酯、3,3,_二甲基 10甲氧基苯醯苯、4-(4-甲基苯基硫基)苯醯苯、2,4,6-三甲基_ 4’-苯基-苯醯苯、3-曱基-4,-苯基-苯醯苯及縮酮化合物,例 如’ 2,2_二曱氧基-i,2-二苯基-乙酮(⑧IRgacURE 651);單 體或二聚物之苯基乙醛酸酯,諸如,甲基苯基乙醛酸酯、 5,5 -氧-二(伸乙基氧二羰基苯基)或n(苯甲醯基羰基)乙 15烷。特別適合係與單-或雙-醯基膦氧化物及/或α-羥基酮之 混合物。 明顯地’為促進光起始劑之性質,配方物亦可包含敏 化劑,例如,胺。 塗覆物係以,,濕於乾上,,或,,濕於濕上”塗敷。於第一情 20況中,於塗敷第一塗覆物後,藉由以紫外線照射之固化步 驟係於塗敷第二塗覆物前完成。於第二情況中,二塗覆物 被塗敷且藉由紫外線照射而一起固化。 於此應用中以紫外線照射固化一般係於氮氛圍中發生 。一般,於光化技術中普遍使用之所有輻射源可被用於光 0續次頁(翻翻1[不驗麟,麵記並使臟頁) 59 200305582 玖、發明說明 纖維塗覆物之固化。例如,如下列示之輻射源。一般,中 度壓力汞燈或/及Fusion D燈被使用。再者,閃光燈亦適合 。明顯地,燈之發射係與所用之光起始劑或光起始劑混合 物之吸收相符合。光纖維塗覆組成物亦可藉由以電子束照 5射而固化,特別是以低電力電子束,例如,w〇 98/41484 所揭示。 為區別組件中之不同纖維,纖維可以第三經著色塗覆” 物(”墨塗覆物”)覆蓋。用於此塗覆物之組成物,除可聚合 組份及光起始劑外’另包含色料或染料。適於光纖維塗覆 10 物之色料之例子係無機色料,諸如,二氧化鈦、氧化辞、 硫化鋅、硫酸鋇、矽酸鋁、矽酸鈣、碳黑、黑色氧化鐵、 亞鉻酸銅黑、氧化鐵、氧化鉻綠、鐵藍、鉻綠、紫(例如, 锰紫、磷酸姑、CoLiP〇4)、鉻酸鉛、鉬酸鉛、鈦酸鑛及閃 礫如珠及似金屬之色料,及有機色料,諸如,單偶氮色料 15 、一偶氣色料、一偶氮濃縮色料、嗜丫酮色料、二σ惡嗔紫 、隱色料、二萘嵌苯色料、硫靛色料、酞菁色料及四氣異 吲嘌滿酮。適當色料之例子係於黑色塗覆物之碳黑、用於 白色塗覆物之一氧化鈦、用於黃色塗覆物之以二芳胺醯黃 或二偶氮為主之色料、用於藍色塗覆物之酞菁藍及其它醜 2〇菁、用於紅色塗覆物之蒽醌紅、萘酚紅、以單偶氮為主之 色料、喹丫酮色料、蒽醌及二萘嵌苯、用於綠色塗覆物之 酞菁綠及以亞硝基為主之色料、用於橙色塗覆物之以單偶 氣及"一偶氣為主之色料、σ奎丫綱色料、慧醒及二革嵌苯, 及用於紫色塗覆物之喹丫酮紫、鹼性染劑色料及以吁唾二 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 60 / 200305582 玖、發明說明 。惡嗓為主之色料。熟習此項技藝者瞭解配製及組合適當之 進一步色料,即使需要更多之著色塗覆物(諸如,水色、棕 色、灰色粉紅色等)。色料之平均顆粒尺寸一般係約1 # m 或更少。商業上之色料之尺寸若需要可藉由研磨降低。例 5 如’色料可以分散液形式添加至配方物,以便簡化與此配 方物之其它組份之混合。色料係,例如,分散於低黏度液 體(例如,反應性稀釋劑)。較佳係使用有機色料。墨塗覆 物内之色料之適當含量係,例如,1 _20,1 -15,較佳係1 -10重量%。 10 墨塗覆物一般亦包含潤滑劑以提供單塗覆光纖維自基 質之改良式脫落(break-out)性質。此等潤滑劑之例子係矽 酮、氟奴化物油或樹脂等,較佳係石夕酮油或官能化之梦化 合物,例如,矽酮二丙烯酸酯被使用。 依據本發明之組成物係進一步適於作為用於經塗覆光 15 纖維組件之基質材料。即,以不同顏色區分之第三塗覆物 内之數個主要、第二(及於某些情況中之第三)經塗覆纖維 於基質内組合。 組件之塗覆物較佳係除如上所示之添加劑外,亦含有 脫模劑以於安裝光纖維纜線期間輕易接近個別纖維。此等 20 脫模劑之例子係特弗隆(Teflon)、石夕酮、石夕丙稀酸醋、氟碳 化物油或樹脂等。脫模劑適當地係以〇·5-2〇重量%之量使 用。用於經塗覆光纖維之墨塗覆物及基質材料之例子係如 美國專利第6,197,422,6,130,980號案及ΕΡ 614〇99所示 ,其在此被併入以供參考之用。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 200305582 玖、發明說明 依據本發明之組成物及化合物亦可用於製造光學導波 器及光學開關,利用曝光及未曝光區域間之折射劑差異產 生。 可光固化組成物之用於影像處理方法及資訊載體之光 5產生亦係重要。對於此應用,如已述者,塗敷至撐體之層 狀物(濕或乾)係使用光遮罩且以紫外線或可見光照射,且 層狀物之未經照射區域藉由以溶劑(=顯影劑)處理而移除。 可光固化層亦以電沈積方法塗敷至金屬。經曝光區域係經 父聯之聚合物’因此係不可溶且係保留於撐體上。當適當 ίο著色,可見影像形成。當載體係金屬化層,曝光及顯影後 ,對於金屬可於未曝光區域被餘刻掉且藉由電鍛而強度。 以此方式可產生印刷電路板及光阻物。 依據本發明之組成物之光敏性一般係從約2〇〇 nm擴展 至約600 nm(紫外線領域)。適當輻射存在於,例如,曰光 15 或來自人造光源之光線。因此,大量之大部份不同種類光 源可被使用。點光源及扁平式輻射器(燈陣列)皆適合。例 子係:碳弧燈、氙弧燈、中壓、高壓及低壓之汞弧輻射器 ,若適當,係摻雜金屬鹵化物(金屬_化物燈)、微波激發 金屬蒸氣燈、激元燈、超光化螢光管、螢光燈、氬白熾燈 20 、電子閃光燈、照相泛光燈、發光二極體(LED)、電子束 及X-射線。燈與欲被曝光之依據本發明之基材間之距離可 依所欲使用及燈之型式及強度而改變,且可為,例如,2 公分至150公分。特別適合係雷射光源,例如,激元雷射 ,諸如,Krypton-F雷射,例如,於248 nm曝光。可見光 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 62 200305582 玖、發明說明 範圍之雷射亦可被使用。可於電子工業、石版膠版印刷板 或凸紋印刷板產生印刷電路,及使用此方法之照相影像記 錄材料。 因此,本發明亦係有關於一種含有至少一乙烯不飽和 5雙鍵之非揮發性之單體、寡聚或聚合之化合物之光聚合方 法,此方法包含以200至600 nm範圍之光線照射如上所述 之組成物。本發明亦係有關使用化學式〗之化合物作為以 200至600 nm範圍之光線照射含有至少一乙烯不飽和雙鍵 之非揮發性之單體、寡聚或聚合之化合物光聚合之光起始 10 劑0 本發明亦係有關上述組成物之使用及一種製造經著色 及未經著色之表面塗覆物、印刷用墨(例如,篩網印刷用墨 、膠版印刷用墨、橡皮版輪轉印刷用墨)、粉末塗覆物、印 刷板、黏著劑、齒科用組成物、光學導波器、光學開關、 15顏色測試系統、複合材料、玻璃纖維纜線塗覆物、篩網印 刷刻祀模板、阻性材料、濾色器、使用於電及電子組件之 封裝、製造磁性記錄材料、藉由立體平版印刷術製造三維 物件、照相複製,及用於影像記錄㈣,特別係全息攝影 α己錄,去色材料,用於影像記錄材料之去色材料,使用微 2〇 膠囊之影像記錄材料之方法。 本發明亦係有關於一種經塗覆之基材,其係於至少_ 表面上以如上所述之組成物塗覆,及一種照相製造凸版影 像之方法,其中,一經塗覆之基材係以影像式曝光,然後 未經曝光部份使用溶劑移除。此影像式曝光可使用遮罩或 12續次頁(翻翻Η不敷使觸,雛記並麵續頁) 63 / 200305582 玖、發明說明 使用雷射光束完成。使用雷射光束之曝光係特別愛好。 依據本發明之化合物不僅具有光起始作用,其亦可藉 由其特殊取代基而被併納及栓接於欲被聚合之配方物,即 ,其能與此等配方物之任何所欲組份反應,無論此等組份 5 是否於其後參與光聚合反應,因此,其被堅固定結合於形 成之聚合物結構。 其中心係OH之依據本發明之化學式I之化合物,除 具有上述性質外,另展現進一步重要性質,因其於製造被 進一步官能化之化學式I之化合物係重要之中間物。 10 下列範例係進一步例示本發明。於其餘描述内容及申 請專利範圍中,除非其它指示,份數及百分率係以重量計 。有關含有多於3個碳原子之烷基或烷氧基,若未指示其 異構物形式,需瞭解於每一情況係指個別之正異構物。 I:實施方式3 15 範例1 : 〇
II ac、/0—ch2ch2-o-ch2ch2-oh a 137.9克之苯基乙醛酸曱基酯、891.7克之二甘醇及 2.2克之乙酸鋰二水合物於室溫以起始注料置於1.5公升之 裝設蒸餾裝置之多頸燒瓶内。藉由攪拌,反應容器被緩慢 20 抽真空至8至10毫巴。然後,反應混合物加鵁至50至60 °C。約72小時後,已形成之所有曱醇藉由蒸餾移除,且反 應完成。反應混合物與500毫升之水一起倒入分離漏斗, 且以100毫升曱苯萃取三次,然後以500毫升二乙基醚萃 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 64 200305582 玖、發明說明 取五次。似醚相被混合,於硫酸鈉乾燥並過濾。產物於蒸 館掉溶劑(使用旋轉式蒸發器)後獲得。結構及組成以NMR 光譜術及HPLC(高壓液相色譜分析術)確認。 N=C=0 無-例 2 ··製造 -(〇。啊2)2-〇-0^-。^{^]^3 h4h3 ch3 5苯基乙醛酸2-[2_(5-異氰酸根合-1,3,3-三甲基環己基甲基氨 基甲醯基氧)-乙氧基]•乙基酯 於氬氣下,於15克之甲苯内之4.28克之範例1之苯 基乙醛酸(2-羥基乙氧基)乙基酯及3·99克之5_異氰酸根合 -1-異氰酸根合甲基-1,1,3-三甲基環己烷(異佛爾酮二異氰 10 酸酯,Fluka)係以起始注料置於50毫升之多頸燒瓶内且於 110°C迴流。18小時後,溶液被冷卻且甲苯係使用旋轉式 蒸發器濃縮。殘質於高度真空下乾燥2小時。8.2克之濃 稠黃色油被獲得。產物之轉化率及組成係藉由ih_NMr光 譜及IR光譜(NCO帶譜)證實。 15 元素分析:C24H32N2〇7 %C [計算/發現]%H [計算/發現]%N [計算/發現] 62.59 / 63.55 7.00 / 7.07 6.08 / 6.07 〇〇 〇 _ 範例3 :製造QfΜ一 笨基乙醛酸2-{2-[4-(4-異氰酸根合苯曱基)_苯基氨基甲醯 20 基氧]-乙氧基卜乙基酯 於氬氣下,於15克之曱苯内之2· 14克之範例1之笨 基乙醛酸(2-羥基乙氧基)乙基酯及2.24克之4,4,-二苯基甲 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 65 200305582 玖、發明說明 烧二異氰酸酯(Desmodur VL. Bayer)係以起始注料置於50 毫升之多頸燒瓶内且於ll〇°C迴流。19小時後,溶液被冷 卻且甲苯係使用旋轉式蒸發器濃縮。殘質於高度真空下乾 燥2小時。4.6克之濃稠些微棕色油被獲得。產物混合物 之轉化率及組成係藉由iH-NMR光譜及IR光譜(NCO帶譜 )證實。 元素分析:C27H24N207 %C [計算/發現]%H [計算/發現]%N [計算/發現] 66.39 / 67.54 4.95 / 5.19 5.73 / 5.52 W 9 /(ch2)6-n—c-(〇ch2ch2)2~o-c-c- 及 範例 4 :製造 o=c=ishch2>6—n )=〇 \〇Η2)ΓηΝ_^(〇〇η2〇Η2)γ〇Χ^ =C=|sHCH2)6—Ν /(CH2)「N=C=0 N >=〇 (CH2)rH—C-(〇CH2CH2)5-〇-C-C-^^ 苯基乙盤酸2-(2-{6-[3-(6-異氰酸根合己基)-2,4,6-三氧-5-(6-{2-[2-(2-氧-2-苯基乙醯氧基)·乙氧基]-乙氧基幾基胺基卜 15己基)-[1,3,5]三嗪烷-1-基]-己基氨基甲醯基卜乙氧基)乙基 酯及苯基乙醛酸2-(2-{6-[3,5-雙(6-異氰酸根合己基)-2,4,6-三氧-1,3,5]三嗪烷-l-基}•己基氨基甲醯基氧)_乙氧基)乙基 酯 於氬氣下,於15克之甲苯内之2.14克之範例1之苯 20 基乙醛酸(2-羥基乙氧基)乙基酯及3.02克之1,3,5-三(6-異 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 66 200305582 玖、發明說明 氰酸根合己基)-[1,3,5]三嗔烷-2,4,卜三酮(Desm〇dur N 3300, Bayer)係以起始注料置於50毫升之多頸燒瓶内且於 110 C迴流。16小時後,溶液被冷卻且甲苯係使用旋轉式 蒸發為’濃縮。殘質於南度真空下乾燥3小時。5 · 3克之濃 5 稠無色油被獲得。產物混合物之轉化率及組成係藉由ιΗ_ NMR光谱及IR光谱(NCO帶譜)證實。至於光起始劑,單 產物及雙產物係以相等比例存在。 元素分析· 〇481164队016及 C36H5〇N6〇n %c [計算/發現]%H [計算/發現] %N [計算/發現] 10 58.53 / 58.42 6.67 / 6.71 9.75 / 9 18 範例5 :製造 9 9 (Ch2CH2〇>2IW-(CH啤-心〆- (〒H2)6 N=C=〇 及 (CH2)6 N=C=〇 1,3-雙(6-{2-[2-(2-氧-2-苯基乙醯氧)-乙氧基]-乙氧基羰基胺 15 基卜己基)-5-(6-異氰酸根合己基)縮二脲及1-(6-{2-[2-(2-氧- 2-苯基乙醯氧)·乙氧基]-乙氧基羰基胺基}_己基>3,5_雙(6-異氰酸根合己基)縮二脲 於氬氣下,於15克之甲苯内之2.14克之範例1之苯 基乙醛酸(2-羥基乙氧基)乙基酯及2.86克之1,3,5-三(6-異 20 氰酸根合己基)縮二脲(Desmodur N 3200,Bayer)係以起始 注料置於50亳升之多頸燒瓶内且於ii〇°c迴流。19小時 後,溶液被冷卻且曱苯係使用旋轉式蒸發器濃縮。殘質於 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 67 200305582 玖、發明說明 高度真空下乾燥。4.8克之濃稠無色油被獲得。產物混合 物之轉化率及組成係藉由1H-NMR光譜及IR光譜(NC〇帶 譜)證實。至於光起始劑,單產物及雙產物係以相等比例 存在。 5 元素分析:C47H66N6015 及 C35H52N601() %C [計算/發現]%H [計算/發現] %N [計算/發現] 58.91/ 59.22 7.11 / 7.14 10.05 / 9.67 0 0 1? 範例6 : -(C^CHpj-C-N-iCH^N7 ^N-(CH2)rN=C=0 Ο 苯基乙醛酸2-(2-{6-[3-(6-異氰酸根合己基)-2,4-二氧-[1,3] 10 二丫丁 °定-1_基]-己基氛基甲醯基氧}-乙氧基)乙基酯 於氬氣下,於15克之甲苯内之2· 14克之範例1之苯 基乙醛酸(2-羥基乙氧基)乙基酯及3.02克之1,3-雙(6-異氰 酸根合己基)-[1-3]二 丫丁啶 _2,4_ 二酮(Desmodur Ν3400, Bayer)係以起始注料置於50毫升之多頸燒瓶内且於u0°c 15 迴流。19小時後,溶液被冷卻且甲苯係使用旋轉式蒸發 器濃縮。殘質於高度真空下乾燥。5.2克之濃稠無色油被 獲得。產物混合物之轉化率及組成係藉由iH-NMR光譜及 IR光譜(NCO帶譜)證實。 元素分析:C28H38N409 20 %C [計算/發現]%H [計算/發現] %N [計算/發現] 58.53/ 58.57 6.67 / 6.95 9.75 / 9.63 〇 〇 〇 範例 7 :製造 -(ch2ch2o)厂g—c—ch2 0續次頁(翻議財敷使麟,證記並賴賴) 68 200305582 玫、發明說明 苯基乙醛酸(2-環氧乙烷基甲氧基-乙氧基) 〇 ;Lli製造二甘醇單縮水甘油醚H〇-(CH2〇)d2— 於氮氛圍下,26.53克之二甘醇、0.25克之過氯酸鑭六 水合物及50毫升甲苯以起始注射置於350毫升之裝設強化 5 冷凝器及螺旋攪拌器之磺化燒瓶,並加熱至l〇5°C。於達 到105°C之起始溫度後,使溫度維持固定,21.3克之表氯 醇於70分鐘被滴入。其後於105°C攪拌14小時後,30毫 升之甲苯被添加至反應混合物,為便於其後藉由共沸蒸餾 移除任何仍存在之水。於一般壓力,約30毫升之共沸物被 10 蒸餾掉。冷卻至48至50°C後,約19克之二偶氮雙環十一 碳烯於30分鐘期間被滴入,且混合物於其後攪拌2小時。 冷卻至室溫後,二相反應混合物之較低相使用乙酸調整至 Ph 5至8,以二氯甲烷稀釋且每次以約100毫升鹽水萃取 三次。以硫酸鎂乾燥後,所獲得之粗製產物被濃縮至乾燥 15 ,且27.1克(理論值之73%)之些微黃色黏稠性油被獲得。 12克之粗製產物藉由閃式色譜分析術(800克之矽石凝膠 60 F ;乙酸乙酯95 :甲醇5)純化。所欲產物以約85%純 度(藉由GC決定)之些微黃色油之形式獲得。依據W-NMR 光譜,副產物(15%,藉由GC決定)係下列化合物: Λ 20 H0-(CH2CH20)—c-ch2o-c—c—ch2 二甘醇單縮水甘油醚之1H-NMR光譜(於CDC13,相對於作 為標準物之三甲基矽烷[TMS],以ppm計): 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 69 200305582 玖、發明說明
2·61-2·63 and 2.79-2.83 (2 m,Ha); 3·16-3·18 (m,Hb); 3.38、 3.44 and 3.81-3.86 (2 dxd,He); 3.60-3.75 (m,Hd,He, Hf,
Hg) 5 二甘醇單縮水甘油醚之i3〇NMR光譜(於CDCI3,相對於作 為才示準物之 TMS,以 ppm 計):44.2; 50.8; 616.6; 70·4· 70.7; 72.0; 72.6 :L2i製造苯基乙醛酸(2-環氧乙烷基甲氧基-乙氧基) 217毫克之苯基乙醛酸曱基酯、195毫克之依據範例 10 7·1獲得之二甘醇單縮水甘油醚及10毫克之乙酸鋰係以起 始注料置於梨形燒瓶内。此燒瓶係於6〇°c之浴温及15〇毫 巴之減壓之旋轉式蒸發器内旋轉。2小時後,浴溫增至7〇 C ,且壓力降至1〇〇毫巴。另外2小時後,反應溶液於矽 石凝膠上使用1:1之己烷··乙酸乙酯進行色譜分析術。標 15的化合物係以些微黃色油之形式獲得。 笨基乙醛酸(2-環氧乙烷基甲氧基_乙氧基)之lH_NMR 光譜(於CDC13,相對於作為標準物之TMS,以ppm計):
0 0 Hf II 11 I I c-c-o-c—C-0—
2·58-2·60 及 2.76-2.79 (2 m, Ha); 3.14-3.16 (m? Hb); 3.38-
200305582 玖、發明說明 二甘醇單縮水甘油醚之i3c,MR光譜(於CDCi3,相對 於作為標準物之TMS,以ppm計)·· 44 2,5〇 8,64 9,68 7, 70.6, 70.7, 72.0, 128.9, 130.1,132.5, 135.0, 163.8, 186.2。 範例8 5 光可固化配方物係藉由混合下列組份而製得: 89.0份之環氧丙烯酸酯(於己境二醇二丙烯酸酯内之8〇% ; Ebecryl®604) 10.0份之聚乙二醇400二丙烯酸酯(Sart〇mer@SR 344) I. 0份之流動改質劑(Ebecryl⑧35〇> 10 2%之範例1之化合物被添加至形成之配方物。配方物 係以6 // m之刀具塗敷至紹片材,且使用2個中壓汞燈(8〇 W/cm)照射。經固化之層被獲得。 範例9-14 下列配方物對範例9至14製造:
15 -組份A II. 38份之含羥基之聚丙烯酸酯,於乙酸丁酯内之 70%(Desmophen A 870; Bayer AG) 21.23份之聚酯多元醇,於乙酸丁 S旨内之75%(Desmophen VP LS 2089; Bayer AG) 20 0.55 份之流動改質劑(Byk 306; Byk Chemie) 32.03份之曱醇 -組份B(使用量係如第1表所示) 含異氰酸酯基之胺基甲酸酯丙烯酸酯(R〇skydal UA vp LS 2337, Bayer AG) 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 71 200305582 玖、發明說明 欲被測試之起始劑係以第1表所示之濃度併納於組份 A内,並攪拌。然後,組份B被添加且均勻地分佈。製得 之樣品以250# m之具溝槽之刀具塗敷至玻璃板。然後, 溶劑於室溫閃蒸掉。閃蒸後,紫外線光譜被記錄(紫外線/ 5 可見光之光譜計Perkin Elmer Lambda 900)。然後,板材被 置於具有120°C溫度之熱板上10分鐘,以便起始熱交聯處 理。然後,樣品之進一步紫外線光譜被記錄。然後,樣品 使用2 X 120 W/cm之中壓汞燈以5公尺/分鐘之帶速率以紫 外線固化。閃蒸後之樣品吸收率相對應於100%。閃蒸後及 10 熱交聯後之二光譜間之差異係相對應於因揮發性或經由缺 乏併納造成之光起始劑百分率損失。結果可見於第1表。 第1表 範例 9 10 11 12 13 14 組份A 65.19 65.19 65.19 65.19 65.19 65.19 組份B 31.07 31.07 23.8 23.8 26.2 26.2 範例1之起始劑 1.67 範例2之起始劑 2.95 範例3之起始劑 2.95 範例6之起始劑 2.95 範例4之起始劑 2.59 範例5之起始劑 2.59 揮發率% 0 0 0 0 2.1 1.1 所有樣品展現無光起始劑損失或非常少之損失,表示 光起始劑之最佳併納於欲被固化之配方物内,且光起始劑 15 於熱處理期間未自配方物脫離。 0續次頁(發明說明頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 72 200305582 玖、發明說明 L圖式簡單說明】 無 【圖式之主要元件代表符號表】 無 73

Claims (1)

  1. 200305582 拾、申請專利範圍 1 · 一種化學式I之可併納光起始劑化合物,
    Y係C3-C12伸烧基、伸丁婦基、伸丁炔基,或以非連 續之-0-或-NR2-中斷一或多次之C4-C12伸烷基,或Y係伸
    CH—
    CHj- —ch, i, —CH. 5 苯基、伸環己基 或 R!係選自 OH、SH、NR3R4、-(CO)-OH、-(CO)-NH2、 so3h、-C(R5)=CR6R7、環氧乙烷基、-0-(C0)-NH-R8-NC0 及-o-(co)-r9-(co)-x 之反應基; R2係氫、CVC4烷基或c2-c4羥基烷基; 心及r4每一者個別係氫,crc4烷基或c2-c4羥基烷 基; R5, R6及R7每一者個別係氫或甲基; 1^8係線性或分支狀之c4-c12伸烷基,伸苯基,甲基-伸 苯基,環己烷二基,異佛爾酮二基, 15
    •CH
    CH; •CH
    CH—
    13續次頁(申請專利範圍頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 74 200305582 拾、申請專利範圍 Ο 0 II II ^CH2)6-N-C-N-C-N-(CH2)6-N=C=0 : (9H2)6 i? ίϊ 0 0 ~iCH2)6一-g-(CH2)6-j^-0-(〇CH2CH2)i〇〇C~^^, (?H2)6 Vn/(CH2)6_ -(ch2)6-n >=0 〇 (ch2)「n=c=〇 5 WCH2)「 -(ch2)6-n >=0i? W M /=\ (CH2)6-N-C—(0CH2CH2)2-0"C"C-^^ o 或 〇 (c
    c-( oanyo N
    R9係線性或分支狀之CrC16伸烷基,-CH=CH-,-CH=CH-CH2-,C6-伸環烷基,伸苯基,伸萘基,降冰片烯-5,6-二基,
    -CH=C-或 ch3 o 11 _ H2 CNC 12 H cI 且 X,Xi 及 X2 每一者個別係 OH,Cl,OCH3 或 OC2H5 0續次頁(申請專利範圍頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 75 200305582 fe、申請專利範圍 0 2·如申請專利範圍第1項所述之化學式I之可併納光起始劑 化合物,其中,R^OH。 3·如申請專利範圍第1項所述之化學式I之可併納光起始劑 5 化合物,其中, Y係以非連續之-〇-間斷一或多次之C4-Ci2伸院基; R!係選自0H,環氧乙烷基及-〇_(CO)-NH-R8-NCO之反 應性基;且 ?Ηι·.
    Rs 係一CHj o 11 CH ο II C N= )6- Η c T NH "-c-H2)e N—c— I ( Me i NH P ‘ LH I N—c— I , one 1 NH H2)e c 〕HC NH 9 o=-c o=c-0- 2 H C2 CH (0 〇、 /(CH2)6 —(ch2)6-n >=0 0 (CH2)j-N=C=0 0 /(CH2)「 —(ch2)6-n >=〇 或 0 (CH2)6^N-C—(OCH2CH2)j〇-C-C-H^^ 0續次頁(申請專利範圍頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 76 200305582 拾、申請專利範圍 〇 义 2/6 _(CH2)「N N—(CH2)( ϊ 〇 4·一種製造化學式ι之化合物之方法,其中r^|、〇h ,包含 使苯基乙醛酸單酯Π f\J II 一〇—r (II),其中 R係q-C4烷基,特別是甲基或乙基, 與二元醇III反應 ho,y-〇h (III),其中 y係如申請專利範圍第ϊ項所定義, 其中,作為催化劑係乙酸鋰、乙酸鈉、乙酸鉀、乙酸 10 鎂、乙酸鋇、乙酸鋅、乙酸鎘、乙酸銅(II)、乙酸鈷(II)、 乙酸鋁、氧化鈣、甲醇鋰、甲醇鈉、四異丙醇鈦、三異丙 醇鋁、第三丁醇鋰、4·(二甲基胺基)吡啶或二乙酸二丁基 锡。 5·如申請專利範圍第ϊ項所述之化學式〗之化合物,其中Ri 15 心0H ’其作為製造可併納光起始劑之起始材料,其中心 係 SH,NH,-((::0)-0Η,-(c〇)-NH2, s〇3H,婦5)=〇:11而, 環氧乙烷基,-(^(COhNH-RrNCO或; 且R3,R4,R5,R6,r7,R8,R9及X基係如申請專利範圍第1項 所界定。 2 0 6·一種製造如申請專利範圍第ϊ項所述之化學式I之可併納 光起始劑之方法,其中,如申請專利範圍第1項所述之其 0續次頁(申請專利範圍頁不敷麵時,謙記纖職頁) 77 200305582 拾、申請專利範圍 中Ri係OH之化學式I之化合物係與異氰酸酯、氨基甲醯基 氯化物、硫基異氰酸酯、酸氯化物、酸酯、酸酐、氯甲酸 酯或表氯醇反應。 7· —種可光聚合之組成物,包含 (a)至少一乙烯不飽和可光聚合之化合物, (b)作為光起始劑之至少一如申請專利範圍第1項所述 之化學式I之化合物。 8·如申請專利範圍第7項所述之組成物,其除該組份(b)外 ,亦包含進一步之起始劑(c)及/或添加劑(d)。 10 9·如申請專利範圍第8項所述之組成物,其中,該另外之光 起始劑(c)係化學式VIII,IX,X,XI或/及XII之化合物 ^25
    (VIII),
    Ο Ο II II R34Tc-R35 (x)’ Κ33 15 ^36 R39 - 1"i-R37 (XI), 尺38 -o-Yro-c-c-^ (XII), 其中 0續次頁(申請專利範圍頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 78 200305582 拾、申請專利範圍 -OCH2CH2-OR29, R25係氫,C「c18烧基,c「Ci8^氧基, 嗎啉代,SCH3或 g4 CH, -ch2-c- •G2
    Lc%27 基 R 28 n係2至l〇; 5 Gi及G2每一者個別係聚合物單元之端基,特別是係 氫或CH3 ; R26係羥基、CVCU烷氧基、嗎啉代、二曱基胺基 或烷基; 化7及R28每一者個別係氫、Ci_C6烷基、苯基、苯甲 10基、烯丙基、C1-C16烧氧基或烧基 ,或R27及R28與和其結合之碳原子一起形成環己基環; m係1至20之數; 其中R26,Rn及Hu非同時皆係CrCb烷氧基 或-CKCHzCI^COm-CVCw:^基;且 ff 9 ch3 15 R29係氫,—C—CH=CH2 或—c—c=ch2 · R3〇及R32每一者個別係氫或甲基; Rm係氫、甲基、2-羥基乙基硫基或苯基硫基,苯基硫 基之苯基環係未經取代或於4_、2_、2,4-或2,4,6-位置以 crc4烷基取代; ^33及尺34每一者係個別為crc20烷基、環己基、環戊 基、苯基、奈基或聯苯基,此等基係未經取代或以鹵素、 cvCu烷基或/及以even烷氧基取代,或r33係含s•或 0續次頁(申請專利範圍頁不敷使觸,請註記並麵類) 79 / 200305582 拾、申請專利範圍 N-之%或心員之雜環或 〇 II —c—R35 R3S係己基、環戊基、笨基、萘基或聯苯基,此等 基係未經取代或以-或更多之_素、c「c4烧基或/及c「 貌氧基取代基取代,或r35係含3_或N-之5•或6_員之 雜環; 、36及致37每一者係個別為環戊二稀基,其係未經取代 或=烷基、Ci_Cis烷氧基、環戊基、環己基或以函 素單-、二-或三-取代;且 10 15 38及R39母一者係個別為笨基,其於鈦-碳鍵之鄰位 之一位置之至少一者係以氟原子或CF3取代,且其可含有 作為芳香族環上之進一步取代基之吡咯啉基或聚噁烷基, 每一者係未經取代或以一或二Ci_Ci2烷基、二(CrCi2烷基 )胺基甲基、嗎琳代甲基、c2.c4稀基、曱氧基甲基、乙氧 基甲基、三甲基甲烷基、甲醯基、甲氧基或苯基取代,
    或R28及1139係或 R4〇、R41及R42每一者係個別為氫、鹵素、c2_c12烯 基、Ci-Cu烷氧基、以一至四個氧原子中斷之烷氧 基、環己基氧基、環戊基氧基、苯氧基、苯甲基氧基、未 20 經取代或以匚「(:4烷氧基-、鹵基-、苯基硫基-或crC4烷 基硫基-取代之苯基或聯苯基, 0續次頁(申請專利範圍頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 80 200305582 拾、申請專利範圍 其中尺40及R42非皆同時係氫,且於 "1 =N 至少一 R4。或R42基係Ci-Cu烷氧基、以一至四個氧原子 中斷之C2_CU烷氧基、環己基氧基、環戊基氧基、苯氧基 5 或苯甲基氧基; E1 係 0、S 或 NR43 ; R43係烧基、苯基或環己基;且 γι係伸烧基、伸丁晞基、伸丁炔基,或以非連 續或-NR44*·間斷一或多次之CrCu伸烷基,或Υι係伸 10 苯基、伸環己基、
    CHr 或
    R44係氣、C1-C4烧基或Cz-Cdjji基烧基。 10.如申凊專利範圍第7項所述之組成物,其除包含該光化 學固化組份外,亦含有一熱可固化之組份。 15 11·如申請專利範圍第1項所述之化學式I之化合物,其作為 具有至少一乙烯不飽和雙鍵之非揮發性之單體、募聚或聚 合之化合物之藉由以200至600 nm之波長範圍之光照射之 光聚合反應之光起始劑。 12.如申請專利範圍第7項所述之組成物,其係用於製造 20 經著色及未經著色之表面塗覆組成物、印刷用墨、篩網印 刷用墨、膠版印刷用墨、橡皮版輪轉印刷用墨、粉末塗覆 0續次頁(申請專利範圍頁不敷使用時,請註記並使用續頁) 200305582 拾、申請專利範圍 物、印刷板、黏著劑、齒科用組成物、光學導波器、光學 開關、顏色測試系統、複合材料、玻璃纖維纜線塗覆物、 篩網印刷刻花模板、阻性材料、濾色器、凝膠塗覆物(薄 層)、使用於電及電子組件之封裝、製造磁性記錄材料、 5 藉由立體平版印刷術製造三維物件、照相複製,影像記錄 材料,特別係全息攝影記錄,製造去色材料,特別是用於 影像記錄材料之去色材料,或製造使用微膠囊之影像記錄 材料。 ^ 13.—種經塗覆之基材,其係於至少一 10 ^ ^ 上从如申請專利 犯圍第7項所述之組成物塗覆。 82 200305582 陸、(一)、本案指定代表圖爲:第_圖 (二)、本代表圖之元件代表符號簡單說明: 柒、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式: α II 0、/〇一·Υ一R-C 1 II 〇 4
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Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005100292A1 (en) * 2004-04-19 2005-10-27 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. New photoinitiators
FR2871898B1 (fr) * 2004-06-18 2006-09-08 Alcatel Sa Composant a fibre optique et fibre optique associee
WO2006067061A2 (en) * 2004-12-22 2006-06-29 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for the production of strongly adherent coatings
US20070012208A1 (en) * 2005-07-13 2007-01-18 Byungwoo Cho Offset printing system
US20100022676A1 (en) * 2006-10-03 2010-01-28 Jonathan Rogers Photocurable compositions comprising a photoinitiator of the phenylglyoxylate type
US8436339B2 (en) * 2007-05-30 2013-05-07 Nissan Chemical Industries, Ltd. Gate insulating film forming agent for thin-film transistor
ITVA20070073A1 (it) * 2007-09-17 2009-03-18 Lamberti Spa Fotoiniziatori per reticolazione indotta dalla luce
CN101583908B (zh) * 2007-11-20 2012-12-26 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性树脂固化物、感光性树脂膜、感光性树脂膜固化物和使用它们得到的光波导
JP5192277B2 (ja) * 2008-04-14 2013-05-08 シャープ株式会社 固体撮像装置の製造方法
US8401353B2 (en) * 2008-09-12 2013-03-19 Draka Comteq B.V. Optical fiber cable assembly
US7970247B2 (en) * 2008-09-12 2011-06-28 Draka Comteq B.V. Buffer tubes for mid-span storage
RU2465888C1 (ru) * 2008-11-11 2012-11-10 Колгейт-Палмолив Компани Композиция с красящим веществом для указания степени покрытия
US8314408B2 (en) 2008-12-31 2012-11-20 Draka Comteq, B.V. UVLED apparatus for curing glass-fiber coatings
DE102009001966A1 (de) 2009-03-30 2010-10-07 Evonik Röhm Gmbh Beschichtungszusammensetzung,(Meth)acryl-Polymer und Monomermischung zur Herstellung des(Meth)acryl-Polymers
US20100276059A1 (en) * 2009-04-30 2010-11-04 Dong Tian UVV curable coating compositions and method for coating flooring and other substrates with same
US8625945B1 (en) 2009-05-13 2014-01-07 Draka Comteq, B.V. Low-shrink reduced-diameter dry buffer tubes
US8625944B1 (en) 2009-05-13 2014-01-07 Draka Comteq, B.V. Low-shrink reduced-diameter buffer tubes
CN101811968B (zh) * 2010-02-09 2014-07-30 深圳市有为化学技术有限公司 多官能团化苯甲酰甲酸羟基酮酯类化合物及含有该类化合物的光引发剂
DK2388239T3 (da) 2010-05-20 2017-04-24 Draka Comteq Bv Hærdningsapparat, der anvender vinklede UV-LED'er
US8871311B2 (en) 2010-06-03 2014-10-28 Draka Comteq, B.V. Curing method employing UV sources that emit differing ranges of UV radiation
EP2418183B1 (en) 2010-08-10 2018-07-25 Draka Comteq B.V. Method for curing coated glass fibres providing increased UVLED intensitiy
RU2584165C2 (ru) * 2010-11-12 2016-05-20 Колопласт А/С Новые полимерные фотоинициаторы
US9315763B2 (en) * 2011-10-06 2016-04-19 Firmenich Sa Photolabile latex for the release of perfumes
BR112014013111A2 (pt) * 2011-12-01 2017-06-13 3M Innovative Properties Co composição dental autoadesiva de componente único, processo de produção e utilização do mesmo
US8669281B1 (en) 2013-03-14 2014-03-11 Alkermes Pharma Ireland Limited Prodrugs of fumarates and their use in treating various diseases
SG10201707543PA (en) 2013-03-14 2017-11-29 Alkermes Pharma Ireland Ltd Prodrugs of fumarates and their use in treating various deseases
US9840635B2 (en) * 2013-11-05 2017-12-12 Construction Research & Technology, Gmbh Binding agent systems
CN103709036B (zh) * 2013-12-03 2015-07-29 天津久日化学股份有限公司 双官能团苯甲酰基甲酸羟基酮酯类化合物及含该类化合物的光引发剂
ES2753361T3 (es) 2014-02-24 2020-04-08 Alkermes Pharma Ireland Ltd Sulfonamida y profármacos de fumaratos de sulfinamida y su uso en el tratamiento de diversas enfermedades
KR20160142829A (ko) * 2014-04-07 2016-12-13 바스프 에스이 주위 분위기에서의 광경화성 조성물의 가시광-경화
CN106574142B (zh) * 2014-08-17 2020-12-11 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 用于光纤的可单色光化辐射固化的涂层
JP7118580B2 (ja) * 2014-08-26 2022-08-16 キヤノン株式会社 光硬化性組成物、これを用いた硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、およびインプリント用モールドの製造方法
CN104387576B (zh) * 2014-11-19 2016-06-29 浙江皇马科技股份有限公司 一种缩水甘油醚基封端烯丙醇无规聚醚的制备方法
US9835944B2 (en) 2014-12-10 2017-12-05 Goo Chemical Co., Ltd. Liquid solder resist composition and covered-printed wiring board
JP6590449B2 (ja) * 2015-11-03 2019-10-16 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 3dプリンティング用の生体適合インク
US20180033609A1 (en) * 2016-07-28 2018-02-01 QMAT, Inc. Removal of non-cleaved/non-transferred material from donor substrate
CN106905147A (zh) * 2017-02-21 2017-06-30 怀化金鑫新材料有限公司 光引发剂苯甲酰甲酸二甘醇酯的合成新工艺
EP3597668A1 (en) 2018-07-20 2020-01-22 Clariant International Ltd Photo-curable resin composition for 3d printing
EP3597669A1 (en) 2018-07-20 2020-01-22 Clariant International Ltd Photo-curable resin composition for 3d printing
CN118027806B (zh) * 2024-02-01 2024-08-09 江苏大自然智能家居有限公司 一种木地板用水性uv光固化涂料及其制备方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3930868A (en) 1973-05-23 1976-01-06 The Richardson Company Light sensitive arylglyoxyacrylate compositions
DE2443645A1 (de) * 1974-09-12 1976-04-01 Cassella Farbwerke Mainkur Ag Modifizierter aminoplast, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung
US4038164A (en) 1975-09-18 1977-07-26 Stauffer Chemical Company Photopolymerizable aryl and heterocyclic glyoxylate compositions and process
US4024297A (en) 1976-02-02 1977-05-17 Ppg Industries, Inc. Actinic light polymerizable coating compositions
DE2651507C3 (de) * 1976-11-11 1981-09-10 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verwendung von Triacrylaten von oxäthyliertem Trimethylolpropan mit einem Oxäthylierungsgrad von 2,5 bis 4 als Verdünnungsmittel in strahlenhärtbaren Zusammensetzungen
DE2825955A1 (de) 1978-06-14 1980-01-03 Bayer Ag Arylglyoxyloyloxyalkylacrylate und ihre verwendung in photopolymerisierbaren bindemitteln
US4279720A (en) 1978-07-13 1981-07-21 Ciba-Geigy Corporation Photocurable composition
US4229274A (en) * 1979-02-26 1980-10-21 Ppg Industries, Inc. Ultraviolet light curable compositions for producing coatings of low gloss
US4475999A (en) 1983-06-06 1984-10-09 Stauffer Chemical Company Sensitization of glyoxylate photoinitiators
DE3512179A1 (de) * 1985-04-03 1986-12-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen
DE3738567A1 (de) * 1987-03-12 1988-09-22 Merck Patent Gmbh Coreaktive fotoinitiatoren
TW328535B (en) * 1993-07-02 1998-03-21 Novartis Ag Functional photoinitiators and their manufacture
TW460509B (en) * 1996-07-12 2001-10-21 Ciba Sc Holding Ag Curing process for cationically photocurable formulations
EP0849300A1 (de) * 1996-12-19 1998-06-24 Basf Aktiengesellschaft Polyurethane mit kovalent gebundenen Photoinitiatoreinheiten
TW460450B (en) 1997-01-30 2001-10-21 Ciba Sc Holding Ag Specific non-volatile dimeric phenylglyoxalic ester compounds and photopolymerizable compositions comprising said compounds
DE19913353A1 (de) 1999-03-24 2000-09-28 Basf Ag Verwendung von Phenylglyoxalsäureestern als Photoinitiatoren
DE10002089A1 (de) * 2000-01-19 2001-07-26 Basf Ag Witterungsstabile, strahlungshärtbare Polyurethane
AU2001263698A1 (en) * 2000-06-23 2002-01-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Method for preparing hydroxyphenyl carboxylic acid esters
TWI244495B (en) 2000-08-14 2005-12-01 Ciba Sc Holding Ag Process for producing coatings siloxane photoinitiators
TW557298B (en) 2000-08-14 2003-10-11 Ciba Sc Holding Ag A compound, a photopolymerizible composition, a process for producing coatings and a method for causing a photoinitiator to accumulate at the surface of coatings
AU2003227644B2 (en) * 2002-04-19 2008-08-21 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Curing of coatings induced by plasma
DE10223614A1 (de) * 2002-05-27 2003-12-11 Basf Ag Strahlungshärtbare wässrige Dispersionen

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