JPH1197880A

JPH1197880A - 電磁波シールド熱線カット性光透過窓材

Info

Publication number: JPH1197880A
Application number: JP25502297A
Authority: JP
Inventors: Masahito Yoshikawa; 雅人吉川; Yasuhiro Morimura; 泰大森村
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1997-09-19
Filing date: 1997-09-19
Publication date: 1999-04-09

Abstract

(57)【要約】【課題】ＰＤＰ用フィルター等として好適な、高透明
性で、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良好
な電磁波シールド熱線カット性光透過窓材を提供する。【解決手段】２枚の透明基板２Ａ，２Ｂを中間膜３を
介在させて接着樹脂４Ａ，４Ｂで一体化した電磁波シー
ルド熱線カット性光透過窓材１。中間膜３は、酸化物透
明導電膜と金属薄膜とを交互に積層してなる多層膜を備
える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド熱線
カット性光透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シール
ド性と熱線カット性とを兼備し、かつ光透過性で、ＰＤ
Ｐ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタ等と
して有用な電磁波シールド性光透過窓材に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。

【０００３】また、ＯＡ機器本体からの熱で画面が過熱
するという問題もあった。

【０００４】このため、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フィル
タとして、電磁波シールド性と熱線カット性を有し、か
つ光透過性の窓材が必要となる。

【０００５】従来、電磁波シールド性と熱線カット性と
を兼備する窓材としては、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化
物）や銀などの透明導電膜を形成したガラス板又は透明
フィルムを張り合わせたものが提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
窓材では、ＰＤＰ用フィルタとしての透明性、電磁波シ
ールド性及び熱線カット性の要求特性をすべて満たすこ
とはできなかった。

【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、高透
明性で、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良
好な電磁波シールド熱線カット性光透過窓材を提供する
ことを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
熱線カット性光透過窓材は、２枚の透明基板間に中間膜
を介在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シ
ールド熱線カット性光透過窓材であって、該中間膜は、
酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積層してなる多
層膜を備えることを特徴とする。

【０００９】酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積
層してなる多層膜であれば、透明性を損なうことなく、
著しく良好な電磁波シールド性と熱線（近赤外線）カッ
ト性を得ることができる。

【００１０】この多層膜は、これをベースフィルム上に
形成して、２枚の透明基板間に独立した中間膜として介
在させても良く、また、透明基板上に直接形成したもの
としても良い。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド熱線カット性光透過窓材の実施の形態を詳
細に説明する。

【００１２】図１は本発明の電磁波シールド熱線カット
性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図２
は中間膜３の拡大断面図である。

【００１３】まず、中間膜について詳細に説明する。

【００１４】図２に示す如く、本実施例の中間膜３は、
ベースフィルム１１上に、酸化物透明導電膜１２と金属
薄膜１３とを交互に積層してなる多層膜を設けたもので
ある。

【００１５】このベースフィルム１１としては、後述の
透明基板の構成材料と同様の樹脂フィルム、好ましく
は、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフィルムを用い
ることができる。このフィルムは、得られる窓材の厚さ
を過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保
する上で１μｍ〜５ｍｍ程度とするのが好ましい。

【００１６】このベースフィルム１１上に形成される酸
化物透明導電膜１２としては、ＩＴＯ、ＺｎＯ、Ａｌを
ドープしたＺｎＯ、ＳｎＯ₂等の薄膜を形成することが
でき、その膜厚は、通常の場合、５〜５０００Å程度で
ある。

【００１７】また、金属薄膜１３としては、銀、銅、ア
ルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム等の単独膜、
真鍮、ステンレス等の合金膜等の膜を光透過性を損なわ
ない薄さで形成することができ、その膜厚は、通常の場
合、２〜２０００Å程度である。

【００１８】これらの酸化物透明導電膜１２及び金属薄
膜１３の積層数が少ないと十分な電磁波シールド性及び
熱線カット性が得られず、多過ぎると透明性が損なわれ
る。好ましい積層数は各々１〜２０層、合計で２〜４０
層である。

【００１９】これらの酸化物透明導電膜１２及び金属薄
膜１３は、スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、ＣＶＤ法等、好ましくは膜厚制御が容易なスパ
ッタ法により、ベースフィルム１１上に容易に形成する
ことができる。

【００２０】図１に示す電磁波シールド熱線カット性光
透過窓材１は、このような中間膜３を２枚の透明基板２
Ａ，２Ｂの間に介在させて接着用樹脂フィルムに４Ａ，
４Ｂで接合一体化してなるものである。

【００２１】透明基板２Ａ，２Ｂの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファ
ン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが
挙げられる。

【００２２】透明基板２Ａ，２Ｂの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍ
の範囲とされる。

【００２３】透明基板２Ａ，２Ｂは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、ＰＤＰ前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板２Ａを厚さ０．１〜１
０ｍｍ程度のガラス板とし、裏面側（電磁波発生源側）
の透明基板２Ｂを厚さ１μｍ〜１０ｍｍ程度のＰＥＴフ
ィルム又はＰＥＴ板、アクリルフィルム又はアクリル
板、ポリカーボネートフィルム又はポリカーボネート板
等とすることもできる。

【００２４】本実施例の電磁波シールド熱線カット性光
透過窓材１では、裏面側となる透明基板２Ｂの周縁部に
アクリル樹脂をベースとする黒枠塗装６が設けられてい
る。

【００２５】また、本実施例の電磁波シールド熱線カッ
ト性光透過窓材１では、表面側となる透明基板２Ａの表
面に反射防止膜５が形成されている。

【００２６】この透明基板２Ａの表面側に形成される反
射防止膜５としては、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
との積層膜、例えば、次のような積層構造の積層膜が挙
げられる。

【００２７】（ａ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
を１層ずつ合計２層に積層したもの（ｂ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの（ｃ）中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの（ｄ）高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化
物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂、
ＳｎＯ₂、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ
₃等の屈折率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜
を形成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可
視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心
波長により異なってくるが４層構造の場合、透明基板側
の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第２層
（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３層（高屈折率
透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低屈折率透明
膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成される。

【００２８】本発明では、このような反射防止膜５の上
に更に汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高める
ようにしても良い。この場合、汚染防止膜としては、フ
ッ素系薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１００
０ｎｍ程度の薄膜が好ましい。

【００２９】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、表面側となる透明基板２Ａには、更に、シリコン系
材料等によるハードコート処理、或いはハードコート層
内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施し
ても良い。また、裏面側となる透明基板２Ｂには、金属
薄膜又は透明導電膜等の熱線反射コート等を施して機能
性を高めることができる。透明導電膜は表面側の透明基
板２Ａに形成することもできる。

【００３０】本発明において、透明基板２Ａ，２Ｂを中
間膜３を介して接着する接着樹脂としては、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重
合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレ
ン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−
（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エ
チレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢
酸ビニル共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる
が（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタ
クリル」を示す。）、性能面で最もバランスがとれ、使
い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）で
ある。

【００３１】透明基板２Ａ，２Ｂと中間膜３の積層体
は、ＥＶＡ等の樹脂に所定量の熱又は光硬化のための架
橋剤を混合してシート化した２枚の接着用樹脂フィルム
４Ａ，４Ｂを用い、この接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂ
の間に中間膜３を挟んだものを透明基板２Ａ，２Ｂ間に
介在させ、減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加
熱又は光照射により接着層を硬化させて一体化すること
により容易に製造することができる。

【００３２】なお、接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂの厚
さは、通常の場合、１μｍ〜１ｍｍ程度である。

【００３３】図示の電磁波シールド熱線カット性光透過
窓材は本発明の一例であって、本発明は何ら図示のもの
に限定されるものではない。

【００３４】例えば、中間膜は、透明基板とは別体のフ
ィルムとして２枚の透明基板間に介在させる他、一方又
は双方の透明基板の接着面側に、直接、前記酸化物透明
導電膜と金属薄膜との多層膜を形成したものであっても
良い。

【００３５】以下に、樹脂としてＥＶＡを用いた場合を
例示して本発明に係る接着用樹脂フィルムについてより
詳細に説明する。

【００３６】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００３７】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、１０重量部以下、好ま
しくは０．１〜１０重量部の割合で使用される。

【００３８】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００３９】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００４０】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で、或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１０
０重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５
〜５重量部用いられる。

【００４１】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て１０重量部以下、好ましくは０．１〜１０重量部使用
される。

【００４２】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００４３】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００４４】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００４５】なお、本発明に係るＥＶＡ接着用樹脂に
は、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止
剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィ
ルター自体の色合いを調整するために染料、顔料などの
着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシ
ウム等の充填剤を適量配合してもよい。

【００４６】また、接着性改良の手段として、シート化
されたＥＶＡ接着用樹脂フィルム面へのコロナ放電処
理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの
手段も有効である。

【００４７】本発明に係るＥＶＡ接着用樹脂フィルム
は、ＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール
等で混練した後カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、イン
フレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形
することにより製造される。成膜に際してはブロッキン
グ防止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエ
ンボスが付与される。

【００４８】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。

【００４９】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【００５０】なお、実施例及び比較例で用いた接着用樹
脂フィルム及び中間膜は、次のようにして製造した。

【００５１】接着用樹脂フィルムの製造エチレン−酢酸ビニル共重合体（東洋曹逹社製ウルトラ
セン６３４：酢酸ビニル含量２６％、メルトインデック
ス４）１００重量部に、１，１−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（日
本油脂社製パーヘキサ３Ｍ）１重量部、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン０．１重量部、ジアリ
ルフタレート２重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソ
ルブ１３０（住友化学工業社製）０．５重量部とを混合
し、４０ｍｍ押出機にて５００μｍ厚さの両面エンボス
の接着用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂを作製した。中間膜厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上にマグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ４００ÅのＩＴＯ膜と厚さ１０
０ÅのＡｇ膜とを表１に示す積層数で交互に積層して多
層膜を形成して中間膜３とした。

【００５２】実施例１，２表面側透明基板２Ａとして厚さ３．０ｍｍのガラス板を
用い、この透明基板２Ａの表面に、ＳｉＯ₂／ＩＴＯ／
ＳｉＯ₂／ＩＴＯよりなる反射防止膜（総膜厚約２５０
０Å）５を形成し、裏面側透明基板２Ｂとして厚さ０．
１ｍｍのＰＥＴシートを用い、これらの間に２枚の接着
用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂに表１に示す中間膜３を挟ん
だものを介在させ、これをゴム袋に入れて真空脱気し、
９０℃の温度で１０分加熱して予備圧着した。その後、
この予備圧着体をオーブン中に入れ、１５０℃の条件下
で１５分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化した。

【００５３】得られた窓材について下記方法により、３
０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁波シールド性、光
透過率、熱線カット性を調べ、結果を表１に示した。

【００５４】電磁波シールド性ＫＥＣ法（関西電子工業振興センター）に準拠したアン
リツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を
用いて電界の減衰測定を行った。サンプルの大きさは９
０ｍｍ×１１０ｍｍであった。光透過率（％）日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ−４０００）を用
い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ間の平均可視光透過率を求
めた。熱線カット性上記日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ−４０００）を
用い、８５０〜１１００ｎｍ間の平均近赤外光透過率を
求めた。

【００５５】比較例１，２比較のため、中間膜として、ベースフィルム上に厚さ１
６００ÅのＩＴＯ膜のみを形成したもの（比較例１）又
はベースフィルム上に厚さ３００ÅのＡｇ膜のみを形成
したもの（比較例２）を用いたこと以外は実施例１と同
様にして窓材を製造し、同様にその評価を行って、結果
を表１に示した。

【００５６】

【表１】

【００５７】表１より、本発明の電磁波シールド熱線カ
ット性光透過窓材は、透明性、電磁波シールド性、熱線
カット性のすべてにおいて良好な特性を示すことがわか
る。

【００５８】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、Ｐ
ＤＰ用フィルター等として工業的に極めて有用な、高透
明性で、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良
好な電磁波シールド熱線カット性光透過窓材が提供され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の電磁波シールド熱線カット性光
透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図である。

【図２】本発明に係る中間膜の実施の形態を示す模式的
な断面図である。

【符号の説明】

１電磁波シールド熱線カット性光透過窓材２Ａ，２Ｂ透明基板３中間膜４Ａ，４Ｂ接着用樹脂フィルム５反射防止膜１１ベースフィルム１２酸化物透明導電膜１３金属薄膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２枚の透明基板間に中間膜を介在させ
て、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド熱線
カット性光透過窓材であって、該中間膜は、酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積
層してなる多層膜を備えることを特徴とする電磁波シー
ルド熱線カット性光透過窓材。
【請求項２】請求項１において、該中間膜は透明基板
上に形成されていることを特徴とする電磁波シールド熱
線カット性光透過窓材。