JPH1174681A - 電磁波シールド性光透過窓材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＰＤＰ用電磁波シールドフィルター等として
好適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ光透過
性で鮮明な画像を得ることができ、高視野角の電磁波シ
ールド性光透過窓材を提供する。 【解決手段】 ２枚の透明基板２Ａ，２Ｂを導電性メッ
シュ３を介在させて接着樹脂４で一体化した電磁波シー
ルド性光透過窓材１。電磁波発生源側と反対側に位置す
る透明基板２Ａの表面に、高屈折率透明膜５Ａと低屈折
率透明膜５Ｂとの積層膜よりなる反射防止膜５が形成さ
れている。 【効果】 反射防止膜による光の干渉作用で光の反射を
防止して横からの入射光に対しても画面内容を充分に視
認できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備
え、かつ光透過性で、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパ
ネル）の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性
光透過窓材に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。

【０００３】そこで、従来、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フ
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。

【０００４】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
電磁波シールド性光透過窓材では、画面における光の反
射で画像が見難く、視野角が小さく、横からの入射光に
対して画面内容を十分に視認できないという欠点があっ
た。

【０００６】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＰＤ
Ｐ用電磁波シールドフィルター等として好適な、良好な
電磁波シールド性能を有し、かつ高視野角の電磁波シー
ルド性光透過窓材を提供するものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、２枚の透明基板間に導電性メッシュを
介在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シー
ルド性光透過窓材において、電磁波発生源側と反対側に
位置する透明基板の表面に、高屈折率透明膜と低屈折率
透明膜との積層膜よりなる反射防止膜が形成されている
ことを特徴とする。

【０００８】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面
に、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりな
る反射防止膜が形成されているため、この反射防止膜の
光の干渉作用で光の反射を防止して高視野角とすること
ができる。

【０００９】この高屈折率透明膜として透明導電膜を用
いることにより透明導電膜と導電性メッシュとで優れた
電磁波シールド性を得ることができる。

【００１０】本発明において、反射防止膜は高屈折率透
明膜と低屈折率透明膜とを交互に積層した多層膜である
ことが好ましい。

【００１１】また、反射防止膜の上に汚染防止膜を設け
るのが好ましい。

【００１２】なお、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材は、このように透明基板間に導電性メッシュを介在さ
せたものであるため、破損時の飛散防止効果が得られ、
安全性が高い。

【００１３】本発明において、接着樹脂としては、透明
のエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）が好適であ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。

【００１５】図１（ａ）は本発明の電磁波シールド性光
透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図１
（ｂ）は図１（ａ）のＢ部の拡大図である。

【００１６】図１に示す如く、本発明の電磁波シールド
性光透過窓材１は、２枚の透明基板２Ａ，２Ｂを、導電
性メッシュ３を介在させて接着樹脂４で接合一体化して
なり、電磁波発生源と反対側に位置する透明基板２Ａの
表面、即ち、当該窓材１をＰＤＰの前面フィルタとして
用いた場合、機器の表面側となる面に、高屈折率透明膜
５Ａと低屈折率透明膜５Ｂとの積層膜よりなる反射防止
膜５が形成されている。

【００１７】透明基板２Ａ，２Ｂの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファ
ン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが
挙げられる。

【００１８】透明基板２Ａ，２Ｂの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍ
の範囲とされる。

【００１９】透明基板２Ａ，２Ｂは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、ＰＤＰ前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板２Ａを厚さ０．１〜１
０ｍｍ程度のガラス板とし、裏面側の透明基板２Ｂを厚
さ１μｍ〜１０ｍｍ程度のＰＥＴフィルム又はＰＥＴ
板、アクリルフィルム又はアクリル板、ポリカーボネー
トフィルム又はポリカーボネート板等とすることもでき
る。

【００２０】透明基板２Ａの表面側に形成される反射防
止膜５は、高屈折率透明膜５Ａと低屈折率透明膜５Ｂと
の積層膜である。図示の例では、この反射防止膜５は高
屈折率透明膜５Ａ、低屈折率透明膜５Ｂ、高屈折率透明
膜５Ａ及び低屈折率透明膜５Ｂの順で各膜が２層ずつ交
互に合計４層積層された多層膜とされている。なお、こ
の反射防止膜５の高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との
積層構造は、図示のものの他、次のようなものであって
も良い。

【００２１】（ａ） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
を１層ずつ合計２層に積層したもの （ｂ） 中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの （ｃ） 高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの 高屈折率透明膜５Ａとしては、ＩＴＯ（スズインジウム
酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ
₂ 、ＳｎＯ₂ 、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の薄膜、好
ましくは透明導電性の薄膜を形成することができる。ま
た、低屈折率透明膜５ＢとしてはＳｉＯ₂ 、ＭｇＦ₂ 、
Ａｌ₂ Ｏ₃ 等の屈折率が１．６以下の低屈折率材料より
なる薄膜を形成することができる。これらの膜厚は光の
干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜
種、中心波長により異なってくるが４層構造の場合、透
明基板側の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、
第２層（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３層（高
屈折率透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低屈折率
透明膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成される。

【００２２】本実施例では、このような反射防止膜５の
上に更に汚染防止膜６を形成して、表面の耐汚染性を高
めている。この場合、汚染防止膜６としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ
程度の薄膜が好ましい。

【００２３】なお、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材では、表面側となる透明基板２Ａには、更に、シリコ
ン系材料等によるハードコート処理、或いはハードコー
ト層内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を
施しても良い。また、裏面側となる透明基板２Ｂには、
金属薄膜又は透明導電膜等の熱線反射コート等を施して
機能性を高めることができる。

【００２４】透明基板２Ａ，２Ｂに介在させる導電性メ
ッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維
よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率５０〜９０％のも
のが好ましい。この導電性メッシュにおいて、線径が１
ｍｍを超えると開口率が下がるか、電磁波シールド性が
下がり、両立させることができない。１μｍ未満ではメ
ッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非常に難しく
なる。また、開口率は９０％を超えるとメッシュとして
形状を維持することが難しく、５０％未満では光透過性
が低く、ディスプレイからの光線量が低減されてしま
う。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は６
０〜９０％である。

【００２５】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。

【００２６】導電性メッシュを構成する金属繊維及び金
属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アル
ミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、
鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好ましくは
銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。

【００２７】金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポ
リエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビ
ニロン、セルロース等が用いられる。

【００２８】本発明において、透明基板２Ａ，２Ｂを導
電性メッシュ３を介して接着する接着樹脂４としては、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸
メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合
体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エ
チレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオ
ン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸
化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリ
ル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−
（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体
が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリ
ル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブ
チラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹
脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で
最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、耐貫通
性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用
いられているＰＶＢ樹脂も好適である。

【００２９】ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重
量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３
００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００３０】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００３１】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００３２】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００３３】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００３４】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００３５】ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。

【００３６】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
ＥＶＡ等の樹脂に所定量の熱又は光硬化のための架橋剤
を混合してシート化した接着用フィルムを２枚用い、こ
の接着用フィルムの間に導電性メッシュを挟んだものを
透明基板２Ａ，２Ｂ間に介在させ、減圧、加温下に脱気
して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬
化させて一体化することにより容易に製造することがで
きる。

【００３７】なお、導電性メッシュ３と接着樹脂４とで
形成される接着層の厚さは、電磁波シールド性光透過窓
材の用途等によっても異なるが、通常の場合２μｍ〜２
ｍｍ程度とされる。従って、接着用フィルムは、このよ
うな厚さの接着層が得られるように、１μｍ〜１ｍｍ厚
さに成形される。

【００３８】以下に、樹脂としてＥＶＡを用いた場合を
例示して本発明に係る接着層についてより詳細に説明す
る。

【００３９】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００４０】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、１０重量部以下、好ま
しくは０．１〜１０重量部の割合で使用される。

【００４１】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００４２】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００４３】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で、或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１０
０重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５
〜５重量部用いられる。

【００４４】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て１０重量部以下、好ましくは０．１〜１０重量部使用
される。

【００４５】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００４６】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００４７】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００４８】なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、そ
の他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料
加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自
体の色合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、
カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の
充填剤を適量配合してもよい。

【００４９】また、接着性改良の手段として、シート化
されたＥＶＡ接着フィルム面へのコロナ放電処理、低温
プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有
効である。

【００５０】本発明に係るＥＶＡ接着用フィルムは、Ｅ
ＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混
練した後カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレー
ション等の成膜法により所定の形状にシート成形するこ
とにより製造される。成膜に際してはブロッキング防
止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボ
スが付与される。

【００５１】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。

【００５２】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【００５３】なお、実施例及び比較例で用いた接着用フ
ィルムは、次のようにして製造した。接着用フィルムの製造 エチレン−酢酸ビニル共重合体（東洋曹逹社製ウルトラ
セン６３４：酢酸ビニル含量２６％、メルトインデック
ス４）１００重量部に、１，１−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（日
本油脂社製パーヘキサ３Ｍ）１重量部、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン０．１重量部、ジアリ
ルフタレート２重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソ
ルブ１３０（住友化学工業社製）０．５重量部とを混合
し、４０ｍｍ押出機にて５００μｍ厚さの両面エンボス
の接着用フィルムを作製した。

【００５４】実施例１，２、比較例１ 表面側透明基板２Ａとして厚さ３．０ｍｍのガラス板を
用い、この透明基板の表面に表２に示す反射防止膜Ａ又
はＢ（詳細は表１に示す。）を形成し（ただし、比較例
１では反射防止膜なし）、裏面側透明基板２Ｂとして厚
さ０．１ｍｍのＰＥＴシートを用い、これらの間に２枚
の接着用フィルムに表２に示す導電性メッシュを挟んだ
ものを介在させ、これをゴム袋に入れて真空脱気し、９
０℃の温度で１０分加熱して予備圧着した。その後、こ
の予備圧着体をオーブン中に入れ、１５０℃の条件下で
１５分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化した。

【００５５】得られた窓材について下記方法により、３
０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁波シールド性、光
透過率、モアレ現象の有無及び入射光時のディスプレイ
画面視認性を調べ、結果を表２に示した。

【００５６】電磁波シールド性 ＫＥＣ法（関西電子工業振興センター）に準拠したアン
リツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を
用いて電界の減衰測定を行った。サンプルの大きさは９
０ｍｍ×１１０ｍｍであった。光透過率（％） 日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ−４０００）を用
い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ間の平均可視光透過率を求
めた。モアレ現象の有無 ディスプレイ上に設置し、画面に干渉縞模様が発生する
か否かを目視で観察した。入射光時のディスプレイ画面視認性 ディスプレイ画面の垂線に対して３０度の方向から人工
光源、又は太陽光を入射した場合の、反対方向３０度の
位置での画面内容の視認性を観察した。

【００５７】

【表１】

【００５８】

【表２】

【００５９】表２より本発明によれば良好な電磁波シー
ルド性光透過窓材が提供されることがわかる。

【００６０】なお、反射防止膜を設けていない比較例１
では、入射光を入れた場合その反対側では反射光の影響
で画面の内容を認識することができなかった。一方、反
射防止膜を積層した実施例１，２のものは同様のテスト
で反射光の影響を受けず、画面内容を認識することがで
きた。

【００６１】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の電磁波シー
ルド性光透過窓材は、良好な電磁波シールド性と光透過
性を有し、しかも横からの入射光に対しても画面内容を
充分に視認できる。また、透明基板を装着樹脂で強固に
接合しているため、衝撃時に、透明基板が割れて飛散す
ることもなく、安全性に富み、ＰＤＰ用電磁波シールド
フィルター等として工業的に極めて有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は本発明の電磁波シールド性光透過
窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図１（ｂ）は
図１（ａ）のＢ部の拡大図である。

【符号の説明】

１ 電磁波シールド性光透過窓材 ２Ａ，２Ｂ 透明基板 ３ 導電性メッシュ ４ 接着樹脂 ５ 反射防止膜 ５Ａ 高屈折率透明膜 ５Ｂ 低屈折率透明膜 ６ 汚染防止膜

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２枚の透明基板間に導電性メッシュを介
   在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シール
   ド性光透過窓材において、 電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面に、
   高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりなる反
   射防止膜が形成されていることを特徴とする電磁波シー
   ルド性光透過窓材。
2. 【請求項２】 請求項１において、高屈折率透明膜が透
   明導電膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透
   過窓材。
3. 【請求項３】 請求項１又は２において、該反射防止膜
   は高屈折率透明膜と低屈折率透明膜とを交互に積層した
   多層膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透過
   窓材。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項におい
   て、該反射防止膜の上に汚染防止膜が設けられているこ
   とを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項におい
   て、該接着樹脂がエチレン−酢酸ビニル共重合体である
   ことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。