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JPH024725A - ジハロゲノベンゼン誘導体 - Google Patents

ジハロゲノベンゼン誘導体

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Publication number
JPH024725A
JPH024725A JP1056566A JP5656689A JPH024725A JP H024725 A JPH024725 A JP H024725A JP 1056566 A JP1056566 A JP 1056566A JP 5656689 A JP5656689 A JP 5656689A JP H024725 A JPH024725 A JP H024725A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
trans
difluoro
ring
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1056566A
Other languages
English (en)
Inventor
Volker Reiffenrath
フオルカー・ライフエンラート
Joachim Krause
ヨアヒム・クラウゼ
Georg Weber
ゲオルグ・ヴエーベル
Ulrich Finkenzeller
ウルリツヒ・フインケンツエラー
Andreas Waechtler
アンドレアス・ヴエツヒトラー
Thomas Geelhaar
トーマス・ゲールハール
David Coates
デヴイツド・コーツ
Ian C Sage
イアン＝チヤールズ・セイジ
Simon Greenfield
シモン・グリーンフイールド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent GmbH filed Critical Merck Patent GmbH
Publication of JPH024725A publication Critical patent/JPH024725A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記の式Ｉで示されるジハロゲノベンゼン誘導
体に関する： Ｒ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−（Ｚ２−Ａ”）ｎ−Ｒ”　　
　　　Ｉ〔式中　Ｒ１およびＲ２はそれぞれ相互に独立
して、Ｃ原子１〜１５個をそれぞれ有する、直鎖状ま°
たは分枝鎖状のアルキル基またはパーフルオロアルキル
基であり、この基中に存在する１個または２個以上のＣ
Ｈ，基あるいは１個または２個以上のＣＦ、基はまた、
２個のヘテロ原子が直接に結合しないものとして、−０
−ｌ−Ｓ−１−ＣＯ−１−０−ＣＯ−１−Ｓ−ＣＯ−１
−ｏ−ＣＯＯ−１−ＣＯ−Ｓ−１−ＣＯ−Ｏ−１−Ｅ−
１−ＣＨ−ハロゲノ−および−ＣＨＣＮ−よりなる群か
ら選ばれる基により、あるいはこれらの基のうちの２個
の組合せにより置き換えられていてもよく、あるいは基
Ｒ１および基Ｒ２のうちの一つはまた、Ｈ，Ｆ　、　Ｃ
４１Ｂｒｓ　ＣＮ、　Ｃ０ＯＨ，ＯＨ，！Ｊ、　ＮＨ，
、Ｎｏ、、−ＮＣＳ、　ＮＧまたはＳＦ、であることか
で′き、す、 Ｒ３およびＲ６はそれぞれ相互に独立して、Ｈ１Ｃ原子
１〜６個を有するアルキル、Ｆ　、　Ｃ（ｌＳＢｒ。
ＣＦ、またはＣＮであり、 ＺｌおよびＺ２は、それぞれ相互に独立して、−ＣＯ−
Ｏ−１−Ｏ−ＣＯ−１−ＣＨ，ＣＨ，−１−ＣＨ，−０
−ｌ−０−ＣＨｚ−１−Ｎ”ＣＨｚ−−ＣＨｚ＝Ｎ−１
−ＣＨ，−ＣＯ−１−ＣＯ−ＣＨｚ−１−目＝Ｎ−１−
ＮＯ＝Ｎ−１−Ｎ＝ＮＯ−１−Ｃ＝Ｃ−または単結合で
あり、 ＡＩ、　Ａ２およびＡ３は、それぞれ、相互に独立して
、ｌ、４−フェニレン基であり、この基は非置換である
か、または１個あるいは２個以上のハロゲン、ニトリル
および（または）アルキル置換基により置換されており
、そしてこの基中に存在する１個または２個以上のＯＨ
基はＮにより置き換えられていてもよく、あるいはＡｌ
５Ａ２およびＡ３は、それぞれ、ｌ、４−シクロヘキシ
レン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ，基また
は隣接していない２個のＣＨ２基は、Ｏおよび（または
）Ｓにより置き換えられていてもよく、あるいはＡＩ、
　Ａ２およびＡ３は、それぞれ、１．４−シクロヘキセ
ニレン基、１．４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン
基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，
６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル
基または１．２．３．４−テトラヒドロナフタレン−２
，６−ジイル基であり、そして ンであり、そして ｂ）環Ａ１　　環Ａ２および環Ａ１のうちの一つが２．
３−ジクロロ−１，４−フェニレン基である場合には、
Ｚｌおよびｚ２はそれぞれ相互に独立して、−ＣＨｚＣ
Ｈｔ−１−ＣＨ，０−１−〇−ＣＨ，−１−Ｎ”ＣＨ２
−１−ＣＨｚ−Ｎ−１−ＣＨ，−ＣＯ−１−ＣＯ−ＣＨ
，−１−Ｎ＝Ｎ−ｌ−ＮＯ＝Ｎ−１−Ｎ＝ＮＯ−１−Ｃ
＝Ｃ−または単結合だけを表わし、あるいは基Ｒ１およ
び基Ｒ”ノうちノーツはＦ　ｓ　ＣＱｚ　Ｂｒ）　ＣＮ
％ＮＣＳ、　ＮＣ，またはＳＦ、のみを表わし、Ｃ）環
Ａ１１環Ａ１、および環Ａ３のうちの一つが２．３−ジ
フルオロ−１，４−フェニレン基でアリ、そして他の環
Ａ１　　環Ａ２および環Ａ１が１．４−フェニレン基で
ある場合には、基Ｚｌおよび基Ｚ２のうちの少なくとも
一つは単結合以外の基であるか、あるいは基Ｒ１および
基Ｒ２のうちの一つはＦ、Ｃｆｆ。
Ｂｒ％ＣＮ、　ＮＣ５，ＮＣまたはＳＦ、のみを表わし
、そして ｎは０、ｌ、２または３である、ｄ）環Ａ１　　環Ａ２
および環Ａ３のうちの一つがただしａ）環ＡＩ、猿人２
および猿人３のうちの少な　　２，３−ジフルオロ−１
，４−フェニレン基であり、くとも一つは２．３−ジハ
ロゲノ−１，４−フェニμ　　環ＡＩ　　環Ａ２および
環Ａ３のうちの一つが１．４−フ二二しン基であり、そ
して環Ａｔ、環Ａ２および環Ａ３のうちの一つがシクロ
ヘキシレン基である場合には、基Ｚｌおよび基Ｚ２のう
ちの少なくとも一つは単結合以外の基である〕。
簡潔にするために、以下の記載において、Ｃｙｃは１．
４−シクロヘキシレン基であり、ＣＣＮは１−　（４）
−シアノ−１，４−シクロヘキシレン基でｔｒ）　リ、
Ｃｈｅは１．４−シクロヘキセニレン基であり、Ｄｉｏ
は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基であり、Ｄｉ
ｔは１．３−ジチアン−２，５−ジイル基であり、Ｂｃ
ｏは１．４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基であ
す、Ｐｉｐはピペリジン−１，４−ジイル基であり、Ｐ
ｈｅは１．４−フ二二しン基であり、Ｒｙｄはピリジン
−２，５−ジイル基であり、Ｐｙｒはピリミジン−２，
５−ジイル基であり、そしてＰｙｎはピリダジン−２，
５−ジイル基であり、これらの基は非置換であるか、ま
たは置換されていることができる。
中、および以下の記載において、Ｘは、好ましくは、塩
素またはフッ素である。ＰｈｅＸ　、は、式以下の記載
において、ｘｌおよびｘ２は好ましくは塩素および（ま
たは）フッ素である。
式■で示される化合物は、液晶相、特にねじれセルの原
則、ゲスト−ホスト効果、整列相の変形の効果または動
的散乱の効果にもとづく表示体用の液晶相の成分として
使用することができる。
負の誘電率異方性（△ε−ε１１−ε１く０、式中ε１
１は分子の長軸に沿った誘電率であり、そしてε上は分
子長軸に対して垂直である誘電率である）を有する式１
で示される化合物は、それらの分子の長軸が電場におい
て、この場の方向に対して垂直に整列される。この効果
は知られており、種々の液晶表示体、たとえば光散乱タ
イプ（動的散乱）の液晶セル、または、いわゆるＤＡＰ
タイプ（整列相の変形）の液晶セル、またはゲスト／ホ
ストタイプ（ゲスト／ホスト相互作用）の液晶セルにお
いて、光学的透明性の制御に使用されている。
正の誘電異方性を有する液晶を使用する場合に、その均
一な配向（これは核表面の処理により達成される）は電
圧の印加によりホメオトロピック状に調整される、すな
わちセルは着色から無色にスイッチされる。この方法で
は、無色の記号が着色した背景上に表示される。これと
は逆に、負の誘電異方性を有する液晶が使用された場合
には、そのホメオトロピック配向（核表面を処理するこ
とにより得られる）は電極表面に対して平行に電圧を印
加することにより調整され、この場合には、無色背景上
に着色した画像要素を表示することができる。
三周波マトリックスアドレスにより、また、液晶表示体
、特にねじれセルおよびゲスト／ホストセルの液晶表示
体のマルチプレックス駆動におけるマルチプレックス要
件を改善することが提案されている（たとえば、西ドイ
ツ国特許出願公報２８５６１３４および同２９０７９４
０）。
低周波電圧の印加の下で正の誘電率異方性を有する液晶
の誘電異方性が高周波の下では負になることがこの場合
に利用される。キャパシティ損失を小さく維持するため
に、このような液晶の［クロスオーバー周波数Ｊｆｃ（
ε１１がε土になるときの誘電緩和周波数）はできるだ
け低くあるべきであり、たとえば２０ＫＨｚより高くな
るべきではない。さらにまた、誘電異方性の絶対値はク
ロスオーバー周波数以下およびクロスオーバー周波数以
上の両方ででさるたけ大きくあるべきである。しかしな
がら、三周波法に特に適する物質は一般に、クロスオー
バー周波数以下の周波数における誘電異方性絶対値より
も、クロスオーバー周波数以上の周波数における誘電異
方性絶対値の方が低いということが見い出された。この
欠点は負の誘電異方性および適当な緩和特性を有する化
合物の添加により排除することができる。
式１で示される化合物はさらにまた、カイラルにチルト
されたスメクテイツク相の成分として適している。
強誘電性を有するカイラルにチルトされたスメクテイツ
ク液晶相は一種または二種以上のチルトされたスメクテ
イツク相を有する基材混合物に適当なカイラルドーピン
グ物質を添加することにより調製することができる（Ｌ
、Ａ。
Ｖｅｒｅｓｎｅｖ等によるＭｏＬ、　Ｃｒｙｓｔ−Ｌｉ
ｑ、Ｃｒｙｓｔ、　８９．３２７頁（１９８２年）；　
およびＨ，Ｒ，Ｂｒａｎｄ等によるＪ。
Ｐｈｙｓｉｑｕｅ　４４　（Ｌｅｔｔ、）、Ｌ−７７１
（１９８３年）〕。
このような相はＣ１ａｒｋおよびＬａｇｅｒｖａｌｌに
より開示された５ＳＦＬＣチクノロシイの原則（Ｎ、　
　Ａ。
Ｃ１ａｒｋおよびＳ、　Ｔ、　Ｌａｇｅｒｗａｌｌによ
るＡｐｐｌ、　Ｐｈｙｓ。
Ｌｅｔｔ、　　３６．８９９頁（１９８０年）；および
ＵＳＰ４．３６７．９２４）にもとづいて、カイラルに
チルトされた相の強誘電性物性にもとづき、迅速−スイ
ッチング性表示体用の誘電体として使用することができ
る。
弱い負の誘電異方性を有する多くの液晶化合物が現在ま
でに、すでに合成されている。これに対して、高い負の
誘電率異方性を有する液晶化合物は依然として比較的少
ししか知られていない。さらに、このような高い負の誘
電率−異方性を有する化合物は、たとえば混合物中にお
ける貧弱な溶解性、高い粘度、高い融点、および化学的
不安定性などの欠点を有する。従って、負の誘電異方性
を有し、大部分の電気光学用途のための混合物の物性を
さらに改善することができる別種の化合物が求められて
いる。
負の誘電異方性を有し、そしてカルボキシル基または共
有結合により結合している２個または３個の環および１
個または２個以上の側鎖基、タトエばハロゲン、シアノ
またはニトロ基を有する液晶成分はＤＥ　２２４０８６
４、ＤＥ　２６１３２９２、ＤＥ　２８３５６６１、Ｄ
Ｅ　２８３６０８６およびＥＰ　０２３．７２８から知
られている。
本発明により特許請求されている化合物はＥＰ０８４．
１９４に記載されている広い式の中に包含される。しか
しながら、ＥＰ　０８４．１９４には、本発明による式
で示されている化合物はいずれも具体的にあげられてい
ない。従って、この従来技術から、尚業者は本発明の化
合物を簡単な方法で合成できることを予測することはで
きないのであり、あるいは本発明による化合物がきわ立
って好ましい位置にあるメンフェース範囲を有し、しか
も低い粘度と組合された高い負の誘電異方性を有する点
で異なっていることを認識することもできない。
ＥＰ　０８４，１９４にはまた、この特許で特許請求さ
れている化合物が低いスメクテイツク傾向を有すること
から、本発明による化合物を５ＳＦＬＣチクノロシイの
原則にもとづく表示体において使用できること示す記述
も全く欠いている。
さらにまた、２．３−ジクロロヒドロキノンのジベンゾ
エート化合物が知られている〔たとえばＢｒ１ｓｔｏ１
等によるＪ、　　Ｏｒｇ、　　Ｃｈｅｍ、　　３９３１
３８頁（１９７４年）またはＣｌａｎｄｅｒｍａｎ等に
よるＪ、　　Ａｍ。
Ｃｈｅｍ、　Ｓａｃ、　９７、ｌ５８５頁（１９７５年
）〕。しかしながら、これらの化合物は単変性であるか
、または非常に狭いメンフェース範囲を有するだけであ
る。Ｅ　１ｄｅｎｓｃｈ　ｉｎｋ等により開示された（
　Ａｎｇｅｖ。
Ｃｈｅｍ、　８９．１０３頁（１９７７年）〕、〕４−
ヒドロキシー２．３−ジクロロベンゾエート化合はまた
、狭いメソフェース範囲を有するだけである。
ＰＣＴ／ＥＰ　８７１００５１５には、ジフルオロフェ
ニル化合物をまた包含する一般式が含まれており、ここ
には、４−エトキシ−４′−ペンチル−２，３−ジフル
オロターフェニルがＥＣＢ混合物の成分として記載され
ている。
ＤＥ　ＯＳ　２９３３５６３から知られている４−アル
キル−２，３−ジクロロフェニル−４′−アルキルビシ
クロへキシル−４−カルボキシレート化合物はそれらの
高い粘度から、工業的に使用することはできない。
本発明の目的は高い負の誘電異方性を有し、同時に低い
粘度を有する安定な液晶化合物またはメソーゲン性化合
物を見い出すことにもとづいていた。
式Ｉで示される化合物が液晶相の成分として格別に適す
ることが見い出された。特に、これらの化合物を用いる
ことによって、広いメンフエース範囲および比較的低い
粘度を有する安定な液晶相を調製することができる。
式■で示される化合物はさらにまた、カイラルにチルト
されたスメクテイツク液晶相の成分としても適している
。
式■で示される化合物を提供することによって、種々の
技術的観点から、液晶混合物の調製に適する液晶物質の
範囲がさらに全く一般的に相当に拡大される。
式Ｉで示される化合物は広い用途範囲を有する。置換基
を選択することによって、これらの化合物は液晶相を主
として構成する基材として使用することができる。しか
しながら、式１で示される化合物はまた、他の群の化合
物からの液晶基材に添加して、たとえばこのような誘電
体の誘電異方性および（または）光学異方性および（ま
たは）粘度および（または）自発分極および（または）
相範囲および（または）チルト角および（または）ピッ
チを変えることができる。
式Ｉで示される化合物はさらにまた、液晶誘電体の成分
として使用することができる他の物質を製造するための
中間体化合物としても適している。
式Ｉで示される化合物は純粋な状態で無色であり、電気
光学用途に対して好ましく位置する温度範囲で液晶メン
フェースを形成する。これらの化合物は化学物質、熱お
よび光に対して非常に安定である。
従って、本発明は式１で示される化合物、特に下記の式
Ａ１式Ｂおよび式Ｃで示される化合物に関する： （Ｆ）ｐ 〔各式中、Ｒ″およびＲ６はそれぞれ相互に独立して、
Ｃ原子１〜１５個を有するアルキルであり、そしてｍ、
ｐおよび０は０またはｌである〕。
本発明はさらにまた、式１で示される化合物の液晶メジ
ウムの成分としての使用に関する。
本発明はさらにまた、式Ｉで示される化合物の少なくと
も一種を含有する液晶メジウムおよびこのような相を含
有する液晶表示素子に関する。
このような相は特に有利な弾性定数を有し、そしてそれ
らの低い数値によって、ＴＰＴ混合物に特に適している
。
本明細書の全体を通シテ、Ｒ１、Ｒ１、Ａ１、Ａｚ１Ａ
！、Ｚｌ、・Ｚ２およびｎは、別設のことわりがないか
ぎり、前記の意味を有するものとする。
従って、式Ｉで示される化合物は下記部分式Ｉａおよび
Ｉｂで示される２個の環を有する化合物： Ｒ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ｒ２ｒ　ａ Ｒ’−Ａ’−Ａ”−Ｒ”　　　　　　　　　　　　　Ｉ
　ｂ部分式１　ｃ　＝　Ｉ　ｅで示される３個の環を有
する化合物： Ｒ’−Ａ’−Ａ”−Ａ”−Ｒ”　　　　　　　　　　　
Ｉ　ｃＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ａ”−Ｒ’　　　　　
　　　　　Ｉ　ｄＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ｚ”−Ａ”
−Ｒ”　　　　　　　　Ｉ　ｅ部分式Ｉｆ〜Ｉｋで示さ
れる４個の環を有する化合物： Ｒ’−Ａ’−Ａ’−Ａ３−Ａ’−Ｒ’　　　　　　　　
　　Ｉ　ｆＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ２−Ａ’−Ａ３−Ｒ”
　　　　　　　　Ｉ　ｇＲ’−Ａ’−Ａ”−Ｚ”−Ａ３
−Ａ’−Ｒ”　　　　　　　　Ｉ　ｈＲ’−Ａ’−Ｚ’
−Ａコ一−Ｚ”−Ａ３−Ａ３−Ｒ２ＩｉＲ’−Ａ’−Ｚ
’−Ａ２−Ａ３−Ｚ”−Ａ３−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　
ｊＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ２−Ｚ２−Ａ３−Ｚ”−Ａ３−
Ｒ”　　　　　Ｉ　ｋおよび部分式■１〜Ｉｔで示され
る５個の環を有する化合物： Ｒ’−Ａ’−Ａ”−Ａ’−Ａ”−Ａ３−Ｒ”　　　　　
　　　Ｉ　ＩＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ａ”−Ａ”−Ａ
’−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ｍＲ’−Ａ’−Ａ”−Ｚ”
−Ａ’−Ａ３−Ａ”−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ｎＲ’−
Ａ’−Ｚ’−Ａ２−Ｚ”−Ａ３−Ａ”−Ａ’−Ｒ’　　
　　　Ｉ。
Ｒ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ａ’−Ｚ２−Ａ３−Ａ３−Ｒ
２Ｉ　ｐＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ａ３−Ａ３−Ｚ”−
Ａ３−Ｒ２Ｉ　ＱＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ’−Ｚ”−Ａ’
−Ｚ”−Ａ”−Ａ３−Ｒ”　　　　　　Ｉ　　ｒＲ’−
Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ｚ”−Ａ’−Ａ”−Ｚ”−Ａ”−Ｒ
”　　　　　　Ｉ　　ｓＲ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ｚ”
−Ａ３−Ｚ”−Ａ３−Ｚ’−Ａ３−Ｒ”　　　Ｉ　　ｔ
を包含する。
本明細書に記載の式で示される化合物において、Ｒ１お
よびＲ２は好ましくはＣ原子１−１２個を有するアルキ
ル、あるいはまた、アルコキシである。
本明細書に記載の式で示される化合物において、その分
子中に存在する基Ｒ１および基Ｒ２のうちの一つがＣＮ
、　ＦまたはＣＱである相当する化合物はまた好ましい
。
ＡＩ　　Ａ２および八１は好ましくはＰｈｅＸｚ、Ｃｙ
ｃ。
Ｐｈｅ、　ＤｉｏまたはＰｙｒである。式Ｉで示される
化合物はそれぞれ好ましくは１個より多くの基Ｄｉｏ、
　Ｄｉｔ、　Ｐｉｐ、　Ｂｉ、　Ｐｙｎ、　Ｐｙｒまた
は２．３−ジハロゲノ−１，４−フェニレンを含有して
いない。
ただし書き条件に従って、環Ａ１１環八２および猿人３
のうちの少なくとも一つは２，３−ジハロゲノ−１，４
−フェニレンであり、これらの基のうちの少なくとも一
つはまた、２−フルオロ−３−クロロ−１，４−フェニ
レン、２−フルオロ−３−ブロモ−１，４−フェニレン
、２−フルオロ−３−ヨード−１，４−フェニレン、２
−クロロ−３−ブロモ−１，４−フェニレン、２−クロ
ロ−３−ヨード−１，４−フェニレン、２−ブロモ−３
−ヨード−１，４−フェニレン、２．３−ジフルオロ−
１，４−７二二レン、２．３−ジクロロ−１，４−フェ
ニレン、２．３−ジブロモ−１，４−フェニレンまたは
２．３−ショート−ｔ、４−フェニレンであることがで
きる。この場合に、ハロゲン置換基カ同一である１、３
−’；ハロゲノー１．４−フェニレン環、たとｔｌｆ２
．３−ジフルオロ−１，４−７エ二レンまｌ二は２．３
−ジクロロ−１，４−７二二レンが好ましく、２．３−
ジフルオロ−１，４−フェニレンは特に好ましい。
ｎは好ましくは、０、ｌまたは１、特に好ましくはｌで
ある。
基Ｚｌおよび基Ｚ２は同一または異なることができ、好
ましくは単結合であり、二番目に好ましくは、−ＣＯ−
Ｏ−１−Ｏ−ＣＯ−１−Ｃ＝Ｃ−または−〇ＨＩＧＨ２
−基である。式Ｉで示される特に好ましい化合物は、そ
の分子中に存在する基Ｚｌおよび基Ｚ２の全部が単結合
であるか、基Ｚ１または基ｚ２のうちの一つだけが−ｃ
ｏ−ｏ−−ｏ−ｃｏ−−ｃ＝ｃ−または−ＣＨｌＣＨｔ
−である相当する化合物である。
２．３−ジフルオロ−１，４−フェニレン化合物の場合
に、ＰｈｅＸ、基に隣接している基Ｚ１または基Ｚ２は
好ましくは、単結合、−Ｃミｃ−−ｏ−ｃｏ−−ＣＯ−
Ｏ−または−ＣＨ２ＧＨｚ−基である。
２．３−ジクロロ−１，４−フェニレン化合物の場合に
、ＰｈｅＸ、基に隣接している基ｚ１または基Ｚ２は好
ましくは、単結合または−ＣＯ−Ｏ−基または一〇−Ｃ
Ｏ−基である。
本明細書に記載の式において　Ｒ１およびＲ２は好まし
くは、Ｃ［千２〜ｌＯ個、特にＣ原子３〜７個を有する
。Ｒ１およびＲ２中に存在する１個または２個のＣＨ，
基あるいはＣＦ、基はまた、置き換えられていてもよい
。好ましくは、１個だけのＣＨ，基が〜０−１−ｃｏ−
−ｃ＝ｃ−１−Ｓ−１−ＣＨ＝ＣＨ−１−ＣＨ−ハロゲ
ノ−または−ＣＨＣＮ−１；：より、特＋ニー０−１Ｃ
Ｏ−または−Ｃ＝Ｃ−により、置き換えられている。
本明細書に記載の式において、Ｒ１およびＲ２は好まし
くは、アルキル、アルコキシまたはもう一種のオキサア
ルキル、さらにまた　Ｒ１およびＲ２は好ましくはアル
キル基であって、この基中に存在する１個または２個以
上のＣＨ，基が、２個のヘテロ原子は相互に直接に結合
しないものとして、−〇−１−Ｃ０−Ｏ−１−Ｃ＝Ｃ−
１−ＣＨ＝ＣＨ−１−ＣＨ−ハロゲノ−および−ＣＨＣ
Ｎ−から選ばれる基により、あるいは２個の適当な基の
組合せにより置き換えられていてもよい基である。
基Ｒ１および基Ｒ２のうちの一つはまた、好ましくはハ
ロゲンまたはＣＮである。ハロゲンはＦｌＣＱまたはＢ
ｒ、好ましくはＦである。基Ｒ１および基Ｒ２のうちの
一つがハロゲンまたはＣＮである場合に、Ｒ１およびＲ
２は一緒に合せて、好ましくは４〜１６個のＣ［子、特
に４〜１０個のＣ原子を有する。
Ｒ’８よびＲ２がそれぞれ、Ｃ原子４〜１４個を有する
アルキル基であり、この基中に存在する１個のＣＨ，基
がｏ原子により置き換えられていてもよい場合（「アル
コキシ」または「オキサアルキル」）、あるいはこの基
中に存在し、隣接していない２個のＣＨ，基が０原子に
より置き換えられていてもよい場合（「アルコキシアル
コキシ」または「ジオキサアルキル」）に、これらの基
は直鎖状または分枝鎖状であることができる。好ましく
は、これらの基は直鎖状であり、そしてＣ原子２．３．
４，５．６または７個を有し、従って好ましくは、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル
、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキ
ソキシ、またはへブトキシであり、あるいはまた、メチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル
、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、メトキシ
、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウン
デシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシある
いはテトラデシルオキシであることができる。
オキサアルキルは好ましくは、直鎖状の２−オキサプロ
ピル（−メトキシメチル）、２−（−エトキシメチル）
または３−オキサブチル（−２−メトキシエチル）、２
−　３−または４−オキサペンチル、２−　３−　４−
または５−オキサヘキシル、２−　３−　４−　５−ま
たは６−オキサヘプチル、２−　３−　４−　５６−ま
たは７−オキサオクチル、２−３４−　５−　６−　７
−または８−オキサノニル、２−　３−　４−　５−　
６−　７−８−または９−オキサデシル、１．３−ジオ
キサブチル（−メトキシメトキシ）、１．３−　１．４
−２．４−ジオキサペンチル、１．３−　１．４−　１
．５−２．４−１２．５−または３，５−ジオキサヘキ
シルあるいは１．３−１１．４−１■、５−１ｌ、６−
１２，４２．５−１２，６−１３，５−１３，６−また
は４，６−シオキサヘプチルである。
Ｒ１およびＲ２がアルキル基であり、この基中に存在す
るＣＨ，基が−Ｓ−により置き換えられている場合に、
この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。好
ましくは、このチアアルキル基はＣＭ子ｌ〜１０個を有
し、直鎖状であり、２−チアプロピル、２−または３−
チアブチル、２−３−または４−チアペンチル、２−３
４−または５−チアヘキシル、２−３−４−５−または
６−チアヘプチル、２−３４−　５−　６−または７−
チアオクチル、２−　３−　４−　５−　６−　７−ま
たは８−チアノニルあるいは２−　３−　４−　５−６
−　７−　８−まｔ；は９−チアデシルである。
Ｒ１またはＲ２がアルキル基であり、この基中に存在し
、基Ａ１１基Ａ２および（または）基Ａ３に隣接してい
るＣＨ，基が−５−により置き換えられている場合に、
この基は好ましくはメチルチオ、エチルチオ、プロピル
チオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプ
チルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、またはデシルチ
オであり、このような基は特に好ましい。
Ｒ１およびＲ２がアルキル基であり、この基中に存在す
るＣＨ２基が−ＣＲ３＝ＣＲ’−により置き換えられて
いる場合に、基Ｒ３および基Ｒ′は好ましくは、同一で
あり、そして水素である。このアルケニル基は直鎖状ま
たは分枝鎖状であることができる。好ましくは、このア
ルケニル基は直鎖状であり、Ｃ原子２〜ＩＯ個を有する
。従って、この基は好ましくは、ビニル、プロプ−１−
またはプロプ−２−ノニル、ブドー１−−２−または−
３−ノニル、ベント−１−−２−−３＝または−４−ノ
ニル、ヘキス−Ｌ−−２−−３−−４−または−５−ノ
ニル、ヘプト−１−−２−−３−−４−−５−または ６−ノニル、オクト−１−−２−−３−−４−−５−−
６−または−７−ノニル、ノン−１−−２−−３−−４
−−５− −６−−７−マｆニーは−８−ノニルあるいはデク−１
−−２−−３−−４−−５− −６−−７−−８−または−９−ノニルである。
Ｒ１およびＲ２がアルキル基であり、この基中に存在す
るＣＨ，基が一〇−ＣＯ−または−Ｃ０−０−により置
き換えられている場合に、この基は直鎖状または分枝鎖
状であることができる。好ましくは、この基は直鎖状で
あり、ＣｙＫ子２〜６個を有する。従って、この基は、
特にアセチルオキシ、フロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセ
チルオキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリ
ルオキシメチル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセ
チルオキシエチル、２−プロピオニルオキシエチル、２
−ブチリルオキシエチル、３−アセチルオキシプロピル
、３−プロピオニルオキシプロビル、４−アセチルオキ
シブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキ
シカルボニル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカ
ルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル ２−（ノドキシカルボニル）エチル、２−（エトキシカ
ルボニル）エチル、２−（プロポキシカルボニル）エチ
ル、３−（メトキシカルボニル）プロピル、３−（エト
キシカルボニルロビルおよび４−（メトキシカルボニル
）ブチルである。
Ｒ１およびＲ２がアルキル基であり、この基中に存在す
るＣＩ，基が一ＣＲ３＝ＣＲ’−により置き換えられて
おり、そして隣接しているＣＨ，基がーＣＯ−−Ｏ−Ｃ
Ｏ−または一ＣＯ−Ｏ−により置き換えられている場合
に、Ｒ３およびＲ４は好ましくは、水素またはメチルで
ある。
好ましくはこの（メタ）アクリロイルオキシアルキル基
は直鎖状であり、Ｃ原子４〜１３個を有する。従って、
この基は特に、アクリロイルオキシメチル、２−アクリ
ロイルオキシエチル、３−アクリロイルオキシプロピル
、４−アクリロイルオキシブチル、５−アクリロイルオ
キシペンチル、６−アクリロイルオキシヘキシル、７−
アクリロイルオキシヘプチル、８−アクリロイルオキシ
オクチル、９−アクリロイルオキシノニル、ＩＯ−アク
リロイルオキシデシル、メタアクリロイルオキシメチル
、２−メタアクリロイルオキシエチル、３−メタアクリ
ロイルオキシプロピル、４−メタアクリロイルオキシブ
チル、５−メタアクリロイルオキシペンチル、６−メタ
アクリロイルオキシヘキシル、７−メタアクリロイルオ
キシヘプチル、８−メタアクリロイルオキシオクチルま
たは９−メタアクリロイルオキシノニルである。
末端基置換基Ｒ１および（または）Ｒ２が重合反応に適
する基である、式■で示される化合物は液晶重合体の製
造に適している。
分枝鎖状末端基置換基Ｒ１および（または）Ｒ２を有す
る式Ｉで示される化合物は、これらが慣用の液晶基材中
で良好な溶解性を有することから、場合により重要であ
ることがあるが、これらの化合物が光学活性である場合
には、カイラルドーピング物質として特に重要であるこ
とができる。このタイプのスメクテイツク化合物は強誘
電性材料の成分として適している。
この種の分枝鎖状基は一般に、１個より多くの鎖分校を
有していない。好適な分枝鎖状のＲ１および（または）
基Ｒ２はイソプロピル、２−ブチル（−１−メチルプロ
ピル）、イソブチル（−２−メチルプロピル）、２−メ
チルブチル、インペンチル（−３−メチルブチル）、２
−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−エチルヘ
キシル、２−プロピルペンチル キシ、２−メチルプロポキシ、２−メチルブトキシ、３
−メチルブトキシ、２−メチルペントキシ、３−メチル
ペントキシ、２−エチルヘキソキシ、■ーメチルヘキソ
キシ、■ーメチルへブトキシ、２−オキサ−３−メチル
ブチル、３−オキサ−４−メチルペンチル キシル、２−ノニル、２−デシル、２−ドデシル、゛６
−メチルオクトキシ、６−メチルオクタノイルオキシ、
５−メチルへブチルオキシカルボニル、２−メチルブチ
リルオキシ、３−メチルバレリルオキシ、４−メチルヘ
キサノイルオキシ、２−クロロプロピオニルオキシ、２
−クロロ−３−メチルブチリルオキシ、２−クロロ−４
−メチルバレリルオキシ、２−クロロ−３−メチルバレ
リルオキシ、２−メチル−３−オキサペンチル、２−メ
チル−３−オキサヘキシル、２−フルオロ−３−メチル
バレリルオキシおよび２−フルオロ−３−メチルブトキ
シである。
Ｒ１およびＲ２がアルキル基であり、この基中に存在す
る２個または３個以上のＣＨ，基が一〇−および（また
は）−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられている場合に、こ
の基は直鎖状または分校鎖状であることができる。好ま
しくは、この基は分枝鎖状であり、Ｃ深子３〜１２個を
有する。従って、この基は特に、ビス−カルボキシ−メ
チル、２．２−ビス−カルボキシ−エチル、３．３−ビ
ス−カルボキシ−プロピル、４，４−ビス−カルボキシ
−ブチル、５．５−ビス−カルボキシ−ペンチル、６．
６−ビス−カルボキシ−ヘキシル、７．７−ビス−カル
ボキシ−ヘプチル、８，８−ビス−カルボキン−オクチ
ル、９Ｉ９−ビス−カルボキシ−ノニル、１０．１０−
ビス−カルボキシ−デシル、ビス−（メトキシカルボニ
ル）−メチル、２．２−ビス−（メトキシカルボニル）
−エチル、　３．３−ビス−（メトキシカルボニル ビス−（メトキシカルボニル ビス−（メトキシカルボニル）−ペンチル、６．６−ビ
ス−（メトキシカルボニル）−ヘキシル、７、７−ビス
−（メトキシカルボニル）−ヘプチル、８、８−ビス−
（メトキシカルボニル）−オクチル、ビス−（エトキシ
カルボニル）−メチル、２．２−ビス−（エトキシカル
ボニル）−エチル、３，３−ビス−（エトキシカルボニ
ル）−プロピル、４．４ビス−（エトキシカルボニル）
−ブチルアルいは５．５−ヒス−（エトキシカルボニル
チルである。
重縮合反応に適する末端基置換基Ｒ１および（または）
Ｒ２を有する式Ｉで示される化合物は液晶重縮合物の製
造に適している。
式■はこれらの化合物のラセミ体および光学対掌体の両
方、ならびにその混合物を包含するものとする。
式■および式Ｉａ〜Ｉｔで示される化合物の中で、その
分子中に含まれる基のうちの少なくとも一つが好ましい
ものとして前記にあげた意味のうちの一つを有する相当
する化合物は好ましい化合物である。
部分式Ｉａ〜ｒｂで示される二核状化合物の中では、下
記の部分式Ｉａａ−Ｉａｌで示される化合物および部分
式Ｉｂａ−Ｉｂｆで示される化合物が好ましい： Ｒ’−ＰｈｅＸ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ−Ｒ”　　　
　　　Ｉ　ａａＲ’−ＰｈｅＸｚ−Ｃｏ−０−Ｐｈｅ−
Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ａｂＲ’−ＰｈｅＸ２−０−Ｃ
ｏ−Ｐｈｅ−Ｒ２Ｉ　ａｃＲ’−ＰｈｅＸ２−Ｃ＝Ｃ−
Ｐｈｅ−Ｒ２１　ａｄＲ’−ＰｈｅＸｚ−ＣＨ．ＣＨ．
−Ｃｙｃ−Ｒ”　　　　　　Ｉ　ａｓＲ’−ＰｈｅＸ．
−０−ＣＯ−Ｃｙｃ−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ａｆＲ’
−ＰｈｅＸ２−Ｃ；Ｃ−Ｃｙｃ−Ｒ’　　　　　　　　
　　　　　　　　Ｉ　　ａｇＲ’−ＰｈｅＸ２−Ｃｏ−
０−Ｃｙｃ−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ａｈＲ’−Ｐｈｅ
Ｘ，−ＣＨｚＣＨｚ−ＰｈｅＸ−Ｒ”　　　　　　Ｉ　
ａｔＲ’−ＰｈｅＸｚ−０−Ｇｏ−ＰｈｅＸ−Ｒ’　　
　　　　　Ｉ　ａｊＲ’−ＰｈｅＸ２−０−Ｇｏ−Ｐｈ
ｅＸ−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ａｋＲ’−ＰｈｅＸｚ−
Ｃ＝Ｃ−ＰｈｅＸ−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ａｌＲ’−
ＰｈｅＸ２−Ｃｙｃ−Ｒ”　　　　　　　　　　Ｉ　ｂ
ａＲ’−ＰｈｅＸ２−Ｂｃｏ−Ｒ”　　　　　　　　　
　Ｉ　ｂｂＲ’−ＰｈｅＸ２−Ｐｙｒ−Ｒ２Ｉ　ｂｃＲ
’−ＰｈｅＸｚ−Ｐｙｄ−Ｒ’　　　　　　　　　　Ｉ
　ｂｄＲ’−ＰｈｅＸ２−Ｃｈｅ−Ｒ”　　　　　　　
　　　　　　　　Ｉ　ｂｅＲ’−ＰｈｅＸ２−ＣＣＮ−
Ｒ”　　　　　　　　　　　　　　　Ｉ　ｂｆ部分式Ｉ
　ｃ　”　Ｉ　ｅで示される三核状化合物の中では、下
記の部分式Ｉｃａ〜Ｉｅｂで示される化合物が好ましい
： Ｒ’−ＰｈｅＸ２−Ａ”−Ａｊ−Ｒ”　　　　　　　　
　Ｉ　ｃａＲ’−Ａ’−ＰｈｅＸ２−Ａ３−Ｒ”　　　
　　　　　　Ｉ　ｃｄＲ’−ＰｈｅＸ、−Ｚ’−Ａ’−
Ａ３−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ｄａＲ’−Ａ’−Ｚ’−
ＰｈｅＸ２−Ａ３−Ｒ”　　　　　　　Ｉ　ｄｂＲ’−
Ａ’−Ｚ’−Ａ’−ＰｈｅＸ２−Ｒ”　　　　　　　Ｉ
　ｄｃＲ’−ＰｈｅＸｚ−Ｚ’−Ａ”−Ｚ”−Ａ３−Ｒ
”　　　　　　Ｉ　ｅａＲ’−Ａ’−Ｚ’−ＰｈｅＸ２
−Ｚ”−Ａ３−Ｒ”　　　　　　Ｉ　ｅｂ部分式Ｉｄａ
〜Ｉｄｃで示される好ましい化合物の中では、下記の部
分式Ｉｄｌ〜Ｉｄ６で示される化合物が特に好ましい： 部分式Ｉｆ〜Ｉｋで示される四核状化合物の中では、下
記の部分式ｌｌ−１８で示される化合物が好ましい： Ｒ’−ＰｈｅＸ２−Ａ”−Ａ３−Ａ”−Ｒ”　　　　　
　　Ｉ　ＩＲ’−Ａ’−ＰｈｅＸ２−Ａ３−Ａ３−Ｒ”
　　　　　　　Ｉ　２Ｒ’−ＰｈｅＸ２−Ｚｌ−Ａ”−
Ａ”−Ａ”−Ｒ”　　　　　　Ｉ　３Ｒ’−Ａ’−Ｚ’
−ＰｈｅＸ、−Ａ”−Ａ３−Ｒ”　　　　　　Ｉ　４Ｒ
’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−ＰｈｅＸ２−Ａ”−Ｒ”　　　
　　　　　Ｉ　　５Ｒ’−Ａ’−Ｚ’−Ａ”−Ａ３−Ｐ
ｈｅＸ２−Ｒ”　　　　　　　　Ｉ　　５Ｒ’−Ｐｈｅ
Ｘ−Ａ２−Ｚ”−Ａ３−Ａ３−Ｒ”　　　　　　　　　
　Ｉ　　７Ｒ’−Ａ’−ＰｈｅＸ−Ｚ”−Ａ３−Ａ３−
Ｒ”　　　　　　　　　Ｉ　　ｇ上記部分式１ａａ〜工
８で示される化合物において、ＰｈｅＸ　２は好ましく
は、２．３−ジフルオロ−１，４−フェニレンまたは２
，３−ジクロロ−１，４−フェニレンである。部分式Ｉ
ｃａ−１８で示される化合物中に存在する基Ａ１、基Ａ
２および基Ａ３は好マしくは、トランス−１，４−シク
ロヘキシレン（Ｃｙｃ）、１．４−シクロヘキシレン（
Ｃｈｅ）、ｌ、４−フェニレン（Ｐｈｅ）、１．４−ビ
シクロ（２，２，２）オクチレン（Ｂｃｏ）、２−また
は３−ハロゲノ−１，４−フェニレン（ＰｈｅＸ）　、
ジオキサン−２，５−’；イル（Ｄｉｏ）、ジチアン−
２，５−ジイル（Ｄｉｔ）あるいはピリミジン−２，５
−ジイル（Ｐｙｒ）である。上記式で示される化合物に
おいて、１個または２個以上の基ＣＣＮ、　Ｄｉｏ、Ｄ
ｉｔおよび（または）Ｐｙｒを有する相当する化合物は
それぞれ、２種の可能な２．５　　（ＤＩＯ，ＤｔＬ％
Ｐｙｒ）位置異性体あるいは１．４−　（ＣＣＮ）位置
異性体を包含する。
その分子中に存在するＰｈｅＸ２が２．３−ジフルオロ
−１，４−フェニレンまたは２．３−ジクロロ−１，４
−フェニレンである後記の狭い群ＩＩ〜Ｘ■で示される
化合物は特に好ましい化合物である。
アルキルは好ましくは直鎖状のメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル
、ノニルまたはデシルであり、そしてオキサアルキルは
好ましくは、直鎖状の２−オキサプロピル（＝メトキシ
メチル）２−（＝エトキシメチル）または３−オキサブ
チル（−２−メトキシエチル）、２−　３−または４−
オキサペンチル、２−　３−　４−または５−オキサヘ
キシル、２−　３−　４−５−または６−オキサヘプチ
ル、２−３−４−　５−　６−または７−オキサオクチ
ル、２−　３−　４−　５−　６−　７−または８−オ
キサノニルあるいは２−　３−　４−　５６−　７−　
８−または９−オキサデシルである。
アルコキシは好ましくは、直鎖状のメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘ
プトキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシまたはデシル
オキシである。
ハロゲンは好ましくは塩素まｔ；はフッ素、特に好まし
くはフッ素である。
■　アルキル−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ−アルキルアルキ
ル−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ−アルコキシアルキル−Ｐｈ
ａＸ２−　Ｃｙｃ　−Ｇｏ　−０−アルキル７　ルキシ
−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ　−０−Ｃｏ−アルキルハロゲ
ノ−ＰｈｅＸｚ　−Ｃｙｃ−アルキルニトリル−Ｐｈａ
Ｘ２−　Ｃｙｃ−アルキルハロゲノ−ＰｈａＸ２−　Ｃ
ｙｃ　−Ｃｏ　−０−アルキルアルキル−ＰｈａＸ２−
　Ｃｙｃ−オキサアルキルアルキル−ＰｈａＸ２−　Ｃ
ＣＮ−アルキルアルキル−ＰｈｅＸｚ　−Ｃｈｅ−アル
キル■　アルキル−ＰｈｅＸ、　−Ｐｙｒ−アルキルハ
ロゲノ−ＰｈａＸ２−　Ｐｙｒ−アルキルニトリル−Ｐ
ｈａＸ２−　Ｐｙｒ−アルキル■ ■ アルコキシ−ＰｈａＸ２−　Ｐｙｒ−アルキルアルキル
−ＰｈｅＸ、　−Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ−アルキルアルキル
−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ−アルキルハロゲノ アルキル−ＰｈａＸ、　−Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ　−Ｇｏ　
−０−アルキル アルキル−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ　−０−Ｃ
ｏ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸｚ　−Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ　−ＣＮア
ルキル−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ　−ＰｈｅＸ　−ＣＮア
ルキル−ＰｈｅＸ　２−　Ｐｈｅ　−Ｃｙｃ−アルキル
アルキル−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ　−Ｃｙｃ−アルキル
アルキル−ＰｈｅＸ、　−Ｃｙｃ　−Ｃｙｃ　−ＣＮハ
ロゲノ−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ　−Ｃｙｃ−アルキルア
ルキル−Ｐｈｅ　−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ−アルキルア
ルキル−Ｐｈｅ　−ＰｈｅＸ、　−Ｃｙｃ　−Ｃｏ　−
０−アルキル ニトリル−Ｐｈｅ　−ＰｈｅＸ、　−Ｃｙｃ−アルキル
アルキル−ＰｈｅＸ　−ＰｈａＸ２−　Ｃｙｃ−アルキ
ルアルキル−ＰｈｅＸｚ　−Ｐｈｅ　−Ｐｈｅ　−Ｃｙ
ｃ−アルキ■ アルキル−ＰｈｅＸ　２−　Ｐｈｅ　−Ｐｈｅ　−Ｃｙ
ｃ　−ＣＮアルキル−ＰｈｅＸ　２−　Ｃｙｃ　−Ｐｈ
ｅ　−Ｃｙｃ−アルキル ハロゲ／　−ＰｈｅＸ、　−Ｃｙｃ　−Ｐｈｅ　−Ｃｙ
ｃ−アルキル アルキル−Ｐｈｅ　−Ｃｙｃ　−ＰｈｅＸ　２−　Ｃｙ
ｃ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ　−Ｃｙｃ　−ＰｈｅＸ　、　−Ｃ
ｙｃ−アルキル ニトリル−ＰｈｅＸ　−Ｃｙｃ　−ＰｈｅＸ　、　−Ｃ
ｙｃ−アルキル ニトリル−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−ＰｈａＸ２−Ｃｙｃ−Ｇｏ
−０−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、　−ＣＯ−０−Ｐｈｅ−アルキル
アルキル−ＰｈｅＸｚ　　Ｃｏ　　０−Ｐｈｅ　　ＣＮ
アルキル−ＰｈｅＸｚ−Ｃｏ　　ＯＰｈｅ−ＳＦｓアル
キル−ＰｈａＸ２−０−　Ｇｏ　−Ｐｈｅ−アルキルア
ルキル−ＰｈｅＸ、−０−Ｇｏ−Ｐｈｅ−アルコキシ アルキルＰｈｅＸ２−ＣＨｚＣＨｚ　　Ｐｈｅ−アルキ
ル アルキル−ＰｈｅＸ、　−ＣＨ２Ｃｌ、　−Ｐｈｅ　−
ＣＮハロゲノ−ＰｈｅＸｚ−ＣＨ２Ｃｌ、−Ｐｈｅ−ア
ルキル アルキル−ＰｈｅＸ、　−ＣＨ，ＣＨ，−Ｐｈｅ−アル
コキシ アルキル−ＰｈａＸ２−ＣＩ２ＣＨ２−Ｐｈｅ−アルキ
ル ハロゲノ−ＰｈｅＸ、　−０＝　Ｇｏ　−Ｐｈｅ−アル
キルアルキル−ＰｈｅＸ、　−ＣＨ２ＣＨ２−ＰｈｅＸ
　−ＣＮハロゲノ−ＰｈｅＸｚ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ
Ｘ−ＣＮアルキル−ＰｈｅＸ　２−　Ｃｏ　−０−Ｐｈ
ｅＸ−アルキル アルキル−ＰｈａＸ２−０−Ｃｏ−ＰｈｅＸ−フルキル ■　アルキル−ＰｈａＸ２−　Ｃｏ　−０−Ｃｙｃ−ア
ルキルアルキル−ＰｈａＸ２−０−　Ｃｏ　−Ｃｙｃ　
−７ルー１−　ルハロゲノーＰｈｅＸ、　−０−Ｃｏ　
−Ｃｙｃ−アルキルアルキル−ＰｈｅＸ、−ＣＨ，ＣＨ
，−Ｃｙｃ−アルキ■ アルキル−ＰｈａＸｚ−ＣＨ２ＣＨ１−Ｄｉｏ−アルキ
ル アルキル−ＰｈｅＸｘ　−Ｃ＝　Ｃ−Ｃｙｃ　−ＣＮア
ルキル−ＰｈｅＸ、　−Ｃｏ　−０−Ｐｈｅ　−Ｐｈｅ
−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ！−Ｃｏ　−０−Ｐｈｅ　−Ｐｈｅ
−アルコキシ アルキル−ＰｈｅＸ２−０−　Ｃｏ　−Ｐｈｅ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、−ＣＨ２Ｃｌ、−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ
−アルキル ハロゲノ−ＰｈｅＸ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ
−アルキル ハロゲノ−ＰｈｅＸｔ　−０−Ｃｏ　−Ｐｈｅ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル ニトリル−ＰｈｅＸ２−　Ｇｏ　−０−Ｐｈｅ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸｚ　−ＣＨ，ＣＨ！−Ｐｈｅ　−Ｐ
ｈｅ　−ＣＮアルキル−ＰｈｅＸ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐ
ｈｅ−Ｐｈｅ−ハロゲン アルコキシ−ＰｈｅＸ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ−Ｐｈ
ｅ　−ハロゲン アルコキシ−ＰｈｅＸ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ−Ｐｈ
ｅ　−ＣＮ アルコキシ−ＰｈｅＸ２−ＣＨ，Ｃｌ２−Ｐｈｅ−Ｐｈ
ｅ　−アルキル ニトリル−ＰｈｅＸ、−ＣＨｚＣＨｒ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ
−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ２−　Ｇｏ　−０−Ｃｙｃ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、　−Ｇｏ　−０−Ｐｈｅ　−Ｃｙ
ｃ−アルキル ハロゲノ−ＰｈｅＸｚ　−Ｃｏ　−０−Ｐｈｅ　−Ｃｙ
ｃ−アルキル ハロゲノ−ＰｈｅＸ２−０−　Ｃｏ　−Ｃｙｃ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、−ＣＨ２Ｃｌ、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ
−アルキル アルキル−ＰｈｅＸｚ　−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ　−Ｃ
ｙｃ　−ＣＮニトリル−ＰｈｅＸ２−　Ｃｏ　−０−Ｐ
ｈｅ　−Ｃｙｃ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸｚ　−０−Ｇｏ　−Ｐｈｅ　−Ｃｙ
ｃ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ２−０−　Ｃｏ　−Ｃｙｃ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル ハロゲノ−ＰｈｅＸ２−０−　Ｇｏ　−Ｃｙｃ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ２−　Ｇｏ　−０−Ｃｙｃ　−Ｃｙ
ｃ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、　−０−Ｃｏ　−Ｃｙｃ　−Ｃｙ
ｃ−アルキル ハｌ）ゲノーＰｈｅＸ、　−０−Ｇｏ　−Ｃｙｃ　−Ｃ
ｙｃ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、　−ＣＨ，ＣＨ，−Ｃｙｃ−Ｃｙ
ｃ−アル　キ　ル アルキル−ＰｈｅＸ２−ＣＨ２ＣＨ１−Ｃｙｃ−ＣＣＮ
−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ２−ＣＨ，ＣＨ２−Ｐｙｄ−Ｐｈｅ
−アルコキシ ＣＮ アルキル−ＰｈｅＸ、　−Ｃｏ　−０−Ｐｈｅ　−Ｐｙ
ｄ−アルキル アルキル−ｐｈｅ　−Ｃｏ　−０−ＰｈｅＸ、　−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−ＰｈｅＸ２−Ｐｈｅ
−アルキル ハロゲノ−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−ＰｈｅＸ２Ｐｈｅ−アル
キル ハロゲノ−Ｐｈｅ　−０−Ｇｏ　−ＰｈｅＸｘ　−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−Ｃｙｃ−ＣＨ，ＣＨ，−ＰｈｅＸ、−Ｐｈｅ
−アルキル アルキル−Ｐｈｅ−ＣＨ，ＣＨ，−ＰｈｅＸ、−Ｃｙｃ
−アル　キ　ル アルキル−Ｃｙｃ−ＣＨ２（Ｉｌ、−ＰｈｅＸ２−１ｙ
ｃ−アルキル アルキル−Ｐｈｅ−ＣＨ２Ｃｌ、−ＰｈｅＸ、−Ｐｈｅ
−アルコキシ アルキル−Ｐｈｅ　　ＣＨ２ＣＨ２ＰｈｅＸ２　　Ｐｈ
ｅ　　ＣＮアルキル−Ｐｈｅ−ＣＩ、ＣＨ，−ＰｈｅＸ
２−Ｐｈｅ−ハロゲン アルコキシ−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−ＰｈｅＸ、−Ｐｈ
ｅ　−ハロゲン アルコキシ−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−ＰｈｅＸ、−Ｐｈ
ｅ　−ＣＮ アルコキシ−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−ＰｈｅＸ２−Ｐｈ
ｅ　−アルキル ニトリル−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−ＰｈｅＸ、−Ｐｈｅ
−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ２−　Ｐｈｅ　−Ｃｏ　−０−Ｐｈ
ｅ　−ハロゲノ アルキル−ＰｈｅＸ２−　Ｐｈｅ　−Ｃｏ　−０−Ｐｈ
ｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、−Ｐｈｅ−ＣＨ，ＣＨ２−Ｐｈｅ
−アルキル アルキル−ＰｈｓＸ、−Ｐｈｅ−ＣＨ，ＣＨ，−Ｃｙｃ
−アル　キ　ル アルキル−ＰｈｅＸ、　−Ｃｙｃ−Ｃ：Ｈ，ＣＨ２−Ｐ
ｈｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ！−Ｃｙｃ−ＣＨ，ＣＨ，−Ｃｙｃ
−アＸマ ル　キ　ル アルキル−ＰｈｅＸ２−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ
−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、−Ｐｈｅ−ＣＨ，ＣＨ，−Ｐｈｅ
−ハロゲン アルキル−ＰｈｅＸ２−　Ｐｈｅ　−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐ
ｈｅ　−ＣＮアルキル−ＰｈｅＸ　２−　Ｐｈｅ　−Ｃ
）ｌ　、ＣＨ、−Ｐｈｅ−アルコキシ ニトリル−ＰｈｅＸ２−Ｐｈｅ−ＣＨ２Ｃｌ、−Ｐｈｅ
−アルコキシ ハロゲン−ＰｈｅＸ、−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ
−アルコキシ ハロゲ７−ＰｈｅＸ２−Ｐｈｅ−ＣＨ，ＣＨ２−Ｐｈｅ
−アルキル ニトリル−ＰｈｅＸ２−Ｐｈｅ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｐｈｅ
−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ２−ｃｏ−ｏ−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−
Ｐｈｅ−アルキル ハロゲ／　　ＰｈｅＸｚ　　ｃｏ　　ＯＰｈｅ−Ｇｏ　
　０−Ｐｈｅ−アルキル ハロゲ／−ＰｈｅＸ２−Ｃｏ−０−Ｐｈｅ−０−Ｃｏ　
−Ｐｈｅ−アルキル アルキル−ＰｈｅＸ、−Ｃｏ−０−Ｐｈｅ−０−Ｃｏ　
−Ｐｈｅ−アルキル アルキル−Ｐｈｅ　　Ｃｏ　　ＯＰｈｅＸ２−０−ＣＯ
−Ｐｈｅ−アルキル ハロゲン−Ｐｈｅ−Ｇｏ−０−ＰｈｅＸ、−０−Ｇｏ　
−Ｐｈｅ−アルキル ハロゲノ−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−ＰｈｅＸ２−ＯＣＯ−Ｃ
ｙｃ−アルキル アルキル−Ｐｈｅ−Ｃｏ−０−ＰｈｅＸ、−０ＣＯ−Ｃ
ｙｃ−アルキル ハロゲノ−ＰｈｅＸ、−０ＣＨ２−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−ア
ルキル ハロゲノ−ＰｈｅＸ、−０ＣＨ，−Ｃｙｃ−ＣＨ，ＣＨ
，−Ｃｙｃ−アルキル アルコキシ−ＰｈｅＸ、　−ＯＣＨ，−Ｃｙｃ　−ＣＨ
２ＣＨ２−Ｐｈｅ−アルキル アルコキシ−ＰｈｅＸ２０ＣＨ２Ｐｈｅ−ＣＨｚＣＨｚ
Ｐｈｅ−アルキル アルコキシ−ＰｈｅＸ２　０ＣＨｘ　　Ｐｈｅ　　Ｃｏ
−０−Ｐｈｅ−ア　ル　キ　ル アルコキシ−ＰｈｅＸ、−０ＣＨｘ　−Ｃｙｃ−ＣＯ＝
Ｏ−Ｐｈｅ−アルキル アルコキシ−ＰｈｅＸｚ　　０ＣＨ２−Ｃｙｃ−ＣＨ２
ＣＨ２−Ｃｙｃ−アルキル 式Ｉで示される化合物は文献〔たとえばＨｏｕｂｅｎ−
ＷａｙｌによるＭｅＬｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎ
ｉｓｃｈｅｎＣｈｅｍ　ｉｓ（Ｇｅｏｒｇ−Ｔｈ　ｉｅ
ｍｅ出版社、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ市）のような標準的学
術書〕に記載されているようなそれ自体既知の方法によ
り、特に、あげられている反応に適する既知の反応条件
の下で製造される。これらの反応において、それ自体既
知であって、ここでは詳細に説明されていない変法も使
用することもできる。
所望により、原料化合物はまた、これらを反応混合物か
ら単離せずに、直ちにさらに反応させて、式Ｉで示され
る化合物を生成するようにして、その場で生成させるこ
とができる。
式■において、基Ａ１、基Ａ２または基Ａ３のうちの一
つが２．３−ジフルオロ−１，４−フェニレンである相
当する化合物は原料として１．２−ジフルオロ−ベンゼ
ンを使用して得ることができる。
この場合に、１．２−ジフルオロ−ベンゼンを既知の方
法〔たとえば、Ａ、　Ｍ、　Ｒｏｅ等によるＪ。
Ｃｈｅｍ、　Ｓａｃ、　Ｃｈｅｍ、　Ｃｏｍｍ、、　２
２．５８２頁（１９６５年）に記載に方法〕によって金
属化し、生成物を相当する求電子性化合物と反応させる
。このようにして得られるｌ−置換２，３−ジフルオロ
ベンゼンに対してこの一連の反応をもう一度行なうこと
ができ、この方法で、式Ｉで示される１、４−ジ置換２
，３−ジフルオロベンゼン誘導体が得られる。１．２−
ジフルオロベンゼンまたは１−Ｒ３２，３−ジフルオロ
ベンゼンは不活性溶媒、たとえばジエチルエーテル、テ
トラヒドロ７ラン、ジメトキシエタン、ｔａｒｔ−ブチ
ルメチルエーテルまたはジオキサン、あるいはヘキサン
、へブタン、シクロヘキサン、ベンゼンまたはトルエン
のような炭化水素、あるいはこれらの溶媒の混合物中で
、所望により、テトラメチルエチレンジアミンまたはへ
キサメチルリン酸トリアミドなどの錯化剤を添加して、
−１００°Ｃ〜＋５０°Ｃ１好ましくは一７８°Ｃ〜０
℃の温度において、フェニルリチウム、リチウムテトラ
メチルピペリジンあるいはｎ−１ｓｅｃ−またはｔａｒ
ｔ−ブチルリチウムと反応させる。
リチウム−２，３−ジフルオロフェニル化合物は−１０
０°Ｃ〜０°Ｃ１好ましくは一５０°Ｃで、相当する求
電子性化合物と反応させる。適当な求電子性化合物はア
ルデヒド化合物、ケトン化合物、ニトリル化合物、エポ
キシド化合物、カルボン酸誘導体（たとえばエステル、
無水物またはハライド）、ハロゲノギ酸エステル化合物
あるいは二酸化炭素である。
脂肪酸または芳香族のハロゲン化合物と反応させる場合
には、リチウム−２，３−ジフルオロフェニル化合物を
金属交換し、生成物を遷移金属触媒の存在の下で、結合
させる。この目的にハアエンー２，３−ジフルオロフェ
ニル化合物（ＤＥＯＳ　３６３２４１０参照）またはチ
タン−２，３−ジフルオロフェニル化合物（ＤＥ　Ｏ３
３７３６４８９参照）が特に適している。
式■で示される化合物は式■において、Ｈ原子の代りに
、１個または２個以上の還元可能な基および（または）
Ｃ−Ｃ結合を有する相当する化合物を還元することによ
り製造することができる。
好−ましくは使用できる還元可能な基はカルボニル基、
特にケト基、さらにまた、たとえば遊離のまたはエステ
ル化されているヒドロキシル基、芳香族に結合している
ハロゲン原子である。
還元に好適な原料化合物は式■において、シクロヘキサ
ン環の代りに、シクロヘキセン環またはシクロヘキサノ
ン環を有することができ、そして（または）−ＣＨ，Ｃ
Ｌ−基の代りに一〇〇＝ＣＨ−基を有することができ、
そして（または）　−ＣＨ，−基の代りに−Ｃ〇−基を
含有でき、そして（または）Ｈ原子の代りに遊離のまた
は官能性に変えられている（たとえばその１）−）ルエ
ンスルホネートの形の）　ＯＨを有することができる相
当する化合物である。
還元は、たとえば約０″〜約２００°の温度で、約１〜
２００バールの圧力下に、不活性溶媒、たとえばメタノ
ール、エタノールまたはインプロパツールのようなアル
コール、テトラヒドロフラン（ＴＨＥ）またはジオキサ
ンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステル、酢
酸のようなカルボン酸あるいはシクロヘキサンのような
炭化水素中で接触水素添加により、行なうことができる
。適当な触媒は有利には、ＰｔまたはＰｄのような貴金
属であり、これらは酸化物の形で（たとえばＰｔＯ２ま
たはＰｄ０）、支持体上で（たとえば木炭、炭酸カルシ
ウムまたは炭酸ストロンチウム上のＰｄ）　、あるいは
微粉砕された形で使用することができる。
ケトン化合物はまた、Ｃｌｅｍｍｅｎｓｅｎの方法（こ
の方法では、アニン、アニンアマルガムまたはスズと塩
酸とを、有利には水性−アルコール性溶液中または水／
トリエンを用いる不均質相系中で、約８０〜１２０’の
温度で使用する）、あるいはＷｏｌｆｆ−Ｋｉｓｈｎｅ
ｒの方法（この方法では、ヒドラジンを、有利にはＫＯ
ＨまたはＮａＯＨのようなアルカリの存在の下で、ジエ
チレングリコールマタはトリエチレングリコールのよう
な高沸点溶媒中において、約１００〜２００°の温度に
おいて使用する）により還元でき、アルキル基および（
または）−ＣＨ，ＣＨ，−架橋を有する式Ｉで示される
相当する化合物を生成することができる。
複合水素物を用いる還元もまた使用できる。
−例として、アリールスルホニルオキシ基はＬｉＡｌ２
Ｈ，を用いる還元により分離でき、そして特に、ｐ−ト
ルエンスルホニルオキシメチル基は、有利にはジエチル
エーテルまたはＴＨＦのような不活性溶媒中で、約０〜
１００°の温度において、メチル基に還元することがで
きる。二重結合は（ＣＮ基が存在していても）、メタノ
ール中でＮａＢＨ、またはトリブチル−スズ水素化物を
用いて水素添加することができる。
式１で示されるエステル化合物はまた、相当するカルボ
ン酸化合物（またはそれらの反応性誘導体）をアルコー
ルまたはフェノール化合物（あるいはそれらの反応性誘
導体）でエステル化することにより得ることができる。
前記カルボン酸化合物の特に適当な反応性誘導体は酸ハ
ライド化合物、中でもクロライド化合物およびブロマイ
ド化合物、およびまた酸無水物、たとえば混合酸無水物
、アジド化合物あるいはエステル化合物、特にアルキル
基にＣ原子１〜４個を有するアルキルエステル化合物で
ある。
前記アルコールまたフェノール化合物の使用できる反応
性誘導体は、特にＮａまたＫにようなアルカリ金属の相
当する金属アルコレートまたは金属フェルレートである
。
エステル化は有利には、不活性溶媒の存在の下で行なう
。特に好適な溶媒はジエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチル
エーテル、ＴＨＦ、、ジオキサンまたはアニソールのよ
うなエーテル、アセトン、ブタノンまたはシクロヘキサ
ノンのようなケトン、ＤＭＦまたはリン酸ヘキサメチル
トリアミドのようなアミド、ベンゼン、トルエン、また
はキシレンのような炭化水素、四塩化炭素またはテトラ
クロロエチレンのようなハロゲノ炭化水素、ジメチルス
ルホキシドまたはスルホランのようなスルホキシドであ
る。水不混和性溶媒を同時に有利に使用でき、これによ
りエステル化中に生成された水を共沸蒸留により留去す
ることができる。場合により、エステル化用溶媒として
、過剰の有機塩基、たとえばピリジン、キノリンまたは
トリエチルアミンを使用することもできる。エステル化
はまた溶媒の不存在下に、たとえば反応成分を酢酸ナト
リウムの存在の下で単純に加熱することにより行なうこ
ともできる。反応温度は通常、−５０〜＋２５０°好ま
しくは一２０°〜＋８０°である。これらの温度で、エ
ステル化反応は一般の１５分〜４８時間に完了する。
詳細には、エステル化の反応条件はほとんど使用する原
料物質の種類に依存する。すなわち、遊離カルボン酸は
遊離アルコールまたはフェノールと一般に強酸、たとえ
ば塩酸または硫酸のような鉱酸の存在下に反応させる。
好適な反応方法は酸無水物、または特に酸クロライドを
アルコールと、好ましくは塩基性媒質中で反応させる方
法であり、この場合に塩基としては、水酸化ナトリウム
または水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムま
たは炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属の炭酸塩あ
るいは炭酸水素塩、酢酸ナトリウムまたは酢酸カリウム
のようなアルカリ金属酢酸塩、水酸化カルシウムのよう
なアルカリ土類金属水酸化物、あるいはトリエチルアミ
ン、ピリジン、ルチジン、コリジンまたはキノリンのよ
うな有機塩基が特に重要である。もう一つの好適なエス
テル化方法は上記のアルコールまたはフェノールを先ス
たとえば水酸化ナトリウムまず水酸化カリウムのエタノ
ール溶液で処理することによりナトリウムアルコレート
またはナトリウムフェルレートあるいはカリウムアルコ
レートまたはカリウムフエル−トに変換し、このアルコ
レートまたはフェルレートを単離し、次いでアセトン中
またはジエチルエーテル中に炭酸水素ナトリウムまたは
炭酸カリウムとともに、撹拌しながら懸濁し、この、懸
濁液にジエチルエーテル、アセトンまたはＤＭＦ中の酸
クロライドまたは酸無水物の溶液を、有利には約−２５
°〜＋２０°の温度で加えることよりなる方法である。
式Ｉで示されるニトリル化合物〔式中、Ｒ１および（ま
たは）Ｒ２はＣＮであり、そして（または）式中、Ａｌ
４２および（または）　Ａ３は少なくとも１個のＣＮ基
により置換されている〕を製造するためには、相当する
酸アミド化合物、たとえば基ＸがＣ０ＮＨ、基により置
き換えられている相当する化合物を脱水させることがで
きる。このアミド化合物は、たとえば相当するエステル
化合物または酸ハライド化合物からアンモニアとの反応
により得られる。適当な脱水剤の例には、５ｏｃａ　、
、ＰＣＱ２、ｐｃ＋２．、　　ｐｏｃｎ、、Ｓｏ、（４
，またはＣ０ＣＱ２のような無機酸クロリドおよびまた
Ｐ２Ｏ６、Ｐ、Ｓ５、ＡＱｃＱ、（この化合物は、たと
えばＮａＣ（２との複合化合物として使用する）、芳香
族のスルホン酸およびスルホン酸ハライドがある。この
反応は不活性溶媒の存在下または不存在下に、約０°〜
１５０°の温度で行なうことができる。使用できる溶媒
の例には、ピリジンまたはトリエチルアミンのような塩
基、ベンゼン、トルエンまたはキシレンのような芳香族
炭化水素、あるいはＤＭＦのようなアミドがある。
式Ｉで示される前記ニトリル化合物を製造するためには
、また相当する酸ハライド化合物、好ましくはクロライ
ドをスルファミドと、有利にはテトラメチレンスルホン
のような不活性溶媒中で、約８０°〜１５０°の温度、
好ましくは１２０゜において反応させることができる。
通常の方法で仕上げ処理した後に、ニトリル化合物を直
接に単離することができる。
式Ｉで示されるエーテル化合物〔式中、Ｒ１および（ま
たは）Ｒ２はアルコキシ基であり、そして（または）式
中、Ｚ′および（または）　ｚ２は一０ＣＲ，または−
ＣＨ２Ｏ−基である〕は相当するヒドロキシル化合物、
好ましくは相当するフェノール化合物のエーテル化によ
り得ることができる。ヒドロキシル化合物は有利には先
ず、相当する金属誘導体に、たとえばＮａＨｓ　　Ｈａ
ＮＨ＊、ＮａＯＨ，ＫＯＨ。
Ｎａ、ＣＯｓまたはに、Ｃｏ、で処理することにより相
当するアルカリ金属アルコレ−・ト化合物またはアルカ
リ金属フエルレート化合物に変換する。この誘導体は次
いで相当するアルキルハライド、アルキルスルホネート
またはジアルキルスルフェート化合物と、有利にはアセ
トン、ｌ、２−ジメトキシエタン、ジメチルホルムアミ
ドまたはジメチルスルホキシドなどの不活性溶媒中で、
あるいはまた過剰の水性または水性−アルコール性Ｎａ
ＯＨまたはＫＣＮ中で、約２０°〜１００°の温度にお
いて反応させることができる。
式■で示されるニトリル化合物〔式中　Ｒ１および（ま
たは）　Ｒ２はＣＮであり、そして（あるいは）式中、
ＡＩ、八！および（または）　Ａ３は少なくとも１個の
ＣＮ基で置換されている〕を製造するためには、また式
Ｉで示される相当する塩素化合物または臭素化合物〔式
中、Ｒ１および（または）Ｒ２はＣａまたはＢｒであり
、そして（あるいは）式中、ＡｌＡ２および〔または）
Ａ３は少なくとも１個のＣｌ２ｉ子まｔ；はＢｒｊＫ子
により置換されている〕をシアニド化合物、有利にはＮ
ａＣＮ、　ＫＣＮまたはＣｕｚ　（ＣＮ）ｚのような金
属シアニドと、たとえばピリジンの存在の下で、ジメチ
ルホルムアミドまたはＮ−メチルピロリドンのような不
活性溶媒中において、２０°〜２００°の温度で反応さ
せることができる。
式Ｉにおいて、Ｒ１またはＲ２がＦ　、　ＣＱＳＢｒあ
るいはＣＮである相当する化合物はまた、相当するジア
ゾニウム塩化合物から、そのジアゾニウム基をフッ素原
子、塩素原子、臭素原子あるいはＣＮ基により、たとえ
ばＳｃｈｉｅｍａｎｎまたはＳａｎｄ−ｍｅｙｅｒの方
法によって、置き換えることにより得ることができる。
このジアゾニウム塩化合物は、たとえば式Ｉにおいて、
基Ｒ１および（または）基Ｒ２の代りにｌ個（または２
個）のハロゲン原子を有する相当する化合物をニトロ化
し、相当するアミンに還元し、次いで、たとえば水溶液
中でＮａＮ０□またはＫＮＣｈを使用して、約−１Ｏ〜
＋ｌＯ°の温度でジアゾ化することにより製造すること
ができる。
ジアゾニウム基をフッ素で置き換えるためには、化合物
を無水フッ化水素酸中でジアゾ化し、次いで加熱するか
、あるいは化合物を四フッ素化ホウ酸と反応させて、ジ
アゾニウムテトラフルオボレートを生成させ、この化合
物を次いで加熱により分解させることができる。
ＣＱ、、Ｂｒ、またはＣＮによる置換は、有利にはジア
ゾニウム塩水溶液をＳａｎｄｍｅｙｅｒ法によって、Ｃ
ｕ、Ｃｕ１、ＣｕＪｒ２またはＣ＋ｇ（ＣＮ）ｚと反応
させることにより行なう。
式Ｉにおいて　）２＋またはＲ２がＳＦ、である相当す
る化合物はＤＥ−ＯＳ　３７２１２６８に従い製造する
ことができる。式１において　Ｒ１またはＲ２が−ＮＣ
Ｓである相当するインチオシアネート化合物はＤＥ−Ｏ
Ｓ　３７１１５１０に従い製造される。式Ｉにおいて、
Ｒ１またはＲ２が一〇Ｎである相当するイソニトリル化
合物はＤＥ−ＯＳ　３６３３４０３に記載の方法と同様
の方法によって製造される。
トラン化合物およびアルキン化合物〔式Ｉにおいて　Ｒ
１および（または）Ｒ２はアルキル基であり、この基中
に存在する１個または２個以上のＣＮ２基は−ＣミＣ−
により置き換えられており、そして（あるいは）Ｚｌお
よび（または）Ｚ２は−ＣミＣ−である〕は、たとえば
相当するハロゲン化合物を塩基性溶媒中で、遷移金属触
媒の存在の下で、アセチリドと反応させることにより、
製造される。
この場合に、パラジウム触媒が好ましく使用でキ、特に
、ビス−（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＦ
）クロライドとヨー化銅との混合物を溶媒としてのピペ
リジン中で好ましく使用することができる。
本発明による液晶相は、本発明による化合物の一種また
は二種以上に加えて、好ましくはさらに別の成分として
、２〜４０種、特に４〜３０種の成分を含有する。これ
らの相は特に好ましくは、本発明による化合物の一種ま
たは二種以上に加えて７〜２５種の成分を含有する。こ
れらの別種の成分は好ましくはネマティックまたはネマ
トゲニツク（単変性または等方性）物質、特にアゾキシ
ベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフェ
ニル化合物、ターフェニル化合物、フェニルまたはシク
ロへキシルベンゾエート化合物、フェニルまたはシクロ
へキシルシクロヘキサンカルボキシレート化合物、フェ
ニルまたはシクロへキシルシクロへキシルベンゾエート
化合物、フェニルまたはシクロへキシルシクロへキシル
シクロヘキサンカルボキシレート化合物、シクロヘキシ
ルフェニルベンゾエート化合物、シクロヘキシルフェニ
ルシクロヘキサンカルボキシレート化合物、シクロへキ
シルフェニルシクロへキシルシクロヘキサンカルボキシ
レート化合物、フェニルシクロヘキサン化合物、シクロ
へキシルビフェニル化合物、７エ二ルシクロへキシルシ
クロヘキサン化合物、シクロへキシルシクロヘキサン化
合物、シクロヘキシルシクロヘキセン化合物、シクロへ
キシルシクロへキシルシクロヘキセン化合物、１．４−
ビス−シクロヘキシルベンゼン化合物、４．４’−ビス
−シクロへキシルビフェニル化合物、フェニル−まｔ二
はシクロヘキシル−ピリミジン化合物、フェニル−また
はシクロヘキシル−ピリジン化合物、フェニル−または
シクロヘキシル−ジオキサン化合物、フェニル−または
シクロへキシル−１，３−ジチアン化合物、■、２−ジ
フェニルエタン化合物、１．２−ジシクロヘキシルエタ
ン化合物、ｌ−フェニル−２−シクロヘキシルエタン化
合物、■−シクロへキシル−２−（４−フェニルシクロ
ヘキシル）−エタン化合物、■−シクロへキシル−２−
ビフェニリルエタン化合物、■−フェニルー２−シクロ
へキシルフェニルエタン化合物、場合にヨリハロゲン化
されているスチルベン化合物、ベンジルフェニルエーテ
ル化合物、トラン化合物および置換されているケイ皮酸
化合物の群からの物質から選択される。これらの化合物
中に存在する１、４−フェニレン基はまた、７ツ素化さ
れていることができる。
本発明による相の別種の成分として適する最も重要な化
合物は次式１２．３．４および５で示すことができる特
徴を有する： Ｒ’−Ｌ−Ｅ−Ｒ＃Ｉ Ｒ’　−Ｌ−ＣＯＯ−Ｅ−Ｒ“　　　　　　　　　　２
Ｒ’−Ｌ−〇〇〇−Ｅ−Ｒ“　　　　　　　　　　３Ｒ
’−Ｌ−ＣＨ２ＧＨｚ−Ｅ−Ｒ”　　　　　　　　　４
Ｒ’−Ｌ−ＣミＣ−Ｅ−Ｒ”　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　５式１１式１、式２、式４およ
び式５において、ＬおよびＥは同一または異なることが
でき、相互に独立して、それぞれ、−Ｐｈｅ−１−Ｃｙ
ｃ−１−Ｐｈｅ−Ｐｈａ−１−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃ
ｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｐｙｒ、　−Ｄｉｏ、−Ｇ−Ｐｈｅ
−および−〇−Ｃｙｃ−ならびにそれらの鏡像基からな
る群からの二価の基であり、Ｐｈｅは１．４−フェニレ
ンであり（この基は非置換であるか、またはフッ素で置
換されている、Ｃｙｃはトランス−１，４−シクロヘキ
シレンまたは１．４−シクロヘキセニレンであり、Ｐｈ
ｅはピリミジン−２，５−ジイルまたはピリジン−２，
５−ジイルであり、Ｄｉｏは１．３−ジオキサン−２，
５−ジイルであり、そしてＧは２−（トランス−１，４
−シクロヘキシル）−エチル、ピリミジン−２，５−ジ
イル、ピリジン−２，５−ジイルまたは１．３−ジオキ
サン−２，５−ジイルである。
好ましくは、基りおよび基Ｅのうちの一つはＣｙｃ、　
ＰｈｅまたはＰｙｒである。Ｅは好ましくは、Ｃｙｃｌ
ＰｈｅまたはＰｈｅ−Ｃｙｃである。
本発明による相は、好ましくは、式１．２．３．４およ
び５において、その分子中に存在する基りおよび基Ｅが
ＣｙｃｌＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選ばれる相
当する化合物から選択される成分の一種または二種以上
と、同時に、式１１２．３．４および５において、その
分子中に存在する基りおよび基Ｅのうちの一つがＣｙｃ
ｌＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選ばれ、そして基
りおよび基Ｅのうちの他の一つが−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−−
Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｇ−Ｐｈｅ
−および−Ｇ−Ｃｙｃ−からなる群から選ばれる相当す
る化合物から選択される成分の一種または二種以上およ
び場合により、式１，２．３．４および５において、そ
の分子中に存在する基りおよび基Ｅが−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ
−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｇ−Ｐｈｅ−および−〇−
Ｃｙｃ−からなる群から選ばれる相当する化合物から選
択される成分の一種または二種以上を含有する。
部分式１ａ、２ａ、３ａ、４ａおよび５ａで示される化
合物においては　Ｒ／およびＲ“は相互に独立して、そ
れぞれ、８個までの炭素原子を有するアルキル、アルケ
ニル、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルカノイ
ルオキシである。これらの化合物の大部分の場合に、Ｒ
′およびＲ“は相互に異なっており、これらの基の一つ
は、通常、アルキルまたはアルケニルである。
部分式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで示される化
合物においては、Ｒ“は−ＣＮ、−ＣＦ、、ＦｌＣＱま
たは−ＮＣＳであり、この場合に　Ｒ／は部分式ｌａ〜
５ａで示される化合物について前記した意味を有し、好
ましくはアルキルまたはアルケニルである。しかしなが
ら式Ｌ　２．３．４および５で示される化合物において
包含されるその他の種々の置換基はまＩ；使用すること
ができる。かなりのこのような物質またはその混合物さ
えも、市販されている。これらの物質の全部は文献から
既知の方法によりまたはその類似方法により得ることが
できる。
本発明による相は、化合物１　ａｓ　　２　ａｓ　３１
％４ａおよび５ａからなる群（群ｌ）からの成分に加え
て、好ましくは化合物１ｂ、２ｂ、３ｂ。
４ｂおよび５ｂからなる群（群２）からの成分を含有し
、その割合は好ましくは下記のとおりである： 群ｌ：２０〜９０％、特に、３０〜９０％群２：１０〜
８０％、特に、１０〜５０％そして本発明による化合物
と群ｌおよび群２からの化合物との割合の合計は１００
％までである。
本発明による相は好ましくは、本発明による化合物を１
〜４０％特に好ましくは、５〜３０％含有する。本発明
による化合物を４０％より多い量、特に４５〜９０％の
量で含有する相はまた、好ましい本発明による相は好ま
しくは三種、四種または三種の本発明による化合物を含
有する。
本発明による相はそれ自体慣用の方法で調製される。一
般に、諸成分を相互に、好ましくは高められた温度で溶
解させる。本発明による液晶相は適当な添加剤を使用す
ることにより、これらを従来開示されているタイプの全
部の液晶表示素子で使用できるように変性することがで
きる。
このような添加剤は当業者にとって既知であり、文献（
Ｈ，ｋｅｌｋｅｒ／Ｒ，ＨａＬｚによるＨａｎｄｂｏｏ
ｋｏｆ　Ｌｉｑｕｉｄ　ＣｒｙｓｔａｌｓＳＶｅｒｌａ
ｇ　Ｃｈｅｍｉｅ、　Ｗｅｉｎ−ｈｅｉｍ、　１９８０
年）に詳細に記載されている。たとえば、着色ゲスト−
ホスト系を生成するために多色性染料を添加でき、ある
いは誘電異方性、粘度および（または）ネマティック相
の配向を変えるための物質を添加することができる。
次側は本発明を制限することなく、説明するためのもの
である。ｍ、　ｐ、−融点であり、Ｃ０ｐ。
＝透明点である。本明細書全体を通して、パーセンテー
ジは重量によるパーセンテージである。
全ての温度は摂氏度で示すものである。
「慣常の方法で仕上げる」の用語は次の意味を有するも
のとする二本を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、
有機相を分離し、乾燥させ、次いで蒸発させ、生成物を
結晶化および（または）クロマトグラフィにより精製す
る。
さらにまた、略語は次の意味を有するものとする二〇二
結晶−固体状態、Ｓ：スメクテイツク相（インデックス
相のタイプの特徴を示す）、Ｎ：ネマティック状態、Ｃ
ｈ：コレステリック相、■＝等方性相。二種の記号間の
数字は転移温度を摂氏度で示すものである。
例　　ｌ ジシクロへキシルカルボジイミドｌＯミリモルとトルエ
ン１．５ｍ（２との混合物を、ｐ−ペンチル安息香酸ｌ
Ｏミリモル、２，３，４．−　トリフルオロフェノール
ｌＯミリモル〔この化合物は文献：Ａ、Ｍ。
Ｒｏｅ等によるＣｈｅｍ、　Ｃｏｍｍ、　１９６５−１
５８２頁に従い、１．２．３−　トリフルオロベンゼン
から、例２と同様に一５０℃でｎ−ブチルリチウムによ
りメタレート化し、次いで大気中酸素により酸素付与す
ることにより製造される〕、４−ジメチルアミノピリジ
ン１ミリモルおよびトルエン１５．０ｍ１２の混合物に
加える。混合物を室温で４時間撹拌した後に、シュウ酸
２０ｍｇを加え、混合物をさらに３０分間撹拌する。慣
用の方法で仕上げ、２．３．４−トリフルオロフェニル
、ｐ−ペンチルベンゾエートを得る。
例　　２ ｎ−ブチルリチウムのヘキサン／テトラヒドロフラン（
１：　ｌ）中の０．８モル溶液１２．５ｍ＋２を一７８
°Ｃで、１，２．３−１−リフルオロベンゼン１０ミリ
モルをテトラヒドロフラン５ｍＱとの混合物に加える。
反応混合物を一５０°Ｃまで温め、７時間撹拌する。無
水気体状二酸化炭素を導入し、酸性にし、次いで慣用の
方法で仕上げ処理した後に得られたカルボン酸生成物を
例１４と同様にして、トランス−４−ペンチルシクロヘ
キサノールで処理する。慣用の方法で仕上げ処理し、ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル２．３．４−トリ
フルオロベンゾエートを得る。
例　　３ １−（２，３，４−トリフルオロフェニル）−４−プロ
ピルシクロへキス−１−エン１０ミリモル（この化合物
は２，３．４−　トリフルオロフェニルリチウムおよび
４−プロピルシクロヘキサノンから、引続くｐ−トルエ
ンスルホン酸による脱水の後に製造される）、活性炭上
パラジウム（１％）０．１ｇおよびトルエン１５ｍｄの
混合物を室温で飽和するまで水素添加する。濾過し、溶
媒を除去した後に、残留物をジメチルスルホキシドｌ　
５ｍｆｆに溶解し、カリウムｔｅｒｔ−ブタル−ト１．
２ｇヲ加え、混合物を室温で２時間撹拌する。酸性にし
、慣用の方法で仕上げ、トランス−１−（２，３，４−
トリフルオロフェニル）−４−プロピルシクロヘキサン
を得る。
同様にして、下記の化合物を製造するニドランス−１−
（２，３，４−トリフルオロフェニル）−４−エチルシ
クロヘキサン トランス−１−（２，３，４−トリフルオロフェニル）
−４−ブチルシクロヘキサン トランス−１−（２，３，４−トリフルオロフェニル）
−４−ペンチルシクロヘキサン トランス−１−（２，３，４−トリフルオロフェニル）
−４−へキシルシクロヘキサン トランス−１−（２，３，４−１−リフルオロフェニル
）−４−ヘプチルシクロヘキサン トランス−１−（２，３，４−トリフルオロフェニル）
−４−オクチルシクロヘキサン トランス−１−（４−プロピル−２，３−ジフルオロフ
ェニル）−４−エチルシクロヘキサントランス−１−（
４−プロピル−２，３−ジフルオロフェニル）−４−プ
ロピルシクロヘキサントランス−１−（４−プロピル−
２，３−ジフルオロフェニル）−４−ブチルシクロヘキ
サントランス−１−（４−プロピル−２，３−ジフルオ
ロフェニル）−４−ペンチルシクロヘキサントランス−
１−（４−プロピル−２，３−ジフルオロフェニル）−
４−ヘキシルシクロヘキサントランス−１−（４−プロ
ピル−２，３−ジフルオロフェニル）−４−ヘプチルシ
クロヘキサントランス−１−（４−プロピル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−オクチルシクロヘキサント
ランス−１−（４−ペンチル−２，３−ジフルオロフェ
ニル）−４−エチルシクロヘキサントランス−１−（４
−ペンチル−２，３−ジフルオロフェニル）−４−プロ
ピルシクロヘキサントランス−１−（４−ペンチル−２
，３−ジフルオロフェニル）−４−ブチルシクロヘキサ
ントランス−１−（４−ペンチル−２，３−ジフルオロ
フェニル）−４−ペンチルシクロヘキサントランス−１
−（４−ペンチル−２，３−ジフルオロフェニル）−４
−へキシルシクロヘキサントランス−１−（４−ペンチ
ルー２，３−ジフルオロフェニル）−４−ヘプチルシク
ロヘキサントランス−１−（４−ペンチル−２，３−ジ
フルオロフェニル）−４−オクチルシクロヘキサントラ
ンス＝１−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−４−エチルシクロヘキサントランス−１−（４−
エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−４−プロピ
ルシクロヘキサントランス−１−（４−エトキシ−２，
３−ジフルオロフェニル）−４−ブチルシクロヘキサン
トランス−１−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフ
ェニル）−４−ペンチルシクロヘキサントランス−１−
（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−４−
へキシルシクロヘキサントランス−１−（４−エトキシ
−２，３−ジフルオロフェニル）−４−ヘプチルシクロ
ヘキサントランス−１−（４−エトキシ−２，３−ジフ
ルオロフェニル）−４−オクチルシクロヘキサントラン
ス−１−（４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフ
ェニル）−４−エチルシクロヘキサン トランス−１−（４−才クチルオキシ−２，３−ジフル
オロフェニル）−４−プロピルシクロヘキサン トランス−１−（４−才クチルオキシ−２，３−ジフル
オロフェニル）−４−７’チルシクロヘキサン トランス−１−（４−オクチルオキシ−２，３−ジフル
オロフェニル）−４−ペンチルシクロヘキサン トランス−１−（４−オクチルオキシ−２，３−ジフル
オロフェニル）−４−へキシルシクロヘキサン トランス−１−（４−オクチルオキシ−２，３−ジフル
オロフェニル）−４−へブチルシクロヘキサン トランス−１−（４−才クチルオキシ−２，３−ジフル
オロフェニル）−４−オクチルシク口ヘキサン トランス−トランス−４’−（４−ペンチル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−エチルビシクロヘキサン トランス−トランス−４’−（４−ペンチル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−７’口ピルビシク口ヘキサ
ン トランス−トランス−４’−（４−ペンチル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−ブチルビシクロヘキサン トランス−トランス−４’−（４−ペンチル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−ペンチルビシクロヘキサン トランス−トランス−４’−（４−ペンチル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−へキシルビシクロヘキサン トランス−トランス−４’−（４−ペンチル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−へブチルビシクロヘキサン トランス−トランス−４’−（４−ペンチル−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−オクチルビシクロヘキサン トランス−トランス−４’　−（２，３−ジフルオロフ
ェニル）−４−エチルビシクロヘキサントランス−トラ
ンス−４’−（２，３−ジフルオロフェニル）　−４−
７’口ピルビシク口ヘキサン。
Ｃ４１’　Ｓｌ　８１°Ｎ　９６．４６■トランス−ト
ランス−４’−（２，３−ジフルオロフェニル）−４−
ブチルビシクロヘキサントランス−トランス−４’−（
２，３−ジフルオロフェニル）−４−ペンチルビシクロ
ヘキサントランス−トランス−４’−（２，３−ジフル
オロフェニル）−４−ヘキシルビシクロヘキサントラン
ス−トランス−４’−（２，３−ジフルオロフェニル）
−４−ヘプチルビシクロヘキサントランス−トランス−
４’−（２，３−ジフルオロフェニル）−４−オクチル
ビシクロヘキサン例　　４ ａ）　　４−エトキシ−２，３−ジフルオロベンズアル
デヒド ｎ−ブチルリチウムの０．２モル、ヘキサン溶液１２５
ｍｆｆを一７８°Ｃで、２．３−ジフルオロ７エネトー
ル０．２モル、テトラメチルエチレンジアミン０．２モ
ルおよびテトラヒドロフラン４００ｍＱの混合物に加え
、混合物を一６０°Ｃで２時間撹拌する。
この混合物に、Ｎ−ホルミルピペリジン０．２モルとテ
トラヒドロ７ラン２０ｍＱとの混合物を滴下して加える
。−２０°Ｃまで温め、次いで慣用の方法で仕上げ処理
した後に、標題のアルデヒド化合物が無色固形物として
得られる、ｍ、ｐ、ニア０Ｃ０ ｂ）　　４−エトキシ−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ヒドロキシルアミン−〇−スルホン酸０．１２モルと水
５０ｍ（ｌとの混合物を３０°Ｃで、４−エトキシ−２
，３−ジフルオロベンズアルデヒド０．１モルと水１０
０ｍ＋２との混合物に加え、混合物を１時間撹拌する。
６５°Ｃで２時間加熱し、次いで慣用の方法で仕上げ処
理した後に、標題のニトリル化合物が無色固形物として
得られる、ｍ、ｐ、：４５０Ｃ０ ｃ）　　２．３−ジフルオロ−４−シアノフェノール４
−エトキシ−２，３−ジフルオロベンゾニトリル０．１
モルと塩化アルミニウム０．１２モルとトルエン１５０
ｍＱとの混合物を２時間、加熱沸とうさせる。慣用の方
法で仕上げ、標題のフェノール化合物を無色固形物とし
て得る、ｍ−ｐ、　：　１４５℃。
例　　５ ジシクロへキシルカルボジイミド０．１１モルとトルエ
ン２０ｍαとの混合物を、ｐ−ペンチル安息香酸００１
モル、２．３−ジフルオロ−４−シアノフェノール０．
１モル（この化合物は例４に従い製造される）、４−Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノピリジン１５ｇおよびトルエン２
００Ｉ１１１２の混合物に加える。
混合物を室温で４時間撹拌した後に、シュウ酸０．４ｇ
を加え、撹拌をさらに３０分間続ける。慣用の方法で仕
上げ、４−（４−ぺ°ンチルベンソイルオキシ）−２，
３−ジフルオロベンゾニトリルを得る、ｍ、ｐ、：３３
°Ｃ０ 同様にして、下記の化合物を製造する：４−（４−エチ
ルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（４−プロピルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−ブチルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフル
オロベンゾニトリル ４−（４−ヘキシルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−ヘプチルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル ４−（４−オクチルベンゾイルオキシ）−２，３−ジフ
ルオロペンゾニトリル ４−　（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）
−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル、Ｃ９８°Ｎ　１０５．９’　１４−（４−（ト
ランス−４−ブチルシクロヘキシル）−ベンゾイルオキ
シ’）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（トランス−４−へキシルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル
）−ベンゾイルオキシ）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル 例　　６ トランスー４−オクチルシクロヘキサン−カルボニルク
ロライド０．１モル（この化合物は相当するカルボン酸
からトルエン中でオキザリルクロライドを用いて製造さ
れる）とメチレンクロライド７５ｍｆｆとの混合物を、
２，３−ジフルオロ−４−シアノフェノール０．１モル
（この化合物は例４に従い製造される）、ピリジン０．
１２モル、４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジン１０ミ
リモルおよびメチレンクロライド２５０Ｉ＋Ｉａの混合
物に加える。混合物を室温で１０時間撹拌した後に、稀
塩酸、重炭酸ナトリウム飽和溶液および水で洗浄する。
慣用の方法で仕上げ、４−（トランス−４−オクチルシ
クロヘキサンカルボニルオキシ）−２，３−ジフルオロ
ベンゾニトリルを得る。
例　　７ ａ）１−（４−ペンチルシクロへキス−１−エニル）−
２，３−ジフルオロベンゼン ヘキサン３２０ｍｆｆ中のｎ−ブチルリチウム０．５２
５モルの溶液を、−７８°Ｃで、１．２−ジフルオロベ
ンゼン０．５モル、テトラヒドロ７ラン１０００ｍｆｆ
およびテトラメチルエチレンジアミン０．５モルの混合
物に加える。混合物を一６０’Ｏで３時間撹拌した後に
、テトラヒドロ７ランＬＯＯｍ＋２中に溶解した４−ペ
ンチルシクロへキサノン０．５２５モルを滴下して加え
、混合物を室温までゆっくり温める。中和した後に得ら
れたアルコール生成物を精製することなく、トルエン２
５　Ｏｍ　Ｑ　中ｉ：：　溶解し、水分離器を用いて、
ｐ　−ｈルエンスルホン゛酸２ｇと３時間加熱する。慣
用の方法で仕上げ、１−（４−ペンチルシクロへキス−
１−エニル）−２，３−ジフルオロベンゼンヲ得ル、沸
点：１２３°Ｃ／　０．５ｍｍＨｇ。
ｂ）　　４−（４−Ｃンチルシクロヘキス−１−エニル
）−２，３−ジフルオロベンズアルデヒドラトラヒドロ
フラン２０＋＋ＩＤ、中のＮ−ホルミルピペリジン０．
１２モルを、−７０’Ｏで、４−（４−ペンチルシクロ
へキス−１−エニル）−２，３−ジフルオロフェニルリ
チウム０．１モル（この化合物は例７ａと同様にして、
テトラヒドロ７ラン／テトラメチルエチレンジアミン中
で、ｎ−ブチルリチウムを使用し、相当するベンゼン化
合物から製造される）に加え、混合物を１時間にわたっ
て、−２０℃まで温める。酸性にし、次いで慣用の方法
で仕上げ、原題のアルデヒド化合物を得る。
Ｃ）４−（４−ペンチルシクロへキス−１−ｘニル）−
２，３−ジフルオロベンゾニトリルヒドロキシルアミン
−〇−スルホン酸０，１２モルと水５０ｍαとの混合物
を３０°Ｃで、上記アルデヒド化合物０．１モルと水Ｌ
ｏｏｍ（２との混合物に加える。
混合物を室温で１時間撹拌した後に、６５℃に２時間加
熱する。冷却させ、次いで慣用の方法で仕上げ、標・題
のニトリル化合物を白色固形物として得る。
ｄ）　　２．３−ジクロロ−５，６−ジシアツベンゾキ
ノン（ＤＤＱ）による酸化 ＤＤＱ　　０．２モルを、例７ｃ）からのシクロヘキセ
ン誘導体０．１モルとトルエン２００＋ｎ１２との混合
物に加え、混合物を２時間、加熱沸とうさせる。冷却さ
せ、次いで慣用の方法で仕上げ、４−ペンチルー４′−
シアノ−２’、３’−’；フルオロビフェニルを得る。
同様にして、下記の化合物を製造する：４−エチルー４
′−シアノー２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−プロピル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−ブチル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロビ
フェニル ４−へキシル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−へブチル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−才クチル−４７−ジアツー２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−０ランス−４−エチルシクロヘキシル）−４′−シ
アノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル４−　（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）−４’−シアノ−
２’　、３’−ジフルオロビフェニル ４−０ランス−４−ブチルシクロヘキシル）−４′−シ
アノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル４−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４′−シアノ−２
’、３’−ジフルオロビフェニル、０８４°Ｎ　１６８
’　１ ４−　（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−４
′−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４’
−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−　（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−４
’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル 例　　８ ａ）　　１−（２，３−ジフルオロフェニル）−２−（
トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−エタン ヘキサン１３０ｍ１２中のｎ−ブチルリチウム０．２１
モルの溶液を一１００°Ｃで、１．２−ジフルオロベン
ゼン０．２５モル、カリウムＬｅｒｔ−ブタル−ト０．
２０モルおよびテトラヒドロフラン２００ｍ＋２の混合
物に加える。混合物を１０分間撹拌した後に、２−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−エチルヨーダ
イト０．２モル、ジメチルアミノプロピレン尿素０．２
モルおよびテトラヒドロフラン５０ｍＱの混合物を一９
０°Ｃで加える。混合物を一４０°Ｃ″′ｃ１時間撹拌
した後に、慣用の方法で仕上げ、標題のエタン誘導体（
沸点：１３５°Ｃ！１０．５ｍｍＨｇ）が得られる、Ｃ
６４℃Ｎ　１０６．７°Ｉ０　さらにまた、少量の１．
４−ジー［２−（）ランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゼンが副生成
物として、得られる。
ｂ）　　４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−エチル）　−２，３−’；フルオロベンゾニ
トリル。
上記エタン誘導体０．１モルを例７ａ）に従い脱プロト
ン化し、例７ｂ）に従いホルミル化し、次いで例７ｃ）
に従いヒドロキシルアミン−〇−スルホン酸と反応させ
る。慣用の方法で仕上げ、標題のニトリル化合物を無色
固形物として得る、Ｃ１３°Ｎ　２８．５’　Ｉｏ 例　　９ ２．３−ジフルオロ−４−二トキシフェノール０．１モ
ル（この化合物は２．３−ジフルオロフエノ−ルから、
硫酸ジエチル／炭酸カリウムによるジメチルホルムアミ
ド中におけるアルキル化、−７０〜−８０°におけるリ
チェート化、Ｎ−メチルピペリジンとの反応および相当
するアルデヒド生成物の過ギ酸を用いるＢａｅｙｅｒ−
Ｖ　ｉ　１１　ｉｇａｒ法による酸化によって製造する
ことができる）およびピリジン０．１モルをトルエン１
００ｍＱ中に溶解する。トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキサンカルボニルクロライド０．１モルを８０°で滴
下して加え、混合物を引続いて、３時間撹拌する。
沈澱したピリジン塩酸塩を吸引炉別し、トルエンを留去
し、残留する１、３−ジフルオロ−４−エトキシフェニ
ルトランス−４−ペンチルシクロヘキサノエートをエタ
ノールからの結晶化により精製する、Ｃ４８−’　Ｎ　
６２．５’　Ｉ。
同様にして、下記の化合物を製造する＝２．３−ジフル
オロ−４−エトキシフェニルトランス−４−プロピルシ
クロヘキサノエート。
＋１ｐ、　５０’　Ｃ５２” ２．３−ジフルオロ−４−プロポキシフェニルトランス
−４−７０ビルシクロヘキサノエート ２．３−　ジフルオロ−４−ブトキシフェニルトランス
−４−７’ロピルシクロヘキサノエート２．３−ジフル
オロ−４−ペンチルオキシフェニルトランス−４−プロ
ピルシクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−ヘキシルオキシフェニルトラ
ンス−４−プロピルシクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−へブチルオキシフェニルトラ
ンス−４−７’口ピルシク口ヘキサノエート ２．３−　ジフルオロ−４−才クチルオキシフェニルト
ランス−４−プロピルシクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−７’ロポキシフェニルトラン
ス−４−ペンチルシクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−ブトキシフェニルトランス−
４−ペンチルシクロヘキサノエート２．３−ジフルオロ
−４−ペンチルオキシフェニルトランス−４−ペンチル
シクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−ヘキシルオキシフェニルトラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシフェニルトラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニルトラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキサノエート 例　　１０ ２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニルトランス−
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シク
ロヘキサノエートが例９と同様にして、同一の７工ノー
ル化合物から４＝（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル）−シクロヘキサンカルボニルクロライドとの反応
により得られる、Ｃ６９，３°Ｓ、　１４６．９°５Ａ
１５２．７゜Ｎ　１５６°　１０ 同様にして、下記の化合物を製造する：２．３−　ジフ
ルオロ−４−プロポキシフェニルトランス−４−（１−
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シクロヘキサ
ノエート ２．３−ジフルオロ−４−ブトキシフェニルトランス−
４−（１−ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シ
クロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルオキシフェニルトラ
ンス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−シクロヘキサノエート２．３−ジフルオロ−４−ヘキ
シルオキシフェニルトランス−４−（）ランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル）−シクロヘキサノエート２．３
−ジフルオロ−４−へブチルオキシフェニルトランス−
４−（１−ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シ
クロヘキサノエート２．３−ジフルオロ−４−オクチル
オキシフェニルトランス−４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）−シクロヘキサノエート２．３−ジ
フルオロ−４−エチルフェニルトランス−４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）−シクロヘキサノエ
ート ２．３−ジフルオロ−４−フロビルフェニルトランス−
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シク
ロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−ブチルフェニルトランス−４
−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シクロ
ヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シク
ロヘキサノエート、Ｃ５０°Ｓ。
９８’　ＳＡ　１１５°Ｎ　１７８．７°Ｉ２．３−ジ
フルオロ−４−へキシルフェニルトランス−４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）−シクロヘキサノ
エート ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルフェニルトランス−
４−（１−ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シ
クロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−才クチルフェニルトランス−
４−（１−ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シ
クロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニルトランス−
４−ブチルシクロヘキサノエート、０４９°Ｎ　（４８
，２’）　１ ２．３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニルトラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキサノニー　ト　、　　Ｃ
５９’　　ＳＡ　　（５５°）　１２．３−ジフルオロ
−４−オクチルオキシフェニルトランス−４−ヘプチル
シクロヘキサノニー　ト　、　０５３°　　Ｎ　　６５
．７６　　Ｉ２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニ
ルトランス−４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシ
ル）−シクロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニルトランス−
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シク
ロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニルトランス−
４−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−シク
ロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニルトランス−
４−（トランス−４−へブチルシクロヘキシル）−シク
ロヘキサノエート ２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニルトランス−
４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−シク
ロヘキサノエート 例　　１１ ４−へキシルオキシ安息香酸０．１モル、ジメチルアミ
ノピリジン０．０１モルおよび２，３−ジフルオロ−４
−才クチルオキシフェノール０．１モル（この化合物は
２．３−ジフルオロオクチルオキシベンゼンを−７０〜
−８０°でリチェートし、次いでオーブチルヒドロパー
オキサイド０．１２モルおよびブチルリチウム０．１２
モルから調製されたリチウムｔ−ブチルパーオキサイド
のエーテル溶液を滴下して加えることにより製造するこ
とができる）をメチレンクロライド１５０ｍ１２中に先
ず導入し、次いでメチレンクロライド３０ｒｎＱ中のジ
シクロへキシルカルボジイミド０．１モルの溶液をｌＯ
ｏで撹拌しながら滴下して加え、引続いて混合物を室温
で１５時間撹拌する。混合物をシリカゲル上で濾過し、
次いで溶媒を蒸発させ、２．３−ジフルオロ−４−オク
チルオキシフェニル４−へキシルオキシベンゾエートを
残留物として得る。
同様にして、下記の化合物を製造する＝２．３−ジフル
オロ−４−オクチルオキシフェニルｐ−（４−へブチル
オキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾエート、　ｃ
　６９．３″ＳＣ１４６，９゜５Ａ１５２．７’　Ｎ　
１５６’　１ ２．３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニルｐ−
（４−オクチルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベン
ゾエート ２．３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニルｐ−
（４−ノニルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾ
エート、　Ｃ７１，７°Ｓｃ　１４６’　５Ａ１４９．
８°Ｎ　１５０．２°！ ２．３−ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニルｐ−
（４−デシルオキシ−３−フルオロフノニル）−ベンゾ
エート ２．３−ジフルオロ−４−ノニルオキシ７エ二ルｐ−（
４−へブチルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾ
エート ２．３−ジフルオロ−４−ノニルオキシフェニルｐ−（
４−才クチルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾ
エート ２．３−ジフルオロ−４−ノニルオキシフェニルｐ−（
４−ノニルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾエ
ート ２．３−ジフルオロ−４−ノニルオキシフェニルｐ−（
４−デシルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾエ
ート ２．３−ジフルオロ−４−デシルオキシフェニルｐ−（
４−へブチルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾ
エート ２．３−’、；フルオロー４−デシルオキシフェニルｐ
−（４−オクチルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベ
ンゾエート ２．３−’；フルオロー４−デシルオキシフェニルｐ−
（４−ノニルオキシ−３−フルオロフェニル）−ベンゾ
エート ２．３−ジフルオロ−４−デシルオキシフェニルｐ−（
４−デシルオキシ−３−フルオロ７エ二ル）−ベンゾエ
ート ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
へキシルベンゾエート ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
ヘプチルベンゾエート ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
オクチルベンゾエート、　ｍｐ、　４３−５６４−へブ
チルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−ノニルベ
ンゾエート ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
デシルベンゾエート ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
へキシルオキシベンゾエート ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
へブチルオキシベンゾエート ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
オクチルオキシベンゾエート、Ｃ５３’（Ｓｃ　３９°
）Ｎ５７°Ｉ ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシフェニルｐ−
（４−へキシル−３−フルオロフェニル）−ベンゾエー
ト ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシ７エールｐ−
（４−へブチル−３−フルオロフェニル）−ベンゾエー
ト ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシ７エ二ルｐ−
（４−才クチル−３−フルオロフェニル）−ベンゾエー
ト、　ｃ　６０’　　５ｃ１５０″５Ａ１５５’Ｎ　１
５７°Ｉ ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシフェニルｐ−
（４−へキシルフェニル）−ベンゾエート ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシ７エ二ルｐ−
（４−へブチルフェニル）−ベンゾエート ２１３−ジフルオロ−４−へブチルオキシフェニルｐ−
（４−オクチルフェニル）−ベンゾニー　　ト　、Ｃ８
６°　ｓｃ　　１２５’　　ＳＡ　　１３１’　　Ｎ　
　１４５’　　１２．３−ジフルオロ−４−へブチルオ
キシフェニルｐ−（４−へキシルオキシフェニル）−ベ
ンゾエート ２．３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキシフエ二ルｐ−
（４−へブチルオキシフェニル）−ベンゾエート ２．３−ジフルオロ−４−へブチルオキシフェニルｐ−
（４−オクチルオキシフェニル）−ベンゾニ　−　ト　
、　　ｃ　　９４’　　ＳＣ１５７＠　ｓ　Ａ　１６６
°　Ｎ　　１７４＠　　１４−才クチルオキシ−２，３
−ジフルオロフェニルｐ−へキシルベンゾエート ４−才クチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
へブチルベンゾエート ４−オクチル、オキシ−２，３−ジフルオロ７エ二ルｐ
−オクチルベンゾエート ４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
ノニルベンゾエート ４−才クチルオキシ−２，３−ジフルオロ７エ二ルｐ−
へキシルオキシベンゾエート ４−才クチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
へブチルオキシベンゾエート ４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
オクチルオキシベンゾエート、Ｃ５１゜Ｓｃ　（３９°
）　８５９．８°！ ４−才クチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
ノニルオキシベンゾエート、Ｃ５３，６゜Ｓｃ　（４９
°）　Ｎ　５９．３°Ｉ ４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルトラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル−カルボキシレート
、０３０°Ｎ　６０°Ｉ４−オクチルオキシ−２，３−
ジフルオロ７エ二ルトランス、トランス−４′−ペンチ
ル−ビシクロへキシル−４−カルボキシレート、Ｃ５８
゜Ｓｃ　（３８°）　５Ａ１６７’　Ｎ　１８２．５’
　［４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル
４−　（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−ベ
ンゾエート、　Ｃ６２’　Ｓｃ　６３°ＳＡ　１００’
Ｎ　１５２．２°■ ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
オクチルオキシベンゾエート、０５３゜Ｎ　　５７°　
Ｉ ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルｐ−
オクチルベンゾエート、　Ｃ４３，５°■例　　１２ ２．３−ジフルオロ−４−ブトキシフェノール０．１モ
ル、トランス−４−ペンチルシクロヘキシルメチルブロ
マイド０６１１モルおよび炭酸カリウム０．１１モルを
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００ｍａ中で１００
°において１６時間加熱する。冷却後に、無機塩を吸引
炉別し、炉液を濃縮し、次いで水を加える。メチレンク
ロライドで抽出し、１−ブトキシ−２，３−ジフルオロ
−４−０ランス−４−ペンチルシクロへキシルメトキシ
）ベンゼンを得る。
同様にして、下記の化合物を製造する：１−二トキシー
２，３−ジフルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシ
クロへキシルメトキシ）−ベンゼン、０３８°■ ｌ−プロポキシ−２，３−ジフルオロ−４−（トランス
−４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼン ■−ペンチルオキシー２．３−ジフルオロ−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシルメトキシ １−へキシルオキシ−２，３−ジフルオロ−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼ
ン ｌ−へブチルオキシ−２．３−ジフルオロ−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼ
ン ｌ−ネタチルオキシ−２．３ージフルオロ−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼ
ン ｌ−エチル−２．３−ジフルオロ−４−（トランス−４
−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼン ｌ−プロピル−２．３−ジフルオロ−４−（トランス−
４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼン ｌ−ブチル−２，３−ジフルオロ−４−（トランス−４
−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼン ■ーベンチルー２．３ージフルオロ−４−（トランス−
４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）ーベンゼン ■−へキシル−２，３−ジフルオロ−４−（トランス−
４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼン ■−へブチル−２．３−ジフルオロ−４−（トランス−
４−ペンチルシクロへキシルメトキシ）−ベンゼン ■ーオクチルー２．３ージフルオロ−４−（トランス−
４−ペンチルシクロヘキシルメトキシ−ベンゼン ｌ−エチル−２．３−ジフルオロ−４−（トランス、ト
ランス−４′−フロピルビシクロへキシル−４−イルメ
トキシ）−ベンゼン Ｉ−プロピル−２．３−ジフルオロ−４−（トランス、
トランス−４′−フロピルビシクロヘキシルー４−イル
メトキシ）−ベンゼン １−ブチル−２，３−ジフルオロ−４−（トランス、ト
ランス−４′−プロピルビシクロへキシル−４−イルメ
トキシ）−ベンゼン ｌ−ペンチル−２，３−ジフルオロ−４−（トランス、
トランス−４′−プロピルビシクロへキシル−４−イル
メトキシ）−ベンゼン、０３６°５Ａ６６’　Ｎ　１１
７．１’　１ １−へキシル−２，３−ジフルオロ−４−（トランス、
トランス−４′−プロピルビシクロへキシル−４−イル
メトキシ）−ベンゼン ニーヘプチル−２，３−ジフルオロ−４−（トランス、
トランス−４′−プロピルビシクロへキシル−４−イル
メトキシ）−ベンゼン ニーオクチル−２，３−ジフルオロ−４−（トランス、
トランス−４′−プロピルビシクロへキシル−４−イル
メトキシ）−ベンゼン １．２．３−　トリフルオロ−４−（トランス−４＝（
トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シクロへキ
シルメトキシ）−ベンゼン、０６８゜Ｎ　　１０５．２
°　１ １．２．３−トリフルオロ−４−（トランス−４−（ト
ランス−４−エチルシクロヘキシル）−シクロへキシル
メトキシ）−ベンゼン １．２．３−１−リフルオロ−４−（トランス−４−（
トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−シクロへキシ
ルメトキシ）−ベンゼン １．２．３−１−リフルオロ−４−（トランス−４−（
トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シクロへキ
シルメトキシ）−ベンゼン、Ｃ８ピＮ　１１１．５°１ １．２．３−　トリフルオロ−４−（トランス−４−（
トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−シクロへキ
シルメトキシ）−ベンゼン １．２．３−トリフルオロ−４−（トランス−４−（ト
ランス−４−へブチルシクロヘキシル）−シクロへキシ
ルメトキシ）−ベンゼン １．２．３−　）リフルオロ−４−（トランス−４−（
トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−シクロへキ
シルメトキシ）−ベンゼン 例　　１３ ２．３−−ジフルオロハイドロキノン０．０５モルおよ
びピリジン０．１モルをトリエン１００ｍ１２１：　溶
解する。トランス−４−ブチルシクロヘキサンカルボニ
ルクロライド え、混合物を引続いて３時間撹拌する。慣用の方法で仕
上げ、２．３−ジフルオロ−１．４−　ヒｘ　−（トラ
ンス−４−ブチルシクロヘキサノイルオキシ）−ベンゼ
ンを得る。
同様にして、下記の化合物を製造する：１、３−ジフル
オロ−１．４−ビス−（トランス−４−エチルシクロヘ
キサノイルオキシ）−ベンゼン １、３−ジフルオロ−１．４−ビス−（トランス−４−
プロピルシクロヘキサノイルオキシ）−ベンゼン １、３−ジフルオロ−１．４−ビス−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキサノイルオキシ）−ベンゼン、０８
７°Ｎ２０８°■ １、３−ジフルオロ−１，４−ビス−（トランス−４−
へキシルシクロヘキサノイルオキシ）−ベンゼン １、３−ジフルオロ−１，４−ビス−（トランス−４−
ヘプチルシクロヘキサノイルオキシ）−ベンゼン １、３−ジフルオロ−１．４−ビス−（トランス−４−
オクチルシクロヘキサノイルオキシ）−ベンゼン、　Ｃ
　８０’　Ｓｃ　１２３°Ｎ　１７７°！例　　１４ １、３−ジフルオロ−４−エトキシ安息香酸０．１モル
（この化合物は２．３−ジフルオロフェノールをジメチ
ルホルムアミド中で硫酸ジエチル／炭酸カリウムにより
アルキル化し、生成する２．３−ジフルオロフェノール
の４−位置をテトラヒドロフラン中で−７０〜−８０″
において、ブチルリチウム／テトラメチルエチレンジア
ミンによりメタレート化し、次いで固形カルボン酸と反
応させることにより製造することができる）、４−ジメ
チルアミノピリジン０．０１モルおよび２−ペンチル−
５−ヒドロキシピリジン０．１モルを先ず、メチレンク
ロライド１５０ｍｆｆ中に導入し、次いでジシクロへキ
シルカルボジイミド０．１モルのメチレンクロライド３
０ｍ１２中の溶液を１０°で撹拌しながら、滴下して加
え、混合物を引続いて、室温で１５時間撹拌する。混合
物をシリカゲル上で吸引濾過し、慣用の方法で仕上げた
後に、５−（２−ペンチルピリジル）２．３−ジフルオ
ロ−４−エトキシベンゾエートを得る。
同様にして、下記の化合物を製造する＝２−（５−オク
チルピリジル）２，３−ジフルオロ−４−ヘプチルオキ
シベンゾエート ２−（５−ノニルピリミジル）２．３−ジフルオロ−４
−ノニルオキシベンゾエート ２−（５−（２−（１−ランス−４−へブチルシクロヘ
キシル）−エチル）−ピリミジル）　２．３−ジフルオ
ロ−４−オクチルオキシベンゾエート。
Ｃ７３°Ｓｃ　１１５°Ｎ１３４°Ｉ 例　　１５ ０−ジフルオロベンゼンを−７０〜−８０″でリチェー
ト化し、プロピオンアルデヒドと反応させ、生成された
二級アルコール化合物を脱水させ、次いで二重結合を水
素添加して、２．３−ジフルオロプロピルベンゼンを生
成させる。再度、メタレート化し、次いでドライアイス
と反応させ、２，３−ジフルオロ−４−プロピル安息香
酸を得る。４−（５−へブチルピリミジン−２−イル）
−フェニル２．３−ジフルオロ−４−プロピルベンゾエ
ートがこの酸から例１と同様にして、２−（４−ヒドロ
キシフェニル）−５−ヘンチルピリミジンおよびジシク
ロヘキシルカルボジイミドを用いてエステル化すること
により得られる、Ｃ６９°Ｎ１３８°１０ 同様にして、下記の化合物を製造する：４−（５−へブ
チルピリミジン−２−イル）−フェニル２．３−ジフル
オロ−４−オクチルオキシベンゾエート 例　　１６ ２．３−ジフルオロ−４−エトキシ安息香酸０．１モル
（この化合物は２．３−ジフルオロフェノールを硫酸ジ
エチル／炭酸カリウムによりジメチルホルムアミド中で
アルキル化し、生成する１、３−ジフルオロフェノ−ル
の４位置を−７０〜−８０°でテトラヒドロフラン中に
おいて、ブチルリチウム／テトラメチルエチレンジアミ
ンを用いてメタレート化し、次いで固形カルボン酸と反
応させることにより製造することができる）、４−ジメ
チルアミノピリジン０．０１モルおよび４−ヒドロキシ
−４′−ペンチルビフェニル０．１モルを先ず、メチレ
ンクロライド１５０ｍｎ中に導入し、次いでジシクロへ
キシルカルボジイミド０．１モルのメチレンクロライド
３０ｔｔｒＱ中の溶液をＩＯ２で撹拌しながら、滴下し
て加え、引続いて、混合物を室温で１５時間撹拌する。
シリカゲル上で吸引濾過し、溶媒を蒸発させ、残留物と
して、４−（４′−ヘンチルビフェニリルジフルオロ−
４−エトキシベンゾエートを得る。
生成物は結晶化により精製する、０９４°Ｎ２０６、６
°Ｉ０ 同様にして、下記の化合物を製造するニドランス−４−
ヘキシルシクロヘキシル２．３−ジフルオロ−４−　（
２−　（１−ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
エチル）−ベンゾニー　ト　、　　Ｃ　　４９’　　Ｓ
Ａ　５５°　Ｎ　　１１８’　　　［４−ペンチルフェ
ニル２．３−’；フルオロー４−（２−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−エチル）−ベンゾエート
、Ｃ４５°ＳＡ　９２。
Ｎ　１３０．３°■ ４−７’口ピルフェニル２．３−ジフルオロ−４−（４
−ペンチルシクロヘキシ−ｌ−エニル）ーベンゾエート
，　　Ｃ　３１’　ＳＡ　６３°Ｎ　１５０．８°■例
　　１７ ４−ペンチルフェニル２．３−’；フルオロー４ーエト
キシベンゾエートが例１６と同様にして、１、３−ジフ
ルオロ−４−エトキシ安息香酸と４−ペンチルフェノー
ルとの反応により得られる、ｃ　６１’　Ｎ　（５０．
７°）Ｉ０ 同様にして、下記の化合物を製造する：ｐーオクチルフ
ェニル４ーオクチルオキシ−１、３−ジフルオロベンゾ
エート、　Ｃ　３７　ＳＣ　　５ＯＮ　５７．１　１ ４−　（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−フ
ェニル４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロベンゾ
エート、　ｃ　５８　ＳＣ９６Ｎ　１６０．８　ｒトラ
ンス、トランス−４′−ペンチルビシクロヘキシ−４−
イル４−才クチルオキシ−２，，３−ジフルオロベンゾ
エート、　Ｃ９０５ｃ９８　Ｎ　１７０．３４−（）ラ
ンス−４−エチルシクロヘキシル）−フェニル４−７’
ロピルー２．３−ジフルオロベンゾエート、　Ｃ７０Ｎ
　１３４．９１トランス、トランス−４′−プロピルビ
シクロへキシル−４−イル４−プロピル−２，３−ジフ
ルオロベンゾエート、　Ｃ６４Ｎ　１６５．２　ｒ（４
′−ペンチルビフェニル−４−イル）４−プロピル−２
，３−ジフルオロベンゾエート、Ｃ７４ｓｃ８６　Ｎ　
１６０．１１ （トランス−４−プロピルシクロヘキシル）４−エトキ
シ−２，３−ジフルオロベンゾエート。
Ｃ９３Ｎ　（４８）　ｒ 例　　１８ ４−（２３−ジフルオロ−４′−プロピルビフェニリル
）２．３−ジフルオロ−４−ペンチルベンゾエートが同
様にして得られる。この反応に必要な４−ヒドロキシ−
２，３−ジフルオロ−４′−フロピルビフェニルは次の
ようにして製造する：２．３−ジフルオロ−４′−プロ
ピルビフェニルをＯ−ジフルオロベンゼンの−７０〜−
８０’におけるリチェート化、４−プロピルシクロヘキ
サノンとの反応、生成する三級アルコール化合物の脱水
、引続くシクロヘキセン環の芳香族化により得る。再度
、メタレート化し、次いでＮ−ホルミルピペリジンと反
応させ、２，３−ジフルオロ−４′−プロピルビフェニ
ル−４−カルブアルデヒドを得る。このアルデヒド化合
物をＢａｅｙｅｒ−Ｖｉｌｌｉｇｅｒ法に従いメチレン
クロライド中で３−クロロ過安息香酸により酸化し、相
当するホーメートを生成する。生成物を次いでアルカリ
性条件の下で加水分解し、所望の７工ノール化合物を得
る。
例　　１９ ０−ジフルオロベンゼンを−７０〜−８０’でリチェー
ト化し、オクタナルと反応させ、脱水し、次いで水素添
加することにより、２．３−ジフルオロオクチルベンゼ
ンを得る。再度、メタレート化し、次いでＮ−ホルミル
ピペリジンと反応させて、アルデヒドを生成し、この生
成物をＢａｅｙｅｒ−Ｖｉｌｌｉｇｅｒ法により酸化し
てホーメートを生成し、引続いて加水分解し、４−オク
チル−２，３−ジフルオロフェノールを得る。
このフェノール生成物０．１モルおよびピリジン０．１
モルをトルエン１ＯＯＩＩ＋２に溶解する。トルエン５
０ｍＱに溶解した４−へキシルオキシベンゾイルクロラ
イド０．１モルを８０°で滴下して加え、混合物を引続
いて３時間撹拌する。沈澱したピリジン塩酸塩を吸引炉
別し、トルエンを留去し、残留する１、３−ジフルオロ
−４−オクチル７エ二ル４−へキシルオキシベンゾエー
トを結晶化により精製する。
同様にして、下記の化合物を製造する：２．３−’；フ
ルオロー４−オクチルフェニル４−オクチルオキシベン
ゾエート ２．３−ジフルオロ−４−デシルフェニル４−オクチル
オキシベンゾエート ２．３−’；フルオロー４−ペンチルフェニル４−エト
キシベンゾエート、０４２°Ｎ（２６°）■２．３−ジ
フルオロ−４−ペンチルフェニル４−プロポキシベンゾ
エート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−ブトキ
シベンゾエート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−ペンチ
ルオキシベンゾエート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−オクチ
ルオキシベンゾエート 例　　２０ ２−フルオロ−４−ブチルオキシ安息香酸０．１モル（
この化合物は３−フルオロ−４−シアノフェノールをブ
チルブロマイド／炭酸カリウムによりジメチルホルムア
ミド中でアルキル化し、次いでイミドエステルを経て生
成されるニトリルを加水分解することにより製造される
）、ジメチルアミノピリジン０．０１モルおよび２，３
−ジフルオロ−４−オクチルフェノール０．１モルを先
ず、メチレンクロライド１５０ｍＩ２中に導入し、次い
でジシクロへキシルカルボジイミド０．１モルのメチレ
ンクロライド３０ｒｎＩ２中の溶液をｌＯｏで撹拌しな
がら滴下して加え、混合物を引続いて、室温で１５時間
撹拌する。混合物をシリカゲル上で濾過し、溶媒を蒸発
させ、残留物として、２．３−ジフルオロ−４−オクチ
ルフェニル２−フルオロ−４−ブチルオキシベンゾエー
トを得る。
例　　２１ Ｏ−ジフルオロベンゼンをリチェート化し、次いでオク
タナルと反応させ、脱水し、次いで水素添加することに
より、２．３−ジフルオロオクチルベンゼンを得る。こ
の生成物から、例１９に従い、ホルミル化合物を経て、
４−才クチル−２，３−ジフルオロフェノールが得られ
る。
このフェノール０．１モル、トランス−４−ブチルシク
ロヘキサンカルボン酸０．１モルおよび４−ジメチルア
ミノピリジン０，０１モルを先ず、メチレンクロライド
１５０ｍｆｆ１に導入し、次いでジシクロへキシルカル
ボジイミド０．１モルのメチレンクロライド３Ｑｍ（２
中の溶液を１０°で撹拌しながら滴下して加え、混合物
を引続いて、室温で１５時間撹拌する。混合物をシリカ
ゲル上で吸引濾過し、次いで溶媒を蒸発させ、２，３−
ジフルオロ−４−才クチルフェニルトランス−４−ブチ
ルシクロヘキサノエートを残留物として得る。
例　　２２ 例２０と同様にして、２．３−ジフルオロ−４−ペンチ
ルフェノールを生成し、次いでトランス−４−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シクロヘキサンカ
ルボン酸によりエステル化する。慣用の方法で仕上げ、
２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス４
−　（１−ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−シ
クロへキシルカルボキシレートを得る、Ｃ１３°Ｎ２８
．５°Ｉ０ 同様にして、下記の化合物を製造する：２．３−ジフル
オロ−４−ペンチルフェニルトランス−４−エチルシク
ロへキシルカルボキシレート ２．３−’；フルオロー４−ペンチルフェニルトランス
−４−プロピルシクロへキシルカルボキシレート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
４−ブチルシクロへキシルカルボキシレート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
４−ヘキシルシクロへキシルカルボキシレート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
４−へブチルシクロへキシルカルボキシレート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
４−オクチルシクロヘキシルカルボキシレート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
トランス−４′−エチルビシクロへキシル−４−カルボ
キシレート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
トランス−４′−プロピルビシクロへキシル−４−カル
ボキシレート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
トランス−４′−ブチルビシクロヘキシル−４−カルボ
キシレート １、３−’；フルオロー４ーペンチルフェニルトランス
−トランス−４′−ペンチルビシクロへキシル−４−カ
ルボキシレート、ＳＡ１１５°　Ｎ１８０°■ １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
トランス−４′−へキシルビシクロへキシル−４−カル
ボキシレート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
トランス−４′−ヘプチルビシクロへキシル−４−カル
ボキシレート ２．３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニルトランス−
トランス− シル−４−カルボキシレート １、３−’；フルオロー４ーペンチルフェニルトランス
−４−　（トランス−４−エチルシクロヘキシル）−ベ
ンゾエート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）−ベンゾエート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−（トラ
ンス−４−ブチルシクロヘキシル）−ベンゾエート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−（トラ
ンス−４−グンチルシクロヘキシル）ーベンゾエート，
Ｃ７４°Ｎ　１４７°！１、３−ジフルオロ−４−ペン
チルフェニル４−（トランス−４−へキシルシクロヘキ
シル）ーベンゾエート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−（トラ
ンス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−ベンゾエート １、３−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル４−（トラ
ンス−４−オクチルシクロヘキシル）−ベンゾエート 例　　２３ ジイソブチルアルミニウムヒドライドのヘキサン中の２
０％溶液１　０ｍＱを１−ヘキシン０．０１モルおよび
ヘキサン５ｍＱの溶液に加え、混合物を５０°で３時間
加熱する。次いで２５″に冷却させ、プチルリチウウム
のヘキサン中１５％溶液６　、　３ｍｄを滴下して加え
、３０分後に、テトラヒドロ７ラン１５ＩＩ１１２に溶
解した２．３−ジフルオロ−４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−メトキシベンジルブロマイド０
．０１モルを滴下して加え、混合物を１２時間加熱還流
する。慣用の方法で仕上げ、２，３−ジフルオロ−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−メトキシ
−トランス−ヘプト−２−エチルベンゼンを得る。
この反応に必要なベンジルブロマイド化合物は２．３−
ジフルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−メトキシベンゼンから、リチェート化、Ｎ−ホ
ルミルピペリジンとの反応、生成するアルデヒドのホウ
素水素化ナトリウムによる還元および生成するアルコー
ルのジブロモトリフェニルホスホランとの反応によって
製造される。
例　　２４ ■−（４−エトキシ−２．３−ジフルオロフェニル）−
４−　（）ランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシルエ
チル）−シクロへキス−１−エン０、２モル（この化合
物は次のとおりにして得られるニブチルリチウムのれ一
ヘキサン中の１．６Ｎ溶液１３１ｍＱを一７０℃で、テ
トラヒドロフラン４００ｍ１．中のエトキシ−２，３−
ジフルオロベンゼン０．２モルおよびテトラメチルエチ
レンジアミン０．２モルの溶液に、水分を排除し、窒素
雰囲気中で、滴下して加える。混合物を次いで、−７０
℃に４時間撹拌し、引続いて、ＴＨＦ　ＬｏｏｍＱ中の
４−（トランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシルエチ
ル）−シクロへキサノン０．１１モルをゆっくり加える
。反応混合物を室温までゆっくり温め、次いで塩化ナト
リウム飽和溶液１．５ａにより加水分解する。混合物を
エーテルで抽出し、エーテル相を水で数回洗浄し、乾燥
させ、次いで蒸発させる。残留物をエタノール７００ｍ
Ｑ中に取り入れ、濃ＨＣＱ　７０ｍＱを加え、混合物を
３時間、還流の下で沸とうさせる。水１．５ｆｆを次い
で加え、混合物をメチルＬｅｒｔ．ーブチルエーテルで
抽出する。エーテル相を中性まで洗浄し、乾燥させ、次
いで蒸発させ、残留物を再結晶させる。この生成物（ｍ
ｐ：　７３’　８よびｃ．ｐ：１３９°）とＤＤＱ　５
０１ｉ＋をトルエン２５０ｍＱ中で１時間還流の下で沸
とうさせる。
冷却後に、反応混合物をシリカゲル上でトルエンを用い
て濾過し、炉液を蒸発させ、残留物をクロマトグラフィ
により精製する。ｌ−（トラシス−４−フ’ロピルシク
ロヘキシル）−２−（４’−エトキシ−２’、３’−ジ
フルオロビフェニル−４−イル）−エタンが得られる、
Ｃ６４°Ｎ　１４４゜例　　２５ ｎ−ＢｕＬｉのヘキサン中の１．６Ｎ溶液１２５ｍｆｆ
１を水分の排除の下で窒素雰囲気下に、０．２モルのト
ランス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシルエチル−２，
３−ジフルオロベンゼン〔この化合物は２．３−ジフル
オロベンゼンを一８５℃でＢｕＬｉ／カリウムｔｅｒｔ
−ブチレート（Ｌ　−ＢｕＯＫ）／　１．３−ジメチル
テトラヒドロ−２（ｌＨ）−ピリミジノン（ＤＭＰｕ）
の存在の下でトランス−４−ｎ−プロビルシクロヘキシ
ルエチルヨーダイドによりアルキル化することにより製
造することができる〕およびＴＭＥＤＡ　Ｏ，２モルの
ＴＨＦ　４００ｒｓＱ中の溶液に一７０℃で滴下して加
える。混合物を一７０°で４時間撹拌し、次いで４−ペ
ンチルオキシシクロへキサノン０．２モルを加える。反
応混合物を室温まで温め、次いで稀ＨＣＩＩで加水分解
し、生成物を慣用の方法で単離する。生成物をトルエン
中に取り入れ、混合物をＰ−１−ルエンスルホン酸の存
在の下で、水分離器を使用して、加熱沸とうさせる。ト
ルエン相を次いで水により中性まで洗浄し、乾燥させ、
次いでＤＤＱ　Ｏ，４モルを加える。反応混合物を沸と
うさせる。反応が終了した時点で、混合物をシリカゲル
カラム上で濾過し、次いで慣用の方法で仕上げる。生成
物は結晶化およびクロマトグラフィにより精製する。
１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２−
（４’−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）−エタンが得られる。
同様にして、下記の化合物を製造する＝１−（トランス
−４−エチルシクロヘキシル）−２−（４’−ペンチル
オキシ−２，３−ジフルオロビフェニル−４−イル）−
エタン １−（１−ランス−４−ブチルシクロヘキシル）−２−
（４’−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）、−エタン １−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２−
（４’−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）−エタン １−（トランス−４−へキシルシクロヘキシル）−２−
（４’−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）−エタン １−　（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−２
−（４’−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェ
ニル−４−イル）−エタン ｌ−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−２−
（４’−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）−エタン １−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）−２−（
４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−エタン １−（１−ランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２
−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−エ
タン １−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル−２−（４
−エトキシ−２．３−ジフルオロフェニル）−エタン １−　（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２
−（４−エトキシ−２．３−ジフルオロフェニル）−エ
タン、０４９°Ｎ　（２０’）　ｒｌ−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−２−（４−ヘキサノイル
オキシ−２．３−ジフルオロフェニル）−エタン、０４
５°Ｎ　（２６．４°）１−（）ランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）−２−　（４−　（）ランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシルカルボニルオキシ）−２．３−ジ
フルオロフェニル）−エタン、　Ｃ　５８’　Ｎ　１５
１．８’　＋１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−２−　（４−　（４−オクチルオキシベンゾイ
ルオキシ）−２．３−ジフルオロフェニル）−エタン、
　Ｃ　５１’　Ｎ　１３８　１ １−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２−
　（４−　（トランス−４−ペンチルシクロへキシルメ
トキシ）−２．３−ジフルオロ７エ二ル）−エタン、　
ｃ　７６　ＳＡ　（７２°”）　Ｎ　１（１９．４°■
１−”（１ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２
−（４’−ペンチル−２，３−ジフルオロビフェニル−
４−イル）−エタン、　Ｃ２２’　　Ｎ１０６．７°！ １−　（４−（１−ランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−フェニル）−２−（４−エトキシ−２，３−ジフ
ルオロフェニル）−エタン、Ｃ４９゜ＳＢ　（３１°）
　Ｎ　１０７．３°■１−　（４−（１−ランス−４−
プロピルシクロヘキシル）−フェニル）−２−（４−エ
トキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−エタン、０７
５゜Ｎ　９９．５°！ 例　　２６ ＣＨ２Ｃｆｆ２に溶解したジシクロへキシルカルボジイ
ミド（ＤＣＣ）０．１モルを、０℃で水分を排除して、
ＣＨｚＣＱｚ　　３００ｍ１２中の４′−ペンチル−２
，３−ジフルオロビフェニル−４−オール０．１モル（
この化合物は４′−ペンチル−２，３−’；フルオロー
４−メトキシービフェニルから、ＨＢ、／氷酢酸による
エーテル開裂により製造することができる）、トランス
−４−ｎ−ペンチル−シクロヘキサンカルボン酸０．１
モルおよび触媒量の４−Ｎ、Ｎ’ジメチルアミノピリジ
ン（ＤＭＡＰ）に加える。混合物を次いで室温で１２時
間撹拌し、沈澱したジシクロヘキシル尿素を分離し、生
成物を慣用の方法で仕上げる。生成物は結晶化により精
製する。
４′−ペンチル−２，３−ジフルオロビフェニル−４−
イルトランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキサンカルボ
キシレートが得られる。　Ｃ４４＠Ｎ１５９．１’　Ｉ
。
例２７ ４′−ｎ−ペンチル−２，３−ジフルオロビフェニル−
４−オール０．１モルおよヒトランス−４−〇−ペンチ
ルシクロへキシルヨーダイト０．１モルをジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）中で無水ＫｚＣＯ３０，１２モルの
存在の下で混合物がおだやかに沸とうするまで加熱する
。反応が終了した時点で、混合物を慣用の方法で仕上げ
、生成物はクロマトグラフィおよび結晶化により精製す
る。
トランス−４−ｎ−ペンチルシクロヘキシルメチル４　
’−ヘンチル−２．３−ジ７ルオロビ７二二ルー４−イ
ルエーテルが得られる。
例　　２８ ｐ−プロピルフェノール１３．６９および２．３−ジフ
ルオロ−４−ペンチルオキシビフェニル−４′一カルポ
ン酸３２ｇを先ず、メチレンクロライド２５０ｍｆｆに
触媒量のＤＭＡＰとともに導入し、メチレンクロライド
中のＤＤＣＯ，１モルの溶液を０℃で滴下して加える〔
４−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニル−
４′−カルボン酸の製造：ベンチルオキシー２，３−ジ
フルオロベンゼンを当モル量のブチルリチウムおよびＴ
ＭＥＤＡにより慣用の条件の下で一７０’において、Ｔ
ＨＦ中でメタレート化し、反応混合物を次いで一７０℃
で４時間撹拌し、次いで同一温度において、当モル量の
タロロトリイソグロビルオルトチタネートと反応させる
。反応混合物を一３０℃までゆっくり温め、尚モル量の
エチルシクロへキサノン−４−カルボキシレートを次い
で加え、混合物を室温までゆっくり温めながら、１２時
間撹拌する。
反応混合物を氷冷した稀塩酸で加水分解し、短時間撹拌
し、次いでセライト上で濾過する。炉液をＭＴＢエーテ
ルで抽出し、有機相を乾燥させ、次いで蒸発させる。残
留物をエタノール中に取り入れ、少量の塩酸を加え、混
合物を１２時間、還流沸とうさせる。水の添加後に、生
成物を慣用の方法で単離し、次いでトルエン中の２倍モ
ル量のＤＤＱとともに沸点で加熱する。混合物を次いで
慣用の方法で仕上げ、生成するエステルを少し過剰量の
ＫＯＨエタノール溶液で、室温において加水分解する。
生成した酸は結晶化により精製する〕。反応混合物を室
温で１２時間撹拌し、沈澱したジシクロヘキシル尿素を
次いで吸引炉別し、有機相を慣用の方法で仕上げる。ｐ
−プロピルフェニル４−ペンチルオキシ−２，３−ジフ
ルオロビフェニル−４′−カルボキシレートが得られる
。
同様にして、下記の化合物を製造する：ｐ−へキシルフ
ェニル４−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェ
ニル−４′−力ルポキシレート ｐ−へキシルフェニル４−へブチルオキシ−２，３−ジ
フルオロビフェニル−４′−力ルボキシレート ｐ−へキシルフェニル４−オクチルオキシ−２，３−ジ
フルオロビフェニル−４′−カル、ポキシレート ｐ−へキシルフェニル４−ノニルオキシ−２，３−ジフ
ルオロビフェニル−４′−力ルポキシレート ｐ−へキシルフェニル４−オクチルオキシ−２，３−’
；７ルオロビフエニルー キシレート ｐ−オクチルフェニル４−オクチルオキシ−１、３−ジ
フルオロビフェニル−４′−イルカルボキシレート、　
　ＣＩ　　５８．６’　　Ｃａ　　６３．６°　Ｓｃ　
　１２１°　ＳＡ１３９、１’　Ｎ　１４４．５°Ｉ ｐ−ノニルフェニル４−オクチルオキシ−１、３−ジフ
ルオロビフェニル−４′−イルカルボキシレート ｐ−へキシルオキシフェニル４−オクチルオキシ−２＋
３−ジフルオロビフェニル−４′−イルカルボキシレー
ト ｐ−へブチルオキシフェニル４−オクチルオキシ−２．
３−ジフルオロビフェニル−４′−イルカルボキシレー
ト ｐ−オクチルオキシフェニル４−オクチルオキシ−２．
３−ジフルオロビフェニル−４′−イルカルボキシレー
ト、　　Ｃ　８３．８６　Ｓｃ　　１５１．７’　　Ｓ
Ａ１５４、９°Ｎ　１６５．４’　１ ４−オクチル−２−フルオロフェニル４−オクチルオキ
シ−２，３−ジフルオロビフェニル−４′−イルカルボ
キシレート、　Ｃ　５６．７°Ｓｃ　１０３’Ｎ　１４
１．６°Ｉ ４−オクチル−３−フルオロフェニル４−オクチルオキ
シ−２．３−ジフルオロビフェニル−４′−イルカルボ
キシレート Ｎ　１２０．７°！ ４−へブチル−３−フルオロフェニル４−オクチルオキ
シ−２．３−ジフルオロビフェニル−４′−イルカルボ
キシレート ＳＡ　　１４６°　■ ４−才クチルオキシ−３−フルオロフェニル４−オクチ
ルオキシ−２．３−ジフルオロビフェニル−４′−イル
カルボキシレート １１６°ＳＡ１６２．９°■ 例　　２９ １−（４−エトキシ２．３−ジフルオロフェニル）−４
−（４−トランス−プロピル−シクロヘキシルエチル）
シクロへキス−１−エン３９ｇヲＴＨＦ２５０ｍ０．に
溶解し、５％Ｐｄ−Ｃ４ｇの存在の下で、０、５バール
の水素圧で３４°Ｃにおいて水素添加する。混合物を次
いで濾過し、溶液を蒸発させ、トランス−４−（トラン
ス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシルエチル）−４−（
エトキシ−２．３−ジフルオロフェニル）−シクロヘキ
サンをクロマトグラフィにより単離し、結晶化させる、
０　７６°　Ｓ８７９°Ｎ　１８６°Ｉ０〔上記ｌ−（
４エトキシ−２．３−ジフルオロフェニル）−４−　（
４−１−ランス−プロピル−シクロヘキシルエチル）シ
クロへキス−１−エンの製造ニブチルリチウム（ＢｕＬ
ｉ）のｎ−ヘキサン中の１．６Ｎ溶液１３１ｍＱを一７
０℃で水分の排除の下で、窒素雰囲気中において、テト
ラヒドロフラン（　ＴＨＦ）４００＋ｎＱ中のエトキシ
−２．３−ジフルオロベンゼン３１．６ｇおよびテトラ
メチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）２３．２ｇの溶
液に滴下して加える。混合物を次いで、−　７　０　’
Ｏで４時間撹拌し、ＴＨＦ１００ｍｆｆ中の４−（トラ
ンス−４−ｎ−プロピルシクロヘキシルエチル）−シク
ロへキサノン５０ｇヲ引続いて、ゆっくり加える。反応
混合物を室温までゆっくり温め、次いで塩化アンモニウ
ム飽和溶液１．！ｌで加水分解する。混合物をエーテル
、で抽出し、エーテル相を水で数回、洗浄し、乾燥させ
、次いで蒸発させる。残留物をエタノール７００ｍｆｆ
中に取り入れ、濃塩酸７０ｍ（ｌを加え、混合物を３時
間、還流下に沸とうさせる。水１．５αを次いで加え、
混合物をメチルｔｅｒｔーブチルエーテル（ＭＴＢエー
テル）で抽出する。エーテル相を中性まで洗浄し、乾燥
させ、次いで蒸発させ、残留物を再結晶させる〕。
同様にして、下記の化合物を製造するニドランス−４−
（トランス−４−エチルシクロヘキシルエチル）−（４
−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−シクロヘ
キサン トランス−４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル
エチル）−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−シクロヘキサン トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ルエチル）−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェ
ニル）−シクロヘキサントランス−４−（トランス−４
−ヘキシルシクロヘキシルエチル）−（４−エトキシ−
２，３−ジフルオロフェニル）−シクロヘキサントラン
ス−４−（トランス−４−へブチルシクロへキシルエチ
ル）−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）
−シクロヘキサントランス−４−（１−ランス−４−オ
クチルシクロヘキシルエチル）−（４−エトキシ−２，
３−ジフルオロフェニル）−シクロヘキサントランス−
４−（）ランス−４−エチルシクロヘキシルエチル）−
（４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル）
−シクロヘキサントランス−４−（＋−ランス−４−ブ
チルシクロヘキシルエチル）−（４−オクチルオキシ−
２，３−ジフルオロフェニル）−シクロヘキサントラン
ス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシルエチ
ル）−（４−才クチルオキシ−２，３−’；フルオロフ
ェニル）−シクロへ＋　”ｌ−’／トランスー４−（ト
ランス−４−ヘキシルシクロヘキシルエチル）−（４−
才クチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル トランス−４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシ
ルエチル’）−（４−オクチルオキシ−１、３−ジフル
オロフェニル）−シクロヘキサントランス−４−　（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシルエチル）−（４−
オクチルオキシ゛−１、３−　ジフルオロフェニル）−
シクロヘキサントランス−４−　（トランス−４−オク
チルシクロヘキシルエチル）−（４−オクチルオキシ−
１、３−ジフルオロフェニル）−シクロヘキサン例　　
３０ １、３−ジフルオロ−４−ノニルオキシベンズアミジン
塩酸塩０．１モル（この化合物は２．３−ジフルオロ−
４−ノニルオキシベンゾイルクロライドをアミドに変換
し、アミドも脱水してニトリルを生成し、ニトリルをエ
タノールおよび塩化水素と反応させ、引続いて、生成す
るイミドエステルをアンモニアと反応させることにより
製造すれる）、ノニルマロノジアルデヒドテトラメチル
アセタル０．１モルおよびＤＭＦ　　５０＋ｎＱヲ１５
０°で１２時間加熱する。反応混合物を次いで塩化メチ
レン中に取り入れ、重炭酸ナトリウム溶液および水で中
性まで洗浄し、乾燥させ、次いで溶媒を留去する。残留
物として、２　−（２，３−ジフルオロ−４−ノニルオ
キシフェニル）−５−ノニルピリミジンが得られる。生
成物はエタノールから再結晶させる、Ｃ　４１°Ｓｃ　
５４’　Ｉ。
同様にして、下記の化合物を製造する＝２−（２．３−
ジフルオロ−４−オクチルオキシフェニル）−５−ノニ
ルピリミジン ２　−　（２．３−ジフルオロ−４−へブチルオキシフ
ェニル）−５−ノニルピリミジン ２−（２．３−ジフルオロ−４−ヘキシルオキシフェニ
ル）−５−ノニルピリミジン ２−（２．３−ジフルオロ−４−ペンチルオキシフェニ
ル）−５−ノニルピリミジン ２　−　（２，３−　ジフルオロ−４−７’トキシフエ
ニル）−５−ノニルピリミジン ２　−　（２．３−ジフルオロ−４−グロポキシフェニ
ル）−５−ノニルピリミジン ２−（２．３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）−
５−ノニルピリミジン ２−（２．３−ジフルオロ−４−エチルフェニル）−５
−ノニルピリミジン ２　−　（２．３−ジフルオロ−４−プロピルフェニル
）−５−ノニルピリミジン ２−（２．３−ジフルオロ−４−ブチルフェニル）−５
−ノニルピリミジン ２−（２；３−ジフルオロ−４−ペンチル７エ二ル）−
５−ノニルビリミジン ２−（２，３−ジフルオロ−４−ヘキシルフェニル）−
５−ノニルピリミジン ２−　（２，３−ジフルオロ−４−へブチルフェニル）
−５−ノニルピリミジン ２−（２，３−ジフルオロ−４−オクチルフェニル）−
５−７ニルビリミジン ２−　（２’、３’−ジフルオロ−４′−エチルビフェ
ニル−４−イル）−５−ヘプチルピリミジン２−（２’
、３’−ジフルオロ−４′−プロピルビ７エ二ルー４−
イル）−５−ヘプチルピリミジン２−（２’、３’−ジ
フルオロ−４′−ブチルビフェニル−４−イル）−５−
へブチルピリミジン２−　（２’、３’−ジフルオロ−
４′−ペンチルビフェニル−４−イル）−５−ヘプチル
ピリミジン２−　（２’、３’−ジフルオロ−４′−へ
キジルビ７二二ルー４−イル）−５−ヘプチルピリミジ
ン２−　（２’、３’−ジフルオロ−４′−へプチルビ
フ二二ルー４−イル）−５−へブチルピリミジン２−　
（２’、３’−ジフルオロ−４′−才クチルビフェニル
−４−イル）−５−へブチルピリミジン。
Ｃ６４°　Ｓｃ　９０°　Ｎ　　１８８°　１例　　３
１ ２．３−ジフルオロ−４−（３−ブチルピリミジン−２
−イル）−４’−プロピルビフェニルは２．３−ジフル
オロ−４′−プロピル−ビフェニル−４−力ルバミジン
塩酸塩（この化合物の生成に必要なビフェニルカルボン
酸化合物は例２８と同様にして得られる）とプチルマロ
イジアルデヒドテトラメチルアセタールとをＤＭＦ中で
反応させ、慣用の方法で仕上げた後に得られる。
例　　３２ ｎ　−ＢｕＬｉ　　Ｏ，１モルのヘキサン溶液を−６０
〜−７０°Ｃで撹拌しながら、ＴＨＦ　２００ｍｆｆ中
の２，３−ジフルオロ−ノニルオキシベンゼン０．１モ
ルおよびＴＩＪＥＤＡ、　０．１モルの溶液に３０分間
にわたって滴下して加える。混合物をこの温度でさらに
２時間撹拌し、次いでＴＨＦ　　ｔｏｏｍａ中のＺｎＢ
ｒ２（無水）０．０５モルの溶液を同一温度で滴下して
加える。
さらに１時間後に、ＴＨＦ　５０ｍ（２中の２−ブロモ
−５−メチルビリジン０．１モルおよびビス−トリフェ
ニルホスフィンニッケル（ＩＦ）クロライド２モル％（
０，００２モル）の溶液をゆっくり加え、混合物を引続
いて、さらに１６時間撹拌する。この間、温度はゆっく
り室温に達しさせる。水を加え、混合物を抽出により仕
上げ処理する。粗生成物は再結晶およびクロマトグラフ
ィにより精製スる。２−　（２，３−ジフルオロ−４−
ノニルオキシフェニル）−５−メチルビリジンが得られ
る。
同様にして、下記の化合物を製造する：２−　（２，３
−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフェニル）−５−
メチルビリジン ２−（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフェ
ニル）−５−エチルピリジン ２−（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフェ
ニル）−５−プロピルピリジン ２−　（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフ
ェニル）−５−ブチルピリジン ２−　（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフ
ェニル）−５−ペンチルピリジン ２−　（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフ
ェニル）−５−へキシルピリジン ２−（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフェ
ニル）−５−へブチルピリジン ２−（２，３−ジフルオロ−４−オクチルオキシビフェ
ニル）−５−オクチルピリジン、　ｓ、　２６゜Ｎ　３
８．５’　１ 例　　３３ メチレンクロライドに溶解したＤＣＣ０，１モルをＯｏ
Ｃでメチレンクロライド２０Ｏｒａｎ中の４′−へブチ
ルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニルカルボン酸１
１モル（この化合物は２．３−ジフルオロ−４′〜へブ
チルオキシビフェニル０．１モルおよびＴＭＥＤＡ　Ｏ
，１モルをＴＨＦ　２００ｍ４に溶解し、溶液を一７８
°Ｃに冷却させ、次いでこの温度で、ＢｕＬ　ｉのヘキ
サン中の１．６Ｎ溶液０．１０５モルと反応させ、この
反応混合物を一７８℃で３時間撹拌し、次いで粉砕した
ドライアイス２００ｇ上に一度に全部注ぎ入れる。慣用
の方法で仕上げ、４′−ヘプチルオキシ−２，３−ジフ
ルオロ−ビフェニル−４−カルボン酸を得ることにより
製造される）、光学活性の２−シアノ−２−メチルヘキ
サン−１−オール０．１モル（この化合物は光学活性エ
チル２−メチル−２−ブチルシアノアセテートからＬｉ
ＢＨ４による還元によって製造することができる）８よ
び触媒量の４−Ｎ、Ｎ’−ジメチルアミノピリジン（Ｄ
ＭＡＰ）の混合物に加える。混合物を次いで、室温で１
２時間撹拌する。慣用の方法で仕上げ、生成物を結晶化
により精製する。光学活性の２−シアノ−２−メチルヘ
キシル４′−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロビフ
ェニル−４−カルボキシレートが得られる。
例　　３４ ＴＨＦに溶解したジエチルアゾジカルボキシレート（Ｄ
ＥＡＤ）　０．１７モルを、ＴＨＦ　４００ｍｆｆ中の
４′−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニル
−４−オール０．１５モル、Ｌ（−）−エチルラクテー
ト０．１７モルおよびトリフェニルホスフィン０．１５
モルの溶液に加える。この添加中に、反応温度は５０°
Ｃを越えてはならない。混合物を５０℃で１時間撹拌し
、次いで室温で一夜にわたり撹拌する。溶媒を次いで留
去し、残留物を熱いトルエンに溶解し、溶液を引続いて
ゆっくり冷却させる。沈澱したトリフェニルホスフィン
オキサイドを吸引炉別し、炉液を濃縮し、残留物をクロ
マトグラフィにより精製する。エチル２−（４−（ｐ−
ヘプチルオキシフェニル）　−２，３−ジフルオロフェ
ノキシ〕−プロピネートが得られる。
例　　３５ メチレンクロライド中のＤＣＣ０，１モルの溶液をＯ′
Ｃで、メチレンクロライド２５０＋ｃＱ中の４′へブチ
ルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニル−４−オール
０．１モル、光学活性２−クロロ−３−メチル酪酸０．
１モル（この化合物はバリンから製造される）および触
媒量のＤＭＡＰの混合物に加える。混合物を次いで室温
で１２時間撹拌し、沈澱を引続いて吸引炉別し、炉液を
慣用の方法で仕上げることにより、４−（ｐ−へブチル
オキシフェニル）−２，３−ジフルオロフェニル２−ク
ロロ−３−メチルブチレートが得られる。
例　　３６ ４−オクチルビシクロ（２，２，２）オクチルカルボキ
シルクロライド０．００５５モルを４′−オクチルオキ
シ−２’、３’−ジフルオロビフェニル−４−オール０
．００５５モル〔この化合物は触媒としてテトラキス（
トリフェニルホスフィン）パラジウム（○）を用いて、
４−才クチルオキシ−２，３−ジフルオロフエニルジイ
ソプロピルオキシチタネートをｐ−ベンジルオキシブロ
モベンゼンにカップリングさせることにより得られる、
４′−オクチルオキシ−２’、３’−ジフルオロ−４−
ベンジルオキシビフェニルの水素添加分解的開裂によっ
て製造させる〕、メチレンクロライド２０ｍ（ｌおよび
トリエチルアミンｌ　ｒｎＱの混合物に加える。混合物
を２０°で２４時間撹拌した後に、慣用の方法で仕上げ
、４′−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル４−オクチルビシクロ（２，２，２）オク
チルカルボキシレート得る、Ｃ　５７．１’　ｓｃ　１
２８．５°ＳＡ１５６’　Ｎ　１７７、５。
同様にして、下記の化合物を製造する：４′ーオクチル
オキシー２’　、３’−ジフルオロビフェニル−４−イ
ルトランス−４−ヘプチル−シクロヘキシルカルボキシ
レート、Ｃ５３°　ＳＣ１３１、８°ＳＡ１４４．４°
Ｎ　１６２’　１４′−才クチルオキシ−２’．３’−
ジフルオロ−４−アセチルオキシビフェニル ４′−オクチルオキシ−２’，３’−ジフルオロ−４−
プロピオニルオキシビフェニル ４′−オクチルオキシ−２’．３’−ジフルオロ−４−
ブチリルオキシビフェニル ４′−オクチルオキシ−２’．３’−ジフルオロ−４−
ペンタノイルオキシビフェニル ４′−オクチルオキシ−２’，３’−ジフルオロ−４−
ヘキサノイルオキシビフェニル ４′−オクチルオキシ−２’　、３’−ジフルオロ−４
−ヘプタノイルオキシビフェニル、　Ｃ　６２．９’４
′−オクチルオキシ−２’，３’−ジフルオロ−４−才
クタノイルオキシビフェニル，　ｃ　５４．９。
ＳＣ６３，０°　Ｎ　６６．５°　Ｉ ４′−オクチルオキシ−２’　、３’−ジフルオロ−４
−ノナノイルオキシビフェニル、Ｃ５８°　５Ｃ６３，
１’　Ｎ　６３．５’　１ ４′−オクチルオキシ−２’、３’−ジフルオロ−４−
（４−メチルヘキサノイルオキシ）−ビフェニル、　Ｃ
３８’　ｓｃ　（３２，５°）　Ｎ　（３５，５’）　
１４′−オクチルオキシ−２’、３’−ジフルオロ−４
−デカノイルオキシ、　Ｃ５１，８°５ｃ７１’　１例
　　３７ ４−（４−トランス−ペンチルシクロヘキシル）−１−
（４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル）
−シクロヘキス−１−エン０．２モル（この化合物は４
−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニルリチウ
ムおよび４−トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−シクロヘキサノンを使用し、引続いてｐ−トルエンス
ルホン酸を用いて脱水させることにより製造されるトル
エン４００ｍＱおよびＤＤＱ　Ｏ，４モルの混合物を沸
点で２時間加熱する。冷却後に、４′−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−４−オクチルオキソ−２
，３−ジフルオロビフエニルが得られる、Ｃ５３°Ｓｃ
　５８　ＳＡ　１２７°Ｎ０同様にして、下記の化合物
を製造する：４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−４−ヘプチルオキシ−２，３−ジフルオロビ
フェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−へキシルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（トラ７スー４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（）ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−ブトキシ−２，３−ジフルオロビフェニル ４’＝（１−ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
４−プロポキシ−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−二トキシ−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（１−ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
４−エチル−２，３−ジフルオロビフェニル ４′−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−プロピル−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−ブチル−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−ペンチル−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−へキシル−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−へブチル−２，３−ジフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
−才クチル−２，３−ジフルオロビフェニル 例　　３８ ヘキサン６５ｍ１２中のｎ−ブチルリチウム０．２モル
ノ溶液ヲー１００°Ｃで、１．２−ジフルオロベンゼン
０．１モル、カリウムｔｅｒｔ−ブチレート０．２モル
およびテトラヒドロ７ラン１００ｍＱの混合物に加える
。混合物を１０分間撹拌した後に、４−プロピルシクロ
へキサノン０．２モルとテトラヒドロフラン２０ｍαと
の混合物を一９０°Ｃで加える。混合物を一４０°Ｃで
２時間撹拌した後に、室温まで温め、次いで２規定の塩
酸溶液３０ｍＱを加える。２時間加熱し、次いで慣用の
方法で仕上げ、１．４＝ビス−（４−プロピルシクロへ
キス−１−エニル）−２，３−ジフルオロベンゼンヲ得
る、０５９°Ｎ　１２０．５°Ｉ０ 同様にして、下記の化合物を製造する＝１．４−ビス−
（４−エチルシクロヘキシ−１−エニル）−２，３−ジ
フルオロベンゼン１．４−ビス−（４−プチルンクロヘ
キシー１エニル）−２，３−ジフルオロベンゼン１．４
−ビス−（４−ペンチルシクロヘキシ−１−エニル）−
２，３−ジフルオロベンゼン１．４−ビス−（４−へキ
シルシクロヘキシ−１−エニル）−２，３−ジフルオロ
ベンゼン１．４−ビス−（４−へブチルシクロヘキシ−
１−エニル）−２，３−ジフルオロベンゼン１．４−ビ
ス−（４−オクチルシクロヘキシ−１−エニル）−２，
３−ジフルオロベンゼン例　　３９ （トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−アセチル
クロライド０．１モルおよびトルエン２０ｍＱの混合物
を０°Ｃで、４−才クチルオキシ−２，３−ジフルオロ
フェニル−ホウＭＯ，１モル（この化合物は４−オクチ
ルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル−リチウムおよ
びトリイソプロピルポレートを使用し、引続いて、稀塩
酸により加水分解することにより製造される）、炭酸ナ
トリウム０．２モル、テトラキス−（トリフェニルホス
フィン）パラジウム（０）０．０１モルおよびトルエン
１５０＋１２の混合物に加える。混合物を室温で２時間
撹拌し、慣用の方法で仕上げ処理し、１−（４−オクチ
ルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−２−（）ラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）−エタン−１−オ
ンを得る、０５９″ＳＡ　（５５°）■。
同様にして、下記の化合物を製造する：１−（１−オク
チルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル）　−２−（
１−ランス−４−エチルシクロヘキシル）−エタン−１
−オン １−（１−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（）ランス−４−７’口ビルシク口ヘキシル
）−エタン−１−オン １−（１−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−
エタン−１−オン ■−（ｌ−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（）ランス−４−へキシルシクロヘキシル）
−エタン−１−オン １−（１−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（）ランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）
−エタン−１−オン １−（１−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）
−エタン−１−オン １−（１−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）−
エタン−１−オン １−（１−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−エタン−１−オン １−（ｌ−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−
エタン−１−オン １−（１−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）
−エタン−１−オン ■−（１−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニ
ル）−２−（トランス−４−へブチルシクロヘキシル）
−エタン−１−オン １−（１−ペンチルオキシ−′２，３−ジフルオロフェ
ニル）−２−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル
）−エタン−１−オン 例４０ ４−才クチルオキシ−２，３−ジフルオロアニリン０．
１モル（この化合物は相当するアミドから、転位により
製造される）、４−プロピルベンズアルデヒド０．１モ
ルｐ−トルエンスルホン酸０．０１モルおよびトルエン
２００＋ＡＱの混合物を、水分離器の使用の下で、２時
間、沸点で加熱する。
慣用の方法で仕上げ、（４−オクチルオキシ−２，３−
ジフルオロフェニル）−４−プロピルベンジリデンアミ
ンを得る。
同様にして、下記の化合物を製造する：（４−才クチル
オキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−４−エチルベ
ンジリデンアミン（４−オクチルオキシ−２，３−ジフ
ルオロフェニル）−４−ブチルベンジリデンアミン（４
−オクチルオキシ−２，３−ジフルオ口フエニル）−４
−ペンチルベンジリデンアミン（４−才クチルオキシ−
２，３−ジフルオロフェニル）−４−へキシルベンジリ
デンアミン（４−オクチルオキシ−２，３−ジフルオロ
フェニル）−４−へブチルベンジリデンアミン（４−才
クチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−４−オ
クチルベンジリデンアミン＜４−ヘンチルオキシ−２，
３−ジフルオロ７エ二ル）−４−エチルベンジリデンア
ミン（４−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロ７エ二
ル）−４−７’口ピルベンジリデンアミン（４−ペンチ
ルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−４−ブチル
ベンジリデンアミン（４−ペンチルオキシ−２，３−ジ
フルオロフェニル）−４−ペンチルベンジリデンアミン
（４−ペンチルオキシ−２，３−ジフルオロ７エ二ル）
−４−ヘキシルベンジリデンアミン（４−ペンチルオキ
シ−２，３−ジフルオロ７エ二ル）−４−ヘプチルベン
ジリデンアミン（４−ペンチルオキシ−２，３−ジフル
オロフェニル）−４−オクチルベンジリデンアミン例　
　４１ ブチルリチウムのｎ−ヘキサン中の１．６Ｎ溶液６６ｍ
ｍを一７０℃でＴＨＦ　２００ｍＱ中の２，３−ジフル
オロフエネトール０．１モルおよヒＴＭＥＤＡ　Ｏ，１
モルの溶液に滴下して加える。−７０°Ｃで４時間撹拌
した後に、ＴＨＦ　５Ｑ＋＋Ｉｆｆ中の４−アセチル−
４′−プロピルビフェニル０．１モルを加える。慣用の
方法で仕上げた後に、生成物およびｐ−トルエンスルホ
ン酸２ｇをトルエン２００ｍ１２に溶解し、混合物を０
．５時間、加熱還流させる。慣用の方法で仕上＋ｆ、１
−（４−エトキシ−２，３−’；フルオロフェニル）−
１−（４’−プロピルビフェニル−４−イル）−二テン
を得る。
このエデン誘導体０．０６５モルのジクロロメタン１０
０ｍｆｆとアセトニトリル５０ｍｆｆとの混合物中の撹
拌した溶液に、臭素０．０６５モルを加える。トリエチ
ルアミン１０ｇを加え、次いで慣用の方法で仕上げ処理
した後に、粗生成物をＴＨＦ　５Ｑｍ１２に溶解する。
この溶液に一５０℃で、ＴＨＦ　１２０ｍ（２中のリチ
ウムジイソフロピルアミド０．１３モルを滴下して加え
る。慣用の方法で仕上げ、１−（４−エトキシ−２，３
−ジフルオロフェニル）−２−（４′−プロピルビフェ
ニル−４−イル）−二チンを得る。
このエチン誘導体０．０３１モルおよびＰｄ−Ｃ（５％
）３ｇをＴＨＦ　ｌｏＯｍｆｆに懸濁し、室温で、１バ
ールの水素圧の下で水素添加する。慣用の方法で仕上げ
、１−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）
−２−（４’−プロピルビフェニル−４−イル）−エタ
ンを得る。
同様にして、下記の化合物を製造する＝ｌ−（４−エト
キシ−２，３−ジフルオロフェニル）−２−（４’−エ
チルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−
２−（４’−ブチルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−
エタン ■−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−
２−（４’−へキシルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロ７エ二ル）−
２−（４’−へブチルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェニル）−
２−（４’−オクチルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−７’口ピル−２，３−ジフルオロフェニル）
−２−（４’−エチルビフェニル−４−イル）−エタン ■−（４−プロピル−２，３−ジフルオロフェニル）−
２−（４’−プロピルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−７’ロピルー２．３−ジフルオロフェニル）
−２−（４’−ブチルビフェニル−４−イル）−エタン ル）−２−（４’−ペンチルビフェニル−４−イ１−（
４−７’口ピル−２，３−ジフルオロフエニル）−２−
（４’−ペンチルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−プロピル−２，３−ジフルオロフェニル）−
２−（４’−へキシルビフェニル−４−イル）−エタン ■−（４−プロピル−２，３−ジフルオロフェニル）−
２−（４’−へブチルビフェニル−４−イル）−エタン １−（４−７’口ピル−２，３−ジフルオロフェニル）
−２−（４’−オクチルビフェニル−４−イル）−エタ
ン 例　　４２ Ａ、４−（トランス−４−ペンチルシクロへキシルメト
キシ）−２，３−ジフルオロフェニル−ホウ酸 ｎ−ブチルリチウムのヘキサン中の溶液（６０ｍＱ、　
１．６モル／１）を−７０℃で、３−（トランス−４−
ペンチルシクロへキシルメトキシ）−１，２−ジフルオ
ロベンゼン（この化合物は４−トランス−ペンチルシク
ロヘキシルメチルプロマイ）’ト２．３−ジフルオロフ
ェノールから例４と同様にして得られる）　ＴＨＦ　２
００ｍｆｆおよびＴＭＥＤＡ　Ｏ，１モルの混合物に加
え、４時間撹拌する。次いで、ＴＨＦ　４０ｍＱ中のト
リメチルポレート０．１１モルの溶液を加える。室温ま
で温めた後に、塩酸溶液（３００ｍＱ、　ＩＱ％）を加
える。慣用の方法で仕上げ、標題の生成物を固形物とし
て得る。
８．４’−（１−ランス−４−ペンチルシクロへキシル
メトキシ）　−２’、３’、４’−トリフルオロビフェ
ニル エタノールｌＯＯｍＱ中の上記ホウ酸（４２Ａ）０．０
５モルをトルエン（５０ｍα）と炭酸ナトリウム水溶液
（５０ｔＱ、　２モル／１２）との混合物中で、触媒と
してテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
（０）を用いて、ｐ−フルオロヨードベンゼン０．０５
モルとカップリングさせる（Ｖ。
５ｎｉｅｃｋｕｓ等によるＴｅＬｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌ
ｅｔｔｅｒｓ　２８．　Ｎｏ。
４３．５０９３−５０９６頁、１９８７年、参照〕。
生成物は固形物として得られる、Ｋ　　８５°Ｎ１０．
２°Ｉ０ 同様にして、下記の化合物を製造する：４’−（１−ラ
ンス−４−エチルシクロへキシルメトキシ）　−２’、
３’、４−　トリフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−プロピルシクロへキシルメトキ
シ）−２’、３’、４−　トリフルオロビフェニル ４’−（１−ランス−４−ブチルシクロヘキシルメトキ
シ）　−２’、３’、４−　トリフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−へキシルシクロヘキシルメトキ
シ）−２’、３’、４−　トリフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−へブチルシクロヘキシルメトキ
シ）−２’、３’、４−　トリフルオロビフェニル ４’−（トランス−４−オクチルシクロヘキシルメトキ
シ）−２’、３’、、４−　ｈリフルオロビフェニル 原料化合物として、ｐ−ヨード−（トリフルオロメトキ
シ）−ベンゼンを使用して、下記の化合物が得られる： ４’−（トランス−４−エチルシクロへキシルメトキシ
）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキ
シビフェニル ４’−（トランス−４−プロピルシクロへキシルメトキ
シ）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメト
キシビフェニル ４’−（１−ランス−４−ブチルシクロへキシルメトキ
シ）−２’、３’−ジフルオロ−４−一トリフルオロメ
トキンビフェニル ４’−（トランス−４−ペンチルシクロへキシルメトキ
シ）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメト
キシビフェニル、　Ｋ　５２°５Ａ７６°Ｎ１０８°Ｉ ４’−（トランス−４−へキシルシクロへキシルメトキ
シ）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメト
キシビフェニル ４’−（トランス−４−ヘプチルシクロへキシルメトキ
シ）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメト
キシビフェニル ４’−（１−ランス−４−オクチルシクロへキシルメト
キシ）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメ
トキシビフェニル 原料化合物としてｐ−ブロモ−（トリフルオロメチル）
−ベンゼンを使用して、下記の化合物が得られる。
４’−（トランス−４−エチルシクロへキシルメトキシ
）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメチル
ビフェニル ４’−（トランス−４−プロピルシクロヘキシルメトキ
シ）−２’、３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメチ
ルビフェニル ４’−（１−ランス−４−ブチルシクロヘキシルメトキ
シ オロメチルビフェニル ４’−（）ランス−４−ペンチルシクロへキシルメトキ
シ）−２’，３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメチ
ルビフェニル、　Ｋ　７２’　Ｎ　９０°■４’−（ト
ランス−４−ヘキシルシクロへキシルメトキシ）−２’
．３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルビフェニ
ル ４’−（１−ランス−４−へブチルシクロへキシルメト
キシ）−２’，３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメ
チルビフェニル ４’−（１−ランス−４−オクチルシクロへキシルメト
キシ）−２’，３’−ジフルオロ−４−トリフルオロメ
チルビフェニル 例　　Ａ ２−ｐ−へブチルオキシフェニル−５−オクチルピリミ
ジン８％、 ２−ｐ−オクチルオキシフェニル−５−オクチルピリミ
ジン１０％、 ２−ｐ−／ニルオキシフェニルー５ーオクチルピリミジ
ン１４％、 ２−ｐ−へキシルオキシフェニル−５−ノニルピリミジ
ン３％、 ２−ｐ−ノニルオキシフェニル−５−ノニルピリミジン
２３％、 ２−（２．３−ジフルオロ−４−ノニルオキシフェニル
）−５−オクチルピリミジン７％、２　−　（２，３−
ジフルオロ−４−ノニルオキシフェニル）−５−ノニル
ピリミジン９％、２−（ｐ−ヘンチルオキシフェニル）
−５−（ｐ−オクチルフェニル）　−１．３．４−チア
ジアゾール８％、 ２−（ｐ−ヘプチルオキシフェニル）−５−（ｐ−オク
チルフェニル）−１．３．４−チアジアゾール８％およ
び 光学活性の４′−才クチルオキシビフェニル−４−イル
２−シアノ−２−メチルヘキサンカルボキシレート１０
％ よりなる液晶メジウムはＳｃ零６１　ｓＡ６６　ｃｈ　
７２　ｌおよび室温で１８　ｎＣ／　ｃｍ２の自発分極
を示す。
例　　Ｂ ２−ｐ−才クチルオキシフェニル−５−へブチルピリミ
ジン４％、 ２−ｐ−ノニルオキシフェニル−５−へブチルピリミジ
ン４％、 ２−ｐ−へキシルオキシフェニル−５−ノニルピリミジ
ン７％、 ２−ｐ−へブチルオキシフェニル−５−ノニルピリミジ
ン１２％、 ２−ｐ−ノニルオキシフェニル−５−ノニルピリミジン
２５％、 ２−（２．３−ジフルオロ−４−ノニルオキシフェニル
）−５−ノニルピリミジン８％、２　−　（２．３−ジ
フルオロ−４−オクチルオキシビフェニル−４′−イル
）−５−へブチルピリミジン８％、 ｒ−１−シアノ−シス−４−（４’−オクチルオキシビ
フェニル−４−イル）−１−オクチルシクロヘキサン８
％、 ２−（ｐ−ヘプチルオキシフェニル）−５−（ｐ−ペン
チルフェニル）　−１，３，４−チアジアゾール７％、 ２−（ｐ−オクチルオキシフェニル）−５−（ｐ−へブ
チルフェニル’）　−１，３，４−チアジアゾール７％
および カイラルのエチル２−　（ｐ　−（５−ノニルピリミジ
ン−２−イル）−フェノキシ〕−プロピオネート１０％ よりなる液晶メジウムはＳ。末５８５Ａ６４　ｃｈ　７
５　■および室温で１０　ｎＣ／　ｃｍ２の自発分極を
示す。
例　　Ｃ ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル４′
−オクチルオキシビフェニル−４−イルカルボキシレー
ト１２．５％ ４−へブチルオキシ−２，３−ジフルオロフェニル４−
才クチルオキシベンゾエート１４．２％４−へブチル−
２−フルオロフェニル４′−ヘプチルオキシビフェニル
−４−イルカルボキシレート１２．５％ ４−へフチルー２−フルオロフェニル４′−へブチルオ
キシ−２′−フルオロビフェニル−４−イルカルホキシ
レー１−１２．５％ ４−オクチルオキシ−３−フルオロフェニル４−オクチ
ルオキシベンゾエート１４．２％４−ペンチル−２−フ
ルオロフェニル４−オクチルオキシベンゾエート１２．
３４％４−オクチルオキシ−３−フルオロフェニル４−
へブチルオキシベンゾエート１４．２４％カイラルの４
−（２−メチルブチル）−フェニル４′−オクチルビフ
ェニル−４−イルカルボキシレート５．０４％および カイラルの１−シアノ−２−メチルプロピル４′−オク
チルオキシビフェニル−４−イルカルボキシレート２．
４８％ よりなる液晶メジウムはＳｃ本６６．４°５Ａ７３°ｃ
ｈ９７．２°ｌおよび３０°Ｃで９　　ｎＣ／ａｍ２の
自発分極を示す。
例　　Ｄ ４−へフチルー２−フルオロフェニル４′−へブチルオ
キシビフェニル−４−イルカルボキシレート１６．８７
％ ４−へブチル−２−フルオロフェニル４′−へブチルオ
キシ−２′−フルオロビフェニル−４−イルカルボキシ
レート１６．８７％ ４−オクチル−２−フルオロフェニル４’−４クチルオ
キシ−２’、３’−ジフルオロビフェニル−４−イルカ
ルボキシレート１６．８７％４−オクチルオキシ−３−
フルオロフェニル４−オクチルオキシベンゾエート１４
％４−へキシルオキシ−３−フルオロフェニル４−オク
チルオキシベンゾエート１４％４−オクチルオキシ−２
−フルオロフェニル４−ペンチルベンゾエート１０％ ４−へブチル−３−フルオロフェニル４′−才クチルオ
キシ−２’、３’−ジフルオロビフェニル−４−イルカ
ルボキシレート９％およびカイラルの１−シアノ−２−
メチルプロピル４′−オクチルオキシビフェニル− キシレート よりなる液晶メジウムはＳｃ末ハ．８°ＳＡ　８１°ｃ
ｈ１０２、８°Ｉおよび高い自発分極を示す。
例　　Ｅ 下記の成分を含有する液晶メジウムを調製する： ４’−（１−ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
４−シアノビフェニル１３．５％４−（トランス−４−
７’口ピルシク口ヘキシル）−ベンゾニトリル２１．６
％ ４−　（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−ベ
ンゾニトリル３２．４％ ４−　（１−ランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−
ベンゾニトリル２２．５％　および４−エトキシ−２．
３−ジフルオロ−４′−トリフルオロメトキシビフェニ
ル１０．０％このメジウムは下記の物理的性質を示す：
透明点：　　５８．３℃．＋ｙ（２０°Ｃ　）　２６．
０　ｍｍ”／ｓ△５＋　１３．１，△ｎ　Ｏ．１３５８ ０発 ０発 ０発 ０発 トーマス・ゲールハー ル デヴイツド・コーラ イアン＝チャールズ・ セイジ シモン・グリーンフィ ールド ドイツ連邦共和国Ｄ　−６１００ダルムシユタツト、ル
チル、シュトラーセ２５０ ドイツ連邦共和国Ｄ　−６１００ダルムシユタツト、ル
チル、シュトラーセ２５０ ドイツ連邦共和国Ｄ　−６１００ダルムシユタツト、ル
チル、シュトラーセ２５０ ドイツ連邦共和国Ｄ　−６１００ダルムシユタツト、ル
チル、シュトラーセ２５０ フランフッ フランフッ フランフッ フランフッ

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）式 I Ｒ＾１−Ａ＾１−Ｚ＾１−Ａ＾２−（Ｚ＾２−Ａ＾３）
    ＿ｎ−Ｒ＾２ I 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾２はそれぞ
    れ相互に独立して、Ｃ原子１〜１５個をそれぞれ有する
    、直鎖状または分枝鎖状のアルキル基またはパーフルオ
    ロアルキル基であり、この基中に存在する１個または２
    個以上のＣＨ＿２基あるいは１個または２個以上のＣＦ
    ＿２基はまた、２個のヘテロ原子が直接に結合しないも
    のとして、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、
    −Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ
    −Ｏ−、−Ｅ−、−ＣＨ−ハロゲノ−および−ＣＨＣＮ
    −よりなる群から選ばれる基により、あるいはこれらの
    基のうちの２個の組合せにより置き換えられていてもよ
    く、あるいは基Ｒ＾１および基Ｒ＾２のうちの一つはま
    た、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＮ、ＣＯＯＨ、ＯＨ、ＳＨ
    、ＮＨ＿２、ＮＯ＿２、−ＮＣＳ、ＮＣまたはＳＦ＿５
    であることができ、 Ｅは−ＣＲ＾３＝ＣＲ＾４−、▲数式、化学式、表等が
    あります▼または−Ｃ≡Ｃ−であり、 Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ相互に独立して、Ｈ、Ｃ
    原子１〜６個を有するアルキル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ
    ＿３またはＣＮであり、 Ｚ＾１およびＺ＾２は、それぞれ、相互に独立して、−
    ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ＿２ＣＨ＿２−、−
    ＣＨ＿２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ＿２−、−Ｎ＝ＣＨ＿２−
    、−ＣＨ＿２＝Ｎ−、−ＣＨ＿２−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ
    Ｈ＿２−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＮＯ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＮＯ−、
    −Ｃ≡Ｃ−または単結合であり、 Ａ＾１、Ａ＾２およびＡ＾３は、それぞれ、相互に独立
    して、１，４−フェニレン基であり、この基は非置換で
    あるか、または１個または２個以上のハロゲン、ニトリ
    ルおよび（または）アルキル置換基により置換されてお
    り、そしてこの基中に存在する１個または２個以上のＣ
    Ｈ基はＮにより置き換えられていてもよく、あるいはＡ
    ＾１、Ａ＾２およびＡ＾３は、それぞれ、１，４−シク
    ロヘキシレン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ
    ＿２基または隣接していない２個のＣＨ＿２基は、Ｏお
    よび（または）Ｓにより置き換えられていてもよく、あ
    るいはＡ＾１、Ａ＾２およびＡ＾３は、それぞれ、１，
    ４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ（２，２
    ，２）オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、
    ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン
    −２，６−ジイル基または１，２，３，４−テトラヒド
    ロナフタレン−２，６−ジイル基であり、そして ｎは０、１、２または３である、 ただし、ａ）環Ａ＾１、環Ａ＾２および環Ａ＾３のうち
    の少なくとも一つは２，３−ジハロゲノ−１，４−フェ
    ニレンであり、そして ｂ）環Ａ＾１、環Ａ＾２および環Ａ＾３のうちの一つが
    ２，３−ジクロロ−１，４−フェニレン基である場合に
    は、Ｚ＾１およびＺ＾２はそれぞれ相互に独立して、−
    ＣＨ＿２ＣＨ＿３−、−ＣＨ＿２Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ＿２
    −、−Ｎ＝ＣＨ＿２−、−ＣＨ＿２＝Ｎ−、−ＣＨ＿２
    −ＣＯ−、−ＣＯ−ＣＨ＿２−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＮＯ＝
    Ｎ−、−Ｎ＝ＮＯ−、−Ｃ≡Ｃ−または単結合だけを表
    わし、あるいは基Ｒ＾１および基Ｒ＾２のうちの一つが
    Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＮ、ＮＣＳ、ＮＣ、またはＳＦ＿５
    のみを表わし、 ｃ）環Ａ＾１、環Ａ＾２および環Ａ＾３のうちの一つが
    ２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基であり、そ
    して他の環Ａ＾１、環Ａ＾２および環Ａ＾３が１，４−
    フェニレン基である場合には、基Ｚ＾１および基Ｚ＾２
    のうちの、少なくとも一つは単結合以外の基であるか、
    あるいは基Ｒ＾１および基Ｒ＾２のうちの一つはＦ、Ｃ
    ｌ、Ｂｒ、ＣＮ、ＮＣＳ、ＮＣまたはＳＦ＿５だけを表
    わしそして ｄ）環Ａ＾１、環Ａ＾２および環Ａ＾３のうちの一つが
    ２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基であり、環
    Ａ＾１、環Ａ＾２および環Ａ＾３のうちの一つが１，４
    −フェニレン基であり、そして環Ａ＾１、環Ａ＾２およ
    び環Ａ＾３のうちの一つがシクロヘキシレン基である場
    合には、基Ｚ＾１および基Ｚ＾２のうちの少なくとも一
    つは単結合以外の基である〕 で示されるジハロゲノベンゼン誘導体。
  2. （２）上記式 I において、基Ｒ＾２に隣接する基Ａ＾
    ３または基Ａ＾２が２，３−ジハロゲノ−１，４−フェ
    ニレンであることを特徴とする請求項１に記載のジハロ
    ゲノベンゼン誘導体。
  3. （３）Ｒ＾１がアルキルであり、そしてＲ＾２がＦであ
    ることを特徴とする、請求項２に記載のジハロゲノベン
    ゼン誘導体。
  4. （４）２，３−ジハロゲノ−１，４−フェニレンが２，
    ３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであることを特徴
    とする、請求項１〜３のうちの一つに記載のジハロゲノ
    ベンゼン誘導体。
  5. （５）式 I ｄ１、 I ｄ２および I ｄ３ ▲数式、化学式、表等があります▼ I ｄ１ ▲数式、化学式、表等があります▼ I ｄ２ ▲数式、化学式、表等があります▼ I ｄ３ （各式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は請求項１に記載の意味
    を有する）で示されるジハロゲノベンゼン誘導体。
  6. （６）式Ａ、ＢおよびＣ ▲数式、化学式、表等があります▼Ａ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｂ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｃ （各式中、Ｒ＾５およびＲ＾６はそれぞれ相互に独立し
    て、Ｃ原子１〜１５個を有するアルキルであり、そして
    ｍ、ｐおよびＯは０または１である）で示されるジハロ
    ゲノベンゼン誘導体。
  7. （７）式 I で示される化合物を成分として含有する液
    晶メディア。
  8. （８）少なくとも二種の液晶成分を含有する液晶メジウ
    ムであって、少なくとも一種の成分が式 I 、式 I ｄ１
    、式 I ｄ２、式 I ｄ３、式Ａ、式Ｂまたは式Ｃで示さ
    れる化合物であることを特徴とする液晶メジウム。
  9. （９）請求項８に記載の液晶メジウムを含有することを
    特徴とする液晶表示素子。
  10. （１０）請求項８に記載の液晶メジウムを誘電体として
    含有することを特徴とする、請求項９に記載の電気光学
    表示素子。
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