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JPH0616804A - 光硬化性オキセタン組成物 - Google Patents

光硬化性オキセタン組成物

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Publication number
JPH0616804A
JPH0616804A JP5049907A JP4990793A JPH0616804A JP H0616804 A JPH0616804 A JP H0616804A JP 5049907 A JP5049907 A JP 5049907A JP 4990793 A JP4990793 A JP 4990793A JP H0616804 A JPH0616804 A JP H0616804A
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JP
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carbon atoms
formula
alkyl
compound according
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JP5049907A
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James V Crivello
ビンセント クリベロ ジェームズ
Hiroshi Sasaki
裕 佐々木
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Rensselaer Polytechnic Institute
Original Assignee
Rensselaer Polytechnic Institute
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光開始カチオン重合用の新規な3−置換オキ
セタンモノマー、これらのオキセタンを含む光硬化性組
成物、これらのモノマーの硬化方法、およびそれによっ
て製造されるポリマーを提供することを目的とする。 【構成】 オキセタンモノマーは、式 【化1】 (式中、R1は、水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
またはチエニル基であり、R2は、線状または分枝状アル
キレン基、線状または分枝状ポリ(アルキレンオキシ)
基、キシリレン基、シロキサン結合およびエステル結合
から成る群から選択される多価基であり、Zは酸素原子
または硫黄原子であり、mは2,3または4である)で
表わされる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光開始カチオン重合用
の新規な3−置換オキセタンモノマー、これらのオキセ
タンを含む紫外線硬化性組成物、これらのモノマーの硬
化法、およびその方法によって製造されるポリマーに関
する。
【0002】
【従来の技術】紫外線(UV)開始重合または硬化は、
その速い硬化速度、非汚染性の作業環境、極めて低いエ
ネルギー要求量等の良好な特性のため、木質のコーティ
ング、金属の装飾および印刷産業において極めて重要に
なってきている。この分野における初期の開発は、多官
能性アクリレートおよび不飽和ポリエステルの光開始フ
リーラジカル重合に集中していた。今日でも、これらの
材料は、UV硬化産業において依然として隆盛を誇って
おり、現在の研究努力の大部分は光開始フリーラジカル
重合に向けられ続けているが、イオン性光重合も多くの
応用分野でかなり有望であることも十分に認められてい
る。特に、光開始カチオン重合は、多種多様なモノマー
の重合によって様々な化学的および物理的特性を実現さ
せる可能性に富むため、魅力あるものである。更に、光
開始カチオン重合は、酸素によって阻害されないので、
不活性雰囲気下で実施しなければならないという制限は
なく、空気中で速やか且つ完全な重合を行うことができ
るという利点を有する。
【0003】今日まで、光開始カチオン重合技術は、エ
ポキシドおよびビニルエーテルという2種類のモノマー
の光重合に集中していた。特に、エポキシドの光重合で
は、耐熱性が良く、接着性に優れ、耐薬品性が良好な塗
膜が得られる。しかしながら、従来の光硬化性エポキシ
ドには、光重合速度がかなり遅いという欠陥がある。こ
の要因のために、従来の光硬化性エポキシドは、速やか
なUV硬化が必要な紙およびプラスチックコーティング
のようなある種の用途には適さない。
【0004】エクベルグ(Eckberg )らの文献[Radtec
h '90 North American Proceedings、第1巻、358 〜37
0 (1990)]は、参考として本明細書に引用されるもので
あるが、これには光重合用のエポキシド官能基を有する
一連の線状および分枝状シリコーンが開示されており、
触媒および重合条件も記載されている。
【0005】クリベロ(Crivello)とリー(Lee) [Radtec
h '90 North American ConferenceProceedings、第1
巻、432 〜445 (1990)]は、参考として本明細書に引用
されるものであるが、これには特に速やかな重合を行う
環ひずみの大きい環状脂肪族エポキシド環を有するケイ
素含有多官能モノマーが記載されている。これらのカチ
オン性光重合は、最も迅速な市販のエポキシドモノマー
と比較して少なくとも100倍の速度で起こる。しかし
ながら開環性エポキシドを鎖中に有する同様なケイ素含
有モノマーは、UVによる硬化性はかなり低い。
【0006】これらの観察に基づき、クリベロ(Crivell
o)とリー(Lee) は、環状脂肪族エポキシド環を有するケ
イ素含有エポキシドの高い感受性の主な要因はこれらの
化合物のエポキシド基の高い環歪みにあると結論した。
エポキシドは環状エーテルのうちで最も高い環歪みを有
することは周知である。したがって、あらゆる種類のエ
ポキシドは、5員環を有するモノマーより反応性が高い
と思われるオキセタンよりもカチオン性UV光重合の反
応性が高く、すなわちその反応性は
【化24】 順に高くなるものと推定された。更に、多官能オキセタ
ンモノマーは対応する多官能エポキシドよりも反応性が
低いことも予想される。またオキセタンは重合すること
は知られているが、その重合速度についてはオキセタン
を開示する文献において議論されることはなかった。
【0007】米国特許第4,058,400号明細書
(クリベロ)には、3,3−ビスクロロメチルオキセタ
ンアルコキシオキセタン がカチオン性光重合
することができることが開示されている。
【0008】米国特許第3,673,216号明細書
(シュレーター(Schroeter) )には、一連の4,4−ジ
アルキル−2−アルコキシオキセタンが開示されてお
り、それらがフリーデル−クラフツ触媒により重合する
ことができることが記載されている。
【0009】ドイツ国特許第1,021,858号明細
書(ボーデンブレンナー(Bodenbrenner)およびヴェグラ
ー(Wegler))には、一般式
【化25】 (式中、Rは2以上の原子価を有する芳香族残基であ
り、R1はエチル基である)を有するオキセタンが開示さ
れており、具体的には、Rが
【化26】 である化合物が開示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、短時
間のUV暴露により重合させることができるモノマーを
提供することである。
【0011】本発明のもう一つの目的は、酸素を排除す
る必要なしに重合させることができるモノマーを提供す
ることである。
【0012】本発明のもう一つの目的は、容易に入手で
きる出発物質から容易に調製することができるモノマー
を提供することである。
【0013】本発明のもう一つの目的は、強力で、化学
的な耐性を有し、接着性を有するポリマーを提供するこ
とである。
【0014】
【課題を解決するための手段】意外にも、多数の二およ
び三官能オキセタンモノマーは、カチオン性UV硬化に
極めて高い反応性を示すことを見出した。その反応性
は、歪んだエポキシド基を有するモノマーとほぼ同じで
あり、カチオン性UV硬化の知識の現状からは予測され
うるものではない。
【0015】本発明のオキセタンモノマーは、エポキシ
化を用いない簡明な合成法により高収率で調製すること
ができるという利点も有する。対照的に、現在用いられ
ている多官能環状脂肪族エポキシドモノマーは、一般
に、対応するオレフィンのエポキシ化といった、通常は
不便で経費が掛かり、危険なこともある方法によって調
製されている。これらの理由により、環状脂肪族エポキ
シド樹脂は特注商品と考えられている。
【0016】本発明の一つの態様は、式
【化27】 (式中、R1は、水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
またはチエニル基であり、R2は、線状または分枝状アル
キレン基、線状または分枝状ポリ(アルキレンオキシ)
基、
【化28】
【化29】 および
【化30】 から成る群から選択される多価基であり、R3は、1〜4
個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基および
【化31】 から成る群から選択され、R4は、1〜4個の炭素原子を
有するアルキル基またはアリール基であり、R5は、1〜
4個の炭素原子を有するアルキル基またはアリール基で
あり、R9は、水素原子、1〜4個の炭素原子を有するア
ルキル基、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシ基、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低
級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基またはカル
バモイル基、R10は、O、S、CH2、NH、SO、SO
2、C(CF32またはC(CH32、Zは、酸素原子
または硫黄原子であり、jは、0であるかまたは1〜1
00の整数であり、mは、2、3または4であり、n
は、0〜2000の整数である)を有する一連の3−置
換オキセタンに関する。
【0017】R1は低級アルキル基であるのが好ましく、
エチル基であるのが最も好ましい。R4およびR5は好まし
くはメチル基である。Zは好ましくは酸素原子である。
高表面硬度のポリマーにするには、nが0〜6であるこ
とが好ましく、高引張強さのポリマーを得るには、nが
100〜200であることが好ましく、R9は水素原子が
好ましく、R10はO、CH2、C(CF32またはC(C
32が好ましい。明細書及び特許請求の範囲を通じ
て、変数は導入時に定義され、その定義はその後も維持
される。
【0018】他の好ましい具体例は、式VI
【化32】 の化合物である。式VIの化合物は、R2
【化33】 であり、R3
【化34】 であり、nが1であり、jが零であり、mが4であり、
Zが酸素原子である式Iの化合物と考えられる。一般
に、多数のオキセタンが付加された分岐状シリコーン
は、R3 がシロキサンである場合に生成する(すなわち、
mが3または4)一方、線状ビス(オキセタニル)シリ
コーンはR3が低級アルキル基の場合に生成する。
【0019】本発明のもう一つの態様は、式
【化35】 (式中、rは25〜200の整数であり、R11は1〜4
個の炭素原子を有するアルキル基またはトリアルキルシ
リル基である。)のオキセタンに関する。
【0020】本発明のもう一つの態様は、前記のモノマ
ーおよびカチオン性光重合開始剤を含んで成るUV硬化
性組成物に関する。このUV硬化性組成物は、前述のモ
ノマーに加えて、式IV及びVのオキセタンモノマー
【化36】
【化37】 特に、R9が水素原子、ハロゲン原子またはアルコキシ基
であるものを含むことができる。好ましい光重合開始剤
は、トリアリールスルホニウム塩およびジアリールヨー
ドニウム塩である。
【0021】本発明のもう一つの態様は、本発明のオキ
セタンモノマーとカチオン性光重合開始剤との混合物を
紫外線に暴露することを特徴とする、架橋プロピルオキ
シポリマーの製造法に関する。
【0022】本発明のもう一つの態様は、本発明のモノ
マーの重合によって製造される架橋プロピルオキシポリ
マーに関する。式Iにおけるmが2である場合には、ポ
リマー生成物は、式
【化38】 (式中、R2bはR2と同じであり、付加的に
【化39】 であってもよく、tおよびuは2〜2000の数であ
る。)によって表わすことができる。
【0023】mが4である場合には、ポリマー生成物
(すなわち、式VI等のモノマーから生じるもの)は、
【化40】 (式中、vおよびwもまた2〜2000の数である。)
によって表わされる。
【0024】モノマーが式IVの構造を有する場合に
は、ポリマー生成物は、式
【化41】 によって表わされる。
【0025】本発明のオキセタンは、次式のように、パ
ティソン(Pattison)[J. Am. Chem.Soc., 1957, 79] の
方法により、1,3−ジオールから合成することができ
る。
【化42】
【0026】1,3−ジオールは、次式のように、当該
技術分野に周知の方法によってホルムアルデヒドおよび
カルボニル化合物のアルドール縮合および交差カニッツ
ァロ反応によって得ることができる。
【化43】
【0027】次式のように、R6がCH2OHである化合
物は、本発明のモノマーの合成に特に有用である。
【化44】
【0028】Zが硫黄原子であることが望ましい場合に
は、遊離のヒドロキシルを当該技術分野で周知の方法に
よってメルカプタンに転換することができる。R1がエチ
ル基であるトリオールIII、すなわちトリメチロール
プロパン、は市販されており、生成するオキセタンII
を後記の合成に用いた。エーテル基を含む2官能オキセ
タンモノマーは、下記の化学式のように合成することが
できる。
【化45】
【0029】前記の式において、R2aはアルキレン基、
キシリレン基、ポリ(アルキレンオキシ)基または
【化46】 であることができる。Xは臭素原子、塩素原子またはヨ
ウ素原子である。
【0030】mが3または4である式Iの化合物は、m
が2である前記の化合物と同様にして調製することがで
きる。例えば、R2aが3または4個の置換可能基Xを含
む分枝または直線アルキレン鎖であるときに、適当な式
Iの化合物が合成される。
【0031】同様にして、単官能のベンジルエーテルオ
キセタン(式V)を3−ヒドロキシメチルオキセタンか
ら調製することができる。こららの単官能オキセタンは
反応性希釈剤として有用であり、多官能オキセタンまた
はエポキシドの粘度を低下させたり反応性を改善するた
めにカチオン性光重合組成物中で使用することもでき
る。
【0032】エステル基を含むモノマーは、エステル交
換反応を用いて次式のように調製することができる。
【化47】 この方法は、米国特許第3,278,554号明細書に
記載されている。
【0033】ケイ素含有オキセタンモノマーは、下式に
概略化された反応経路によって合成される。
【化48】 (式中、R13は1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基、アリール基または
【化49】 である。)R13がさらにSiH結合を含む場合、さらに
オキセタン残基を添加することになるであろう。
【0034】Zが硫黄原子であることが望ましい場合に
は、オキセタンIIをトシル化し、硫化アリルと反応さ
せることができる。
【0035】多官能オキセタンモノマーは、多種多様な
カチオン性光重合開始剤を用いて光重合することができ
る。これらのカチオン性光重合開始剤のうちで重要なも
のは、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホ
ニウム塩およびフェロセニウム塩である。典型的な、極
めて有用な光重合開始剤を下記に示す:
【化50】 (式中、R7およびR8は1〜18個の炭素原子を有する様
々な長さのアルキル鎖であり、Mは金属原子、典型的に
はアンチモン原子であり、Xはハロゲン原子である)。
【0036】前記の光重合開始剤は多官能オキセタンモ
ノマーに対して0.1〜20重量%の濃度で用いること
ができる。光重合開始剤の外に、光増感剤を加えて、電
磁スペクトルの可視およびUV領域の感度の波長を調整
することもできる。本発明において用いることができる
典型的な増感剤は、クリベロ(Crivello)のAdv. in Poly
mer Sci., 62, 1 (1984)に記載されており、この文献は
参考として本明細書に引用する。例としては、ピレン、
ペリレン、アクリジンオレンジ、チオキサントン、2−
クロロチオキサントンおよびベンゾフラビンがある。
【0037】本発明の速硬化性組成物は、様々な光源、
例えば水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光
ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複
写ランプおよび周囲の日光からの照射光に暴露して硬化
することができる。これらのランプは、波長が約184
8オングストローム〜4000オングストローム、好ま
しくは2400オングストローム〜約4000オングス
トロームの光を透過することができる管球を有している
ものでよく、管球は、石英またはパイレックス製のもの
でもよい。UVランプを用いるときには、基材に対する
照射線量は、少なくとも0.01ワット/平方インチで
あって、1〜20秒以内で硬化を行う。硬化は例えば、
紙または金属塗装ライン上で連続的に行うことができる
ようにするのが好ましい。
【0038】本発明の硬化性組成物は、100部のオキ
セタンモノマー当たり100部までの量で無機充填剤、
染料、顔料、増量剤、粘度調節剤、処理剤、およびUV
遮断剤のような不活性成分を含むことができる。硬化性
組成物は、金属、ゴム、プラスチック、成形部品、フィ
ルム、紙、木、ガラス布、コンクリートおよびセラミッ
クのような基材に適用することができる。
【0039】本発明の硬化性組成物を用いることができ
る用途としては、例えば、保護、装飾および絶縁用塗
料、注形用化合物、印刷インキ、シーラント、接着剤、
フォトレジスト、電線絶縁材料、織物被覆剤、積層材
料、含浸テープおよび印刷プレートがある。
【0040】
【実施例】下記の例は、例示のためのものであり、制限
のためのものではない。
【0041】モノマーの合成 例1 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン マグネティックスターラー、温度計、冷却器、蒸留ヘッ
ドおよび受器を備えた150ml丸底フラスコに、トリメ
チロールプロパン67.0g(0.5モル)、炭酸ジエ
チル59.0g(0.5モル)および水酸化カリウム
0.05gを無水アルコール2mlに溶解した混合物を入
れた。混合物を、容器温度が105℃より低い温度にな
るまで還流した後、ヘッド温度を76〜78℃に保持し
て蒸留した。容器温度が145℃になるまで、蒸留を継
続した。次いで、容器温度を140〜150℃に保持し
たまま、圧を15mmHgまで徐々に下げた。180℃を上
回る温度に加熱したところ、二酸化炭素は速やかに蒸発
し、生成物のほとんどは100〜160℃で蒸留した。
高効率カラムで再蒸留を行ったところ、3−エチル−3
−ヒドロキシメチルオキセタン43.9gを得た(収
率:76%、沸点:114〜115℃、16mmHg)。 C6H12O2の分析、計算値:%C, 62.04; %H, 10.41、実測
値:%C, 62.01; %H, 10.48。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.85-0.95(t,3H,CH 3-CH2); 1.65
-1.80(q,2H,CH3-CH 2);2.5(s,1H,-OH); 3.7(s,2H,-CH 2O
H); 4.4-4.5(dd,4H,-O-CH 2-オキセタン環)。
【0042】 例2 3−エチル−3−アリルオキシメチルオキセタン マグネティックスターラーを備えた300ml丸底フラス
コ中、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン2
3.2g(0.2モル)を臭化アリル48.4g(0.
4モル)に溶解したものおよび水酸化カリウムの50重
量%水性溶液50gに、テトラ−n−ブチルアンモニウ
ムブロミド1.0gを0℃で激しく攪拌しながら加え
た。24時間後に、ジクロロメタン100mlおよび水1
00mlを反応混合物に加えた。有機相を水で2回洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、溶媒をロー
タリーエバポレーターで留去した。残渣を真空蒸留によ
り精製したところ、3−エチル−3−アリルオキシメチ
ルオキセタン28.6gを得た(収率:92%、沸点:
55℃、1.5mmHg)。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.8-0.9(t,3H,CH 3-CH2); 1.7-1.
8(q,2H,CH3-CH 2); 3.5(s,2H,-CH 2O); 4.0-4.1(d,2H,OCH
2-CH=CH2); 4.4-4.5(dd,4H,-O-CH 2-オキセタン環上);
5.1-5.3(m,2H,CH=CH 2); 5.8-6.0(m,1H,CH=CH2)。 C9H16O2の分子量、計算値:156、質量分析装置測定
値(M+1):157。
【0043】 例3 2−(3−オキセタン)ブチルトシレート p−トルエンスルホニルクロリド(91.2g;0.4
8モル)を乾燥ピリジン(150ml)に溶解したもの
を、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(2
7.8g;0.24モル)を乾燥ピリジン(100ml)
に溶解したものに氷/塩浴で冷却しながら加えた。反応
の最初の発熱段階が終了した後、混合物を室温で一晩振
盪し、氷/水(500ml)に投入し、塩化メチレンで抽
出した。抽出物を、氷冷し希釈したHCl、NaHCO
3溶液および水で洗浄し、MgSO4 上で乾燥した。溶媒
を留去したところ、エステルが淡赤褐色油状物として得
られ、これはほとんどの目的に十分な純度のものであっ
た。収率:55.7g(86%)。
【0044】 例4 3−エチル−3−アリルチオメチルオキセタン 例3の2−(3−オキセタン)ブチルトシレートをTH
Fのような不活性溶媒に溶解したものを、アリルメルカ
プタン1等量と、反応が完結するまで室温で攪拌する。
溶媒をストリップし、残渣をエーテルに吸収させる。エ
ーテルを飽和の水性NaHCO3で洗浄し、MgSO4
で乾燥し、ストリップして、3−エチル−3−アリルチ
オメチルオキセタンを得る。
【0045】モノマーの合成
【化51】 モノマー1(式IV;R1=エチル) 例1の方法を用いて、ジトリメチロールプロパン25.
0g(0.1モル)、炭酸ジエチル23.6g(0.2
モル)および炭酸カリウム5.0gの混合物を、容器温
度が120℃を下回る温度になるまで還流した。混合物
を、ヘッド温度を76〜78℃に保持したまま、蒸留し
た。容器温度が180℃になるまで蒸留を継続したとこ
ろ、混合物はポリマーが形成したことにより粘稠になっ
た。220℃を上回る温度に加熱したところ、粘稠なポ
リマーメルトは流動性液体に戻り、二酸化炭素が速やか
に発生した。次いで、圧を徐々に15mmHgまで下げたと
ころ、ほとんどの物質は120〜170℃で蒸留され
た。高効率カラムで再蒸留したところ、モノマー1が
8.9g得られた(収率:42%、沸点:165〜17
0℃、16mmHg)。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.85-0.95(t,6H,CH 3-CH2); 1.7-
1.8(q,4H,CH3-CH 2); 3.6(s,4H,-CH 2-O-CH 2-); 4.4-4.5
(dd,8H,-O-CH 2-オキセタン環)。
【0046】
【表1】
【0047】モノマー2 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン34.8
g(0.3モル)を1,4−ジブロモブタンに溶解した
ものおよび水酸化カリウムの50重量%水性溶液50g
に、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド1.0g
を0℃で激しく攪拌しながら加えた。24時間後に、エ
ーテル100mlおよび水100mlを反応混合物に加え
た。有機相を水で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過し、蒸発させた。残渣を、シリカゲル上で酢
酸エチル/ヘキサン(容積比1:1)でフラッシュカラ
ムクロマトグラフィによって精製したところ、モノマー
2が19.8g得られた(収率:69%)。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.85-0.95(t,6H,CH 3-CH2); 1.6-
1.65(m,4H,-OCH2-CH 2CH 2-CH2O-); 1.65-1.80(q,4H,CH3-
CH 2); 3.4-3.5(t,4H,-OCH 2CH2CH2CH 20-); 3.6(s,4H,-CH
2O-); 4.4-4.5(dd,8H,-O-CH 2-オキセタン環)。
【0048】モノマー3 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(12.
8g;0.11モル)および1,12−ジブロモドデカ
ン(16.4g;0.05モル)を用いて、モノマー2
の方法を繰返した。シリカゲル上で酢酸エチル/ヘキサ
ン(容積比1:4)でフラッシュカラムクロマトグラフ
ィによって精製したところ、無色油状生成物を8.2g
(48%)の収量で得た。
【0049】モノマー4 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン25.6
g(0.22モル)、ジメチルスクシネート14.6g
(0.1モル)およびチタンテトラエトキシド0.8g
の混合物を、ヘッド温度を70℃を下回る温度に保持し
たまま蒸留した。ポット温度が150℃になるまで蒸留
を継続した後、圧を徐々に15mmHgまで下げた。生成す
るカーボネートをシリカゲル上で酢酸エチル/ヘキサン
(容積比9:1)でフラッシュカラムクロマトグラフィ
により精製したところ、モノマー4が27.1g(収
率:86%)得られた。
【0050】モノマー5 3−エチル−3−アリルオキシメチルオキセタン9.4
g(0.06モル)、1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサン3.4g(0.025モル)およびトリス
(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロリド
0.01gをトルエン(15ml)に溶解した混合物を、
80℃で一晩攪拌した。トルエンをロータリーエバポレ
ーターによって留去した。残渣を、シリカゲル上で酢酸
エチル/ヘキサン(容積比1:4)でフラッシュカラム
クロマトグラフィにより精製したところ、モノマー5が
7.5g(収率:67%)得られた。 C22H46O5Si2の分析、計算値:%C, 59.14; %H, 10.38; %
Si, 12.57、測定値:%C, 58.58; %H, 10.37; %Si, 12.2
7。
【0051】モノマー6 3−エチル−アリルオキシメチルオキセタン9.4g
(0.06モル)、1,1,3,3,5,5−ヘキサメ
チルジシロキサン5.2g(0.025モル)およびト
リス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロリ
ド0.01gをトルエン(15ml)に溶解したものを用
いて、モノマー5についての処理を繰返した。シリカゲ
ル上で酢酸エチル/ヘキサン(容積比1:4)でフラッ
シュカラムクロマトグラフィにより精製したところ、無
色油状生成物(モノマー6)を、8.3g(64%)の
収量で得た。
【0052】モノマー7 3−エチル−アリルオキシメチルオキセタン9.4g
(0.06モル)、1,1,2,2,3,3,7,7−
オクタメチルテトラシロキサン7.0g(0.025モ
ル)およびトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム
(I)クロリド0.01gをトルエン(15ml)に溶解
したものを用いて、モノマー5についての処理を繰返し
た。シリカゲル上で酢酸エチル/ヘキサン(容積比1:
4)でフラッシュカラムクロマトグラフィにより精製し
たところ、無色油状生成物(モノマー7)を、8.2g
(55%)の収量で得た。
【0053】モノマー14 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(12.
8g;0.11モル)およびα,α´−ジブロモ−p−
キシレン(13.2g;0.05モル)を用いてモノマ
ー3についての処理を繰返した。シリカゲル上で酢酸エ
チル/ヘキサン(2:3)でフラッシュクロマトグラフ
ィにより精製したところ、無色油状生成物が得られた;
収率:15.4g(92%)。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.85-0.95(t,6H,CH 3-CH2); 1.65
-1.80(q,4H,CH3-CH 2);3.6(s,4H,-CH 2O-); 4.0(s,4H,-OC
H 2-C(=CH2)-CH 2O-); 4.4-4.5(dd,8H,-O-CH 2-オキセタン
環); 5.2(s,2H,C=CH 2)。
【0054】モノマー15 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(12.
8g;0.11モル)およびα,α´−ジブロモ−m−
キシレン(13.2g;0.05モル)を用いてモノマ
ー3についての処理を繰返した。シリカゲル上で酢酸エ
チル/ヘキサン(2:3)でフラッシュクロマトグラフ
ィにより精製したところ、無色油状生成物が得られた;
収率:15.3g(90%)。
【0055】モノマー16 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(12.
8g;0.11モル)およびα,α´−ジブロモ−o−
キシレン(13.2g;0.05モル)を用いてモノマ
ー3についての処理を繰返した。シリカゲル上で酢酸エ
チル/ヘキサン(2:3)でフラッシュクロマトグラフ
ィにより精製したところ、無色油状生成物が得られた;
収率:15.3g(90%)。
【0056】
【表2】
【0057】モノマー8 3−エチル−3−アリルオキシメチルオキセタン7.9
g(0.05モル)、テトラキスジメチルシリルオキシ
シラン3.3g(0.01モル)およびトリス(トリフ
ェニルホスフィン)ロジウム(I)クロリド0.01g
をトルエン(15ml)に溶解したものを用いて、モノマ
ー5についての処理を繰返した。シリカゲル上で酢酸エ
チル/ヘキサン(容積比1:3)でフラッシュカラムク
ロマトグラフィにより精製したところ、無色油状生成物
としてモノマー8を、7.6g(収率80%)得た。 C44H92O12Si5分析、計算値:%C, 55.42;%H, 9.72; %Si,
14.73、測定値:%C,54.56; %H, 9.70; %Si, 15.21。 CI質量分析装置による分子量、計算値:952、測定値
(M+1)+、953。
【0058】モノマー9 3−エチル−3−アリルオキシメチルオキセタン7.9
g(0.05モル)、ポリ(モノメチルシロキサン)
(GE554300C、ゼネラル・エレクトリック・カ
ンパニー(General Electric Co.))2.4g(0.04
モル当量)、およびトリス(トリフェニルホスフィン)
ロジウム(I)クロリド0.01gをトルエン(15m
l)に溶解したものを用いて、モノマー5についての処
理を繰返した。ロータリーエバポレーターでトルエンを
留去したところ、褐色油状生成物としてオリゴマー生成
物(モノマー9)を、94%(8.1g)の収率で得
た。
【0059】モノマー10〜13 モノマー5〜8の処理法と同様な処理法により、例4の
3−エチル−3−アリルチオメチルオキセタンはモノマ
ー5〜8の硫黄類似体に転換することができると思われ
る。
【0060】
【表3】
【0061】モノマー17 ベンジルブロミド34.1g(0.2モル)および3−
エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン11.6g
(0.1モル)を用いてモノマー2についての処理を繰
返した。シリカゲル上で酢酸エチル/ヘキサン(3:
7)を用いてフラッシュクロマトグラフィにかけたとこ
ろ、無色油状生成物が68%の収率で得られた。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.8-0.9(t,3H,CH 3-CH2); 1.7-1.
8(q,2H,CH3-CH 2); 3.6(s,2H,-CH 2O); 4.4-4.5(dd,4H,-O
-CH 2-オキセタン環上); 4.6(s,2H,-O-CH2-フェニル);
7.3-7.4(m,5H,フェニル)。 沸点は150℃/0.6mmHg C13H18O2の分子量、計算値:206、質量分析装置測定
値(M+1):207。
【0062】モノマー18 37.8g(0.2モル)の4−フルオロベンジルブロ
ミドを用いてモノマー17についての処理を繰返した。
シリカゲル上で酢酸エチル/ヘキサン(3:7)を用い
てフラッシュクロマトグラフィにかけたところ、無色油
状生成物が得られた;収率:18.2g(92%)。1 H NMR(CDCl3)d(ppm)=0.8-0.9(t,3H,CH 3-CH2); 1.7-1.8
(q,2H,CH3-CH 2); 3.6(s,2H,-CH 2O); 4.4-4.5(dd,4H,-O-
CH 2-オキセタン環上); 4.5(s,2H,-O-CH2-フェニル); 7.
0-7.3(m,4H,フェニル)。 C13H17FO2の分析、計算値:%C, 69.62; %H, 7.64、測定
値:%C, 68.99; %H, 7.62。
【0063】モノマー19 37.0g(0.2モル)のp−メトキシベンジルブロ
ミドを用いてモノマー17についての処理を繰返した。
モノマー19は76%の収率で得られた。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.8-0.9(t,3H,CH 3-CH2); 1.7-1.
8(q,2H,CH3-CH 2); 3.5(s,2H,-CH 2O); 3.8(s,3H,CH 3-O
-); 4.4-4.5(dd,4H,-O-CH 2-オキセタン環上); 4.5(s,2
H,-O-CH 2-フェニル); 6.9-7.3(m,4H,フェニル)。 C14H20O3の分析、計算値:%C, 71.16; %H, 8.53、測定
値:%C, 70.94; %H, 8.45。
【0064】モノマー1〜9の光重合 光重合開始剤として下記のオニウム塩を様々な濃度で含
むモノマーを用いて、モノマーの光重合を行った。 光重合開始剤1
【化52】 光重合開始剤2
【化53】 光重合開始剤3
【化54】
【0065】更に、下記の構造を有する3種類のエポキ
シド樹脂を、同じ光重合開始剤を用い並立比較で評価し
た。シリコーンエポキシド1はカチオン性UV硬化では
極めて反応性が高いことが報告されている;エポキシド
2は市販の「高反応性」ビス環状脂肪族エポキシドであ
ると考えられている;エポキシド3は縮合環の付加歪を
欠いた単純なエポキシドであり本発明のオキセタンの3
員環類似物と考えることもできる。
【化55】 エポキシド1
【化56】 エポキシド2
【化57】 エポキシド3
【0066】各種のモノマーの重合速度を、「ゲル・ポ
インテ(GEL POINTE)」装置を用いて10μl毛細管中で
のゲル時間を記録することによって測定した。この装置
はタングステン−ハロゲンランプを備えており、ランプ
が点灯してから毛細管のメニスカスの振動が止むまでの
時間をゲル時間として記録するのである。ゲル時間が短
ければ短いほど、カチオン性UV硬化におけるモノマー
の反応性が高いことが示される。
【0067】更に、各種の多官能オキセタンモノマーの
不粘着化エネルギー(T.F.E.)を測定して、互い
に、および前記のエポキシド対照樹脂と比較した。コン
ベヤー型のUV照射装置(フュージョン・システムス(F
usion Systems)、F−300ラボラトリーUVキュア・
プロセッサー(Laboratory UV Cure Processor))を、こ
れらの検討に用いた。平方センチメートル当たりミリジ
ュール(mJ/cm2 ) での最小エネルギーを記録した。した
がって、モノマーを硬化するのに要するエネルギーが低
下すればするほど、その反応性は高いことになる。
【0068】重合の検討の結果を表4に示す。光開始剤
の濃度は反応性官能基あたり0.25モル%であった;
ランプの強度は16.5cmで300w/cm2であっ
た;フィルムの厚さは75μmであった。
【0069】
【表4】
【0070】表4のゲル時間データーを比較したとこ
ろ、意外なことには、本発明の多官能オキセタンモノマ
ーのあるものは、対照として用いた「高反応性」エポキ
シドモノマーよりも速やかにUV硬化を行うことを示し
ている。例えば、光重合開始剤1を用いた場合、オキセ
タンモノマー8はエポキシド1よりも反応性が大であ
る。同時に、モノマー4を除き、実質的に総てのオキセ
タンモノマーは、エポキシド2よりも反応性が大きかっ
た。光重合開始剤2でも、ゲル時間測定に同じパターン
が示されている。不粘着化時間測定も同様な傾向を示し
ている。光重合開始剤1および2では、それぞれ、シリ
コーン−エポキシド1についての不粘着化エネルギーは
80mJ/cm2以下であるが、エポキシド2については、
4500および4000mJ/cm2以上となった。また、
意外なことには、多官能オキセタンモノマーは、これに
よれば、「高反応性」ビス環状脂肪族エポキシド2より
も反応性が高いことが示される。
【0071】多官能オキセタンモノマーと本発明者らが
知る最も反応性の高いエポキシドモノマーとの並立比較
から明らかなように、本発明のUV硬化性オキセタン組
成物は予想外に高い反応性を示すものである。
【0072】同様に重合性について一連の検討を行ない
その結果を表5に示した。この場合、モノマー14、1
5及び16をエポキシド2、エポキシド3およびモノマ
ー2と比較した。重合はフィルムの厚さが10μmであ
り光開始剤が光開始剤3である以外前記と同様に行なっ
た。
【0073】
【表5】
【0074】赤外領域でオキセタンの980cm-1バン
ドの消失速度を追跡することにより単官能の3−ベンジ
ルオキシメチルオキセタン17、18及び19の重合速
度を測定した。ベンジル基の光重合速度に対する効果を
測定するために、ベンジル基を含まないモノマー2を本
検討に加えた。各種転換率に達するまでに必要な照射量
を測定し、その結果を表6に示した。光開始剤として
0.5モル%の光開始剤3を使用した。ランプの強度は
13mW/cm2であった。多くの場合、ベンジル成分
を含むオキセタンモノマーはモノマー2よりも反応性が
高く、同じポリマー転換率(%)に達するまでに要求さ
れる照射量は少ないことが観測された。
【0075】
【表6】

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式 【化1】 (式中、R1は、水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基であり、 R2は、線状または分枝状アルキレン基、線状または分枝
    状ポリ(アルキレンオキシ)基、 【化2】 【化3】 および 【化4】 から成る群から選択される多価基であり、 R3は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、アリー
    ル基および 【化5】 から成る群から選択され、 R4は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基またはア
    リール基であり、 R5は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基またはア
    リール基であり、 R9は、水素原子、1〜4個の炭素原子を有するアルキル
    基、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシ基、ハロゲ
    ン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アル
    キルカルボキシル基、カルボキシル基またはカルバモイ
    ル基、 R10は、O、S、CH2、NH、SO、SO2、C(C
    32またはC(CH32、 Zは、酸素原子または硫黄原子であり、 jは、0であるかまたは1〜100の整数であり、 mは、2、3または4であり、 nは、0〜2000の整数である)を有する化合物。
  2. 【請求項2】 Zが酸素原子である、請求項1に記載の
    化合物。
  3. 【請求項3】 R1がアルキル基である、請求項2に記載
    の化合物。
  4. 【請求項4】 R2が2〜20個の炭素原子を有するアル
    キレン基である、請求項3に記載の化合物。
  5. 【請求項5】 R1がエチル基であり、mが2である、請
    求項4に記載の化合物。
  6. 【請求項6】 R2が 【化6】 である、請求項3に記載の化合物。
  7. 【請求項7】 R3がアルキル基であり、mが2である、
    請求項6に記載の化合物。
  8. 【請求項8】 R3がメチル基であり、nが0〜6である
    請求項7に記載の化合物。
  9. 【請求項9】 R3がメチル基であり、nが100〜20
    0である、請求項7に記載の化合物。
  10. 【請求項10】 式 【化7】 を有する、請求項2に記載の化合物。
  11. 【請求項11】 R1がエチル基であり、R4がメチル基で
    ある、請求項10に記載の化合物。
  12. 【請求項12】 mが2であり、R2が 【化8】 である、請求項3に記載の化合物。
  13. 【請求項13】 R9が水素原子である、請求項12に記
    載の化合物。
  14. 【請求項14】 mが2であり、R2が 【化9】 である、請求項3に記載の化合物。
  15. 【請求項15】 R10がO、CH2、C(CF32または
    C(CH32である、請求項14に記載の化合物。
  16. 【請求項16】 式 【化10】 (式中、R1は、水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基であり、 R5は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基またはアリ
    ール基であり、 R11は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基またはト
    リアルキルシリル基であり、 rは25〜200の整数
    である。)を有する化合物。
  17. 【請求項17】 請求項1に記載の化合物とカチオン性
    光重合開始剤とを含んで成る紫外線硬化性組成物。
  18. 【請求項18】 前記の光重合開始剤がトリアリールス
    ルホニウム塩またはジアリールヨードニウム塩である、
    請求項17に記載の組成物。
  19. 【請求項19】 請求項6に記載の化合物とカチオン性
    光重合開始剤とを含んで成る紫外線硬化性組成物。
  20. 【請求項20】 前記の光重合開始剤がトリアリールス
    ルホニウム塩またはジアリールヨードニウム塩である、
    請求項19に記載の組成物。
  21. 【請求項21】 請求項16に記載の化合物とカチオン
    性光重合開始剤とを含んで成る紫外線硬化性組成物。
  22. 【請求項22】 前記の光重合開始剤がトリアリールス
    ルホニウム塩またはジアリールヨードニウム塩である、
    請求項21に記載の組成物。
  23. 【請求項23】 式 【化11】 (式中、R1は水素原子、1〜6個の炭素原子を有するア
    ルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有するフ
    ルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基ま
    たはチエニル基であり、R9は水素原子、1〜4個の炭素
    原子を有するアルキル基、1〜4個の炭素原子を有する
    アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メ
    ルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシ
    ル基またはカルバモイル基である。)の化合物とカチオ
    ン性光重合開始剤とを含んで成る紫外線硬化性組成物。
  24. 【請求項24】 前記の光重合開始剤がトリアリールス
    ルホニウム塩またはジアリールヨードニウム塩である、
    請求項23に記載の組成物。
  25. 【請求項25】 請求項1に記載の化合物とカチオン性
    光重合開始剤との混合物を紫外線に暴露すること特徴と
    する、架橋プロピルオキシポリマーの製造法。
  26. 【請求項26】 請求項6に記載の化合物とカチオン性
    光重合開始剤との混合物を紫外線に暴露すること特徴と
    する、架橋プロピルオキシポリマーの製造法。
  27. 【請求項27】 請求項16に記載の化合物とカチオン
    性光重合開始剤との混合物を紫外線に暴露すること特徴
    とする、架橋プロピルオキシポリマーの製造法。
  28. 【請求項28】 (a)式 【化12】 (式中、R1は水素原子、1〜6個の炭素原子を有するア
    ルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有するフ
    ルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基ま
    たはチエニル基である。)の化合物とカチオン性光重合
    開始剤との混合物を紫外線に暴露すること特徴とする、
    架橋プロピルオキシポリマーの製造法。
  29. 【請求項29】 式 【化13】 の化合物とカチオン性光重合開始剤との混合物を紫外線
    に暴露すること特徴とする、架橋プロピルオキシポリマ
    ーの製造法。
  30. 【請求項30】 式 【化14】 (式中、R1は、水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基であり、 R2bは、線状または分枝状アルキレン基、線状または分
    枝状ポリ(アルキレンオキシ)基、 【化15】 【化16】 【化17】 および 【化18】 から成る群から選択される多価基であり、 R3は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、アリー
    ル基および 【化19】 から成る群から選択される残基であり、 R4は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基またはア
    リール基であり、 R5は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基またはア
    リール基であり、 R9は、水素原子、1〜4個の炭素原子を有するアルキル
    基、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシ基、ハロゲ
    ン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アル
    キルカルボキシル基、カルボキシル基またはカルバモイ
    ル基、 R10は、O、S、CH2、NH、SO、SO2、C(C
    32またはC(CH3 2、 R12は、1〜6個の炭素原子を有するアルキレン基、ア
    リーレン基または直接結合であり、 Zは、酸素原子または硫黄原子であり、 jは、1〜100の整数であり、 nは、0〜2000の整数であり、 tおよびuは、2〜2000の数である)を有する架橋
    プロピルオキシポリマー。
  31. 【請求項31】 Zが酸素原子であり、R2が 【化20】 である、請求項30に記載のポリマー。
  32. 【請求項32】 Zが酸素原子であり、R2が 【化21】 である、請求項30に記載のポリマー。
  33. 【請求項33】 式 【化22】 (式中、R1が、水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基であり、t、u、vおよびwが、独立
    に2〜2000の数である)を有する、架橋プロピルオ
    キシポリマー。
  34. 【請求項34】 式 【化23】 (式中、R1が、水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基であり、tおよびuは2〜2000の
    数である)を有する、架橋プロピルオキシポリマー。
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Cited By (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08239623A (ja) * 1995-02-28 1996-09-17 Toagosei Co Ltd 木材用活性エネルギー線硬化型塗料組成物
JPH08245783A (ja) * 1995-02-22 1996-09-24 Heraeus Kulzer Gmbh 重合性化合物の使用
JPH10158385A (ja) * 1996-12-02 1998-06-16 Asahi Denka Kogyo Kk 光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形方法
FR2758557A1 (fr) * 1997-01-21 1998-07-24 Toagosei Co Ltd Compose ayant un groupe oxetanyle, son procede de preparation et composition de durcissement
JPH11199673A (ja) * 1998-01-13 1999-07-27 Toagosei Co Ltd 光カチオン硬化性樹脂組成物
JP2000212443A (ja) * 1999-01-27 2000-08-02 Toagosei Co Ltd 光カチオン硬化性樹脂組成物
JP2000327673A (ja) * 1999-03-12 2000-11-28 Ube Ind Ltd オキセタン化合物の保存方法
US6255484B1 (en) 1999-09-28 2001-07-03 Ube Industries, Ltd. Cyanurate compound having three oxetane ring groups and organic hardening compositions containing same
US6365760B1 (en) 1999-07-15 2002-04-02 Toagosei Co., Ltd. Naphthalene derivative, binaphthalene derivative and biphenyl derivative and cationically curable compound
JP2002525405A (ja) * 1998-09-28 2002-08-13 カールスベルク エイ/エス Peg−ベースのマクロモノマー、これから製造された化学的に不活性なポリマー、ならびにこれらポリマーの有機合成および酵素反応への使用
JP2003089693A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Toagosei Co Ltd オキセタン環を有するナフタレン誘導体
JP2003515617A (ja) * 1999-10-29 2003-05-07 ロディア・シミ 架橋性官能基を有するポリオルガノシロキサンの重合用及び/又は架橋用開始剤、相当する組成物及びそれらの使用
JP2003128779A (ja) * 2001-10-29 2003-05-08 Toagosei Co Ltd 熱硬化性組成物
JP2003213204A (ja) * 2003-02-04 2003-07-30 Toagosei Co Ltd 缶外面用塗料
WO2005080364A1 (ja) * 2004-02-23 2005-09-01 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. 脂環式オキセタン化合物の製造方法
WO2006013863A1 (ja) * 2004-08-04 2006-02-09 Toagosei Co., Ltd. ポリオルガノシロキサン及びそれを含む硬化性組成物
US7122288B2 (en) 2000-03-28 2006-10-17 Fujitsu Limited Negative resist composition, a method for forming a resist pattern thereof, and a method for fabricating a semiconductor device
WO2006109628A1 (ja) * 2005-04-08 2006-10-19 Toagosei Co., Ltd. ポリカルボシラン及びその製造方法
JP2007070328A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp トリスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
JP2007070324A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp フルオレン構造を有するビスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
JP2007070323A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp フルオレン構造を有するテトラキスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
JP2007211247A (ja) * 2007-03-13 2007-08-23 Adeka Corp 光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形方法
WO2007111098A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及びその製造方法
WO2007111075A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法
WO2007111092A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法
WO2007111074A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法
WO2007125795A1 (ja) 2006-04-27 2007-11-08 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 活性光線硬化型組成物、活性光線硬化型インクジェットインク、該活性光線硬化型インクジェットインクを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
WO2008096618A1 (ja) 2007-02-09 2008-08-14 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. インクジェットヘッド、インクジェットプリンタ、インクジェット記録方法
EP1958942A1 (en) 2007-02-19 2008-08-20 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, process for producing the same and optical waveguide using the same
JPWO2006104167A1 (ja) * 2005-03-28 2008-09-11 東亞合成株式会社 オキセタン環を有する1,3−プロパンジオール誘導体
JP2009035739A (ja) * 2008-09-05 2009-02-19 Ube Ind Ltd エネルギー線硬化性組成物
US7732562B2 (en) 2006-04-06 2010-06-08 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, production process and optical waveguide therewith
US7759503B2 (en) 2007-03-05 2010-07-20 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, process for producing the same, and optical waveguide using the same
EP2347904A2 (en) 2004-12-09 2011-07-27 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Inkset, ink-jet recording method and ink-jet recording device utilizing uv-curable ink
JP2019521118A (ja) * 2016-07-13 2019-07-25 常州強力先端電子材料有限公司Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co.,Ltd. 多官能オキセタン系化合物およびその製造方法
CN113493427A (zh) * 2020-04-03 2021-10-12 常州强力先端电子材料有限公司 通过微反应器合成氧杂环丁烷衍生物的合成方法
JP2023520477A (ja) * 2020-04-03 2023-05-17 常州強力先端電子材料有限公司 オキセタン誘導体をマイクロ反応器により合成する合成方法

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5807977A (en) * 1992-07-10 1998-09-15 Aerojet General Corporation Polymers and prepolymers from mono-substituted fluorinated oxetane monomers
JP3161583B2 (ja) * 1995-07-21 2001-04-25 東亞合成株式会社 活性エネルギー線硬化型組成物
US5721020A (en) * 1995-10-02 1998-02-24 Kansai Paint Co., Ltd. Ultraviolet-curing coating composition for cans
JP3765896B2 (ja) 1996-12-13 2006-04-12 Jsr株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
DE19714324B4 (de) * 1997-03-25 2004-09-02 Ivoclar Vivadent Ag Hydrolysierbare und polymerisierbare Oxetansilane
US6096903A (en) 1997-03-25 2000-08-01 Ivoclar Ag Hydrolysable and polymerizable oxetane silanes
JPH11152441A (ja) * 1997-11-21 1999-06-08 Kansai Paint Co Ltd 紫外線硬化型缶用塗料組成物
US6121342A (en) * 1998-01-13 2000-09-19 Toagosei Co., Ltd. Photocationically curable compositions and process for producing the same
US6232361B1 (en) * 1998-12-11 2001-05-15 Sun Chemical Corporation Radiation curable water based cationic inks and coatings
US6450642B1 (en) * 1999-01-12 2002-09-17 California Institute Of Technology Lenses capable of post-fabrication power modification
DE69907865T2 (de) * 1999-03-19 2003-10-09 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Verfahren zu Herstellung von 3-Alkyl-3-Hydroxymethyloxetanen
AU6095100A (en) 1999-07-16 2001-02-05 Aerojet-General Corporation Amorphous polyether glycols based on bis-substituted oxetane monomers
GB9921779D0 (en) * 1999-09-16 1999-11-17 Ciba Sc Holding Ag UV-Curable compositions
JP4635295B2 (ja) * 2000-04-25 2011-02-23 日立化成工業株式会社 接着フィルム
DE10044840A1 (de) * 2000-09-11 2002-04-04 Siemens Ag Photostrukturierbare neue organische Halbleitermaterialien
WO2002079691A1 (en) 2001-03-30 2002-10-10 The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Materials, methods, and uses for photochemical generation of acids and/or radical species
JP2003073481A (ja) 2001-09-06 2003-03-12 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP2003105077A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP2003212965A (ja) * 2002-01-28 2003-07-30 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物
EP1348727A3 (en) 2002-03-29 2003-12-03 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Image-receiving layer composition and overcoat layer composition for ink-jet recording
US20030198824A1 (en) * 2002-04-19 2003-10-23 Fong John W. Photocurable compositions containing reactive polysiloxane particles
US7056559B2 (en) * 2002-08-30 2006-06-06 Konica Corporation Ink-jet image forming method
US6960134B2 (en) * 2002-09-12 2005-11-01 Igt Alternative bonus games associated with slot machine
US6832036B2 (en) 2002-10-11 2004-12-14 Polyset Company, Inc. Siloxane optical waveguides
JP3797348B2 (ja) * 2003-02-24 2006-07-19 コニカミノルタホールディングス株式会社 活性エネルギー線硬化組成物
WO2004090646A1 (ja) * 2003-04-09 2004-10-21 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. ホログラフィック記録メディア及びその記録方法
JP2005002166A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Konica Minolta Medical & Graphic Inc オキセタン化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及び画像形成方法
US7235593B2 (en) * 2003-08-04 2007-06-26 Rensselaer Polytechnic Institute Command-cure adhesives
US7232850B2 (en) 2003-10-03 2007-06-19 Huntsman Advanced Materials Americas Inc. Photocurable compositions for articles having stable tensile properties
US7135535B2 (en) * 2004-07-29 2006-11-14 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Siloxane resins with oxetane functionality
US20060223937A1 (en) * 2005-04-04 2006-10-05 Herr Donald E Radiation curable cycloaliphatic barrier sealants
US7687119B2 (en) * 2005-04-04 2010-03-30 Henkel Ag & Co. Kgaa Radiation-curable desiccant-filled adhesive/sealant
US20060223978A1 (en) * 2005-04-04 2006-10-05 Shengqian Kong Radiation- or thermally-curable oxetane barrier sealants
WO2006116032A2 (en) * 2005-04-21 2006-11-02 Ndsu Research Foundation Radiation curable polymer films having improved laser ablation properties and radiation curable sensitizers therefor
JP4970271B2 (ja) * 2005-09-13 2012-07-04 新日鐵化学株式会社 熱硬化性樹脂組成物
EP1783184B9 (en) * 2005-11-04 2011-05-11 Fujifilm Corporation Curable ink composition and oxetane compound
US7745501B2 (en) * 2006-06-22 2010-06-29 Momentive Performance Materials Inc. Method for demulsifying
US20080039608A1 (en) * 2006-08-11 2008-02-14 General Electric Company Oxetane composition, associated method and article
US9051422B2 (en) 2006-09-19 2015-06-09 Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. Thermally polymerizable resin composition
WO2009084562A1 (ja) * 2007-12-27 2009-07-09 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. 籠構造含有硬化性シリコーン共重合体及びその製造方法並びに籠構造含有硬化性シリコーン共重合体を用いた硬化性樹脂組成物及びその硬化物
CN101970539B (zh) * 2008-01-15 2013-03-27 东亚合成株式会社 具有氧杂环丁烷基的有机硅化合物及其制造方法和固化性组合物
JP5461809B2 (ja) * 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
KR101621576B1 (ko) * 2008-12-26 2016-05-16 도아고세이가부시키가이샤 옥세타닐기를 갖는 규소 화합물의 제조 방법
JP5704256B2 (ja) * 2011-12-26 2015-04-22 東亞合成株式会社 絶縁膜用組成物及び絶縁膜
WO2015200706A1 (en) * 2014-06-25 2015-12-30 Rensselaer Polytechnic Institute Oxetane polymers and methods of preparation thereof
TWI519560B (zh) 2014-11-24 2016-02-01 財團法人工業技術研究院 含氧雜環丁烷基與環氧基之樹脂與樹脂組成物
WO2016129670A1 (ja) 2015-02-12 2016-08-18 積水化学工業株式会社 インクジェット用硬化性組成物及び電子部品の製造方法
CN104892549A (zh) * 2015-04-20 2015-09-09 南昌大学 一种可用于紫外光固化的烯丙基氧杂环丁烷类化合物的合成方法
JP6455636B1 (ja) * 2017-05-24 2019-01-23 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物および硬化膜
CN115232511B (zh) * 2017-06-07 2023-11-24 积水化学工业株式会社 有机el显示元件用密封剂
US11681218B2 (en) * 2018-02-14 2023-06-20 Sumitomo Chemical Company, Limited Compound, resist composition and method for producing resist pattern
CN108752539B (zh) * 2018-05-28 2020-12-04 南昌大学 一种阳离子-自由基混杂型3d打印立体光刻快速成型光敏树脂及制备方法
CN112111064A (zh) * 2019-06-21 2020-12-22 湖北固润科技股份有限公司 一种可混杂光固化的含多硅的氧杂环丁烷类单体及其制备和应用
EP4228897A1 (en) 2020-10-13 2023-08-23 Cabot Corporation Conductive photo-curable compositions for additive manufacturing
CN119504660A (zh) * 2024-11-19 2025-02-25 湖北荆洪生物科技股份有限公司 一种制备3,3'-[1,4-丁基双(氧基亚甲基)]-双-(3-乙基)氧杂环丁烷的方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3835003A (en) * 1968-08-20 1974-09-10 American Can Co Photopolymerization of oxetanes
US3696123A (en) * 1970-03-19 1972-10-03 Siegfried H Schroeter Dihydrocarbonoxyoxethanes
US3673216A (en) * 1970-05-01 1972-06-27 Gen Electric Alkoxyoxetanes
JPS4920958A (ja) * 1972-06-15 1974-02-23
AU497960B2 (en) * 1974-04-11 1979-01-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable compositions
US4058400A (en) * 1974-05-02 1977-11-15 General Electric Company Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts
US4140847A (en) * 1974-10-01 1979-02-20 The Dow Chemical Company Polymers of oxetane-spiro-cyclic polyethers
MX143022A (es) * 1975-12-29 1981-02-10 Gen Electric Composicion mejorada estabilizada de policarbonato
DE3026503A1 (de) * 1980-07-12 1982-02-18 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Stabilisatorloesung, ihre verwendung zur stabilisierung von thermoplastischen polycarbonaten sowie stabilisierte thermoplastische polycarbonate
US4922157A (en) * 1987-06-26 1990-05-01 U.S. Philips Corp. Electrodeless low-pressure discharge lamp with thermally isolated magnetic core

Cited By (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08245783A (ja) * 1995-02-22 1996-09-24 Heraeus Kulzer Gmbh 重合性化合物の使用
DE19506222B4 (de) * 1995-02-22 2004-11-25 Heraeus Kulzer Gmbh & Co. Kg Verwendung von polymerisierbaren Verbindungen für medizinische und dentale Zwecke
JPH08239623A (ja) * 1995-02-28 1996-09-17 Toagosei Co Ltd 木材用活性エネルギー線硬化型塗料組成物
JPH10158385A (ja) * 1996-12-02 1998-06-16 Asahi Denka Kogyo Kk 光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形方法
FR2758557A1 (fr) * 1997-01-21 1998-07-24 Toagosei Co Ltd Compose ayant un groupe oxetanyle, son procede de preparation et composition de durcissement
JPH11199673A (ja) * 1998-01-13 1999-07-27 Toagosei Co Ltd 光カチオン硬化性樹脂組成物
JP2002525405A (ja) * 1998-09-28 2002-08-13 カールスベルク エイ/エス Peg−ベースのマクロモノマー、これから製造された化学的に不活性なポリマー、ならびにこれらポリマーの有機合成および酵素反応への使用
JP2000212443A (ja) * 1999-01-27 2000-08-02 Toagosei Co Ltd 光カチオン硬化性樹脂組成物
JP2000327673A (ja) * 1999-03-12 2000-11-28 Ube Ind Ltd オキセタン化合物の保存方法
US6365760B1 (en) 1999-07-15 2002-04-02 Toagosei Co., Ltd. Naphthalene derivative, binaphthalene derivative and biphenyl derivative and cationically curable compound
US6469108B2 (en) 1999-07-15 2002-10-22 Toagosei Co., Ltd. Cationically curable oxetanyl-containing naphthalene and aromatic epoxy or oxetane compound
US6255484B1 (en) 1999-09-28 2001-07-03 Ube Industries, Ltd. Cyanurate compound having three oxetane ring groups and organic hardening compositions containing same
JP2003515617A (ja) * 1999-10-29 2003-05-07 ロディア・シミ 架橋性官能基を有するポリオルガノシロキサンの重合用及び/又は架橋用開始剤、相当する組成物及びそれらの使用
US7122288B2 (en) 2000-03-28 2006-10-17 Fujitsu Limited Negative resist composition, a method for forming a resist pattern thereof, and a method for fabricating a semiconductor device
US7488569B2 (en) 2000-03-28 2009-02-10 Fujitsu Limited Negative resist composition, a method for forming a resist pattern thereof, and a method for fabricating a semiconductor device
JP2003089693A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Toagosei Co Ltd オキセタン環を有するナフタレン誘導体
JP2003128779A (ja) * 2001-10-29 2003-05-08 Toagosei Co Ltd 熱硬化性組成物
JP2003213204A (ja) * 2003-02-04 2003-07-30 Toagosei Co Ltd 缶外面用塗料
US7605279B2 (en) 2004-02-23 2009-10-20 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Process for producing alicyclic oxetane compound
WO2005080364A1 (ja) * 2004-02-23 2005-09-01 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. 脂環式オキセタン化合物の製造方法
JPWO2006013863A1 (ja) * 2004-08-04 2008-05-01 東亞合成株式会社 ポリオルガノシロキサン及びそれを含む硬化性組成物
JP5223194B2 (ja) * 2004-08-04 2013-06-26 東亞合成株式会社 ポリオルガノシロキサン及びそれを含む硬化性組成物
US7576142B2 (en) 2004-08-04 2009-08-18 Toagosei Co., Ltd. Polyorganosiloxane and curable composition containing same
WO2006013863A1 (ja) * 2004-08-04 2006-02-09 Toagosei Co., Ltd. ポリオルガノシロキサン及びそれを含む硬化性組成物
EP2347904A2 (en) 2004-12-09 2011-07-27 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Inkset, ink-jet recording method and ink-jet recording device utilizing uv-curable ink
JP4760827B2 (ja) * 2005-03-28 2011-08-31 東亞合成株式会社 オキセタン環を有する1,3−プロパンジオール誘導体
JPWO2006104167A1 (ja) * 2005-03-28 2008-09-11 東亞合成株式会社 オキセタン環を有する1,3−プロパンジオール誘導体
JP5311091B2 (ja) * 2005-04-08 2013-10-09 東亞合成株式会社 ポリカルボシラン及びその製造方法
WO2006109628A1 (ja) * 2005-04-08 2006-10-19 Toagosei Co., Ltd. ポリカルボシラン及びその製造方法
JP2007070328A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp トリスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
JP2007070323A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp フルオレン構造を有するテトラキスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
JP2007070324A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp フルオレン構造を有するビスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
WO2007111075A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法
WO2007111098A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及びその製造方法
WO2007111074A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法
WO2007111092A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法
US7732562B2 (en) 2006-04-06 2010-06-08 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, production process and optical waveguide therewith
WO2007125795A1 (ja) 2006-04-27 2007-11-08 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 活性光線硬化型組成物、活性光線硬化型インクジェットインク、該活性光線硬化型インクジェットインクを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
WO2008096618A1 (ja) 2007-02-09 2008-08-14 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. インクジェットヘッド、インクジェットプリンタ、インクジェット記録方法
EP1958942A1 (en) 2007-02-19 2008-08-20 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, process for producing the same and optical waveguide using the same
US7759503B2 (en) 2007-03-05 2010-07-20 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, process for producing the same, and optical waveguide using the same
JP2007211247A (ja) * 2007-03-13 2007-08-23 Adeka Corp 光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形方法
JP2009035739A (ja) * 2008-09-05 2009-02-19 Ube Ind Ltd エネルギー線硬化性組成物
JP2019521118A (ja) * 2016-07-13 2019-07-25 常州強力先端電子材料有限公司Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co.,Ltd. 多官能オキセタン系化合物およびその製造方法
US10906882B2 (en) 2016-07-13 2021-02-02 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. Polyfunctional oxetane-based compound and production method thereof
CN113493427A (zh) * 2020-04-03 2021-10-12 常州强力先端电子材料有限公司 通过微反应器合成氧杂环丁烷衍生物的合成方法
JP2023520477A (ja) * 2020-04-03 2023-05-17 常州強力先端電子材料有限公司 オキセタン誘導体をマイクロ反応器により合成する合成方法
CN113493427B (zh) * 2020-04-03 2024-11-15 常州强力先端电子材料有限公司 通过微反应器合成氧杂环丁烷衍生物的合成方法

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