JP4928751B2

JP4928751B2 - 垂直磁気記録媒体

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Publication number: JP4928751B2
Application number: JP2005205756A
Authority: JP
Inventors: 義明園部; 信一石橋; 正人小林; 禎一郎梅澤
Original assignee: WD Media Singapore Pte Ltd
Current assignee: WD Media Singapore Pte Ltd
Priority date: 2005-07-14
Filing date: 2005-07-14
Publication date: 2012-05-09
Anticipated expiration: 2025-07-14
Also published as: US7983003B2; JP2007026513A; US20070053106A1

Description

本発明は垂直磁気記録方式のハードディスクドライブに搭載される垂直磁気記録媒体に関する。

近年の情報化社会は急激な高度化を続けており、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）に代表される磁気記録装置では、２．５インチ径磁気ディスクにして、１枚あたり８０Ｇバイトを超える情報記録容量が求められるようになってきた。磁気ディスクにおいて、これらの所要に応えるためには１平方インチ辺り１３３Ｇビット（１３３Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ^２）を超える情報記録密度を実現することが求められる。軟磁性層を有する垂直二層媒体と単磁極ヘッドとで構成された垂直磁気記録方式は、高い記録分解能が得られることから、次世代の高密度記録方式として研究開発が行われている。

このような垂直磁気記録方式では、軟磁性層を起因とするノイズを低減することが課題となっている。例えば、特許文献１においては、雑音の主原因を軟磁性層であるとし、軟磁性層の磁壁の方向と磁化容易軸を記録トラック方向と一致せることで、Ｓ／Ｎを改善している。また、特許文献２においては、軟磁性裏打ち層の膜厚により磁壁が生じ、この磁壁からの漏れ磁束をヘッドが読み取ることによって生じるスパイクノイズを課題としている。この公報では、スパイクノイズの原因となる磁壁をなくすために、従来より行われている、軟磁性層（軟磁性裏打ち層）の磁化容易軸をある一定の方向へ向けることを容易にできる垂直磁気記録媒体が開示されている。すなわち、基板上に半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる材料を用いて強磁性層を成膜し、かつこの強磁性層と軟磁性層との間に反強磁性層を成膜する。これにより、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく軟磁性裏打ち層に半径方向の磁気異方性を付けることができるとしている。
特開昭６１−５４２８号公報特開２００３−１８７４１３号公報

上記公報の技術に限らず、従来から軟磁性層を有する磁気記録媒体では、軟磁性層を起因とするノイズを低減することが課題となっており、これを解決するには軟磁性層の磁化容易軸を一定の方向に揃えることが定説（常識）となっていた。特に、磁気ディスクのような基板では、軟磁性層の磁化容易軸を基板中心から半径方向放射状に揃えることが、軟磁性層の磁壁から起因するスパイクノイズを発生させない最も望ましい状態であるとされていた。これは、磁壁、つまり磁化が反転する領域が円周方向にある場合、再生ヘッドがこの領域を通過したときにこの磁化の反転を検出して、これがスパイクノイズとなるためである。一方、半径方向に磁化が反転する領域があっても、再生ヘッドの検出方向と９０度異なるため、ヘッドがこれを検出できずノイズとはならない。従って、軟磁性層の磁化容易軸を基板中心から半径方向放射状に揃えることが最もよいとされていた。

上述したように磁気ディスクでは軟磁性層を起因とするスパイクノイズ等のノイズを低減するために、半径方向へ磁気異方性を付けていた。このような磁気異方性を付けるために、軟磁性層を成膜後に基板を加熱した状態で、基板の中心に対して点対称になるような外部磁化を印加しながら、磁化容易軸の向きを半径方向に揃える工程を設けたり、熱処理やバイアスの印可等の複雑な工程を行ったり、また上記公報の技術のように磁化容易軸の向きを揃えるために余分な層を入れていた。このために基板の加熱用、特殊な磁場の印加用のプロセス室や機構を用意し、時間がかかるため、生産性の低下・コストの上昇といった問題が生じている。特に、複数個の小径基板（ディスク基体）に対して同時に軟磁性層を成膜する場合には、磁場の制御が複雑化し、生産性の低下・コストの上昇の問題が大きくなる。そこで、本発明は、上記の課題を解決できる垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。

本発明者らは上述の課題を解決すべく研究を進めた結果、軟磁性層の磁化容易軸をランダムに配向させた場合、磁壁がなくなるということを見出した。そこで、意図的に軟磁性層の磁化容易軸をランダムに配向させたところ、ヘッドがノイズを検出することなく、特性が良好であった。この知見から本発明者らは、軟磁性層の磁化容易軸を従来のように半径方向へ配向させるのではなく、ランダムに配向させることを採用し、以下の発明を完成させた。上記の課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。

（構成１）垂直磁気記録方式のハードディスクドライブに搭載される垂直磁気記録媒体であって、円盤状のディスク基体と、ディスク基体上に成膜された軟磁性層と、軟磁性層上に成膜された垂直磁気記録層とを備え、軟磁性層の各部において、当該部分に含まれる磁性粒子の磁化容易軸の方向分布が軟磁性層の主表面内各方向に対して等方的である。

このような軟磁性層は、例えば、磁化容易軸が主表面内で面内ランダムに制御された軟磁性層である。このように構成した場合、軟磁性層の磁壁がなくなるため、磁壁に起因するスパイクノイズが検出されないこととなる。そのため、このように構成すれば、軟磁性層を起因とするスパイクノイズ等のノイズを低減できる。尚、磁壁がなくなるとは、必ずしも原子レベルで見た場合にまで磁壁がなくなる場合に限らず、例えば、ヘッドの検出精度の範囲内で問題となる磁壁がなくなっていればよい。

また、このように構成した場合、例えばランダムな磁場を印加した状態で軟磁性層を成膜すればよいため、例えば軟磁性層の磁化容易軸を半径方向等の特定の方向へ配向させる場合と比べ、軟磁性層の磁化容易軸の制御が容易になる。そのため、生産性の低下・コストの上昇等の問題も生じにくい。特に、複数個のディスク基体に対して同時に軟磁性層を成膜する場合には、各小径基板の磁化容易軸を面内ランダムになるように制御することにより、量産性を損なうことなく、スパイクノイズを抑制できる軟磁性層の成膜が可能になる。

ここで、軟磁性層の各部とは、例えば、ヘッドの読み取り範囲と同程度の大きさの部分である。磁化容易軸の方向分布は、例えば、ヘッドの検出精度の範囲内で等方的であればよい。磁化容易軸の方向分布が等方的であるとは、例えば、軟磁性層全体での磁気特性のばらつき範囲内で、各部において、主表面内の各方向の磁気特性に差が実質的にないことである。

（構成２）軟磁性層の各部における磁気ヒステリシス曲線は、ディスク基体の半径方向の磁場と、円周方向の磁場とに対して等方的である。各部における磁気ヒステリシス曲線は、軟磁性層の主表面内各方向の磁場に対して等方的であってよい。

このように構成すれば、軟磁性層の磁壁を適切に消失させることができる。磁気ヒステリシス曲線は、例えば、ヘッドの検出精度の範囲内で等方的であればよい。磁気ヒステリシス曲線が等方的であるとは、例えば、軟磁性層全体での磁気特性のばらつき範囲内で特性に差が実質的にないことである。

（構成３）磁気カー効果によるパターンを生成するために軟磁性層表面に光を照射した場合、軟磁性層表面の全体のパターンが、磁壁を示す境界線によって分割されていない単一の領域になる。

磁気カー効果によれば、照射する光の波長に応じた大きさ以上の磁区及び磁壁を検出することができる。軟磁性層には、磁気カー効果で検出できない程度の大きさの磁壁があってもよい。

このような特性の軟磁性層を用いれば、スパイクノイズ等のノイズを適切に低減できる。尚、軟磁性層表面の全体とは、例えば、垂直磁気記録媒体への情報の記録に関わる領域の全体である。垂直磁気記録媒体への情報の記録に関わる領域とは、例えば、垂直磁気記録層に情報を記録する場合にヘッドからの磁束の流れが通過すべき領域である。また、軟磁性層表面の全体とは、ディスク基体の一方の主表面上の軟磁性層表面の全体であってよい。

（構成４）軟磁性層内の磁区の大きさは、ハードディスクドライブに用いられる再生ヘッドのギャップの間に少なくとも２個の磁区が入る大きさである。このように構成すれば、ヘッドの検出精度の範囲内で問題となる磁壁を実質的になくすことができる。そのため、磁壁に起因するスパイクノイズがヘッドに検出されないこととなる。また、軟磁性層を起因とするノイズを適切に低減できる。

尚、軟磁性層内の磁区の大きさとは、例えば、垂直磁気記録媒体への情報の記録に関わる領域全体における磁区の平均的な大きさである。再生ヘッドは、例えば０．０５〜０．１μｍ程度のギャップを有する。軟磁性層は、ギャップの間に、好ましくは、１０個以上、より好ましくは、１００個以上の磁区を有する。軟磁性層は、ギャップの間に、例えば２〜１０個、１０〜１００個、又は１００〜１０００個の磁区を有してよい。

（構成５）軟磁性層は、主表面に垂直な方向が磁化困難軸になるように成膜されている。軟磁性層の磁化に垂直成分があると、垂直磁気記録層に記録されている情報に対するノイズ源となる場合がある。しかし、このように構成した場合、軟磁性層の磁化容易軸は、例えば、主表面内で面内ランダム（２次元ランダム）に配向する。そのため、このように構成すれば、軟磁性層を起因とするノイズを更に低減できる。

軟磁性層を起因とするスパイクノイズ等のノイズを低減できる。

以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る垂直磁気記録媒体１０の構成の第１の例を示す。垂直磁気記録媒体１０は、垂直磁気記録方式のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクであり、ディスク基体１２、軟磁性層１４、垂直磁気記録層１６、保護層１８、及び潤滑層２０をこの順で備える。ディスク基体１２は、円盤状のガラス基板であり、アルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、又はソーダライムガラス等で形成されている。ディスク基体１２は、上層の磁化容易軸を制御するためのテクスチャが形成されていないガラス基板であるのが好ましい。ディスク基体１２は、ドーナツ型の円盤状であってよい。

軟磁性層１４は、垂直磁気記録層１６の磁気回路を調整するための層であり、垂直磁気記録層１６を挟んでハードディスクドライブのヘッドと対向するように、ディスク基体１２上に成膜される。軟磁性層１４は、軟磁気特性を示す磁性体（ＳＵＬ：ＳｏｆｔＵｎｄｅｒｌａｙｅｒ）により形成されていれば特に制限はないが、保磁力（Ｈｃ）で、例えば、０．０１〜８０エルステッド、より好ましくは０．０１〜５０エルステッドの磁気特性を有する。また、飽和磁束密度（Ｂｓ）は５００ｅｍｕ／ｃｃ〜１９２０ｅｍｕ／ｃｃの磁気特性であることが好ましい。軟磁性層１４の材料としては、Ｆｅ系、Ｃｏ系等が挙げられる。例えば、ＦｅＴａＣ系合金、ＦｅＴａＮ系合金、ＦｅＮｉ系合金、ＦｅＣｏＢ系合金、ＦｅＣｏ系合金等のＦｅ系軟磁性材料、ＣｏＴａＺｒ系合金、ＣｏＮｂＺｒ系合金等のＣｏ系軟磁性材料、或いはＦｅＣｏ系合金軟磁性材料等を用いることができる。

軟磁性層１４の膜厚は例えば３０ｎｍ〜１０００ｎｍ、より望ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍである。３０ｎｍ未満では、ヘッド−垂直磁気記録層１６−軟磁性層１４間に好適な磁気回路を形成することが困難になる場合があり、１０００ｎｍを超えると表面粗さが増加する場合がある。また、１０００ｎｍを超えるとスパッタリング成膜が困難となる場合がある。

垂直磁気記録層１６は、主表面に垂直な方向に磁化容易軸を有する磁気記録層である。垂直磁気記録層１６は、例えば、ＣｏＣｒＰｔ等のＣｏ系合金で、軟磁性層１４上に成膜される。保護層１８は、ヘッドの衝撃から垂直磁気記録層１６を防護するための層である。潤滑層２０は、ヘッドと垂直磁気記録媒体１０との間の潤滑性を高めるための層である。

垂直磁気記録媒体１０の各層の製造方法として、スパッタリング法で成膜することが好ましい。特にＤＣマグネトロンスパッタリング法で成膜すると均一な成膜が可能となるので好ましい。尚、垂直磁気記録媒体１０は、ディスク基体１２と軟磁性層１４との間や、軟磁性層１４と垂直磁気記録層１６との間に、例えば付着層や下地層等の別の層を更に備えてもよい。垂直磁気記録媒体１０は、Ｒｕ層、Ｉｒ層、又はＲｈ層等を間に挟んで互いに反強磁性結合（ＡｎｔｉｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃａｌｌｙＣｏｕｐｌｅｄ）する複数の軟磁性層１４を備えてもよい。

図２は、軟磁性層１４の成膜方法の一例を示す。本例において、ディスク基体１２は、例えば１インチ又は０．８５インチ等の小径の円盤状体である。軟磁性層１４は、複数のディスク基体１２に対して同時に、成膜装置１００を用いて成膜される。

図２（ａ）は、成膜装置１００の構成の一例を示す。成膜装置１００は、ＤＣマグネトロンスパッタリング装置であり、基板アダプタ１０２、ターゲット１０４、回転磁石１０６、及び磁石回転用台１０８を備える。基板アダプタ１０２は、貫通孔状の基板収容部２０２を複数有しており、各ディスク基体１２をそれぞれの基板収容部２０２に収容する。これにより、基板アダプタ１０２は、各ディスク基体１２の成膜面をターゲット１０４に対向させた状態で、複数のディスク基体１２を保持する。ターゲット１０４は、軟磁性層１４の膜材料を供給するためのターゲットである。回転磁石１０６は、ＤＣマグネトロンスパッタリング法に必要な磁場を発生するための磁石であり、磁石回転用台１０８に回転可能に保持されている。磁石回転用台１０８は、回転磁石１０６を回転駆動するための駆動装置である。本例において、磁石回転用台１０８は、各ディスク基体１２が受ける磁場が特定の方向に偏らないように、回転磁石１０６を回転駆動させる。

図２（ｂ）は、磁石回転用台１０８により駆動される回転磁石１０６の動きを示す。磁石回転用台１０８は、回転磁石１０６を、矢印３０２に示すように自転させつつ、矢印３０４に示すように、磁石回転用台１０８の中心に対して公転させる。このようにした場合、各ディスク基体１２の位置における磁場の方向及び強度が常に変化することとなる。また、ディスク基体１２の各部が受ける磁場の時間平均は主表面内の各方向について等方的になる。そのため、成膜される軟磁性層１４の磁化容易軸が決まった一定の方向を向くことはない。そして、成膜される軟磁性層１４の磁気特性は、主表面内の各方向について等方的になる。また、磁化困難軸は、軟磁性層１４の主表面に垂直な方向を向く。そのため、このような方法で軟磁性層１４を成膜した場合、磁化容易軸は、半径方向等に揃うことなく、面内ランダムに制御される。

磁化容易軸をランダムに配向させた場合、ヘッドがノイズを検出することがなくなるため、軟磁性層１４を起因とするスパイクノイズ等のノイズを低減できる。また、磁化容易軸を特定の方向へ配向させる場合と比べ、軟磁性層の磁化容易軸の制御が容易になる。そのため、量産性を損なうことなく、スパイクノイズを抑制できる軟磁性層１４の成膜が可能になる。

上記以外の点について、軟磁性層１４は、例えば、従来公知の方法と同一又は同様の方法により成膜される。垂直磁気記録媒体１０（図１参照）における軟磁性層１４以外の各層も、従来公知の方法と同一又は同様の方法により成膜できる。尚、成膜装置１００は、複数の回転磁石１０６を備えてもよい。軟磁性層１４は、例えば二組のターゲット１０４、回転磁石１０６、及び磁石回転用台１０８を用いて、ディスク基体１２の両面に同時に成膜されてもよい。

図３は、磁気カー効果により軟磁性層１４表面を観察した結果の一例を示す。軟磁性層１４に対する磁気カー効果は、例えば、波長２５０〜９００ｎｍのレーザ光を照射して測定される。磁気カー効果は、例えば、カンデラ・インスツルメンツ社製の光学式表面解析装置に搭載されているエリプソメータ等により測定可能である。軟磁性層１４に対する磁気カー効果は、例えば、上層の垂直磁気記録層１６等の成膜前に測定することができる。また、垂直磁気記録媒体１０完成後に、垂直磁気記録層１６等の上層を剥離して測定することもできる。

図３（ａ）は、適切に軟磁性層１４が成膜された場合の磁気カー効果によるパターンの一例を示す。この場合、軟磁性層１４表面の全体のパターンは、磁壁を示す境界線によって分割されていない単一かつ一様な領域４０２になる。

図３（ｂ）、（ｃ）は、適切に軟磁性層１４が成膜されなかった場合のパターンの一例を示す。成膜装置１００（図２参照）において回転磁石１０６（図２参照）の動く範囲に偏りがあったり、回転磁石１０６の自転又は公転速度が不足している場合等、磁壁を示す境界線が生じ、パターンが複数の領域４０４〜４１２に分割されてしまう場合がある。ヘッドの大きさと比べて無視できない大きさの領域ができてしまうと、領域間の磁壁が起因となってスパイクノイズ等が生じることとなる。このような場合、回転磁石１０６の位置、大きさや磁石回転用台１０８の動作を適宜調整すれば、軟磁性層１４の適切な成膜が可能になる。

例えば、図３（ｂ）のように、内周部分の領域４０４と外周部分の領域４０６とに分割されたパターンが観測された場合、回転磁石１０６の位置を内周側に移動させたり、より大きな回転磁石１０６を用いることが有効である。また、図３（ｃ）のように、半径方向に延伸する磁壁に囲まれる領域４１０、４１２とその他の部分領域４０８とに分割された場合、回転磁石１０６の自転及び公転の速度を高めることが有効である。

尚、軟磁性層１４には、磁気カー効果で観測されない大きさの磁区があってもよい。この場合、軟磁性層１４内の磁区の大きさは、ハードディスクドライブに用いられる再生ヘッドのギャップの間に少なくとも２個（好ましくは、１０個以上、より好ましくは、１００個以上）の磁区が入る大きさであるのが好ましい。このように構成すれば、ヘッドの検出精度の範囲内で問題となる磁壁を実質的になくすことができる。

図４は、軟磁性層１４の磁気特性の一例を示す。図４（ａ）は、軟磁性層１４の各部において測定される磁気ヒステリシス曲線の一例を示す。磁気ヒステリシス曲線は、例えば、公知のＭＨループトレーサ等で測定することができる。

本例において、軟磁性層１４の磁化容易軸は、面内ランダムに制御されている。そのため、軟磁性層１４の各部における磁気ヒステリシス曲線は、主表面内各方向の磁場に対して等方的になる。従って、例えばディスク基体１２の半径方向及び円周方向のそれぞれの磁場に対して、磁気ヒステリシス曲線は、図４（ａ）に示したものと同様になる。また、図３（ａ）に示した磁気カー効果のパターンからも分かるように、軟磁性層１４のいずれの部分で測定したとしても、所定のバラツキ範囲内で同様になる。

このような磁気特性の軟磁性層１４を用いた場合、軟磁性層１４内に磁壁がないため、磁壁に起因するスパイクノイズが検出されないこととなる。そのため、軟磁性層１４を起因とするスパイクノイズ等のノイズを低減できる。尚、互いに反強磁性結合する複数の軟磁性層１４がある場合、少なくとも最上層の軟磁性層１４の各部における磁気ヒステリシス曲線が等方的になるのが望ましい。

図４（ｂ）は、一軸異方性が発現した場合の軟磁性層の磁気ヒステリシス曲線を示す参考図である。磁化容易軸をランダム制御せずに、いずれかの方向に揃えた場合、一軸異方性が発現し、磁化容易軸と磁化困難軸とで磁気ヒステリシス曲線が異なることとなる。例えば、ディスク基体の半径方向に磁化容易軸を揃えた場合、円周方向は磁化困難軸の方向となる。この場合、軟磁性層の各部における磁気ヒステリシス曲線は、ディスク基体の半径方向の磁場と、円周方向の磁場とに対して異方的になる。そのため、例えばディスク基体の半径方向及び円周方向の磁場に対して磁気ヒステリシス曲線を測定すれば、本例の垂直磁気記録媒体１０と、軟磁性層の磁化容易軸を揃えた垂直磁気記録媒体とを、適切に識別することができる。

図５は、垂直磁気記録媒体１０の構成の第２の例を示す。尚、以下に説明する点を除き、図１と同一又は同様の構成については、図１と同じ符号を付して説明を省略する。本例において、垂直磁気記録媒体１０は、ディスク基体１２、硬磁性層２２、非磁性層２４、軟磁性層１４、垂直磁気記録層１６、保護層１８、及び潤滑層２０をこの順で備える。

ディスク基体１２は、上層の磁化容易軸を制御するためのテクスチャが形成されていない基板である。硬磁性層２２は、例えばＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＣｒＮｂ等のＣｏ系強磁性体等の硬磁性材料で成膜された膜であり、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法で成膜される。このように構成した場合、硬磁性層２２は、主表面内方向に磁気異方性を持たない状態で成膜される。そのため、硬磁性層２２において、磁気特性は、主表面内の各方向について等方的になる。

非磁性層２４は、硬磁性層２２と軟磁性層１４とを反強磁性結合させるための層である。非磁性層２４は、の材料としては、例えばＲｕ、Ｉｒ、Ｒｈ等を用いることが好ましい。軟磁性層１４は、非磁性層２４を挟んで硬磁性層２２上に成膜される。

このように、硬磁性層２４上に軟磁性層１４をＤＣマグネトロンスパッタリング法で成膜する場合、硬磁性層１６の磁化容易軸は、反強磁性結合により、硬磁性層２２の磁化容易軸に応じた方向を向くこととなる。そのため、回転磁石１０６（図２参照）の駆動等を行わなくても、軟磁性層１４の磁気特性は、主表面内の各方向について等方的になる。そのため、このように構成した場合も、磁化容易軸が面内ランダムに制御された軟磁性層１４を適切に成膜できる。また、これにより、軟磁性層１４を起因とするスパイクノイズ等のノイズを適切に低減できる。

以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。

本発明は、例えば、垂直磁気記録方式のハードディスクドライブに搭載される垂直磁気記録媒体に好適に利用できる。

本発明の一実施形態に係る垂直磁気記録媒体１０の構成の第１の例を示す図である。軟磁性層１４の成膜方法の一例を示す図である。図２（ａ）は、成膜装置１００の構成の一例を示す。図２（ｂ）は、磁石回転用台１０８により駆動される回転磁石１０６の動きを示す。磁気カー効果により軟磁性層１４表面を観察した結果の一例を示す図である。図３（ａ）は、適切に軟磁性層１４が成膜された場合の磁気カー効果によるパターンの一例を示す。図３（ｂ）、（ｃ）は、適切に軟磁性層１４が成膜されなかった場合のパターンの一例を示す。軟磁性層１４の磁気特性の一例を示す図である。図４（ａ）は、軟磁性層１４の各部において測定される磁気ヒステリシス曲線の一例を示す。図４（ｂ）は、一軸異方性が発現した場合の軟磁性層の磁気ヒステリシス曲線を示す参考図である。垂直磁気記録媒体１０の構成の第２の例を示す図である。

符号の説明

１０・・・垂直磁気記録媒体、１２・・・ディスク基体、１４・・・軟磁性層、１６・・・垂直磁気記録層、１８・・・保護層、２０・・・潤滑層、２２・・・硬磁性層、２４・・・非磁性層、１００・・・成膜装置、１０２・・・基板アダプタ、１０４・・・ターゲット、１０６・・・回転磁石、１０８・・・磁石回転用台、２０２・・・基板収容部、３０２・・・矢印、３０４・・・矢印、４０２・・・領域、４０４・・・領域、４０６・・・領域、４０８・・・領域、４１０・・・領域、４１２・・・領域

Claims

垂直磁気記録方式のハードディスクドライブに搭載される垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
前記垂直磁気記録媒体は、
円盤状のディスク基体と、
前記ディスク基体上に成膜された軟磁性層と、
前記軟磁性層上に成膜された垂直磁気記録層と
を備え、
ＤＣマグネトロンスパッタリング法に必要な磁場を発生するための磁石である回転磁石と、
前記回転磁石を回転駆動する磁石回転用台と
を用い、
前記磁石回転用台により、前記回転磁石を自転させつつ前記磁石回転用台の中心に対して公転させることにより、各ディスク基体の位置における磁場の方向及び強度を常に変化させることにより、前記軟磁性層を、磁化容易軸が面内ランダムに制御されるようにＤＣマグネトロンスパッタリング法で成膜し、
前記軟磁性層の各部において、当該部分に含まれる磁性粒子の磁化容易軸の方向分布が前記軟磁性層の主表面内各方向に対して等方的であり、かつ、
前記主表面に垂直な方向が磁化困難軸になるように成膜されることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
基板アダプタに複数のディスク基体を保持させて前記成膜を行うことを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記複数のディスク基体が１インチ又は０．８５インチの小径の円盤状体であることを特徴とする請求項２に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。