JP2026011648A - Processing device and method for processing workpiece - Google Patents
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Abstract
【課題】被加工物に付着した異物を介して被加工物を保持することに起因して被加工物が破損する蓋然性を低減することが可能な加工装置を提供する。
【解決手段】加工装置は、被加工物の一面が露出された状態で被加工物を保持するための保持テーブルと、保持テーブルにおいて保持されている被加工物の一面側を加工するための加工ユニットと、加工ユニットによって一面側が加工された被加工物の一面が露出された状態で被加工物を支持するための支持テーブルと、支持テーブルにおいて支持されている被加工物を保持するための保持部と、被加工物を保持する保持部を移動させるための移動機構と、を含む搬送ユニットと、支持テーブルの上方に設けられ、かつ、被加工物を保持していない状態の保持部又は保持部によって保持されている被加工物の少なくとも一方に付着している異物を除去するための異物除去ユニットと、を備える。
【選択図】図6
A processing device is provided that can reduce the likelihood of a workpiece being damaged due to holding the workpiece via foreign matter adhering to the workpiece.
[Solution] The processing device comprises a holding table for holding a workpiece with one side of the workpiece exposed, a processing unit for processing one side of the workpiece held on the holding table, a support table for supporting the workpiece with one side of the workpiece processed by the processing unit exposed, a conveying unit including a holding part for holding the workpiece supported on the support table and a moving mechanism for moving the holding part holding the workpiece, and a foreign matter removal unit provided above the support table and for removing foreign matter adhering to at least one of the holding part when not holding a workpiece or the workpiece held by the holding part.
[Selected Figure] Figure 6
Description
本発明は、一面と一面の反対側に位置する他面とを含む被加工物の一面側を加工するための加工装置と、この被加工物の一面側を加工する被加工物の加工方法と、に関する。 The present invention relates to a processing device for processing one side of a workpiece that includes one side and another side located opposite the first side, and a processing method for processing the one side of the workpiece.
IC(Integrated Circuit)等のデバイスのチップは、携帯電話及びパーソナルコンピュータ等の各種電子機器において不可欠の構成要素である。このようなチップは、例えば、表面側に複数のデバイスが形成されているウェーハ等の円板状の被加工物を複数のデバイスの境界に沿って分割することで製造される。また、被加工物は、製造されるチップの低背化を目的として、その分割に先立って薄化されることがある。 Chips for devices such as ICs (Integrated Circuits) are essential components in various electronic devices, including mobile phones and personal computers. These chips are manufactured by dividing a disk-shaped workpiece, such as a wafer with multiple devices formed on its surface, along the boundaries between the devices. Furthermore, the workpiece may be thinned prior to division in order to reduce the height of the resulting chips.
被加工物の薄化は、例えば、研削装置において被加工物を研削することによって実施される(例えば、特許文献1参照)。この研削装置は、被加工物の裏面が露出された状態で被加工物を保持するための保持テーブルと、保持テーブルにおいて保持されている被加工物の裏面側を研削するための研削ユニットと、を備える。さらに、研削ユニットは、環状に離散して配置されている複数の研削砥石を有する研削ホイールが先端部に装着されているスピンドルを含む。 Thinning of the workpiece is achieved, for example, by grinding the workpiece in a grinding device (see, for example, Patent Document 1). This grinding device includes a holding table for holding the workpiece with its back surface exposed, and a grinding unit for grinding the back surface of the workpiece held on the holding table. Furthermore, the grinding unit includes a spindle, the tip of which is attached a grinding wheel having multiple grinding stones arranged discretely in an annular pattern.
そして、この研削装置において被加工物を研削する際には、まず、その裏面が露出されるように保持テーブルにおいて被加工物を保持する。次いで、スピンドル及び保持テーブルの双方を回転させながら複数の研削砥石を被加工物の裏面に接触させるように研削ホイールと保持テーブルとを接近させるとともに両者の接触界面に研削液を供給する。これにより、被加工物が研削されて薄化される。 When grinding a workpiece with this grinding device, the workpiece is first held on the holding table so that its back surface is exposed. Next, while both the spindle and holding table are rotated, the grinding wheel and holding table are brought closer together so that the multiple grinding stones come into contact with the back surface of the workpiece, and grinding fluid is supplied to the contact interface between the two. This results in the workpiece being ground down to make it thinner.
被加工物を研削すると、研削屑が生じる。この研削屑の大半は研削液によって洗い流されるものの、その一部が研削装置内に飛散することがある。そして、研削装置内に飛散した研削屑等の異物は、被加工物を搬送するための搬送ユニット等に一時的に付着してから、この搬送ユニットを利用して未研削の被加工物を搬送する際に被加工物に付着するおそれがある。 When a workpiece is ground, grinding chips are generated. While most of this chips are washed away by the grinding fluid, some of them may scatter inside the grinding machine. Foreign matter such as grinding chips that scatter inside the grinding machine may temporarily adhere to the transport unit used to transport the workpiece, and then adhere to the workpiece when the unground workpiece is transported using this transport unit.
異物を介して被加工物が保持テーブルにおいて保持されると、被加工物に局所的に強い外力が加わって被加工物が破損するという問題が生じるおそれがある。なお、このような問題は、研削装置においてのみ生じる問題ではなく、被加工物を保持した状態で被加工物を加工するための加工装置において共通して生じえる問題である。 If a workpiece is held on the holding table via a foreign object, a strong external force may be applied locally to the workpiece, potentially causing damage to the workpiece. This type of problem does not only occur in grinding machines, but can also occur in all processing machines that process workpieces while holding them.
この点に鑑み、本発明の目的は、被加工物に付着した異物を介して被加工物を保持することに起因して被加工物が破損する蓋然性を低減することが可能な加工装置及び被加工物の加工方法を提供することである。 In light of this, an object of the present invention is to provide a processing device and a method for processing a workpiece that can reduce the likelihood of damage to the workpiece caused by holding the workpiece via foreign matter adhering to the workpiece.
本発明の一側面によれば、一面と該一面の反対側に位置する他面とを含む被加工物の該一面側を加工するための加工装置であって、該被加工物の該一面が露出された状態で該被加工物を保持するための保持テーブルと、該保持テーブルにおいて保持されている該被加工物の該一面側を加工するための加工ユニットと、該加工ユニットによって該一面側が加工された該被加工物の該一面が露出された状態で該被加工物を支持するための支持テーブルと、該支持テーブルにおいて支持されている該被加工物を保持するための保持部と、該被加工物を保持する該保持部を移動させるための移動機構と、を含む搬送ユニットと、該支持テーブルの上方に設けられ、かつ、該被加工物を保持していない状態の該保持部又は該保持部によって保持されている該被加工物の少なくとも一方に付着している異物を除去するための異物除去ユニットと、を備える加工装置が提供される。 One aspect of the present invention provides a processing device for processing one side of a workpiece having one side and another side opposite the one side, the processing device comprising: a holding table for holding the workpiece with the one side of the workpiece exposed; a processing unit for processing the one side of the workpiece held on the holding table; a support table for supporting the workpiece with the one side of the workpiece processed by the processing unit exposed; a transport unit including a holding part for holding the workpiece supported on the support table and a movement mechanism for moving the holding part holding the workpiece; and a foreign matter removal unit disposed above the support table for removing foreign matter adhering to at least one of the holding part when not holding the workpiece or the workpiece held by the holding part.
好ましくは、該異物除去ユニットは、該保持部によって保持されている該被加工物の該一面及び該他面のそれぞれに付着している異物を除去する。また、好ましくは、該異物除去ユニットは、該被加工物を支持していない状態の該支持テーブル又は該支持テーブルにおいて支持されている該被加工物の少なくとも一方に付着している異物を除去する。 Preferably, the foreign matter removal unit removes foreign matter adhering to each of the one surface and the other surface of the workpiece held by the holder. Also, preferably, the foreign matter removal unit removes foreign matter adhering to at least one of the support table when not supporting the workpiece or the workpiece supported on the support table.
さらに、該異物除去ユニットは、後斜め下に向かって気体を吹き付けるための送風部と、該送風部の後方に設けられ、かつ、該気体を吸引するための吸引部と、を有することが好ましい。あるいは、該異物除去ユニットは、イオンを含む気体を下に向かって吹き付けるための除電部を有することが好ましい。 Furthermore, the foreign matter removal unit preferably has a blower section for blowing gas diagonally downward and rearward, and a suction section provided behind the blower section for sucking the gas. Alternatively, the foreign matter removal unit preferably has a static eliminator section for blowing gas containing ions downward.
本発明の別の側面によれば、一面と該一面の反対側に位置する他面とを含む被加工物の該一面側を加工する被加工物の加工方法であって、カセットに収容されている該被加工物を搬送ユニットの保持部によって保持してから該保持部を移動させることによって該被加工物を該カセットから搬送する第1搬送ステップと、該第1搬送ステップの後に、該一面が露出された状態で該被加工物を保持テーブルにおいて保持する保持ステップと、該保持ステップの後に、該保持テーブルにおいて保持されている該被加工物の該一面側を加工する加工ステップと、該加工ステップの後に、該一面側が加工された該被加工物の該一面が露出された状態で該被加工物を支持テーブルにおいて支持する支持ステップと、該支持ステップの後に、該支持テーブルにおいて支持されている該被加工物を該保持部によって保持してから該保持部を移動させることによって該被加工物を該カセットに搬送する第2搬送ステップと、該第1搬送ステップの前に該支持テーブルの上方に設けられている異物除去ユニットを利用して該保持部に付着している異物を除去し、かつ/又は、該第1搬送ステップの最中に該異物除去ユニットを利用して該保持部によって保持されている該被加工物に付着している異物を除去する除去ステップと、を備える被加工物の加工方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, a method for processing one surface of a workpiece, the workpiece including one surface and another surface located opposite the one surface, includes a first transport step in which the workpiece stored in a cassette is held by a holding portion of a transport unit and then the holding portion is moved to transport the workpiece from the cassette; a holding step in which, after the first transport step, the workpiece is held on a holding table with the one surface exposed; a processing step in which, after the holding step, the one surface of the workpiece held on the holding table is processed; and a step in which, after the processing step, the one surface of the workpiece whose one surface has been processed is exposed. The method for processing a workpiece includes: a supporting step in which the workpiece is supported on a support table in a state where the workpiece is supported; a second transport step in which, after the supporting step, the workpiece supported on the support table is held by the holder and then the holder is moved to transport the workpiece to the cassette; and a removal step in which, before the first transport step, foreign matter adhering to the holder is removed using a foreign matter removal unit provided above the support table, and/or, during the first transport step, foreign matter adhering to the workpiece held by the holder is removed using the foreign matter removal unit.
好ましくは、該除去ステップにおいては、該保持部によって保持されている該被加工物の該一面及び該他面のそれぞれに付着している異物を除去する。また、好ましくは、該支持ステップの前に該異物除去ユニットを利用して該支持テーブルに付着している異物を除去し、かつ/又は、該支持ステップの最中に該異物除去ユニットを利用して該被加工物に付着している異物を除去する第2除去ステップをさらに備える。 Preferably, the removal step removes foreign matter adhering to each of the one surface and the other surface of the workpiece held by the holder. Also, preferably, the method further includes a second removal step in which the foreign matter removal unit is used to remove foreign matter adhering to the support table before the supporting step, and/or the foreign matter removal unit is used to remove foreign matter adhering to the workpiece during the supporting step.
さらに、該除去ステップにおいては、該保持部又は該被加工物に向けて前斜め上から気体が吹き付けられるとともに該保持部又は該被加工物に衝突した該気体が上に向けて吸引されることが好ましい。あるいは、該除去ステップにおいては、該保持部又は該被加工物に向けてイオンを含む気体が上から吹き付けられることが好ましい。 Furthermore, in the removal step, it is preferable that gas be sprayed from an upper front angle toward the holding part or the workpiece, and that the gas that collides with the holding part or the workpiece be sucked upward. Alternatively, it is preferable that in the removal step, gas containing ions be sprayed from above toward the holding part or the workpiece.
本発明においては、支持テーブルの上方に設けられている異物除去ユニットを利用して被加工物を保持していない状態の搬送ユニットの保持部又は保持部によって保持されている被加工物の少なくとも一方に付着している異物を除去することができる。そのため、本発明においては、被加工物に付着した異物を介して被加工物を保持することに起因して被加工物が破損する蓋然性を低減することが可能である。 In this invention, a foreign matter removal unit provided above the support table can be used to remove foreign matter adhering to at least one of the holding section of the transport unit when not holding a workpiece or the workpiece held by the holding section. Therefore, in this invention, it is possible to reduce the likelihood of the workpiece being damaged due to being held via foreign matter adhering to the workpiece.
添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図1は、被加工物の一例を模式的に示す斜視図である。図1に示される被加工物11は、例えば、円状の表面13a及び裏面13bを有し、シリコン(Si)等の半導体材料を素材とするウェーハ13を含む。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Figure 1 is a perspective view showing a schematic example of a workpiece. The workpiece 11 shown in Figure 1 includes, for example, a wafer 13 having a circular front surface 13a and a back surface 13b, and made of a semiconductor material such as silicon (Si).
ウェーハ13の表面13a側には、マトリックス状に複数のデバイス15が形成されている。換言すると、複数のデバイス15の境界は、格子状に延在する。また、被加工物11は、複数のデバイス15を覆うようにウェーハ13の表面13aに設けられているフィルム状のテープを含んでもよい。このテープは、ウェーハ13の直径と概ね等しい直径を有し、例えば、樹脂からなる。 A plurality of devices 15 are formed in a matrix on the surface 13a of the wafer 13. In other words, the boundaries between the devices 15 extend in a grid pattern. The workpiece 11 may also include a film-like tape that is applied to the surface 13a of the wafer 13 so as to cover the devices 15. This tape has a diameter roughly equal to the diameter of the wafer 13 and is made of, for example, resin.
そして、このテープは、ウェーハ13の裏面13b側を研削する際に表面13a側に加わる衝撃を緩和して複数のデバイス15を保護する。なお、ウェーハ13の材質、形状、構造及び大きさ等に制限はない。また、被加工物11は、ウェーハ13及びその表面13aに設けられているテープに加えて又は換えて、シリコン以外の半導体材料、セラミックス、樹脂又は金属を素材とする部分を含んでもよい。 This tape protects the multiple devices 15 by absorbing the impact on the front surface 13a of the wafer 13 when grinding the back surface 13b. There are no restrictions on the material, shape, structure, or size of the wafer 13. Furthermore, the workpiece 11 may include, in addition to or instead of the wafer 13 and the tape attached to its front surface 13a, a portion made of a semiconductor material other than silicon, ceramic, resin, or metal.
図2は、被加工物11を研削するための研削装置の一例を模式的に示すブロック図である。なお、図2においては、その一面(具体的には、ウェーハ13の裏面13b)側が研削される前の被加工物11の移動経路が破線の矢印で示され、その一面側が研削された後の被加工物11の移動経路が実線の矢印で示されている。 Figure 2 is a block diagram showing a schematic example of a grinding device for grinding workpiece 11. In Figure 2, the movement path of workpiece 11 before one surface (specifically, back surface 13b of wafer 13) is ground is indicated by a dashed arrow, and the movement path of workpiece 11 after one surface is ground is indicated by a solid arrow.
図2に示される研削装置2は、被加工物11が収容されたカセットを支持するためのカセットテーブル4を備える。図3は、被加工物11が収容されたカセットを支持するカセットテーブル4を模式的に示す斜視図である。このカセットテーブル4は、上下方向に概ね垂直な矩形状の上面4aを有し、この上面4aにカセット6が載せられている。 The grinding device 2 shown in Figure 2 is equipped with a cassette table 4 for supporting a cassette containing a workpiece 11. Figure 3 is a perspective view showing a schematic view of the cassette table 4 supporting the cassette containing the workpiece 11. The cassette table 4 has a rectangular upper surface 4a that is generally vertical, and a cassette 6 is placed on this upper surface 4a.
カセット6は、平板状の天板6aを有する。この天板6aは、矩形状の平板の4つの角のうち隣接する一対の角が面取りされ、かつ、残りの一対の角が面取りされることなく残存したような形状を有する。そして、天板6aのうち面取りされた一対の部分の間に位置する端部(後端部)の下側には、天板6aに垂直な方向(高さ方向)に延在する側板(不図示)の上端部が固定されている。 The cassette 6 has a flat top panel 6a. This top panel 6a has a rectangular shape with two adjacent corners that are chamfered, while the remaining pair of corners remain unchamfered. The upper end of a side panel (not shown) extending perpendicular to the top panel 6a (height direction) is fixed to the underside of the end (rear end) of the top panel 6a located between the two chamfered corners.
また、天板6aの面取りされた部分と面取りされていない角との間に位置する2つの端部(左端部及び右端部)のそれぞれの下側には、高さ方向に延在する側板6b,6cの上端部が固定されている。他方、天板6aの面取りされていない一対の角の間に位置する端部(前端部)の下側には、側板が存在しない。すなわち、天板6aの前端部の下側は開放されている。 Furthermore, the upper ends of side panels 6b and 6c extending in the height direction are fixed to the underside of the two ends (left and right ends) of the tabletop 6a located between the chamfered portion and the unchamfered corner. On the other hand, there is no side panel below the end (front end) of the tabletop 6a located between the pair of unchamfered corners. In other words, the underside of the front end of the tabletop 6a is open.
さらに、側板6b,6cの内側面には、それぞれが前後方向に延在する複数の溝6dが高さ方向において概ね等間隔に形成されている。具体的には、側板6bの内側面に形成されている複数の溝6dのそれぞれは、側板6cの内側面に形成されている複数の溝6dのいずれかと対向するように設けられている。 Furthermore, multiple grooves 6d, each extending in the front-to-rear direction, are formed on the inner surfaces of the side plates 6b and 6c at approximately equal intervals in the height direction. Specifically, each of the multiple grooves 6d formed on the inner surface of the side plate 6b is arranged to face one of the multiple grooves 6d formed on the inner surface of the side plate 6c.
また、溝6dの断面形状は、概ね長方形状である。換言すると、溝6dは、高さ方向に概ね垂直な一対の側面と、高さ方向に概ね平行な底面と、を有する。そして、複数の溝6dのそれぞれの一対の側面のうち天板6aから遠い方に被加工物11の外周部を置くことで、被加工物11がカセット6に収容される。すなわち、互いに対向する一対の溝6dの内側面のうち天板6aから遠い方の面において被加工物11が支持される。 The cross-sectional shape of the grooves 6d is generally rectangular. In other words, the grooves 6d have a pair of side surfaces that are generally perpendicular to the height direction and a bottom surface that is generally parallel to the height direction. The workpieces 11 are placed in the cassette 6 by placing the outer periphery of the workpiece 11 on the side surface of each of the multiple grooves 6d that is farther from the top plate 6a. In other words, the workpieces 11 are supported on the inner surface of each pair of opposing grooves 6d that is farther from the top plate 6a.
なお、側板6bの内側面及び側板6cの内側面に形成されている溝6dの数等に制限はない。例えば、カセット6には、1ロット分(25枚程度)の被加工物11に対応する数の溝6dが形成されてもよい。また、側板6bの下部と側板6cの下部とは、細長い板状の接続部材6eを介して連結されている。 There is no limit to the number of grooves 6d formed on the inner surface of side plate 6b and the inner surface of side plate 6c. For example, the cassette 6 may have grooves 6d formed in the number corresponding to one lot of workpieces 11 (approximately 25 pieces). The lower part of side plate 6b and the lower part of side plate 6c are connected via a long, thin, plate-shaped connecting member 6e.
カセット6に収容されている被加工物11は、搬送ユニット8によって搬送される(図2参照)。図4は、搬送ユニット8を模式的に示す斜視図である。この搬送ユニット8は、被加工物11を保持するためのロボットハンド(保持部)10と、被加工物11を保持するロボットハンド10を移動させるための移動機構12と、を含む。 The workpiece 11 stored in the cassette 6 is transported by the transport unit 8 (see Figure 2). Figure 4 is a schematic perspective view of the transport unit 8. This transport unit 8 includes a robot hand (holding unit) 10 for holding the workpiece 11, and a movement mechanism 12 for moving the robot hand 10 holding the workpiece 11.
移動機構12は、上下方向に沿って延在する円柱状の第1駆動部14を有する。この第1駆動部14は、例えば、上下方向に沿って延在するロッドを昇降させることが可能なエアシリンダ等のアクチュエータ(不図示)と、このロッドに沿うような直線を回転軸としてアクチュエータを回転させるためのモータ等の回転機構(不図示)と、アクチュエータ及び回転機構を収容するケース14aと、を含む。 The movement mechanism 12 has a cylindrical first drive unit 14 that extends vertically. This first drive unit 14 includes, for example, an actuator (not shown) such as an air cylinder that can raise and lower a rod that extends vertically, a rotation mechanism (not shown) such as a motor that rotates the actuator around a rotation axis that is a straight line along the rod, and a case 14a that houses the actuator and rotation mechanism.
また、ケース14aには、水平方向移動機構(不図示)が連結されている。この水平方向移動機構は、例えば、ケース14aを支持する支持プレートと、この支持プレートを水平方向に沿って移動させるためのボールねじと、このボールねじのねじ軸を回転させるためのモータと、を含む。そして、このモータを動作させると、支持プレートとともに第1駆動部14が水平方向に沿って移動する。 A horizontal movement mechanism (not shown) is also connected to the case 14a. This horizontal movement mechanism includes, for example, a support plate that supports the case 14a, a ball screw for moving the support plate in the horizontal direction, and a motor for rotating the screw shaft of the ball screw. When this motor is operated, the first drive unit 14 moves in the horizontal direction together with the support plate.
また、ケース14aの天板には、ロッドが通る開口が形成されている。そして、ロッドの上端には、アーム16が連結されている。そのため、第1駆動部14のアクチュエータを動作させるとアーム16が上下方向に沿って移動(昇降)し、その回転機構を動作させるとロッドに沿うような直線を回転軸としてアーム16が回転する。 An opening through which a rod passes is formed in the top plate of the case 14a. An arm 16 is connected to the upper end of the rod. Therefore, when the actuator of the first drive unit 14 is operated, the arm 16 moves (raises and lowers) in the vertical direction, and when the rotation mechanism is operated, the arm 16 rotates around a rotation axis that is a straight line along the rod.
アーム16は、複数の関節を有する。具体的には、アーム16は、上下方向に垂直な方向に沿って延在する板状の第1腕部16aを有する。そして、第1腕部16aの一端部の下側は、第1駆動部14に含まれるアクチュエータのロッドとともに移動及び回転するようにロッドの上端に連結されている。また、第1腕部16aの他端の上側には、円柱状の第1関節部(不図示)の下側が連結されている。 The arm 16 has multiple joints. Specifically, the arm 16 has a plate-shaped first arm 16a that extends in a direction perpendicular to the up-down direction. The lower side of one end of the first arm 16a is connected to the upper end of a rod of an actuator included in the first drive unit 14 so as to move and rotate together with the rod. The lower side of a cylindrical first joint (not shown) is connected to the upper side of the other end of the first arm 16a.
第1関節部の上側には、上下方向に垂直な方向に沿って延在する板状の第2腕部16bが連結されている。この第2腕部16bの一端の下側は、上下方向に沿った直線を回転軸として回転可能な態様で第1関節部を介して第1腕部16aの他端の上側に連結されている。また、第2腕部16bの他端の上側には、円柱状の第2関節部16cの下側が連結されている。そして、第2関節部16cの上側には、第2駆動部18が連結されている。 A plate-shaped second arm 16b extending in a direction perpendicular to the vertical direction is connected to the upper side of the first joint. The lower side of one end of this second arm 16b is connected to the upper side of the other end of the first arm 16a via the first joint in a manner that allows it to rotate around a straight line along the vertical direction as its axis of rotation. Furthermore, the lower side of a cylindrical second joint 16c is connected to the upper side of the other end of the second arm 16b. The second drive unit 18 is connected to the upper side of the second joint 16c.
第2駆動部18は、上下方向に垂直な方向に沿って延在する直方体状のケース18aと、ケース18aの一端に位置する側板に形成されている開口を通ってケース18aに挿入されているスピンドル18bと、を有する。そして、ケース18aの一端の下側は、上下方向に沿った直線を回転軸として回転可能な態様で第2関節部16cを介して第2腕部16bの他端の上側に連結されている。 The second drive unit 18 has a rectangular parallelepiped case 18a extending in a direction perpendicular to the vertical direction, and a spindle 18b inserted into the case 18a through an opening formed in a side panel located at one end of the case 18a. The lower side of one end of the case 18a is connected to the upper side of the other end of the second arm 16b via the second joint 16c in a manner that allows rotation around a straight line extending in the vertical direction as a rotation axis.
また、ケース18aには、このスピンドル18bの基端に連結されているモータ(不図示)が収容されている。そして、このモータを動作させると、上下方向に垂直な方向に沿った直線を回転軸としてスピンドル18bが回転する。さらに、スピンドル18bの先端には、U字状のロボットハンド10が連結されている。 The case 18a also houses a motor (not shown) connected to the base end of the spindle 18b. When this motor is operated, the spindle 18b rotates around a rotation axis that is a straight line perpendicular to the up-down direction. The U-shaped robot hand 10 is connected to the tip of the spindle 18b.
具体的には、ロボットハンド10は、中央にスピンドル18bの先端が連結されている基端部10aと、それぞれがスピンドル18bと平行になるように基端部10aの両端から延在する一対の腕部10bと、を有する。なお、一対の腕部10bの間隔は、被加工物11の直径よりも小さい。また、ロボットハンド10はそれぞれが概ね平坦な表面及び背面を有し、この表面には複数の吸引穴(不図示)が形成されている。 Specifically, the robot hand 10 has a base end 10a to which the tip of the spindle 18b is connected in the center, and a pair of arms 10b extending from both ends of the base end 10a so that each arm is parallel to the spindle 18b. The distance between the pair of arms 10b is smaller than the diameter of the workpiece 11. Each robot hand 10 has a generally flat front and back surface, and multiple suction holes (not shown) are formed on these surfaces.
ロボットハンド10の表面に形成されている複数の吸引穴は、吸引源(不図示)又は気体供給源(不図示)と連通可能になっている。なお、吸引源は、例えば、エジェクタ等を含む。また、気体供給源は、例えば、エア等の気体を貯蔵するためのタンクと、タンクから供給される気体に混入した異物を取り除くためのフィルタと、タンクから供給される気体の圧力を調整するためのレギュレータと、を含む。 The multiple suction holes formed on the surface of the robot hand 10 can be connected to a suction source (not shown) or a gas supply source (not shown). The suction source may include, for example, an ejector. The gas supply source may include, for example, a tank for storing gas such as air, a filter for removing foreign matter mixed in with the gas supplied from the tank, and a regulator for adjusting the pressure of the gas supplied from the tank.
そして、ロボットハンド10の表面に形成されている複数の吸引穴と連通する吸引源を動作させると、複数の吸引穴の圧力が負圧になってロボットハンド10の表面近傍の空間に吸引力が作用する。また、この吸引力を被加工物11に作用させることによって、ロボットハンド10の表面側において被加工物11を保持することが可能である。 When a suction source connected to multiple suction holes formed on the surface of the robot hand 10 is operated, the pressure in the multiple suction holes becomes negative, and a suction force acts on the space near the surface of the robot hand 10. Furthermore, by applying this suction force to the workpiece 11, it is possible to hold the workpiece 11 on the surface side of the robot hand 10.
さらに、このように被加工物11が保持された状態で、吸引源の動作を停止させ、かつ、複数の吸引穴と連通する気体供給源を動作させると、複数の吸引穴の圧力が常圧に戻って被加工物11がロボットハンド10の表面側に吸引されなくなる。また、この吸引力が被加工物11に作用しなくなることによって、ロボットハンド10の表面から被加工物11を分離することが容易になる。 Furthermore, while the workpiece 11 is held in this manner, if the suction source is stopped and the gas supply source connected to the multiple suction holes is operated, the pressure in the multiple suction holes returns to normal pressure, and the workpiece 11 is no longer sucked toward the surface of the robot hand 10. Furthermore, since this suction force no longer acts on the workpiece 11, it becomes easier to separate the workpiece 11 from the surface of the robot hand 10.
また、被加工物11がロボットハンド10の表面側において保持された状態でスピンドル18bの基端に連結されているモータを動作させると、スピンドル18bとともにロボットハンド10及び被加工物11も回転する。そのため、このスピンドル18bを、例えば、180°回転させることによって、被加工物11の上下を反転させることが可能である。 Furthermore, when the motor connected to the base end of the spindle 18b is operated while the workpiece 11 is held on the surface side of the robot hand 10, the robot hand 10 and workpiece 11 rotate along with the spindle 18b. Therefore, by rotating the spindle 18b, for example, by 180°, it is possible to turn the workpiece 11 upside down.
カセット6からの被加工物11の搬送は、例えば、以下の順序で行われる。まず、カセット6に収容されている被加工物11の一面(ウェーハ13の裏面13b)とロボットハンド10の表面とが接近して対向するように移動機構12を動作させる。次いで、ロボットハンド10の表面側において被加工物11が保持されるようにロボットハンド10の表面に形成されている複数の吸引穴と連通する吸引源を動作させる。 The workpiece 11 is transported from the cassette 6, for example, in the following order. First, the movement mechanism 12 is operated so that one surface of the workpiece 11 (the back surface 13b of the wafer 13) stored in the cassette 6 faces closely to the surface of the robot hand 10. Next, a suction source communicating with multiple suction holes formed on the surface of the robot hand 10 is operated so that the workpiece 11 is held on the surface side of the robot hand 10.
次いで、ロボットハンド10の表面側において被加工物11を保持したまま、被加工物11を所望の位置(例えば、位置調整部20(図2参照))まで搬送するように移動機構12を動作させる。次いで、ロボットハンド10の表面から被加工物11が分離されるように、吸引源の動作を停止させ、かつ、複数の吸引穴と連通する気体供給源を動作させる。 Next, while holding the workpiece 11 on the surface side of the robot hand 10, the movement mechanism 12 is operated to transport the workpiece 11 to the desired position (e.g., the position adjustment unit 20 (see Figure 2)). Next, the operation of the suction source is stopped and the gas supply source communicating with the multiple suction holes is operated so that the workpiece 11 is separated from the surface of the robot hand 10.
位置調整部20には、その直径が被加工物11よりも小さい円板状のポジショニングテーブル20aと、このポジショニングテーブル20aに置かれた被加工物11の中心を所定の位置に合わせるための位置調整機構20bと、が設けられている。この位置調整機構20bは、例えば、ポジショニングテーブル20aの周囲に配置され、かつ、それぞれが平面視においてポジショニングテーブル20aの径方向に沿って移動可能な複数のピンを含む。 The position adjustment unit 20 is provided with a disk-shaped positioning table 20a whose diameter is smaller than the workpiece 11, and a position adjustment mechanism 20b for aligning the center of the workpiece 11 placed on this positioning table 20a to a predetermined position. This position adjustment mechanism 20b is arranged around the periphery of the positioning table 20a, and includes, for example, multiple pins that are each movable radially around the positioning table 20a in a plan view.
そして、位置調整部20においては、例えば、その一面が露出されるように被加工物11をポジショニングテーブル20aに置いてから、複数のピンが被加工物11に接触するまで複数のピンを当該径方向内側に移動させる。これにより、被加工物11の中心が所定の位置に合わせられる。 The position adjustment unit 20 then places the workpiece 11 on the positioning table 20a so that one side of the workpiece 11 is exposed, and then moves the pins radially inward until they contact the workpiece 11. This aligns the center of the workpiece 11 to a predetermined position.
その中心が所定の位置に合わせられた被加工物11は、位置調整部20から研削部22に搬送されて研削される。図5は、研削部22を模式的に示す図である。この研削部22には、被加工物11よりも直径が大きい円板状のチャックテーブル(保持テーブル)24が設けられている。このチャックテーブル24は、セラミックス等からなる枠体26を有する。 The workpiece 11, whose center is aligned to a predetermined position, is transported from the position adjustment unit 20 to the grinding unit 22 and ground. Figure 5 is a schematic diagram of the grinding unit 22. This grinding unit 22 is provided with a circular chuck table (holding table) 24 with a diameter larger than that of the workpiece 11. This chuck table 24 has a frame 26 made of ceramics or the like.
枠体26は、円板状の底壁26aと、底壁26aの外周部から立設されている円筒状の側壁26bと、を有する。すなわち、枠体26の上面側には、底壁26a及び側壁26bによって凹部が画定されている。そして、この凹部には、多孔質セラミックス等からなる円板状のポーラス板28が固定されている。 The frame 26 has a disk-shaped bottom wall 26a and a cylindrical side wall 26b extending from the outer periphery of the bottom wall 26a. That is, a recess is defined on the top surface of the frame 26 by the bottom wall 26a and the side wall 26b. A disk-shaped porous plate 28 made of porous ceramics or the like is fixed in this recess.
なお、ポーラス板28の直径は、被加工物11の直径よりも小さい。また、枠体26の側壁26bの上面及びポーラス板28の上面は、円錐の側面に相当する形状を有し、被加工物11を保持する際にチャックテーブル24の保持面として機能する。また、底壁26aには、凹部の底面において開口し、かつ、底壁26aを貫通する流路26cが形成されている。 The diameter of the porous plate 28 is smaller than the diameter of the workpiece 11. The upper surfaces of the side walls 26b of the frame 26 and the upper surface of the porous plate 28 have a shape equivalent to the side of a cone, and function as the holding surface of the chuck table 24 when holding the workpiece 11. The bottom wall 26a also has a flow path 26c that opens at the bottom of the recess and penetrates the bottom wall 26a.
そして、この流路26cは、バルブ30aを介して吸引源32aに連通し、かつ、バルブ30bを介して気体供給源32bに連通する。なお、吸引源32aは、例えば、エジェクタ等を含む。また、気体供給源32bは、例えば、エア等の気体を貯蔵するためのタンクと、タンクから供給される気体に混入した異物を取り除くためのフィルタと、タンクから供給される気体の圧力を調整するためのレギュレータと、を含む。 This flow path 26c is connected to a suction source 32a via valve 30a and to a gas supply source 32b via valve 30b. The suction source 32a includes, for example, an ejector. The gas supply source 32b includes, for example, a tank for storing a gas such as air, a filter for removing foreign matter mixed in with the gas supplied from the tank, and a regulator for adjusting the pressure of the gas supplied from the tank.
さらに、チャックテーブル24は、回転機構(不図示)に連結されている。この回転機構は、例えば、モータ及びプーリ等を含む。そして、この回転機構を動作させると、チャックテーブル24の保持面の中心を通る直線を回転軸としてチャックテーブル24が回転する。 Furthermore, the chuck table 24 is connected to a rotation mechanism (not shown). This rotation mechanism includes, for example, a motor and a pulley. When this rotation mechanism is operated, the chuck table 24 rotates around a rotation axis that is a straight line passing through the center of the holding surface of the chuck table 24.
また、チャックテーブル24は、ベアリング(不図示)等を介して傾き調整機構(不図示)に支持されている。この傾き調整機構は、例えば、チャックテーブル24の周方向に沿って概ね等しい角度の間隔で配置されている2つの可動軸及び1つの固定軸を含む。そして、2つの可動軸の少なくとも一方がチャックテーブル24を部分的に昇降させると、チャックテーブル24の回転軸の傾きが調整される。 The chuck table 24 is also supported by a tilt adjustment mechanism (not shown) via bearings (not shown) or the like. This tilt adjustment mechanism includes, for example, two movable shafts and one fixed shaft arranged at approximately equal angular intervals along the circumferential direction of the chuck table 24. When at least one of the two movable shafts partially raises or lowers the chuck table 24, the tilt of the rotation axis of the chuck table 24 is adjusted.
また、チャックテーブル24は、旋回機構(不図示)に連結されている。この旋回機構は、例えば、その外周近傍の領域にチャックテーブル24が連結されているターンテーブルと、このターンテーブルを回転させるためのモータと、を含む。そして、この旋回機構を動作させると、ターンテーブルの中心を通り、かつ、上下方向に沿った直線を回転軸としてチャックテーブル24が旋回する。 The chuck table 24 is also connected to a rotation mechanism (not shown). This rotation mechanism includes, for example, a turntable to which the chuck table 24 is connected in an area near its outer periphery, and a motor for rotating the turntable. When this rotation mechanism is operated, the chuck table 24 rotates around a rotation axis that passes through the center of the turntable and is aligned vertically.
チャックテーブル24の上方には、研削ユニット(加工ユニット)34が設けられている。この研削ユニット34は、上下方向に沿って延在するスピンドル36を有する。また、スピンドル36の下端部(先端部)は、被加工物11の半径よりも直径が大きい円板状のマウント36aとなっている。 A grinding unit (processing unit) 34 is provided above the chuck table 24. This grinding unit 34 has a spindle 36 that extends in the vertical direction. The lower end (tip) of the spindle 36 forms a disk-shaped mount 36a whose diameter is larger than the radius of the workpiece 11.
そして、マウント36aの外周部には、その厚さ方向においてマウント36aを貫通する複数の孔(不図示)が形成されており、各孔にはボルト(不図示)が挿入されている。さらに、マウント36aの下面には、複数のボルトを利用して、研削ホイール38が装着されている。 The outer periphery of the mount 36a is formed with multiple holes (not shown) that penetrate the mount 36a in its thickness direction, and a bolt (not shown) is inserted into each hole. Furthermore, a grinding wheel 38 is attached to the underside of the mount 36a using multiple bolts.
研削ホイール38は、例えば、ステンレス鋼又はアルミニウム合金等の金属材料からなる環状の基台38aを有する。なお、基台38aの外径はマウント36aの直径と概ね等しく、その下面には環状に離散して複数の研削砥石38bが設けられている。 The grinding wheel 38 has an annular base 38a made of a metal material such as stainless steel or an aluminum alloy. The outer diameter of the base 38a is roughly equal to the diameter of the mount 36a, and multiple grinding stones 38b are provided on its underside in a circular, discrete pattern.
複数の研削砥石38bのそれぞれは、ビトリファイド又はレジノイド等のボンド材と、このボンド材に分散されたダイヤモンド等の砥粒と、を含む。そして、複数の研削砥石38bのそれぞれの下面においては砥粒が露出されており、この下面は被加工物11を研削する際に研削面として機能する。 Each of the multiple grinding wheels 38b contains a bond material such as vitrified or resinoid, and abrasive grains such as diamond dispersed in the bond material. The abrasive grains are exposed on the underside of each of the multiple grinding wheels 38b, and this underside functions as a grinding surface when grinding the workpiece 11.
さらに、スピンドル36の基端部(上端部)には、モータ(不図示)が連結されている。そして、このモータを動作させると、スピンドル36が延在する方向(ここでは、上下方向)に沿った直線を回転軸としてスピンドル36とともに研削ホイール38が回転する。この時、複数の研削砥石38bのそれぞれの研削面は、その外径が被加工物11の半径よりも大きい環状の軌跡を描く。 Furthermore, a motor (not shown) is connected to the base end (upper end) of the spindle 36. When this motor is operated, the grinding wheels 38 rotate together with the spindle 36, with a rotation axis that is a straight line along the direction in which the spindle 36 extends (here, the up-and-down direction). At this time, the grinding surfaces of each of the multiple grinding stones 38b trace a circular trajectory whose outer diameter is greater than the radius of the workpiece 11.
また、スピンドル36は、上下方向移動機構(不図示)に連結されている。この上下方向移動機構は、例えば、モータ及びボールねじ等を含む。そして、この上下方向移動機構を動作させると、スピンドル36が上下方向に沿って移動する。 The spindle 36 is also connected to a vertical movement mechanism (not shown). This vertical movement mechanism includes, for example, a motor and a ball screw. When this vertical movement mechanism is operated, the spindle 36 moves in the vertical direction.
加えて、研削ホイール38の近傍には、研削液供給ユニット(不図示)が設けられている。この研削液供給ユニットは、例えば、平面視において研削ホイール38の内側に位置する研削液ノズルと、この研削液ノズルに連通する研削液ポンプと、を含む。 In addition, a grinding fluid supply unit (not shown) is provided near the grinding wheel 38. This grinding fluid supply unit includes, for example, a grinding fluid nozzle located inside the grinding wheel 38 in a plan view, and a grinding fluid pump connected to this grinding fluid nozzle.
そして、スピンドル36を回転させた時の複数の研削砥石38bのそれぞれの研削面の軌跡の直下にチャックテーブル24の保持面の中心を位置付けるように旋回機構を動作させてから研削液ポンプを動作させると、チャックテーブル24に向けて研削液ノズルから研削液(例えば、水)が供給される。 Then, by operating the rotation mechanism so that the center of the holding surface of the chuck table 24 is positioned directly below the trajectory of each grinding surface of the multiple grinding wheels 38b when the spindle 36 is rotated, and then operating the grinding fluid pump, grinding fluid (e.g., water) is supplied from the grinding fluid nozzle toward the chuck table 24.
研削部22における被加工物11の研削は、例えば、以下の順序で行われる。まず、その一面が露出されるように被加工物11をチャックテーブル24に置いてから、吸引源32aを動作させるとともにバルブ30aを開状態とする。 The grinding of the workpiece 11 in the grinding unit 22 is performed, for example, in the following order: First, the workpiece 11 is placed on the chuck table 24 so that one side is exposed, then the suction source 32a is activated and the valve 30a is opened.
これにより、チャックテーブル24の枠体26の底壁26aに形成されている流路26cが負圧となって、ポーラス板28を介して被加工物11に吸引力が作用する。その結果、チャックテーブル24の保持面に沿うように、具体的には、その他面が円錐の側面に相当する形状になるように被加工物11が弾性変形した状態で被加工物11がチャックテーブル24において保持される。 This creates a negative pressure in the flow path 26c formed in the bottom wall 26a of the frame 26 of the chuck table 24, and a suction force acts on the workpiece 11 via the porous plate 28. As a result, the workpiece 11 is held on the chuck table 24 in a state where it elastically deforms so that it conforms to the holding surface of the chuck table 24, specifically, so that the other surface assumes a shape equivalent to the side of a cone.
次いで、スピンドル36を回転させた時の複数の研削砥石38bのそれぞれの研削面の軌跡の直下にチャックテーブル24の保持面の中心を位置付けるように旋回機構を動作させる。次いで、チャックテーブル24の保持面のうち当該軌跡と重なる箇所が上下方向と概ね直交するようにチャックテーブル24の傾きを調整する。 Then, the rotation mechanism is operated so that the center of the holding surface of the chuck table 24 is positioned directly below the trajectory of each grinding surface of the multiple grinding wheels 38b when the spindle 36 is rotated. Next, the tilt of the chuck table 24 is adjusted so that the portion of the holding surface of the chuck table 24 that overlaps with the trajectory is roughly perpendicular to the vertical direction.
次いで、チャックテーブル24及びスピンドル36の双方を回転させるとともに研削液ノズルからチャックテーブル24に向けて研削液を供給しながら、スピンドル36を下降させる。これにより、被加工物11の一面と複数の研削砥石38bのそれぞれの研削面との接触界面(加工点)に研削液が供給された状態で被加工物11の一面側が複数の研削砥石38bによって研削される。そして、この研削は、被加工物11が所定の厚さになるまで継続される。 Next, both the chuck table 24 and spindle 36 are rotated, and the spindle 36 is lowered while grinding fluid is supplied from the grinding fluid nozzle toward the chuck table 24. As a result, one side of the workpiece 11 is ground by the multiple grinding wheels 38b, with grinding fluid being supplied to the contact interface (processing point) between one side of the workpiece 11 and the grinding surfaces of each of the multiple grinding wheels 38b. This grinding continues until the workpiece 11 reaches the specified thickness.
被加工物11が所定の厚さになれば、被加工物11の一面から複数の研削砥石38bを離隔させるようにスピンドル36を上昇させるとともに、チャックテーブル24及びスピンドル36の双方の回転を停止させる。次いで、吸引源32aの動作を停止させるとともにバルブ30aを閉状態としてから、気体供給源32bを動作させるとともにバルブ30bを開状態とする。 When the workpiece 11 reaches the specified thickness, the spindle 36 is raised to separate the multiple grinding wheels 38b from one side of the workpiece 11, and the rotation of both the chuck table 24 and the spindle 36 is stopped. Next, the operation of the suction source 32a is stopped and the valve 30a is closed, after which the gas supply source 32b is operated and the valve 30b is opened.
これにより、チャックテーブル24の枠体26の底壁26aに形成されている流路26cが常圧に戻って、被加工物11に作用していた吸引力が消滅する。その結果、被加工物11がチャックテーブル24において保持されることなく単に置かれた状態となる。以上によって、研削部22における被加工物11の一面側の研削が完了する。 As a result, the flow path 26c formed in the bottom wall 26a of the frame 26 of the chuck table 24 returns to normal pressure, and the suction force acting on the workpiece 11 disappears. As a result, the workpiece 11 is no longer held by the chuck table 24 but simply placed there. This completes grinding one side of the workpiece 11 in the grinding section 22.
その一面側が研削された被加工物11は、研削部22から洗浄部40に搬送されて洗浄される(図2参照)。この洗浄部40には、被加工物11の保持及びその周方向に沿った回転が可能なスピンナテーブル40aと、このスピンナテーブル40aにおいて保持されている被加工物11を洗浄するための洗浄ユニット40bと、が設けられている。 The workpiece 11, one side of which has been ground, is transported from the grinding section 22 to the cleaning section 40 for cleaning (see Figure 2). This cleaning section 40 is equipped with a spinner table 40a that can hold the workpiece 11 and rotate it circumferentially, and a cleaning unit 40b that cleans the workpiece 11 held on this spinner table 40a.
この洗浄ユニット40bは、例えば、洗浄液ノズルと、この洗浄液ノズルに連通する洗浄液ポンプと、平面視においてスピンナテーブル40aと重なる位置と重ならない位置との間で洗浄液ノズルを揺動させることが可能な揺動機構と、を含む。そして、平面視においてスピンナテーブル40aと重なる位置に洗浄液ノズルを位置付けるように揺動機構を動作させてから洗浄液ポンプを動作させると、スピンナテーブル40aに向けて洗浄液ノズルから洗浄液(例えば、水)が供給される。 This cleaning unit 40b includes, for example, a cleaning liquid nozzle, a cleaning liquid pump connected to the cleaning liquid nozzle, and a swing mechanism that can swing the cleaning liquid nozzle between a position where it overlaps with the spinner table 40a in a plan view and a position where it does not overlap with the spinner table 40a. When the swing mechanism is operated to position the cleaning liquid nozzle at a position where it overlaps with the spinner table 40a in a plan view and then the cleaning liquid pump is operated, cleaning liquid (e.g., water) is supplied from the cleaning liquid nozzle toward the spinner table 40a.
洗浄部40においては、例えば、その一面が露出されるように被加工物11をスピンナテーブル40aにおいて保持してから、洗浄液ノズルからスピンナテーブル40aに向けて洗浄液を供給するとともにスピンナテーブル40aを回転させる。これにより、被加工物11の一面側が洗浄される。 In the cleaning section 40, for example, the workpiece 11 is held on the spinner table 40a so that one side of the workpiece 11 is exposed, and then cleaning liquid is supplied from a cleaning liquid nozzle toward the spinner table 40a while the spinner table 40a is rotated. This cleans one side of the workpiece 11.
その一面側が洗浄された被加工物11は、搬送ユニット8によって洗浄部40から検査部42に搬送されて検査される、具体的には、被加工物11が正常に研削されたか否か(例えば、被加工物11が研削に伴って破損していないか否か)の確認が行われる。 The workpiece 11, one side of which has been cleaned, is transported by the transport unit 8 from the cleaning section 40 to the inspection section 42 where it is inspected. Specifically, it is checked whether the workpiece 11 has been ground properly (for example, whether the workpiece 11 has been damaged during grinding).
図6は、検査部42を模式的に示す斜視図である。この検査部42には、研削装置2の筐体から引き出し可能な態様でインスペクションテーブル(支持テーブル)44が設けられている。このインスペクションテーブル44は、その上面が円錐の側面に対応するような形状ではなく概ね平坦である点を除いて研削部22に設けられているチャックテーブル24と同様の構造を有する。 Figure 6 is a perspective view showing the inspection unit 42. This inspection unit 42 is provided with an inspection table (support table) 44 that can be pulled out from the housing of the grinding device 2. This inspection table 44 has a structure similar to that of the chuck table 24 provided in the grinding unit 22, except that its upper surface is generally flat rather than shaped to correspond to the side of a cone.
すなわち、インスペクションテーブル44は、円盤状の底壁と底壁の外周部から立設されている円筒状の側壁とを有する枠体44aと、この枠体44aの上面側に形成されている凹部に固定されているポーラス板44bと、を有する。また、枠体44aの底壁には、凹部の底面において開口し、かつ、底壁を貫通する流路が形成されている。 That is, the inspection table 44 has a frame 44a having a disk-shaped bottom wall and cylindrical side walls extending from the outer periphery of the bottom wall, and a porous plate 44b fixed to a recess formed on the upper surface of the frame 44a. Furthermore, a flow path is formed in the bottom wall of the frame 44a, which opens at the bottom surface of the recess and penetrates the bottom wall.
そして、この流路は、バルブ(不図示)を介して吸引源(不図示)に連通し、かつ、別のバルブ(不図示)を介して気体供給源(不図示)に連通する。なお、枠体44aの底壁に形成されている流路と連通可能な吸引源及び気体供給源は、例えば、上記の吸引源32a及び気体供給源32bと同じ構造を有する。 This flow path is connected to a suction source (not shown) via a valve (not shown) and to a gas supply source (not shown) via another valve (not shown). The suction source and gas supply source that can communicate with the flow path formed in the bottom wall of frame 44a have the same structure as, for example, suction source 32a and gas supply source 32b described above.
インスペクションテーブル44の上方には、異物除去ユニット46が設けられている。この異物除去ユニット46は、例えば、インスペクションテーブル44及びインスペクションテーブル44において保持されている被加工物11に付着している異物に加えて、ロボットハンド10及びロボットハンド10の表面側において保持されている被加工物11に付着している異物を除去する際に利用される。 A foreign matter removal unit 46 is provided above the inspection table 44. This foreign matter removal unit 46 is used, for example, to remove foreign matter adhering to the inspection table 44 and the workpiece 11 held on the inspection table 44, as well as foreign matter adhering to the robot hand 10 and the workpiece 11 held on the surface side of the robot hand 10.
この異物除去ユニット46は、平板状の天板48aと角筒状の側板48bとを含むカバー48を有する。また、側板48bの前端部には左右方向に沿って側板48bを貫通する貫通孔が形成されており、この貫通孔にはパイプノズル(送風部)50が挿入されている。 This foreign matter removal unit 46 has a cover 48 that includes a flat top plate 48a and a rectangular cylindrical side plate 48b. A through-hole that penetrates the side plate 48b in the left-right direction is formed at the front end of the side plate 48b, and a pipe nozzle (air blower) 50 is inserted into this through-hole.
このパイプノズル50は、ホース(不図示)等を介して、例えば、上記の気体供給源32bと同様の構造を有する気体供給源に連通している。そして、パイプノズル50の下部後側には左右方向に沿って並ぶように複数の噴射口が形成されており、気体供給源を動作させると複数の噴射口から後斜め下方に向かって気体が吹き付けられる。 This pipe nozzle 50 is connected via a hose (not shown) or the like to a gas supply source having a structure similar to the gas supply source 32b described above. The lower rear side of the pipe nozzle 50 has multiple nozzles aligned in the left-right direction, and when the gas supply source is operated, gas is sprayed diagonally downward and rearward from the multiple nozzles.
また、パイプノズル50の後方には、吸引部52が設けられている。具体的には、天板48aの中央後部には上下方向に沿って天板48aを貫通する貫通孔が形成されており、この貫通孔と連通するように吸引部52が設けられている。 Furthermore, a suction unit 52 is provided behind the pipe nozzle 50. Specifically, a through-hole that passes through the top plate 48a in the vertical direction is formed in the central rear portion of the top plate 48a, and the suction unit 52 is provided so as to communicate with this through-hole.
この吸引部52は、その下端部が天板48aの中央後部に連結されているダクトホース52aと、ダクトホース52aの上端部に連結されているファン52bと、を有する。そして、ファン52bを動作させると、カバー48の内側及びその下方に存在する気体がダクトホース52aを通って上に向かうように吸引される。 This suction unit 52 has a duct hose 52a, the lower end of which is connected to the rear center of the top plate 48a, and a fan 52b, which is connected to the upper end of the duct hose 52a. When the fan 52b is operated, gas present inside and below the cover 48 is sucked upward through the duct hose 52a.
さらに、異物除去ユニット46(具体的には、カバー48)は、前後方向移動機構(不図示)及び上下方向移動機構に連結されている。これらの移動機構のそれぞれは、例えば、モータ及びボールねじ等を含む。そして、前後方向移動機構を動作させると異物除去ユニット46が前後方向に沿って移動し、また、上下方向移動機構を動作させると異物除去ユニット46が上下方向に沿って移動する。 Furthermore, the foreign object removal unit 46 (specifically, the cover 48) is connected to a front-to-rear movement mechanism (not shown) and a vertical movement mechanism. Each of these movement mechanisms includes, for example, a motor and a ball screw. When the front-to-rear movement mechanism is operated, the foreign object removal unit 46 moves in the front-to-rear direction, and when the vertical movement mechanism is operated, the foreign object removal unit 46 moves in the vertical direction.
検査部42における被加工物11が正常に研削されたか否かの検査は、例えば、以下の順序で行われる。まず、インスペクションテーブル44の後端の前斜め上にパイプノズル50が位置するとともに上下方向における間隔が所定の距離(例えば、1cm)未満になるまで両者を接近させるように前後方向移動機構及び/又は上下方向移動機構を動作させる。 The inspection unit 42 inspects whether the workpiece 11 has been ground properly, for example, in the following order: First, the pipe nozzle 50 is positioned diagonally above and in front of the rear end of the inspection table 44, and the forward/backward movement mechanism and/or the vertical movement mechanism is operated to bring the two closer together until the vertical distance between them is less than a predetermined distance (for example, 1 cm).
次いで、異物除去ユニット46を利用してインスペクションテーブル44に付着している異物を除去する。具体的には、ホース等を介してパイプノズル50と連通している気体供給源とファン52bとのそれぞれを動作させながら、異物除去ユニット46を徐々に前に移動させるように前後方向移動機構を動作させる。 Next, the foreign matter removal unit 46 is used to remove foreign matter adhering to the inspection table 44. Specifically, while the gas supply source and fan 52b, which are connected to the pipe nozzle 50 via a hose or the like, are both operating, the forward/backward movement mechanism is operated to gradually move the foreign matter removal unit 46 forward.
これにより、インスペクションテーブル44の上面(保持面)の後端近傍の領域から前端近傍の領域までに向けて順番に前斜め上から気体が吹き付けられるとともに各領域に衝突した気体が上に向けて吸引される。この時、インスペクションテーブル44に付着している異物も気体とともに上に向けて吸引される。その結果、インスペクションテーブル44に付着している異物が除去される。 As a result, gas is sprayed from an upper front diagonal position toward the area near the rear end of the upper surface (holding surface) of the inspection table 44, from the area near the front end, and the gas that hits each area is sucked upward. At this time, any foreign matter adhering to the inspection table 44 is also sucked upward along with the gas. As a result, any foreign matter adhering to the inspection table 44 is removed.
なお、異物除去ユニット46を利用してインスペクションテーブル44に付着している異物を除去する際には、インスペクションテーブル44の枠体44aの底壁に形成されている流路と連通する気体供給源を動作させてもよい。この場合、ポーラス板44bに詰まった異物が除去されやすくなる。 When using the foreign matter removal unit 46 to remove foreign matter adhering to the inspection table 44, a gas supply source communicating with a flow path formed in the bottom wall of the frame 44a of the inspection table 44 may be operated. In this case, foreign matter stuck in the porous plate 44b can be more easily removed.
次いで、搬送ユニット8によって被加工物11をインスペクションテーブル44に搬入する。具体的には、まず、ロボットハンド10の表面側において被加工物11の一面側を保持したまま、被加工物11の他面とインスペクションテーブル44の保持面とを接触させるように移動機構12を動作させる。 Then, the workpiece 11 is carried onto the inspection table 44 by the transport unit 8. Specifically, first, while holding one side of the workpiece 11 on the front side of the robot hand 10, the movement mechanism 12 is operated so that the other side of the workpiece 11 comes into contact with the holding surface of the inspection table 44.
次いで、ロボットハンド10の表面から被加工物11が分離されるように、吸引源の動作を停止させてから複数の吸引穴と連通する気体供給源を動作させる。これにより、インスペクションテーブル44への被加工物11の搬入が完了する。 Next, the suction source is stopped and the gas supply source connected to the multiple suction holes is activated so that the workpiece 11 is separated from the surface of the robot hand 10. This completes the transfer of the workpiece 11 onto the inspection table 44.
次いで、その一面が露出された状態で被加工物11をインスペクションテーブル44において保持されるように、インスペクションテーブル44の枠体44aの底壁に形成されている流路と連通する吸引源を動作させる。 Next, the suction source communicating with the flow path formed in the bottom wall of the frame 44a of the inspection table 44 is operated so that the workpiece 11 is held on the inspection table 44 with one side exposed.
次いで、異物除去ユニット46を利用して被加工物11に付着している異物を除去する。なお、被加工物11に付着した異物は、インスペクションテーブル44に付着した異物と同様の手順で除去されるため、その詳細な説明については割愛する。 Next, the foreign matter adhering to the workpiece 11 is removed using the foreign matter removal unit 46. Note that foreign matter adhering to the workpiece 11 is removed using the same procedure as foreign matter adhering to the inspection table 44, so a detailed explanation of this procedure will be omitted.
次いで、インスペクションテーブル44を、例えば、オペレータが研削装置2の筐体から引き出す。次いで、インスペクションテーブル44において保持されている被加工物11をオペレータが目視することによって被加工物11が正常に研削されたか否かを確認する。 Next, the operator, for example, pulls out the inspection table 44 from the housing of the grinding device 2. The operator then visually inspects the workpiece 11 held on the inspection table 44 to confirm whether the workpiece 11 has been ground properly.
被加工物11が正常に研削されたか否かが確認されれば、インスペクションテーブル44を、例えば、オペレータが研削装置2の筐体の内側に押し込む。そして、インスペクションテーブル44の枠体44aの底壁に形成されている流路と連通する吸引源の動作を停止させてから、この流路と連通する気体供給源を動作させる。 Once it has been confirmed that the workpiece 11 has been ground properly, the operator, for example, pushes the inspection table 44 into the inside of the housing of the grinding device 2. Then, the operation of the suction source connected to the flow path formed in the bottom wall of the frame 44a of the inspection table 44 is stopped, and the gas supply source connected to this flow path is then operated.
これにより、インスペクションテーブル44の枠体44aの底壁に形成されている流路が常圧に戻って、被加工物11に作用していた吸引力が消滅する。その結果、被加工物11がインスペクションテーブル44において保持されることなく単に置かれた状態となる。以上によって、検査部42における被加工物11が正常に研削されたか否かの検査が完了する。 As a result, the flow path formed in the bottom wall of the frame 44a of the inspection table 44 returns to normal pressure, and the suction force acting on the workpiece 11 disappears. As a result, the workpiece 11 is no longer held by the inspection table 44 but simply placed there. This completes the inspection by the inspection unit 42 to determine whether the workpiece 11 has been ground properly.
図7は、研削装置2における被加工物11の研削方法の一例を模式的に示すフローチャートである。なお、以下では、この方法に含まれる各ステップの具体的な内容のうち上述した内容と重複するものの説明については適宜割愛し、各ステップの動作の要点のみを説明する。 Figure 7 is a flowchart showing a schematic example of a method for grinding a workpiece 11 using the grinding device 2. Below, we will omit explanations of the specific steps included in this method that overlap with those described above, and will only explain the main points of the operation of each step.
この方法においては、まず、ロボットハンド10に付着した異物を除去する(除去ステップS1)。この除去ステップS1においては、まず、ロボットハンド10の表面が上を向くように移動機構12(具体的には、第2駆動部18のスピンドル18bの基端に連結されているモータ)を動作させる。 In this method, first, foreign matter adhering to the robot hand 10 is removed (removal step S1). In this removal step S1, first, the movement mechanism 12 (specifically, the motor connected to the base end of the spindle 18b of the second drive unit 18) is operated so that the surface of the robot hand 10 faces upward.
次いで、ロボットハンド10の後端(例えば、ロボットハンド10の一対の腕部10bの先端)の前斜め上にパイプノズル50が位置するとともに上下方向における間隔が所定の距離(例えば、1cm)未満になるまで両者を接近させるように、第1駆動部14のケース14aに連結されている水平方向移動機構と移動機構12(具体的には、第1駆動部14のアクチュエータ及びアーム16)とのそれぞれを動作させる。 Next, the horizontal movement mechanism connected to the case 14a of the first drive unit 14 and the movement mechanism 12 (specifically, the actuator and arm 16 of the first drive unit 14) are operated so that the pipe nozzle 50 is positioned diagonally above and in front of the rear end of the robot hand 10 (e.g., the tips of the pair of arms 10b of the robot hand 10) and the two are brought closer together until the vertical distance between them is less than a predetermined distance (e.g., 1 cm).
次いで、ホース等を介してパイプノズル50と連通している気体供給源とファン52bとのそれぞれを動作させながらロボットハンド10を徐々に後に移動させるように、第1駆動部14のケース14aに連結されている水平方向移動機構と移動機構12(具体的には、アーム16)とのそれぞれを動作させる。 Next, while operating the gas supply source and fan 52b, which are connected to the pipe nozzle 50 via a hose or the like, the horizontal movement mechanism connected to the case 14a of the first drive unit 14 and the movement mechanism 12 (specifically, the arm 16) are operated to gradually move the robot hand 10 backward.
これにより、ロボットハンド10の後端近傍の領域から前端近傍の領域(例えば、ロボットハンド10の基端部10a)までに向けて順番に前斜め上から気体が吹き付けられるとともに各領域に衝突した気体が上に向けて吸引される。この時、ロボットハンド10の表面に付着している異物も気体とともに上に向けて吸引される。その結果、ロボットハンド10の表面に付着している異物が除去される。 As a result, gas is sprayed from an upper front diagonal direction from the area near the rear end of the robot hand 10 to the area near the front end (for example, the base end 10a of the robot hand 10), and the gas that hits each area is sucked upward. At this time, any foreign matter adhering to the surface of the robot hand 10 is also sucked upward along with the gas. As a result, the foreign matter adhering to the surface of the robot hand 10 is removed.
さらに、除去ステップS1においては、ロボットハンド10の表面のみならず背面に付着した異物が除去されてもよい。なお、ロボットハンド10の背面に付着した異物は、その表面に付着した異物と同様の手順で除去されるため、その詳細な説明については割愛する。 Furthermore, in the removal step S1, foreign matter adhering to not only the front surface but also the back surface of the robot hand 10 may be removed. Note that foreign matter adhering to the back surface of the robot hand 10 is removed using the same procedure as foreign matter adhering to the front surface, so a detailed explanation of this procedure will be omitted.
除去ステップS1の後には、カセット6から位置調整部20に被加工物11を搬送する(搬送ステップS2)。図8は、搬送ステップS2の具体的な内容を模式的に示すフローチャートである。この搬送ステップS2においては、まず、カセット6に収容されている被加工物11の一面側をロボットハンド10の表面側において保持してからロボットハンド10を移動させることによって被加工物11をカセット6から搬出する(搬出ステップS21)。 After removal step S1, the workpiece 11 is transported from the cassette 6 to the position adjustment unit 20 (transport step S2). Figure 8 is a flowchart that schematically illustrates the specific details of transport step S2. In this transport step S2, first, one side of the workpiece 11 stored in the cassette 6 is held on the front side of the robot hand 10, and then the robot hand 10 is moved to transport the workpiece 11 out of the cassette 6 (transport step S21).
搬出ステップS21の後には、異物除去ユニット46を利用してロボットハンド10の表面側において保持されている被加工物11に付着している異物を除去する(除去ステップS22)。この除去ステップS22においては、まず、被加工物11の他面が上を向くように、すなわち、ロボットハンド10の上に被加工物11が位置付けられるように移動機構12(具体的には、第2駆動部18のスピンドル18bの基端に連結されているモータ)を動作させる。 After the carry-out step S21, the foreign matter removal unit 46 is used to remove foreign matter adhering to the workpiece 11 held on the front side of the robot hand 10 (removal step S22). In this removal step S22, first, the movement mechanism 12 (specifically, the motor connected to the base end of the spindle 18b of the second drive unit 18) is operated so that the other side of the workpiece 11 faces upward, i.e., so that the workpiece 11 is positioned above the robot hand 10.
次いで、被加工物11の後端の前斜め上にパイプノズル50が位置するとともに上下方向における間隔が所定の距離(例えば、1cm)未満になるまで両者を接近させるように、第1駆動部14のケース14aに連結されている水平方向移動機構と移動機構12(具体的には、第1駆動部14のアクチュエータ及びアーム16)とのそれぞれを動作させる。 Next, the horizontal movement mechanism connected to the case 14a of the first drive unit 14 and the movement mechanism 12 (specifically, the actuator and arm 16 of the first drive unit 14) are operated so that the pipe nozzle 50 is positioned diagonally above and in front of the rear end of the workpiece 11 and the two approach each other until the vertical distance between them is less than a predetermined distance (e.g., 1 cm).
次いで、ホース等を介してパイプノズル50と連通している気体供給源とファン52bとのそれぞれを動作させながら被加工物11を徐々に後に移動させるように、第1駆動部14のケース14aに連結されている水平方向移動機構と移動機構12(具体的には、アーム16)とのそれぞれを動作させる。 Next, the gas supply source and fan 52b, which are connected to the pipe nozzle 50 via a hose or the like, are operated, while the horizontal movement mechanism connected to the case 14a of the first drive unit 14 and the movement mechanism 12 (specifically, the arm 16) are operated to gradually move the workpiece 11 backward.
これにより、被加工物11の他面の後端近傍の領域から前端近傍の領域までに向けて順番に前斜め上から気体が吹き付けられるとともに各領域に衝突した気体が上に向けて吸引される。この時、被加工物11の他面に付着している異物も気体とともに上に向けて吸引される。その結果、被加工物11の他面に付着している異物が除去される。 As a result, gas is sprayed from an upper front diagonal direction toward the area near the rear end of the other surface of the workpiece 11, in order from the area near the front end to the area near the front end, and the gas that hits each area is sucked upward. At this time, any foreign matter adhering to the other surface of the workpiece 11 is also sucked upward along with the gas. As a result, the foreign matter adhering to the other surface of the workpiece 11 is removed.
さらに、除去ステップS22においては、被加工物11の他面のみならず一面(具体的には、一面のうちロボットハンド10と重なっていない領域)に付着した異物が除去されてもよい。なお、被加工物11の一面に付着した異物は、その他面に付着した異物と同様の手順で除去されるため、その詳細な説明については割愛する。 Furthermore, in the removal step S22, foreign matter adhering to one surface of the workpiece 11 (specifically, the area of one surface that does not overlap with the robot hand 10) as well as the other surface may be removed. Note that foreign matter adhering to one surface of the workpiece 11 is removed using the same procedure as foreign matter adhering to the other surface, and therefore a detailed description thereof will be omitted.
除去ステップS22の後には、一面が露出された状態で被加工物11が支持されるように被加工物11をポジショニングテーブル20aに搬入する(搬入ステップS23)。この搬入ステップS23においては、まず、被加工物11の他面が下を向くように、すなわち、ロボットハンド10の下に被加工物11が位置付けられるように移動機構12(具体的には、第2駆動部18のスピンドル18bの基端に連結されているモータ)を動作させる。 After the removal step S22, the workpiece 11 is loaded onto the positioning table 20a so that one side of the workpiece 11 is exposed (loading step S23). In this loading step S23, the movement mechanism 12 (specifically, the motor connected to the base end of the spindle 18b of the second drive unit 18) is first operated so that the other side of the workpiece 11 faces downward, i.e., so that the workpiece 11 is positioned below the robot hand 10.
次いで、ポジショニングテーブル20aの上面と被加工物11の他面とを接触させるように第1駆動部14のケース14aに連結されている水平方向移動機構と移動機構12(具体的には、第1駆動部14のアクチュエータ及びアーム16)とのそれぞれを動作させる。次いで、ロボットハンド10の表面から被加工物11が分離されるように、吸引源の動作を停止させ、かつ、複数の吸引穴と連通する気体供給源を動作させる。これにより、搬送ステップS2が完了する。 Next, the horizontal movement mechanism connected to the case 14a of the first drive unit 14 and the movement mechanism 12 (specifically, the actuator and arm 16 of the first drive unit 14) are operated so that the top surface of the positioning table 20a comes into contact with the other surface of the workpiece 11. Next, the operation of the suction source is stopped and the gas supply source connected to the multiple suction holes is operated so that the workpiece 11 is separated from the surface of the robot hand 10. This completes the transfer step S2.
搬送ステップS2の後には、位置調整部20において被加工物11の位置を調整する(調整ステップS3)。この調整ステップS3においては、例えば、平面視においてポジショニングテーブル20aの径方向内側にポジショニングテーブル20aの周囲に配置されている複数のピンを移動させて被加工物11に接触させる。 After the transport step S2, the position of the workpiece 11 is adjusted in the position adjustment unit 20 (adjustment step S3). In this adjustment step S3, for example, multiple pins arranged around the positioning table 20a are moved radially inward of the positioning table 20a in a plan view so as to come into contact with the workpiece 11.
調整ステップS3の後には、一面が露出された状態で被加工物11をチャックテーブル24において保持する(保持ステップS4)。この保持ステップS4においては、一面が露出されるように被加工物11をチャックテーブル24に置いてから、吸引源32aを動作させるとともにバルブ30aを開状態とする。 After adjustment step S3, the workpiece 11 is held on the chuck table 24 with one surface exposed (holding step S4). In this holding step S4, the workpiece 11 is placed on the chuck table 24 so that one surface is exposed, and then the suction source 32a is operated and the valve 30a is opened.
保持ステップS4の後には、研削ユニット34を利用してチャックテーブル24において保持されている被加工物11の一面側を研削する(研削ステップS5)。この研削ステップS5においては、チャックテーブル24及びスピンドル36の双方を回転させるとともに研削液ノズルからチャックテーブル24に向けて研削液を供給しながら、被加工物11の一面に複数の研削砥石38bを接触させた状態でスピンドル36を下降させる。 After holding step S4, the grinding unit 34 is used to grind one surface of the workpiece 11 held on the chuck table 24 (grinding step S5). In this grinding step S5, both the chuck table 24 and the spindle 36 are rotated, and grinding fluid is supplied from the grinding fluid nozzle toward the chuck table 24. The spindle 36 is lowered with multiple grinding wheels 38b in contact with one surface of the workpiece 11.
研削ステップS5の後には、洗浄部40において被加工物11の一面側を洗浄する(洗浄ステップS6)。この洗浄ステップS6においては、例えば、一面が露出されるように被加工物11をスピンナテーブル40aにおいて保持してから、洗浄液ノズルからスピンナテーブル40aに向けて洗浄液を供給するとともにスピンナテーブル40aを回転させる。 After grinding step S5, one side of the workpiece 11 is cleaned in the cleaning section 40 (cleaning step S6). In this cleaning step S6, for example, the workpiece 11 is held on the spinner table 40a so that one side is exposed, and then cleaning liquid is supplied from a cleaning liquid nozzle toward the spinner table 40a while the spinner table 40a is rotated.
洗浄ステップS6の後には、一面が露出された状態で被加工物11をインスペクションテーブル44において保持する(保持ステップS7)。この保持ステップS7においては、一面が露出されるように被加工物11をインスペクションテーブル44に置いてから、インスペクションテーブル44の枠体44aの底壁に形成されている流路と連通する吸引源を動作させる。 After cleaning step S6, the workpiece 11 is held on the inspection table 44 with one surface exposed (holding step S7). In this holding step S7, the workpiece 11 is placed on the inspection table 44 so that one surface is exposed, and then a suction source communicating with a flow path formed in the bottom wall of the frame 44a of the inspection table 44 is activated.
保持ステップS7の後には、被加工物11の研削が正常に行われたか否かを検査する(検査ステップS8)。この検査ステップS8においては、例えば、インスペクションテーブル44をオペレータが研削装置2の筐体から引き出してから、インスペクションテーブル44において保持されている被加工物11をオペレータが目視する。 After holding step S7, it is inspected whether grinding of the workpiece 11 was performed normally (inspection step S8). In this inspection step S8, for example, the operator pulls out the inspection table 44 from the housing of the grinding device 2 and then visually inspects the workpiece 11 held on the inspection table 44.
検査ステップS8の後には、検査部42からカセット6に被加工物11を搬送する(搬送ステップS9)。この搬送ステップS9においては、被加工物11の一面側をロボットハンド10の表面側において保持してからロボットハンド10を移動させることによって被加工物11を検査部42からカセット6に搬送する。 After inspection step S8, the workpiece 11 is transported from the inspection unit 42 to the cassette 6 (transport step S9). In this transport step S9, one side of the workpiece 11 is held on the front side of the robot hand 10, and then the robot hand 10 is moved to transport the workpiece 11 from the inspection unit 42 to the cassette 6.
研削装置2においては、インスペクションテーブル44の上方に設けられている異物除去ユニット46を利用して、除去ステップS1において被加工物11を保持していない状態の搬送ユニット8のロボットハンド10に付着している異物を除去し、かつ、除去ステップS22においてロボットハンド10の表面側において保持されている被加工物11に付着している異物を除去することができる。 In the grinding device 2, the foreign matter removal unit 46 provided above the inspection table 44 can be used to remove foreign matter adhering to the robot hand 10 of the transport unit 8 when it is not holding a workpiece 11 in removal step S1, and to remove foreign matter adhering to the workpiece 11 held on the surface side of the robot hand 10 in removal step S22.
そのため、研削装置2においては、保持ステップS7において被加工物11に付着した異物を介して被加工物11を保持することに起因して被加工物11が破損する蓋然性を低減することが可能である。 Therefore, in the grinding device 2, it is possible to reduce the likelihood of the workpiece 11 being damaged due to holding the workpiece 11 via foreign matter adhering to the workpiece 11 in the holding step S7.
なお、上述した内容は本発明の一態様であって、本発明は上述した内容に限定されない。例えば、本発明の加工装置は、被加工物11を保持した状態で被加工物11を加工するためのものであればどのようなものでもよい。すなわち、本発明の加工装置は、研削装置に限定されず、例えば、切削装置又はレーザー加工装置等であってもよい。 Note that the above is one aspect of the present invention, and the present invention is not limited to the above. For example, the processing device of the present invention may be any device that processes the workpiece 11 while holding it. In other words, the processing device of the present invention is not limited to a grinding device, and may be, for example, a cutting device or a laser processing device.
また、本発明の加工装置は、ロボットハンド10に換えて、その両面(表面及び背面)側のいずれでも被加工物11を保持可能なロボットハンドを有する搬送ユニット8を備えてもよい。この場合、ロボットハンド10から被加工物11に異物が付着する蓋然性を低減することができる点で好ましい。 In addition, the processing apparatus of the present invention may be equipped with a transport unit 8 having a robot hand capable of holding the workpiece 11 on either side (front and back) of the robot hand 10. In this case, it is preferable because it reduces the likelihood of foreign matter adhering to the workpiece 11 from the robot hand 10.
具体的には、この場合、ロボットハンドの表面側においてのみ未研削の被加工物11を保持し、その背面側においてのみ研削済の被加工物11を保持することができる。すなわち、この場合、仮に研削済の被加工物11からロボットハンドの背面に異物が付着したとしても、この背面側において未研削の被加工物11が搬送されることはない。そのため、この場合には、ロボットハンド10から被加工物11に異物が付着する蓋然性を低減することができる。 Specifically, in this case, the unground workpiece 11 can be held only on the front side of the robot hand, and the ground workpiece 11 can be held only on the back side. In other words, in this case, even if foreign matter adheres to the back side of the robot hand from the ground workpiece 11, the unground workpiece 11 will not be transported on this back side. Therefore, in this case, the likelihood of foreign matter adhering to the workpiece 11 from the robot hand 10 can be reduced.
他方、その両面側のいずれでも被加工物11を保持可能なロボットハンドは、ロボットハンド10と比較して厚くなりやすい。そして、ロボットハンドが厚くなると、被加工物11をカセット6から搬出し、また、カセット6に搬入する際に既にカセット6に収容されている被加工物11とロボットハンドが接触して被加工物11が破損する蓋然性が高くなる。 On the other hand, a robot hand capable of holding the workpiece 11 on either side tends to be thicker than the robot hand 10. Furthermore, when the robot hand is thicker, there is a higher probability that the robot hand will come into contact with the workpiece 11 already contained in the cassette 6 when the workpiece 11 is being removed from or loaded into the cassette 6, resulting in damage to the workpiece 11.
そのため、ロボットハンド10は、その両面側のいずれでも被加工物11を保持可能なロボットハンドと比較して、被加工物11を破損させることなく被加工物11をカセット6から搬出し、また、カセット6に搬入することが可能である点で好ましい。 Therefore, compared to robot hands that can hold the workpiece 11 on either side, the robot hand 10 is advantageous in that it can transport the workpiece 11 out of and into the cassette 6 without damaging the workpiece 11.
また、本発明の加工装置は、ロボットハンド10に換えて、被加工物11の外周部を把持可能な把持機構を保持部として有する搬送ユニット8を備えてもよい。なお、この把持機構は、平面視において概ね等しい角度の間隔で設けられている3つ以上の把持部材を含む。 In addition, the processing device of the present invention may be equipped with a transport unit 8 that has, instead of the robot hand 10, a gripping mechanism capable of gripping the outer periphery of the workpiece 11 as a holding unit. This gripping mechanism includes three or more gripping members that are spaced at approximately equal angular intervals in a plan view.
そして、このような搬送ユニット8においては、各把持部材で被加工物11の外周部を把持することによって被加工物11が保持される。この場合、異物除去ユニット46を利用して把持機構によって保持されている被加工物11の両面(一面及び他面)の概ね全域に付着している異物を除去できるようになる点で好ましい。 In this type of transport unit 8, the workpiece 11 is held by gripping the outer periphery of the workpiece 11 with each gripping member. In this case, it is preferable to use the foreign matter removal unit 46 in order to remove foreign matter adhering to almost the entire surface of both sides (one side and the other side) of the workpiece 11 held by the gripping mechanism.
他方、このような把持機構によって被加工物11を保持する場合には、例えば、被加工物11の上下を反転させる際に被加工物11が落下しやすくなる。そして、被加工物11が落下すると、この被加工物11が破損するおそれがあるとともに研削装置2における処理を全て停止させて落下した被加工物11を回収する必要がある。 On the other hand, when the workpiece 11 is held by such a gripping mechanism, the workpiece 11 is more likely to fall when, for example, the workpiece 11 is turned upside down. If the workpiece 11 falls, there is a risk that the workpiece 11 will be damaged, and it will be necessary to stop all processing in the grinding device 2 and recover the fallen workpiece 11.
そのため、ロボットハンド10は、このような把持機構と比較して、被加工物11が破損する蓋然性を低減するとともに研削装置2におけるスループットを向上させることが可能である点で好ましい。 Therefore, compared to such gripping mechanisms, the robot hand 10 is preferable in that it reduces the likelihood of damage to the workpiece 11 and can improve the throughput of the grinding device 2.
また、本発明の加工装置は、位置調整部20及び/又は洗浄部40を備えなくてもよい。この場合、被加工物11のチャックテーブル24への搬入及び/又はチャックテーブル24からの搬出は、搬送ユニット8を利用して実施されてもよい。 Furthermore, the processing apparatus of the present invention may not be equipped with the position adjustment unit 20 and/or the cleaning unit 40. In this case, the workpiece 11 may be loaded onto and/or unloaded from the chuck table 24 using the transport unit 8.
また、本発明の加工装置は、インスペクションテーブル44に換えて、被加工物11を保持することなく単に支持するためのインスペクションテーブルが設けられている検査部42を備えてもよい。この場合、検査部42の構造が簡素化され、その製造コストが小さくなる点で好ましい。 In addition, the processing device of the present invention may be provided with an inspection unit 42 that is provided with an inspection table that simply supports the workpiece 11 without holding it, instead of the inspection table 44. In this case, the structure of the inspection unit 42 is simplified, which is preferable in that it reduces manufacturing costs.
他方、被加工物11が単に支持された状態でインスペクションテーブルが研削装置2の筐体から引き出されると、被加工物11がインスペクションテーブルから落下しやすくなる。そして、被加工物11が落下すると、この被加工物11が破損するおそれがあるとともに研削装置2における処理を全て停止させて落下した被加工物11を回収する必要がある。 On the other hand, if the inspection table is pulled out from the housing of the grinding device 2 while the workpiece 11 is simply supported, the workpiece 11 is likely to fall from the inspection table. If the workpiece 11 falls, there is a risk that the workpiece 11 will be damaged, and it will be necessary to stop all processing in the grinding device 2 and recover the fallen workpiece 11.
そのため、インスペクションテーブル44は、被加工物11を保持することなく単に支持するためのインスペクションテーブルと比較して、被加工物11が破損する蓋然性を低減するとともに研削装置2におけるスループットを向上させることが可能である点で好ましい。 Therefore, compared to an inspection table that simply supports the workpiece 11 without holding it, the inspection table 44 is preferable in that it reduces the likelihood of damage to the workpiece 11 and can improve throughput in the grinding device 2.
また、本発明の加工装置は、パイプノズル(送風部)50並びにダクトホース52a及びファン52b(吸引部52)に換えて又は加えて、ブロータイプのイオナイザ(除電部)が異物除去ユニットとして設けられている検査部42を備えてもよい。このイオナイザは、例えば、カバー48の内側に設けられ、かつ、イオンを含む気体を下に向かって吹き付けることが可能である。 The processing apparatus of the present invention may also include an inspection section 42 in which a blower-type ionizer (static eliminator) is provided as a foreign matter removal unit, instead of or in addition to the pipe nozzle (blower) 50 and duct hose 52a and fan 52b (suction section 52). This ionizer is provided, for example, inside the cover 48, and is capable of blowing ion-containing gas downward.
また、本発明の被加工物の加工方法は、チャックテーブル24において被加工物11の保持に先立って、被加工物11を保持していない状態のロボットハンド10又はロボットハンド10の表面側において保持されている被加工物11の少なくとも一方に付着している異物を除去するものであればどのようなものでもよい。 Furthermore, the workpiece processing method of the present invention may be any method that removes foreign matter adhering to at least one of the robot hand 10 when not holding the workpiece 11 or the workpiece 11 held on the surface side of the robot hand 10 prior to holding the workpiece 11 on the chuck table 24.
例えば、本発明の被加工物の加工方法は、除去ステップS22を含む搬送ステップS2の前に除去ステップS1を備えない点を除いて図7及び図8に記載の各ステップを備える被加工物の加工方法であってもよい。あるいは、本発明の被加工物の加工方法は、除去ステップS22を備えない点を除いて図7及び図8に記載の各ステップを備える被加工物の加工方法であってもよい。 For example, the workpiece processing method of the present invention may be a workpiece processing method that includes the steps described in Figures 7 and 8, except that it does not include removal step S1 before conveying step S2, which includes removal step S22. Alternatively, the workpiece processing method of the present invention may be a workpiece processing method that includes the steps described in Figures 7 and 8, except that it does not include removal step S22.
また、本発明の被加工物の加工方法においては、搬送ステップS2の前に毎回除去ステップS1が実施されてもよいし、搬送ステップS2が所定の回数(例えば、カセット6に収容される1ロット分の被加工物11に対応する数(例えば、25回))実施される毎に除去ステップS1が実施されてもよい。 Furthermore, in the workpiece processing method of the present invention, the removal step S1 may be performed every time before the transport step S2, or the removal step S1 may be performed every time the transport step S2 is performed a predetermined number of times (for example, the number of times corresponding to one lot of workpieces 11 contained in the cassette 6 (for example, 25 times)).
また、本発明の被加工物の加工方法においては、洗浄ステップS6と保持ステップS7との間に、ロボットハンド10の表面側において保持されている被加工物11に付着している異物が異物除去ユニット46を利用して除去されてもよい。 Furthermore, in the workpiece processing method of the present invention, between the cleaning step S6 and the holding step S7, foreign matter adhering to the workpiece 11 held on the surface side of the robot hand 10 may be removed using the foreign matter removal unit 46.
その他、上述した実施形態にかかる構造及び方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures and methods of the above-described embodiments may be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.
2 :研削装置
4 :カセットテーブル(4a:上面)
6 :カセット(6a:天板、6b,6c:側板、6d:溝、6e:接続部材)
8 :搬送ユニット
10 :ロボットハンド(保持部)
(10a:基端部、10b:腕部)
11 :被加工物
12 :移動機構
13 :ウェーハ(13a:表面、13b:裏面)
14 :第1駆動部(14a:ケース)
15 :デバイス
16 :アーム(16a:第1腕部、16b:第2腕部、16c:第2関節部)
18 :第2駆動部(18a:ケース、18b:スピンドル)
20 :位置調整部(20a:ポジショニングテーブル、20b:位置調整機構)
22 :研削部
24 :チャックテーブル(保持テーブル)
26 :枠体(26a:底壁、26b:側壁、26c:流路)
28 :ポーラス板
30a,30b:バルブ
32a:吸引源
32b:気体供給源
34 :研削ユニット(加工ユニット)
36 :スピンドル(36a:マウント)
38 :研削ホイール(38a:基台、38b:研削砥石)
40 :洗浄部(40a:スピンナテーブル、40b:洗浄ユニット)
42 :検査部
44 :インスペクションテーブル(支持テーブル)
(44a:枠体、44b:ポーラス板)
46 :異物除去ユニット
48 :カバー(48a:天板、48b:側板)
50 :パイプノズル(送風部)
52 :吸引部(52a:ダクトホース、52b:ファン)
2: Grinding device 4: Cassette table (4a: upper surface)
6: Cassette (6a: top plate, 6b, 6c: side plates, 6d: groove, 6e: connecting member)
8: Transport unit 10: Robot hand (holding part)
(10a: proximal end, 10b: arm)
11: Workpiece 12: Moving mechanism 13: Wafer (13a: front surface, 13b: back surface)
14: First drive unit (14a: case)
15: Device 16: Arm (16a: First arm, 16b: Second arm, 16c: Second joint)
18: Second drive unit (18a: case, 18b: spindle)
20: Position adjustment unit (20a: positioning table, 20b: position adjustment mechanism)
22: Grinding unit 24: Chuck table (holding table)
26: Frame (26a: bottom wall, 26b: side wall, 26c: flow path)
28: Porous plate 30a, 30b: Valve 32a: Suction source 32b: Gas supply source 34: Grinding unit (processing unit)
36: Spindle (36a: Mount)
38: Grinding wheel (38a: base, 38b: grinding stone)
40: Cleaning section (40a: spinner table, 40b: cleaning unit)
42: Inspection unit 44: Inspection table (support table)
(44a: frame, 44b: porous plate)
46: Foreign substance removal unit 48: Cover (48a: top plate, 48b: side plate)
50: Pipe nozzle (blower)
52: Suction unit (52a: duct hose, 52b: fan)
Claims (10)
該被加工物の該一面が露出された状態で該被加工物を保持するための保持テーブルと、
該保持テーブルにおいて保持されている該被加工物の該一面側を加工するための加工ユニットと、
該加工ユニットによって該一面側が加工された該被加工物の該一面が露出された状態で該被加工物を支持するための支持テーブルと、
該支持テーブルにおいて支持されている該被加工物を保持するための保持部と、該被加工物を保持する該保持部を移動させるための移動機構と、を含む搬送ユニットと、
該支持テーブルの上方に設けられ、かつ、該被加工物を保持していない状態の該保持部又は該保持部によって保持されている該被加工物の少なくとも一方に付着している異物を除去するための異物除去ユニットと、
を備える加工装置。 A processing device for processing one surface of a workpiece including one surface and another surface located opposite to the one surface,
a holding table for holding the workpiece with the one surface of the workpiece exposed;
a processing unit for processing the one surface side of the workpiece held on the holding table;
a support table for supporting the workpiece in a state in which the one surface of the workpiece processed by the processing unit is exposed;
a conveying unit including a holder for holding the workpiece supported on the support table, and a moving mechanism for moving the holder holding the workpiece;
a foreign matter removal unit provided above the support table for removing foreign matter adhering to at least one of the holder when not holding the workpiece and the workpiece held by the holder;
A processing device comprising:
後斜め下に向かって気体を吹き付けるための送風部と、
該送風部の後方に設けられ、かつ、該気体を吸引するための吸引部と、を有する請求項1乃至3のいずれかに記載の加工装置。 The foreign matter removal unit comprises:
a blower for blowing gas diagonally downward toward the rear;
4. The processing apparatus according to claim 1, further comprising a suction section provided behind the blower section for sucking the gas.
カセットに収容されている該被加工物を搬送ユニットの保持部によって保持してから該保持部を移動させることによって該被加工物を該カセットから搬送する第1搬送ステップと、
該第1搬送ステップの後に、該一面が露出された状態で該被加工物を保持テーブルにおいて保持する保持ステップと、
該保持ステップの後に、該保持テーブルにおいて保持されている該被加工物の該一面側を加工する加工ステップと、
該加工ステップの後に、該一面側が加工された該被加工物の該一面が露出された状態で該被加工物を支持テーブルにおいて支持する支持ステップと、
該支持ステップの後に、該支持テーブルにおいて支持されている該被加工物を該保持部によって保持してから該保持部を移動させることによって該被加工物を該カセットに搬送する第2搬送ステップと、
該第1搬送ステップの前に該支持テーブルの上方に設けられている異物除去ユニットを利用して該保持部に付着している異物を除去し、かつ/又は、該第1搬送ステップの最中に該異物除去ユニットを利用して該保持部によって保持されている該被加工物に付着している異物を除去する除去ステップと、
を備える被加工物の加工方法。 A method for processing a workpiece, the method comprising: processing one surface of a workpiece including one surface and another surface located opposite to the one surface;
a first conveying step of holding the workpiece accommodated in a cassette by a holding portion of a conveying unit and then conveying the workpiece from the cassette by moving the holding portion;
a holding step of holding the workpiece on a holding table with the one surface exposed after the first conveying step;
a processing step of processing the one surface side of the workpiece held on the holding table after the holding step;
a supporting step of supporting the workpiece on a support table in a state where the one surface of the workpiece whose one surface has been processed is exposed after the processing step;
a second conveying step of, after the supporting step, holding the workpiece supported on the support table by the holding unit and then moving the holding unit to convey the workpiece to the cassette;
a removal step of removing foreign matter adhering to the holder using a foreign matter removal unit provided above the support table before the first transport step, and/or removing foreign matter adhering to the workpiece held by the holder using the foreign matter removal unit during the first transport step;
A method for processing a workpiece, comprising:
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