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JP2021126735A - Cutting equipment and cutting method - Google Patents

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JP2021126735A
JP2021126735A JP2020023127A JP2020023127A JP2021126735A JP 2021126735 A JP2021126735 A JP 2021126735A JP 2020023127 A JP2020023127 A JP 2020023127A JP 2020023127 A JP2020023127 A JP 2020023127A JP 2021126735 A JP2021126735 A JP 2021126735A
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芳昌 小嶋
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Abstract

【課題】 保持テーブルの保持面において新規な構成を採用することで、多孔質材にて構成される保持テーブルにおいて生じる課題を解決する。【解決手段】 切削予定ライン13を有した被加工物(ウェーハ10)を切削する切削装置2であって、被加工物を吸引保持するための吸引溝77が形成された保持面74cを有する保持部材74を備え、被加工物を吸引保持しつつ加工送り方向Kに移動させる保持テーブル27と、保持テーブル27で保持された被加工物を切削する切削ブレードB1を有する切削ユニット46と、を備え、吸引溝77は、加工送り方向Kから所定の角度θずれた方向に伸びるように設定される、こととする。【選択図】図8[Problem] By adopting a new configuration for the holding surface of the holding table, problems that arise with holding tables made of porous material are solved. [Solution] A cutting device 2 for cutting a workpiece (wafer 10) having a planned cutting line 13, comprising a holding member 74 having a holding surface 74c in which suction grooves 77 for suction-holding the workpiece are formed, a holding table 27 that moves the workpiece in a processing feed direction K while suction-holding it, and a cutting unit 46 having a cutting blade B1 that cuts the workpiece held by the holding table 27, the suction grooves 77 being set to extend in a direction shifted by a predetermined angle θ from the processing feed direction K. [Selected Figure] Figure 8

Description

本発明は、切削予定ラインを有した被加工物を切削ブレードで切削する切削装置、及び、切削方法に関する。 The present invention relates to a cutting apparatus and a cutting method for cutting a workpiece having a scheduled cutting line with a cutting blade.

従来、例えば特許文献1に開示されるように、アルミナセラミクスやジルコニアを主成分とするポーラスセラミックス等の多孔質材にて保持テーブルを構成し、この保持テーブルの保持面にて被加工物を吸引保持する切削装置が知られている。 Conventionally, as disclosed in Patent Document 1, for example, a holding table is constructed of a porous material such as alumina ceramics or porous ceramics containing zirconia as a main component, and a work piece is sucked by the holding surface of the holding table. Cutting devices that hold are known.

切削加工がされる際には、被加工物の下面は保持面によって支持され、切削ブレードを被加工物に切り込ませることにより、切削溝が形成される。 When cutting is performed, the lower surface of the work piece is supported by the holding surface, and a cutting groove is formed by cutting the cutting blade into the work piece.

特開2008−62476号Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-62476

多孔質材にて構成される保持テーブルの保持面には、微小な凹部分と凸部分が存在することになる。そして、凹部分では被加工物の被保持面(下面)が支持されないこととなる。 The holding surface of the holding table made of the porous material has minute concave portions and convex portions. Then, the surface to be held (lower surface) of the work piece is not supported by the recessed portion.

以上のような状態で切削ブレードにより被加工物を厚み方向で完全に切断するフルカットを実施すると、凹部分に対応する領域において、被加工物の被保持面に欠けが大きく発生してしまうことが懸念される。 If a full cut is performed in which the workpiece is completely cut in the thickness direction with the cutting blade in the above state, a large chip is generated on the surface to be held of the workpiece in the region corresponding to the concave portion. Is a concern.

また、切削ブレードにより被加工物に対し所定の深さで切り込んでハーフカット溝を形成するハーフカットを実施する場合でも、凹部分に対応する領域において、ハーフカット溝の底からクラックが生じることが懸念される。 Further, even when half-cutting is performed by cutting a work piece to a predetermined depth with a cutting blade to form a half-cut groove, cracks may occur from the bottom of the half-cut groove in the region corresponding to the concave portion. I am concerned.

また、多孔質材で構成される保持テーブルでは、凹部分がランダムに出現することになり、被加工物における欠けやクラックの発生箇所もランダムになり、予測もできないこととなる。 Further, in the holding table made of the porous material, the concave portions appear randomly, and the places where chips and cracks occur in the workpiece are also random, which is unpredictable.

本発明の目的は、保持テーブルの保持面において新規な構成を採用することで、多孔質材にて構成される保持テーブルにおいて生じる上記課題を解決することを目的とするものである。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems that occur in a holding table made of a porous material by adopting a new structure in the holding surface of the holding table.

本発明の一態様によれば、
切削予定ラインを有した被加工物を切削する切削装置であって、
被加工物を吸引保持するための吸引溝が形成された保持面を有する保持部材を備えた保持テーブルと、
該保持テーブルで保持された該被加工物を切削する切削ブレードを有する切削ユニットと、
該保持テーブルを該切削ユニットに対して加工送り方向に相対移動させる加工送り機構と、
を備え、
該吸引溝は、該加工送り方向から所定の角度ずれた方向に伸びるように設定される、
切削装置とする。
According to one aspect of the invention
A cutting device that cuts a work piece that has a planned cutting line.
A holding table provided with a holding member having a holding surface formed with a suction groove for sucking and holding the workpiece, and a holding table.
A cutting unit having a cutting blade for cutting the workpiece held by the holding table, and
A machining feed mechanism that moves the holding table relative to the cutting unit in the machining feed direction,
With
The suction groove is set so as to extend in a direction deviated from the machining feed direction by a predetermined angle.
Use as a cutting device.

また、本発明の一態様によれば、
該吸引溝は、少なくとも互いに直交する2つの吸引溝を含んで構成される、こととする。
Further, according to one aspect of the present invention.
It is assumed that the suction groove includes at least two suction grooves orthogonal to each other.

また、本発明の一態様によれば、
該保持部材はガラスからなり、
該保持部材を介して被加工物の被保持面を撮像する撮像カメラを更に備える、こととする。
Further, according to one aspect of the present invention.
The holding member is made of glass
An image pickup camera that captures an image of the surface to be held of the work piece via the holding member is further provided.

また、本発明の一態様によれば、
切削予定ラインを有した被加工物を切削ブレードで切削する切削方法であって、
被加工物を吸引保持するための吸引溝が形成された保持面を有する保持部材を備える保持テーブルで被加工物を保持する保持ステップと、
該保持テーブルを加工送り方向に該切削ブレードに対して相対移動させ、該被加工物の該切削予定ラインを該切削ブレードで切削する切削ステップと、を有し、
該吸引溝は、該加工送り方向から所定の角度ずれた方向に伸びるように設定される、
切削方法とする。
Further, according to one aspect of the present invention.
A cutting method in which a workpiece having a planned cutting line is cut with a cutting blade.
A holding step of holding the work piece on a holding table provided with a holding member having a holding surface formed with a suction groove for sucking and holding the work piece.
It has a cutting step in which the holding table is moved relative to the cutting blade in the machining feed direction, and the scheduled cutting line of the workpiece is cut by the cutting blade.
The suction groove is set so as to extend in a direction deviated from the machining feed direction by a predetermined angle.
Use the cutting method.

また、本発明の一態様によれば、
該吸引溝は、少なくとも互いに直交する2つの吸引溝を含んで構成される、こととする。
Further, according to one aspect of the present invention.
It is assumed that the suction groove includes at least two suction grooves orthogonal to each other.

また、本発明の一態様によれば、
該保持部材は、ガラスからなり、
該保持ステップを実施した後、該保持部材を介して被加工物の被保持面を撮像カメラで撮像する撮像ステップを更に備える、こととする。
Further, according to one aspect of the present invention.
The holding member is made of glass.
After performing the holding step, an imaging step of imaging the surface to be held of the workpiece via the holding member with an imaging camera is further provided.

本発明の一態様によれば、平坦な保持面を有する保持部材により被加工物を保持することができ、凹部分と凸部分がランダムに存在する多孔質材で保持部材を構成する場合と比較して、欠けやクラックの発生を低減し、加工品質の向上を図ることができる。また、切削予定ラインと吸引溝が非平行となるため、両者が重なる領域を少なく抑えることができ、被加工物において加工品質の悪化の発生を抑制することができる。 According to one aspect of the present invention, the work piece can be held by a holding member having a flat holding surface, as compared with the case where the holding member is made of a porous material in which concave portions and convex portions are randomly present. As a result, the occurrence of chips and cracks can be reduced, and the processing quality can be improved. Further, since the planned cutting line and the suction groove are not parallel to each other, it is possible to reduce the area where the two overlap, and it is possible to suppress the occurrence of deterioration of the processing quality in the workpiece.

また、本発明の一態様によれば、吸引溝により広範囲で確実に被加工物を吸引保持することが可能となる。 Further, according to one aspect of the present invention, the suction groove makes it possible to reliably and surely suck and hold the workpiece in a wide range.

また、本発明の一態様によれば、下側から被加工物を撮像し、切削予定ラインの検出をすることができ、例えば、被加工物であるウェーハに形成されるデバイスを下側にしてテープで保護した状態で加工するアプリケーションにおいて、好適に実施することができる。 Further, according to one aspect of the present invention, the work piece can be imaged from the lower side to detect the planned cutting line. For example, the device formed on the wafer, which is the work piece, is on the lower side. It can be preferably carried out in an application in which processing is performed while being protected by tape.

本発明の実施に使用される切削装置の一実施形態の斜視図である。It is a perspective view of one Embodiment of the cutting apparatus used for carrying out this invention. 支持ボックス及び保持テーブル部分の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of a support box and a holding table part. (A)は支持ボックス上に搭載された保持テーブルの斜視図である。(B)は下方撮像機構及びその支持構造の斜視図である。(A) is a perspective view of the holding table mounted on the support box. (B) is a perspective view of the lower imaging mechanism and its support structure. 保持テーブルの断面形状等について示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional shape of a holding table and the like. (A)は、下方撮像機構の構成について示す側面概要図である。(B)は、プリズム本体の別実施形態について示す図である。(A) is a side schematic view which shows the structure of the lower image pickup mechanism. FIG. (B) is a diagram showing another embodiment of the prism main body. 下方撮像機構の構成について示す正面概要図である。It is a front schematic diagram which shows the structure of the lower image pickup mechanism. (A)は被加工物の一例であるウェーハの表面を表す図である。(B)は被加工物の一例であるウェーハの裏面を表す図である。(A) is a figure showing the surface of a wafer which is an example of a work piece. (B) is a figure showing the back surface of a wafer which is an example of a work piece. (A)は保持部材に形成される吸引溝について説明する図である。(B)はウェーハの切削予定ラインと吸引溝の角度のずれについて説明する図である。(A) is a figure explaining the suction groove formed in the holding member. (B) is a figure explaining the deviation of the angle between the planned cutting line of the wafer and the suction groove. 保持テーブルと下方撮像機構の位置関係について説明する図である。It is a figure explaining the positional relationship between the holding table and the lower image pickup mechanism. 被加工物を下側から撮像カメラで撮像することについて説明する図である。It is a figure explaining that the work piece is imaged with an image pickup camera from the lower side. 切削ステップについて説明する図である。It is a figure explaining the cutting step. 溝確認ステップと撮像画像の例について示す図である。It is a figure which shows the groove confirmation step and the example of the captured image. 上方撮像機構の一実施例について説明する図である。It is a figure explaining one Example of the upper imaging mechanism.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る切削装置2について示す斜視図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a cutting device 2 according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、切削装置2の基台4には、保持テーブル27が移動機構23(図3(A))によりX軸方向に往復動可能に配設されている。保持テーブル27の周囲にはウォーターカバー14が配設されており、このウォーターカバー14と基台4にわたり蛇腹16が連結されている。 As shown in FIG. 1, a holding table 27 is arranged on the base 4 of the cutting device 2 so as to be reciprocating in the X-axis direction by a moving mechanism 23 (FIG. 3A). A water cover 14 is arranged around the holding table 27, and the bellows 16 is connected to the water cover 14 and the base 4.

図1に示すように、基台4の前側角部には、後述する被加工物を収容するカセット20を載置するためのカセット載置台21が設けられる。 As shown in FIG. 1, a cassette mounting table 21 for mounting a cassette 20 for accommodating a work piece to be described later is provided at a front corner portion of the base 4.

カセット20内にはウェーハユニット8(図7(B))が複数枚収容され、搬送ユニット40によってカセット20から一対のガイドレール71上へと搬入される。また、加工の終わったウェーハユニット8は、搬送ユニット40によって一対のガイドレール71上からカセット20へと搬出される。 A plurality of wafer units 8 (FIG. 7 (B)) are housed in the cassette 20, and are carried from the cassette 20 onto a pair of guide rails 71 by the transport unit 40. Further, the processed wafer unit 8 is carried out from the pair of guide rails 71 to the cassette 20 by the transfer unit 40.

一対のガイドレール71は、保持テーブル27の上方に配置され、ウェーハユニット8を一時的に仮置するための仮置領域18を構成する。 The pair of guide rails 71 are arranged above the holding table 27 and form a temporary placement area 18 for temporarily placing the wafer unit 8.

図1に示すように、搬送ユニット40は、X軸方向、及び、Z軸方向に移動する略L字状の第一アーム41の下部に設けた水平部41aに備えられる。 As shown in FIG. 1, the transport unit 40 is provided in a horizontal portion 41a provided under the substantially L-shaped first arm 41 that moves in the X-axis direction and the Z-axis direction.

第一アーム41の水平部41aには、ガイドレール71と保持テーブル27の間でウェーハユニット8を移動させるための第一搬送手段47が構成される。この第一搬送手段47は、X軸方向に伸びる二本のアーム部47aと、アーム部47aの両端に設ける吸着部47bと、を有して構成される。吸着部47bによって、ウェーハユニット8(図7(B))のフレームFが吸着保持される。 The horizontal portion 41a of the first arm 41 is configured with a first transport means 47 for moving the wafer unit 8 between the guide rail 71 and the holding table 27. The first transport means 47 includes two arm portions 47a extending in the X-axis direction and suction portions 47b provided at both ends of the arm portions 47a. The suction unit 47b sucks and holds the frame F of the wafer unit 8 (FIG. 7B).

図1に示すように、基台4上には門型形状のコラム24が立設されており、コラム24にはY軸方向に伸長する一対のガイドレール26が固定されている。ガイドレール26には、Y軸移動ブロック28が移動可能に設けられており、ボールねじ30とパルスモータ32とからなるY軸移動機構34によって、Y軸移動ブロック28がガイドレール26に案内されてY軸方向に移動する。 As shown in FIG. 1, a gate-shaped column 24 is erected on the base 4, and a pair of guide rails 26 extending in the Y-axis direction are fixed to the column 24. A Y-axis moving block 28 is movably provided on the guide rail 26, and the Y-axis moving block 28 is guided to the guide rail 26 by a Y-axis moving mechanism 34 including a ball screw 30 and a pulse motor 32. Move in the Y-axis direction.

図1に示すように、Y軸移動ブロック28にはZ軸方向に伸長する一対のガイドレール36が固定されている。ガイドレール36に対しZ軸移動ブロック38が移動可能に設けられており、ボールねじ40とパルスモータ42とからなるZ軸移動機構44によって、Z軸移動ブロック38がガイドレール36に案内されてZ軸方向に移動する。 As shown in FIG. 1, a pair of guide rails 36 extending in the Z-axis direction are fixed to the Y-axis moving block 28. The Z-axis moving block 38 is movably provided with respect to the guide rail 36, and the Z-axis moving block 38 is guided by the guide rail 36 by the Z-axis moving mechanism 44 including the ball screw 40 and the pulse motor 42 to Z. Move in the axial direction.

図1に示すように、Z軸移動ブロック38には切削ユニット46及び上方撮像機構52が取付けられている。切削ユニット46は、図11に示すように、図示せぬモータにより回転駆動されるスピンドル48の先端部に切削ブレードB1を着脱可能に装着して構成されている。 As shown in FIG. 1, a cutting unit 46 and an upper imaging mechanism 52 are attached to the Z-axis moving block 38. As shown in FIG. 11, the cutting unit 46 is configured by detachably mounting a cutting blade B1 on the tip of a spindle 48 that is rotationally driven by a motor (not shown).

図1に示すように、基台4上には、スピンナーテーブル56を有するスピンナー洗浄ユニット54が設けられており、切削加工後の被加工物をスピンナーテーブル56で吸引保持してスピンナー洗浄するとともに、スピン乾燥できるようになっている。 As shown in FIG. 1, a spinner cleaning unit 54 having a spinner table 56 is provided on the base 4, and the work piece after cutting is sucked and held by the spinner table 56 to perform spinner cleaning. It can be spin-dried.

図1に示すように、第一搬送手段47の側方には、保持テーブル27とスピンナー洗浄ユニット54との間でウェーハユニットを移動させる第二搬送手段50が設けられる。 As shown in FIG. 1, a second transfer means 50 for moving the wafer unit between the holding table 27 and the spinner cleaning unit 54 is provided on the side of the first transfer means 47.

図1に示すように、切削装置2はコントローラ80を備え、各種の駆動部の動作制御が行われる。また、タッチパネル等からなる表示モニター60が設けられ、後述する撮像画像等の各種情報が表示される。 As shown in FIG. 1, the cutting device 2 includes a controller 80, and operation control of various drive units is performed. Further, a display monitor 60 made of a touch panel or the like is provided, and various information such as a captured image described later is displayed.

図2は、保持テーブル27の構成について説明する図である。
保持テーブル27は環状ベース62と、円盤状の保持部材74とを有する。環状ベース62は、嵌合部64と、嵌合部64より大径のベルト巻回部66と、嵌合部64軸方向に貫通する貫通部65と、貫通部65を塞ぐ透明部材68と、を有する。
FIG. 2 is a diagram illustrating the configuration of the holding table 27.
The holding table 27 has an annular base 62 and a disk-shaped holding member 74. The annular base 62 includes a fitting portion 64, a belt winding portion 66 having a diameter larger than that of the fitting portion 64, a penetrating portion 65 penetrating in the axial direction of the fitting portion 64, and a transparent member 68 closing the penetrating portion 65. Has.

図2に示すように、環状ベース62の上面には、円盤状の保持部材74の枠部74bを載置して固定するための被装着領域70が設けられる。 As shown in FIG. 2, on the upper surface of the annular base 62, a mounting area 70 for mounting and fixing the frame portion 74b of the disk-shaped holding member 74 is provided.

図2に示すように、保持部材74は、円盤状の保持部74aと、その周囲を取り囲む枠部74bを有して構成される。保持部74aは、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、サファイア、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム等の透明部材にて構成されている。なお、透明部材の「透明」とは、「可視光の少なくとも一部の波長の光を透過し、吸収、散乱しない」ことをいうものであり、後述する外周凸部検出ステップや、分割予定ライン検出ステップの実行を可能とするものであればよく、着色されたものであってもよい。また、保持部材74の一部の必要な範囲にのみ透明領域を構成することとしてもよい。以上のようにして、保持部材74の保持部74aにて、保持テーブル27に透明領域が構成される。 As shown in FIG. 2, the holding member 74 includes a disk-shaped holding portion 74a and a frame portion 74b that surrounds the holding portion 74a. The holding portion 74a is made of a transparent member such as quartz glass, borosilicate glass, sapphire, calcium fluoride, lithium fluoride, and magnesium fluoride. The "transparency" of the transparent member means "transmitting, absorbing, and not scattering light having at least a part of the wavelength of visible light", and the outer peripheral convex portion detection step described later and the planned division line. It may be colored as long as it enables the execution of the detection step. Further, the transparent region may be formed only in a necessary range of a part of the holding member 74. As described above, the holding portion 74a of the holding member 74 forms a transparent region on the holding table 27.

図4に示すように、保持部74aの上面は、ウェーハWを保持する保持面74cを形成する。保持面74cにおいて、保持部74aの外周縁に近い箇所には、環状の吸引溝76が同心状に複数設けられており(本実施例では3列)、この吸引溝76にテープTが吸着保持される。吸引溝76は、保持部材74が環状ベース62に取付けられた状態で吸引源89に接続される。 As shown in FIG. 4, the upper surface of the holding portion 74a forms a holding surface 74c for holding the wafer W. A plurality of annular suction grooves 76 are concentrically provided on the holding surface 74c near the outer peripheral edge of the holding portion 74a (three rows in this embodiment), and the tape T is sucked and held in the suction grooves 76. Will be done. The suction groove 76 is connected to the suction source 89 with the holding member 74 attached to the annular base 62.

図8(A)(B)に示すように、吸引溝76は、ウェーハ10を保持した状態で、ウェーハ10よりも外周側に形成される。 As shown in FIGS. 8A and 8B, the suction groove 76 is formed on the outer peripheral side of the wafer 10 while holding the wafer 10.

図2、図8(A)に示すように、保持部材74の保持面74cには、直線状の吸引溝77が形成される。本実施例では、円盤形状の保持部材74の中心を通過し、互いに直交する二本の吸引溝77が形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 8A, a linear suction groove 77 is formed on the holding surface 74c of the holding member 74. In this embodiment, two suction grooves 77 that pass through the center of the disk-shaped holding member 74 and are orthogonal to each other are formed.

図8(A)に示すように、保持部材74の保持面74cは、仮想線で示されるウェーハ10よりも広く構成され、二本の吸引溝77の長さは、それぞれウェーハ10の直径以上の長さで構成される。吸引溝77はウェーハ10の外周側に位置する環状の吸引溝76に連通され、吸引源89に接続される。 As shown in FIG. 8A, the holding surface 74c of the holding member 74 is configured to be wider than the wafer 10 shown by the virtual line, and the lengths of the two suction grooves 77 are each equal to or larger than the diameter of the wafer 10. Consists of length. The suction groove 77 communicates with the annular suction groove 76 located on the outer peripheral side of the wafer 10 and is connected to the suction source 89.

図4にも示されるように、環状の吸引溝76同士は、保持部材74の半径方向に伸びる接続溝によって接続される。この接続溝は、例えば、吸引溝77を最も外周側にある吸引溝76まで延長させるようにして構成することができる。 As shown in FIG. 4, the annular suction grooves 76 are connected to each other by a connecting groove extending in the radial direction of the holding member 74. The connection groove can be configured, for example, by extending the suction groove 77 to the suction groove 76 on the outermost side.

なお、図8(A)に示すように、本実施例のように保持部材74の中心を通過して直交する二本の吸引溝77とすることによれば、被加工物であるウェーハの広範囲を均等に吸引保持できる点で好ましいが、溝の本数や配置場所については、特に限定されるものではない。 As shown in FIG. 8A, according to the two suction grooves 77 passing through the center of the holding member 74 and orthogonal to each other as in the present embodiment, a wide range of the wafer to be processed is provided. However, the number of grooves and the arrangement location are not particularly limited.

図2及び図4に示すように、環状ベース62の上面には、保持部材74の周囲を取り囲むように、ウェーハユニット8の環状フレームFを下側から支持するフレーム支持部72が4箇所に設けられる。 As shown in FIGS. 2 and 4, on the upper surface of the annular base 62, frame support portions 72 for supporting the annular frame F of the wafer unit 8 from below are provided at four locations so as to surround the periphery of the holding member 74. Be done.

図2及び図4に示すように、フレーム支持部72は、環状フレームFを支持する支持面を構成する支持ブロック72aと、環状フレームFの下側から吸着保持する吸着部72bと、を有し、吸着部72bは、吸引源89に接続される。 As shown in FIGS. 2 and 4, the frame support portion 72 has a support block 72a forming a support surface for supporting the annular frame F, and a suction portion 72b for suction and holding from the lower side of the annular frame F. , The suction unit 72b is connected to the suction source 89.

図2及び図4に示すように、保持テーブル27の環状ベース62には、保持部材74の保持部74aとほぼ同径の貫通部65が形成されており、貫通部65の下部が透明部材68(例えば、ガラス)にて閉鎖される。これにより、下側から順に、透明部材68、貫通部65、保持部材74の保持部74aが配置され、これらの部位において光が透過することで、詳しくは後述するように、保持テーブル27の下方からの撮像が可能となる。なお、透明部材68は省略することとしてもよい。 As shown in FIGS. 2 and 4, the annular base 62 of the holding table 27 is formed with a penetrating portion 65 having substantially the same diameter as the holding portion 74a of the holding member 74, and the lower portion of the penetrating portion 65 is a transparent member 68. Closed with (eg glass). As a result, the transparent member 68, the penetrating portion 65, and the holding portion 74a of the holding member 74 are arranged in this order from the lower side, and light is transmitted through these portions, so that the lower part of the holding table 27 will be described in detail later. Imaging from is possible. The transparent member 68 may be omitted.

図2に示すように、保持部材74を環状ベース62の被装着領域70上に搭載し、環状ベース62から下方に突設される環状の嵌合部64を支持ボックス15の円形開口15aに嵌合させることで、図3(A)に示すように保持テーブル27が支持ボックス15に回転可能に搭載された状態となる。 As shown in FIG. 2, the holding member 74 is mounted on the mounting area 70 of the annular base 62, and the annular fitting portion 64 projecting downward from the annular base 62 is fitted into the circular opening 15a of the support box 15. By combining them, the holding table 27 is rotatably mounted on the support box 15 as shown in FIG. 3 (A).

図3(A)に示すように、支持ボックス15の連結板15bにはモータ17が取り付けられており、モータ17の出力軸に連結されたプーリー17aと環状ベース62のベルト巻回部66に渡りベルト29が巻回される。モータ17を駆動すると、ベルト29を介して保持テーブル27が回転される。 As shown in FIG. 3A, a motor 17 is attached to the connecting plate 15b of the support box 15, and extends over the pulley 17a connected to the output shaft of the motor 17 and the belt winding portion 66 of the annular base 62. The belt 29 is wound. When the motor 17 is driven, the holding table 27 is rotated via the belt 29.

図3(A)に示すモータ17は、例えばパルスモータから構成され、アライメント遂行時にモータ17を所定パルスで駆動すると、保持テーブル27が所定量回転(θ回転)されて、図7(A)に示すウェーハ10の切削予定ライン(ストリート)13のアライメントを行うことができる。 The motor 17 shown in FIG. 3A is composed of, for example, a pulse motor, and when the motor 17 is driven by a predetermined pulse during alignment execution, the holding table 27 is rotated by a predetermined amount (θ rotation), and FIG. 7A shows. The scheduled cutting line (street) 13 of the wafer 10 shown can be aligned.

図3(A)に示すように、支持ボックス15は、X軸方向に固定的に延在する一対のガイドレール31にスライド可能に載置されており、移動機構23によりX軸方向に移動される。移動機構23は、ガイドレール31の間に平行に配置されるボールネジ23aと、パルスモータ23bを有して構成される。支持ボックス15(保持テーブル27)が移動するX軸方向は加工送り方向であり、図8(B)に示すように、この加工送り方向Kと、切削予定ライン13が平行とされた状態で切削加工が行われる。 As shown in FIG. 3A, the support box 15 is slidably mounted on a pair of guide rails 31 that extend fixedly in the X-axis direction, and is moved in the X-axis direction by the moving mechanism 23. NS. The moving mechanism 23 includes a ball screw 23a arranged in parallel between the guide rails 31 and a pulse motor 23b. The X-axis direction in which the support box 15 (holding table 27) moves is the machining feed direction, and as shown in FIG. 8 (B), cutting is performed in a state where the machining feed direction K and the scheduled cutting line 13 are parallel to each other. Processing is done.

図3(A)に示すように、ボールネジ23aは支持ボックス15の下板15eの下面に設けた雌ネジ部に螺合され、パルスモータ23bを駆動してボールネジ23aを回転させることで、支持ボックス15がX軸方向に移動する。 As shown in FIG. 3A, the ball screw 23a is screwed into the female screw portion provided on the lower surface of the lower plate 15e of the support box 15, and the pulse motor 23b is driven to rotate the ball screw 23a to rotate the support box. 15 moves in the X-axis direction.

図3(A)に示すように、支持ボックス15の近傍には、保持テーブル27に保持された半導体ウェーハ等の被加工物を保持部材74の下側から撮像する下方撮像機構82が設けられている。 As shown in FIG. 3A, a lower imaging mechanism 82 for imaging a workpiece such as a semiconductor wafer held on the holding table 27 from below the holding member 74 is provided in the vicinity of the support box 15. There is.

図9に示すように、支持ボックス15は、上板15c、下板15e、及び、連結板15bにて側面視において略コ字をなしており、連結板15bの反対側には、上板15cと下板15eの間の空間に下方撮像機構82の進入を可能とする開口部15gが形成される。 As shown in FIG. 9, in the support box 15, the upper plate 15c, the lower plate 15e, and the connecting plate 15b form a substantially U-shape in a side view, and the upper plate 15c is on the opposite side of the connecting plate 15b. An opening 15g is formed in the space between the lower plate 15e and the lower plate 15e to allow the lower imaging mechanism 82 to enter.

図3(A)(B)に示すように、下方撮像機構82は、Y軸移動ブロック83に立設されるコラム96に設けられる。Y軸移動ブロック83は、Y軸方向に固定的に延在する一対のガイドレール81にスライド可能に載置されており、駆動手段87によりY軸方向に移動される。駆動手段87は、ガイドレール81の間に平行に配置されるボールネジ85aと、パルスモータ87bを有して構成される。 As shown in FIGS. 3A and 3B, the lower imaging mechanism 82 is provided on the column 96 erected on the Y-axis moving block 83. The Y-axis moving block 83 is slidably mounted on a pair of guide rails 81 that extend fixedly in the Y-axis direction, and is moved in the Y-axis direction by the driving means 87. The drive means 87 includes a ball screw 85a arranged in parallel between the guide rails 81 and a pulse motor 87b.

図3(A)に示すように、ボールネジ85aはY軸移動ブロック83の下面に設けた雌ネジ部に螺合され、パルスモータ87bを駆動してボールネジ85aを回転させることで、Y軸移動ブロック83がY軸方向に移動する。 As shown in FIG. 3A, the ball screw 85a is screwed into the female screw portion provided on the lower surface of the Y-axis moving block 83, and the pulse motor 87b is driven to rotate the ball screw 85a to rotate the Y-axis moving block. 83 moves in the Y-axis direction.

図3(B)に示すように、下方撮像機構82は、プリズム機構Pと、撮像カメラCと、を有して構成される。 As shown in FIG. 3B, the lower imaging mechanism 82 includes a prism mechanism P and an imaging camera C.

図5(A)、及び、図6に示すように、プリズム機構Pは、プリズム本体90と、光源92と、プリズム本体90、及び、光源92を収容する筐体84と、を有して構成される。 As shown in FIGS. 5A and 6, the prism mechanism P includes a prism main body 90, a light source 92, a prism main body 90, and a housing 84 accommodating the light source 92. Will be done.

図5(A)に示すように、プリズム機構Pのプリズム本体90は、側面視において約45度の角度の傾斜をなす反射面90aを有するいわゆる直角プリズム(側面視直角三角形)にて構成される。 As shown in FIG. 5A, the prism body 90 of the prism mechanism P is composed of a so-called right-angled prism (side-viewing right-angled triangle) having a reflecting surface 90a that is inclined at an angle of about 45 degrees in a side view. ..

図5(A)に示すように、筐体84において、反射面90aに対して斜め45度上方の位置、即ち、プリズム本体90に対して上方となる位置には、第一通過口85aが形成されている。反射面90aは第一通過口85aを通じて保持テーブル27に対向する。 As shown in FIG. 5A, the first passage port 85a is formed in the housing 84 at a position diagonally 45 degrees above the reflecting surface 90a, that is, at a position above the prism body 90. Has been done. The reflective surface 90a faces the holding table 27 through the first passage port 85a.

図5(A)に示すように、筐体84において、反射面90aに対し斜め45度下方の位置、即ち、プリズム本体90に対して側方となる位置には、第二通過口85bが形成されている。 As shown in FIG. 5A, a second passage port 85b is formed in the housing 84 at a position diagonally 45 degrees below the reflection surface 90a, that is, at a position lateral to the prism body 90. Has been done.

以上のようにして、図5(A)に示すように、第一通過口85aから進入する光H1が、反射面90aで反射して90度屈折し、第二通過口85bから出射される。 As described above, as shown in FIG. 5A, the light H1 entering from the first passage port 85a is reflected by the reflection surface 90a, refracted by 90 degrees, and emitted from the second passage port 85b.

なお、図5(A)に示すプリズム本体90のように、反射面90aで光H1を直接反射させる他、図5(B)に示すプリズム本体90Aのように、プリズム本体90A内に光H1を透過させて反射面90bで光H1を屈折させることとしてもよい。この場合、光路長を長く形成することができ、各部品の干渉を避けるなどの設計が可能となる。 In addition to directly reflecting the light H1 on the reflecting surface 90a as in the prism body 90 shown in FIG. 5 (A), the light H1 is transmitted in the prism body 90A as in the prism body 90A shown in FIG. 5 (B). The light H1 may be refracted by the reflecting surface 90b by transmitting the light. In this case, the optical path length can be formed to be long, and it is possible to design such as avoiding interference of each component.

図5(A)及び図6に示すように、筐体84内には、例えばLEDからなる光源92が収容されており、筐体84の上面には、光源92の光を透過させるための光透過口86が形成されている。本実施例では、プリズム本体90を挟んで両側に3個づつ光源92が配置され、各光源92に対応する位置に光透過口86が形成される。 As shown in FIGS. 5A and 6, a light source 92 made of, for example, an LED is housed in the housing 84, and light for transmitting the light of the light source 92 is transmitted on the upper surface of the housing 84. A transmission port 86 is formed. In this embodiment, three light sources 92 are arranged on both sides of the prism body 90, and a light transmission port 86 is formed at a position corresponding to each light source 92.

図6に示すように、光源92から照射される光H2は、上方に配置される保持テーブル27に保持されたウェーハWの下面に向けて照射され、その反射した光H1がプリズム本体90に入射する。なお、光源92は、照射される光H2が撮像カメラC(図5(A))の焦点位置を照らすように傾斜して配置され、光H2の光軸が傾斜するように構成される。 As shown in FIG. 6, the light H2 emitted from the light source 92 is emitted toward the lower surface of the wafer W held by the holding table 27 arranged above, and the reflected light H1 is incident on the prism body 90. do. The light source 92 is arranged so that the emitted light H2 is inclined so as to illuminate the focal position of the image pickup camera C (FIG. 5 (A)), and the optical axis of the light H2 is inclined.

図5(A)に示すように、撮像カメラCは、鏡筒91と、鏡筒91の一端側に設けられる対物レンズ93と、鏡筒91の他端側に設けられる撮像素子95と、を有して構成される。 As shown in FIG. 5A, the image pickup camera C includes a lens barrel 91, an objective lens 93 provided on one end side of the lens barrel 91, and an image sensor 95 provided on the other end side of the lens barrel 91. Consists of having.

図5(A)に示すように、鏡筒91は、第二通過口88bに接続されるように設けられ、対物レンズ93がプリズム本体90の反射面90aに対向するように配置される。 As shown in FIG. 5A, the lens barrel 91 is provided so as to be connected to the second passage port 88b, and the objective lens 93 is arranged so as to face the reflection surface 90a of the prism body 90.

図5(A)に示すように、対物レンズ93を通過した光H1は撮像素子95にて受光され、図示せぬ画像処理装置により画像データ化される。 As shown in FIG. 5A, the light H1 that has passed through the objective lens 93 is received by the image sensor 95 and converted into image data by an image processing device (not shown).

図3(B)に示すように、下方撮像機構82を構成するプリズム機構Pや撮像カメラCは、支持プレート94により支持され、支持プレート94の基端部はZ軸移動ブロック98に固定されている。Y軸移動ブロック83(図3(A))に立設されるコラム96には、ボールねじ100及びパルスモータ102から構成されるZ軸移動手段104が設けられ、Z軸移動ブロック98が一対のガイドレール106に沿ってZ軸方向(上下方向)に移動され、これに伴って、下方撮像機構82もZ軸方向(上下方向)に移動される。 As shown in FIG. 3B, the prism mechanism P and the imaging camera C constituting the lower imaging mechanism 82 are supported by the support plate 94, and the base end portion of the support plate 94 is fixed to the Z-axis moving block 98. There is. The column 96 erected on the Y-axis moving block 83 (FIG. 3A) is provided with a Z-axis moving means 104 composed of a ball screw 100 and a pulse motor 102, and a pair of Z-axis moving blocks 98 are provided. It is moved in the Z-axis direction (vertical direction) along the guide rail 106, and the lower imaging mechanism 82 is also moved in the Z-axis direction (vertical direction) accordingly.

次に、以上の装置構成を用いた加工例について説明する。
<被加工物準備ステップ>
可視光に対して透過性を有するテープを被加工物の表面に貼着するステップである。
図7(A)(B)は、被加工物の一例であるウェーハ10を示すものである。なお、被加工物は、以下で説明する半導体ウェーハの他、LED等の光デバイスが形成された光デバイスウェーハ、電子部品に使用される各種セラミック基板やガラス基板などが考えられる。
Next, a machining example using the above device configuration will be described.
<Work work preparation step>
This is a step of attaching a tape having transparency to visible light to the surface of the work piece.
7 (A) and 7 (B) show a wafer 10 which is an example of a workpiece. In addition to the semiconductor wafer described below, the workpiece may be an optical device wafer on which an optical device such as an LED is formed, various ceramic substrates or glass substrates used for electronic components, and the like.

ウェーハ10の表面10aには、デバイス11が格子状に配列され、切削予定ライン13(ストリート)に沿って切削加工が施されるものである。ウェーハ10は、例えば、厚さが100μmのSiCウェーハである。 The devices 11 are arranged in a grid pattern on the surface 10a of the wafer 10, and cutting is performed along the scheduled cutting line 13 (street). The wafer 10 is, for example, a SiC wafer having a thickness of 100 μm.

図7(B)に示すように、ウェーハ10の裏面10b側を上側にして露出させるとともに、ウェーハ10の表面10aをテープTに貼着し、テープTを介して環状フレームFとウェーハ10を一体とするウェーハユニット8が構成される。 As shown in FIG. 7B, the back surface 10b side of the wafer 10 is exposed on the upper side, the front surface 10a of the wafer 10 is attached to the tape T, and the annular frame F and the wafer 10 are integrated via the tape T. The wafer unit 8 is configured.

以上のようなウェーハユニット8を構成することで、表面10aのデバイス11をテープTにて保護しつつ、ウェーハ10がハンドリング可能な状態とされる。なお、環状フレームFを用いずに、ウェーハ10の表面10aにテープを貼着して保護することとしてもよい。 By configuring the wafer unit 8 as described above, the wafer 10 can be handled while protecting the device 11 on the surface 10a with the tape T. Note that the annular frame F may not be used, but a tape may be attached to the surface 10a of the wafer 10 to protect the wafer 10.

また、図7(B)において、テープTは透明、即ち、「可視光の少なくとも一部の波長の光を透過し、吸収、散乱しない」特性を有することとし、後述する切削予定ライン検出ステップや溝確認ステップの実行を可能とするものである。また、テープTは着色されたもであってもよく、伸縮性のある樹脂製のテープにて構成することができる。また、テープTを用いる代わりに、ガラスや樹脂等からなる板状のハードプレートにてウェーハ10の表面10aを保護してハンドリングすることとしてもよい。 Further, in FIG. 7B, the tape T is transparent, that is, has a property of "transmitting, absorbing, and not scattering light having at least a part of the wavelength of visible light", and the cutting scheduled line detection step described later It enables the execution of the groove confirmation step. Further, the tape T may be a colored one, and may be made of a stretchable resin tape. Further, instead of using the tape T, the surface 10a of the wafer 10 may be protected and handled by a plate-shaped hard plate made of glass, resin or the like.

<保持ステップ>
図9に示すように、少なくとも一部が透明な保持部材74を有した保持テーブル27でテープTを介して被加工物(ウェーハ10)の表面10a側を保持するステップである。
<Holding step>
As shown in FIG. 9, it is a step of holding the surface 10a side of the workpiece (wafer 10) via the tape T by a holding table 27 having at least a part of the transparent holding member 74.

まず、図8(B)に示すように、保持部材74に形成される直線状の吸引溝77が、それぞれ、加工送り方向K(X軸方向)と所定の角度θずれるように設定される。 First, as shown in FIG. 8B, the linear suction grooves 77 formed in the holding member 74 are set so as to deviate from the machining feed direction K (X-axis direction) by a predetermined angle θ.

具体的には、図3に示すモータ17を駆動し、ベルト29を介して保持テーブル27を回転させることで、図8(A)に示すように、保持部材74の吸引溝77が加工送り方向K(X軸方向)と所定の角度θだけずれるように設定される。この角度θを実現する保持部材74の角度設定は、保持部材74を設置した際に、切削装置2(図1)のコントローラ80(図1)に記憶され、モータ17(図3)を駆動して再現可能とされる。 Specifically, by driving the motor 17 shown in FIG. 3 and rotating the holding table 27 via the belt 29, the suction groove 77 of the holding member 74 is in the machining feed direction as shown in FIG. 8 (A). It is set so as to deviate from K (X-axis direction) by a predetermined angle θ. The angle setting of the holding member 74 that realizes this angle θ is stored in the controller 80 (FIG. 1) of the cutting device 2 (FIG. 1) when the holding member 74 is installed, and drives the motor 17 (FIG. 3). It is said that it can be reproduced.

本実施例では、二本の吸引溝77が、加工送り方向K(X軸方向)に対し、それぞれ45度ずれるように配置される。なお、図8(B)では、テープT(図9)の図示は省略されている。 In this embodiment, the two suction grooves 77 are arranged so as to be offset by 45 degrees with respect to the machining feed direction K (X-axis direction). Note that in FIG. 8B, the illustration of the tape T (FIG. 9) is omitted.

以上のように保持テーブル27の吸引溝77の角度を設定した上で、図8(B)に示すように、ウェーハ10を保持部材74上に載置する。この際、ウェーハ10の各デバイス11の間に形成される切削予定ライン13が加工送り方向K(X軸方向)と平行になるように載置される。 After setting the angle of the suction groove 77 of the holding table 27 as described above, the wafer 10 is placed on the holding member 74 as shown in FIG. 8 (B). At this time, the scheduled cutting line 13 formed between the devices 11 of the wafer 10 is placed so as to be parallel to the machining feed direction K (X-axis direction).

以上のようにして、保持部材74の吸引溝77と、ウェーハ10の切削予定ライン13が、角度θずれた状態で、ウェーハ10が保持テーブル27に保持される。 As described above, the wafer 10 is held on the holding table 27 in a state where the suction groove 77 of the holding member 74 and the scheduled cutting line 13 of the wafer 10 are displaced by an angle θ.

なお、この保持ステップにおいては、吸引溝77と切削予定ライン13において角度θのずれが生じる相対関係が実現されればよく、特に上述した方法に限定されるものではない。 In this holding step, it is sufficient that a relative relationship in which the angle θ deviates between the suction groove 77 and the scheduled cutting line 13 is realized, and the method is not particularly limited to the above-described method.

<切削予定ライン検出ステップ(第一撮像ステップ)>
図10に示すように、保持ステップを実施した後、保持部材74とテープTとを介して保持テーブル27で保持された被加工物(ウェーハ10)を下側から撮像カメラCで撮像して切削予定ライン13(図7(A))の位置を検出するステップである。
<Scheduled cutting line detection step (first imaging step)>
As shown in FIG. 10, after performing the holding step, the workpiece (wafer 10) held by the holding table 27 via the holding member 74 and the tape T is imaged from below by the imaging camera C and cut. This is a step of detecting the position of the scheduled line 13 (FIG. 7 (A)).

具体的には、図10に示すように、Y軸移動ブロック83を移動させることで、下方撮像機構82をウェーハ10の下方に位置付け、保持テーブル27の保持部材74、テープTを介して、ウェーハ10の表面10a(図9)を撮像するとともに、撮像画像をもとにウェーハ10の切削予定ライン13(図7(A))が検出される。撮像の際には、吸引溝77が写り込まない領域が撮像されることが好ましい。 Specifically, as shown in FIG. 10, by moving the Y-axis moving block 83, the lower imaging mechanism 82 is positioned below the wafer 10, and the wafer is placed via the holding member 74 of the holding table 27 and the tape T. The surface 10a (FIG. 9) of the wafer 10 is imaged, and the scheduled cutting line 13 (FIG. 7 (A)) of the wafer 10 is detected based on the image. At the time of imaging, it is preferable that the region where the suction groove 77 is not reflected is imaged.

ここで、検出された切削予定ライン13(図8(B))が吸引溝77(図8(B))と略平行となっていることが確認された場合には、第一搬送手段47(図1)により一旦被加工物を持ち上げて保持部材74の上方に待機させるとともに、保持部材74を回転させた後に被加工物を置き直し、切削予定ライン13(図8(B))と吸引溝77(図8(B))の相対角度(角度θ)が所定の角度になるように調整することとしてもよい。 Here, when it is confirmed that the detected scheduled cutting line 13 (FIG. 8 (B)) is substantially parallel to the suction groove 77 (FIG. 8 (B)), the first transport means 47 (FIG. 8 (B)) According to FIG. 1), the workpiece is once lifted and made to stand by above the holding member 74, and after the holding member 74 is rotated, the workpiece is repositioned, and the scheduled cutting line 13 (FIG. 8B) and the suction groove are formed. The relative angle (angle θ) of 77 (FIG. 8 (B)) may be adjusted to be a predetermined angle.

また、以上に説明した切削予定ライン検出ステップでは、保持部材74が透明のガラスで構成される場合において、下側から撮像カメラCで切削予定ライン13(図7(A))を検出するものであるが、この他、保持部材74が金属やセラミクスなどの非透明の素材で構成される場合においては、図1、及び、図10に示す上方撮像機構52を利用し、上側から被加工物を撮像することで切削予定ライン13(図7(A))を検出することとしてもよい。この場合、被加工物は、例えば、図7(A)のようなウェーハ10の場合には、デバイス11が形成される表面10aが、図7(B)に示すテープTに貼着された状態で、上側に露出するように貼着されるものとする。 Further, in the scheduled cutting line detection step described above, when the holding member 74 is made of transparent glass, the imaging camera C detects the scheduled cutting line 13 (FIG. 7 (A)) from below. However, in addition to this, when the holding member 74 is made of a non-transparent material such as metal or ceramics, the work piece is viewed from above by using the upper imaging mechanism 52 shown in FIGS. 1 and 10. The scheduled cutting line 13 (FIG. 7 (A)) may be detected by taking an image. In this case, the workpiece is, for example, in the case of the wafer 10 as shown in FIG. 7 (A), the surface 10a on which the device 11 is formed is attached to the tape T shown in FIG. 7 (B). Then, it shall be attached so as to be exposed on the upper side.

<切削ステップ>
図11に示すように、切削ユニット46の切削ブレードB1の位置を、切削予定ライン検出ステップで検出された切削予定ライン13(図7(A))の位置に合わせるとともに、切削ユニット46を所定の高さに位置付け、保持テーブル27を加工送り方向(X軸方向)に移動させることで、切削加工が行われ、切削予定ライン13に沿って溝が形成される。
<Cutting step>
As shown in FIG. 11, the position of the cutting blade B1 of the cutting unit 46 is aligned with the position of the scheduled cutting line 13 (FIG. 7 (A)) detected in the scheduled cutting line detection step, and the cutting unit 46 is set to a predetermined position. By positioning the holding table 27 at a height and moving the holding table 27 in the machining feed direction (X-axis direction), cutting is performed and a groove is formed along the scheduled cutting line 13.

図11に示すように、一つの切削予定ライン13(図7(A))について切削加工を行った後、切削ブレードB1をY軸方向にインデックス送りを行って、隣の切削予定ラインについて同様に切削加工を行う。 As shown in FIG. 11, after cutting one scheduled cutting line 13 (FIG. 7 (A)), index feed is performed on the cutting blade B1 in the Y-axis direction, and the same applies to the adjacent scheduled cutting line. Perform cutting.

図7(A)において、第一の方向(例えば、X軸方向)に伸びる全ての切削予定ライン13について切削加工を行った後、保持テーブル27(図11)を90度回転させ、図7(A)において第二の方向(例えば、Y軸方向)について、同様の切削加工が実施される。 In FIG. 7A, after cutting all the scheduled cutting lines 13 extending in the first direction (for example, the X-axis direction), the holding table 27 (FIG. 11) is rotated by 90 degrees, and FIG. In A), the same cutting process is performed in the second direction (for example, the Y-axis direction).

<溝確認ステップ(第二撮像ステップ)>
図10及び図12に示すように、上方撮像機構52によりウェーハ10の上方から溝を撮像して溝の状態を確認するステップであり、これによりカーフチェックが行われるものである。
<Groove confirmation step (second imaging step)>
As shown in FIGS. 10 and 12, it is a step of imaging a groove from above the wafer 10 by the upper imaging mechanism 52 and confirming the state of the groove, whereby a calf check is performed.

上方撮像機構52は、図13の例に示すように撮像素子52Sと、対物レンズ52Lと、光源52Uと、を有して構成されるものであり、光源52Uから投光された光の反射光を受光して撮像を行うものである。 As shown in the example of FIG. 13, the upper imaging mechanism 52 includes an imaging element 52S, an objective lens 52L, and a light source 52U, and the reflected light of the light projected from the light source 52U. Is received and an image is taken.

図12は、撮像画像S1の一例であり、溝Mの周囲の部分が光Lを反射することにより明るく映り、溝Mの部分が暗く映る。この撮像画像S1に基づいて、チッピングやクラックなどの検出や、溝Mの幅の測定などのカーフチェックを行うことができる。 FIG. 12 is an example of the captured image S1, and the portion around the groove M is reflected by the light L to appear bright, and the portion of the groove M appears dark. Based on the captured image S1, it is possible to detect chipping, cracks, and the like, and perform a calf check such as measuring the width of the groove M.

この溝確認ステップは、切削ステップにおける加工途中や、特定の切削加工を終了した段階、あるいは、実施されるべき全ての切削加工を終了した段階において、被加工物(ウェーハ10)を撮像することで行われる。 This groove confirmation step is performed by imaging the workpiece (wafer 10) in the middle of the cutting step, at the stage where a specific cutting process is completed, or at the stage where all the cutting processes to be performed are completed. Will be done.

この撮像画像S1は、図1に示すように、上方撮像機構52にて撮像した画像をコントローラ80が画像処理することで、表示モニター60に表示されるものである。 As shown in FIG. 1, the captured image S1 is displayed on the display monitor 60 by the controller 80 processing the image captured by the upper imaging mechanism 52.

ここで、コントローラ80は、撮像した座標位置において、吸引溝77(図8(A))が存在すると判定した場合には、図12に示すように、撮像画像S1中に吸引溝77の情報を重ね合わせて表示することができるように構成される。即ち、コントローラ80は、予め記憶された吸引溝77の座標位置と、撮像画像S1が撮像された箇所の座標位置と、を参照し、撮像画像S1に吸引溝77の仮想的な画像を重ねて表示させるものである。これにより、撮像箇所に吸引溝77が存在することをオペレータに認識させることができる。 Here, when the controller 80 determines that the suction groove 77 (FIG. 8 (A)) exists at the captured coordinate position, the controller 80 displays the information of the suction groove 77 in the captured image S1 as shown in FIG. It is configured so that it can be displayed in an overlapping manner. That is, the controller 80 refers to the coordinate position of the suction groove 77 stored in advance and the coordinate position of the position where the captured image S1 is captured, and superimposes a virtual image of the suction groove 77 on the captured image S1. It is to be displayed. This makes it possible for the operator to recognize that the suction groove 77 exists at the imaging location.

そして、このように撮像した箇所に吸引溝77が存在している場合には、ウェーハの被保持面(下面)が支持されていないため、他の箇所と比較して、クラック等が生じやすく、カーフチェックには適さないものとなる。 When the suction groove 77 exists in the portion imaged in this way, the held surface (lower surface) of the wafer is not supported, so that cracks and the like are more likely to occur as compared with other portions. It is not suitable for calf check.

この点に鑑み、上述のように、撮像画像S1に吸引溝77を仮想的に重ねて表示することで、オペレータに吸引溝77の存在を認識させることとし、これにより、オペレータに対し他の箇所でカーフチェックをすべきことを促すことができる。 In view of this point, as described above, the suction groove 77 is virtually superimposed and displayed on the captured image S1 to make the operator recognize the existence of the suction groove 77, whereby the operator is made to recognize the existence of the suction groove 77 at another location. Can encourage you to do a calf check.

なお、以上の説明では、図12に示すようにウェーハ10の上方に配置される上方撮像機構52を用いて撮像画像を取得してカーフチェックすることとしたが、ウェーハ10の下方に配置される撮像カメラCを用いて撮像画像を取得してカーフチェックすることとしてもよい。 In the above description, as shown in FIG. 12, it was decided to acquire an image captured by using the upper imaging mechanism 52 arranged above the wafer 10 and perform a calf check, but the image is arranged below the wafer 10. A captured image may be acquired using the imaging camera C and a calf check may be performed.

以上のようにして本発明を実施することができる。
即ち、図1、及び、図8(B)に示すように、
切削予定ライン13を有した被加工物(ウェーハ10)を切削する切削装置2であって、
被加工物を吸引保持するための吸引溝77が形成された保持面74cを有する保持部材74を備えた保持テーブル27と、
保持テーブル27で保持された被加工物を切削する切削ブレードB1を有する切削ユニット46と、
保持テーブル27を切削ユニット46に対して加工送り方向Kに移動させる加工送り機構としての移動機構23と、
を備え、
吸引溝77は、加工送り方向Kから所定の角度θずれた方向に伸びるように設定される、こととするものである。
The present invention can be carried out as described above.
That is, as shown in FIGS. 1 and 8 (B),
A cutting device 2 for cutting an workpiece (wafer 10) having a scheduled cutting line 13.
A holding table 27 having a holding member 74 having a holding surface 74c formed with a suction groove 77 for sucking and holding the workpiece, and a holding table 27.
A cutting unit 46 having a cutting blade B1 for cutting a work piece held by the holding table 27, and a cutting unit 46.
A moving mechanism 23 as a machining feed mechanism for moving the holding table 27 with respect to the cutting unit 46 in the machining feed direction K,
With
The suction groove 77 is set so as to extend in a direction deviated from the machining feed direction K by a predetermined angle θ.

これにより、平坦な保持面を有する保持部材74により被加工物を保持することができ、凹部分と凸部分がランダムに存在する多孔質材で保持部材を構成する場合と比較して、欠けやクラックの発生を低減し、加工品質の向上を図ることができる。また、切削予定ライン13と吸引溝77が非平行となるため、両者が重なる領域を少なく抑えることができ、被加工物において加工品質の悪化の発生を抑制することができる。 As a result, the workpiece can be held by the holding member 74 having a flat holding surface, and the holding member is made of a porous material in which concave portions and convex portions are randomly present. It is possible to reduce the occurrence of cracks and improve the processing quality. Further, since the scheduled cutting line 13 and the suction groove 77 are not parallel to each other, it is possible to reduce the area where the two overlap, and it is possible to suppress the occurrence of deterioration of the processing quality in the workpiece.

また、図8(B)に示すように、吸引溝77は、少なくとも互いに直交する2つの吸引溝77,77を含んで構成される、こととするものである。 Further, as shown in FIG. 8B, the suction groove 77 is configured to include at least two suction grooves 77 and 77 orthogonal to each other.

これにより、吸引溝により広範囲で確実に被加工物を吸引保持することが可能となる。 As a result, the suction groove makes it possible to reliably and surely suck and hold the workpiece over a wide range.

また、図10に示すように、
保持部材74はガラスからなり、
保持部材74を介して被加工物の被保持面を撮像する撮像カメラCを更に備える、こととするものである。
Also, as shown in FIG.
The holding member 74 is made of glass
An image pickup camera C that captures an image of the surface to be held of the work piece via the holding member 74 is further provided.

これにより、下側から被加工物を撮像し、切削予定ライン13(図7(A))の検出をすることができ、例えば、被加工物であるウェーハ10に形成されるデバイス11を下側にしてテープTで保護した状態で加工するアプリケーションにおいて、好適に実施することができる。 As a result, the work piece can be imaged from the lower side and the scheduled cutting line 13 (FIG. 7A) can be detected. For example, the device 11 formed on the wafer 10 which is the work piece can be placed on the lower side. It can be preferably carried out in an application in which the wafer is processed while being protected by the tape T.

また、図1、及び、図8(B)に示すように、
切削予定ライン13を有した被加工物を切削ブレードB1で切削する切削方法であって、
被加工物を吸引保持するための吸引溝77が形成された保持面74cを有する保持部材74を備える保持テーブル27で被加工物を保持する保持ステップと、
保持テーブル27を加工送り方向Kに切削ブレードB1に対して相対移動させ、被加工物の切削予定ライン13を切削ブレードB1で切削する切削ステップと、を有し、
吸引溝77は、加工送り方向Kから所定の角度θずれた方向に伸びるように設定される、こととするものである。
Further, as shown in FIGS. 1 and 8 (B),
A cutting method in which a workpiece having a scheduled cutting line 13 is cut by a cutting blade B1.
A holding step of holding the work piece on a holding table 27 including a holding member 74 having a holding surface 74c formed with a suction groove 77 for sucking and holding the work piece.
It has a cutting step in which the holding table 27 is moved relative to the cutting blade B1 in the machining feed direction K, and the scheduled cutting line 13 of the workpiece is cut by the cutting blade B1.
The suction groove 77 is set so as to extend in a direction deviated from the machining feed direction K by a predetermined angle θ.

これにより、平坦な保持面を有する保持部材74により被加工物を保持することができ、凹部分と凸部分がランダムに存在する多孔質材で保持部材を構成する場合と比較して、欠けやクラックの発生を低減し、加工品質の向上を図ることができる。また、切削予定ライン13と吸引溝77が非平行となるため、両者が重なる領域を少なく抑えることができ、被加工物において加工品質の悪化の発生を抑制することができる。 As a result, the workpiece can be held by the holding member 74 having a flat holding surface, and the holding member is made of a porous material in which concave portions and convex portions are randomly present. It is possible to reduce the occurrence of cracks and improve the processing quality. Further, since the scheduled cutting line 13 and the suction groove 77 are not parallel to each other, it is possible to reduce the area where the two overlap, and it is possible to suppress the occurrence of deterioration of the processing quality in the workpiece.

また、図10に示すように、
保持部材74は、ガラスからなり、
保持ステップを実施した後、保持部材74を介して被加工物の被保持面を撮像カメラCで撮像する撮像ステップを更に備える、こととするものである。なお、ここでいう「撮像ステップ」は、上述した切削予定ライン検出ステップ(第一撮像ステップ)と、溝確認ステップ(第二撮像ステップ)のいずれか一つ、又は、両方を含むものである。
Also, as shown in FIG.
The holding member 74 is made of glass and is made of glass.
After performing the holding step, an imaging step of capturing the surface to be held of the workpiece via the holding member 74 with the imaging camera C is further provided. The "imaging step" referred to here includes any one or both of the above-mentioned scheduled cutting line detection step (first imaging step) and the groove confirmation step (second imaging step).

これにより、下側から被加工物を撮像し、切削予定ライン13(図7(A))の検出をすることができ、例えば、被加工物であるウェーハ10に形成されるデバイス11を下側にしてテープTで保護した状態で加工するアプリケーションにおいて、好適に実施することができる。 As a result, the work piece can be imaged from the lower side and the scheduled cutting line 13 (FIG. 7A) can be detected. For example, the device 11 formed on the wafer 10 which is the work piece can be placed on the lower side. It can be preferably carried out in an application in which the wafer is processed while being protected by the tape T.

2 切削装置
10 ウェーハ
10a 表面
11 デバイス
13 切削予定ライン
27 保持テーブル
46 切削ユニット
52 上方撮像機構
60 表示モニター
74 保持部材
74a 保持面
77 吸引溝
80 コントローラ
82 下方撮像機構
B1 切削ブレード
C 撮像カメラ
K 加工送り方向
M 溝
S1 撮像画像
T テープ
θ 角度
2 Cutting device 10 Wafer 10a Surface 11 Device 13 Cutting scheduled line 27 Holding table 46 Cutting unit 52 Upper imaging mechanism 60 Display monitor 74 Holding member 74a Holding surface 77 Suction groove 80 Controller 82 Lower imaging mechanism B1 Cutting blade C Imaging camera K Machining feed Direction M Groove S1 Captured image T Tape θ Angle

Claims (6)

切削予定ラインを有した被加工物を切削する切削装置であって、
被加工物を吸引保持するための吸引溝が形成された保持面を有する保持部材を備えた保持テーブルと、
該保持テーブルで保持された該被加工物を切削する切削ブレードを有する切削ユニットと、
該保持テーブルを該切削ユニットに対して加工送り方向に相対移動させる加工送り機構と、
を備え、
該吸引溝は、該加工送り方向から所定の角度ずれた方向に伸びるように設定される、
切削装置。
A cutting device that cuts a work piece that has a planned cutting line.
A holding table provided with a holding member having a holding surface formed with a suction groove for sucking and holding the workpiece, and a holding table.
A cutting unit having a cutting blade for cutting the workpiece held by the holding table, and
A machining feed mechanism that moves the holding table relative to the cutting unit in the machining feed direction,
With
The suction groove is set so as to extend in a direction deviated from the machining feed direction by a predetermined angle.
Cutting equipment.
該吸引溝は、少なくとも互いに直交する2つの吸引溝を含んで構成される、
ことを特徴とする請求項1に記載の切削装置。
The suction groove is composed of at least two suction grooves orthogonal to each other.
The cutting apparatus according to claim 1.
該保持部材はガラスからなり、
該保持部材を介して被加工物の被保持面を撮像する撮像カメラを更に備える、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の切削装置。
The holding member is made of glass
An image pickup camera that images the surface to be held of the work piece via the holding member is further provided.
The cutting apparatus according to claim 1 or 2.
切削予定ラインを有した被加工物を切削ブレードで切削する切削方法であって、
被加工物を吸引保持するための吸引溝が形成された保持面を有する保持部材を備える保持テーブルで被加工物を保持する保持ステップと、
該保持テーブルを加工送り方向に該切削ブレードに対して相対移動させ、該被加工物の該切削予定ラインを該切削ブレードで切削する切削ステップと、を有し、
該吸引溝は、該加工送り方向から所定の角度ずれた方向に伸びるように設定される、
切削方法。
A cutting method in which a workpiece having a planned cutting line is cut with a cutting blade.
A holding step of holding the work piece on a holding table provided with a holding member having a holding surface formed with a suction groove for sucking and holding the work piece.
It has a cutting step in which the holding table is moved relative to the cutting blade in the machining feed direction, and the scheduled cutting line of the workpiece is cut by the cutting blade.
The suction groove is set so as to extend in a direction deviated from the machining feed direction by a predetermined angle.
Cutting method.
該吸引溝は、少なくとも互いに直交する2つの吸引溝を含んで構成される、
ことを特徴とする請求項4に記載の切削方法。
The suction groove is composed of at least two suction grooves orthogonal to each other.
The cutting method according to claim 4, wherein the cutting method is characterized by the above.
該保持部材は、ガラスからなり、
該保持ステップを実施した後、該保持部材を介して被加工物の被保持面を撮像カメラで撮像する撮像ステップを更に備える、
ことを特徴とする請求項4または5に記載の切削方法。
The holding member is made of glass.
After performing the holding step, an imaging step of capturing the held surface of the workpiece via the holding member with an imaging camera is further provided.
The cutting method according to claim 4 or 5.
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